JP2003010858A - 浴水浄化装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 入浴時に使用者がカルキ臭による不快感を感
じることを防止できる浴水浄化装置を提供すること。 【解決手段】 浴槽１内の浴水をろ過筒１９に循環する
循環回路（配管Ａ〜Ｇ）において、ろ過筒１９より上流
側には次亜塩素酸を生成する電解槽７が配設され、ろ過
筒１９より下流側には紫外線ランプ２６により次亜塩素
酸を分解できる抗菌筒２５が配設されている。従って、
電解槽７で生成した次亜塩素酸は、ろ過筒１９内を抗菌
した後、抗菌筒２５内で分解され、浴槽１には送られな
い。これにより、入浴時に使用者がカルキ臭による不快
感を感じることを防止できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、浴槽内の浴水を抗
菌することが可能な浴水浄化装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、一般的な浴水浄化装置において、
浴槽内の浴水中の菌の繁殖を防止するために、抗菌性と
安全性が高く水道水の殺菌剤としても用いられる次亜塩
素酸を浴槽内の浴水に供給するものが知られている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
従来技術において、浴槽内の浴水を抗菌するために、次
亜塩素酸を多量に浴槽内の浴水に供給すると、強いカル
キ臭を発生し、使用者が入浴する時に不快感を感じると
いう問題がある。

【０００４】本発明は上記点に鑑みてなされたもので、
入浴時に使用者がカルキ臭による不快感を感じることを
防止できる浴水浄化装置を提供することを目的とする。

【０００５】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項１に記載の発明では、浴槽（１）内の浴水を
循環する循環回路（Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅ、Ｆ、Ｇ）と、
この循環回路（Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅ、Ｆ、Ｇ）に、懸濁
物質粒子をろ過することにより浴水を浄化する浄化手段
（１９）とを有する浴水浄化装置であって、循環回路
（Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅ、Ｆ、Ｇ）の浴槽（１）より下流
側、かつ浄化手段（１９）より上流側に、循環回路
（Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅ、Ｆ、Ｇ）を循環する浴水に次亜
塩素酸を供給する次亜塩素酸供給手段（７）と、循環回
路（Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅ、Ｆ、Ｇ）の浄化手段（１９）
より下流側、かつ浴槽（１）より上流側に、循環回路
（Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅ、Ｆ、Ｇ）を循環する浴水中の次
亜塩素酸を分解する次亜塩素酸分解手段（２５）とを備
えることを特徴としている。

【０００６】これによると、次亜塩素酸供給手段（７）
によって循環回路（Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅ、Ｆ、Ｇ）を循
環する浴水に供給された次亜塩素酸は、浴水中および浄
化手段（１９）内の菌の繁殖を防止するが、循環する浴
水が浴槽（１）に戻る前に次亜塩素酸分解手段（２５）
により分解することができる。従って、入浴時に使用者
がカルキ臭による不快感を感じることを防止できる。

【０００７】また、次亜塩素酸により浄化手段（１９）
内を抗菌することにより、浄化手段（１９）によりろ過
された懸濁物質粒子が菌により分解され浄化手段（１
９）から流出して浴槽（１）内に戻ることを防止でき
る。

【０００８】また、請求項２に記載の発明では、次亜塩
素酸供給手段（７）は、塩素成分を含有する浴水を電気
分解して次亜塩素酸を生成する電解手段（７）であるこ
とを特徴としている。

【０００９】これによると、浴水中に含有する塩素成分
を用いて次亜塩素酸を生成することができる。従って、
次亜塩素酸を直接供給する必要がない。

【００１０】また、請求項３に記載の発明では、次亜塩
素酸分解手段（２５）は、循環回路（Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、
Ｅ、Ｆ、Ｇ）を循環する浴水に紫外線を照射して次亜塩
素酸を分解する紫外線照射手段（２６）を備えることを
特徴としている。

【００１１】これによると、次亜塩素酸分解手段（２
５）は、浴水に紫外線を照射することにより容易に次亜
塩素酸を分解することができる。

【００１２】また、請求項４に記載の発明では、次亜塩
素酸分解手段（２５）は、循環回路（Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、
Ｅ、Ｆ、Ｇ）を循環する浴水中において紫外線照射手段
（２６）からの紫外線を受光する位置に抗菌光触媒（２
７）を備えることを特徴としている。

【００１３】これによると、次亜塩素酸分解手段（２
５）において、紫外線照射手段（２６）の照射する紫外
線により次亜塩素酸を分解するので、次亜塩素酸による
抗菌作用は低下するが、次亜塩素酸が抗菌できなかった
菌が存在したとしても、抗菌光触媒（２７）に紫外線照
射手段（２６）からの紫外線を照射して、これを抗菌す
ることができる。

【００１４】なお、上記各手段に付した括弧内の符号
は、後述する実施形態記載の具体的手段との対応関係を
示す。

【００１５】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図に
基づいて説明する。

【００１６】図１は浴水浄化装置の全体構成を示す模式
図である。本実施形態の浴水浄化装置は、給湯器内蔵型
の浴水浄化装置であり、図１に示すように本体ユニット
１０（図１中一点鎖線で囲んだ部分）と、浴槽１と本体
ユニット１０とを接続する配管（後述する配管Ａ、Ｆの
一部）とからなる。そして、本体ユニット１０は浴室近
傍の屋外適所に設置されている。

【００１７】浴槽１には、浴槽１内の浴水を吸い込む吸
込口３と、本体ユニット１０で浄化した浴水を吹き出す
吹出口５とが設けられている。図１において、Ａ、Ｂ、
Ｃ、Ｄ、Ｅ、Ｆ、Ｇは配管であり、これらの配管Ａ、
Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅ、Ｆ、Ｇで浴水浄化時に浴槽１内に浴水
を循環する循環回路を構成している。

【００１８】１９は浄化手段であるろ過筒であり、樹脂
製容器内に直径が約０．３〜０．５ｍｍのセラミックボ
ール（本例ではアルミナ粒子）からなるろ材層４０と、
粒径が約１〜２ｍｍの粒状活性炭からなる脱臭層４１と
が、図１に示すように積層配置されている。

【００１９】ろ過筒１９のろ材層４０および脱臭層４１
より上方側には、ろ過筒１９内へ浴水を導入するための
浴水導入口２１が設けられている。そして、浴槽１の吸
入口３と浴水導入口２１とは、配管Ａおよび配管Ｂによ
り接続されている。また、配管Ａには配管Ｇが並列に配
設され、配管Ｇの上流端と下流端はそれぞれ配管Ａに接
続している。

【００２０】配管Ｇには、配管Ｇを通過する浴水を電気
分解する電解手段である電解槽７が設けられている。吸
入口３から吸入された塩素成分を含む浴水の一部は、電
解槽７で電気分解され抗菌作用のある次亜塩素酸を含む
浴水となりろ過筒１９方向に送られるようになってい
る。電解槽７は、本実施形態における次亜塩素酸供給手
段である。

【００２１】なお、本実施形態では、吸入口３から配管
Ａに吸入された浴水のうち５〜１０％が配管Ｇを通過す
るようになっている。これによると、電解槽７内の電解
効率を良好なレベルにすることができる。

【００２２】配管Ａと配管Ｂとの接続点には後述する配
管Ｋが接続されており、接続点には三方弁１３が設けら
れている。三方弁１３は、配管Ｂに流入する浴水を、配
管Ａから流入させるか、もしくは後述する配管Ｋから流
入させるかを切り替えるようになっている。

【００２３】また、配管Ｂの経路途中には、配管Ｂと図
示しない下水配管とを繋ぐ配管Ｈが接続されており、接
続点には三方弁１４が設けられている。三方弁１４は、
配管Ｂの三方弁１４の上流側（配管Ａ側）と下流側（ろ
過筒１９側）とを連通し配管Ｈ側を遮断するモードと、
配管Ｂの三方弁１４の下流側（ろ過筒１９側）と配管Ｈ
とを連通し配管Ｂの三方弁１４の上流側（配管Ａ側）を
遮断するモードと、配管Ｂの三方弁１４の上流側（配管
Ａ側）と下流側（ろ過筒１９側）と配管Ｈとをいずれも
連通しない（全ての方向を遮断する）モードとを切り替
えるようになっている。

【００２４】ろ過筒１９のろ材層４０および脱臭層４１
より下方側には、ろ過筒１９内の浴水を導出するための
浴水導出口２２が設けられている。そして、浴水導出口
２２には配管Ｃが接続されている。配管Ｃの経路途中に
は、配管Ｃ内の浴水を下流側に圧送する電動式の循環ポ
ンプであるポンプ１１が配設されている。

【００２５】配管Ｃの下流側端部は、抗菌筒２５の底部
に接続されている。抗菌筒２５の内部には紫外線照射手
段である紫外線ランプ２６が配設されるとともに、その
周囲にはハニカム担体に酸化チタンを坦持させた抗菌光
触媒２７が配置され、紫外線ランプ２６と抗菌光触媒２
７との間を浴水が流れるようになっている。抗菌筒２５
は、内部を流れる次亜塩素酸を含む浴水に紫外線ランプ
２６により紫外線を照射し、次亜塩素酸を分解する本実
施形態における次亜塩素酸分解手段である。

【００２６】抗菌筒２５の上部側には、浴水を熱交換器
２９に送る配管Ｄが接続されている。また、配管Ｄの経
路途中には、給湯部３０からの温水を配管Ｄ内に供給す
るための配管Ｊが接続されている。熱交換器２９は、浴
槽１へ戻る浴水を加熱するための熱交換器であり、本例
では、ガスの燃焼熱を浴水と熱交換するガス熱交換器を
採用している。

【００２７】熱交換器２９と浴槽１の吹出口５とは配管
Ｅおよび配管Ｆにより接続され、配管Ｅと配管Ｆとの接
続点には配管Ｋが接続されており、接続点には三方弁１
５が設けられている。三方弁１５は、熱交換器２９側か
ら配管Ｅを流れてくる湯の流路を配管Ｆ方向または配管
Ｋ方向に切り替えるか、もしくはいずれの流路も遮断す
るようになっている。

【００２８】また、図１中の１００は制御手段である制
御装置であり、図示しない水温センサ、フローセンサ、
操作盤等からの信号に基づいて、電解槽７、ポンプ１
１、各三方弁１３、１４、１５、紫外線ランプ２６、熱
交換器２９、給湯部３０を制御するように構成されてい
る。

【００２９】次に、上記構成に基づき浴水浄化装置の作
動を説明する。

【００３０】図２は、制御装置１００の概略の制御動作
を示すフローチャートである。浴水浄化装置の図示しな
い電源スイッチをオンすると、制御装置１００は入力信
号に基づいて、図２に示すように、給湯運転制御（ステ
ップＳ１）、浄化保温運転制御（ステップＳ２）および
熱洗浄・逆洗運転制御（ステップＳ３）のいずれかを実
行するようになっている。

【００３１】ステップＳ１に示す給湯運転制御が実行さ
れると、制御装置１００は、三方弁１４を全遮断モード
とし、三方弁１５を配管Ｆ方向に切り替えるとともに、
電解槽７、ポンプ１１、紫外線ランプ２６への通電を停
止し、熱交換器２９におけるガス燃焼を停止する。ま
た、図示しない操作盤からの設定温度信号に応じて給湯
部３０を制御し、図示しない上水配管から供給され配管
Ｊに流れる水をガス燃焼により加熱する。

【００３２】これにより、給湯部３０で適温に加熱され
た温水は、配管Ｊ→Ｄ→Ｅ→Ｆと流れ、吹出口５より浴
槽１内に供給される。

【００３３】また、ステップＳ２に示す浄化保温運転制
御が実行されると、制御装置１００は、三方弁１３を配
管Ａ方向から流入するように切り替え、三方弁１４を配
管Ｂ上流側下流側連通モードとし、三方弁１５を配管Ｆ
方向に切り替えるとともに、電解槽７、ポンプ１１、紫
外線ランプ２６へ通電する。また、図示しない操作盤か
らの設定温度信号と図示しない水温センサからの信号に
応じて熱交換器２９のガス燃焼を制御する。ここで、制
御装置１００は給湯部３０は停止状態としている。

【００３４】これにより、吸入口３から吸入された浴槽
１内の浴水は配管Ａ→Ｂ→Ｃ→Ｄ→Ｅ→Ｆと流れ吹出口
５から浴槽１内に戻る。このとき配管Ａを流れる浴水の
一部は配管Ｇに分流され、電解槽７により電気分解され
る。浴槽１内の浴水には、入浴時の使用者の発汗等によ
り塩素成分が含まれていたり、運転開始時浴槽１に水道
水を満たした場合には、水道水に添加された塩素成分が
含まれているため、電気分解により次亜塩素酸が発生
し、抗菌作用のある次亜塩素酸を含む浴水を配管Ａに戻
すことができる。

【００３５】配管Ａ、Ｂを流れ浴水導入口２１よりろ過
筒１９内に流入した浴水は、ろ材層４０で懸濁物質粒子
をろ過され脱臭層４１で脱臭され浴水導出口２２より導
出される。このとき、ろ過筒１９内を流れる浴水は次亜
塩素酸を含んでいる。従って、懸濁物質粒子とともにろ
材層４０に捕捉された菌を確実に抗菌することができ
る。

【００３６】浴水導出口２２より導出され抗菌筒２５内
に送られた浴水は、紫外線ランプ２６により紫外線を照
射され、浴水中に含まれる次亜塩素酸が分解される。こ
のとき、紫外線ランプ２６からの紫外線は、抗菌光触媒
２７にも照射され水酸基ラジカルを発生する。従って、
次亜塩素酸の分解により抗菌できなかった菌が存在して
も、これを水酸基ラジカルにより抗菌することができ
る。

【００３７】このようにして、次亜塩素酸を分解される
とともに、充分に抗菌された浴水は、配管Ｄから熱交換
器２９に送られ所定温度に加熱された後、吹出口５から
浴槽１内に吹き出される。

【００３８】また、所定時刻となりステップＳ３に示す
熱洗浄・逆洗運転制御が実行されると、制御装置１００
は、まず、三方弁１３を配管Ｋ方向から流入するように
切り替え、三方弁１４を配管Ｂ上流側下流側連通モード
とし、三方弁１５を配管Ｋ方向に切り替えるとともに、
電解槽７、紫外線ランプ２６への通電を停止し、ポンプ
１１には通電する。また、図示しない水温センサからの
信号に応じて熱交換器２９のガス燃焼を制御し循環する
浴水の温度を約８０℃とする。ここで、制御装置１００
は給湯部３０を停止状態としている。

【００３９】これにより、配管Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅ、Ｋで構
成される閉回路を約８０℃に加熱された浴水が流れる。
従って、各配管Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅ、Ｋ内およびこれらの配
管間に配置されたろ過筒１９、抗菌筒２５等の機能部品
内も熱洗浄され殺菌される。

【００４０】熱洗浄を約５分間継続すると、制御装置１
００は、次に、三方弁１４を配管Ｂ下流側と配管Ｈとの
連通モードとし、三方弁１５を流路を遮断するように切
り替えるとともに、電解槽７、ポンプ１１、紫外線ラン
プ２６への通電を停止する。また、熱交換器２９のガス
燃焼を停止し、給湯部３０を制御して、図示しない上水
配管から供給され配管Ｊに流れる水をガス燃焼により約
４０℃となるように加熱する。

【００４１】これにより、約４０℃の温水が、配管Ｊ→
Ｄ→Ｃ→Ｂ→Ｈから図示しない下水配管に送られる。制
御装置１００はこの状態を約２分間継続する。従って、
ろ過筒１９内の逆洗浄が行なわれ、ろ材層４０に捕捉さ
れていた懸濁物質粒子を下水配管に排出し、ろ材層４０
のろ過性能を再生することができる。

【００４２】上述の構成および作動によれば、浄化保温
運転時に電解槽７により次亜塩素酸が生成されるが、循
環する浴水が浴槽１に戻る前に抗菌筒２５内で分解され
る。従って、入浴時に使用者がカルキ臭による不快感を
感じることを防止できる。

【００４３】また、浄化保温運転時、電解槽７より下流
側かつ抗菌筒２５より上流側では、電解槽７で生成した
次亜塩素酸により配管内やろ過筒１９内を抗菌すること
ができる。従って、ろ過筒１９内で懸濁物質粒子ととも
にろ材層４０に捕捉された菌を確実に抗菌することがで
きる。このようにして、懸濁物質粒子が増殖した菌によ
り分解され、ろ材層４０を通過して浴槽１内に戻り、浴
槽１内の浴水の濁り具合の指標である所謂濁度が上昇す
ることを防止できる。

【００４４】図３は、本発明者らが行なった濁度上昇の
防止効果の確認結果を示すグラフである。

【００４５】図３は、上記実施形態の浴水浄化装置を用
いて、浴槽１内に２００Ｌの浴水を溜め、循環回路に１
５Ｌ／ｍｉｎの浴水循環を行ない浄化保温運転を行なっ
ているときに、６人の入浴者が入浴した後の経過時間と
浴槽内の浴水の濁度との関係を示している。Ｐ１は本実
施形態による浴水浄化装置によるものであり、Ｐ２は比
較のために電解槽７を運転せず次亜塩素酸を生成しなか
った場合のものである。次亜塩素酸がろ過筒内に供給さ
れることにより、浴槽１内の浴水の濁度が上昇しないこ
とを確認した。

【００４６】ちなみに、Ｐ１のときの、ろ過筒１９内へ
の次亜塩素酸の供給濃度は２〜４ｐｐｍである。

【００４７】（他の実施形態）上記一実施形態では、電
解槽７は、配管Ａに並設した配管Ｇに設けたが、浴槽１
の吸入口３より下流側であり、ろ過筒１９の浴水導入口
２１より上流側であれば、いずれの位置に設けてもかま
わない。配管Ａまたは配管Ｂに並設した配管に設けても
よいし、配管Ａまたは配管Ｂに直接設けるものであって
もよい。

【００４８】また、上記一実施形態では、抗菌筒２５
は、配管Ｃと配管Ｄとの間に設けたが、ろ過筒１９の浴
水導出口２２より下流側であり、浴槽１の吹出口５より
上流側であれば、いずれの位置に設けてもかまわない。

【００４９】また、上記一実施形態では、電解槽７を設
け、塩素成分を含む浴水を電気分解して、浴水中に次亜
塩素酸を供給するものであったが、次亜塩素酸もしくは
次亜塩素酸の水溶液を直接循環回路の配管Ａもしくは配
管Ｂ内の浴水に供給するものであってもよい。

【００５０】また、上記一実施形態では、浴水浄化装置
は給湯器内蔵型であったが、給湯器を備えない浴水浄化
装置であってもかまわない。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明における一実施形態の浴水浄化装置の全
体構成を示す模式図である。

【図２】一実施形態における制御装置１００の概略の制
御動作を示すフローチャートである。

【図３】浴槽内の浴水の濁度上昇防止効果を示すグラフ
である。

【符号の説明】

１ 浴槽 ７ 電解槽（次亜塩素酸供給手段、電解手段） １０ 本体ユニット １１ ポンプ（循環ポンプ） １３、１４、１５ 三方弁 １９ ろ過筒（浄化手段） ２５ 抗菌筒（次亜塩素酸分解手段） ２６ 紫外線ランプ（紫外線照射手段） ２７ 抗菌光触媒 ４０ ろ材層 １００ 制御装置（制御手段） Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅ、Ｆ、Ｇ、Ｈ、Ｊ、Ｋ 配管

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０２Ｆ 1/50 ５６０ Ｃ０２Ｆ 1/50 ５６０Ｃ ５６０Ｆ Ａ４７Ｋ 3/00 Ａ４７Ｋ 3/00 Ｋ Ｍ Ｂ０１Ｄ 35/027 Ｃ０２Ｆ 1/32 Ｃ０２Ｆ 1/32 1/46 Ｚ 1/46 1/76 Ａ 1/76 9/00 ５０２Ｄ 9/00 ５０２ ５０２Ｍ ５０２Ｎ ５０２Ｒ ５０３Ｚ ５０３ ５０４Ｂ ５０４ Ｂ０１Ｄ 35/02 Ｊ (72)発明者 米倉 正次 愛知県刈谷市昭和町１丁目１番地 株式会 社デンソー内 Ｆターム(参考） 4D037 AA09 AB03 BA18 BB09 CA02 CA04 CA11 4D050 AA10 AB06 BB03 BC09 BD06 CA07 CA10 CA12 CA15 4D061 DA07 DB10 EA02 EB04 FA07 FA13 FA16 4D064 AA09 BF31 BF39

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 浴槽（１）内の浴水を循環する循環回路
   （Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅ、Ｆ、Ｇ）と、 この循環回路（Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅ、Ｆ、Ｇ）に、懸濁
   物質粒子をろ過することにより浴水を浄化する浄化手段
   （１９）とを有する浴水浄化装置であって、 前記循環回路（Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅ、Ｆ、Ｇ）の前記浴
   槽（１）より下流側、かつ前記浄化手段（１９）より上
   流側に、前記循環回路（Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅ、Ｆ、Ｇ）
   を循環する浴水に次亜塩素酸を供給する次亜塩素酸供給
   手段（７）と、前記循環回路（Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅ、
   Ｆ、Ｇ）の前記浄化手段（１９）より下流側、かつ前記
   浴槽（１）より上流側に、前記循環回路（Ａ、Ｂ、Ｃ、
   Ｄ、Ｅ、Ｆ、Ｇ）を循環する前記浴水中の前記次亜塩素
   酸を分解する次亜塩素酸分解手段（２５）とを備えるこ
   とを特徴とする浴水浄化装置。
2. 【請求項２】 前記次亜塩素酸供給手段（７）は、塩素
   成分を含有する前記浴水を電気分解して前記次亜塩素酸
   を生成する電解手段（７）であることを特徴とする請求
   項１に記載の浴水浄化装置。
3. 【請求項３】 前記次亜塩素酸分解手段（２５）は、前
   記循環回路（Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅ、Ｆ、Ｇ）を循環する
   前記浴水に紫外線を照射して前記次亜塩素酸を分解する
   紫外線照射手段（２６）を備えることを特徴とする請求
   項１または請求項２に記載の浴水浄化装置。
4. 【請求項４】 前記次亜塩素酸分解手段（２５）は、前
   記循環回路（Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅ、Ｆ、Ｇ）を循環する
   前記浴水中において前記紫外線照射手段（２６）からの
   紫外線を受光する位置に抗菌光触媒（２７）を備えるこ
   とを特徴とする請求項３に記載の浴水浄化装置。