JP2003010625A - Gas treating device - Google Patents

Gas treating device

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JP2003010625A
JP2003010625A JP2001200409A JP2001200409A JP2003010625A JP 2003010625 A JP2003010625 A JP 2003010625A JP 2001200409 A JP2001200409 A JP 2001200409A JP 2001200409 A JP2001200409 A JP 2001200409A JP 2003010625 A JP2003010625 A JP 2003010625A
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treated
adsorption
regeneration
air
adsorbing
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Japanese (ja)
Inventor
Kenkichi Kagawa
謙吉 香川
Kanji Mogi
完治 茂木
Toshio Tanaka
利夫 田中
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Daikin Industries Ltd
Original Assignee
Daikin Industries Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a gas treating device capable of regenerating an adsorption member for adsorbing components to be treated such as a harmful component and an odor component contained in the gas to be treated and reducing a running cost required for the treatment. SOLUTION: In the gas treating device 1, the components to be treated desorbed from the adsorption member 2a are treated by a low temperature plasm produced by a discharge. A regeneration and a decomposition are carried out by an action of various active species (for example, hydroxyl radicals, excitation oxygen molecule, or the like) generated at this time. A catalyst means can also be used and a cost can be suppressed without carrying out heating with a heater for the regeneration.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【０００１】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、被処理ガス中の被
処理成分を吸着部材で吸着するするとともに、該被処理
成分を脱離することで吸着部材が再生可能なガス処理装
置に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a gas treatment apparatus in which a component to be treated in a gas to be treated is adsorbed by an adsorbing member and the adsorbing member can be regenerated by desorbing the component to be treated. is there.

【０００２】[0002]

【従来の技術】従来より、被処理ガスを処理するガス処
理装置として、例えば空気を処理する空気浄化装置は、
空気中のたばこ臭、食品臭、屎尿臭、体臭、ペット臭、
パーマ臭、建築臭、油煙、ＶＯＣ、ＮＯｘなどの臭気成
分や有害成分を除去するため、店舗、医療機関、工場な
どにおいて用いられている。2. Description of the Related Art Conventionally, as a gas treatment device for treating a gas to be treated, for example, an air purifying device for treating air has been used.
Tobacco odor in air, food odor, manure odor, body odor, pet odor,
It is used in stores, medical institutions, factories, etc. to remove odorous and harmful components such as perm odor, architectural odor, oil smoke, VOC, and NOx.

【０００３】従来の空気浄化装置として、例えば、活性
炭やゼオライトなどの吸着剤を含んだ吸着部材を使用し
て空気中の臭気成分や有害成分を吸着除去するものがあ
る。また、この種の装置において、吸着部材が上記成分
をほぼ飽和状態になるまで吸着すると、空気浄化性能が
大幅に低下し、吸着部材を定期的（例えば数カ月毎）に
交換する必要が生じるために、吸着部材で吸着した臭気
成分又は有害成分を、該吸着部材に熱風を当てて脱離さ
せることで、吸着部材を再生する方式の空気浄化装置が
提案されている（例えば特開平７−２５６０４７４号公
報参照）。この公報に記載の装置では、吸着部材から脱
離した臭気成分や有害成分を、高温に加熱した触媒（燃
焼酸化触媒）に通過させて、これらの成分を酸化分解す
るようにしている。[0003] As a conventional air purifying device, for example, there is one that adsorbs and removes odorous components and harmful components in the air by using an adsorption member containing an adsorbent such as activated carbon or zeolite. Further, in this type of device, if the adsorbing member adsorbs the above components until it is almost saturated, the air purification performance is significantly reduced, and the adsorbing member needs to be replaced regularly (for example, every few months). An air purifying device of a type in which an odorous component or a harmful component adsorbed by an adsorbing member is desorbed by applying hot air to the adsorbing member to regenerate the adsorbing member has been proposed (for example, JP-A-7-2560474). See the bulletin). In the device described in this publication, the odorous components and harmful components desorbed from the adsorption member are passed through a catalyst (combustion oxidation catalyst) heated to a high temperature to oxidize and decompose these components.

【０００４】[0004]

【発明が解決しようとする課題】上記構成の装置におい
ては、通常、吸着部材から上記成分を脱離するために吸
着部材を２００℃程度まで加熱し、さらに、脱離した成
分を分解するために触媒を４００℃程度まで加熱する必
要がある。このように高温加熱が必要であるため、従来
の装置ではランニングコストが高く、特に吸着部材の再
生後に行う触媒での処理に関してこの問題が顕著であっ
た。In the apparatus having the above structure, the adsorbing member is usually heated to about 200 ° C. in order to desorb the above components from the adsorbing member, and further the desorbed components are decomposed. It is necessary to heat the catalyst to about 400 ° C. Since high temperature heating is required as described above, the conventional apparatus has a high running cost, and this problem is remarkable particularly in the treatment with the catalyst after the regeneration of the adsorption member.

【０００５】本発明は、このような問題点に鑑みて創案
されたものであり、その目的とするところは、吸着部材
を再生式にしたガス処理装置においてランニングコスト
を低減することであり、特に吸着部材の再生後の処理に
要するランニングコストを低減することである。The present invention was devised in view of the above problems, and an object thereof is to reduce running costs in a gas treatment device in which an adsorption member is a regenerative type, and in particular, It is to reduce the running cost required for the treatment after the regeneration of the adsorption member.

【０００６】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明は、吸着部材(2A,
2B) を再生式にしたガス処理装置(1) において、吸着部
材(2A,2B) の再生時に脱離した被処理成分を、低温プラ
ズマにより分解するようにしたものである。The present invention provides a suction member (2A,
In the gas treatment device (1) of regenerative type 2B), the components to be treated desorbed during the regeneration of the adsorbing members (2A, 2B) are decomposed by low temperature plasma.

【０００７】具体的に、本発明が講じた解決手段は、被
処理ガス中の被処理成分を吸着する吸着部材(2A,2B)
と、該吸着部材(2A,2B) から被処理成分を脱離させる再
生手段(3) と、該再生手段(3) によって吸着部材(2A,2
B) から脱離した被処理成分を分解する分解手段(4) と
を備えたガス処理装置(1) を前提としている。Specifically, the solution means taken by the present invention is an adsorption member (2A, 2B) for adsorbing a component to be treated in a gas to be treated.
And a regeneration means (3) for desorbing the component to be treated from the adsorption member (2A, 2B), and the adsorption member (2A, 2B) by the regeneration means (3).
It is premised on a gas treatment device (1) equipped with a decomposing means (4) for decomposing the component to be treated desorbed from B).

【０００８】そして、第１の解決手段に係るガス処理装
置(1) は、上記分解手段(4) が、放電により低温プラズ
マを生成して上記被処理成分を分解するように構成され
ていることを特徴としている。In the gas treatment device (1) according to the first solving means, the decomposing means (4) is constructed so as to generate a low temperature plasma by electric discharge to decompose the component to be treated. Is characterized by.

【０００９】この第１の解決手段においては、吸着部材
(2A,2B) によって被処理ガス中の有害成分や臭気成分な
どの被処理成分が吸着されることで該被処理ガスが処理
される。一方、吸着部材(2A,2B) が被処理ガスから吸着
した被処理成分は再生手段(3) によって該吸着部材(2A,
2B) から脱離し、それによって吸着部材(2A,2B) が再生
され、再度被処理ガスの処理に用いられる。また、吸着
部材(2A,2B) から脱離した被処理成分は、分解手段(4)
によって分解される。この被処理成分の分解は、放電を
起こして低温プラズマを生成し、そのときに発生する種
々の活性種（例えば、ヒドロキシラジカル、励起酸素分
子、励起窒素分子、励起水分子など）の作用で行われ
る。In the first solution, the suction member
The (2A, 2B) adsorbs the to-be-processed components such as the harmful components and the odorous components in the to-be-processed gas, whereby the to-be-processed gas is processed. On the other hand, the components to be treated adsorbed from the gas to be treated by the adsorption members (2A, 2B) are regenerated by the regeneration means (3).
It is desorbed from 2B), whereby the adsorbing members (2A, 2B) are regenerated and used again for treating the gas to be treated. Further, the components to be treated desorbed from the adsorbing members (2A, 2B) are decomposed by the decomposing means (4).
Is decomposed by. The decomposition of the components to be treated is carried out by the action of various active species (for example, hydroxy radicals, excited oxygen molecules, excited nitrogen molecules, excited water molecules, etc.) generated at that time by generating an electric discharge to generate low-temperature plasma. Be seen.

【００１０】また、本発明が講じた第２の解決手段は、
上記第１の解決手段に係るガス処理装置(1) において、
再生手段(3) が、吸着部材(2A,2B) の近傍で放電により
低温プラズマを生成して吸着部材(2A,2B) から被処理成
分を脱離させるように構成されていることを特徴として
いる。The second solution provided by the present invention is as follows.
In the gas treatment device (1) according to the first solving means,
The regeneration means (3) is characterized in that it is configured to generate a low-temperature plasma in the vicinity of the adsorbing members (2A, 2B) by discharge to desorb the components to be treated from the adsorbing members (2A, 2B). There is.

【００１１】この第２の解決手段によれば、再生手段
(3) において、吸着部材(2A,2B) の近傍で放電が生じて
低温プラズマが生成され、該低温プラズマの作用によっ
て被処理成分が吸着部材(2A,2B) から脱離して該吸着部
材(2A,2B) が再生される。低温プラズマにより吸着部材
(23)が再生されることに関しては、具体的な作用は現時
点では明確にはなっていないが、現象としては確認され
ており、放電により高エネルギー状態になったイオンや
ラジカルが、吸着部材(2A,2B) に吸着されている被処理
成分の分子に当たってエネルギーの一部を該分子に与え
ることで、被処理成分の分子が高エネルギー状態にな
り、吸着部材(2A,2B) から脱離するものと考えられる。According to the second solving means, the reproducing means
In (3), a discharge is generated in the vicinity of the adsorption member (2A, 2B) to generate a low temperature plasma, and the component to be treated is desorbed from the adsorption member (2A, 2B) by the action of the low temperature plasma and the adsorption member ( 2A, 2B) is reproduced. Adsorption member by low temperature plasma
Regarding the regeneration of (23), the specific action has not been clarified at this time, but it has been confirmed as a phenomenon, and the ions and radicals that have been brought to a high energy state by the discharge are (2A, 2B) is applied to the molecules of the component to be treated adsorbed to (A, 2B), and the molecules of the component to be treated become in a high energy state and are desorbed from the adsorption member (2A, 2B). It is considered to be a thing.

【００１２】また、本発明が講じた第３の解決手段は、
上記第１または第２の解決手段に係るガス処理装置にお
いて、吸着部材(2A)が、回転可能に構成されるととも
に、被処理空気の流通する吸着通路(P1)と再生空気の流
通する再生通路(P2)に跨って配置され、該吸着部材(2A)
の一部で被処理成分の吸着を行い、他の一部で被処理成
分の脱離を行うことにより、被処理ガスを連続的に処理
することを特徴としている。The third means for solving the problems of the present invention is as follows.
In the gas treatment device according to the first or second solving means, the adsorption member (2A) is configured to be rotatable, and the adsorption passage (P1) through which the air to be treated flows and the regeneration passage through which the regeneration air flows. (P2), the adsorption member (2A)
It is characterized in that the gas to be treated is continuously treated by adsorbing the component to be treated in one part and desorbing the component in the other part.

【００１３】この第３の解決手段においては、吸着通路
(P1)を流れる被処理ガスに含まれる有害成分や臭気成分
を吸着部材(2A)の一部で吸着することにより被処理ガス
が処理される。これらの成分を吸着した部分は、吸着部
材(2A)が回転して再生通路(P2)内に移動すると、再生通
路(P2)を流れる再生空気によって再生される。そして、
このようにして再生された部分が吸着部材(2A)の回転に
伴って吸着通路(P1)内へ再度移動すると、被処理空気中
の被処理成分を吸着するのに用いられる。このように、
吸着部材(2A)が回転しながら吸着と脱離が行われるの
で、被処理ガスが連続的に処理される。In the third solution means, the adsorption passage
The to-be-processed gas is processed by adsorbing harmful components and odorous components contained in the to-be-processed gas flowing through (P1) by a part of the adsorption member (2A). The part that has adsorbed these components is regenerated by the regenerated air flowing through the regeneration passage (P2) when the adsorption member (2A) rotates and moves into the regeneration passage (P2). And
When the portion thus regenerated moves again into the adsorption passage (P1) as the adsorption member (2A) rotates, it is used for adsorbing the component to be treated in the air to be treated. in this way,
Since the adsorption member (2A) is adsorbed and desorbed while rotating, the gas to be treated is continuously treated.

【００１４】また、本発明が講じた第４の解決手段は、
上記第１または第２の解決手段に係るガス処理装置にお
いて、吸着部材(2B)の配置された空間が、被処理空気の
流通する吸着通路(P1)と再生空気(P2)の流通する再生通
路(P2)に切り換え可能に構成され、吸着部材(2B)で被処
理成分の吸着と脱離とを交互に行うことにより、被処理
ガスを間欠的に処理することを特徴としている。The fourth means for solving the problems of the present invention is as follows.
In the gas treatment device according to the first or second solving means, the space in which the adsorption member (2B) is arranged has an adsorption passage (P1) through which the air to be treated flows and a regeneration passage through which regenerated air (P2) flows. It is characterized in that it can be switched to (P2) and that the gas to be processed is intermittently processed by alternately adsorbing and desorbing the components to be processed by the adsorption member (2B).

【００１５】この第４の解決手段では、まず吸着部材(2
B)の配置された空間を吸着通路(P1)に切り換えた状態と
して、被処理ガス中の被処理成分を吸着部材(2B)で吸着
し、被処理ガスを処理する。吸着部材(2B)が飽和状態に
近付くと、吸着部材(2B)の配置された空間を再生通路(P
2)に切り換えて、吸着部材(2B)に吸着した被処理成分を
再生空気中に放出させ、吸着部材(2B)を再生する。放出
した被処理成分は、分解手段(4) において処理される。
このように、吸着部材(2B)で被処理成分の吸着と脱離と
を交互に行うことにより、被処理ガスが間欠的に処理さ
れる。In the fourth solution means, first, the suction member (2
With the space in which B) is arranged switched to the adsorption passage (P1), the components to be treated in the gas to be treated are adsorbed by the adsorption member (2B) and the gas to be treated is treated. When the adsorption member (2B) approaches the saturated state, the regeneration passage (P
By switching to 2), the component to be treated adsorbed by the adsorbing member (2B) is released into the regenerating air to regenerate the adsorbing member (2B). The released components to be treated are treated in the decomposition means (4).
In this manner, the gas to be processed is intermittently processed by alternately adsorbing and desorbing the component to be processed by the adsorption member (2B).

【００１６】また、本発明が講じた第５の解決手段は、
上記第１または第２の解決手段に係るガス処理装置(1)
において、複数の吸着部材(2B)が配置された空間が、そ
れぞれ、被処理空気の流通する吸着通路(P1)と再生空気
の流通する再生通路(P2)に切り換え可能に構成され、被
処理成分の吸着を行う吸着部材(2B)と被処理成分の脱離
を行う吸着部材(2B)との切り換え操作を繰り返すことに
より、被処理ガスを連続的に処理することを特徴として
いる。The fifth means for solving the problems of the present invention is as follows.
Gas treatment device (1) according to the first or second solving means
In, the space in which a plurality of adsorption members (2B) is arranged, respectively, is configured to be switchable to the adsorption passage (P1) through which the air to be treated flows and the regeneration passage (P2) through which the regeneration air flows, and the treated component It is characterized in that the gas to be treated is continuously treated by repeating the switching operation between the adsorption member (2B) for adsorbing the substance and the adsorption member (2B) for desorbing the component to be treated.

【００１７】この第５の解決手段では、吸着通路(P1)側
に切り換えた吸着部材(2B)において被処理ガス中の被処
理成分を吸着し、該被処理ガスを処理するとともに、再
生通路(P2)側に切り換えた吸着部材(2B)は再生空気に被
処理成分を放出して再生される。一方、各吸着部材(2B)
において、吸着通路(P1)を再生通路(P2)に、再生通路(P
2)を吸着通路(P1)に切り換えると、それまで吸着に用い
られていた吸着部材(2B)が再生され、逆にそれまで再生
されていた吸着部材(2B)は吸着に用いられる。このよう
に、被処理成分の吸着を行う吸着部材(2B)と被処理成分
の脱離を行う吸着部材(2B)との切り換え操作を繰り返す
ことにより、被処理ガスが連続的に処理される。In the fifth solving means, the adsorbing member (2B) switched to the adsorbing passage (P1) side adsorbs the to-be-treated component in the to-be-treated gas, treats the to-be-treated gas, and regenerates the regenerating passage ( The adsorption member (2B) switched to the P2) side is regenerated by releasing the component to be treated into regeneration air. On the other hand, each suction member (2B)
The adsorption passage (P1) to the regeneration passage (P2) and the regeneration passage (P
When 2) is switched to the adsorption passage (P1), the adsorption member (2B) used for adsorption up to that point is regenerated, and conversely, the adsorption member (2B) regenerated up to that point is used for adsorption. In this way, the gas to be treated is continuously processed by repeating the switching operation between the adsorption member (2B) for adsorbing the component to be treated and the adsorption member (2B) for desorbing the component to be treated.

【００１８】また、本発明が講じた第６の解決手段は、
上記第１から第５のいずれか１の解決手段において、分
解手段(4) が、吸着部材(2B)の少なくとも一部を含む閉
空間(P2)の内部に設けられていることを特徴としてい
る。The sixth means for solving the problems of the present invention is as follows.
In any one of the first to fifth solving means, the disassembling means (4) is provided inside the closed space (P2) including at least a part of the adsorption member (2B). .

【００１９】この第６の解決手段においては、分解手段
(4) が吸着部材(2B)の少なくとも一部とともに閉空間(P
2)の内部に設けられるので、閉空間(P2)の内部で吸着部
材(2B)が再生されるとともに、脱離した成分がこの閉空
間(P2)の中で分解されることになる。このため、吸着部
材(2B)の再生と脱離した被処理成分の分解とが、該閉空
間(P2)内で完結する。In the sixth solution means, the disassembling means
(4) together with at least a part of the adsorption member (2B)
Since it is provided inside the closed space (P2), the adsorption member (2B) is regenerated inside the closed space (P2), and the desorbed components are decomposed in this closed space (P2). Therefore, the regeneration of the adsorption member (2B) and the decomposition of the desorbed component to be treated are completed in the closed space (P2).

【００２０】また、本発明が講じた第７の解決手段は、
上記第１から第６のいずれか１の解決手段において、分
解手段(4) が、低温プラズマにより活性化して被処理成
分の処理を促進する触媒手段(41)を含んでいることを特
徴としている。The seventh means for solving the problems of the present invention is as follows.
In any one of the first to sixth solving means, the decomposing means (4) is characterized in that the decomposing means (4) includes a catalyst means (41) which is activated by a low temperature plasma to accelerate the treatment of the component to be treated. .

【００２１】この第７の解決手段によれば、吸着部材(2
A,2B) から脱離した被処理成分を分解する際に、低温プ
ラズマとともに触媒の作用が用いられる。つまり、被処
理ガスは、低温プラズマにより発生する高速電子やイオ
ン、及び各種の活性種（例えば、ヒドロキシラジカルな
どのラジカルや、励起酸素分子、励起窒素分子、励起水
分子などの励起分子）などの作用を受けるとともに、触
媒の作用も受ける。例えば、被処理ガスが有害成分や臭
気成分などの被処理成分を含む空気である場合、これら
の被処理成分は、上記活性種により分解されて無臭化ま
たは無害化されるとともに、触媒によって分解反応が促
進される。According to the seventh solution means, the suction member (2
When decomposing the components to be treated that have been desorbed from A, 2B), the action of the catalyst is used together with the low temperature plasma. In other words, the gas to be treated includes high-speed electrons and ions generated by low-temperature plasma, and various active species (for example, radicals such as hydroxy radicals and excited molecules such as excited oxygen molecules, excited nitrogen molecules, and excited water molecules). In addition to being affected, it is also affected by the catalyst. For example, when the gas to be treated is air containing components to be treated such as harmful components and odorous components, these components to be treated are decomposed by the above-mentioned active species to be deodorized or harmless, and also decomposed by a catalyst. Is promoted.

【００２２】なお、低温プラズマにより活性化する触媒
としては、例えば、Ｐｔ（白金），Ｐｄ（パラジウ
ム），Ｎｉ（ニッケル），Ｉｒ（イリジウム），Ｒｈ
（ロジウム），Ｃｏ（コバルト），Ｏｓ（オスミウ
ム），Ｒｕ（ルテニウム），Ｆｅ（鉄），Ｒｅ（レニウ
ム），Ｔｃ（テクネチウム），Ｍｎ（マンガン），Ａｕ
（金），Ａｇ（銀），Ｃｕ（銅），Ｗ（タングステ
ン），Ｍｏ（モリブデン），Ｃｒ（クロム）などのうち
の少なくとも１種を含むものを用いることができる。ま
た、このうち、ＦｅやＭｎを始め、一部の物質は酸化物
（例えばＦｅ2Ｏ3、ＭｎＯ2 など）の形態で含ませると
よい。The catalyst activated by the low temperature plasma is, for example, Pt (platinum), Pd (palladium), Ni (nickel), Ir (iridium), Rh.
(Rhodium), Co (cobalt), Os (osmium), Ru (ruthenium), Fe (iron), Re (rhenium), Tc (technetium), Mn (manganese), Au
A material containing at least one of (gold), Ag (silver), Cu (copper), W (tungsten), Mo (molybdenum), and Cr (chromium) can be used. Of these, Fe and Mn, as well as some substances, may be included in the form of oxides (eg, Fe 2 O 3 , MnO 2, etc.).

【００２３】これらの触媒は、吸着部材(2A,2B) から脱
離した被処理成分を処理する際に、放電により発生する
種々の活性種（オゾン、ヒドロキシラジカル、励起酸素
分子、励起窒素分子、励起水分子など）をさらに励起し
て、これら活性種をより活性の高い状態にする作用や、
該触媒の表面に多くの活性種を活性状態のまま吸着する
作用を有している。したがって、これらの作用により被
処理ガスを処理する際の化学反応が促進される。These catalysts are used to treat various active species (ozone, hydroxy radicals, excited oxygen molecules, excited nitrogen molecules, generated by discharge when treating the components to be treated desorbed from the adsorbing members (2A, 2B), (Excited water molecules, etc.) to further excite these active species into a more active state,
It has a function of adsorbing many active species on the surface of the catalyst in an active state. Therefore, these actions accelerate the chemical reaction when treating the gas to be treated.

【００２４】また、本発明が講じた第８の解決手段は、
上記第７の解決手段において、触媒手段(41)が吸着部材
(2A,2B) と一体に形成されていることを特徴としてい
る。The eighth means for solving the problems of the present invention are:
In the seventh solving means, the catalyst means (41) is an adsorption member.
It is characterized by being formed integrally with (2A, 2B).

【００２５】この第８の解決手段においては、吸着部材
(2A,2B) に触媒が含まれることになる。このため、吸着
部材(2A,2B) から被処理成分を脱離して該吸着部材(2A,
2B)を再生しながら、脱離した被処理成分が同時に低温
プラズマによって分解される。また、触媒手段(41)が吸
着部材(2A,2B) と一体であるため、分解手段(4) におけ
る触媒の活性化には再生手段(3) において生成した低温
プラズマを利用することができる。In the eighth solution means, the suction member
The catalyst will be included in (2A, 2B). Therefore, the components to be treated are desorbed from the adsorbing members (2A, 2B) to remove the adsorbing members (2A, 2B).
While regenerating 2B), the desorbed components to be treated are simultaneously decomposed by the low temperature plasma. Further, since the catalyst means (41) is integrated with the adsorption members (2A, 2B), the low temperature plasma generated in the regeneration means (3) can be used for activating the catalyst in the decomposition means (4).

【００２６】また、本発明が講じた第９の解決手段は、
上記第７の解決手段において、触媒手段(41)が吸着部材
(2A,2B) と別体に形成されていることを特徴としてい
る。The ninth means for solving the problems of the present invention is as follows.
In the seventh solving means, the catalyst means (41) is an adsorption member.
It is characterized by being formed separately from (2A, 2B).

【００２７】この第９の解決手段においては、吸着部材
(2A,2B) とは別に触媒手段(41)が設けられるため、吸着
部材(2A,2B) から被処理成分を脱離して吸着部材(2A,2
B) を再生するのとは別の位置で、脱離した被処理成分
が低温プラズマと触媒の作用によって処理される。In the ninth solving means, the suction member
Since the catalyst means (41) is provided separately from (2A, 2B), the component to be treated is desorbed from the adsorption member (2A, 2B) to remove the adsorption member (2A, 2B).
At a position other than the regeneration of B), the desorbed components to be treated are treated by the action of the low temperature plasma and the catalyst.

【００２８】[0028]

【発明の効果】上記第１の解決手段によれば、吸着部材
(2A,2B) から脱離した被処理成分を、従来は燃焼酸化触
媒を用いて分解処理しているのに対して、分解手段(4)
において低温プラズマを利用して分解するようにしてい
るので、その分解処理のために空気を高温に加熱しなく
てもよい。そして、放電の消費電力が加熱の消費電力よ
り小さくて済むため、従来は燃焼酸化触媒での分解処理
に関して特に問題であったランニングコストを抑えるこ
とが可能となる。According to the first solving means described above, the suction member
The component to be treated desorbed from (2A, 2B) is conventionally decomposed using a combustion oxidation catalyst, whereas the decomposition means (4)
Since the low temperature plasma is used to decompose the air, it is not necessary to heat the air to a high temperature for the decomposition process. Since the power consumption for discharge is smaller than the power consumption for heating, it is possible to suppress the running cost which has been a particular problem in the conventional decomposition treatment with the combustion oxidation catalyst.

【００２９】また、従来のガス処理装置において、空調
機と組み合わせたシステムの場合は、例えば熱交換器の
排熱を利用して被処理成分の分解処理熱を得るようにす
ることがあるが、その場合でも熱回収だけでは燃焼酸化
触媒を十分に加熱できないうえにシステム構成が複雑に
なりがちであるのに対して、上記解決手段によれば熱回
収が不要であり、システム構成が複雑になることもな
い。Further, in the case of a system combined with an air conditioner in a conventional gas treatment apparatus, for example, exhaust heat of a heat exchanger may be used to obtain heat of decomposition treatment of components to be treated. Even in that case, the heat recovery alone cannot sufficiently heat the combustion oxidation catalyst and the system configuration tends to be complicated. On the other hand, according to the above solution, heat recovery is unnecessary and the system configuration becomes complicated. Nothing.

【００３０】また、上記第２の解決手段によれば、吸着
部材(2A,2B) の再生にも低温プラズマを利用するように
しているので、従来は再生に用いていたヒータが不要と
なる。したがって、吸着部材(2A,2B) の再生に関しても
ランニングコストを抑えることが可能となる。Further, according to the second solving means, since the low temperature plasma is used also for the regeneration of the adsorbing members (2A, 2B), the heater conventionally used for the regeneration becomes unnecessary. Therefore, it is possible to reduce the running cost for the regeneration of the adsorption member (2A, 2B).

【００３１】また、上記第３の解決手段によれば、吸着
部材(2A)から脱離した被処理成分を低温プラズマで分解
するガス処理装置(1) において、吸着部材(2) を回転さ
せながら吸着と脱離を行って、被処理ガスを連続的に処
理することができる。Further, according to the third solving means, in the gas treatment device (1) for decomposing the component to be treated desorbed from the adsorption member (2A) by the low temperature plasma, the adsorption member (2) is rotated. The gas to be treated can be continuously treated by adsorption and desorption.

【００３２】また、上記第４の解決手段によれば、吸着
部材(2B)から脱離した被処理成分を低温プラズマで分解
するガス処理装置(1) において、吸着部材(2B)で被処理
成分の吸着と脱離とを交互に行うことにより、被処理ガ
スを間欠的に処理することができる。この構成では、吸
着部材(2B)を静止した状態にして運転できるので、装置
の信頼性を高められる。According to the fourth solution means, in the gas treatment device (1) for decomposing the component to be treated desorbed from the adsorbing member (2B) by the low temperature plasma, the component to be treated is adsorbed by the adsorbing member (2B). By alternately adsorbing and desorbing the gas, the gas to be processed can be processed intermittently. With this configuration, the suction member (2B) can be operated in a stationary state, so that the reliability of the device can be improved.

【００３３】また、上記第５の解決手段によれば、吸着
部材(2B)から脱離した被処理成分を低温プラズマで分解
するガス処理装置(1) において、複数の吸着部材(2B)を
設けて被処理成分の吸着を行う吸着部材(2B)と被処理成
分の脱離を行う吸着部材(2B)との切り換え操作を繰り返
すことにより、被処理ガスを連続的に処理することがで
きる。この構成でも、通路(P1,P2) を切り換えるだけで
吸着部材(2B)を静止した状態にして運転できるので、装
置の信頼性を高められる。Further, according to the fifth solving means, a plurality of adsorption members (2B) are provided in the gas treatment device (1) for decomposing the component to be treated desorbed from the adsorption member (2B) by low temperature plasma. By repeating the switching operation between the adsorption member (2B) for adsorbing the component to be treated and the adsorption member (2B) for desorbing the component to be treated, the gas to be treated can be continuously treated. Even in this configuration, since the adsorption member (2B) can be operated in a stationary state simply by switching the passages (P1, P2), the reliability of the device can be improved.

【００３４】また、上記第６の解決手段によれば、吸着
部材(2A,2B) の再生と、その再生時に吸着部材(2A,2B)
から脱離した被処理成分の分解とを一つの閉空間内で行
うようにしているので、再生手段(3) と分解手段(4) と
をダクトなどでつなぐ必要がなく、構成を簡単にするこ
とができ、装置の小型化も可能となる。According to the sixth solution means, the adsorption member (2A, 2B) is regenerated and the adsorption member (2A, 2B) is regenerated at the time of regeneration.
Since the components to be treated that have been desorbed from the components are decomposed in one closed space, it is not necessary to connect the regeneration means (3) and the decomposition means (4) with a duct or the like, and the configuration is simplified. Therefore, the device can be downsized.

【００３５】また、上記第７の解決手段によれば、吸着
部材(2A,2B) から脱離した被処理成分を分解する際に、
放電により低温プラズマを生成して発生させた種々の活
性種（オゾン、ヒドロキシラジカル、励起酸素分子、励
起窒素分子、励起水分子など）を触媒でさらに励起して
活性を高めたり、これらの活性種を触媒上に活性状態の
まま吸着したりして化学反応を促進することができるの
で、低温プラズマによる被処理成分の分解性能を確実に
高められる。Further, according to the seventh solving means, when decomposing the component to be treated desorbed from the adsorption member (2A, 2B),
Various active species (ozone, hydroxy radicals, excited oxygen molecules, excited nitrogen molecules, excited water molecules, etc.) generated by generating low-temperature plasma by electric discharge are further excited by a catalyst to enhance the activity, or these active species are generated. Since it is possible to promote the chemical reaction by adsorbing on the catalyst in the active state, the decomposition performance of the components to be treated by the low temperature plasma can be surely enhanced.

【００３６】また、上記第８の解決手段によれば、吸着
部材(2A,2B) に触媒が含まれるため、構成を簡単にする
ことができ、小型化も可能となる。特に、再生手段(3)
に低温プラズマを利用したものでは、触媒の活性化にも
同じ低温プラズマを利用することができるので、構成の
簡素化や装置の小型化に有利である。According to the eighth solution means, since the adsorption member (2A, 2B) contains the catalyst, the structure can be simplified and the size can be reduced. Especially regenerating means (3)
Since the same low temperature plasma can be used for activating the catalyst, the low temperature plasma is advantageous for simplifying the configuration and downsizing the device.

【００３７】また、上記第９の解決手段によれば、吸着
部材(2A,2B) とは別に触媒手段(41)を用いているので、
吸着部材(2A,2B) を再生する再生手段(3) と、触媒手段
(41)を含む分解手段(4) とが分離して配置される。この
ため、被処理成分の分解には低温プラズマを利用する一
方で吸着部材(2A,2B) の再生は加熱により行う場合など
に、再生手段(3) と分解手段(4) とが近接して配置され
ることによる構成の複雑化などを防止できる。Further, according to the ninth solving means, since the catalyst means (41) is used separately from the adsorption members (2A, 2B),
Regeneration means (3) for regenerating the adsorption members (2A, 2B) and catalyst means
The disassembling means (4) including (41) is arranged separately. Therefore, when the low temperature plasma is used to decompose the components to be treated, while the regeneration of the adsorption member (2A, 2B) is performed by heating, the regeneration means (3) and the decomposition means (4) are placed close to each other. It is possible to prevent the configuration from becoming complicated due to the arrangement.

【００３８】[0038]

【発明の実施の形態１】以下、本発明の実施形態１を図
面に基づいて詳細に説明する。Embodiment 1 of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.

【００３９】図１は、この実施形態１に係る空気浄化装
置（ガス処理装置）の概略構成を示す斜視図、図２は断
面構造図である。この空気浄化装置(1) は、被処理空気
中の有害成分や臭気成分などの被処理成分を吸着ロータ
（吸着部材）(2A)により吸着して、該被処理空気を浄化
するものである。FIG. 1 is a perspective view showing a schematic structure of an air purification device (gas processing device) according to the first embodiment, and FIG. 2 is a sectional structural view. The air purifying device (1) purifies the air to be treated by adsorbing components to be treated such as harmful components and odorous components in the air to be treated by an adsorption rotor (adsorption member) (2A).

【００４０】空気浄化装置(1) は、図２に示すように、
ケーシング(10)内に、上記吸着ロータ(2A)と、該吸着ロ
ータ(2A)から被処理成分を脱離させる再生手段(3) と、
該再生手段(3) によって吸着ロータ(2A)から脱離した被
処理成分を分解する分解手段(4) とを備えている。As shown in FIG. 2, the air purification device (1) is
In the casing (10), the adsorption rotor (2A), and a regeneration means (3) for desorbing a component to be treated from the adsorption rotor (2A),
And a decomposition means (4) for decomposing the component to be treated desorbed from the adsorption rotor (2A) by the regeneration means (3).

【００４１】吸着ロータ(2A)は、空気の流れ方向に沿っ
て貫通する多数の小孔(2a)を有するハニカム形状の基材
から構成され、被処理空気が通り抜けるように通気性を
有している。なお、吸着ロータ(2A)は、基材の表面に吸
着剤を担持する構成の他に、ゼオライト等の吸着剤をバ
インダで固めてハニカム状などの通気性を有する形状に
成形してもよい。The adsorption rotor (2A) is composed of a honeycomb-shaped base material having a large number of small holes (2a) penetrating in the air flow direction, and has air permeability so that the air to be treated can pass through. There is. The adsorption rotor (2A) may have a structure in which an adsorbent is carried on the surface of the base material, or may be formed into a shape having air permeability such as a honeycomb shape by adsorbing an adsorbent such as zeolite with a binder.

【００４２】上記吸着ロータ(2A)は、基材の表面に吸着
剤を担持し、被処理空気が小孔(2a)を通過する際に臭気
成分や有害成分を吸着剤に吸着することで、これらの成
分を被処理空気から除去するように構成されている。吸
着剤には、例えば活性炭やゼオライトなどが用いられ
る。また、吸着剤には、多孔質セラミックス、活性炭繊
維、モルデナイト、フェリエライト、シリカライトなど
を使用してもよい。The adsorption rotor (2A) carries an adsorbent on the surface of the base material and adsorbs odorous components and harmful components to the adsorbent when the air to be treated passes through the small holes (2a). It is configured to remove these components from the air to be treated. For example, activated carbon or zeolite is used as the adsorbent. Further, as the adsorbent, porous ceramics, activated carbon fiber, mordenite, ferrierite, silicalite or the like may be used.

【００４３】上記ケーシング(10)は、互いに対向する空
気吸込口(11)と空気吹出口(12)とを有し、その間に上記
吸着ロータ(2A)が配置されるとともに、ファン(5) も配
置されている。被処理空気は空気吸込口(11)からケーシ
ング(10)内に吸い込まれた後、吸着ロータ(2A)を通って
処理（被処理成分の吸着処理）され、さらに空気吹出口
(12)から吹き出される。ケーシング(10)内は、空気吸込
口(11)から空気吹出口(12)へ空気の流れる経路が吸着通
路(P1)に構成されている。The casing (10) has an air inlet (11) and an air outlet (12) facing each other, and the adsorption rotor (2A) is arranged between them, and the fan (5) also It is arranged. The air to be treated is sucked into the casing (10) from the air suction port (11), then processed through the adsorption rotor (2A) (adsorption treatment of the components to be treated), and the air outlet
Blow out from (12). In the casing (10), a passage through which air flows from the air suction port (11) to the air outlet port (12) is configured as an adsorption passage (P1).

【００４４】一方、ケーシング(10)内は、吸着ロータ(2
A)の一部を含む断面扇状の空間が閉空間に構成され、こ
の閉空間が再生空気の流通する再生空路(P2)に構成され
ている。再生通路(P2)内では、再生空気が循環すること
により吸着ロータ(2A)が再生される。On the other hand, inside the casing (10), the adsorption rotor (2
A space having a fan-shaped cross section including a part of A) is configured as a closed space, and this closed space is configured as a regeneration air passage (P2) through which regeneration air flows. In the regeneration passage (P2), the adsorption rotor (2A) is regenerated by circulating the regeneration air.

【００４５】上記吸着ロータ(2A)は、円板状であって中
心軸(C) の廻りで回転可能に構成されるとともに、被処
理空気の流通する吸着通路(P1)と再生空気の流通する再
生通路(P2)とに跨って配置されている。そして、吸着ロ
ータ(2A)は、吸着通路(P1)内に位置する部分が吸着部(2
1)、再生通路(P2)内に位置する部分が再生部(22)になっ
ている。The adsorption rotor (2A) has a disk shape and is configured to be rotatable around the central axis (C), and the regeneration air flows through the adsorption passage (P1) through which the air to be treated flows. It is arranged across the regeneration passage (P2). Then, in the adsorption rotor (2A), the portion located in the adsorption passage (P1) is the adsorption portion (2A).
1), the portion located in the regeneration passage (P2) is the regeneration portion (22).

【００４６】ケーシング(10)内には、上記吸着ロータ(2
A)を回転させるために駆動機構(6)が設けられている。
この駆動機構(6) は、駆動モータ(6a)と、該駆動モータ
(6a)の出力軸に固定された駆動プーリ(6b)と、駆動プー
リ(6b)及び吸着ロータ(2A)に掛けられた駆動ベルト(6c)
とから構成されていて、駆動ベルト(6c)を駆動モータ(6
a)で走行させることにより吸着ロータ(2A)が回転する。
そして、吸着ロータ(2A)が回転しながら、上記吸着部(2
1)で被処理成分の吸着を行うとともに、上記再生部(22)
で被処理成分の脱離を行うことにより、被処理ガスが連
続的に処理される。Inside the casing (10), the adsorption rotor (2
A drive mechanism (6) is provided for rotating A).
The drive mechanism (6) includes a drive motor (6a) and the drive motor (6a).
The drive pulley (6b) fixed to the output shaft of (6a) and the drive belt (6c) hung on the drive pulley (6b) and the suction rotor (2A).
The drive belt (6c) and the drive motor (6
The adsorption rotor (2A) rotates by running in (a).
While the suction rotor (2A) rotates, the suction unit (2A)
In addition to adsorbing the component to be treated in 1), the above regeneration unit (22)
By desorbing the components to be treated, the gas to be treated is continuously treated.

【００４７】上記再生手段(3) は、吸着ロータ(2A)の近
傍で放電により低温プラズマを生成して吸着ロータ(2A)
から被処理成分を脱離させるように構成されている。こ
のため、吸着ロータ(2A)の近傍には、該吸着ロータ(2A)
を挟んで放電電極(31)と対向電極(32)とが配置され、両
電極(31,32) には、放電電圧を印加してストリーマ放電
を発生させる直流の高圧電源(33)が接続されている。The regenerating means (3) generates low temperature plasma by electric discharge in the vicinity of the adsorption rotor (2A) to generate the adsorption rotor (2A).
To be desorbed from the component to be treated. Therefore, in the vicinity of the adsorption rotor (2A), the adsorption rotor (2A)
A discharge electrode (31) and a counter electrode (32) are arranged with the discharge electrode (31) in between, and a high-voltage DC power supply (33) that applies a discharge voltage to generate a streamer discharge is connected to both electrodes (31, 32). ing.

【００４８】放電電極(31)は、図３に示すように、上記
閉空間の扇形状とほぼ相似形のメッシュ状導電基材(31
a) と、この基材(31a) に立設された複数の針電極(31b)
とから構成されている。対向電極(32)は、図３では省
略しているが放電電極(31)に対して吸着ロータ(2A)を挟
んだ反対側に配置されている。この対向電極(32)は、放
電電極(31)の基材(31a) と同様に扇形状でメッシュ状の
電極板によって構成されている。As shown in FIG. 3, the discharge electrode (31) has a mesh-shaped conductive base material (31) that is substantially similar to the fan shape of the closed space.
a) and a plurality of needle electrodes (31b) installed upright on this base material (31a)
It consists of and. Although not shown in FIG. 3, the counter electrode (32) is arranged on the opposite side of the discharge electrode (31) with the adsorption rotor (2A) interposed therebetween. The counter electrode (32) is composed of a fan-shaped and mesh-shaped electrode plate like the base material (31a) of the discharge electrode (31).

【００４９】この構成において両電極(31,32) に放電電
圧を印加すると、放電電極(31)と対向電極(32)の間でス
トリーマ放電が発生する。このストリーマ放電により、
高活性のイオンやラジカルなどの活性種が発生し、低温
プラズマが生成される。具体的には、放電によって高速
電子、イオン、オゾン、ヒドロキシラジカルなどのラジ
カルや、その他励起分子（励起酸素分子、励起窒素分
子、励起水分子など）などの活性種が生成され、これら
の活性種によって、吸着ロータ(2A)に吸着された被処理
成分が効果的に脱離される。When a discharge voltage is applied to both electrodes (31, 32) in this structure, streamer discharge occurs between the discharge electrode (31) and the counter electrode (32). By this streamer discharge,
Active species such as highly active ions and radicals are generated, and low temperature plasma is generated. Specifically, discharge produces active species such as fast electrons, ions, ozone, radicals such as hydroxy radicals, and other excited molecules (excited oxygen molecules, excited nitrogen molecules, excited water molecules, etc.). Thus, the components to be treated adsorbed on the adsorption rotor (2A) are effectively desorbed.

【００５０】ストリーマ放電は、針電極(31b) の先端か
ら対向電極(32)まで微小アークが連続することにより、
発光を伴ったプラズマ柱として形成され、微小アーク
は、針電極(31b) と対向電極(32)の間において、等電位
面の間隔が狭いところで連なって進展する。本実施形態
では、詳細は示していないが、針電極(31b) の先端を６
０°（または３０°〜９０°）の削り角で削ったものと
し、最先端は半径が約０．５mmの球面形状として僅かな
丸みを有するものとしている。そして、針電極(31b) の
先端角度を上記の角度に特定しているため、微小アーク
が広範囲に広がりながら進展しやすくなり、ストリーマ
放電が広範囲で生じるようにしている。つまり、この場
合のストリーマ放電は、針電極(31b) から対向電極(32)
に向かってフレア状に広がった領域で発生する。そし
て、直流高電圧を用いたストリーマ放電において、各針
電極(31b) についての放電領域が広くなるようにして、
針電極(31b) の本数を比較的少なくしてもプラズマ発生
領域を広げられるようにしている。In the streamer discharge, a minute arc continues from the tip of the needle electrode (31b) to the counter electrode (32),
It is formed as a plasma column accompanied by light emission, and the minute arcs continuously propagate between the needle electrode (31b) and the counter electrode (32) where the equipotential surface is narrow. In this embodiment, although not shown in detail, the tip of the needle electrode (31b) is 6
It is assumed that the cutting angle is 0 ° (or 30 ° to 90 °), and the tip has a spherical shape with a radius of about 0.5 mm and has a slight roundness. Further, since the tip angle of the needle electrode (31b) is specified to the above angle, the micro arc easily spreads while spreading over a wide range, and streamer discharge is generated over a wide range. In other words, the streamer discharge in this case is from the needle electrode (31b) to the counter electrode (32).
It occurs in the area flared toward the. Then, in a streamer discharge using a high DC voltage, the discharge area for each needle electrode (31b) is widened,
Even if the number of needle electrodes (31b) is relatively small, the plasma generation region can be expanded.

【００５１】一方、上記分解手段(4) は、ストリーマ放
電により生成される低温プラズマと、該低温プラズマに
より発生する活性種の作用で活性化して上記被処理成分
の処理を促進する触媒手段(41)とにより、吸着ロータ(2
A)から脱離した上記被処理成分を分解するように構成さ
れている。On the other hand, the decomposition means (4) is activated by the action of the low temperature plasma generated by the streamer discharge and the active species generated by the low temperature plasma to promote the treatment of the component to be treated (41). ) And the suction rotor (2
It is configured to decompose the above-mentioned components to be treated that have been desorbed from A).

【００５２】触媒手段(41)は、低温プラズマにより活性
化する触媒を例えばハニカム状の基材の表面に担持した
ものや、触媒粒子を通気性の容器に充填したものなどに
よって構成され、再生空気が通過するように通気性を有
している。該触媒手段(41)は、吸着ロータ(2A)とは別体
に構成されて、吸着ロータ(2A)の近傍に配置されてい
る。この触媒を活性化するため、低温プラズマを生成す
る手段として、上記放電電極(31)及び対向電極(32)が利
用されている。つまり、再生手段(3) と分解手段(4)
は、放電電極(31)及び対向電極(32)を共用している。触
媒手段(41)は、放電電極(31)及び対向電極(32)ととも
に、再生通路(P2)内に配置されている。The catalyst means (41) is constituted by, for example, a catalyst which is activated by low-temperature plasma carried on the surface of a honeycomb-shaped base material, or a catalyst particle which is filled in an air-permeable container, and the regenerated air is used. Is breathable so that The catalyst means (41) is formed separately from the adsorption rotor (2A) and is arranged near the adsorption rotor (2A). In order to activate this catalyst, the discharge electrode (31) and the counter electrode (32) are used as a means for generating low temperature plasma. That is, the regeneration means (3) and the disassembly means (4)
Share the discharge electrode (31) and the counter electrode (32). The catalyst means (41) is arranged in the regeneration passage (P2) together with the discharge electrode (31) and the counter electrode (32).

【００５３】なお、低温プラズマにより活性化する触媒
としては、例えば、Ｐｔ（白金），Ｐｄ（パラジウ
ム），Ｎｉ（ニッケル），Ｉｒ（イリジウム），Ｒｈ
（ロジウム），Ｃｏ（コバルト），Ｏｓ（オスミウ
ム），Ｒｕ（ルテニウム），Ｆｅ（鉄），Ｒｅ（レニウ
ム），Ｔｃ（テクネチウム），Ｍｎ（マンガン），Ａｕ
（金），Ａｇ（銀），Ｃｕ（銅），Ｗ（タングステ
ン），Ｍｏ（モリブデン），Ｃｒ（クロム）のうちの少
なくとも１種を含むものを用いることができる。また、
このうち、ＦｅやＭｎを始め、一部の物質は酸化物（例
えばＦｅ2Ｏ3、ＭｎＯ2 など）の形態で含ませるとよ
い。Examples of the catalyst activated by the low temperature plasma include Pt (platinum), Pd (palladium), Ni (nickel), Ir (iridium), Rh.
(Rhodium), Co (cobalt), Os (osmium), Ru (ruthenium), Fe (iron), Re (rhenium), Tc (technetium), Mn (manganese), Au
A material containing at least one of (gold), Ag (silver), Cu (copper), W (tungsten), Mo (molybdenum), and Cr (chromium) can be used. Also,
Of these, some substances including Fe and Mn may be contained in the form of oxides (for example, Fe 2 O 3 , MnO 2, etc.).

【００５４】−運転動作− 次に、この空気浄化装置(1) の運転動作について説明す
る。-Driving Operation- Next, the driving operation of the air purifying device (1) will be described.

【００５５】装置(1) の運転時には、駆動モータ(6a)と
ファン(5) が起動しており、吸着ロータ(2A)が回転しな
がら被処理空気がケーシング(10)の吸着通路(P1)を通過
している。したがって、被処理空気は、吸着通路(P1)内
で吸着ロータ(2A)を通過するときに吸着剤が臭気成分や
有害成分を吸着するため、清浄な空気になってケーシン
グ(10)から吹き出される。During the operation of the device (1), the drive motor (6a) and the fan (5) are started, and the air to be treated is adsorbed on the adsorption passage (P1) of the casing (10) while the adsorption rotor (2A) is rotating. Is passing through. Therefore, the air to be treated becomes clean air and is blown out from the casing (10) because the adsorbent adsorbs odorous components and harmful components when passing through the adsorption rotor (2A) in the adsorption passage (P1). It

【００５６】吸着ロータ(2A)は、回転軸(C) を中心とし
て回転しているため、吸着通路(P1)内で被処理空気中の
被処理成分を吸着した部分は、やがて再生通路(P2)内へ
移動する。この再生通路(P2)内では、放電電極(31)と対
向電極(32)に電源(33)から放電電圧が印加されており、
両電極(31,32) の間でストリーマ放電が発生して低温プ
ラズマが生成されている。そして、ストリーマ放電によ
り再生通路(P2)内では各種の活性種が発生しており、こ
れらの活性種が、吸着ロータ(2A)の再生と、その再生時
に吸着ロータ(2A)から脱離した被処理成分の分解とに作
用する。Since the adsorption rotor (2A) rotates about the rotary shaft (C), the portion of the adsorption passage (P1) in which the component to be treated in the air to be treated is adsorbed is eventually regenerated by the regeneration passage (P2). ) Move in. In this regeneration passage (P2), a discharge voltage is applied from the power supply (33) to the discharge electrode (31) and the counter electrode (32),
Streamer discharge is generated between both electrodes (31, 32) and low temperature plasma is generated. Then, various active species are generated in the regeneration passage (P2) due to the streamer discharge, and these active species are regenerated from the adsorption rotor (2A) and the target desorbed from the adsorption rotor (2A) during the regeneration. It acts on the decomposition of processing components.

【００５７】また、上記放電時には、放電電極(31)側で
イオンが発生し、これが対向電極(32)に引き寄せられて
移動する間に次々に中性の空気分子に衝突して運動エネ
ルギーを空気に与える結果、イオン風が発生する。イオ
ン風は、放電電極(31)から対向電極(32)に向かってほぼ
一定の向きで流れる。このため、閉空間になっている再
生通路(P2) 内では、予め循環通路を設けておくことに
より、ファンなどの送風手段を用いずに再生空気を循環
させることが可能となる。During the discharge, ions are generated on the side of the discharge electrode (31), and while the ions are attracted to the counter electrode (32) and move, they collide with neutral air molecules one after another to transfer kinetic energy to the air. As a result, ionic wind is generated. The ionic wind flows from the discharge electrode (31) toward the counter electrode (32) in a substantially constant direction. For this reason, by providing a circulation passage in advance in the regeneration passage (P2) which is a closed space, it becomes possible to circulate the regeneration air without using a blowing means such as a fan.

【００５８】このようにして再生空気が循環すると、放
電により発生した各種の活性種がイオン風に乗って吸着
ロータ(2A)を通過し、該活性種の作用で被処理成分が吸
着ロータ(2A)から脱離して該吸着ロータ(2A)が再生され
る。ここで、低温プラズマにより吸着ロータ(2A)が再生
される際の具体的な作用は現時点では明確にはなってい
ないものの、現象としては確認されており、放電により
高エネルギー状態になったイオンやラジカルが、吸着ロ
ータ(2A)に吸着されている被処理成分の分子に当たって
エネルギーの一部を該分子に与えることで、被処理成分
の分子が高エネルギー状態になり、吸着ロータ(2A)から
脱離するものと考えられている。When the regenerated air circulates in this way, various kinds of active species generated by electric discharge are carried by the ionic wind and pass through the adsorption rotor (2A), and the components to be treated are adsorbed on the adsorption rotor (2A) by the action of the active species. ) And the adsorption rotor (2A) is regenerated. Here, although the specific action when the adsorption rotor (2A) is regenerated by the low-temperature plasma is not clear at this point, it has been confirmed as a phenomenon, and the ion and the high energy state caused by discharge are The radicals impinge on the molecules of the component to be treated adsorbed on the adsorption rotor (2A) and give a part of the energy to the molecules, so that the molecules of the component to be treated enter a high energy state and are desorbed from the adsorption rotor (2A). It is considered to be separated.

【００５９】以上のようにして吸着ロータ(2A)を再生す
る際に被処理成分が吸着ロータ(2A)から脱離すると、こ
れらの成分は、ケーシング(10)内に設けられている分解
手段(4) によって低温プラズマと触媒の作用で分解され
る。具体的には、放電により発生する種々の活性種（例
えば、オゾン、ヒドロキシラジカル、励起酸素分子、励
起窒素分子、励起水分子など）が被処理成分に作用する
際に、触媒が、これら種々の活性種をさらに励起してよ
り活性の高い状態にする作用や、該触媒の表面に多くの
活性種を活性状態のまま吸着する作用を有していること
から、被処理ガス中の被処理成分が効率的に分解され
る。When the components to be treated are desorbed from the adsorption rotor (2A) when the adsorption rotor (2A) is regenerated as described above, these components are decomposed by the decomposing means ( It is decomposed by the action of low temperature plasma and catalyst by 4). Specifically, when various active species (for example, ozone, hydroxy radicals, excited oxygen molecules, excited nitrogen molecules, excited water molecules, etc.) generated by discharge act on the component to be treated, the catalyst causes these various The component to be treated in the gas to be treated has the action of further exciting the active species into a more active state and the action of adsorbing many active species in the active state on the surface of the catalyst. Is efficiently decomposed.

【００６０】上述したように、閉空間になった再生通路
(P2)内に再生手段(3) と分解手段(4) とが設けられてお
り、該再生通路(P2)を再生空気が循環するので、吸着ロ
ータ(2A)の再生と、再生によって生じる被処理成分の分
解は、該再生通路(P2)内で完結する。この場合、再生手
段(3) と分解手段(4) とを閉空間内にまとめて設けてい
るため、吸着ロータ(2A)からの被処理成分の脱離とこれ
らの成分の分解は、別々の作用として行われるのではな
く、同時発生的に進行する。As described above, the reproduction passage is a closed space.
A regeneration means (3) and a decomposition means (4) are provided in (P2), and since regeneration air circulates through the regeneration passage (P2), the adsorption rotor (2A) is regenerated and a target generated by the regeneration is generated. The decomposition of the treated components is completed in the regeneration passage (P2). In this case, since the regenerating means (3) and the decomposing means (4) are collectively provided in the closed space, desorption of the components to be treated from the adsorption rotor (2A) and decomposition of these components are separated. Rather than acting as an action, they proceed concurrently.

【００６１】そして、吸着ロータ(2A)は、再生された部
分が吸着ロータ(2A)の回転に伴って吸着通路(P1)内へ移
動することで、該吸着通路(P1)において再度被処理空気
を浄化するのに用いられる。In the adsorption rotor (2A), the regenerated portion moves into the adsorption passage (P1) along with the rotation of the adsorption rotor (2A), so that the air to be treated is again treated in the adsorption passage (P1). Used to purify

【００６２】−実施形態１の効果− 本実施形態１によれば、吸着ロータ(2A)から脱離した被
処理成分を、従来は高温下で活性化する燃焼酸化触媒を
用いて分解処理していたのに対して、分解手段(4) にお
いて低温プラズマで活性化する触媒を利用して分解する
ようにしているので、分解処理のために触媒を高温に加
熱しなくてもよい。そして、放電の消費電力が加熱の消
費電力よりも小さいため、従来は燃焼酸化触媒での分解
処理に関して特に問題であったランニングコストを抑え
ることが可能となる。-Effect of First Embodiment- According to the first embodiment, the component to be treated desorbed from the adsorption rotor (2A) is conventionally decomposed by using a combustion oxidation catalyst activated at high temperature. On the other hand, in the decomposition means (4), the catalyst activated by the low-temperature plasma is used for decomposition, so that the catalyst does not have to be heated to a high temperature for the decomposition treatment. Further, since the power consumption of discharge is smaller than the power consumption of heating, it is possible to suppress the running cost which has been a particular problem in the conventional decomposition treatment with the combustion oxidation catalyst.

【００６３】また、この実施形態１では吸着ロータ(2A)
の再生にも低温プラズマを利用するようにしているの
で、従来は再生に用いていたヒータも不要となる。した
がって、再生に関してもランニングコストを抑えること
が可能となる。In the first embodiment, the adsorption rotor (2A)
Since the low temperature plasma is used also for the regeneration of the above, the heater conventionally used for the regeneration becomes unnecessary. Therefore, it is possible to reduce the running cost for regeneration.

【００６４】また、本実施形態１では装置(1) がヒータ
レスになるために、ケーシング(10)を耐熱構造にしたり
する必要もなく、構成を簡単にすることが可能となる。In the first embodiment, since the device (1) is heaterless, the casing (10) does not need to have a heat-resistant structure, and the structure can be simplified.

【００６５】また、この装置(1) では、吸着ロータ(2A)
を回転させながら吸着と脱離を同時に行っているので、
コンパクトな装置(1) で被処理ガスを連続的に処理する
ことができる。Further, in this device (1), the adsorption rotor (2A)
Since adsorption and desorption are performed simultaneously while rotating,
The gas to be treated can be continuously treated with a compact device (1).

【００６６】また、吸着ロータ(2A)の再生と、その再生
時に吸着ロータ(2A)から脱離した被処理成分の分解処理
とを閉空間になった再生通路(P2)内で行うようにしてい
るので、例えば分解手段(4) を再生手段(3) から離れた
位置に配置する場合には該再生手段(3) と分解手段(4)
の間にダクトなどを設けて被処理空気を送給する必要が
あるのに対して、この実施形態１では再生手段(3) と上
記分解手段(4) とをダクトなどでつなぐ必要がなく、構
成を簡単にすることができる。Further, the regeneration of the adsorption rotor (2A) and the decomposition treatment of the component to be treated desorbed from the adsorption rotor (2A) during the regeneration are performed in the regeneration passage (P2) which is a closed space. Therefore, for example, when disassembling means (4) is arranged at a position apart from regenerating means (3), the regenerating means (3) and the disassembling means (4)
While it is necessary to provide the air to be treated by providing a duct or the like between them, in the first embodiment, it is not necessary to connect the regenerating means (3) and the disassembling means (4) with a duct or the like. The configuration can be simplified.

【００６７】さらに、吸着ロータ(2A)から脱離した被処
理成分を分解する際に、放電により低温プラズマを生成
する際に発生する種々の活性種（オゾン、ヒドロキシラ
ジカル、励起酸素分子、励起窒素分子、励起水分子な
ど）を触媒でさらに励起して活性を高めたり、これらの
活性種を触媒上に活性状態のまま吸着したりして化学反
応を促進することができるので、処理性能を高めること
ができる。Furthermore, when decomposing the components to be treated desorbed from the adsorption rotor (2A), various active species (ozone, hydroxy radicals, excited oxygen molecules, excited nitrogen) generated when low-temperature plasma is generated by discharge. Molecules, excited water molecules, etc.) can be further excited by the catalyst to increase the activity, or these active species can be adsorbed in the active state on the catalyst to accelerate the chemical reaction, thus improving the processing performance. be able to.

【００６８】−実施形態１の変形例− 本実施形態１では、放電電極(31)及び対向電極(32)を、
再生手段(3) と分解手段(4) とで共用するようにしてい
るが、それぞれの手段(3,4) に専用の電極を用いて処理
するようにしてもよい。-Modification of First Embodiment- In the first embodiment, the discharge electrode (31) and the counter electrode (32) are
Although the regenerating means (3) and the disassembling means (4) are commonly used, they may be treated by using electrodes dedicated to the respective means (3, 4).

【００６９】また、上記実施形態１では、針電極(31b)
の先端形状を特定した電極構成において直流の高電圧を
印加して広い領域でストリーマ放電を発生させるように
しているが、針電極の先端形状に拘わらず、パルスの高
電圧電源を用いるとストリーマ放電を広い領域で生成す
ることが可能となる。In the first embodiment, the needle electrode (31b)
Although a high DC voltage is applied to generate a streamer discharge in a wide area in the electrode configuration that specifies the tip shape of the needle, regardless of the tip shape of the needle electrode, the streamer discharge is generated when a pulsed high voltage power supply is used. Can be generated in a wide area.

【００７０】具体的には、例えばパルスの立ち上がり時
間が１００ｎｓ以下程度と短く、パルス幅が１μｓ以下
程度の急峻なパルス高電圧を両電極間に印加すると、対
向電極側に向かってフレア状に広がった比較的広い範囲
でストリーマ放電を起こすことができる。このようにパ
ルス波形を特定するとストリーマ放電が広い領域で生成
される理由としては、電圧の印加時間が短いために、
通常の放電ではスパークに至ってしまうような高い電圧
を瞬間的に印加できること、印加電圧を高くすると全
ての場所で放電が起きやすくなること、電圧立ち上が
りが急峻なために空間電荷効果による放電の抑制が少な
いこと、立ち上がり時間が短いために一様な放電が起
きやすいことなどを挙げることができる。Specifically, when a sharp pulse high voltage with a short pulse rise time of about 100 ns or less and a pulse width of about 1 μs or less is applied between both electrodes, it flares toward the opposite electrode side. Also, streamer discharge can be generated in a relatively wide range. The reason why streamer discharge is generated in a wide area when the pulse waveform is specified in this way is that the voltage application time is short.
It is possible to instantaneously apply a high voltage that will lead to a spark in normal discharge, increase the applied voltage to make discharge easy to occur in all places, and suppress the discharge due to the space charge effect because the voltage rises sharply. It can be mentioned that the number is small and that uniform discharge is likely to occur because the rise time is short.

【００７１】また、放電形式はストリーマ放電に限ら
ず、他の方式にしてもよく、例えば電極形状や印加電圧
を適宜選択することにより、パルスコロナ放電、コロナ
放電、またはグロー放電などを採用してもよい。The discharge type is not limited to the streamer discharge, but other methods may be used. For example, pulse corona discharge, corona discharge, or glow discharge may be adopted by appropriately selecting the electrode shape and applied voltage. Good.

【００７２】[0072]

【発明の実施の形態２】本発明の実施形態２は、実施形
態１の構成において、触媒手段(41)を実施形態１とは異
なる態様でケーシング(10)内に設けたものである。つま
り、この構成においては、図４及び図５に示すように、
触媒を吸着剤とともにハニカム状の吸着ロータ(2A)に担
持して、触媒手段(41)を吸着ロータ(2A)と一体に形成し
ている。なお、吸着剤や触媒には、実施形態１で説明し
たのと同様の物質を用いることができる。Second Embodiment of the Invention In the second embodiment of the present invention, in the configuration of the first embodiment, the catalyst means (41) is provided in the casing (10) in a manner different from that of the first embodiment. That is, in this configuration, as shown in FIGS.
The catalyst is supported on the honeycomb-shaped adsorption rotor (2A) together with the adsorbent, and the catalyst means (41) is formed integrally with the adsorption rotor (2A). As the adsorbent and the catalyst, the same substances as described in the first embodiment can be used.

【００７３】また、放電電極(31)及び対向電極(32)は、
吸着ロータ(2A)を挟んで配置されたものが、実施形態１
と同様に、再生手段(3) 用と分解手段(4) 用とに共用さ
れている。The discharge electrode (31) and the counter electrode (32) are
The first embodiment is arranged with the adsorption rotor (2A) interposed therebetween.
Similar to the above, it is shared both for the regenerating means (3) and the disassembling means (4).

【００７４】この実施形態２においても、吸着通路(P1)
を流れる被処理空気が吸着ロータ(2A)を通過することに
より、該空気中の有害成分や臭気成分が吸着ロータ(2A)
に吸着され、該空気が浄化される。また、吸着ロータ(2
A)は、回転に伴ってこれらの成分を吸着した部分が閉空
間からなる再生通路(P2)内へ移動し、該再生通路(P2)内
で再生される。この実施形態２の構成では、吸着ロータ
(2A)に低温プラズマで活性化する触媒が含まれているた
め、低温プラズマの作用で吸着ロータ(2A)から被処理成
分が脱離すると同時に、これらの成分が分解されて処理
される。Also in the second embodiment, the adsorption passage (P1)
By passing the treated air flowing through the adsorption rotor (2A), harmful components and odorous components in the air are absorbed by the adsorption rotor (2A).
Are adsorbed on the air and the air is purified. In addition, the adsorption rotor (2
With respect to A), the portion where these components are adsorbed moves to the regeneration passage (P2) formed of a closed space as it rotates, and is regenerated in the regeneration passage (P2). In the configuration of the second embodiment, the suction rotor
Since (2A) contains a catalyst activated by low-temperature plasma, the components to be treated are desorbed from the adsorption rotor (2A) by the action of the low-temperature plasma, and at the same time, these components are decomposed and treated.

【００７５】本実施形態２では、触媒手段(41)を単独で
設けずに吸着ロータ(2A)と一体にしているため、実施形
態１と比べて構成をより簡単にすることが可能である。In the second embodiment, the catalyst means (41) is not provided alone but is integrated with the adsorption rotor (2A), so that the structure can be simplified as compared with the first embodiment.

【００７６】また、吸着ロータ(2A)の再生後における被
処理成分の分解処理を低温プラズマの作用で行って熱触
媒を利用せず、さらに吸着ロータ(2A)の再生にもヒータ
を使用しないことからランニングコストを抑えられるこ
となどは、上記実施形態１と同様である。Further, after the regeneration of the adsorption rotor (2A), the decomposition treatment of the components to be treated is carried out by the action of the low temperature plasma and the thermal catalyst is not used, and further the heater is not used for the regeneration of the adsorption rotor (2A). Therefore, the running cost can be suppressed as in the first embodiment.

【００７７】[0077]

【発明の実施の形態３】本発明の実施形態３は、実施形
態１，２における回転式の吸着ロータ(2A)の代わりに固
定式の吸着板（吸着部材）(2B)を用い、吸着運転と再生
運転を交互に切り換えながら行うことにより、被処理ガ
スを間欠的に処理する（空気浄化を間欠的に行う）よう
にしたものである。Third Embodiment A third embodiment of the present invention uses a stationary suction plate (suction member) (2B) instead of the rotary suction rotor (2A) in the first and second embodiments, and performs a suction operation. The gas to be treated is intermittently processed (intermediate air purification is intermittently performed) by alternately switching between and the regeneration operation.

【００７８】図６及び図７に示すように、この装置(1)
のケーシング(10)内には吸着板(2B)が固定されている。
該吸着板(2B)は、矩形板状でハニカム状の基板に吸着剤
と触媒とを担持したものであり、これらの吸着剤や触媒
には、実施形態１で説明したのと同様の物質が用いられ
ている。この吸着板(2B)は、実施形態２と同様に触媒手
段(41)が一体化されたものである。As shown in FIGS. 6 and 7, this device (1)
The suction plate (2B) is fixed in the casing (10).
The adsorption plate (2B) is a rectangular plate-shaped honeycomb substrate on which an adsorbent and a catalyst are carried, and these adsorbents and catalysts include the same substances as those described in the first embodiment. It is used. This adsorption plate (2B) has the catalyst means (41) integrated therein as in the second embodiment.

【００７９】上記ケーシング(10)は空気吸込口(11)と空
気吹出口(12)を有し、該空気吸込口(11)と空気吹出口(1
2)の間の空気通路に上記吸着板(2B)とともにファン(5)
が配置されている。また、吸着板(2B)を挟んだ両側に
は、放電電極(31)と対向電極(32)とが配置されている。
放電電極(31)は、図８に示すように導電性の線材からな
る基材(31a) に複数の針電極(31b) が立設されたもので
あり、対向電極(32)にはメッシュ状の導電材が用いられ
ている。これらの放電電極(31)及び対向電極(32)には電
源(33)が接続されており、両電極(31,32) の間で放電が
生じるように構成されている。The casing (10) has an air inlet (11) and an air outlet (12), and the air inlet (11) and the air outlet (1
Fan (5) together with the suction plate (2B) in the air passage between 2)
Are arranged. A discharge electrode (31) and a counter electrode (32) are arranged on both sides of the suction plate (2B).
As shown in FIG. 8, the discharge electrode (31) has a plurality of needle electrodes (31b) provided upright on a base material (31a) made of a conductive wire, and the counter electrode (32) has a mesh shape. The conductive material is used. A power source (33) is connected to the discharge electrode (31) and the counter electrode (32), and a discharge is generated between the electrodes (31, 32).

【００８０】上記ケーシング(10)内の空間は、空気浄化
を行う吸着運転時にはファン(5) を起動することで被処
理空気が流れる吸着通路(P1)となり、吸着板(2B)を再生
する再生運転時にはファン(5) を停止するとともに放電
を発生させることで再生空気が循環する再生通路(P2)と
なる。The space inside the casing (10) becomes an adsorption passage (P1) through which the air to be treated flows by activating the fan (5) during the adsorption operation for air purification, and regenerating the adsorption plate (2B). During operation, the fan (5) is stopped and discharge is generated to form a regeneration passage (P2) through which regeneration air circulates.

【００８１】具体的には、吸着運転時にファン(5) を起
動すると被処理空気が空気吸込口(11)からケーシング(1
0)内に吸い込まれて吸着板(2B)を通過する。このとき、
該被処理空気中の臭気成分や有害成分が吸着板(2B)に吸
着され、該被処理空気が浄化されてケーシング(10)の空
気吹出口(12)から吹き出される。このように、吸着運転
時にはケーシング(10)内は吸着通路(P1)になっている。
なお、吸着運転時には両電極(31,32) に放電電圧は印加
されておらず、放電は発生していない。Specifically, when the fan (5) is started during the adsorption operation, the air to be treated is fed from the air inlet (11) to the casing (1).
It is sucked into (0) and passes through the suction plate (2B). At this time,
The odorous components and harmful components in the air to be treated are adsorbed by the adsorption plate (2B), the air to be treated is purified and blown out from the air outlet (12) of the casing (10). Thus, the adsorption passage (P1) is formed inside the casing (10) during the adsorption operation.
During the adsorption operation, no discharge voltage was applied to both electrodes (31, 32), and no discharge occurred.

【００８２】一方、吸着板(2B)が被処理成分を例えば飽
和状態近くまで吸着すると、ファン(5) を停止するとと
もに、両電極(31,32) に放電電圧を印加する。このよう
にすると、放電によりイオン風が発生し、ケーシング(1
0)内で空気が循環する。ここで、ケーシング(10)には空
気吸込口(11)と空気吹出口(12)が設けられているが、イ
オン風の風速はファンの風速に比べて遅く、再生空気は
空気吸込口(11)及び空気吹出口(12)の通風抵抗によりケ
ーシング(10)の外へほとんど流出しない。また、空気吸
込口(11)及び空気吹出口(12)にルーバを設けておき、再
生運転中にはこれらのルーバを閉じるようにしてもよ
い。以上のように、再生空気がケーシング(10)内をイオ
ン風によって循環しながら、吸着板(2B)が放電による低
温プラズマの作用と吸着板(2B)に含まれる触媒の作用と
を受けるため、被処理成分が吸着板(2B)から脱離しなが
ら同時に分解されることになる。On the other hand, when the adsorption plate (2B) adsorbs the component to be treated, for example, to near the saturated state, the fan (5) is stopped and a discharge voltage is applied to both electrodes (31, 32). In this way, ionic wind is generated by the discharge, and the casing (1
Air circulates in 0). Here, the casing (10) is provided with an air inlet (11) and an air outlet (12), but the wind velocity of the ion wind is slower than the wind velocity of the fan, and the regenerated air has an air inlet (11). ) And the ventilation resistance of the air outlet (12), it hardly flows out of the casing (10). Alternatively, louvers may be provided at the air intake port (11) and the air outlet port (12) and these louvers may be closed during the regeneration operation. As described above, while the regenerated air is circulated in the casing (10) by the ionic wind, the adsorption plate (2B) receives the action of the low temperature plasma due to the discharge and the action of the catalyst contained in the adsorption plate (2B), The components to be treated are simultaneously decomposed while desorbing from the adsorption plate (2B).

【００８３】吸着板(2B)の再生が終わると、放電を停止
してファン(5) を起動することにより、吸着運転による
空気浄化を再開することができる。このように、本実施
形態３においては、吸着運転と再生運転とを交互に切り
換えることにより、空気浄化などのガス処理を間欠的に
行うことができる。When the regeneration of the adsorption plate (2B) is finished, the discharge is stopped and the fan (5) is started to restart the air purification by the adsorption operation. As described above, in the third embodiment, the gas treatment such as air purification can be intermittently performed by alternately switching the adsorption operation and the regeneration operation.

【００８４】この実施形態３においても、脱離した被処
理成分の分解にヒータを用いずに低温プラズマと触媒を
利用しており、かつ吸着板(2B)からの被処理成分の脱離
にもヒータを用いずに低温プラズマを利用しているの
で、運転に伴うランニングコストを低減することができ
る。Also in the third embodiment, the low temperature plasma and the catalyst are used for decomposing the desorbed components to be treated, and the desorption of the components to be treated from the adsorption plate (2B) is also performed. Since low-temperature plasma is used without using a heater, running costs associated with operation can be reduced.

【００８５】また、吸着板(2B)が静止した状態を保つの
で、装置(1) の信頼性を高めることもできる。Further, since the suction plate (2B) is kept stationary, the reliability of the device (1) can be enhanced.

【００８６】−実施形態３の変形例− 上記実施形態３は、吸着板(2B)に吸着剤とともに触媒も
担持して、吸着板(2B)と触媒手段(41)とを一体に構成し
たものであるが、触媒手段(41)を吸着板(2B)とは別体に
してケーシング(10)内に設けるようにしてもよい。-Modification of Embodiment 3-In Embodiment 3 described above, the adsorption plate (2B) and the catalyst are supported on the adsorption plate (2B), and the adsorption plate (2B) and the catalyst means (41) are integrally formed. However, the catalyst means (41) may be provided in the casing (10) separately from the adsorption plate (2B).

【００８７】[0087]

【発明の実施の形態４】本発明の実施形態４は、複数
（２つ）の吸着板(2B)を用い、吸着板(2B)の一方で被処
理空気の被処理成分を吸着するときに他方の吸着板(2B)
を再生し、その吸着状態と再生状態とを交互に切り換え
る操作を繰り返すことにより、被処理ガスを連続的に処
理するようにしたものである。[Embodiment 4] Embodiment 4 of the present invention uses a plurality (two) of adsorbing plates (2B) and adsorbs a component to be treated of air to be treated on one side of the adsorbing plates (2B). The other suction plate (2B)
The gas to be treated is continuously treated by regenerating the gas and repeating the operation of alternately switching the adsorption state and the regeneration state.

【００８８】具体的には、この装置(1) は、ケーシング
(10)内が図９に示すように２つに分割され、それぞれに
ファン(5,5) が設けられている。また、放電電極(31)及
び対向電極(32)も、ケーシング(10)内の各空間毎に設け
られている。さらに、これらの電極(31,32) は、スイッ
チ(34)を介して電源(33)に接続され、電圧を印加する電
極(31,32) を切り換えられるように構成されている。Specifically, this device (1) has a casing
The inside of (10) is divided into two as shown in FIG. 9, and fans (5, 5) are provided in each. The discharge electrode (31) and the counter electrode (32) are also provided for each space in the casing (10). Further, these electrodes (31, 32) are connected to a power source (33) via a switch (34) and are configured so that the electrodes (31, 32) to which a voltage is applied can be switched.

【００８９】この装置(1) では、ケーシング(10)内の一
方の空間でファン(5) を起動すると、他方の空間ではフ
ァン(5) を停止して両電極(31,32) に放電電圧を印加す
る。そして、ファン(5) を起動した方の空間が吸着通路
(P1)となり、ファン(5) を停止するとともに放電の生じ
ている空間が再生通路(P2)となる。In this device (1), when the fan (5) is started in one space inside the casing (10), the fan (5) is stopped in the other space and the discharge voltage is applied to both electrodes (31, 32). Is applied. The space where the fan (5) is started is the adsorption passage.
(P1), the fan (5) is stopped, and the space where the discharge is generated becomes the regeneration passage (P2).

【００９０】吸着通路(P1)では、被処理空気が空気吸込
口(11)からケーシング(10)内に吸い込まれ、吸着板(2B)
を通過する。そして、吸着板(2B)が被処理成分を吸着し
て被処理空気が浄化され、清浄な空気になって空気吹出
口(12)からケーシング(10)の外に吹き出される。一方、
再生通路(P2)では、ファン(5) が停止して放電が生じて
いる。このため、実施形態３と同様の作用で再生空気が
ケーシング(10)内を循環し、低温プラズマの作用で吸着
板(2B)から被処理成分が脱離するとともに、低温プラズ
マ及び触媒の作用で該成分が分解されて、吸着板(2B)が
再生される。In the adsorption passage (P1), the air to be treated is sucked into the casing (10) through the air inlet (11), and the adsorption plate (2B)
Pass through. Then, the adsorption plate (2B) adsorbs the component to be treated to purify the air to be treated, becomes clean air, and is blown out of the casing (10) from the air outlet (12). on the other hand,
In the regeneration passage (P2), the fan (5) has stopped and discharge has occurred. Therefore, the regenerated air circulates in the casing (10) by the same action as in the third embodiment, the components to be treated are desorbed from the adsorption plate (2B) by the action of the low temperature plasma, and the action of the low temperature plasma and the catalyst acts. The component is decomposed and the adsorption plate (2B) is regenerated.

【００９１】一方、それまで再生運転をしていた吸着板
(2B)が十分に再生されると、吸着運転側と再生運転側を
切り換える操作を行う。つまり、ファン(5) を起動して
いた側は該ファン(5) を停止して電極(31,32) に放電電
圧を印加する一方、ファン(5) を停止して電極(31,32)
に放電電圧を印加していた側では該ファン(5) を起動し
て電極(31,32) への電圧の印加を停止する。こうするこ
とにより、吸着板(2B)はそれまで再生運転をしていたも
のが吸着運転に用いられ、それまで吸着運転をしていた
ものが再生運転に用いられる。On the other hand, the adsorption plate that had been in the regenerating operation until then
When (2B) is sufficiently regenerated, the operation for switching between the adsorption operation side and the regeneration operation side is performed. In other words, the side that had started the fan (5) stopped the fan (5) and applied the discharge voltage to the electrodes (31, 32), while stopping the fan (5) and the electrodes (31, 32).
On the side where the discharge voltage is applied to the fan, the fan (5) is activated and the application of the voltage to the electrodes (31, 32) is stopped. By doing so, the adsorption plate (2B) that has been in the regeneration operation until then is used in the adsorption operation, and the one that has been in the adsorption operation until then is used in the regeneration operation.

【００９２】したがって、この実施形態によれば、吸着
運転側と再生運転側とを切り換えることにより空気浄化
などのガス処理を連続して行うことができる。また、こ
の実施形態においても、被処理成分の分解と吸着板(2B)
の再生にヒータを使用せずに低温プラズマを利用するよ
うにしているので、装置(1) のランニングコストを抑え
ることができる。Therefore, according to this embodiment, gas treatment such as air purification can be continuously performed by switching between the adsorption operation side and the regeneration operation side. Also in this embodiment, the decomposition of the components to be treated and the adsorption plate (2B)
Since the low temperature plasma is used for the regeneration of the device without using the heater, the running cost of the device (1) can be suppressed.

【００９３】[0093]

【発明の実施の形態５】上記各実施形態は、吸着部材(2
A,2B) から脱離した被処理成分をプラズマ（及び触媒）
による分解手段(4) で分解する装置(1) において、いず
れも吸着部材(2A,2B) からの被処理成分の脱離とその脱
離した成分の分解とを閉空間になった再生通路(P2)の中
で行うようにしたものであるが、分解手段(4) を再生手
段(3) とは別の空間に配置し、再生手段(3) によって吸
着部材(2A,2B) から脱離した被処理成分を上記分解手段
(4) に送って分解するようにしてもよい。Fifth Embodiment of the Invention In each of the above embodiments, the suction member (2
Plasma (and catalyst) of the component to be treated desorbed from (A, 2B)
In the device (1) for decomposing by the decomposing means (4), the desorption of the component to be treated from the adsorbing member (2A, 2B) and the decomposition of the desorbed component are both closed regeneration passages ( P2), but the disassembling means (4) is placed in a space different from the regenerating means (3) and desorbed from the adsorption members (2A, 2B) by the regenerating means (3). The decomposed component
It may be sent to (4) for disassembly.

【００９４】その例を図１０に示している。この装置
(1) は、ハニカム状の吸着ロータ(2A)を備え、該吸着ロ
ータ(2A)は吸着通路(P1)と再生通路(P2)とに跨って配置
されている。吸着ロータ(2A)は、扇状の領域（再生部(2
2)）が再生通路(P2)内に位置するとともに、残りの領域
（吸着部(21)）が吸着通路(P1)内に位置するように配置
され、回転に伴って吸着部(21)と再生部(22)が徐々に変
化するように構成されている。An example thereof is shown in FIG. This device
(1) includes a honeycomb-shaped adsorption rotor (2A), and the adsorption rotor (2A) is arranged so as to straddle the adsorption passage (P1) and the regeneration passage (P2). The adsorption rotor (2A) has a fan-shaped area (regeneration section (2A
2)) is located in the regeneration passage (P2), and the remaining area (adsorption part (21)) is located in the adsorption passage (P1). The reproducing section (22) is configured to gradually change.

【００９５】再生通路(P2)には、吸着ロータ(2A)を挟ん
で放電電極(31)及び対向電極(32)（図示省略）が配置さ
れ、これにより低温プラズマを用いた再生手段(3) が構
成されている。また、この再生通路(P2)には、吸着ロー
タ(2A)よりも下流側となる位置に放電電極(42)及び対向
電極(43)と触媒手段(41)とが配置され、これらにより、
低温プラズマと触媒とを用いた分解手段(4) が構成され
ている。In the regeneration passage (P2), the discharge electrode (31) and the counter electrode (32) (not shown) are arranged with the adsorption rotor (2A) sandwiched therebetween, whereby the regeneration means (3) using low temperature plasma. Is configured. Further, in the regeneration passage (P2), the discharge electrode (42) and the counter electrode (43) and the catalyst means (41) are arranged at a position downstream of the adsorption rotor (2A), and by these,
A decomposition means (4) using low temperature plasma and a catalyst is constructed.

【００９６】再生通路(P2)には、再生用の空気を室外な
どから導入するとともに、被処理成分を処理した後の空
気を再度室外などへ排出するように、図示しない送風機
が設けられてる。In the regeneration passage (P2), a blower (not shown) is provided so that regeneration air is introduced from the outside or the like, and the air after treating the components to be treated is discharged again to the outside or the like.

【００９７】なお、吸着剤や触媒には、上記各実施形態
と同様の物質が用いられている。The same materials as those in the above-mentioned embodiments are used for the adsorbent and the catalyst.

【００９８】この構成においては、吸着通路(P1)内を流
れる被処理空気は、吸着ロータ(2A)の吸着剤が有害成分
や臭気成分を吸着することで浄化された後、室内へ供給
される。一方、再生部(22)では放電により発生した活性
種が吸着ロータ(2A)に付着した有害成分や臭気成分に作
用して、これら成分が吸着ロータ(2A)から脱離する。脱
離したこれらの成分は、再生通路(P1)を下流側へ流れ、
分解手段(4) により低温プラズマと触媒の作用を受けて
分解される。そして、再生空気は、これらの成分が無臭
化または無害化されて、室外に放出される。In this configuration, the air to be treated flowing in the adsorption passage (P1) is supplied to the room after being purified by the adsorbent of the adsorption rotor (2A) adsorbing harmful components and odorous components. . On the other hand, in the regeneration section (22), the active species generated by the discharge act on the harmful components and odorous components adhering to the adsorption rotor (2A), and these components are desorbed from the adsorption rotor (2A). These desorbed components flow downstream in the regeneration passage (P1),
It is decomposed by the decomposition means (4) by the action of the low temperature plasma and the catalyst. Then, in the regenerated air, these components are deodorized or detoxified, and then released outside the room.

【００９９】そして、吸着ロータ(2A)を回転させながら
吸着と脱離を同時に行うことで、空気浄化を連続して行
うことができる。By adsorbing and desorbing at the same time while rotating the adsorption rotor (2A), air purification can be continuously performed.

【０１００】この実施形態５においても、吸着ロータ(2
A)の再生と、その再生後の被処理成分の分解とにヒータ
を用いずに低温プラズマの作用を利用しているので、常
温で処理することが可能であり、高温加熱に起因する装
置(1) のランニングコストを抑えることができる。Also in the fifth embodiment, the suction rotor (2
Since the action of low-temperature plasma is used without using a heater for the regeneration of (A) and the decomposition of the components to be treated after the regeneration, it is possible to perform the treatment at room temperature, and the device resulting from high-temperature heating ( The running cost of 1) can be suppressed.

【０１０１】−実施形態５の変形例− （変形例１）図１０の実施形態５では、室外から導入し
た再生空気を被処理成分の処理後に室外に排出するよう
にしているが、再生空気は図１１に示すように再生手段
(3)と処理手段(4) の間で循環させるように構成しても
よい。この場合、再生手段(3) と処理手段(4) をダクト
（図示せず）などにより連結することができる。なお、
その他の構成は、図１０の例と同様である。-Modification of Embodiment 5- (Modification 1) In Embodiment 5 of FIG. 10, the regeneration air introduced from the outside is exhausted to the outside after the treatment of the components to be treated. Reproducing means as shown in FIG.
It may be configured to circulate between (3) and the processing means (4). In this case, the regeneration means (3) and the processing means (4) can be connected by a duct (not shown) or the like. In addition,
Other configurations are the same as those in the example of FIG.

【０１０２】このように構成すると、図１０の例と同様
に、吸着ロータ(2A)を回転させながら吸着と脱離を同時
に行うことで、空気浄化を連続して行うことができる。
また、再生通路(P2)では、再生手段(3) により吸着ロー
タ(2A)から脱離した被処理成分が分解手段(4) に送られ
て分解されるとともに、この分解手段(4) により被処理
成分を分解した後の空気が再度再生手段(3) に送られ
て、吸着ロータ(2A)の再生に用いられる。With this structure, as in the example of FIG. 10, the adsorption and desorption are simultaneously performed while rotating the adsorption rotor (2A), so that the air purification can be continuously performed.
Further, in the regeneration passage (P2), the components to be treated desorbed from the adsorption rotor (2A) by the regeneration means (3) are sent to the decomposition means (4) and decomposed, and the decomposition means (4) also decomposes the components. The air after decomposing the treatment components is sent to the regeneration means (3) again and used for regeneration of the adsorption rotor (2A).

【０１０３】このように、再生通路(P2)において再生空
気が循環し、該再生空気が外部には放出されないので、
例えば図１０の構成では分解手段(4) において放電によ
り発生するオゾンを外部に放出しないような処置が必要
となることがあるのに対して、そのような処置が全く不
要となる。In this way, since the regeneration air circulates in the regeneration passage (P2) and is not discharged to the outside,
For example, in the structure shown in FIG. 10, there is a case where the disassembling means (4) needs a treatment to prevent the ozone generated by the discharge from being released to the outside, but such a treatment is not necessary at all.

【０１０４】また、吸着ロータ(2A)の再生と、その再生
後の被処理成分の分解とにヒータを用いずに低温プラズ
マの作用を利用しているので、常温での処理が可能であ
り、それによって高温加熱に起因する装置のランニング
コストを抑えることができることは図１０の例などと同
様である。Further, since the action of the low temperature plasma is utilized for the regeneration of the adsorption rotor (2A) and the decomposition of the components to be treated after the regeneration, the treatment at room temperature is possible, As a result, the running cost of the device due to high temperature heating can be suppressed, as in the example of FIG.

【０１０５】（変形例２）図１０の実施形態５では、吸
着ロータ(2A)を用いて被処理空気を連続的に浄化するよ
うにしているが、吸着ロータ(2A)の代わりに図１２に示
すように固定式の吸着板(2B)を用いて吸着運転と再生運
転とを切り換えながら被処理空気を間欠的に浄化するよ
うにしてもよい。(Modification 2) In the fifth embodiment of FIG. 10, the adsorption rotor (2A) is used to continuously purify the air to be treated. As shown, a fixed adsorption plate (2B) may be used to intermittently purify the air to be treated while switching between adsorption operation and regeneration operation.

【０１０６】この装置(1) では、図７の例と同様に、吸
着板(2B)の配置された空間が吸着通路(P1)と再生通路(P
2)とに切り換え可能に構成されている。吸着板(2B)を挟
んで両側には、放電電極(31)と対向電極(32)（図示省
略）とが配置されている。再生通路(P2)には、吸着板(2
B)の下流側に、図１０と同様に低温プラズマと触媒の作
用で被処理成分を分解する分解手段(4) が設けられてい
る。In this device (1), as in the example of FIG. 7, the space in which the adsorption plate (2B) is arranged has an adsorption passage (P1) and a regeneration passage (P1).
2) and can be switched. A discharge electrode (31) and a counter electrode (32) (not shown) are arranged on both sides of the adsorption plate (2B). In the regeneration passage (P2), the suction plate (2
On the downstream side of B), there is provided a decomposing means (4) for decomposing the component to be treated by the action of the low temperature plasma and the catalyst as in FIG.

【０１０７】この構成においては、被処理空気が吸着板
(2B)を流れる状態に切り換えるとともに、再生手段(3)
における放電を止めておくことにより、吸着板(2B)が被
処理空気中の有害成分や臭気成分を吸着して該空気が浄
化される。In this structure, the air to be treated is the adsorption plate.
(2B) is switched to the flowing state, and the reproducing means (3)
By stopping the discharge in (1), the adsorption plate (2B) adsorbs harmful components and odorous components in the air to be treated and purifies the air.

【０１０８】一方、吸着板(2B)がこれらの成分を例えば
飽和状態に近い程度まで吸着すると、吸着板(2B)への被
処理空気の流通を停止して再生空気を流す状態に切り換
え、再生手段(3) 及び分解手段(4) での放電を開始す
る。再生手段(3) においては、低温プラズマの作用で吸
着板(2B)から被処理成分が脱離し、さらにこれらの成分
が分解手段(4) に送られて低温プラズマと触媒の作用で
分解される。この例では、図１０の例と同様に再生空気
を外部から取り入れて、処理後に外部に放出するように
しているが、図１１の例と同様に再生空気を再生手段
(3) と分解手段(4)の間で循環させるようにしてもよ
い。On the other hand, when the adsorbing plate (2B) adsorbs these components, for example, to a level close to the saturated state, the flow of the air to be treated to the adsorbing plate (2B) is stopped, and the state is changed to the flow of regenerating air to regenerate. The discharge by means (3) and decomposition means (4) is started. In the regenerating means (3), the components to be treated are desorbed from the adsorption plate (2B) by the action of the low temperature plasma, and further these components are sent to the decomposing means (4) and decomposed by the action of the low temperature plasma and the catalyst. . In this example, as in the example of FIG. 10, the regeneration air is taken in from the outside and is discharged to the outside after the treatment. However, as in the example of FIG. 11, the regeneration air is regenerated.
It may be circulated between (3) and the decomposition means (4).

【０１０９】このように構成しても、吸着運転と再生運
転とを切り換えながら空気浄化を間欠的に行うことがで
きるとともに、吸着板(2B)の再生と、その再生後の被処
理成分の分解とにヒータを用いずに低温プラズマの作用
を利用しているので、常温で処理することが可能であ
り、上記の例と同様に高温加熱に起因する装置のランニ
ングコストを抑えることができる。Even with this structure, the air purification can be intermittently performed by switching the adsorption operation and the regeneration operation, the adsorption plate (2B) is regenerated, and the components to be treated after the regeneration are decomposed. Moreover, since the action of low temperature plasma is utilized without using a heater, it is possible to perform processing at room temperature, and it is possible to suppress the running cost of the device due to high temperature heating as in the above example.

【０１１０】また、図１２の構成は、被処理空気を間欠
的に処理するようにしたものであるが、複数の吸着板(2
B)を用い、吸着運転を行う吸着板(2B)と再生運転を行う
吸着板(2B)とを適宜切り換えることにより、被処理空気
を連続的に処理することも可能である。Further, the structure of FIG. 12 is such that the air to be treated is treated intermittently, but a plurality of suction plates (2
It is also possible to continuously treat the air to be treated by using B) by appropriately switching the adsorption plate (2B) performing the adsorption operation and the adsorption plate (2B) performing the regeneration operation.

【０１１１】[0111]

【発明の実施の形態６】上記各実施形態では、吸着部材
(2A,2B) から被処理成分を脱離させるために低温プラズ
マの作用を利用しているが、再生手段(3) は、高温の空
気を吸着部材(2A,2B) に供給して該吸着部材(2A,2B) を
再生するように構成してもよい。Sixth Embodiment of the Invention In the above respective embodiments, the suction member
Although the action of low temperature plasma is used to desorb the components to be treated from (2A, 2B), the regeneration means (3) supplies high temperature air to the adsorption member (2A, 2B). The members (2A, 2B) may be configured to be regenerated.

【０１１２】例えば、図１３に示す例は、図１０の装置
(1) において被処理成分の脱離を高温空気で行うように
したものである。具体的には、上記放電電極(31)及び対
向電極(32)の代わりに、再生通路(P2)における吸着ロー
タ(2A)の上流側近傍にヒータ(35)が配置され、高温空気
を吸着ロータ(2A)に供給するようにしている。その他の
部分については、図１０の例と同様に構成されている。For example, in the example shown in FIG. 13, the apparatus shown in FIG.
In (1), the components to be treated are desorbed by high temperature air. Specifically, instead of the discharge electrode (31) and the counter electrode (32), a heater (35) is arranged near the upstream side of the adsorption rotor (2A) in the regeneration passage (P2) to adsorb high temperature air to the adsorption rotor. (2A) is supplied. Other parts are configured similarly to the example of FIG.

【０１１３】この構成においては、吸着ロータ(2A)を回
転させながら被処理空気中の有害成分や臭気成分を吸着
ロータ(2A)の吸着部(21)で吸着し、同時に再生部(22)で
被処理成分を脱離することにより空気浄化を連続して行
うことができる。再生部(22)では加熱空気が吸着ロータ
(2A)を通過することで被処理成分が吸着ロータ(2A)から
脱離し、これら成分は再生通路(P2)を流れて分解手段
(4) に送られる。そして、これらの成分が分解手段(4)
において低温プラズマと触媒との作用で分解され、処理
後の空気が外気中に放出される。In this construction, while rotating the adsorption rotor (2A), harmful components and odorous components in the air to be treated are adsorbed by the adsorption part (21) of the adsorption rotor (2A), and at the same time by the regeneration part (22). The air can be continuously purified by removing the components to be treated. In the regeneration section (22), heated air is adsorbed on the rotor.
By passing through (2A), the components to be treated are desorbed from the adsorption rotor (2A), these components flow through the regeneration passage (P2), and the decomposition means
Sent to (4). Then, these components are decomposed means (4)
In, the air is decomposed by the action of the low-temperature plasma and the catalyst, and the treated air is released into the outside air.

【０１１４】ここで、一般に再生手段(3) と分解手段
(4) にヒータ(35)を使用する場合には、分解手段(4) の
方をより高温に加熱する必要があるのに対して、この実
施形態６では、分解手段(4) にはヒータ(35)を使用せず
に低温プラズマの作用を利用しているので、効果的にラ
ンニングコストを抑えることが可能である。Here, in general, the reproducing means (3) and the disassembling means
When the heater (35) is used in (4), the disassembling means (4) needs to be heated to a higher temperature, while in the sixth embodiment, the disassembling means (4) has a heater. Since the action of low-temperature plasma is utilized without using (35), it is possible to effectively reduce the running cost.

【０１１５】（変形例１）図１４の例は、再生空気を再
生手段(3) と分解手段(4) との間で循環させるものにお
いて、吸着ロータ(2A)を高温空気で再生するようにした
例である。この装置は、再生手段(3) に電極(31,32) の
代わりにヒータ(35)を用いていることを除いては、図１
１と同様に構成されている。(Modification 1) In the example of FIG. 14, in which the regeneration air is circulated between the regeneration means (3) and the decomposition means (4), the adsorption rotor (2A) is regenerated with high temperature air. It is an example. This apparatus is similar to FIG. 1 except that the regeneration means (3) uses a heater (35) instead of the electrodes (31, 32).
It is configured in the same manner as 1.

【０１１６】この構成においても、再生手段(3) にはヒ
ータ(35)を利用しているが、分解手段(4) にはヒータ(3
5)を使用せずに低温プラズマの作用を利用しているの
で、従来よりもランニングコストを抑えることが可能で
ある。Also in this structure, the heater (35) is used for the regenerating means (3), but the heater (3) is used for the disassembling means (4).
Since the action of low temperature plasma is utilized without using 5), it is possible to reduce the running cost more than before.

【０１１７】また、図１３の例では外部から取り入れた
空気を加熱しているが、この図１４の例では循環経路内
で空気を繰り返し加熱しているため、加熱量が少なくて
済む。したがって、この点でもランニングコストを低減
することができる。Further, in the example of FIG. 13, the air taken in from the outside is heated, but in the example of FIG. 14, since the air is repeatedly heated in the circulation path, the heating amount can be small. Therefore, also in this respect, the running cost can be reduced.

【０１１８】（変形例２）図１５の例は、回転式の吸着
ロータ(2A)の代わりに固定式の吸着板(2B)を用い、吸着
通路(P1)と再生通路(P2)とを切り換えて使用するものに
おいて、吸着板(2B)を高温空気で再生するようにした例
である。この装置は、再生手段(3) に電極(31,32) の代
わりにータ(35)を用いていることを除いては、図１２の
例と同様に構成されている。(Modification 2) In the example of FIG. 15, a fixed suction plate (2B) is used instead of the rotary suction rotor (2A), and the suction passage (P1) and the regeneration passage (P2) are switched. In this example, the adsorption plate (2B) is regenerated with high temperature air. This device has the same construction as the example of FIG. 12 except that the reproducing means (3) uses the data (35) instead of the electrodes (31, 32).

【０１１９】この構成においても、再生手段(3) にはヒ
ータ(35)を利用しているが、分解手段(4) にはヒータ(3
5)を使用せずに低温プラズマの作用を利用しているの
で、従来よりもランニングコストを抑えることが可能で
ある。Also in this structure, the heater (35) is used for the regenerating means (3), but the heater (3) is used for the disassembling means (4).
Since the action of low temperature plasma is utilized without using 5), it is possible to reduce the running cost more than before.

【０１２０】（変形例３）図１６の例は、回転式の吸着
ロータ(2A)の再生通路(P2)を閉空間にしてその中で被処
理成分の脱離と分解を行うものにおいて、吸着ロータ(2
A)を高温で再生するようにした例である。(Modification 3) In the example of FIG. 16, the regeneration passage (P2) of the rotary adsorption rotor (2A) is closed and the components to be treated are desorbed and decomposed. Rotor (2
In this example, A) is regenerated at high temperature.

【０１２１】この例では、吸着ロータ(2A)は被処理空気
が上から下へ流れるようにほぼ水平に配置されている。
この吸着ロータ(2A)は、再生部(22)を構成する扇形の領
域が閉空間内に位置し、該閉空間が再生通路(P2)を構成
している。また、吸着ロータ(2A)は、上記扇形の領域を
除く部分が被処理空気を浄化する吸着部(21)を構成して
いる。In this example, the adsorption rotor (2A) is arranged substantially horizontally so that the air to be treated flows from top to bottom.
In this adsorption rotor (2A), the fan-shaped region that constitutes the regeneration section (22) is located in the closed space, and the closed space constitutes the regeneration passage (P2). Further, in the adsorption rotor (2A), a portion other than the fan-shaped region constitutes an adsorption portion (21) for purifying the air to be treated.

【０１２２】上記再生通路(P2)には、吸着ロータ(2A)の
下方にヒータ(35)が配置され、吸着ロータ(2A)の上方に
は低温プラズマと触媒による分解手段(4) が配置されて
いる。なお、図では低温プラズマを生成するための電極
(31,32) は省略している。In the regeneration passage (P2), the heater (35) is arranged below the adsorption rotor (2A), and the decomposition means (4) by low temperature plasma and catalyst is arranged above the adsorption rotor (2A). ing. In the figure, electrodes for generating low temperature plasma
(31,32) is omitted.

【０１２３】この構成においては、被処理空気が吸着通
路(P1)を上方から下方に流れて吸着ロータ(2A)を通過す
ると、吸着ロータ(2A)の吸着剤が被処理空気の臭気成分
や有害成分を吸着し、該被処理空気が浄化される。吸着
ロータ(2A)はこのようにして被処理成分を吸着すると、
吸着部(21)になっていた部分が回転に伴って再生通路(P
2)内へ移動する。In this structure, when the air to be treated flows from the upper side to the lower side of the adsorption passage (P1) and passes through the adsorption rotor (2A), the adsorbent of the adsorption rotor (2A) causes the odorous components and harmful components of the air to be treated. The components are adsorbed and the air to be treated is purified. When the adsorption rotor (2A) adsorbs the component to be treated in this way,
The part that had been the adsorption part (21) was rotated and the regeneration passage (P
2) Move in.

【０１２４】再生通路(P2)内では、ヒータ(35)に通電さ
れており、高温の空気が吸着ロータ(2A)を通って上昇す
るため、該吸着ロータ(2A)において被処理成分が脱離し
て、これらの成分が上昇気流に乗ってさらに上昇する。
そして、上記被処理成分は分解手段において低温プラズ
マと触媒の作用で分解され、無臭化または無害化され
る。このようにして被処理成分が分解された処理済みの
空気は、再生通路(P2)内に循環通路を形成しておけば、
該空気が分解手段(4) の周囲で若干冷却されるとともに
下方から高温空気が上昇してくるため、吸着ロータ(2A)
の下方まで下降し、再度ヒータ(35)で加熱されて吸着ロ
ータ(2A)の再生に用いられる。In the regeneration passage (P2), the heater (35) is energized, and high-temperature air rises through the adsorption rotor (2A), so that the components to be treated are desorbed in the adsorption rotor (2A). Then, these components ride on the updraft and further rise.
Then, the components to be treated are decomposed by the action of the low temperature plasma and the catalyst in the decomposing means to be made odorless or harmless. The treated air, in which the components to be treated are decomposed in this way, forms a circulation passage in the regeneration passage (P2),
Since the air is slightly cooled around the decomposition means (4) and hot air rises from below, the adsorption rotor (2A)
It is lowered to the lower part of, and heated again by the heater (35) to be used for regeneration of the adsorption rotor (2A).

【０１２５】このように、この図１６の例では再生通路
(P2)内で自然対流を起こし、これを利用して吸着ロータ
(2A)からの被処理成分の脱離と該成分の分解とを行うこ
とができるため、ファンを設ける必要がない。また、再
生手段(3) にはヒータ(35)を利用しているが、分解手段
(4) にはヒータを使用せずに低温プラズマの作用を利用
しているので、従来よりもランニングコストを抑えるこ
とが可能である。As described above, in the example of FIG. 16, the regeneration passage is
Natural convection occurs in (P2), and this is used to create an adsorption rotor.
Since it is possible to separate the component to be treated from (2A) and decompose the component, it is not necessary to provide a fan. A heater (35) is used as the regeneration means (3), but
In (4), since the action of low-temperature plasma is used without using a heater, it is possible to reduce the running cost more than before.

【０１２６】以上説明した図１３〜図１６の例では、吸
着ロータ(2A)または吸着板(2B)から被処理成分を脱離す
るのにヒータ(35)を用いているため、分解手段(4) には
高温の再生空気が供給される。ここで、図１７のグラフ
に示すように、印加電圧が同じであるとすれば、温度が
高いと放電電流が大きくなり、放電が発生しやすくなる
傾向がある。このため、上述した図１３〜図１６の例で
は、ヒータ(35)の消費電力は図１〜図１２の再生手段
(3) に用いる放電の消費電力よりも大きくなるものの、
分解手段(4) に用いる放電の消費電力は図１〜図１２の
ものよりも抑えることが可能である。In the examples of FIGS. 13 to 16 described above, since the heater (35) is used to desorb the components to be treated from the adsorption rotor (2A) or the adsorption plate (2B), the decomposing means (4 ) Is supplied with hot regenerated air. Here, as shown in the graph of FIG. 17, if the applied voltage is the same, the discharge current tends to increase when the temperature is high, and discharge tends to occur. Therefore, in the example of FIGS. 13 to 16 described above, the power consumption of the heater (35) is the same as that of the reproducing means of FIGS.
Although it is larger than the power consumption of the discharge used in (3),
The power consumption of the discharge used in the disassembling means (4) can be suppressed more than that in FIGS.

【０１２７】[0127]

【発明のその他の実施の形態】本発明は、上記実施形態
について、以下のような構成としてもよい。Other Embodiments of the Invention The present invention may have the following configurations in the above embodiments.

【０１２８】例えば、図６，図１２，図１５などでは、
固定式の吸着板(2B)を用いて吸着通路(P1)と再生通路(P
2)とを切り換える構成にしているが、吸着通路(P1)と再
生通路(P2)を並設するとともに吸着板(2B)を可動にして
吸着通路(P1)内の位置と再生通路(P2)内の位置とに移動
可能に構成した場合でも、吸着通路(P1)側で吸着運転を
行い、再生通路(P2)側で再生運転を行うことが可能であ
る。For example, in FIG. 6, FIG. 12, FIG.
Using the fixed adsorption plate (2B), the adsorption passage (P1) and regeneration passage (P1)
2) is switched, but the adsorption passage (P1) and the regeneration passage (P2) are arranged side by side, and the adsorption plate (2B) is made movable so that the position inside the adsorption passage (P1) and the regeneration passage (P2). Even when it is configured to be movable to the inner position, it is possible to perform the adsorption operation on the adsorption passage (P1) side and the regeneration operation on the regeneration passage (P2) side.

【０１２９】また、上記各実施形態では、吸着ロータ(2
A)や吸着板(2B)から脱離した被処理成分を分解するのに
低温プラズマとともに触媒を用いるようにしているが、
触媒を用いずに低温プラズマのみを利用して該被処理成
分を分解するようにしてもよい。In each of the above embodiments, the suction rotor (2
A) and the adsorption plate (2B) use a catalyst together with low-temperature plasma to decompose the components to be treated that have been desorbed.
The component to be treated may be decomposed using only low temperature plasma without using a catalyst.

【０１３０】さらに、本発明は、被処理ガス中の被処理
成分を吸着部材(2A,2B) によって吸着するとともに、該
吸着部材(2A,2B) から被処理成分を脱離させて再生する
装置において、吸着部材(2A,2B) から脱離した被処理成
分を、放電により低温プラズマを生成して分解する分解
手段(4) を用いて構成したものであればよく、吸着ロー
タ(2A)または吸着板(2B)、または再生手段(3) などの具
体的な構成は任意に変更してもよい。Furthermore, the present invention is an apparatus for adsorbing a component to be treated in a gas to be treated by the adsorbing member (2A, 2B) and desorbing the component to be treated from the adsorbing member (2A, 2B) for regeneration. In the above, the component to be treated desorbed from the adsorbing member (2A, 2B) may be constituted by using a decomposing means (4) for decomposing by generating low temperature plasma by electric discharge, the adsorbing rotor (2A) or The specific configuration of the adsorption plate (2B), the regeneration means (3), etc. may be arbitrarily changed.

【０１３１】また、装置(1) の具体的な構成（ケーシン
グ(10)の構成や、機器の配置など）も適宜変更すること
が可能である。Further, the specific configuration of the device (1) (the configuration of the casing (10), the arrangement of devices, etc.) can be changed as appropriate.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図１】本発明の実施形態１に係るガス処理装置の概略
構成を示す斜視図である。FIG. 1 is a perspective view showing a schematic configuration of a gas treatment device according to a first embodiment of the present invention.

【図２】図１のガス処理装置の断面構造図である。FIG. 2 is a cross-sectional structural view of the gas treatment device of FIG.

【図３】電極構造を示す部分斜視図である。FIG. 3 is a partial perspective view showing an electrode structure.

【図４】本発明の実施形態２に係るガス処理装置の概略
構成を示す斜視図である。FIG. 4 is a perspective view showing a schematic configuration of a gas treatment device according to a second embodiment of the present invention.

【図５】図４のガス処理装置の断面構造図である。5 is a cross-sectional structural diagram of the gas treatment device of FIG.

【図６】本発明の実施形態３に係るガス処理装置の概略
構成を示す斜視図である。FIG. 6 is a perspective view showing a schematic configuration of a gas treatment device according to a third embodiment of the present invention.

【図７】図６のガス処理装置の断面構造図である。7 is a cross-sectional structural diagram of the gas treatment device of FIG.

【図８】電極構造を示す部分斜視図である。FIG. 8 is a partial perspective view showing an electrode structure.

【図９】本発明の実施形態４に係るガス処理装置の断面
構造図である。FIG. 9 is a sectional structural view of a gas treatment device according to a fourth embodiment of the present invention.

【図１０】本発明の実施形態５に係るガス処理装置の概
略構成を示す斜視図である。FIG. 10 is a perspective view showing a schematic configuration of a gas treatment device according to a fifth embodiment of the present invention.

【図１１】実施形態５の第１の変形例を示す斜視図であ
る。FIG. 11 is a perspective view showing a first modification of the fifth embodiment.

【図１２】実施形態５の第２の変形例を示す斜視図であ
る。FIG. 12 is a perspective view showing a second modification of the fifth embodiment.

【図１３】本発明の実施形態６に係るガス処理装置の概
略構成を示す斜視図である。FIG. 13 is a perspective view showing a schematic configuration of a gas treatment device according to a sixth embodiment of the present invention.

【図１４】実施形態６の第１の変形例を示す斜視図であ
る。FIG. 14 is a perspective view showing a first modified example of the sixth embodiment.

【図１５】実施形態６の第２の変形例を示す斜視図であ
る。FIG. 15 is a perspective view showing a second modification of the sixth embodiment.

【図１６】実施形態６の第３の変形例を示す斜視図であ
る。FIG. 16 is a perspective view showing a third modified example of the sixth embodiment.

【図１７】温度変化に伴う印加電圧と放電電流の関係を
示すグラフである。FIG. 17 is a graph showing the relationship between applied voltage and discharge current due to temperature change.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

(1) 空気浄化装置 (2A) 吸着ロータ（吸着部材） (2B) 吸着板（吸着部材） (21) 吸着部 (22) 再生部 (3) 再生手段 (31) 放電電極 (31a) 基材 (31b) 針電極 (32) 対向電極 (33) 高圧電源 (4) 分解手段 (41) 触媒手段 (5) ファン (6) 駆動機構 (6a) 駆動モータ (6b) 駆動プーリ (6c) 駆動ベルト (10) ケーシング (11) 空気吸込口 (12) 空気吹出口 (P1) 吸着通路 (P2) 再生通路 (C) 中心軸 (1) Air purification device (2A) Adsorption rotor (adsorption member) (2B) Suction plate (suction member) (21) Adsorption part (22) Playback section (3) Regeneration means (31) Discharge electrode (31a) Base material (31b) Needle electrode (32) Counter electrode (33) High voltage power supply (4) Disassembly means (41) Catalytic means (5) Fan (6) Drive mechanism (6a) Drive motor (6b) Drive pulley (6c) Drive belt (10) Casing (11) Air inlet (12) Air outlet (P1) Adsorption passage (P2) Regeneration passage (C) Central axis

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 田中 利夫 大阪府堺市金岡町1304番地 ダイキン工業 株式会社堺製作所金岡工場内 Ｆターム(参考） 4C080 AA05 AA09 CC12 CC13 CC14 HH05 JJ03 KK02 KK08 LL10 MM02 MM04 MM05 MM07 QQ11 4D012 CA09 CA10 CA11 CA15 CB02 CC02 CC05 CD10 CG01 CG02 CG04 CH05    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    (72) Inventor Toshio Tanaka             1304 Kanaoka-cho, Sakai City, Osaka Prefecture Daikin Industries             Sakai Plant Kanaoka Factory F term (reference) 4C080 AA05 AA09 CC12 CC13 CC14                       HH05 JJ03 KK02 KK08 LL10                       MM02 MM04 MM05 MM07 QQ11                 4D012 CA09 CA10 CA11 CA15 CB02                       CC02 CC05 CD10 CG01 CG02                       CG04 CH05

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】 被処理ガス中の被処理成分を吸着する吸
着部材(2A,2B) と、該吸着部材(2A,2B) から被処理成分
を脱離させる再生手段(3) と、該再生手段(3) によって
吸着部材(2A,2B) から脱離した被処理成分を分解する分
解手段(4) とを備えたガス処理装置であって、 上記分解手段(4) が、放電により低温プラズマを生成し
て上記被処理成分を分解するように構成されていること
を特徴とするガス処理装置。1. An adsorption member (2A, 2B) for adsorbing a component to be treated in a gas to be treated, a regeneration means (3) for desorbing the component to be treated from the adsorption member (2A, 2B), and the regeneration. A gas treatment device comprising a decomposing means (4) for decomposing the components to be treated desorbed from the adsorbing members (2A, 2B) by means (3), wherein the decomposing means (4) is a low temperature plasma due to discharge. And a gas treatment apparatus configured to decompose the components to be treated. 【請求項２】 再生手段(3) が、吸着部材(2A,2B) の近
傍で放電により低温プラズマを生成して吸着部材(2A,2
B) から被処理成分を脱離させるように構成されている
ことを特徴とする請求項１記載のガス処理装置。2. The regeneration means (3) generates low temperature plasma by electric discharge in the vicinity of the adsorbing members (2A, 2B) to generate adsorbing members (2A, 2B).
The gas treatment device according to claim 1, wherein the gas treatment device is configured to desorb the component to be treated from B). 【請求項３】 吸着部材(2A)は、回転可能に構成される
とともに、被処理空気の流通する吸着通路(P1)と再生空
気の流通する再生通路(P2)に跨って配置され、 該吸着部材(2A)の一部で被処理成分の吸着を行い、他の
一部で被処理成分の脱離を行うことにより、被処理ガス
を連続的に処理することを特徴とする請求項１または２
記載のガス処理装置。3. The adsorbing member (2A) is rotatably arranged and is arranged across an adsorbing passage (P1) through which the air to be treated flows and a regenerating passage (P2) through which regenerated air flows. The gas to be treated is continuously treated by adsorbing the component to be treated on one part of the member (2A) and desorbing the component to be treated on the other part (2A). Two
The gas treatment device described. 【請求項４】 吸着部材(2B)の配置された空間が、被処
理空気の流通する吸着通路(P1)と再生空気の流通する再
生通路(P2)に切り換え可能に構成され、 吸着部材(2B)で被処理成分の吸着と脱離とを交互に行う
ことにより、被処理ガスを間欠的に処理することを特徴
とする請求項１または２記載のガス処理装置。4. The space in which the adsorbing member (2B) is arranged is switchable between an adsorbing passage (P1) through which the air to be treated flows and a regenerating passage (P2) through which regenerated air flows, and the adsorbing member (2B) 3. The gas treatment apparatus according to claim 1 or 2, wherein the gas to be treated is intermittently treated by alternately adsorbing and desorbing the component to be treated in). 【請求項５】 複数の吸着部材(2B,2B) が配置された空
間が、それぞれ、被処理空気の流通する吸着通路(P1)と
再生空気の流通する再生通路(P2)に切り換え可能に構成
され、 被処理成分の吸着を行う吸着部材(2B)と被処理成分の脱
離を行う吸着部材(2B)との切り換え操作を繰り返すこと
により、被処理ガスを連続的に処理することを特徴とす
る請求項１または２記載のガス処理装置。5. A structure in which a space in which a plurality of adsorption members (2B, 2B) are arranged can be switched to an adsorption passage (P1) through which the air to be treated flows and a regeneration passage (P2) through which regenerated air flows, respectively. By continuously repeating the switching operation between the adsorption member (2B) for adsorbing the component to be treated and the adsorption member (2B) for desorbing the component to be treated, the gas to be treated is continuously treated. The gas treatment device according to claim 1 or 2. 【請求項６】 分解手段(4) が、吸着部材(2A,2B) の少
なくとも一部を含む閉空間(P2)の内部に設けられている
ことを特徴とする請求項１から５のいずれか１記載のガ
ス処理装置。6. The disassembling means (4) is provided inside a closed space (P2) including at least a part of the adsorption member (2A, 2B), according to any one of claims 1 to 5. 1. The gas processing device according to 1. 【請求項７】 分解手段(4) が、低温プラズマにより活
性化して被処理成分の処理を促進する触媒手段(41)を含
んでいることを特徴とする請求項１から６のいずれか１
記載のガス処理装置。7. The decomposing means (4) includes a catalyst means (41) which is activated by a low temperature plasma to accelerate the treatment of the component to be treated.
The gas treatment device described. 【請求項８】 触媒手段(41)が吸着部材(2A,2B) と一体
に形成されていることを特徴とする請求項７記載のガス
処理装置。8. The gas treatment apparatus according to claim 7, wherein the catalyst means (41) is formed integrally with the adsorption member (2A, 2B). 【請求項９】 触媒手段(41)が吸着部材(2A,2B) と別体
に形成されていることを特徴とする請求項７記載のガス
処理装置。9. The gas treatment apparatus according to claim 7, wherein the catalyst means (41) is formed separately from the adsorption member (2A, 2B).
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