JP2003009503A - リニアモータ及びそれを用いたｘｙ駆動テーブル - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 推力効率を落とすことなく、コイルを効率よ
く冷却する。 【解決手段】 固定子１側にある電磁コイル４と可動子
５側にある永久磁石８ａ，８ｂを持ち、コイル４におけ
る永久磁石８ａ，８ｂの磁石と対面しない部分の電線自
体をヒートシンク状に形成してヒートシンク部Ｈａ，Ｈ
ｂとし、このヒートシンク部Ｈａ，Ｈｂの電線部分をジ
ャケット１０で囲み、該ジャケット１０の中に冷却液を
通してコイル４を冷却し、このコイル４は箔コイルであ
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体露光装置な
どの精密なＸＹ駆動テーブルに用いられるリニアモータ
に関し、特に発熱部分を効率よく冷却することができる
リニアモータ及びそれを用いたＸＹ駆動テーブルに関す
るものである。

【０００２】

【従来の技術】半導体露光装置などに用いられるＸＹ駆
動テーブルは、ウエハ等の基板を保持する可動台を、定
盤上に置いて直交する２軸（Ｘ軸及びＹ軸）の方向に往
復運動させるための駆動モータを備えている。近年、こ
の駆動モータとしてリニアモータを活用することで、装
置の小型化及び高精度化を図る努力がなされている。こ
のようなリニアモータの従来例について、図４及び図５
を用いて説明する。

【０００３】リニアモータ固定子１５１は、一対の中空
溝形のコイル保持部材１５２ａ，１５２ｂ、これら両者
をその両端において一体的に連結する一対の連結部材１
５３ａ，１５３ｂ、及び一対のコイル保持部材１５２
ａ，１５２ｂの間に配置されており両者をそれぞれ各コ
イル保持部材１５２ａ，１５２ｂの溝によって保持され
る複数の電磁コイル１５４Ａ〜１５４Ｆからなる。

【０００４】リニアモータ可動子１５５は、天板１５６
と底板１５７にそれぞれ保持された一対の永久磁石１５
８ａ，１５８ｂ及び天板１５６と底板１５７の対向面に
それぞれ一体的に連結された一対の側板１５９ａ，１５
９ｂからなり、天板１５６、底板１５７及び両側板１５
９ａ，１５９ｂによって長方形の断面を持つ管状枠を形
成する。該管状枠を有する可動子１５５は、リニアモー
タ固定子１５１に摺動自在に嵌合する。

【０００５】電流が電力ケーブル１６０から電磁コイル
１５４Ａ〜１５４Ｆに順次選択的に供給されると、リニ
アモータ可動子１５５は、リニアモータ固定子１５１に
沿って移動する。

【０００６】このとき、ジュール熱によってコイルが発
熱するため、コイル保持部材１５２ａ，１５２ｂのそれ
ぞれの水冷ジャケット１５２ｃ，１５２ｄに冷却パイプ
１６１から冷却水を供給して、コイル保持部材１５２
ａ，１５２ｂと電磁コイル１５４Ａ〜１５４Ｆの接触面
を冷却する。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来例によれば、コイル保持部材１５２ａ，１５２ｂと電
磁コイル１５４Ａ〜１５４Ｆの接触面の接触面積が小さ
いため、コイル冷却効率が悪いという問題があった。

【０００８】このため、他の従来例として、図６に示す
ように、固定子１５１は、水冷ジャケット１７０により
電磁コイル１５４ａ全体を囲んで密封し、この中に冷却
水を通してコイル全体を冷却することにより、冷却効率
を上げる方法もある。図６において、可動子１５５は、
図５と同じなので、その同一構成要素に同一の符号を付
けてある。

【０００９】しかしながら、この図６に示す方法では、
ジャケット１７０によりコイル１５４ａと永久磁石１５
８ａ，１５８ｂの間隔が広がってしまうため、リニアモ
ータの推力効率が落ちるという問題がある。

【００１０】本発明は、上記従来の技術の有する問題点
に鑑みてなされたものであり、リニアモータの推力効率
を落とすことなく、コイルを効率よく冷却するリニアモ
ータ及びこれを用いたＸＹ駆動テーブルを提供すること
を目的とする。

【００１１】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、電磁コイルと永久磁石を持つリニアモー
タにおいて、前記電磁コイルにおける前記永久磁石の磁
石と対面しない部分の電線自体をヒートシンク状に形成
したことを特徴とする。また、本発明は、前記ヒートシ
ンク状に形成した電線部分をジャケットで囲み、該ジャ
ケットの中に冷却液を通して前記電磁コイルを冷却する
ことを特徴としてもよく、前記電磁コイルは箔コイルで
あることを特徴としてもよい。

【００１２】また、本発明は、上記いずれかの特徴を有
するリニアモータを使用したＸＹ駆動テーブルや、該Ｘ
Ｙ駆動テーブルを有する露光装置にも適用可能である。

【００１３】上記特徴によれば、コイル自体をヒートシ
ンク状に形成して、直接冷却液に浸すため、冷却する表
面積が大きく取れるので、コイルの冷却効率がよい。ま
た、コイルにおける永久磁石の磁束が通らない部分のみ
をヒートシンク状に形成するため、永久磁石をコイルか
ら離す必要がないので、リニアモータの推力効率を落と
すことはない。

【００１４】また、本発明は、前記ＸＹ駆動テーブルを
有する露光装置を含む各種プロセス用の製造装置群を半
導体製造工場に設置する工程と、該製造装置群を用いて
複数のプロセスによって半導体デバイスを製造する工程
とを有する半導体デバイス製造方法にも適用される。こ
の場合、前記製造装置群をローカルエリアネットワーク
で接続する工程と、前記ローカルエリアネットワークと
前記半導体製造工場外の外部ネットワークとの間で、前
記製造装置群の少なくとも１台に関する情報をデータ通
信する工程とをさらに有することが望ましく、前記露光
装置のベンダもしくはユーザが提供するデータベースに
前記外部ネットワークを介してアクセスしてデータ通信
によって前記製造装置の保守情報を得る、もしくは前記
半導体製造工場とは別の半導体製造工場との間で前記外
部ネットワークを介してデータ通信して生産管理を行う
ことが好ましい。

【００１５】また、本発明は、前記露光装置を含む各種
プロセス用の製造装置群と、該製造装置群を接続するロ
ーカルエリアネットワークと、該ローカルエリアネット
ワークから工場外の外部ネットワークにアクセス可能に
するゲートウェイを有し、前記製造装置群の少なくとも
１台に関する情報をデータ通信することを可能にした半
導体製造工場にも適用される。

【００１６】また、本発明は、半導体製造工場に設置さ
れた前記露光装置の保守方法であって、前記露光装置の
ベンダもしくはユーザが、半導体製造工場の外部ネット
ワークに接続された保守データベースを提供する工程
と、前記半導体製造工場内から前記外部ネットワークを
介して前記保守データベースへのアクセスを許可する工
程と、前記保守データベースに蓄積される保守情報を前
記外部ネットワークを介して半導体製造工場側に送信す
る工程とを有することを特徴としてもよい。

【００１７】また、本発明は、前記露光装置において、
ディスプレイと、ネットワークインタフェースと、ネッ
トワーク用ソフトウェアを実行するコンピュータとをさ
らに有し、露光装置の保守情報をコンピュータネットワ
ークを介してデータ通信することを可能にしたことを特
徴としてもよく、前記ネットワーク用ソフトウェアは、
前記露光装置が設置された工場の外部ネットワークに接
続され前記露光装置のベンダもしくはユーザが提供する
保守データベースにアクセスするためのユーザインタフ
ェースを前記ディスプレイ上に提供し、前記外部ネット
ワークを介して該データベースから情報を得ることを可
能にすることが好ましい。

【００１８】

【発明の実施の形態】（リニアモータの実施形態）図１
は本発明の実施形態に係るリニアモータの断面図であ
り、図３はその要部の斜視透視図を示す。図において、
１は固定子、５は可動子である。このリニアモータは、
固定子１の側に複数の電磁コイル４（４ａ〜４ｅ）を一
列に並べて配置してあり、これらの電磁コイル４ａ〜４
ｅをジャケット１０で囲んで密封し、このジャケット１
０の内部に冷却液を流すようになっている。

【００１９】可動子５の側は、対向した永久磁石８ａ，
８ｂと、永久磁石８ａを接着してある天板６及び永久磁
石８ｂを接着してある底板７と、そして天板６及び底板
７を連結する側板９ａ，９ｂとを備えて、長方形の断面
を持つ管状枠を形成する。該管状枠を有する可動子５
は、該管状枠がリニアモータ固定子１の電磁コイル４ａ
〜４ｅ中の２〜３個に渡って該固定子１を覆っており、
電磁コイル４ａ〜４ｅの並ぶ方向に沿って摺動自在な状
態で固定子１に嵌合する。永久磁石８ａは天板６の下面
に、永久磁石８ｂは底板７の上面にそれぞれ固着され、
いずれも前記管状枠内で内向きに突出している。

【００２０】そして、このリニアモータは、電流が電磁
コイル４ａ〜４ｅに順次選択的に供給され、永久磁石８
ａ，８ｂの作る磁界の中に電磁コイル４がある時に該コ
イルに電流が流れると、推力が発生して、リニアモータ
可動子５がリニアモータ固定子１の電磁コイル４ａ〜４
ｅの一列に並ぶ方向に沿って移動する。

【００２１】本発明の特徴として、永久磁石８ａ，８ｂ
で作られる主な磁束が通る部分のコイル（Ｍで示す）
は、従来通り密になっているが、主な磁束が通らない部
分のコイル（Ｈａ，Ｈｂで示す）は電線をばらしてヒー
トシンク状に形成してある。つまり、コイルにおける永
久磁石８ａ，８ｂの磁石と対面しない部分の電線自体は
ヒートシンク状に形成してある。

【００２２】本実施形態に係るリニアモータにおける電
磁コイル４（４ａ〜４ｅ）は、例えば図２に示すような
形状になる。この実施形態では、箔状の電線を用いた箔
コイルにより、永久磁石８ａ，８ｂと対面していて主な
磁束が通る部分Ｍの電線は、密に形成してある。永久磁
石８ａ，８ｂと対面せず主な磁束が通らない両ヒートシ
ンク部Ｈａ，Ｈｂは、形状及び配置が対称的であり、図
１において上下の中心に位置するもの以外が部分Ｍに対
しほぼ直角に丸みを付け折り曲げて形成した境界部分Ｂ
を介して、図１及び図２に示すように隙間Ｃを空けてヒ
ートシンク状に形成されている。

【００２３】図１において、電磁コイル４のヒートシン
ク状に形成した両ヒートシンク部Ｈａ，Ｈｂの上下の中
心に位置する部分とそれに対応する部分Ｍの上下中心部
とは同一平面上にある。それ以外の位置即ち、図１にお
いて、上下の中心以外の位置にある両ヒートシンク部Ｈ
ａ，Ｈｂは、境界部分Ｂに対しほぼ直角に丸みを付け折
り曲げて部分Ｍに平行配置してあり、本実施形態の場
合、それぞれ同一形状の電線部分Ｈ１〜Ｈ１１が、隙間
Ｃを一定にして等間隔に、上下対称に重ねて配置されて
いる。

【００２４】ジャケット１０は、複数の電磁コイル４ａ
〜４ｅのそれぞれの部分Ｍ、境界部分Ｂ及び両ヒートシ
ンク部Ｈａ，Ｈｂを含む全体の外面を囲み、複数の電磁
コイル４ａ〜４ｅの表面との間のジャケット内部１１
ａ，１１ｂを空間として形成している。また、ジャケッ
ト１０は、外形が複数の電磁コイル４ａ〜４ｅ全体によ
って形成される略コ字形断面の真直溝に相似となる上下
の真直溝１５ａ，１５ｂを有し、永久磁石８ａ，８ｂを
電磁コイル４ａ〜４ｅの部分Ｍに近接して配置できるよ
うに電磁コイル４ａ〜４ｅ全体に外装されている。上側
の真直溝１５ａには、天板６から下向きに突出している
永久磁石８ａが遊嵌合し、下側の真直溝１５ｂには、底
板７から上向きに突出している永久磁石８ｂが遊嵌合す
る。

【００２５】本実施形態によれば、図１において、ジャ
ケット内部１１ａ，１１ｂに冷却液を流し、並設した複
数の電磁コイル４ａ〜４ｅのヒートシンク状に形成され
たヒートシンク部Ｈａ，Ｈｂ、境界部Ｂ及び部分Ｍを直
接冷却することができるので、効率良く電磁コイル４ａ
〜４ｅ全体を冷却することができる。

【００２６】また、永久磁石８ａ，８ｂに対面し該永久
磁石８ａ，８ｂで作られる主な磁束が通る部分Ｍのコイ
ルは従来通り密になっており、しかも永久磁石８ａ，８
ｂの間隔は電磁コイル４ａ〜４ｅに接近することができ
るので、リニアモータの推力効率を落とすことがない。

【００２７】上述の実施形態では、ジャケット１０は電
磁コイル４ａ〜４ｅ全体を囲んでいるが、電磁コイル４
ａ〜４ｅのヒートシンク部Ｈａ，Ｈｂのみをジャケット
で囲むようにして、永久磁石８ａ，８ｂを電磁コイル４
の部分Ｍにさらに近付けるようにしてもよい。

【００２８】（ＸＹ駆動テーブルの実施形態）ＸＹ駆動
テーブルは、ウエハ等の基板を保持する可動台を、定盤
上に載置して互いに直交するＸ軸方向及びＹ軸方向に往
復運動させるための駆動モータを備えている。前記可動
台はＸ軸方向に移動可能なＸ方向移動体とＹ軸方向に移
動可能なＹ方向移動体とを有し、これらの各移動体の駆
動モータとして前述のリニアモータを活用することで、
装置の小型化及び高精度化が図られる。

【００２９】本実施形態に係るリニアモータをＸＹ駆動
テーブルのＸ及びＹの駆動モータとして用いることによ
り、冷却効率が高く、しかもリニアモータの推力効率が
高いので、発熱が少なく、熱変形の少ない高精密なＸＹ
駆動テーブルを構成することができる。

【００３０】（半導体生産システムの実施形態）次に、
本発明に係る装置を用いた半導体デバイス（ＩＣやＬＳ
Ｉ等の半導体チップ、液晶パネル、ＣＣＤ、薄膜磁気ヘ
ッド、マイクロマシン等）の生産システムの例を説明す
る。これは半導体製造工場に設置された製造装置のトラ
ブル対応や定期メンテナンス、あるいはソフトウェア提
供などの保守サービスを、製造工場外のコンピュータネ
ットワークを利用して行うものである。

【００３１】図７は全体システムをある角度から切り出
して表現したものである。図中、１０１は半導体デバイ
スの製造装置を提供するベンダ（装置供給メーカ）の事
業所である。製造装置の実例としては、半導体製造工場
で使用する各種プロセス用の半導体製造装置、例えば、
前工程用機器（露光装置、レジスト処理装置、エッチン
グ装置等のリソグラフィ装置、熱処理装置、成膜装置、
平坦化装置等）や後工程用機器（組立て装置、検査装置
等）を想定している。事業所１０１内には、製造装置の
保守データベースを提供するホスト管理システム１０
８、複数の操作端末コンピュータ１１０、これらを結ん
でイントラネット等を構築するローカルエリアネットワ
ーク（ＬＡＮ）１０９を備える。ホスト管理システム１
０８は、ＬＡＮ１０９を事業所の外部ネットワークであ
るインターネット１０５に接続するためのゲートウェイ
と、外部からのアクセスを制限するセキュリティ機能を
備える。

【００３２】一方、１０２〜１０４は、製造装置のユー
ザとしての半導体製造メーカの製造工場である。製造工
場１０２〜１０４は、互いに異なるメーカに属する工場
であっても良いし、同一のメーカに属する工場（例え
ば、前工程用の工場、後工程用の工場等）であっても良
い。各工場１０２〜１０４内には、夫々、複数の製造装
置１０６と、それらを結んでイントラネット等を構築す
るローカルエリアネットワーク（ＬＡＮ）１１１と、各
製造装置１０６の稼動状況を監視する監視装置としてホ
スト管理システム１０７とが設けられている。各工場１
０２〜１０４に設けられたホスト管理システム１０７
は、各工場内のＬＡＮ１１１を工場の外部ネットワーク
であるインターネット１０５に接続するためのゲートウ
ェイを備える。これにより各工場のＬＡＮ１１１からイ
ンターネット１０５を介してベンダの事業所１０１側の
ホスト管理システム１０８にアクセスが可能となり、ホ
スト管理システム１０８のセキュリティ機能によって限
られたユーザだけにアクセスが許可となっている。具体
的には、インターネット１０５を介して、各製造装置１
０６の稼動状況を示すステータス情報（例えば、トラブ
ルが発生した製造装置の症状）を工場側からベンダ側に
通知する他、その通知に対応する応答情報（例えば、ト
ラブルに対する対処方法を指示する情報、対処用のソフ
トウェアやデータ）や、最新のソフトウェア、ヘルプ情
報などの保守情報をベンダ側から受け取ることができ
る。各工場１０２〜１０４とベンダの事業所１０１との
間のデータ通信および各工場内のＬＡＮ１１１でのデー
タ通信には、インターネットで一般的に使用されている
通信プロトコル（ＴＣＰ／ＩＰ）が使用される。なお、
工場外の外部ネットワークとしてインターネットを利用
する代わりに、第三者からのアクセスができずにセキュ
リティの高い専用線ネットワーク（ＩＳＤＮなど）を利
用することもできる。また、ホスト管理システムはベン
ダが提供するものに限らずユーザがデータベースを構築
して外部ネットワーク上に置き、ユーザの複数の工場か
ら該データベースへのアクセスを許可するようにしても
よい。

【００３３】さて、図８は本実施形態の全体システムを
図７とは別の角度から切り出して表現した概念図であ
る。先の例ではそれぞれが製造装置を備えた複数のユー
ザ工場と、該製造装置のベンダの管理システムとを外部
ネットワークで接続して、該外部ネットワークを介して
各工場の生産管理や少なくとも１台の製造装置の情報を
データ通信するものであった。これに対し本例は、複数
のベンダの製造装置を備えた工場と、該複数の製造装置
のそれぞれのベンダの管理システムとを工場外の外部ネ
ットワークで接続して、各製造装置の保守情報をデータ
通信するものである。図中、２０１は製造装置ユーザ
（半導体デバイス製造メーカ）の製造工場であり、工場
の製造ラインには各種プロセスを行う製造装置、ここで
は例として露光装置２０２、レジスト処理装置２０３、
成膜処理装置２０４が導入されている。なお図８では製
造工場２０１は１つだけ描いているが、実際は複数の工
場が同様にネットワーク化されている。工場内の各装置
はＬＡＮ２０６で接続されてイントラネットを構成し、
ホスト管理システム２０５で製造ラインの稼動管理がさ
れている。

【００３４】一方、露光装置メーカ２１０、レジスト処
理装置メーカ２２０、成膜装置メーカ２３０などベンダ
（装置供給メーカ）の各事業所には、それぞれ供給した
機器の遠隔保守を行うためのホスト管理システム２１
１，２２１，２３１を備え、これらは上述したように保
守データベースと外部ネットワークのゲートウェイを備
える。ユーザの製造工場内の各装置を管理するホスト管
理システム２０５と、各装置のベンダの管理システム２
１１，２２１，２３１とは、外部ネットワーク２００で
あるインターネットもしくは専用線ネットワークによっ
て接続されている。このシステムにおいて、製造ライン
の一連の製造機器の中のどれかにトラブルが起きると、
製造ラインの稼動が休止してしまうが、トラブルが起き
た機器のベンダからインターネット２００を介した遠隔
保守を受けることで迅速な対応が可能であり、製造ライ
ンの休止を最小限に抑えることができる。

【００３５】半導体製造工場に設置された各製造装置は
それぞれ、ディスプレイと、ネットワークインタフェー
スと、記憶装置にストアされたネットワークアクセス用
ソフトウェアならびに装置動作用のソフトウェアを実行
するコンピュータを備える。記憶装置としては内蔵メモ
リやハードディスク、あるいはネットワークファイルサ
ーバーなどである。上記ネットワークアクセス用ソフト
ウェアは、専用又は汎用のウェブブラウザを含み、例え
ば図９に一例を示す様な画面のユーザインタフェースを
ディスプレイ上に提供する。各工場で製造装置を管理す
るオペレータは、画面を参照しながら、製造装置の機種
４０１、シリアルナンバー４０２、トラブルの件名４０
３、発生日４０４、緊急度４０５、症状４０６、対処法
４０７、経過４０８等の情報を画面上の入力項目に入力
する。入力された情報はインターネットを介して保守デ
ータベースに送信され、その結果の適切な保守情報が保
守データベースから返信されディスプレイ上に提示され
る。またウェブブラウザが提供するユーザインタフェー
スはさらに図示のごとくハイパーリンク機能４１０〜４
１２を実現し、オペレータは各項目の更に詳細な情報に
アクセスしたり、ベンダが提供するソフトウェアライブ
ラリから製造装置に使用する最新バージョンのソフトウ
ェアを引出したり、工場のオペレータの参考に供する操
作ガイド（ヘルプ情報）を引出したりすることができ
る。ここで、保守データベースが提供する保守情報に
は、上記説明した本発明に関する情報も含まれ、また前
記ソフトウェアライブラリは本発明を実現するための最
新のソフトウェアも提供する。

【００３６】次に上記説明した生産システムを利用した
半導体デバイスの製造プロセスを説明する。図１０は半
導体デバイスの全体的な製造プロセスのフローを示す。
ステップ１（回路設計）では半導体デバイスの回路設計
を行う。ステップ２（マスク製作）では設計した回路パ
ターンを形成したマスクを製作する。一方、ステップ３
（ウエハ製造）ではシリコン等の材料を用いてウエハを
製造する。ステップ４（ウエハプロセス）は前工程と呼
ばれ、上記用意したマスクとウエハを用いて、リソグラ
フィ技術によってウエハ上に実際の回路を形成する。次
のステップ５（組み立て）は後工程と呼ばれ、ステップ
４によって作製されたウエハを用いて半導体チップ化す
る工程であり、アッセンブリ工程（ダイシング、ボンデ
ィング）、パッケージング工程（チップ封入）等の組立
て工程を含む。ステップ６（検査）ではステップ５で作
製された半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テス
ト等の検査を行う。こうした工程を経て半導体デバイス
が完成し、これを出荷（ステップ７）する。前工程と後
工程はそれぞれ専用の別の工場で行い、これらの工場毎
に上記説明した遠隔保守システムによって保守がなされ
る。また前工程工場と後工程工場との間でも、インター
ネットまたは専用線ネットワークを介して生産管理や装
置保守のための情報がデータ通信される。

【００３７】図１１は上記ウエハプロセスの詳細なフロ
ーを示す。ステップ１１（酸化）ではウエハの表面を酸
化させる。ステップ１２（ＣＶＤ）ではウエハ表面に絶
縁膜を成膜する。ステップ１３（電極形成）ではウエハ
上に電極を蒸着によって形成する。ステップ１４（イオ
ン打込み）ではウエハにイオンを打ち込む。ステップ１
５（レジスト処理）ではウエハに感光剤を塗布する。ス
テップ１６（露光）では上記説明した露光装置によって
マスクの回路パターンをウエハに焼付露光する。ステッ
プ１７（現像）では露光したウエハを現像する。ステッ
プ１８（エッチング）では現像したレジスト像以外の部
分を削り取る。ステップ１９（レジスト剥離）ではエッ
チングが済んで不要となったレジストを取り除く。これ
らのステップを繰り返し行うことによって、ウエハ上に
多重に回路パターンを形成する。各工程で使用する製造
機器は上記説明した遠隔保守システムによって保守がな
されているので、トラブルを未然に防ぐと共に、もしト
ラブルが発生しても迅速な復旧が可能であり、従来に比
べて半導体デバイスの生産性を向上させることができ
る。

【００３８】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
コイル自体をヒートシンク状に形成して直接冷却液に浸
すため、冷却する表面積が大きく取れるので、コイルの
冷却効率が良いという効果がある。また、コイルにおけ
る永久磁石の磁石と対面しない部分のみをヒートシンク
状に形成するため、永久磁石をコイルから離す必要がな
いので、リニアモータの推力効率を落とすことはない。

【００３９】また、本発明に係るリニアモータを使用し
たＸＹ駆動テーブルは、冷却効率が高く、しかもリニア
モータの推力効率が高いので、発熱が少なく熱変形の少
ない高精密なものとすることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の実施形態に係るリニアモータの断面
図である。

【図２】 本発明の実施形態に係るリニアモータの電磁
コイルを示す外観斜視図である。

【図３】 本発明の実施形態に係るリニアモータの斜視
透視図である。

【図４】 従来例に係るリニアモータの斜視図である。

【図５】 図４のＡ−Ａ断面図である。

【図６】 他の従来例に係るリニアモータの断面図であ
る。

【図７】 本発明に係る装置を用いた半導体デバイスの
生産システムをある角度から見た概念図である。

【図８】 本発明に係る装置を用いた半導体デバイスの
生産システムを別の角度から見た概念図である。

【図９】 ユーザインタフェースの具体例である。

【図１０】 デバイスの製造プロセスのフローを説明す
る図である。

【図１１】 ウエハプロセスを説明する図である。

【符号の説明】

１：固定子、４（４ａ〜４ｅ）：電磁コイル、５：可動
子、６：天板、７：底板、８ａ，８ｂ：永久磁石、９
ａ，９ｂ：側板、１０：ジャケット、１１ａ，１１ｂ：
ジャケット内部、１５ａ，１５ｂ：真直溝、Ｂ：境界部
分、Ｃ：隙間、Ｈａ，Ｈｂ：ヒートシンク部（永久磁石
と対面しない部分）、Ｍ：永久磁石と対面する部分、１
０１：ベンダの事業所、１０２，１０３，１０４：製造
工場、１０５：インターネット、１０６：製造装置、１
０７：工場のホスト管理システム、１０８：ベンダ側の
ホスト管理システム、１０９：ベンダ側のローカルエリ
アネットワーク（ＬＡＮ）、１１０：操作端末コンピュ
ータ、１１１：工場のローカルエリアネットワーク（Ｌ
ＡＮ）、２００：外部ネットワーク、２０１：製造装置
ユーザの製造工場、２０２：露光装置、２０３：レジス
ト処理装置、２０４：成膜処理装置、２０５：工場のホ
スト管理システム、２０６：工場のローカルエリアネッ
トワーク（ＬＡＮ）、２１０：露光装置メーカ、２１
１：露光装置メーカの事業所のホスト管理システム、２
２０：レジスト処理装置メーカ、２２１：レジスト処理
装置メーカの事業所のホスト管理システム、２３０：成
膜装置メーカ、２３１：成膜装置メーカの事業所のホス
ト管理システム、４０１：製造装置の機種、４０２：シ
リアルナンバー、４０３：トラブルの件名、４０４：発
生日、４０５：緊急度、４０６：症状、４０７：対処
法、４０８：経過、４１０，４１１，４１２：ハイパー
リンク機能。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０２Ｋ 41/02 Ｈ０２Ｋ 3/04 Ｚ // Ｈ０２Ｋ 3/04 Ｈ０１Ｌ 21/30 ５０３Ａ Ｆターム(参考） 5F046 CC03 CC18 5H603 AA12 AA13 BB01 BB06 BB15 BB17 CA01 CA05 CB01 CC01 CD21 CE06 CE12 5H609 BB08 BB12 BB18 BB19 PP02 PP06 PP09 QQ02 QQ04 QQ11 QQ18 QQ23 RR32 RR33 RR62 RR63 RR72 5H641 BB10 GG02 GG06 GG08 GG12 HH03 HH05 JA07 JB05

Claims (12)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 電磁コイルと永久磁石を持つリニアモー
   タにおいて、前記電磁コイルにおける前記永久磁石の磁
   石と対面しない部分の電線自体をヒートシンク状に形成
   したことを特徴とするリニアモータ。
2. 【請求項２】 前記ヒートシンク状に形成した電線部分
   をジャケットで囲み、該ジャケットの中に冷却液を通し
   て前記電磁コイルを冷却することを特徴とする請求項１
   に記載のリニアモータ。
3. 【請求項３】 前記電磁コイルは箔コイルであることを
   特徴とする請求項１または２に記載のリニアモータ。
4. 【請求項４】 請求項１から３のいずれかに記載のリニ
   アモータを使用したことを特徴とするＸＹ駆動テーブ
   ル。
5. 【請求項５】 請求項４に記載のＸＹ駆動テーブルを有
   することを特徴とする露光装置。
6. 【請求項６】 請求項５に記載の露光装置を含む各種プ
   ロセス用の製造装置群を半導体製造工場に設置する工程
   と、該製造装置群を用いて複数のプロセスによって半導
   体デバイスを製造する工程とを有することを特徴とする
   半導体デバイス製造方法。
7. 【請求項７】 前記製造装置群をローカルエリアネット
   ワークで接続する工程と、前記ローカルエリアネットワ
   ークと前記半導体製造工場外の外部ネットワークとの間
   で、前記製造装置群の少なくとも１台に関する情報をデ
   ータ通信する工程とをさらに有することを特徴とする請
   求項６に記載の半導体デバイス製造方法。
8. 【請求項８】 前記露光装置のベンダもしくはユーザが
   提供するデータベースに前記外部ネットワークを介して
   アクセスしてデータ通信によって前記製造装置の保守情
   報を得る、もしくは前記半導体製造工場とは別の半導体
   製造工場との間で前記外部ネットワークを介してデータ
   通信して生産管理を行うことを特徴とする請求項７に記
   載の半導体デバイス製造方法。
9. 【請求項９】 請求項５に記載の露光装置を含む各種プ
   ロセス用の製造装置群と、該製造装置群を接続するロー
   カルエリアネットワークと、該ローカルエリアネットワ
   ークから工場外の外部ネットワークにアクセス可能にす
   るゲートウェイを有し、前記製造装置群の少なくとも１
   台に関する情報をデータ通信することを可能にしたこと
   を特徴とする半導体製造工場。
10. 【請求項１０】 半導体製造工場に設置された請求項５
    に記載の露光装置の保守方法であって、前記露光装置の
    ベンダもしくはユーザが、半導体製造工場の外部ネット
    ワークに接続された保守データベースを提供する工程
    と、前記半導体製造工場内から前記外部ネットワークを
    介して前記保守データベースへのアクセスを許可する工
    程と、前記保守データベースに蓄積される保守情報を前
    記外部ネットワークを介して半導体製造工場側に送信す
    る工程とを有することを特徴とする露光装置の保守方
    法。
11. 【請求項１１】 請求項５に記載の露光装置において、
    ディスプレイと、ネットワークインタフェースと、ネッ
    トワーク用ソフトウェアを実行するコンピュータとをさ
    らに有し、露光装置の保守情報をコンピュータネットワ
    ークを介してデータ通信することを可能にしたことを特
    徴とする露光装置。
12. 【請求項１２】 前記ネットワーク用ソフトウェアは、
    前記露光装置が設置された工場の外部ネットワークに接
    続され前記露光装置のベンダもしくはユーザが提供する
    保守データベースにアクセスするためのユーザインタフ
    ェースを前記ディスプレイ上に提供し、前記外部ネット
    ワークを介して該データベースから情報を得ることを可
    能にすることを特徴とする請求項１１に記載の露光装
    置。