JP2003004920A - Reflection plate and liquid crystal display device - Google Patents

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a high performance reflection plate easily controlling reflection characteristics of incident light and attaining desired scattering characteristics. SOLUTION: The reflection plate P is constructed by aligning a plurality of belt-like pieces 20 on a substrate 17, smoothly and continuously connecting the gaps between the neighboring belt-like pieces 20 with one another and forming a reflection layer 21 on the belt-like pieces 20 and is used for displaying.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【０００１】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は液晶表示装置など表
示用に用いる反射板ならびに反射型もしくは半透過型の
液晶表示装置に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a reflective plate used for display such as a liquid crystal display device and a reflective or semi-transmissive liquid crystal display device.

【０００２】[0002]

【従来の技術】近年、液晶表示装置は小型もしくは中型
の携帯情報端末やノートパソコンの他に、大型かつ高精
細のモニターにまで使用されている。さらにバックライ
トを使用しない反射型液晶表示装置の技術も開発されて
おり、薄型、軽量および低消費電力化に優れている。2. Description of the Related Art In recent years, liquid crystal display devices have been used not only for small or medium-sized portable information terminals and notebook computers, but also for large and high-definition monitors. Furthermore, the technology of a reflective liquid crystal display device that does not use a backlight has been developed, and is excellent in thinness, light weight, and low power consumption.

【０００３】反射型液晶表示装置には、後方に配設した
基板の内面に対し凹凸形状の光反射層を形成した散乱反
射型があるが、バックライトを用いないことで、周囲の
光を有効に利用している。The reflection type liquid crystal display device is of a scattering reflection type in which an uneven light reflection layer is formed on the inner surface of a substrate arranged at the rear, but it is possible to effectively use ambient light by not using a backlight. Are used for.

【０００４】また、光反射層に代えて、半透過膜を形成
し、バックライトを設け、反射モードや透過モードに使
い分ける半透過型液晶表示装置も開発されている。この
半透過型液晶表示装置についても、反射モードに使用す
ることで、反射型液晶表示装置であると言える。Also, a transflective liquid crystal display device has been developed in which a transflective film is formed in place of the light reflection layer, a backlight is provided, and a reflective mode or a transmissive mode is selectively used. It can be said that this semi-transmissive liquid crystal display device is also a reflective liquid crystal display device when used in the reflection mode.

【０００５】このような散乱反射型の液晶表示装置１と
して図２７に示す。液晶表示装置１において、ガラス基
板２の上に樹脂からなるほぼ半球状の凸部３を多数配列
することで、凸状配列群を形成し、凸状配列群上に金属
からなる光反射層４を被覆し、光反射層４上にカラーフ
ィルタ５を形成し、カラーフィルタ５の上にオーバーコ
ート層６を被覆し、オーバーコート層６上にＩＴＯなど
からなる透明電極７を帯状に複数配列し、さらに配向膜
８を被覆する。FIG. 27 shows such a scattering reflection type liquid crystal display device 1. In the liquid crystal display device 1, a large number of substantially hemispherical convex portions 3 made of resin are arranged on the glass substrate 2 to form a convex array group, and a light reflecting layer 4 made of metal is formed on the convex array group. To form a color filter 5 on the light reflection layer 4, cover the color filter 5 with an overcoat layer 6, and arrange a plurality of transparent electrodes 7 made of ITO or the like on the overcoat layer 6 in a strip shape. Then, the alignment film 8 is further covered.

【０００６】また、ガラス基板９上にＩＴＯなどからな
る透明電極１０を帯状に複数配列し、さらに配向膜１１
を被覆する。そして、双方の基板２、９を液晶１２を介
して対向配設し、液晶１２はシール部材１３により囲ま
れた領域内に充填され、ガラス基板９の外面に第１位相
差フィルム１４と第２位相差フィルム１５と偏光板１６
とを順次形成する。Further, a plurality of transparent electrodes 10 made of ITO or the like are arranged in a strip shape on the glass substrate 9, and the alignment film 11 is further formed.
To cover. Then, the two substrates 2 and 9 are arranged opposite to each other with the liquid crystal 12 interposed therebetween, and the liquid crystal 12 is filled in the region surrounded by the seal member 13, and the first retardation film 14 and the second retardation film 14 are provided on the outer surface of the glass substrate 9. Retardation film 15 and polarizing plate 16
And are sequentially formed.

【０００７】上記構成の液晶表示装置１においては、太
陽光や蛍光灯などの外光が偏光板１６、第１位相差フィ
ルム１４、第２位相差フィルム１５、さらにガラス基板
９などを通過し、液晶１２やカラーフィルタ５などを通
して光反射層４に到達し、その反射光が出射される。In the liquid crystal display device 1 having the above structure, external light such as sunlight or fluorescent light passes through the polarizing plate 16, the first retardation film 14, the second retardation film 15, the glass substrate 9 and the like, The light reaches the light reflection layer 4 through the liquid crystal 12 and the color filter 5, and the reflected light is emitted.

【０００８】しかしながら、この液晶表示装置１によれ
ば、ガラス基板２上に形成した凸状配列群は、その凸部
３が均等な半球状であることで、その散乱反射板は光学
的に等方な凹凸形状となり、これによって、不必要な光
散乱が多くなり、人が視認する方向とは別の方向にも散
乱されている。However, according to this liquid crystal display device 1, in the convex array group formed on the glass substrate 2, since the convex portions 3 have a uniform hemispherical shape, the scattering reflection plate is optically equal or the like. However, unnecessary light scattering increases, and the light is also scattered in a direction different from the direction visually recognized by a person.

【０００９】この課題を解消するために、上記散乱反射
板に対し非対称軸を有する凹部または凸部を形成した
り、傾斜角度分布を非対称にする技術が提案されている
（特開平１０−１７７１０６号参照）。In order to solve this problem, a technique has been proposed in which a concave portion or a convex portion having an asymmetric axis is formed on the scattering reflection plate or the inclination angle distribution is made asymmetrical (Japanese Patent Laid-Open No. 10-177106). reference).

【００１０】[0010]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この提
案の反射板によれば、ある程度の散乱特性の異方性はだ
すことはできたが、いまだ液晶表示装置を用いる使用者
にとって、その液晶パネルに対する横方向において、そ
の散乱を小さくすることはできず、表示画面の輝度が満
足し得る程度にまで至っておらず、さらに優れた視認性
が求められる。However, according to the proposed reflector, although the anisotropy of the scattering characteristic can be obtained to some extent, the user who uses the liquid crystal display device still has a problem with the liquid crystal panel. In the lateral direction, the scattering cannot be reduced, the brightness of the display screen has not reached a sufficient level, and further excellent visibility is required.

【００１１】しかも、この反射板においては、その製法
上、大変微細な凹凸形状に対し、さらに複雑に加工しな
ければならず、そのために散乱特性の制御がむずかしく
なり、製造歩留まりが低下する原因になっていた。Further, in this reflecting plate, due to the manufacturing method, it is necessary to further process the extremely fine uneven shape more complicatedly, which makes the control of the scattering characteristics difficult and causes the manufacturing yield to decrease. Was becoming.

【００１２】その上、近年、携帯電話や情報端末などの
携帯端末に用いる反射型液晶表示装置や半透過型液晶表
示装置においては、それを使用する者にとって、その入
射光の方角は重要な要件になっており、液晶パネルの小
型化に伴って見やすさは、市場の大きな評価基準になっ
ている。In addition, in recent years, in a reflective liquid crystal display device or a semi-transmissive liquid crystal display device used in a mobile terminal such as a mobile phone or an information terminal, the direction of the incident light is an important requirement for the user of the device. With the miniaturization of liquid crystal panels, legibility has become a major evaluation standard in the market.

【００１３】しかしながら、表示画面に対し、その斜め
上方から光入射することが多い携帯端末用液晶表示装置
において、いまだ十分に満足し得る程度にまで改善され
ていないと言える。However, it can be said that the liquid crystal display device for a mobile terminal, which often receives light from obliquely above the display screen, has not been sufficiently improved.

【００１４】したがって本発明の目的は、入射光の反射
特性を容易に制御し、所要とおりの散乱特性を達成した
高性能な反射板を提供することにある。Therefore, an object of the present invention is to provide a high-performance reflector which easily controls the reflection characteristics of incident light and achieves the required scattering characteristics.

【００１５】本発明の他の目的は、製造上のバラツキが
なく、製造歩留まりを高め、一定の優れた品質を達成し
た低コストの反射板を提供することにある。Another object of the present invention is to provide a low-cost reflector which has no manufacturing variations, has a high manufacturing yield, and has achieved a certain excellent quality.

【００１６】さらに本発明の他の目的は、かかる本発明
の反射板を用いて、入射光に対する反射性能や散乱性能
を高めることで、使用性能を高め、これによって、とく
に携帯端末などの小型液晶パネルに好適な高性能かつ低
コストな液晶表示装置を提供することにある。Still another object of the present invention is to improve the use performance by improving the reflection performance and the scattering performance with respect to the incident light by using the reflection plate of the present invention, and thereby the small liquid crystal such as a portable terminal. It is to provide a high-performance and low-cost liquid crystal display device suitable for a panel.

【００１７】[0017]

【課題を解決するための手段】本発明の反射板は、表示
用に使用するものであって、直交するＸ軸とＹ軸にて規
定した基板上のＹ軸方向にわたって一領域と他の領域と
を設け、一領域にてＸ軸方向に対し各々違う傾斜角にて
配する複数の直線状の帯状片を配列し、この配列パター
ンと対称的に他の領域にてＸ軸方向に対し各々違う傾斜
角にて配する複数の直線状の帯状片を配列し、これら帯
状片の上に光反射層を形成したことを特徴とする。The reflection plate of the present invention is used for display, and one region and another region are provided in a Y-axis direction on a substrate defined by orthogonal X-axis and Y-axis. Is provided, and a plurality of linear strips arranged at different inclination angles with respect to the X-axis direction are arranged in one area. It is characterized in that a plurality of linear strips arranged at different inclination angles are arranged, and a light reflection layer is formed on these strips.

【００１８】本発明の他の反射板は、隣接する前記帯状
片間を滑らかに連続に接続したことを特徴とする。Another reflection plate of the present invention is characterized in that the adjacent strips are connected smoothly and continuously.

【００１９】本発明のさらに他の反射板は、前記帯状片
の横断面形状が、その帯状の中心線に対し非対称に偏心
していることを特徴とする。Still another reflector of the present invention is characterized in that the cross-sectional shape of the strip is asymmetrically decentered with respect to the center line of the strip.

【００２０】本発明の液晶表示装置は、前記反射板を一
方基板として、液晶を介して他方の基板とで貼り合わ
せ、さらにマトリックス状に画素を配列形成して、反射
型もしくは半透過型に用いることを特徴とする。The liquid crystal display device of the present invention is used as a reflection type or a semi-transmission type by using the reflection plate as one substrate and adhering it to the other substrate via a liquid crystal, and further forming pixels in a matrix array. It is characterized by

【００２１】[0021]

【発明の実施の形態】以下、本発明を図面にて詳述す
る。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present invention will be described in detail below with reference to the drawings.

【００２２】（例１）反射板の製造方法 図１は本発明の反射板の製造方法を示し、（ａ）〜
（ｄ）は各工程である。(Example 1) Manufacturing Method of Reflecting Plate FIG. 1 shows a manufacturing method of the reflecting plate of the present invention.
(D) is each process.

【００２３】（ａ）工程 透明なガラス基板１７（厚さ0.55mm）上に感光性樹脂１
８を厚さ1.5±0.5μmで塗布する。次に、105±10℃で3
分間プリベークする。この感光性樹脂１８には、たとえ
ばＪＳＲ株式会社製のPC405Gを使用する。Step (a) The photosensitive resin 1 is formed on the transparent glass substrate 17 (thickness 0.55 mm).
8 is applied at a thickness of 1.5 ± 0.5 μm. Then, at 105 ± 10 ° C for 3
Prebake for a minute. As the photosensitive resin 18, for example, PC405G manufactured by JSR Corporation is used.

【００２４】（ｂ）工程 フォトマスク１９を用いて波長３６５ｎｍの紫外線光で
もってプロキシミティー露光する。図２（ａ）はフォト
マスク１９の平面図であり、（ｂ）は反射板の各ブロッ
クに対応するフォトマスクの要部拡大図であって、ガラ
ス基板などの透明基板上にＣｒ等で形成された遮光パタ
ーンＳを形成したものである。Step (b): Proximity exposure is performed using a photomask 19 with ultraviolet light having a wavelength of 365 nm. 2A is a plan view of the photomask 19, and FIG. 2B is an enlarged view of a main part of the photomask corresponding to each block of the reflection plate, which is formed of Cr or the like on a transparent substrate such as a glass substrate. The light shielding pattern S is formed.

【００２５】この遮光パターンＳによれば、直交するＸ
軸とＹ軸にて規定した基板上のＹ軸方向にわたって一領
域Ｐ１と他の領域Ｐ２とを設け、一領域Ｐ１にてＸ軸方
向に対し各々違う傾斜角にて配する複数の直線状の帯状
片を配列し、この配列パターンと対称的に他の領域Ｐ２
にてＸ軸方向に対し各々違う傾斜角にて配する複数の直
線状の帯状片を配列したものをアレー状に配列したもの
である。According to the light shielding pattern S, the X
An area P1 and another area P2 are provided in the Y-axis direction on the substrate defined by the axis and the Y-axis, and a plurality of linear shapes are arranged in the area P1 at different inclination angles with respect to the X-axis direction. Arrange the strips, and symmetrically with this arrangement pattern, another area P2
Is an array of a plurality of linear strips arranged at different inclination angles with respect to the X-axis direction.

【００２６】（ｃ）工程 次に現像と露光とベークとを行い、ガラス基板１７の上
に帯状片２０を形成する。すなわち、前工程のプロキシ
ミティー露光の光の周り込みを利用して、現像後には、
パターンの角がとれて、なめらかな曲面が得られる。現
像液には、ＪＳＲ製のPD523AD（濃度0.25±0.1％）を使
用し、50±10秒（20℃）の現像を行った。Step (c) Next, development, exposure and baking are performed to form the strip 20 on the glass substrate 17. That is, by utilizing the light wraparound in the proximity exposure of the previous step, after development,
The corners of the pattern can be removed and a smooth curved surface can be obtained. PD523AD (concentration 0.25 ± 0.1%) manufactured by JSR was used as a developing solution, and development was performed for 50 ± 10 seconds (20 ° C.).

【００２７】そして、全面露光を行い、感光性樹脂の未
反応成分をなくし、脱色を行い、その後、さらにポスト
ベーク220±10℃（15分）を行うことにより、樹脂を硬
化させる。Then, the entire surface is exposed to remove unreacted components of the photosensitive resin, decolorization is performed, and then post-baking 220 ± 10 ° C. (15 minutes) is performed to cure the resin.

【００２８】（ｄ）工程 しかる後に、帯状片２０の上にＡｌ，Ａｌ合金（たとえ
ば、ＡｌＣＭｇ，ＡｌＴｉ，ＡｌＮｄ）、Ａｇ合金（た
とえば、ＡｇＰｄ，ＡｇＰｄＣｕ，ＡｇＲｕＣｕ）など
から金属光反射層もしくは誘電体ミラーを成膜する。本
例では、ＡｇＰｄ膜を１５０ｎｍの厚みでもってスパッ
タリング法により成膜し、光反射層２１とした。After the step (d), a metal light reflection layer or a dielectric is formed on the strip 20 from Al, Al alloy (eg, AlCMg, AlTi, AlNd), Ag alloy (eg, AgPd, AgPdCu, AgRuCu). Film the mirror. In this example, an AgPd film having a thickness of 150 nm was formed by a sputtering method to form the light reflection layer 21.

【００２９】かくして（ａ）工程〜（ｄ）工程を経て本
発明の反射板Ｐが得られる。Thus, the reflection plate P of the present invention is obtained through the steps (a) to (d).

【００３０】反射板Ｐの構成 反射板Ｐの構成を図３に示す。同図（ａ）は反射板の平
面図であり、（ｂ）は同図（ａ）にて切断面線Ａ−Ａに
よる断面図、（ｃ）は同図（ａ）にて切断面線Ｂ−Ｂに
よる断面図である。 Structure of Reflector P The structure of the reflector P is shown in FIG. 9A is a plan view of the reflector, FIG. 9B is a sectional view taken along the line AA in FIG. 9A, and FIG. 9C is a sectional line B in FIG. It is sectional drawing by -B.

【００３１】図３の（ｂ）、（ｃ）から明らかなとお
り、帯状片２０には平坦部がなく滑らかに連続的な形状
となっている。したがって、この帯状片２０上の光反射
層２１についても、その形状は平坦部がなく滑らかに連
続的な構成である。As is apparent from FIGS. 3B and 3C, the strip 20 has no flat portion and has a smooth continuous shape. Therefore, the light-reflecting layer 21 on the strip 20 also has a smooth continuous structure without a flat portion.

【００３２】次に、この反射板Ｐの光学特性評価につい
て説明する。図４に示すように光反射層２１上に液晶層
を想定して、アクリル系合成樹脂などからなる屈折率n
＝1.5程度の樹脂２２を塗布し、さらにガラス基板２３
を貼り合わせることで、仮想の液晶パネル２４を構成
し、そして、測定は入射光を垂直方向から１５°傾けた
方向から入射し、３６０°回転しながら、受光部は垂直
方向で反射率測定を行う。Next, the evaluation of the optical characteristics of the reflector P will be described. As shown in FIG. 4, assuming a liquid crystal layer on the light reflection layer 21, a refractive index n made of acrylic synthetic resin or the like is used.
= About 1.5 resin 22 is applied, and glass substrate 23
A virtual liquid crystal panel 24 is configured by bonding the above. Then, the incident light is incident from a direction inclined by 15 ° from the vertical direction, and while rotating 360 °, the light receiving unit measures the reflectance in the vertical direction. To do.

【００３３】ここで、入射光の方向を決めるには、図５
に示すように、実際に液晶表示装置の使用者を見る向き
を考えて上下方向を設定し、液晶パネル２４の右方を０
°、上方を９０°、左方を１８０°、下方を２７０°と
規定する。Here, in order to determine the direction of the incident light, the direction shown in FIG.
As shown in, the vertical direction is set in consideration of the direction in which the user of the liquid crystal display device is actually viewed, and the right side of the liquid crystal panel 24 is set to 0.
The upper part is defined as 90 °, the upper part as 180 °, and the lower part as 270 °.

【００３４】反射板として図３に示す反射板Ｐと、従来
例の２種類の反射板を図６に示すように用意する。な
お、反射板の帯状片２０や凸状配列群は連続して滑らか
になっているので、同図に示す形状と寸法は、それを作
製するために用いるフォトマスクの遮光パターンにて示
す。As a reflector, a reflector P shown in FIG. 3 and two kinds of conventional reflectors are prepared as shown in FIG. Since the strip 20 and the convex array of the reflection plate are continuous and smooth, the shape and dimensions shown in the figure are shown by the light-shielding pattern of the photomask used for manufacturing the same.

【００３５】同図（a）は従来例（a）の反射板であっ
て、前述した液晶表示装置１に設けた散乱反射板と同構
成であり、反射板Ｐにおいて帯状片２０に代えて、凸部
が均等な半球状（円径：６μｍ）である凸状配列群を形
成したものである。FIG. 3A shows a reflector of the conventional example (a), which has the same structure as the scattering reflector provided in the liquid crystal display device 1 described above, and instead of the strip 20 in the reflector P, The convex arrays are formed so that the convex portions are even hemispheres (circular diameter: 6 μm).

【００３６】同図（ｂ）は従来例（b）の反射板であっ
て、円形の凸部である従来例（a）の反射板に対し、さ
らに楕円（長辺：短辺＝２：１）の凸部でもって凸状配
列群を形成したものである。この楕円の長辺は１２μ
ｍ、短辺は６μｍである。FIG. 2B shows a reflector of the conventional example (b), which is more elliptic (long side: short side = 2: 1) than the reflector of the conventional example (a) which is a circular convex portion. ), A convex array group is formed. The long side of this ellipse is 12μ
m, and the short side is 6 μm.

【００３７】そして、同図（ｃ）は本発明の反射板Ｐに
おける帯状片２０（帯幅：６μｍ）であり、その帯形状
を３とおりに変えることで、実施例１‐、実施例１‐
、実施例１‐を作製した。FIG. 3C shows a strip 20 (strip width: 6 μm) in the reflection plate P of the present invention. By changing the strip shape in three ways, Example 1-, Example 1-
, Example 1 was prepared.

【００３８】これら３種類の実施例１‐、‐、‐
については、下記のように区分している。These three types of Examples 1-,-,-
Are classified as follows.

【００３９】図７に示す帯状片２０（帯幅：６μｍ）の
帯状形状において、ｘ方向（帯状片２０の配列方向）に
対する傾き角度θを求める。そして、帯状形状の各部位
すべてにおいて、この傾き角度θを求め、分布を求めた
ものを、帯状形状の傾き角度分布とする。In the strip shape of the strip 20 (strip width: 6 μm) shown in FIG. 7, an inclination angle θ with respect to the x direction (arrangement direction of the strips 20) is obtained. Then, the inclination angle θ is obtained for each of the strip-shaped portions, and the distribution obtained is used as the inclination-angle distribution of the strip shape.

【００４０】図８〜１０は、その傾き角度分布図であ
る。これらの図の横軸は帯状形状の傾き角（度）であ
り、縦軸は帯状形状の各部位の存在する頻度（存在比
率）である。8 to 10 are inclination angle distribution charts thereof. The horizontal axis of these figures is the inclination angle (degree) of the strip shape, and the vertical axis is the frequency (presence ratio) of each portion of the strip shape.

【００４１】図８は実施例１‐の傾き角度分布を示
し、‐45°〜45°まで帯状形状の傾き角度分布が一定で
ある。図９は実施例１‐の傾き角度分布を示し、-60
°〜60°まで帯状形状の傾き角度分布が一定である。FIG. 8 shows the tilt angle distribution of Example 1 in which the band-shaped tilt angle distribution is constant from -45 ° to 45 °. FIG. 9 shows the tilt angle distribution of Example 1--60
The belt-shaped inclination angle distribution is constant from ° to 60 °.

【００４２】また、図１０は実施例１‐の傾き角度分
布を示し、‐90°〜0°までは帯状形状の傾き角度分布
が一定の傾きで増加し、0°〜90°までは帯状形状の傾
き角度分布が一定の傾きで減少している。FIG. 10 shows the inclination angle distribution of Example 1 in which the belt-shaped inclination angle distribution increases at a constant inclination from -90 ° to 0 ° and the belt-shaped inclination angle distribution from 0 ° to 90 °. The inclination angle distribution of is decreasing at a constant inclination.

【００４３】以上のように実施例１‐、実施例１‐
、実施例１‐の３種類の本発明の反射板と、従来例
（a）の反射板と、従来例（b）の反射板を作製し、これ
らを図４に示す光学特性評価方法でもって反射特性を測
定すると、図１１〜図１３に示すような結果が得られ
た。As described above, Example 1-, Example 1-
The three types of reflectors of the present invention of Example 1-, the reflector of the conventional example (a), and the reflector of the conventional example (b) were prepared, and these were evaluated by the optical characteristic evaluation method shown in FIG. When the reflection characteristics were measured, the results shown in FIGS. 11 to 13 were obtained.

【００４４】図１１は実施例１‐の反射板の測定結果
であり、比較例として従来例（a）（b）の各反射板の測
定結果も示す。FIG. 11 shows the measurement results of the reflection plate of Example 1 and also shows the measurement results of the reflection plates of the conventional examples (a) and (b) as a comparative example.

【００４５】同図から明らかなとおり、従来例（a）で
は入射する方向に依存せず、0°〜360°にわたって一定
であり、従来例（b）においては、楕円の長辺方向が、
その短辺方向に比べて、反射する面積が大きくなり、そ
の分、明るくなり、これにより、長辺方向付近では、従
来例（a）の如き円パターンに比べ明るい反射率となっ
ている。As is apparent from the figure, the conventional example (a) does not depend on the incident direction and is constant over 0 ° to 360 °, and in the conventional example (b), the long side direction of the ellipse is
The reflection area is larger than that in the short side direction, and the area becomes brighter accordingly, so that the reflectance is brighter in the vicinity of the long side direction than the circular pattern as in the conventional example (a).

【００４６】これに対し、実施例１‐では、画面に対
する視認者における横方向（左右方向）にて不用となる
ようにしている。すなわち、反射・半透過型パネルを使
用する場合、入射光は横方向に比べて上方向から入射す
ることが多く、そのために上方向からの入射光がより有
効に利用されるようにするのがよいが、そこで、横方向
の散乱や反射をほぼゼロにして、その分を上方向の散乱
や反射に上乗せさせている。On the other hand, in the first embodiment, it is not necessary for the viewer in the lateral direction (horizontal direction) with respect to the screen. That is, when a reflective / semi-transmissive panel is used, incident light is often incident from above as compared with the lateral direction, and therefore the incident light from above is used more effectively. It is good, however, so that the scattering and reflection in the lateral direction are set to almost zero, and the amount is added to the scattering and reflection in the upward direction.

【００４７】さらに詳しく述べると、図７に示す如く傾
き角度θ４５°以上になるような傾斜部分がほとんどな
いため、０±４５°、１８０±４５°の範囲で、反射率
がほぼ０となっている。この分が、４５〜１３５°、２
２５〜３１５°の部分にて上乗せとなり、従来例（a）
に比べて光利用効率が２倍程度高まっていることがわか
る。More specifically, as shown in FIG. 7, since there is almost no inclined portion having an inclination angle θ of 45 ° or more, the reflectance is almost 0 in the range of 0 ± 45 ° and 180 ± 45 °. There is. This amount is 45-135 °, 2
It is added at the portion of 25 to 315 °, and the conventional example (a)
It can be seen that the light utilization efficiency is about twice as high as that of.

【００４８】図１２は実施例１‐の反射板の測定結果
であり、図１３は実施例１‐の反射板の測定結果であ
り、同様に比較例として従来例（a）（b）の各反射板の
測定結果も示す。FIG. 12 shows the measurement results of the reflector of Example 1-, and FIG. 13 shows the measurement results of the reflector of Example 1-. Similarly, each of Comparative Examples (a) and (b) is shown as a comparative example. The measurement results of the reflector are also shown.

【００４９】実施例１−は、図７に示す如く傾き角度
θが６０°以上に傾いた部分がないため、０±３０°、
１８０±３０°の範囲で、反射率がほぼ０となってい
る。この分が、３０〜１５０°、２１０〜３３０°の部
分にて上乗せとなり、従来例（a）に比べて光利用効率
が１．５倍程度高まっていることがわかる。In Example 1-, as shown in FIG. 7, there is no portion where the tilt angle θ is more than 60 °, so that 0 ± 30 °,
The reflectance is almost 0 in the range of 180 ± 30 °. This amount is added to the portion of 30 to 150 °, 210 to 330 °, and it is understood that the light use efficiency is increased by about 1.5 times as compared with the conventional example (a).

【００５０】実施例１−の場合は、０°〜９0°の範
囲では、反射率が従来例（a）に比べ、ゼロから２倍と
一定の傾きで大きくなり、９０°〜１８０°の範囲で
は、反射率が従来例（a）に比べ、２倍からゼロと一定
の傾きで小さくなり、１８０°〜２７０°の範囲では、
反射率が従来例（a）に比べ、ゼロから２倍と一定の傾
きで大きくなり、９０°〜１８０°の範囲では、反射率
が従来例（a）に比べ、２倍からゼロと一定の傾きで小
さくなっている。In the case of Example 1-, the reflectance increases from zero to twice in a constant inclination in the range of 0 ° to 90 ° in comparison with the conventional example (a), and in the range of 90 ° to 180 °. Then, the reflectance is smaller than that of the conventional example (a) with a constant inclination from 2 times to zero, and in the range of 180 ° to 270 °,
Compared with the conventional example (a), the reflectance increases from 0 to 2 times with a constant inclination, and in the range of 90 ° to 180 °, the reflectance is constant from 2 times to zero as compared with the conventional example (a). It is getting smaller due to the inclination.

【００５１】かくして本発明の反射板Ｐによれば、帯状
片２０の帯状形状の傾き角度分布を制御することによっ
て、容易に入射方向の反射特性を制御することができ
る。また、この帯状形状の傾き角度分布は、フォトマス
クの設計により決定されることで、その分布には製造上
のバラツキがなく、一定の優れた品質が達成できた。Thus, according to the reflection plate P of the present invention, the reflection characteristic in the incident direction can be easily controlled by controlling the inclination angle distribution of the strip shape of the strip 20. In addition, the inclination angle distribution of the strip shape is determined by the design of the photomask, so that there is no manufacturing variation in the distribution and a certain excellent quality can be achieved.

【００５２】反射板の他の製造方法 反射板の他の２つの製造方法をそれぞれ図１４と図１５
により説明する。図１４に示す反射板の製造方法におい
て、（ａ）〜（ｅ）は各工程である。 Other Method of Manufacturing Reflector Plate Two other methods of manufacturing the reflector plate are shown in FIGS. 14 and 15, respectively.
Will be described. In the manufacturing method of the reflector shown in FIG. 14, (a) to (e) are respective steps.

【００５３】（ａ）工程 透明なガラス基板２５（厚さ0.55mm）上にＪＳＲ製の感
光性樹脂２６（PC405G）を厚さ0.5±0.2μmで塗布す
る。次にこの樹脂を105±10℃で3分間プリベークする。Step (a) A JSR-made photosensitive resin 26 (PC405G) having a thickness of 0.5 ± 0.2 μm is applied onto a transparent glass substrate 25 (having a thickness of 0.55 mm). The resin is then pre-baked at 105 ± 10 ° C for 3 minutes.

【００５４】（ｂ）工程 フォトマスクを用いてステッパ−にて露光する。一例と
して図２に示しているようにＣｒ等で形成された遮光パ
ターンＳを形成したフォトマスク１９を使用してもよ
い。この遮光パターンＳは、多数の帯状片により構成さ
れる。Step (b) Exposure is performed with a stepper using a photomask. As an example, as shown in FIG. 2, a photomask 19 having a light shielding pattern S formed of Cr or the like may be used. The light shielding pattern S is composed of a large number of strips.

【００５５】（ｃ）工程 次に現像によりガラス基板２５の上に断面が矩形型のパ
ターンの帯状片２７を形成する。Step (c) Next, a strip 27 having a rectangular cross section is formed on the glass substrate 25 by development.

【００５６】現像液には、ＪＳＲ製のPD523AD（濃度0.2
5±0.1％）を使用し、現像時間は50±10秒（25℃）であ
る。As the developing solution, PD523AD (concentration 0.2
5 ± 0.1%) and the development time is 50 ± 10 seconds (25 ° C.).

【００５７】（ｄ）工程 次に、基板全面に透明樹脂２８（ＪＳＲ製ＮＮ５２５）
を１μｍの膜厚で塗布を行い、１００±１０℃でプリベ
ークを行い、これにより、帯状片２７の矩形型パターン
が滑らかに連続的となった。さらに、ポストベーク220
±10℃（15分）を行うことにより、透明樹脂２８が硬化
する。(D) Step Next, a transparent resin 28 (NN525 made by JSR) is formed on the entire surface of the substrate.
Was applied in a film thickness of 1 μm and prebaked at 100 ± 10 ° C., whereby the rectangular pattern of the strip 27 became smooth and continuous. In addition, Post Bake 220
By carrying out ± 10 ° C. (15 minutes), the transparent resin 28 is cured.

【００５８】（ｅ）工程 前工程により得られた帯状片２７の上にＡｌ，Ａｌ合金
（たとえば、ＡｌＣＭｇ，ＡｌＴｉ，ＡｌＮｄ）、Ａｇ
合金（たとえば、ＡｇＰｄ，ＡｇＰｄＣｕ，ＡｇＲｕＣ
ｕ，ＡｇＣｕＡｕ）などから金属光反射層もしくは誘電
体ミラーからなる光反射層２９を成膜する。本例では、
ＡｇＰｄ膜を１５０ｎｍの膜厚にてスパッタにより成膜
した。(E) Step Al, Al alloy (for example, AlCMg, AlTi, AlNd), Ag on the strip 27 obtained in the previous step
Alloys (eg AgPd, AgPdCu, AgRuC
u, AgCuAu) or the like to form a light reflecting layer 29 made of a metal light reflecting layer or a dielectric mirror. In this example,
An AgPd film having a film thickness of 150 nm was formed by sputtering.

【００５９】かくして（ａ）工程〜（ｅ）工程を経て得
られた本発明の反射板においては、帯状片２７には平坦
部がなく滑らかに連続的な形状となり、これによって透
明樹脂２８の表面も平坦部がなく連続的に滑らかになっ
ており、その上の光反射層２９についても、同様に滑ら
かに連続的な構成になっている。Thus, in the reflection plate of the present invention obtained through the steps (a) to (e), the strip 27 has no flat portion and has a smooth and continuous shape, whereby the surface of the transparent resin 28 is formed. Also has no flat portion and is continuously smooth, and the light reflecting layer 29 thereon is also similarly smooth and continuous.

【００６０】また、図１５に示す反射板の製造方法にお
いては、（ａ）〜（ｄ）は各工程からなる。Further, in the method of manufacturing the reflection plate shown in FIG. 15, (a) to (d) consist of respective steps.

【００６１】（ａ）工程 透明なガラス基板３０（厚さ0.55mm）上にＵＶ硬化樹脂
３１を厚さ0.5±0.2μmで塗布する。次に１００±１０
℃で３分間プリベークする。この樹脂３１に対し所望な
帯状形状が形成された型３２でもって押圧する （ｂ）工程 次に紫外線光（ＵＶ光）をガラス基板３０を通して露光
量１００±３０ｍＪ／ｃｍ²でもって照射し、これによ
り、ＵＶ硬化樹脂３１を硬化させる。Step (a) A UV curable resin 31 is applied to a transparent glass substrate 30 (thickness 0.55 mm) to a thickness of 0.5 ± 0.2 μm. Next 100 ± 10
Pre-bake at ℃ for 3 minutes. Step (b) of pressing the resin 31 with a mold 32 having a desired strip shape. Next, ultraviolet light (UV light) is irradiated through the glass substrate 30 with an exposure amount of 100 ± 30 mJ / cm ² , Thus, the UV curable resin 31 is cured.

【００６２】（ｃ）工程 型３２をガラス基板３０より剥がし双方を分離すること
で、所望な帯状形状の帯状片３３が得られる。(C) The mold 32 is peeled off from the glass substrate 30 to separate the two, so that a strip 33 having a desired strip shape can be obtained.

【００６３】（ｄ）工程 そして、帯状片３３の上にＡｌ，Ａｌ合金（たとえば、
ＡｌＣＭｇ，ＡｌＴｉ，ＡｌＮｄ）、Ａｇ合金（たとえ
ば、ＡｇＰｄ，ＡｇＰｄＣｕ，ＡｇＲｕＣｕ，ＡｇＣｕ
Ａｕ）などから金属光反射層もしくは誘電体ミラーを成
膜し光反射層３４とする。本例では、ＡｇＰｄ膜を１５
０ｎｍの厚みでもってスパッタリングにより成膜した。(D) Step Then, Al, Al alloy (for example,
AlCMg, AlTi, AlNd), Ag alloy (for example, AgPd, AgPdCu, AgRuCu, AgCu)
A metal light reflecting layer or a dielectric mirror is formed from Au) or the like to form the light reflecting layer 34. In this example, the AgPd film is 15
A film was formed by sputtering with a thickness of 0 nm.

【００６４】かくして（ａ）工程〜（ｄ）工程を経て得
られた本発明の反射板においては、帯状片３３は型３２
の構成にしたがって、平坦部がなく滑らかに連続的な形
状となり、その上の光反射層３４についても、同様に滑
らかに連続的な構成になっている。Thus, in the reflector of the present invention obtained through the steps (a) to (d), the strip-shaped piece 33 is the mold 32.
In accordance with the above configuration, there is no flat portion and the shape is smooth and continuous, and the light reflection layer 34 thereon is also similarly smooth and continuous.

【００６５】（例２） （例１）に示す反射板は、帯状片の横断面形状が、その
帯部の中心線に対しほぼ対称になっているが、これに代
えて、そのような帯状片の横断面形状が、その帯部の中
心線に対し非対称に偏心させている。(Example 2) In the reflection plate shown in (Example 1), the cross-sectional shape of the strip is substantially symmetrical with respect to the center line of the strip. The cross-sectional shape of the strip is eccentrically asymmetric with respect to the center line of the strip.

【００６６】この反射板の製造方法は、前述した図１に
示す工程と基本的には同じであり、以下、図１を引用し
て各工程を述べる。The manufacturing method of this reflector is basically the same as the step shown in FIG. 1 described above, and each step will be described below with reference to FIG.

【００６７】（ａ）工程 透明なガラス基板１７（厚さ0.55mm）上に感光性樹脂１
８を厚さ1.5±0.5μmで塗布する。次に、105±10℃で3
分間プリベークする。この感光性樹脂１８には、たとえ
ばＪＳＲ製のPC405Gを使用する。Step (a) The photosensitive resin 1 is formed on the transparent glass substrate 17 (thickness 0.55 mm).
8 is applied at a thickness of 1.5 ± 0.5 μm. Then, at 105 ± 10 ° C for 3
Prebake for a minute. As the photosensitive resin 18, for example, PC405G manufactured by JSR is used.

【００６８】（ｂ）工程 図２に示すフォトマスクとは遮光パターンが異なるフォ
トマスク１９を用いて波長３６５ｎｍの紫外線光でもっ
てプロキシミティー露光する。(B) Process Proximity exposure is performed using a photomask 19 having a light-shielding pattern different from that of the photomask shown in FIG. 2 with ultraviolet light having a wavelength of 365 nm.

【００６９】図１６（ａ）はこのフォトマスク１９の平
面図であり、ガラス基板などの透明基板上にＣｒ等で形
成された遮光パターンＳを形成したものである。（ｂ）
は反射板の各ブロックに対応するフォトマスクの要部拡
大図である。FIG. 16A is a plan view of this photomask 19, in which a light shielding pattern S made of Cr or the like is formed on a transparent substrate such as a glass substrate. (B)
FIG. 4 is an enlarged view of a main part of a photomask corresponding to each block of a reflection plate.

【００７０】この遮光パターンＳによれば、多数の帯状
片からなり、各帯状片の片側には、多数の短冊状部が付
与されている。これを図１７に示す。According to this light-shielding pattern S, it is composed of a large number of strip-shaped pieces, and a large number of strip-shaped portions are provided on one side of each strip-shaped piece. This is shown in FIG.

【００７１】同図（a）は遮光パターンＳの要部拡大図
であり、（ｂ）は図１７（a）のフォトマスクを用いて
作製した帯状片を示す概要平面図である。また、（ｃ）
は図１７（ｂ）に示す切断面線――による断面図
である。FIG. 17A is an enlarged view of a main part of the light-shielding pattern S, and FIG. 17B is a schematic plan view showing a strip-shaped piece manufactured using the photomask of FIG. Also, (c)
FIG. 18 is a cross-sectional view taken along the section line--shown in FIG.

【００７２】図１７（ａ）に示す遮光パターンＳにおい
ては、各直線形状の帯状片の一方側の辺には、無数の
短冊状の形状が付与され、これにより、その片側の辺
側の解像度を落とし、他側の辺側の解像度と差をつけ
ている。In the light-shielding pattern S shown in FIG. 17A, innumerable strip-shaped shapes are provided on one side of each linear strip, whereby the resolution on one side of the strip is provided. To reduce the resolution on the other side.

【００７３】図１７（ｃ）の断面−における断面図
からもわかるように、凹凸のピークの位置を側に近づ
けている。As can be seen from the sectional view in the section of FIG. 17 (c), the peak position of the unevenness is closer to the side.

【００７４】なお、このような遮光パターンは短冊状に
限定されるものではなく、その他の様々な形状にしても
よい。たとえば、図１８に示すように、（ａ）帯状部の
片側に無数の三角形を配置したり、（ｂ）三角形状体を
帯状に配置して、帯状部をなくしたものであってもよ
い。It should be noted that such a light-shielding pattern is not limited to the strip shape, and may have various other shapes. For example, as shown in FIG. 18, (a) innumerable triangles may be arranged on one side of the band-shaped portion, or (b) triangle-shaped bodies may be arranged in a band-like shape to eliminate the band-shaped portion.

【００７５】以下、このようになる理由について説明す
る。フォトマスクのの位置では、遮光パターン間が広
くとられているため、普通にしっかり露光される。の
位置では、微細な短冊状形状が狭い間隔で配置されてい
るため、光の周りこみにより、よりは弱く露光され
る。の位置では、短冊状形状と太い直線状形状からの
影響により、よりさらに弱く露光される。の位置、
つまり、太い直線状形状の中心付近では、光の周り込み
の影響を最も受けづらいため、露光量が最も弱くなる。The reason for this will be described below. At the position of the photomask, a wide space is provided between the light-shielding patterns, so that the exposure is normally firm. At the position of, since the fine strip-shaped shapes are arranged at a narrow interval, the light is exposed more weakly due to the surrounding of the light. At the position of, the exposure is weaker due to the influence of the strip shape and the thick linear shape. Position of,
That is, in the vicinity of the center of the thick linear shape, the influence of the light wraparound is the least likely, and the exposure amount is the weakest.

【００７６】したがって、露光量の強弱を順に並べると
＞＞＞となるため、現像後のレジスト樹脂の残
膜としては、＜＜＜となり、実際の凹凸断面図
の高低差の順ａ＜ｂ＜ｃ＜ｄ＜ｆと一致する。Therefore, when the exposure doses are arranged in order, >>>, so that the residual film of the resist resin after development is <<<<, and the order of the height difference a <b <in the actual uneven sectional view is shown. Matches c <d <f.

【００７７】（ｃ）工程 次に現像と露光とベークとを行い、ガラス基板１７の上
に帯状片２０を形成する。Step (c) Next, development, exposure and baking are performed to form the strip 20 on the glass substrate 17.

【００７８】すなわち、前工程のプロキシミティー露光
の光の周り込みを利用して、現像後には、パターンの角
がとれて、なめらかな曲面が得られる。現像液には、Ｊ
ＳＲ製のPD523AD（0.25±0.1％）を使用し、50±10秒
（20℃）の現像を行った。That is, by utilizing the light wrapping around in the proximity exposure of the previous step, the corners of the pattern are removed and a smooth curved surface is obtained after the development. For the developer, J
Development was performed for 50 ± 10 seconds (20 ° C.) using SR PD523AD (0.25 ± 0.1%).

【００７９】そして、全面露光を行い、感光性樹脂の未
反応成分をなくし、脱色を行い、その後、さらにポスト
ベーク220±10℃（15分）を行うことにより、樹脂を硬
化させる。Then, the entire surface is exposed to remove unreacted components of the photosensitive resin, decolorization is performed, and then post-baking 220 ± 10 ° C. (15 minutes) is performed to cure the resin.

【００８０】（ｄ）工程 しかる後に、帯状片２０の上にＡｌ，Ａｌ合金（たとえ
ば、ＡｌＣＭｇ，ＡｌＴｉ，ＡｌＮｄ）、Ａｇ合金（た
とえば、ＡｇＰｄ，ＡｇＰｄＣｕ，ＡｇＲｕＣｕ，Ａｇ
ＣｕＡｕ）などから金属光反射層もしくは誘電体ミラー
を成膜する。本例では、ＡｇＰｄ膜を１５０ｎｍの厚み
でもってスパッタリング法により成膜し、光反射層２１
とした。After the step (d), Al, Al alloy (for example, AlCMg, AlTi, AlNd) and Ag alloy (for example, AgPd, AgPdCu, AgRuCu, Ag) are formed on the strip 20.
A metal light reflection layer or a dielectric mirror is formed from CuAu) or the like. In this example, an AgPd film having a thickness of 150 nm is formed by a sputtering method, and the light reflection layer 21 is formed.
And

【００８１】かくして（ａ）工程〜（ｄ）工程を経て本
発明の反射板Ｐが得られる。Thus, the reflecting plate P of the present invention is obtained through the steps (a) to (d).

【００８２】次に、このようにして作製した反射板Ｐの
光学特性評価を（例１）にて図４と図５に示す方法でも
って行った。Next, the optical characteristics of the thus-produced reflector P were evaluated by the method shown in FIGS. 4 and 5 in (Example 1).

【００８３】この反射板には、図１９に示すように３種
類の反射板における各フォトマスクの遮光パターンであ
る。As shown in FIG. 19, this reflecting plate is a light-shielding pattern of each photomask in three types of reflecting plates.

【００８４】同図（ａ）は図６（ａ）に示す従来例
（ａ）の反射板のパターンであり、図１９の（ｃ）は図
６（ｃ）の反射板であって、（例１）の反射板Ｐにおけ
る帯状片２０であり、図１９の(d)は本例の反射板Ｐに
おける帯状片２０である。なお、反射板の帯状片２０や
凸状配列群は連続して滑らかになっているので、同図に
示す形状と寸法は、それを作製するために用いるフォト
マスクの遮光パターンにて示す。6A shows the pattern of the reflector of the conventional example (a) shown in FIG. 6A, and FIG. 19C shows the reflector of FIG. 6C. 1) The strip 20 on the reflection plate P, and FIG. 19D is the strip 20 on the reflection plate P of this example. Since the strip 20 and the convex array of the reflection plate are continuous and smooth, the shape and dimensions shown in the figure are shown by the light-shielding pattern of the photomask used for manufacturing the same.

【００８５】図１９(d)は本発明の反射板Ｐにおける帯
状片２０（帯幅：６μｍ）であり、その短冊状形状を３
とおりに変えることで、図２０に示すように実施例２‐
、実施例２‐、実施例２‐を作製した。これら各
例とも帯状片の傾き角度分布が‐60°〜60°にわたって
一定である実施例１―と同じものを用いた。FIG. 19 (d) shows a strip 20 (strip width: 6 μm) in the reflection plate P of the present invention, the strip shape of which is 3
As shown in FIG.
Example 2 and Example 2 were prepared. In each of these examples, the same one as in Example 1 in which the inclination angle distribution of the strip was constant over −60 ° to 60 ° was used.

【００８６】図２０（ａ）に示す実施例２―において
は、実施例１−の帯状片に対し、長さ３μｍ、幅４μ
ｍの多数の短冊状部が４μｍ間隔で配置されている。In Example 2 shown in FIG. 20 (a), the length is 3 μm and the width is 4 μm with respect to the strip of Example 1-.
A large number of strip-shaped portions of m are arranged at intervals of 4 μm.

【００８７】同図（ｂ）に示す実施例２―では、実施
例１−の帯状片に、長さ６μｍ、幅４μｍの多数の短
冊状部が４μｍ間隔で配置されている。In Example 2-shown in FIG. 7B, a large number of strip-shaped portions having a length of 6 μm and a width of 4 μm are arranged at intervals of 4 μm on the strip-shaped piece of Example 1-.

【００８８】同図（ｃ）に示す実施例２―では、実施
例１−の帯状片に、長さ９μｍ、幅４μｍの多数の短
冊状部が４μｍ間隔で配置されている。In Example 2-shown in FIG. 7C, a large number of strip-shaped portions each having a length of 9 μm and a width of 4 μm are arranged at intervals of 4 μm on the strip-shaped piece of Example 1-.

【００８９】以上のように実施例２‐、実施例２‐
、実施例２‐の３種類の本発明の反射板と、前述し
た実施例１‐と、従来例（a）の反射板とを作製し、
これらを図４に示す光学特性評価方法でもって反射特性
を測定すると、図２１〜図２３に示すような結果が得ら
れた。As described above, Example 2-, Example 2-
The three types of reflectors of the present invention of Example 2-, the above-mentioned Example 1-, and the reflector of the conventional example (a) were prepared,
When the reflection characteristics of these were measured by the optical characteristic evaluation method shown in FIG. 4, the results shown in FIGS. 21 to 23 were obtained.

【００９０】図２１は実施例２‐の反射板の測定結果
であり、比較例の従来例（a）と参考例の実施例１‐
の各反射板の測定結果も示す。FIG. 21 shows the measurement results of the reflector of Example 2-, that is, the conventional example (a) of the comparative example and Example 1- of the reference example.
The measurement results of the respective reflection plates of are also shown.

【００９１】図２２は実施例２‐の反射板の測定結果
を、図２３は実施例２‐の反射板の測定結果を示す。FIG. 22 shows the measurement results of the reflector of Example 2-, and FIG. 23 shows the measurement results of the reflector of Example 2-.

【００９２】これらの各図から明らかなとおり、従来例
（a）においては、入射する方向に依存せず、０°〜３
６０°にわたって一定であるが、これに対し、実施例１
‐、ならびに実施例２‐、実施例２‐、実施例２
‐は、ともに図７に示す如く傾き角度θが６０°以上
に傾いた部分がほとんどないため、０±３０°、１８０
±３０°の範囲で、反射率がほぼ０となっていて、３０
〜１５０°、２１０〜３３０°の部分のみが存在するこ
とがわかる。As is clear from each of these figures, in the conventional example (a), 0 ° to 3 ° is independent of the incident direction.
It is constant over 60 °, whereas Example 1
-, And Example 2-, Example 2-, Example 2
As for-, there is almost no part where the tilt angle θ is more than 60 ° as shown in FIG. 7, so 0 ± 30 °, 180 °
In the range of ± 30 °, the reflectance is almost 0,
It can be seen that only the portions of 150 °, 210 ° and 330 ° are present.

【００９３】また、図２１によれば、実施例２‐と実
施例１‐とを対比するに、実施例１−では３０〜１
５０°と２１０〜３３０°の各範囲において、双方とも
反射率が同じ大きさである。しかしながら、実施例２‐
においては、２１０〜３３０°の範囲に比べ３０〜１
５０°の範囲の方が反射率が大きくなっている。Further, according to FIG. 21, in contrast to Example 2-and Example 1-, in Example 1-
In the respective ranges of 50 ° and 210 to 330 °, both have the same reflectance. However, Example 2-
Is 30 to 1 in comparison with the range of 210 to 330 °
The reflectance is higher in the range of 50 °.

【００９４】図２２においても、実施例１−では３０
〜１５０°と２１０〜３３０°の各範囲において、双方
とも反射率が同じ大きさであるが、実施例２‐におい
ては、２１０〜３３０°の範囲に比べ３０〜１５０°の
範囲の方が反射率が大きくなっている。Also in FIG. 22, in Example 1-30
In the respective ranges of ˜150 ° and 210˜330 °, both have the same reflectance, but in Example 2-, the range of 30˜150 ° is more reflective than the range of 210˜330 °. The rate is increasing.

【００９５】図２３においても、実施例１−では３０
〜１５０°と２１０〜３３０°の各範囲において、双方
とも反射率が同じ大きさであるが、実施例２‐におい
ては、２１０〜３３０°の範囲に比べ３０〜１５０°の
範囲の方が反射率が大きくなっている。Also in FIG. 23, in Example 1-30
In the respective ranges of ˜150 ° and 210˜330 °, both have the same reflectance, but in Example 2-, the range of 30˜150 ° is more reflective than the range of 210˜330 °. The rate is increasing.

【００９６】さらにまた、３０〜１５０°の反射率につ
いては、実施例２‐、実施例２‐、実施例２‐と
の間で比べても、実施例２‐＜実施例２‐＜実施例
２‐の順で大きくなる。すなわち、帯状片に付加した
多数の短冊状部の長さが大きくなるにしたがって、３０
〜１５０°の範囲での反射率が大きくなる。Further, regarding the reflectance of 30 to 150 °, the comparison between Example 2-, Example 2-, and Example 2--Example 2- <Example 2- <Example- It increases in the order of 2-. That is, as the length of many strip-shaped portions added to the strip increases,
The reflectance increases in the range of up to 150 °.

【００９７】かくして本発明の反射板Ｐによれば、帯状
片に付加する形状によって、０°〜１８０°の範囲と１
８０°〜３６０°の範囲とに対し、双方の間にて反射率
の比率を変えることができ、加えて反射率の程度も変え
ることができる。Thus, according to the reflecting plate P of the present invention, depending on the shape to be added to the strip, the range from 0 ° to 180 ° and 1 can be obtained.
It is possible to change the reflectance ratio between the two and the degree of the reflectance in the range of 80 ° to 360 °.

【００９８】（例３） （例１）と（例２）の各反射板Ｐを液晶表示装置に使用
する場合を説明する。(Example 3) A case where each of the reflectors P of (Example 1) and (Example 2) is used in a liquid crystal display device will be described.

【００９９】図２４はこの液晶表示装置５４の断面図で
ある。この液晶表示装置５４はカラー表示用の反射型で
あり、５５はコモン側のガラス基板（０．５５ｍｍ
厚）、５６はセグメント側のガラス基板（０．５５ｍｍ
厚）であって、ガラス基板５５の一主面上にアクリル系
樹脂材などからなる樹脂でもって前記帯状片である帯状
凸部５７を多数配列し、この帯状凸状配列群上に銀合金
ＡｇｘＰｄｙ（ｘ=99.0 ｙ=1.0）からなる膜でもって厚
み１５０ｎｍの光反射層５８を被覆している。FIG. 24 is a sectional view of the liquid crystal display device 54. The liquid crystal display device 54 is a reflection type for color display, and 55 is a glass substrate (0.55 mm) on the common side.
Thickness), 56 is a glass substrate (0.55 mm) on the segment side.
Thickness), a large number of strip-shaped convex portions 57, which are the strip-shaped pieces, are arranged on one main surface of the glass substrate 55 with a resin such as an acrylic resin material, and the silver alloy AgxPdy is arranged on the strip-shaped convex array group. The light reflection layer 58 having a thickness of 150 nm is covered with a film made of (x = 99.0 y = 1.0).

【０１００】そして、光反射層５８上にアクリル系樹脂
材などからなる樹脂のカラーフィルタ５９を形成してい
る。さらにアクリル系樹脂からなるオーバーコート層６
０と、多数平行に配列したＩＴＯからなる透明電極６１
を形成している。この透明電極６１上に一定方向にラビ
ングしたポリイミド樹脂からなる配向膜６２を形成して
いる。Then, a resin color filter 59 made of an acrylic resin material or the like is formed on the light reflection layer 58. Further, an overcoat layer 6 made of acrylic resin
0 and a plurality of transparent electrodes 61 made of ITO arranged in parallel
Is formed. An alignment film 62 made of a polyimide resin rubbed in a certain direction is formed on the transparent electrode 61.

【０１０１】また、ガラス基板５６上に多数平行に配列
したＩＴＯからなる透明電極６３と、一定方向にラビン
グしたポリイミド樹脂からなる配向膜６４とを順次形成
している。透明電極６３と配向膜６４との間にＳｉＯ₂
からなる絶縁層を介在させてもよい。Further, on the glass substrate 56, a plurality of transparent electrodes 63 made of ITO arranged in parallel and an alignment film 64 made of polyimide resin rubbed in a certain direction are sequentially formed. SiO ₂ is formed between the transparent electrode 63 and the alignment film 64.
You may interpose the insulating layer which consists of.

【０１０２】そして、双方の基板をＳＴＮなどの液晶６
５を介してシール部材６６により貼り合わせる。さらに
ガラス基板５６の外側にポリカーボネイトなどからなる
第１位相差フィルム６７と第２位相差フィルム６８とヨ
ウ素系の偏光板６９とを順次形成する。Then, the liquid crystal 6 such as STN is used for both substrates.
The seal member 66 is used to attach the two pieces. Further, a first retardation film 67 made of polycarbonate or the like, a second retardation film 68, and an iodine-based polarizing plate 69 are sequentially formed on the outside of the glass substrate 56.

【０１０３】上記構成の反射型の液晶表示装置５４にお
いて、太陽光、蛍光灯などの外部照明による入射光はガ
ラス基板５６を通過し、液晶６５、カラーフィルタ５９
などを通して光反射層５８に到達し、光反射層５８にて
光反射され、その反射光が出射される。In the reflection type liquid crystal display device 54 having the above structure, incident light from external illumination such as sunlight or a fluorescent lamp passes through the glass substrate 56, the liquid crystal 65 and the color filter 59.
And the like, reach the light reflection layer 58, are reflected by the light reflection layer 58, and the reflected light is emitted.

【０１０４】また、本例の反射型液晶表示装置５４の使
用者は、その装置と対面しながら用いるに当り、通常、
上下方向の視野角、とくに上方向の視野角でもって使用
している。よって、帯状片である帯状凸部５７の帯状部
は、パネルに対し横方向に配列する。The user of the reflection type liquid crystal display device 54 of the present embodiment usually uses the device while facing the device.
It is used with a vertical viewing angle, especially an upward viewing angle. Therefore, the strip-shaped portions of the strip-shaped convex portions 57 that are strip-shaped pieces are arranged laterally with respect to the panel.

【０１０５】すなわち、携帯情報端末等で用いられる反
射型液晶表示装置５４では、入射光はパネルの横方向か
ら入射されることに比べ、上方から入射されることが多
く、そのために帯状片（帯状凸部５７）の長手方向をパ
ネル横方向に設置することで、上方からの入射光を有効
に利用することができる。That is, in the reflection type liquid crystal display device 54 used in a portable information terminal or the like, the incident light is more often incident from above than in the lateral direction of the panel. By arranging the longitudinal direction of the convex portion 57) in the lateral direction of the panel, it is possible to effectively use incident light from above.

【０１０６】加えて、実施例２―、実施例２―、実
施例２―ならびに（例２）に示す如く、帯状片の帯部
の横断面形状が、その帯部の中心線に対し非対称に偏心
している場合には、そのピークの位置を、反射型液晶表
示装置５４の下側にして、上方からの入射光を実施例１
に比べ有効に利用している。In addition, as shown in Example 2-, Example 2-, Example 2- and (Example 2), the cross-sectional shape of the strip portion of the strip-shaped piece is asymmetric with respect to the center line of the strip portion. In the case of eccentricity, the peak position is set to the lower side of the reflective liquid crystal display device 54, and incident light from above is applied to the first embodiment.
Uses more effectively than.

【０１０７】本発明者は従来例（ａ）、実施例１―お
よび実施例２―を用意し、その光学特性を評価実験し
たところ、表１に示すような結果が得られた。The inventor prepared the conventional example (a), Example 1- and Example 2-, and evaluated the optical characteristics thereof. As a result, the results shown in Table 1 were obtained.

【０１０８】評価測定については、それぞれの反射板を
用いた反射型液晶表示装置を作製し、蛍光灯が２ｍ間隔
に１５本配列されたオフィスの中央付近に、その装置を
配して表示性能を調べている。For the evaluation measurement, a reflection type liquid crystal display device using each reflection plate was produced, and the device was placed near the center of the office where 15 fluorescent lamps were arranged at intervals of 2 m to improve the display performance. I'm researching.

【０１０９】一般的な人が反射型液晶表示装置を使用す
る状況において、その人が見る角度を上方向・下方向に
ずらし、これによって画面の明暗状態を調べている。In a situation where a general person uses the reflection type liquid crystal display device, the viewing angle of the person is shifted upward and downward, and thereby the bright and dark state of the screen is examined.

【０１１０】その評価を◎、○、△、×の４通りに判定
基準を定め、◎印はたいへん明るい場合であり、○印は
やや明るい場合、△印はやや暗い場合、×印は顕著に暗
い場合である。The evaluation criteria are set to four kinds of ⊚, ◯, Δ, and ×. The ⊚ mark is very bright, the ○ mark is slightly bright, the Δ mark is slightly dark, and the X mark is remarkable. In the dark.

【０１１１】[0111]

【表１】 [Table 1]

【０１１２】この表から明かなとおり、実施例１―の
反射板を搭載した反射型液晶表示装置では上下方向とも
に明るかった。また、実施例２―の反射板を搭載した
反射型液晶表示装置では上方向のみが従来より明るい特
性をもった反射型液晶表示装置が得られた。As is apparent from this table, the reflection type liquid crystal display device equipped with the reflection plate of Example 1 was bright in the vertical direction. Further, in the reflection type liquid crystal display device equipped with the reflection plate of Example 2-, a reflection type liquid crystal display device having a brighter characteristic only in the upper direction was obtained.

【０１１３】（例４） （例１）と（例２）の各反射板Ｐを他の液晶表示装置に
使用する場合を説明する。(Example 4) A case where each of the reflection plates P of (Example 1) and (Example 2) is used in another liquid crystal display device will be described.

【０１１４】図２５はこの液晶表示装置７０の断面図で
ある。このカラー表示用の反射型の液晶表示装置７０に
おいて、７１はコモン側のガラス基板（０．５５ｍｍ
厚）、７２はセグメント側のガラス基板（０．５５ｍｍ
厚）であって、ガラス基板７１の一主面上にアクリル系
樹脂材などからなる樹脂でもって前記帯状片である帯状
凸部７３を多数配列し、この帯状凸状配列群上に銀合金
ＡｇｘＰｄｙ（ｘ=99.0 ｙ=1.0）からなる膜でもって厚
み１５０ｎｍの光反射電極７４を被覆している。この光
反射電極７４はストライプ状に多数個配列されている。FIG. 25 is a sectional view of the liquid crystal display device 70. In the reflective liquid crystal display device 70 for color display, 71 is a glass substrate (0.55 mm) on the common side.
Thickness), 72 is a glass substrate (0.55 mm) on the segment side.
Thickness), a large number of strip-shaped convex portions 73, which are the strip-shaped pieces, are arranged on one main surface of the glass substrate 71 with a resin such as an acrylic resin material. The film made of (x = 99.0 y = 1.0) covers the light reflection electrode 74 having a thickness of 150 nm. A large number of the light reflecting electrodes 74 are arranged in a stripe shape.

【０１１５】この光反射電極７４の上に一定方向にラビ
ングしたポリイミド樹脂からなる配向膜７５を形成して
いる。An alignment film 75 made of a polyimide resin rubbed in a certain direction is formed on the light reflection electrode 74.

【０１１６】一方のガラス基板７２の上にはアクリル系
樹脂材などからなる樹脂のカラーフィルタ７６を形成
し、さらにアクリル系樹脂からなるオーバーコート層７
７と、多数平行に配列したＩＴＯからなる透明電極７８
と、一定方向にラビングしたポリイミド樹脂からなる配
向膜７９とを順次形成している。透明電極７８と配向膜
７９との間にＳｉＯ₂からなる絶縁層を介在させてもよ
い。A color filter 76 made of a resin such as an acrylic resin material is formed on one glass substrate 72, and the overcoat layer 7 made of an acrylic resin is further formed.
7 and a plurality of transparent electrodes 78 made of ITO arranged in parallel
And an alignment film 79 made of polyimide resin rubbed in a certain direction are sequentially formed. An insulating layer made of SiO ₂ may be interposed between the transparent electrode 78 and the alignment film 79.

【０１１７】そして、両基板７１、７２をＳＴＮなどの
液晶８０を介してシール部材８１により貼り合わせる。
その際、光反射電極７４と透明電極７８とを交差させ
る。Then, the two substrates 71 and 72 are attached to each other by a seal member 81 via a liquid crystal 80 such as STN.
At that time, the light reflection electrode 74 and the transparent electrode 78 are crossed.

【０１１８】さらにガラス基板７２の外側にポリカーボ
ネイトなどからなる第１位相差フィルム８２と第２位相
差フィルム８３とヨウ素系の偏光板８４とを順次形成す
る。Further, a first retardation film 82 made of polycarbonate or the like, a second retardation film 83, and an iodine-based polarizing plate 84 are sequentially formed on the outside of the glass substrate 72.

【０１１９】上記構成の反射型の液晶表示装置７０にお
いて、太陽光、蛍光灯などの外部照明による入射光はガ
ラス基板７２を通過し、カラーフィルタ７６、液晶８０
などを通して光反射電極７４に到達し、光反射電極７４
にて光反射され、その反射光が出射される。In the reflection type liquid crystal display device 70 having the above structure, incident light from external illumination such as sunlight or a fluorescent lamp passes through the glass substrate 72, and the color filter 76 and the liquid crystal 80.
The light reflection electrode 74 is reached through
The light is reflected at and the reflected light is emitted.

【０１２０】また、本例の反射型液晶表示装置７０につ
いても、使用者はその装置と対面しながら用いるに当
り、通常、上下方向の視野角、とくに上方向の視野角で
もって使用している。よって、帯状片である帯状凸部７
３の帯状部は、パネルに対し横方向に配列する。Further, the reflective liquid crystal display device 70 of this embodiment is also used by the user while facing the device, usually with a vertical viewing angle, particularly an upward viewing angle. . Therefore, the strip-shaped protrusion 7 that is a strip-shaped piece
The strips 3 are arranged laterally with respect to the panel.

【０１２１】加えて、実施例２―、実施例２―、実
施例２―ならびに（例３）に示す如く、帯状片の帯部
の横断面形状が、その帯部の中心線に対し非対称に偏心
している場合には、そのピークの位置を、反射型液晶表
示装置７０の下側にして、上方からの入射光を実施例１
に比べ有効に利用している。In addition, as shown in Example 2-, Example 2-, Example 2- and (Example 3), the cross-sectional shape of the strip of the strip is asymmetric with respect to the center line of the strip. In the case of decentering, the peak position is set to the lower side of the reflective liquid crystal display device 70, and incident light from above is applied to the first embodiment.
Uses more effectively than.

【０１２２】本発明者は従来例（ａ）、実施例１―お
よび実施例２―を用意し、その光学特性を評価実験し
たところ、表２に示すような結果が得られた。The present inventor prepared the conventional example (a), Example 1- and Example 2-, and evaluated the optical characteristics thereof. As a result, the results shown in Table 2 were obtained.

【０１２３】評価測定については、それぞれの反射板を
用いた反射型液晶表示装置７０を作製し、（例３）に記
載されているように表示性能を調べている。Regarding the evaluation measurement, a reflection type liquid crystal display device 70 using each reflection plate was produced and the display performance was examined as described in (Example 3).

【０１２４】[0124]

【表２】 [Table 2]

【０１２５】この表から明かなとおり、実施例１―の
反射板を搭載した反射型液晶表示装置では上下方向とも
に明るかった。また、実施例２―の反射板を搭載した
反射型液晶表示装置では上方向のみが従来より明るい特
性をもった反射型液晶表示装置が得られた。As is clear from this table, the reflection type liquid crystal display device equipped with the reflection plate of Example 1 was bright in the vertical direction. Further, in the reflection type liquid crystal display device equipped with the reflection plate of Example 2-, a reflection type liquid crystal display device having a brighter characteristic only in the upper direction was obtained.

【０１２６】また、（例３）および（例４）に示す液晶
表示装置５４、７０によれば、各画素がマトリックス状
に配列されているので、それらに用いる反射板構造にお
いて、図２６に示す如く、帯状片を形成した一矩形状の
領域でもってブロックと成すとともに、各ブロックをマ
トリックス状に配列するとよい。これにより、画素との
間にて表示上干渉しなくすることができる。Further, according to the liquid crystal display devices 54 and 70 shown in (Example 3) and (Example 4), since the pixels are arranged in a matrix, the structure of the reflector used for them is shown in FIG. As described above, it is preferable that one rectangular region in which the strips are formed constitutes a block and that each block be arranged in a matrix. As a result, it is possible to prevent display interference with the pixels.

【０１２７】図２６（ａ）は１画素のピッチが８０μｍ
×２４０μｍの液晶表示装置に対し、それに使用する反
射板における各ブロックのマトリックス状配列を示す。
一ブロックを取りだし、その拡大図として同図（ｂ）も
示す。In FIG. 26A, the pitch of one pixel is 80 μm.
The matrix arrangement of each block in the reflection plate used for a liquid crystal display device having a size of 240 μm is shown.
One block is taken out, and an enlarged view thereof is also shown in FIG.

【０１２８】なお、本発明は上記実施形態例に限定され
るものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内で種
々の変更や改良等はなんら差し支えない。The present invention is not limited to the above embodiment, and various modifications and improvements may be made without departing from the scope of the present invention.

【０１２９】たとえば、本例では単純マトリクス構造の
ＳＴＮタイプでもって述べ、このタイプではＩＴＯスト
ライプ電極構造を形成しているが、これに代えて、この
構成を変えることで、ＴＦＴ、ＭＩＭ構造などのアクテ
ィブマトリクス構造にしてもよい。For example, in this example, the STN type having a simple matrix structure is described, and the ITO stripe electrode structure is formed in this type. However, instead of this, by changing this structure, a TFT, an MIM structure, or the like is formed. An active matrix structure may be used.

【０１３０】[0130]

【発明の効果】以上のとおり、本発明の反射板によれ
ば、基板上に一領域にてＸ軸方向に対し各々違う傾斜角
にて配する複数の直線状の帯状片を配列し、この配列パ
ターンと対称的に他の領域にてＸ軸方向に対し各々違う
傾斜角にて配する複数の直線状の帯状片を配列し、これ
ら帯状片の上に光反射層を形成したことで、その帯状片
の形状や構成を設計するだけで、入射光の反射特性を容
易に制御し、所要とおりの散乱特性を達成し、さまざま
な表示に使用することができた。As described above, according to the reflection plate of the present invention, a plurality of linear strips arranged at different inclination angles with respect to the X-axis direction in a region are arranged on a substrate. By arranging a plurality of linear strips arranged at different inclination angles with respect to the X-axis direction in other regions symmetrically with the array pattern, and forming a light reflection layer on these strips, By simply designing the shape and configuration of the strip, we were able to easily control the reflection characteristics of the incident light, achieve the required scattering characteristics, and use it for various displays.

【０１３１】また、本発明の反射板においては、現像や
露光などのフォトリソの技術やプリント技術を用いてい
ることで、製造上のバラツキがなく、製造歩留まりを高
め、一定の優れた品質を達成した低コストの反射板が提
供できた。Further, in the reflecting plate of the present invention, by using the photolithography technology such as development and exposure and the printing technology, there is no manufacturing variation, the manufacturing yield is increased, and a certain excellent quality is achieved. It was possible to provide a low cost reflector.

【０１３２】さらに本発明の液晶表示装置によれば、本
発明の反射板を用いることで、入射光に対する反射性能
や散乱性能が高められ、その使用性能を高め、これによ
って、とくに携帯端末などの小型液晶パネルに好適な高
性能かつ低コストな液晶表示装置が提供できた。Further, according to the liquid crystal display device of the present invention, by using the reflection plate of the present invention, the reflection performance and the scattering performance with respect to the incident light are improved, and the use performance thereof is improved. A high-performance and low-cost liquid crystal display device suitable for a small liquid crystal panel can be provided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図１】本発明の反射板の製造工程図であって、
（ａ），（ｂ），（ｃ），（ｄ）は各工程の説明図であ
る。FIG. 1 is a process drawing of a reflector of the present invention,
(A), (b), (c), (d) is explanatory drawing of each process.

【図２】（ａ）は本発明の反射板を作製するのに使用す
るフォトマスクの平面図であり、（ｂ）は反射板の各ブ
ロックに対応するフォトマスクの要部拡大図である。FIG. 2A is a plan view of a photomask used for manufacturing the reflector of the present invention, and FIG. 2B is an enlarged view of a main part of the photomask corresponding to each block of the reflector.

【図３】（ａ）は本発明の反射板の平面図であり、
（ｂ）は（ａ）の反射板における切断面線Ａ−Ａの断面
図、（ｃ）は（ａ）の反射板における切断面線Ｂ−Ｂの
断面図である。FIG. 3A is a plan view of a reflection plate of the present invention,
(B) is sectional drawing of the cutting plane line AA in the reflecting plate of (a), (c) is sectional drawing of the cutting plane line BB in the reflecting plate of (a).

【図４】反射板の光学特性評価方法を示す説明図であ
る。FIG. 4 is an explanatory diagram showing a method for evaluating optical characteristics of a reflector.

【図５】液晶表示装置の向きと光学特性評価の方位角と
の位置関係を示す説明図である。FIG. 5 is an explanatory diagram showing a positional relationship between the orientation of the liquid crystal display device and the azimuth angle for optical characteristic evaluation.

【図６】（ａ），（ｂ），（ｃ）はそれぞれフォトマス
クパターンの拡大図である。6A, 6B and 6C are enlarged views of a photomask pattern.

【図７】帯状片の傾き角度を示す説明図である。FIG. 7 is an explanatory diagram showing an inclination angle of a strip.

【図８】帯状片の傾き角度と、その頻度（比率）との関
係を示すデータ図である。FIG. 8 is a data diagram showing the relationship between the inclination angle of the strip and its frequency (ratio).

【図９】他の帯状片の傾き角度と、その頻度（比率）と
の関係を示すデータ図である。FIG. 9 is a data diagram showing the relationship between the inclination angle of another strip and its frequency (ratio).

【図１０】さらに他の帯状片の傾き角度と、その頻度
（比率）との関係を示すデータ図である。FIG. 10 is a data diagram showing the relationship between the inclination angle of another strip and its frequency (ratio).

【図１１】反射板に対する光入射の方位角と、その反射
率との関係を示す線図である。FIG. 11 is a diagram showing a relationship between an azimuth angle of light incident on a reflector and its reflectance.

【図１２】他の反射板に対する光入射の方位角と、その
反射率との関係を示す線図である。FIG. 12 is a diagram showing a relationship between an azimuth angle of light incident on another reflection plate and its reflectance.

【図１３】さらに他の反射板に対する光入射の方位角
と、その反射率との関係を示す線図である。FIG. 13 is a diagram showing the relationship between the azimuth angle of light incident on another reflection plate and its reflectance.

【図１４】本発明の反射板の他の製造工程図であって、
（ａ），（ｂ），（ｃ），（ｄ），（ｅ）は各工程の説
明図である。FIG. 14 is another manufacturing process diagram of the reflector of the present invention,
(A), (b), (c), (d), (e) is explanatory drawing of each process.

【図１５】本発明の反射板の他の製造工程図であって、
（ａ），（ｂ），（ｃ），（ｄ）は各工程の説明図であ
る。FIG. 15 is another manufacturing process diagram of the reflector of the present invention,
(A), (b), (c), (d) is explanatory drawing of each process.

【図１６】（ａ）は本発明の反射板を作製するのに使用
する他のフォトマスクの平面図であり、（ｂ）は反射板
の各ブロックに対応するフォトマスクの要部拡大図であ
る。FIG. 16A is a plan view of another photomask used for manufacturing the reflection plate of the present invention, and FIG. 16B is an enlarged view of a main part of the photomask corresponding to each block of the reflection plate. is there.

【図１７】他のフォトマスクパターンの拡大図であり、
（a）は遮光パターンの要部拡大図、（ｂ）は（a）のフ
ォトマスクを用いて作製した帯状片を示す概要平面図、
（ｃ）は（ｂ）に示す切断面線――による断面図
である。FIG. 17 is an enlarged view of another photomask pattern,
(A) is an enlarged view of a main part of a light-shielding pattern, (b) is a schematic plan view showing a strip-shaped piece manufactured using the photomask of (a),
(C) is a cross-sectional view taken along the section line--shown in (b).

【図１８】（ａ）（ｂ）はそれぞれフォトマスクの遮光
パターンの要部拡大図である。18A and 18B are enlarged views of a main part of a light-shielding pattern of a photomask.

【図１９】（ａ）（ｂ）（ｃ）はそれぞれフォトマスク
の遮光パターンの要部拡大図である。19 (a), (b) and (c) are enlarged views of a main part of a light shielding pattern of a photomask.

【図２０】（ａ）（ｂ）（ｃ）はそれぞれフォトマスク
の遮光パターンの要部拡大図である。20A, 20B, and 20C are enlarged views of a main part of a light-shielding pattern of a photomask.

【図２１】反射板に対する光入射の方位角と、その反射
率との関係を示す線図である。FIG. 21 is a diagram showing the relationship between the azimuth angle of light incident on a reflector and its reflectance.

【図２２】他の反射板に対する光入射の方位角と、その
反射率との関係を示す線図である。FIG. 22 is a diagram showing a relationship between an azimuth angle of light incident on another reflection plate and its reflectance.

【図２３】さらに他の反射板に対する光入射の方位角
と、その反射率との関係を示す線図である。FIG. 23 is a diagram showing the relationship between the azimuth angle of light incident on another reflection plate and its reflectance.

【図２４】本発明の液晶表示装置の断面図である。FIG. 24 is a cross-sectional view of a liquid crystal display device of the present invention.

【図２５】本発明の他の液晶表示装置の断面図である。FIG. 25 is a cross-sectional view of another liquid crystal display device of the present invention.

【図２６】（ａ）は反射板を作製するのに使用するフォ
トマスクの平面図であり、（ｂ）は反射板の各ブロック
に対応するフォトマスクの要部拡大図である。FIG. 26A is a plan view of a photomask used for manufacturing a reflector, and FIG. 26B is an enlarged view of a main part of the photomask corresponding to each block of the reflector.

【図２７】従来の反射型液晶表示装置の断面図である。FIG. 27 is a cross-sectional view of a conventional reflective liquid crystal display device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

１９・・・フォトマスク ２０、２７、３３・・・帯状片 ２１、２９、３４・・・光反射層 Ｐ・・・反射板 Ｓ・・・遮光パターン Ｐ１・・・一領域 Ｐ２・・・他の領域 19 ... Photomask 20, 27, 33 ... Strips 21, 29, 34 ... Light reflection layer P ... Reflector S: Shading pattern P1 ... One area P2 ... Other areas

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】直交するＸ軸とＹ軸にて規定した基板上の
Ｙ軸方向にわたって一領域と他の領域とを設け、一領域
にてＸ軸方向に対し各々違う傾斜角にて配する複数の直
線状の帯状片を配列し、この配列パターンと対称的に他
の領域にてＸ軸方向に対し各々違う傾斜角にて配する複
数の直線状の帯状片を配列し、これら帯状片の上に光反
射層を形成したことを特徴とする表示に用いる反射板。1. An area and another area are provided in a Y-axis direction on a substrate defined by orthogonal X-axis and Y-axis, and the areas are arranged at different inclination angles with respect to the X-axis direction. By arranging a plurality of linear strips, and arranging a plurality of linear strips that are arranged at different inclination angles with respect to the X-axis direction in other regions symmetrically with this array pattern, these strips are arranged. A reflector used for display, characterized in that a light reflection layer is formed on the top. 【請求項２】隣接する帯状片間を滑らかに連続に接続し
たことを特徴とする請求項１に記載の反射板。2. The reflector according to claim 1, wherein adjacent strips are smoothly and continuously connected. 【請求項３】前記帯状片の横断面形状が、その帯状の中
心線に対し非対称に偏心していることを特徴とする請求
項１または２に記載の反射板。3. The reflector according to claim 1, wherein the cross-sectional shape of the strip is eccentrically asymmetric with respect to the center line of the strip. 【請求項４】請求項１、２または３の反射板を一方基板
として、液晶を介して他方の基板と貼り合わせ、さらに
マトリックス状に画素を配列形成してなる反射型もしく
は半透過型の液晶表示装置。4. A reflection-type or semi-transmission-type liquid crystal in which the reflection plate according to claim 1, 2 or 3 is used as one substrate, which is bonded to the other substrate through a liquid crystal, and pixels are arranged in a matrix. Display device.