JPH09244023A - Reflection type liquid crystal display element - Google Patents
Reflection type liquid crystal display elementInfo
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- JPH09244023A JPH09244023A JP5476096A JP5476096A JPH09244023A JP H09244023 A JPH09244023 A JP H09244023A JP 5476096 A JP5476096 A JP 5476096A JP 5476096 A JP5476096 A JP 5476096A JP H09244023 A JPH09244023 A JP H09244023A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、反射型液晶表示素
子に関する。The present invention relates to a reflection type liquid crystal display device.
【０００２】[0002]
【従来の技術】軽量、薄型、低消費電力という大きな利
点を有する液晶表示素子は、ワードプロセッサ、デスク
トップ型パーソナルコンピュータ等のパーソナルＯＡ機
器の表示装置や、ポータブル式のテレビ等の映像表示装
置として広く使用されている。特に、画素毎に能動素子
を備えたアクティブマトリクス型の液晶表示装置は、高
解像度の表示が実現できるので、開発が活発に行われて
いる。2. Description of the Related Art Liquid crystal display devices, which have the great advantages of being lightweight, thin, and low in power consumption, are widely used as display devices for personal OA equipment such as word processors and desktop personal computers, and video display devices such as portable televisions. Has been done. In particular, an active matrix type liquid crystal display device having an active element for each pixel is capable of realizing high resolution display, and therefore is under active development.
【０００３】従来のアクティブマトリクス型の液晶表示
装置（以下ＬＣＤと呼ぶ）は、絶縁性基板の上に行方向
にゲート線を、列方向に信号線を配列形成し、ゲート線
と信号線の交差位置に薄膜トランジスタ（以下ＴＦＴと
呼ぶ）を形成し、ゲート線と信号線で区分される領域の
上に画素電極を形成し、画素電極と信号線をＴＦＴを介
して接続したＴＦＴ方式が代表的である。In a conventional active matrix type liquid crystal display device (hereinafter referred to as LCD), gate lines are arranged in a row direction and signal lines are arranged in a column direction on an insulating substrate, and the gate lines intersect with the signal lines. A typical TFT method is to form a thin film transistor (hereinafter referred to as a TFT) at a position, form a pixel electrode on a region divided by a gate line and a signal line, and connect the pixel electrode and the signal line through a TFT. is there.
【０００４】また、ＴＦＴ方式と較べて、駆動能力が劣
るものの、比較的、低コストで製造可能な２端子素子を
使用した薄膜ダイオード（以下ＴＦＤと呼ぶ）方式等も
開発されている。ＴＦＤ素子はＴＦＴ素子に較べて、寸
法を小さくすることが可能で、更に、メタル配線も信号
線のみとなるので、開口率をＴＦＴ方式と較べて１２％
程度大きくできるので、反射型の液晶表示装置に広く採
用されている。製造プロセスに関しては、ＴＦＴの場合
は６〜７枚のマスクを使用するのに対して、ＴＦＤでは
３〜４枚のマスクで済み、製造コスト面でもＴＦＤが有
利である。Further, a thin film diode (hereinafter referred to as TFD) method using a two-terminal element, which is relatively low in cost and can be manufactured, has been developed although the driving ability is lower than that of the TFT method. The size of the TFD element can be made smaller than that of the TFT element, and since the metal wiring is only the signal line, the aperture ratio is 12% compared with the TFT method.
Since it can be enlarged to some extent, it is widely used in reflective liquid crystal display devices. Regarding the manufacturing process, in the case of TFT, 6 to 7 masks are used, whereas in TFD, 3 to 4 masks are used, and TFD is advantageous in terms of manufacturing cost.
【０００５】近年、携帯用情報機器の市場の成長に従っ
て、バックライト不要の反射型ＬＣＤが注目されてい
る。反射型ＬＣＤは、バックライトを使用しないため、
消費電力が小さく、携帯用に適している。但し、反射型
ＬＣＤは外光を利用しているため、ＬＣＤ自体の反射率
が高いことが特性上の重要な要求となっている。In recent years, with the growth of the market of portable information equipment, a reflective LCD which does not require a backlight has been attracting attention. Since the reflective LCD does not use a backlight,
It has low power consumption and is suitable for portable use. However, since the reflective LCD utilizes external light, it is an important characteristic requirement that the LCD itself has a high reflectance.
【０００６】反射型ＬＣＤの表示方式は、偏向板を２枚
用いる表示方式、１枚用いる表示方式、用いない表示方
式の３種に大きく分類することができる。この内、偏向
板を２枚用いる表示方式は、反射率が低いために実用に
は適していない。また、偏向板を用いない表示方式とし
て、ＰＣ−ＧＨ型ＬＣＤ（SID, 92DIGEST, 1992, 43
7）、あるいはＧＨ−ＨＯＭＯ型ＬＣＤ（Proc. 3rd In
t'l Display Research Conf., 1983, 344 ) 等が発表さ
れているが、これらの方式では、液晶に色素が添加され
ているので、色素による光の吸収のため充分な反射率が
得られず、更に、色素の退色による劣化の現象もあり、
信頼性に問題がある。The display system of the reflection type LCD can be roughly classified into three types: a display system using two deflecting plates, a display system using one deflecting plate, and a display system not using it. Among these, the display method using two deflecting plates is not suitable for practical use because of its low reflectance. In addition, as a display method that does not use a deflector, a PC-GH type LCD (SID, 92DIGEST, 1992, 43
7), or GH-HOMO LCD (Proc. 3rd In
t'l Display Research Conf., 1983, 344), etc. have been published, but in these methods, since a dye is added to the liquid crystal, sufficient reflectance cannot be obtained due to absorption of light by the dye. In addition, there is a phenomenon of deterioration due to fading of the dye,
There is a problem with reliability.
【０００７】偏向板を１枚使用する表示方式としては、
ＥＣＢ型ＬＣＤ（例えば、第１８回液晶討論会予稿集，
1992, 288 ）が知られている。この表示方式では、光の
入射側にのみ偏向板を１枚配置しているため、光は偏向
板を２回通過する。このため、前述の偏向板を２枚用い
る表示方式に較べると反射率は高いが、偏向板を用いな
い方式に較べると反射率が低く、その値はまだ充分とは
言えない。As a display system using one deflector,
ECB type LCD (for example, Proceedings of 18th Liquid Crystal Symposium,
1992, 288) is known. In this display method, since one deflector is arranged only on the light incident side, light passes through the deflector twice. For this reason, the reflectance is higher than that of the display method using the two deflecting plates described above, but the reflectance is lower than that of the method using no deflecting plate, and the value is not sufficient yet.
【０００８】一般的に、液晶表示素子は２枚の基板上に
それぞれ形成された電極を互いに対向させて配置し、そ
の間隙に液晶を封止し、電極から液晶に電圧を印加する
ことにより液晶の方向を配列させ、表示を行っている。
均一な表示を行うためには、液晶分子に予めプレチルト
角を与えておくことが必要となる。この様に液晶分子に
プレチルト角を与えるために、２枚の電極の表面に配向
処理を施した配向膜を形成する方法が、一般的に採用さ
れている。この様な配向膜の形成方法としては、電極の
表面にポリイミドに代表される有機高分子薄膜をスピン
コートあるいは印刷法などの方法により形成した後、こ
の薄膜の表面を布などで軽く摩擦することによって液晶
配向力を付与するラビング法が、量産に適した方法とし
て、一般に採用されている。Generally, in a liquid crystal display element, electrodes formed on two substrates are arranged to face each other, liquid crystal is sealed in a gap between the electrodes, and a voltage is applied from the electrodes to the liquid crystal. The directions are arranged and displayed.
In order to perform uniform display, it is necessary to give the liquid crystal molecules a pretilt angle in advance. In order to give the liquid crystal molecules a pretilt angle in this way, a method of forming an alignment film on the surfaces of two electrodes is generally adopted. As a method for forming such an alignment film, an organic polymer thin film typified by polyimide is formed on the surface of the electrode by a method such as spin coating or printing, and then the surface of the thin film is lightly rubbed with a cloth or the like. The rubbing method for imparting a liquid crystal alignment force is generally adopted as a method suitable for mass production.
【０００９】このような、チルトリバース配向不良の抑
制、あるいは液晶表示素子としての駆動電圧の低減を図
るために、プレチルト角をある程度大きくしておくこと
が望ましい。大きいプレチルト角が得られる配向膜の材
料として、例えば、長鎖アルキルを有するポリマーなど
が用いられているが、それらの高分子材料は、一般的に
熱あるいは湿度に対する安定性が十分ではないために信
頼性が欠けるとともに、電極への塗布の際の作業性が極
めて悪いという問題点を抱えている。In order to suppress such tilt-reverse alignment failure or to reduce the driving voltage of the liquid crystal display element, it is desirable to increase the pretilt angle to some extent. For example, polymers having long-chain alkyls are used as materials for the alignment film that can obtain a large pretilt angle. However, such polymer materials are generally insufficient in stability against heat or humidity. There is a problem that the reliability is low and the workability at the time of applying to the electrode is extremely poor.
【００１０】また、配向膜の形成温度などの製造条件、
あるいはラビングなどの処理条件等を調節してプレチル
ト角を制御するという方法も提案されているが、この様
な方法により制御可能なプレチルト角の範囲は限られて
おり、また、その再現性にも問題があり、実用化される
までには至っていない。In addition, manufacturing conditions such as an alignment film forming temperature,
Alternatively, a method of controlling the pretilt angle by adjusting processing conditions such as rubbing has been proposed, but the range of the pretilt angle that can be controlled by such a method is limited, and the reproducibility is also limited. There is a problem and it has not been put to practical use.
【００１１】この他、配向方向の異なる２つの領域を基
板上に作り分け、その一方を垂直配向させるなどして大
きなプレチルト角を得るという方法（特開昭６３−１４
１２３号公報、特開昭６３−１４１２４号公報）が提案
されている。しかし、同一基板上でプレチルト角の異な
る複数の領域を形成することは容易ではない。即ち、小
さいプレチルト角を有する配向膜と大きいプレチルト角
を有する配向膜との２種類の配向膜を形成することは、
例えば、２種類の配向膜の耐溶剤性が異なるなど、プロ
セスの整合性の面で多くの問題がある。また、高プレチ
ルト角の配向膜は、低プレチルト角の配向膜よりも安定
性が劣るので、完成した液晶表示素子の信頼性の点でも
問題がある。更に、この様な方法は、配向膜の製作及び
配向処理に繁雑な工程が必要となるので、実用性に疑問
がある。In addition to the above, two regions having different alignment directions are separately formed on the substrate, and one of them is vertically aligned to obtain a large pretilt angle (JP-A-63-14).
No. 123, Japanese Patent Laid-Open No. 63-14124) have been proposed. However, it is not easy to form a plurality of regions having different pretilt angles on the same substrate. That is, forming two types of alignment films, an alignment film having a small pretilt angle and an alignment film having a large pretilt angle,
For example, there are many problems in terms of process consistency, such as two types of alignment films having different solvent resistances. Further, since the alignment film having a high pretilt angle is less stable than the alignment film having a low pretilt angle, there is a problem in reliability of the completed liquid crystal display element. Further, such a method requires complicated steps for manufacturing an alignment film and alignment treatment, and thus is not practical.
【００１２】なお、従来の技術においては、プレチルト
角を基板上のどの部分においても、ほぼ同一に設定して
いる。例えば、ＴＮ型ＬＣＤの場合、同じ電圧を印加し
た際、基板上の表示領域のどの部分においてもの液晶分
子の起き上がる方向はほぼ同一であるため、その視野角
は視野方向に関して非対象的となり、輝度分布に偏りが
生じ、更に、視野依存性も大きいという問題がある。こ
の様な問題の解決を目的として、液晶表示素子の各画素
の中を複数領域に分割して、各分割領域毎に異なるプレ
チルト角を与えることにより、電圧印加時に液晶分子が
起き上がる方向を各分割領域毎に相違させ、その視野角
特性を視野方向に関して対象的にして、同時に視野依存
性も減少させるという方法が提案されている。しかし、
実用的に採用できる製造方法は、まだ確立されていな
い。In the prior art, the pretilt angle is set to be almost the same on any part of the substrate. For example, in the case of a TN-type LCD, when the same voltage is applied, the rising directions of liquid crystal molecules are almost the same in any part of the display area on the substrate, so that the viewing angle becomes asymmetric with respect to the viewing direction. There is a problem that the distribution is biased and the visual field dependency is large. For the purpose of solving such a problem, by dividing each pixel of the liquid crystal display element into a plurality of regions and giving different pretilt angles to the respective divided regions, the directions in which the liquid crystal molecules rise when voltage is applied are divided into respective regions. A method has been proposed in which each region is made different, the viewing angle characteristics are made symmetrical with respect to the viewing direction, and at the same time the viewing dependency is reduced. But,
The manufacturing method that can be practically adopted has not been established yet.
【００１３】[0013]
【発明が解決しようとする課題】従来の反射型ＬＣＤに
は、高い反射率と信頼性の二つの特性を同時に満足する
ものがなく、実用上の要請に充分応え得るものはなかっ
た。また、視野依存性を改善する技術に関しても、種
々、提案されてはいるが、いずれも、製造技術上あるい
は信頼性の面で問題があり、実用化までには至っていな
い。None of the conventional reflective LCDs simultaneously satisfy the two characteristics of high reflectance and reliability, and none of them can sufficiently meet practical requirements. Although various technologies for improving the visual field dependency have been proposed, none of them have been put into practical use because of problems in manufacturing technology or reliability.
【００１４】本発明は、以上のような問題点に鑑みてな
されたものであり、その目的とするところは、高い反射
率を有すると同時に、広い視野角を有し、且つ信頼性の
高い反射型液晶表示素子を得ることにある。The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to have a high reflectance, a wide viewing angle, and a highly reliable reflection. Type liquid crystal display device.
【００１５】[0015]
【課題を解決するための手段】本発明の反射型液晶表示
素子は、表面に配向膜を有する金属薄膜による画素電極
が形成されたアレイ基板と、この基板に間隙を介して対
向し、表面に配向膜を有する対向電極が形成された対向
基板と、この間隙に封止された液晶とを備え、前記画素
電極は、その表面に稜線の方向及び角度が設定された微
小突起が配列して形成され、これらの微小突起によって
液晶のプレチルト角が調整されることを特徴とする。A reflection type liquid crystal display device of the present invention comprises an array substrate on which a pixel electrode made of a metal thin film having an alignment film is formed, and an array substrate facing the substrate with a gap therebetween. The pixel electrode includes a counter substrate on which a counter electrode having an alignment film is formed, and a liquid crystal sealed in the gap, and the pixel electrode is formed by arranging minute protrusions on the surface of which the directions and angles of ridge lines are set. The fine tilt adjusts the pretilt angle of the liquid crystal.
【００１６】なお、これらの微小突起を多角錐状の形状
として、その最も緩やかな稜線の平均傾斜角度を６度以
上１１度以下とすることにより、高い反射率を実現する
ことができる。また、これらの微小突起の構成材料は金
属であれば、良好な反射率が得られるが、特にＡｇで形
成することにより、一層高い反射率が実現できる。A high reflectance can be realized by forming these minute protrusions into a polygonal pyramid shape and setting the average inclination angle of the gentlest ridgeline to 6 degrees or more and 11 degrees or less. Further, if the constituent material of these minute protrusions is a metal, a good reflectance can be obtained. However, by forming Ag in particular, a higher reflectance can be realized.
【００１７】更に、画素電極の内部に、これらの微小突
起の稜線の方向が互いに異なる複数の領域を設けること
により、視野依存性を改善することができる。これらの
微小突起の高さは、液晶層の厚さ（セルギャプ）に対し
て、液晶層のリタデーションに影響を与えない程度の高
さに抑える。実際に採用されている液晶層の厚さは、数
μ程度であるので、微小突起の高さとしては１μ以下、
好ましくは５００ｎｍ以下とするのがよい。また、微小
突起の配置密度としては、１０2 〜１０7 個／ｍｍ2 程
度が効果的である。Further, by providing a plurality of regions in which the directions of the ridgelines of these minute projections are different from each other inside the pixel electrode, the visual field dependency can be improved. The height of these minute protrusions is suppressed to a level that does not affect the retardation of the liquid crystal layer with respect to the thickness (cell gap) of the liquid crystal layer. Since the thickness of the liquid crystal layer actually adopted is about several μ, the height of the minute protrusions is 1 μ or less,
The thickness is preferably 500 nm or less. Further, it is effective that the arrangement density of the fine projections is about 10 2 to 10 7 pieces / mm 2 .
【００１８】画素電極の表面に多数の微小突起を形成す
る方法としては、例えば、フォトリソグラフィのプロセ
スを用いることができる。即ち、画素電極上にＡｇある
いはＡｌの様な金属自体反射率が高い金属薄膜を堆積し
た後、その上にレジストを塗布し、マスクを用いて露光
して所定のパターンを転写し、このパターンが現像され
たレジストを用いて金属薄膜をエッチングする。マスク
パターンを段階的に変化させながら上記のフォトリソグ
ラフィのプロセスを繰り返すことにより、所定の形状、
寸法及び傾斜角度を持った微小突起を規則的に配列させ
て形成することができる。As a method of forming a large number of minute protrusions on the surface of the pixel electrode, for example, a photolithography process can be used. That is, after depositing a metal thin film such as Ag or Al having a high reflectance itself on the pixel electrode, a resist is applied on the thin film and exposed by using a mask to transfer a predetermined pattern. The metal thin film is etched using the developed resist. By repeating the above photolithography process while changing the mask pattern stepwise, a predetermined shape,
It is possible to form minute projections having a size and an inclination angle by regularly arranging them.
【００１９】本発明の反射型液晶表示素子は、金属薄膜
で形成された画素電極が反射板を兼ねている。この画素
電極の表面には多数の微小突起が規則的の配列されてい
る。この様な画素電極の上に配向膜を形成すると、平坦
面上でのプレチルト角が比較的小さい従来の配向膜材料
を使用しても、これらの微小突起の稜線の方向及び角度
によって、液晶分子を大きなプレチルト角で配向させる
ことが可能となり、反射型液晶表示素子の表示の均一性
を向上させることが可能になる。In the reflection type liquid crystal display element of the present invention, the pixel electrode formed of the metal thin film also serves as the reflection plate. A large number of minute protrusions are regularly arranged on the surface of the pixel electrode. When an alignment film is formed on such a pixel electrode, even if a conventional alignment film material having a relatively small pretilt angle on a flat surface is used, liquid crystal molecules can be formed depending on the directions and angles of the ridge lines of these minute projections. Can be aligned with a large pretilt angle, and the display uniformity of the reflective liquid crystal display element can be improved.
【００２０】なお、画素電極の反射効率は、微小突起の
稜線の傾斜角度により変化する。微小突起の稜線の傾斜
角度を適切な条件に調整することにより、液晶素子とし
て高い反射率を実現することができる。The reflection efficiency of the pixel electrode changes depending on the inclination angle of the ridgeline of the minute protrusion. By adjusting the inclination angle of the ridgeline of the minute protrusion to an appropriate condition, a high reflectance can be realized as a liquid crystal element.
【００２１】なお、微小突起を金属表面自体の反射率が
高い材料、例えば、Ａｇ（反射率９７％）、あるいはＡ
ｌ（同じく９３％）により形成することにより、一層高
い反射率を実現することができる。The minute projections are made of a material having a high reflectance on the metal surface itself, such as Ag (reflectance 97%) or A.
It is possible to realize a higher reflectance by forming it with 1 (also 93%).
【００２２】更に、各画素の内部を複数の領域に分割し
て、その分割領域毎に、微小突起の方向を変化させるこ
とによって、各分割領域ごとに異なるプレチルト角を与
えることができ、その結果、電圧印加時に各画素内に液
晶分子のチルト角の異なる領域が形成されるので、広い
視野角を実現することができる。Further, by dividing the inside of each pixel into a plurality of regions and changing the direction of the minute protrusions for each of the divided regions, a different pretilt angle can be given to each divided region. Since a region having different tilt angles of liquid crystal molecules is formed in each pixel when a voltage is applied, a wide viewing angle can be realized.
【００２３】[0023]
【実施の形態】図１に、本発明に基づく反射型液晶表示
素子の断面の概要を示す。図中、１ａ、１ｂはガラス基
板、２は画素電極、３は信号線、４は絶縁膜、５ａ、５
ｂは配向膜、６は液晶層、７はＩＴＯ電極、８は微小突
起を表す。なお、ガラス基板１ｂの裏面には、更に偏向
板（図示せず）が張り合わされている。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS FIG. 1 shows an outline of a cross section of a reflection type liquid crystal display element according to the present invention. In the figure, 1a and 1b are glass substrates, 2 are pixel electrodes, 3 are signal lines, 4 are insulating films, 5a and 5
Reference numeral b is an alignment film, 6 is a liquid crystal layer, 7 is an ITO electrode, and 8 is a minute protrusion. A deflection plate (not shown) is further attached to the back surface of the glass substrate 1b.
【００２４】図１に示す様に、ガラス基板１ａの表面に
信号線３が配列され、隣り合う信号線３の間に金属薄膜
による画素電極２が形成され、画素電極２の表面は配向
膜５ａで覆われている。一方、ガラス基板１ｂの表面に
は透明なＩＴＯ電極７が形成され、ＩＴＯ電極７の表面
も配向膜５ｂで覆われている。画素電極２とＩＴＯ電極
７は互いに対向して配置され、その間には、配向膜５
ａ、５ｂを介して液晶層６が封止されている。画素電極
８の表面には微小突起８が配列して形成されている。As shown in FIG. 1, signal lines 3 are arranged on the surface of a glass substrate 1a, a pixel electrode 2 made of a metal thin film is formed between adjacent signal lines 3, and the surface of the pixel electrode 2 has an alignment film 5a. Is covered with. On the other hand, a transparent ITO electrode 7 is formed on the surface of the glass substrate 1b, and the surface of the ITO electrode 7 is also covered with the alignment film 5b. The pixel electrode 2 and the ITO electrode 7 are arranged so as to face each other, and the alignment film 5 is provided between them.
The liquid crystal layer 6 is sealed via a and 5b. On the surface of the pixel electrode 8, minute protrusions 8 are formed in an array.
【００２５】図３に、画素電極上に微小突起を形成する
方法を示す。図中、２は画素電極に成形前のＡｇ薄膜、
１９はレジスト、１８はマスクを表す。図３に示す様
に、ガラス基板の上に、画素電極を形成するＴａ薄膜１
４及びＡｇ薄膜２を成膜し、その上にレジスト１９を塗
布した後、二等辺三角形の繰り返しパターンが形成され
たマスク１８を用いて、ｉ線によって露光を行い、レジ
スト１９にマスクパターンを転写する。なお、マスクパ
ターンとして、一画素電極に該当する部分を複数の領域
に分割し、それぞれの領域に二等辺三角形の規則的な繰
り返しパターンを配置したものを用いる。FIG. 3 shows a method of forming minute protrusions on the pixel electrode. In the figure, 2 is an Ag thin film before forming on the pixel electrode,
Reference numeral 19 is a resist, and 18 is a mask. As shown in FIG. 3, a Ta thin film 1 for forming pixel electrodes is formed on a glass substrate.
4 and the Ag thin film 2 are formed, a resist 19 is applied thereon, and then a mask 18 in which a repeating pattern of isosceles triangles is formed is exposed by i-line to transfer the mask pattern to the resist 19. To do. As the mask pattern, a pattern in which a portion corresponding to one pixel electrode is divided into a plurality of regions and a regular repeating pattern of isosceles triangles is arranged in each region is used.
【００２６】露光、現像の後、エッチングを行い、Ａｇ
薄膜の表面に二等辺三角形の凸部を形成する。マスクパ
ターンの二等辺三角形の寸法を段階的に縮小しながら、
上記のフォトリソグラフィプロセスを複数回繰り返すこ
とによって、ほぼ三角錘状の微小突起を形成することが
できる。After exposure and development, etching is performed to obtain Ag.
An isosceles triangular protrusion is formed on the surface of the thin film. While gradually reducing the size of the isosceles triangle of the mask pattern,
By repeating the above-described photolithography process a plurality of times, it is possible to form substantially triangular pyramid-shaped minute protrusions.
【００２７】[0027]
【実施例】図２に、アレイ基板側の一画素分に相当する
平面図を示す。画素電極２と信号線３はＭＩＭダイオ−
ド９を介して接続されている。なお、一画素当たりの寸
法は、１８０μｍ×１８０μｍで、画素数は４８０×３
２０、有効表示領域は８６．４ｍｍ×５７．６ｍｍであ
る。EXAMPLE FIG. 2 shows a plan view corresponding to one pixel on the array substrate side. The pixel electrode 2 and the signal line 3 are MIM diodes.
It is connected via a switch 9. The size of each pixel is 180 μm × 180 μm, and the number of pixels is 480 × 3.
20, the effective display area is 86.4 mm × 57.6 mm.
【００２８】アレイ基板の作成方法は以下の通りであ
る。先ず、図２に示す様に、０．７ｍｍのガラス基板１
ａの上に、第一のＴａ層１５を成膜し、表面を酸化させ
た後（総膜厚１００ｎｍ）、所定の形状にパターニング
し、更に、第二のＴａ層を成膜した後（膜厚１００ｎ
ｍ）、所定の形状にパターニングして、信号線３を形成
するとともに、ＭＩＭダイオード９を形成した。次に、
基板全面にＡｇ膜を膜厚５００ｎｍにて成膜し、その上
に感光性ポリイミドからなるポジ型レジストをスピンコ
ータにより全面に塗布し、乾燥後、プリベイクを施し
た。The method for producing the array substrate is as follows. First, as shown in FIG. 2, 0.7 mm glass substrate 1
After forming a first Ta layer 15 on a, oxidizing the surface (total film thickness 100 nm), patterning into a predetermined shape, and further forming a second Ta layer (film Thickness 100n
m), patterning into a predetermined shape to form the signal line 3 and the MIM diode 9. next,
An Ag film was formed to a film thickness of 500 nm on the entire surface of the substrate, a positive resist made of photosensitive polyimide was applied on the entire surface by a spin coater, dried, and prebaked.
【００２９】次に、図３に示す様に、二等辺三角形の繰
り返しパターンが形成されたマスク１８を用いて、ｉ線
によって露光を行い、レジスト１９にマスクパターンを
転写した。なお、使用したマスクパターンは、一画素電
極に該当する部分を２つの領域に分割し、それぞれの領
域に二等辺三角形の規則的な繰り返しパターンを同一密
度で配置するとともに、二等辺三角形の頂点の向きを二
つ領域の間で互いに１８０度異なる様に配置し、且つ、
二等辺三角形の頂点と底辺を結ぶ垂線の方向を画素電極
の周囲の辺（従って信号線と走査線）に対して４５度の
角度をなす様にしたもので、各二等辺三角形の形状は、
底辺５μｍ、底辺から頂点までの距離１０μｍであり、
二等辺三角形の配置密度は１０2 個／ｍｍ〜１０7 個／
ｍｍである。Next, as shown in FIG. 3, a mask 18 in which a repeating pattern of isosceles triangles was formed was used to perform exposure by i-line to transfer the mask pattern to a resist 19. In the mask pattern used, the portion corresponding to one pixel electrode was divided into two regions, and regular repeating patterns of isosceles triangles were arranged in the respective regions at the same density. The orientations are arranged so that they are different from each other by 180 degrees, and
The direction of the perpendicular line connecting the apex and the base of the isosceles triangle is set to form an angle of 45 degrees with respect to the peripheral side of the pixel electrode (therefore, the signal line and the scanning line). The shape of each isosceles triangle is
The bottom is 5 μm, the distance from the bottom to the apex is 10 μm,
Arrangement density of isosceles triangle is 10 2 pieces / mm-10 7 pieces /
mm.
【００３０】次に、ＭＤ３（商品名、（株）東京応化
製）溶液で現像の後、Ａｇ膜をエッチング液（Ｆｅ（Ｎ
Ｏ3 ）3 ・９Ｈ2 Ｏ（５５％）：Ｈ2 Ｏ＝２：１）を用
いてエッチングを行い、Ａｇからなる二等辺三角形の凸
部を形成した。マスクパターンの二等辺三角形の寸法を
段階的に縮小しながら、上記のフォトリソグラフィプロ
セスを２回繰り返すことによって、ほぼ三角錘状の微小
突起を形成した。Next, after developing with an MD3 (trade name, manufactured by Tokyo Ohka Co., Ltd.) solution, the Ag film is etched with an etching solution (Fe (N
O 3) 3 · 9H 2 O (55%): H 2 O = 2: etching is performed using the 1) to form the convex portions of the isosceles triangle made of Ag. By repeating the above-mentioned photolithography process twice while gradually reducing the size of the isosceles triangle of the mask pattern, a substantially triangular pyramid-shaped fine protrusion was formed.
【００３１】この様にして形成された、微小突起の形状
を図４に示す。微小突起９は、底面をなす二等辺三角形
の頂点を通る稜線が、他の稜線に比べて緩やかな三角錘
であり、この緩やかな稜線と底面のなす角度は、約７度
である。The shape of the minute protrusions formed in this way is shown in FIG. The ridge line passing through the apex of the isosceles triangle forming the bottom surface is a triangular pyramid that is gentler than the other ridgelines, and the angle between the gentle ridgeline and the bottom surface is about 7 degrees.
【００３２】図５に、画素電極上にこれらの微小突起が
形成された状態を示す。ガラス基板１ａの上に形成され
たＡｇ膜２の表面には多数の微小突起８が規則的に配列
されている。FIG. 5 shows a state in which these minute protrusions are formed on the pixel electrode. A large number of minute projections 8 are regularly arranged on the surface of the Ag film 2 formed on the glass substrate 1a.
【００３３】次に、微小突起が形成されたＡｇ膜２を、
上記と同様にフォトリソグラフィによって画素電極の形
に成形した。以上の様にして画素電極が形成されたアレ
イ基板の有効表示領域に、配向膜として可溶性ポリイミ
ドＡ１−１０５１（商品名、日本合成ゴム（株）製）を
印刷して、焼成した。次に、ラビング法により、この配
向膜に配向処理を施してアレイ基板を完成させた。ここ
で、ラビングの方向は、微小突起の底面をなす二等辺三
角形の頂点と底辺を結ぶ垂線の方向、即ち、底面をなす
二等辺三角形の頂点を通る稜線と平行な方向とした。Next, the Ag film 2 on which the minute protrusions are formed,
In the same manner as above, it was formed into a pixel electrode shape by photolithography. Soluble polyimide A1-1051 (trade name, manufactured by Nippon Synthetic Rubber Co., Ltd.) was printed as an alignment film on the effective display area of the array substrate on which the pixel electrodes were formed as described above, and baked. Next, the alignment film was subjected to an alignment treatment by a rubbing method to complete the array substrate. Here, the rubbing direction was the direction of a perpendicular line connecting the apex of the isosceles triangle forming the bottom surface of the minute protrusion and the base, that is, the direction parallel to the ridge line passing through the apex of the isosceles triangle forming the bottom surface.
【００３４】図６に、対向基板側の平面図を示す。対向
基板はガラス電極１ｂの上に透明なＩＴＯ電極７により
ストライプ状のパターンが形成されたもので、このＩＴ
Ｏ電極７は、アレイ基板側の信号線３と直交する方向に
形成されている。ＩＴＯ電極７の上には、更に、配向膜
５ｂ（図示せず）が形成されている。FIG. 6 shows a plan view of the counter substrate side. The counter substrate is one in which a stripe-shaped pattern is formed by the transparent ITO electrode 7 on the glass electrode 1b.
The O electrode 7 is formed in a direction orthogonal to the signal line 3 on the array substrate side. An alignment film 5b (not shown) is further formed on the ITO electrode 7.
【００３５】対向基板の作成方法は以下の通りである。
ガラス電極１ｂの上にＩＴＯ電極７を形成した後、対向
基板の有効表示領域の上に、配向膜としてＡ１−１０５
１（商品名、日本合成ゴム（株）製）を印刷して、焼成
した。次に、ラビング法により、この配向膜に配向処理
を施した。ここで、ラビングの方向は、ＩＴＯ電極７に
対して４５度の角度をなし、且つ、アレイ電極側のラビ
ングの方向と直交する方向とした。次に、対向基板の有
効表示領域の周辺に５ｍｍ幅の開口部を有する周辺シー
ルパターンをスクリーン印刷法で形成して、対向基板を
完成させた。なお、ここで用いたシール材料は１液製エ
ポキシ樹脂のＸＮ−２１（商品名、三井東圧化学（株）
製）である。The method of forming the counter substrate is as follows.
After forming the ITO electrode 7 on the glass electrode 1b, A1-105 as an alignment film is formed on the effective display area of the counter substrate.
1 (trade name, manufactured by Nippon Synthetic Rubber Co., Ltd.) was printed and baked. Next, the alignment film was subjected to an alignment treatment by a rubbing method. Here, the rubbing direction was set at a 45 ° angle with respect to the ITO electrode 7 and was orthogonal to the rubbing direction on the array electrode side. Next, a peripheral seal pattern having an opening with a width of 5 mm was formed around the effective display area of the counter substrate by a screen printing method to complete the counter substrate. The sealing material used here is a one-component epoxy resin XN-21 (trade name, Mitsui Toatsu Chemicals, Inc.).
Made).
【００３６】以上の様にして作成した２枚の基板を、基
板間隙材を介して対向させて重ね合わせ、基板間隙が基
板間隙材の粒径と等しくなるように加圧しながら、１８
０℃で２時間焼成し、空セルを作成した。なお、基板間
隙材として、直径５μｍのミクロパール（商品名、積水
ファインケミカル社製）を使用し、その散布密度は１０
０／ｍｍ2 とした。次に、この空セルに液晶材料とし
て、ＺＬＩ−１５６５（商品名、メルク社製）にＳ８１
１（商品名、メルク社製）を０．１ｗｔ％添加したもの
を注入して、更に、周辺シールパターンの開口部を紫外
線硬化樹脂ＵＶ−１０００（商品名、（株）ソニーケミ
カル製）で封止して、図１に示すような液晶セルとし、
更に、ガラス基板１ｂの上に偏向板を張り合わせて反射
型液晶表示素子を作成した。The two substrates produced as described above are placed facing each other with the substrate gap material interposed therebetween, and the pressure is adjusted so that the substrate gap becomes equal to the particle diameter of the substrate gap material.
A blank cell was prepared by firing at 0 ° C. for 2 hours. As the substrate interstitial material, micropearls (trade name, manufactured by Sekisui Fine Chemical Co., Ltd.) having a diameter of 5 μm were used, and the dispersion density was 10
It was set to 0 / mm 2 . Next, as a liquid crystal material in this empty cell, SLI-1565 (trade name, manufactured by Merck & Co.) was used as a liquid crystal material.
1% (trade name, manufactured by Merck) was added, and the opening of the peripheral seal pattern was further sealed with UV-curing resin UV-1000 (trade name, manufactured by Sony Chemical Co., Ltd.). Then, stop the liquid crystal cell as shown in FIG.
Further, a polarizing plate was attached to the glass substrate 1b to prepare a reflective liquid crystal display element.
【００３７】次に、以上の様にして作成した、反射型液
晶表示素子のサンプルについての反射率の測定結果につ
いて説明する。図７に反射型液晶表示素子の反射率を測
定する装置の概要を示す。図中、２１は反射率を測定す
るサンプル、２２は輝度計、２３ａ、２３ｂは蛍光灯を
表す。輝度計２２はサンプル２１の中心から法線方向に
３００ｍｍの距離に配置されている。２台の３波長管の
蛍光灯２３ａ、２３ｂは、輝度計２２とほぼ同じ高さ
に、前記法線と３０度の角度をなす対称位置に配置され
ている。Next, the results of measuring the reflectance of the sample of the reflection type liquid crystal display device produced as described above will be described. FIG. 7 shows an outline of an apparatus for measuring the reflectance of the reflective liquid crystal display element. In the figure, 21 is a sample for measuring reflectance, 22 is a luminance meter, and 23a and 23b are fluorescent lamps. The luminance meter 22 is arranged at a distance of 300 mm from the center of the sample 21 in the normal direction. The two three-wavelength tube fluorescent lamps 23a and 23b are arranged at substantially the same height as the luminance meter 22 and at symmetrical positions forming an angle of 30 degrees with the normal line.
【００３８】サンプル表面での照度が５８０ルクスとな
る様に調整した後、先ず、標準拡散板（ＭｇＯ板）の輝
度を測定した。次に、サンプルの輝度を測定し、標準拡
散板の輝度の値を反射率１００％として、サンプルの反
射率及びコントラストを算出した。After adjusting the illuminance on the surface of the sample to 580 lux, first, the brightness of the standard diffusion plate (MgO plate) was measured. Next, the brightness of the sample was measured, and the reflectance and contrast of the sample were calculated with the value of the brightness of the standard diffusion plate being 100% reflectance.
【００３９】液晶層への印加電圧を４Ｖとして、全画素
をＭＩＭダイオードにより点灯させた状態で反射率を測
定したところ、反射率は１１０％と極めて高い値を示し
た。次に、印加電圧を０Ｖとして、反射率を測定して、
コントラスト比を算出したところ、９：１と極めて高い
値を示した。更に、視野特性を測定したところ、図８の
等コントラスト線に示す様に、上下の視野角が広い良好
な視野特性が得られた。なお、図８において、半径方向
の座標は、垂直方向の傾き角（例えば、図７における光
源の角度３０度に該当するもの）、等高線は等コントラ
スト線を表す。When the reflectance was measured while the voltage applied to the liquid crystal layer was 4 V and all the pixels were turned on by the MIM diode, the reflectance was 110%, which was an extremely high value. Next, the applied voltage is set to 0 V, the reflectance is measured,
When the contrast ratio was calculated, it was a very high value of 9: 1. Further, when the visual field characteristics were measured, good visual field characteristics with a wide vertical viewing angle were obtained as shown by the isocontrast lines in FIG. Note that, in FIG. 8, the coordinates in the radial direction represent the inclination angle in the vertical direction (for example, those corresponding to the light source angle of 30 degrees in FIG. 7), and the contour lines represent the isocontrast lines.
【００４０】更に、前記と同様なプロセスによって、画
素電極の表面に形成された微小突起の傾斜角度が異なる
複数のサンプルを作成して、これらのサンプルについ
て、図７の装置を用いて反射率を測定した。その結果を
図９に示す。Further, a plurality of samples having different inclination angles of the fine protrusions formed on the surface of the pixel electrode were prepared by the same process as described above, and the reflectance of these samples was measured by using the apparatus shown in FIG. It was measured. The result is shown in FIG.
【００４１】図９に示す様に、反射型液晶素子の反射効
率は、画素電極表面に形成された微小突起の稜線の傾斜
角度により変化し、稜線の傾斜角度が６度以上１１度以
下の場合に、１００％前後の高い反射効率を示した。As shown in FIG. 9, the reflection efficiency of the reflective liquid crystal element changes depending on the inclination angle of the ridgeline of the minute projection formed on the surface of the pixel electrode. When the inclination angle of the ridgeline is 6 degrees or more and 11 degrees or less. In addition, a high reflection efficiency of about 100% was exhibited.
【００４２】なお、上記の実施例においては、微小突起
を底面が二等辺三角形の三角錘状としたが、必ずしも、
この形状のみに限定されるものではない。微小突起の底
面の形は他の三角形でもよく、三角形以外の多角形ある
いは円形でも構わない。液晶分子のプレチルト角及びそ
の方向を支配する最も緩やかな稜線が顕著であり、その
方向及び角度を、ほぼ一定に揃えることができる形状で
あればよい。円形の場合の例を図１０から図１２に示し
た。ここで、図１０は画素電極の表面状態を示す概略
図、図１１はその断面の概念図、図１２は微小突起部の
拡大図である。In the above-mentioned embodiment, the minute projections have a triangular pyramid shape whose bottom surface is an isosceles triangle.
The shape is not limited to this. The shape of the bottom surface of the minute protrusion may be another triangle, or a polygon other than the triangle or a circle. The most gentle ridge line that controls the pretilt angle of the liquid crystal molecules and the direction thereof is remarkable, and the direction and the angle may be substantially constant. An example of a circular shape is shown in FIGS. Here, FIG. 10 is a schematic view showing the surface state of the pixel electrode, FIG. 11 is a conceptual view of the cross section thereof, and FIG. 12 is an enlarged view of the minute projection portion.
【００４３】また、画素電極として、反射率が特に優れ
たＡｇ膜を用いたが、Ａｌあるいはその他の金属でも、
良好な反射率が得られる。また、配向方向ごとにラビン
グを行い、一枚の基板を複数回ラビングするマスクラビ
ング法等と併用してもよい。Although the Ag film having a particularly excellent reflectance is used as the pixel electrode, Al or another metal may be used.
Good reflectance is obtained. Further, it may be used in combination with a mask rubbing method in which rubbing is performed for each alignment direction and one substrate is rubbed plural times.
【００４４】更に、本発明は、反射型のＴＦＤ液晶表示
素子に限らず、反射型のＴＦＴ液晶表示素子にも適用で
きる、また、ＴＮ型液晶表示素子に限らず、ＳＴＮ液晶
表示素子にも適用できる。Further, the present invention can be applied not only to the reflection type TFD liquid crystal display element but also to the reflection type TFT liquid crystal display element. Further, the present invention is not limited to the TN type liquid crystal display element but also applied to the STN liquid crystal display element. it can.
【００４５】反射型液晶表示素子において、金属で形成
された画素電極の表面に多数の微小突起を規則的に配列
して、この画素電極の上に配向膜を形成した結果、平坦
面上で形成されるプレチルト角が比較的小さい、従来の
配向膜材料を使用しても、これらの微小突起の稜線の方
向及び角度によって、液晶分子を大きなプレチルト角で
配向させることが可能となり、反射型液晶表示素子の表
示の均一性を向上させることが可能になる。更に、大き
なプレチルト角を設定することが比較的容易になる結
果、低電圧での駆動が可能になり、液晶表示パネル製造
時の歩留まりの向上、及び、耐久性、信頼性の向上等に
寄与することができる。In the reflection type liquid crystal display element, a large number of minute projections are regularly arranged on the surface of the pixel electrode made of metal, and an alignment film is formed on the pixel electrode. As a result, it is formed on a flat surface. Even if a conventional alignment film material having a relatively small pretilt angle is used, liquid crystal molecules can be aligned at a large pretilt angle by the direction and angle of the ridges of these minute projections, and a reflective liquid crystal display. It is possible to improve the display uniformity of the device. Furthermore, as a result of relatively easy setting of a large pretilt angle, it becomes possible to drive at a low voltage, which contributes to an improvement in yield at the time of manufacturing a liquid crystal display panel and an improvement in durability and reliability. be able to.
【００４６】これらの微小突起の稜線の傾斜角度を調整
することにより、高い反射率を実現することができる。
また、微小突起を金属自体の反射率が高い材料、例え
ば、Ａｇ、あるいはＡｌにより形成することにより、一
層高い反射率を実現することができる。High reflectance can be realized by adjusting the inclination angles of the ridgelines of these minute protrusions.
Further, by forming the minute protrusions with a material having a high reflectance of the metal itself, for example, Ag or Al, a higher reflectance can be realized.
【００４７】[0047]
【発明の効果】本発明は画素電極表面に微小突起を形成
しているので、各画素の内部を複数の領域に分割して、
その分割領域毎に微小突起の方向を変化させることが可
能であり、これによって、各分割領域ごとに異なるプレ
チルト角を与えることができ、その結果、広い視野角を
実現することができる。According to the present invention, since the minute protrusions are formed on the surface of the pixel electrode, the inside of each pixel is divided into a plurality of regions,
It is possible to change the direction of the minute protrusions for each of the divided areas, which makes it possible to give different pretilt angles to each of the divided areas, and as a result, it is possible to realize a wide viewing angle.
【図１】本発明に基づく反射型液晶表示素子の断面の概
要を示す図。FIG. 1 is a diagram showing an outline of a cross section of a reflective liquid crystal display element according to the present invention.
【図２】本発明に基づく反射型液晶表示素子の実施例に
おけるアレイ基板側の平面図。FIG. 2 is a plan view of an array substrate side in an embodiment of a reflective liquid crystal display element according to the present invention.
【図３】画素電極上に微小突起を形成する方法を説明す
る図。FIG. 3 is a diagram illustrating a method of forming minute protrusions on a pixel electrode.
【図４】画素電極上に形成された微小突起の形状の一例
を示す図。FIG. 4 is a diagram showing an example of the shape of minute protrusions formed on a pixel electrode.
【図５】本発明に基づく反射型液晶表示素子の画素電極
の一例を示す図。FIG. 5 is a diagram showing an example of a pixel electrode of a reflective liquid crystal display element according to the present invention.
【図６】本発明に基づく反射型液晶表示素子の実施例に
おける対向基板側の平面図。FIG. 6 is a plan view of a counter substrate side in an embodiment of a reflective liquid crystal display element according to the present invention.
【図７】液晶表示素子の反射率を測定する装置の概要を
示す図。FIG. 7 is a diagram showing an outline of an apparatus for measuring the reflectance of a liquid crystal display element.
【図８】本発明に基づく反射型液晶表示素子の視野特性
の一例を示す図。FIG. 8 is a diagram showing an example of visual field characteristics of a reflective liquid crystal display element according to the present invention.
【図９】本発明に基づく反射型液晶表示素子の反射率と
微小突起の傾斜角度との関係の測定結果を示す図。FIG. 9 is a diagram showing the measurement results of the relationship between the reflectance of the reflective liquid crystal display element according to the present invention and the inclination angle of the minute protrusions.
【図１０】本発明に基づく反射型液晶表示素子の画素電
極の別の例を示す図。FIG. 10 is a view showing another example of the pixel electrode of the reflective liquid crystal display element according to the present invention.
【図１１】図１０の反射型液晶表示素子の画素電極の表
面付近の拡大断面図。11 is an enlarged cross-sectional view near the surface of a pixel electrode of the reflective liquid crystal display element of FIG.
【図１２】図１０の反射型液晶表示素子の画素電極の微
小突起部の拡大図。FIG. 12 is an enlarged view of a minute protrusion of a pixel electrode of the reflective liquid crystal display element of FIG.
１ａ、１ｂ・・・ガラス基板、２・・・画素電極、３・
・・信号線（第二のＴａ層）、４・・・絶縁膜、５ａ、
５ｂ・・・配向膜、６・・・液晶層、７・・・ＩＴＯ電
極、８・・・微小突起、９・・・ＭＩＭダイオード、１
４・・・第二のＴａ層、１５・・・第一のＴａ層、１８
・・・マスク、１９・・・レジスト、２１・・・サンプ
ル、２２・・・輝度計、２３ａ，２３ｂ・・・蛍光灯。1a, 1b ... Glass substrate, 2 ... Pixel electrode, 3 ...
..Signal lines (second Ta layer), 4 ... Insulating film, 5a,
5b ... Alignment film, 6 ... Liquid crystal layer, 7 ... ITO electrode, 8 ... Microprojection, 9 ... MIM diode, 1
4 ... 2nd Ta layer, 15 ... 1st Ta layer, 18
... Mask, 19 ... Resist, 21 ... Sample, 22 ... Luminance meter, 23a, 23b ... Fluorescent lamp.
Claims (4)
素電極が形成されたアレイ基板と、 この基板に間隙を介して対向し、表面に配向膜を有する
対向電極が形成された対向基板と、 この間隙に封止された液晶とを備え、 前記画素電極は、その表面に稜線の方向及び角度が設定
された微小突起が配列して形成され、これらの微小突起
によって液晶のプレチルト角が調整されることを特徴と
する反射型液晶表示素子。1. An array substrate on which a pixel electrode made of a metal thin film having an alignment film on its surface is formed, and an opposite substrate on which an opposite electrode having an alignment film is formed, which opposes the substrate with a gap therebetween. A liquid crystal sealed in this gap is provided, and the pixel electrode is formed by arranging minute protrusions on the surface of which the direction and angle of the ridge are set, and the pretilt angle of the liquid crystal is adjusted by these minute protrusions. A reflective liquid crystal display device characterized by the following.
り、その最も緩やかな稜線の平均傾斜角度は６度以上１
１度以下であることを特徴とする請求項１記載の反射型
液晶表示素子。2. The minute protrusions have a substantially polygonal pyramid shape, and the average inclination angle of the gentlest ridgeline is 6 degrees or more.
The reflective liquid crystal display element according to claim 1, wherein the reflection type liquid crystal display element is 1 degree or less.
ることを特徴とする請求項２記載の反射型液晶表示素
子。3. The reflective liquid crystal display element according to claim 2, wherein the minute protrusions are made of Ag.
前記稜線の方向が互いに異なる複数の領域を設けたこと
を特徴とする請求項２あるいは請求項３に記載の反射型
液晶表示素子。4. The reflective liquid crystal display element according to claim 2, wherein a plurality of regions in which the directions of the ridgelines of the minute protrusions are different from each other are provided inside the pixel electrode.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5476096A JPH09244023A (en) | 1996-03-12 | 1996-03-12 | Reflection type liquid crystal display element |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5476096A JPH09244023A (en) | 1996-03-12 | 1996-03-12 | Reflection type liquid crystal display element |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09244023A true JPH09244023A (en) | 1997-09-19 |
Family
ID=12979734
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5476096A Pending JPH09244023A (en) | 1996-03-12 | 1996-03-12 | Reflection type liquid crystal display element |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09244023A (en) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20020052971A (en) * | 2000-12-25 | 2002-07-04 | 구사마 사부로 | Substrate for liquid crystal display, method for manufacturing the same, liquid crystal display, method for manufacturing the same, and electronic apparatus |
| US6552766B2 (en) | 1998-12-28 | 2003-04-22 | Fujitsu Display Technologies Corporation | Reflection liquid crystal display device having slanted parts in interfaces |
| KR100463598B1 (en) * | 1998-05-15 | 2005-05-16 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | A reflective-type liquid crystal display device and a reflector thereof |
-
1996
- 1996-03-12 JP JP5476096A patent/JPH09244023A/en active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100463598B1 (en) * | 1998-05-15 | 2005-05-16 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | A reflective-type liquid crystal display device and a reflector thereof |
| US6552766B2 (en) | 1998-12-28 | 2003-04-22 | Fujitsu Display Technologies Corporation | Reflection liquid crystal display device having slanted parts in interfaces |
| KR20020052971A (en) * | 2000-12-25 | 2002-07-04 | 구사마 사부로 | Substrate for liquid crystal display, method for manufacturing the same, liquid crystal display, method for manufacturing the same, and electronic apparatus |
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