JP2003001200A - メッキ済み部品の洗浄水処理方法及び装置 - Google Patents
メッキ済み部品の洗浄水処理方法及び装置Info
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Abstract
環して使用するクローズド処理システムを確立し、濃廃
液での排出をすることなく、実質的に固形物である最小
限の排出物だけが排出されるようにして、環境汚染の問
題を解消する。 【解決手段】 メッキ浴槽でメッキ処理されたメッキ済
み部品を収容したバレルユニットを、洗浄水で洗浄する
バレルユニット水洗部と、該バレルユニット水洗部の排
水から固形分となる成分を含む濃縮液を除去する逆浸透
膜装置203と、前記濃縮液の水分を蒸発させて固形分
を取り出す蒸発装置221とを備え、逆浸透膜装置20
3で前記固形分となる成分を含む濃縮液を除去した残り
の排水と、前記濃縮液を蒸発装置221で蒸発させて固
形分を取り出すときに発生する水蒸気を冷却した水とを
再生して前記洗浄水として前記バレルユニット水洗部に
供給する。
Description
洗浄水処理方法及び装置に係り、とくにチップ部品等の
電子部品をバレル電解メッキ後に洗浄水で洗浄するが、
その洗浄水処理方法及び装置に関する。
極)を形成するバレルメッキ装置として、メッキ液を入
れたメッキ浴槽内にバレルユニットを浸漬させる構成が
知られる。そのメッキ浴槽はメッキする金属毎に異なり
複数を用いるが、そのバレルメッキ装置では、メッキ前
洗浄及びメッキ浴槽間洗浄、そうして最終洗浄を行う。
メッキ浴槽は各々単独であり、洗浄も単独にディップタ
イプの水洗が広く実施されているが、そのディップタイ
プの水洗では、オーバーフローとして多くの水洗水量を
必要としている。
イオン交換手段、陰イオン交換手段を通し陽・陰イオン
交換が行われて循環するが、いずれ陽イオン交換手段及
び陰イオン交換手段の濃廃液の処理が必要になり、一般
に専門の水処理業者に依頼して所定の処理が実施され
る。しかし、水処理業者に濃廃液の処理を依頼するとか
なりの費用を要し、また、何処においても水処理業者が
近くで容易に利用できるとは限らない。さらに、外国に
バレルメッキ装置を設置することを考慮すると濃廃液の
処理が問題である。
てチップ部品のバレル電解メッキを行うバレルメッキ装
置と、メッキ済みチップ部品とメディアを分離するとと
もにメッキ済みチップ部品を水洗する分離・洗浄装置と
を一連の装置として構成し、バレルメッキ装置はバレル
ユニットを自動で搬送する構成とし、分離・洗浄装置は
専用の洗浄用ポットを自動で搬送する構成にし、バレル
メッキ装置と分離・洗浄装置間に受渡装置を備え、バレ
ルユニットに収容したメッキ済みチップ部品とメディア
を洗浄用ポットに自動で受渡し、チップ部品の端子電極
を形成するメッキが自動で行われる構成において、チッ
プ部品とメディアに対し、メッキ前洗浄及びメッキ浴槽
間洗浄、そうして最終洗浄、さらに分離・洗浄装置によ
る仕上げの洗浄を構成するような場合、これらの洗浄に
おいて多量の洗浄水を用いる。
クローズド処理システムを確立し、濃廃液での排出をす
ることなく、実質的に固形物である最小限の排出物だけ
が排出されるようにして、廃液の放出がなく、環境汚染
の問題を解消可能なメッキ済み部品の洗浄水処理方法及
び装置を提供することを目的とする。
の実施の形態において明らかにする。
に、本願請求項1の発明に係るメッキ済み部品の洗浄水
処理方法は、メッキ浴槽に浸漬されてメッキ処理された
メッキ済み部品を収容したバレルユニットを、前記メッ
キ浴槽から取り出して洗浄水で洗浄するバレルユニット
水洗工程を備え、該バレルユニット水洗工程に用いる洗
浄水として、当該水洗工程の排水から固形分を除去し、
再生した水を繰り返し使用することを特徴としている。
の洗浄水処理方法は、メッキ浴槽に浸漬されてメッキ処
理されたメッキ済み部品及びメディアを収容したバレル
ユニットを、前記メッキ浴槽から取り出して洗浄水で洗
浄するバレルユニット水洗工程と、該水洗工程を終了し
たバレルユニットから前記メッキ済み部品及びメディア
を洗浄用ポットに移し替えて洗浄水で洗浄するとともに
メディア分離を行うポット水洗工程とを備え、前記バレ
ルユニット水洗工程及び前記ポット水洗工程に用いる洗
浄水として、当該バレルユニット水洗工程の排水から固
形分を除去したものと前記ポット水洗工程の排水とを合
わせて再生した水を繰り返し使用することを特徴として
いる。
の洗浄水処理方法は、請求項1又は2において、前記バ
レルユニット水洗工程の排水を逆浸透膜装置で処理して
固形分となる成分を含む濃縮液を除去した残りの排水
と、前記濃縮液を蒸発装置で蒸発させて固形分を取り出
すときに発生する水蒸気を冷却した水とを再利用するこ
とを特徴としている。
の洗浄水処理方法は、請求項3において、前記メッキ浴
槽が複数あり、各メッキ浴槽に対応して複数のバレルユ
ニット水洗工程を備え、個々のバレルユニット水洗工程
の排水毎に前記逆浸透膜装置が設けられていることを特
徴としている。
の洗浄水処理装置は、部品を収容したバレルユニットが
浸漬されるメッキ浴槽の後段に配置されていて、該メッ
キ浴槽でメッキ処理されたメッキ済み部品を収容したバ
レルユニットを、洗浄水で洗浄するバレルユニット水洗
部と、該バレルユニット水洗部の排水から固形分となる
成分を含む濃縮液を除去する逆浸透膜装置と、前記濃縮
液の水分を蒸発させて固形分を取り出す蒸発装置とを備
え、前記逆浸透膜装置で前記固形分となる成分を含む濃
縮液を除去した残りの排水と、前記濃縮液を蒸発装置で
蒸発させて固形分を取り出すときに発生する水蒸気を冷
却した水とを再生して前記洗浄水として前記バレルユニ
ット水洗部に供給することを特徴としている。
の洗浄水処理装置は、部品を収容したバレルユニットが
浸漬されるメッキ浴槽の後段に配置されていて、該メッ
キ浴槽でメッキ処理されたメッキ済み部品を収容したバ
レルユニットを、洗浄水で洗浄するバレルユニット水洗
部と、該水洗工程を終了したバレルユニットから前記メ
ッキ済み部品及びメディアを洗浄用ポットに移し替えて
洗浄水で洗浄するとともにメディア分離を行うポット水
洗部と、前記バレルユニット水洗部の排水から固形分と
なる成分を含む濃縮液を除去する逆浸透膜装置と、前記
濃縮液の水分を蒸発させて固形分を取り出す蒸発装置と
を備え、前記逆浸透膜装置で前記固形分となる成分を含
む濃縮液を除去した残りの排水と、前記濃縮液を蒸発装
置で蒸発させて固形分を取り出すときに発生する水蒸気
を冷却した水と、前記ポット水洗部の排水とを合わせて
再生して前記洗浄水として前記バレルユニット水洗部及
び前記ポット水洗部に供給することを特徴としている。
の洗浄水処理装置は、請求項5又は6において、前記メ
ッキ浴槽が複数あり、各メッキ浴槽に対応して前記バレ
ルユニット水洗部を複数設け、個々のバレルユニット水
洗部の排水毎に前記逆浸透膜装置を設けたことを特徴と
している。
の洗浄水処理装置は、請求項5,6又は7において、前
記洗浄水の供給経路にイオン除去用のイオン交換装置
と、紫外線で殺菌処理を行う紫外線照射装置とを設けた
ことを特徴としている。
品の洗浄水処理方法及び装置の実施の形態を図面に従っ
て説明する。
水処理方法及び装置の実施の形態であって、洗浄水の処
理系統を示し、図2は各種水洗工程を含む連続搬送バレ
ルメッキ装置の例を示す。また、図3は図2の連続搬送
バレルメッキ装置における1つのメッキ浴槽を含むバレ
ルメッキ装置部を、図4は洗浄部(水洗部)を、図5は
受渡装置部を、図6は分離洗浄装置部をそれぞれ示す。
各種水洗工程等を含む一連の装置からなる連続搬送バレ
ルメッキ装置について説明する。
キを施す第1バレルメッキ装置部、2はNiの電解メッ
キを施す第2バレルメッキ装置部、3はSnの電解メッ
キを施す第3バレルメッキ装置部である。
1,2,3の構成について説明する。これらのバレルメ
ッキ装置部1,2,3はメッキ液の組成及びメッキ用ア
ノードの金属材質が異なること以外は実質的に同じ構成
であり、メッキすべきチップ部品及びメディアを収容し
た筒状のバレル5aを持つバレルユニット5を用いるも
ので、該バレルユニット5が浸されるメッキ液6を貯留
したメッキ浴槽7と、該メッキ浴槽7内にてバレルユニ
ット5を横方向に移動させながらバレル5aを回転(自
転)させる搬送手段8と、バレルユニット5側の集電器
9が接触する給電器10と、メッキ浴槽内側底部に配置
されたメッキ用アノード11とを有している。そして、
矢印Dのようにバレルユニット5をメッキ浴槽7に投入
し、搬送手段8で横方向に搬送し、矢印Uで取り出す間
に、前記給電器10を通して前記集電器9に通電してバ
レル5a内のチップ部品にバレル電解メッキ処理を行う
ようになっている。
工程を実行する水洗部として、図2のように、第1バレ
ルメッキ装置部1の前段にはメッキ前の洗浄を行うメッ
キ前洗浄部20が、第1バレルメッキ装置部1と第2バ
レルメッキ装置部2との間にはCuのメッキ液を洗浄し
て落とす第1洗浄部21が、第2バレルメッキ装置部2
と第3バレルメッキ装置部3との間にはNiのメッキ液
を洗浄して落とす第2洗浄部22が、第3バレルメッキ
装置部3の後段にはSnのメッキ液を洗浄して落とす第
3洗浄部23が配置され、この後段にバレルユニット5
を傾斜状態で洗浄する傾斜洗浄部24が配置されてい
る。この傾斜洗浄部24は後述の受渡装置部30へのバ
レルユニット5の取り出し位置となる。
キ装置部1と第1洗浄部21と第2バレルメッキ装置部
2とはメッキ部架台14の下段位置に1列に配置されて
いるが、第2洗浄部22と第3バレルメッキ装置部3と
第3洗浄部23と傾斜洗浄部24とは架台14の上段位
置に1列に配置されている。このため、下段位置の第2
バレルメッキ装置部2からバレルユニット5を上段位置
に引き上げるエレベータ機構15が設置されている。
3の構成について説明する。これらの洗浄部21,2
2,23は同じ構成であり、バレルユニット5が1個毎
入る3つの区画、つまり第1水洗槽部25a、第2水洗
槽部25b及び第3水洗槽部25cを有する水洗槽25
を有し、各水洗槽部ではシャワー洗浄がディップ洗浄と
共に行われる。各水洗槽部25a,25b,25cには
バレルユニット5が載置される台座26が設置されてい
る。各水洗槽部25a,25b,25cには台座26上
に載置されたバレルユニット5の筒状のバレル5a全体
が浸る洗浄水27a,27b,27cが満たされてい
る。そして、バレルユニット5は各水洗槽部25a,2
5b,25cの順に搬送され、浸されたバレルユニット
5のチップ部品及びメッキ用メディアに付着した前段の
バレルメッキ装置部のメッキ液を洗浄水で洗浄して落と
す。つまり、次段のバレルメッキ装置部のメッキ液を汚
染しないようにする。
ディップ洗浄を行うための水洗槽を有し、これにバレル
ユニット5のバレル5a部分を浸すものである。
を水平状態から傾斜状態に姿勢を変化させなからシャワ
ー洗浄及びディップ洗浄を行う。
洗浄水が供給され(詳細は後述する)、メッキ前洗浄部
20及び傾斜洗浄部24では洗浄水の汚染が少ないの
で、その排水は処理水槽210に戻される。同様に、第
1乃至第3洗浄部21,22,23がそれぞれ備える最
も後段の第3水洗槽部25cからの排水も汚染が少ない
ので処理水槽210に戻される。第1乃至第3洗浄部2
1,22,23がそれぞれ備える中段の第2水洗槽部2
5bからの排水は図1では前段の第1水洗槽部25aの
洗浄水として用いている。第1乃至第3洗浄部21,2
2,23がそれぞれ備える前段の第1水洗槽部25aか
らの排水は汚染の度合いが大きいため原水槽200に戻
される。
メッキ装置部1へ、バレルメッキ装置部1,2,3から
後段の洗浄部21,22,23へ、第3洗浄部23から
後段の傾斜洗浄部24への移し替え動作は、ピック・ア
ンド・プレース機構等の移し替え手段によって行う。
ニットの取り出し位置となる傾斜洗浄部24に近接して
設置されており、つまり受渡装置部架台31がメッキ部
架台14に連結されており、最後の第3バレルメッキ装
置部3でのバレルメッキ処理して傾斜洗浄部24での洗
浄が終了したバレルユニット5をバレル移送手段により
受け取り、当該バレルユニットからチップ部品とメッキ
用メディアを取り出して、メディアは通過可能であるが
チップ部品は通過させない筒状メッシュを有する洗浄用
ポット40に移し替える動作を自動的に実行するもので
ある。
渡装置部架台31上に設置されたバレル移送手段として
のロボットアーム32にて第3バレルメッキ装置部3の
後段側のバレルユニット取り出し位置である傾斜洗浄部
24からメッキ済チップ部品及びメッキ用メディアを収
納したバレルユニット5を取り出し、後述する機構にて
バレル5aの内容物、つまりメッキ済チップ部品及びメ
ッキ用メディアを洗浄用ポット40に移し替えるもので
ある。なお、ロボットアーム32はバレル排出手段とし
ても機能し、空になったバレルユニット5を排出する。
供給手段及びメッキ済チップ部品及びメッキ用メディア
が移し替えられた洗浄用ポット40の分離洗浄装置部6
0への排出手段としてロボットアーム33が前記架台3
1上に設けられている。
トアーム32,33の他に、メッキ済チップ部品及びメ
ッキ用メディアを収納したバレルユニット5のバレル開
閉蓋を開ける蓋開け手段36と、バレルユニット5を載
置する載置台37とを有していて、蓋開け手段36で開
閉蓋を開けられたバレル5aの開口を傾斜させて下に向
けるバレル支持手段35と、前記開閉蓋を開けられたバ
レル5aから落下したメッキ済チップ部品及びメッキ用
メディアを受ける漏斗41と、該漏斗を通って落下した
メッキ済チップ部品及びメッキ用メディアを受け取る位
置に洗浄用ポット40を支えるポット支持手段42と、
前記漏斗41及び洗浄用ポット40が浸るように衝撃緩
和用液体としても機能する洗浄水50を満たすことので
きる液槽43と、洗浄用ポットを前記漏斗下方の液槽内
位置と液槽外位置との間で移送するポット移送手段44
とを備えている。
ボットアーム32にて第3洗浄部23後段の最後尾のス
テーションである傾斜洗浄部24からメッキ済チップ部
品及びメッキ用メディアを収納したバレルユニット5を
取り出し、バレル支持手段35の載置台37上に移載す
る。載置台37上に上向きに置かれたバレルユニット5
に対して蓋開け手段36にてバレル5aの開閉蓋を開け
る。
ポット40をポット仮置き台51に移送し、この上に載
置された洗浄用ポット40をさらにポット移送手段44
のチャックで保持して液槽43内におけるポット支持手
段42の位置P2に載置する。ポット移送手段44のチ
ャックはその洗浄用ポット40から着脱式蓋を外し、当
該着脱式蓋を保持して待機位置に復帰する。位置P2に
置かれた上部が開口した洗浄用ポット40はさらに位置
P1に移送されて漏斗41の下方位置となる。
ット5を配置した載置台37を回転し、図5の仮想線の
ようにバレル5aを斜め下向きに傾斜させる。これによ
りバレル5aの内容物は漏斗41を通してその下方に待
機した洗浄用ポット40の開口に入る。
チップ部品及びメッキ用メディアはバレル5aを回転さ
せながら洗浄水噴射ノズル44でバレル内側に向け洗浄
水(液槽43内の洗浄水と同じ)をシャワー状に出して
漏斗41上に落下させる。
P1の洗浄用ポット40は、ポット支持手段42で位置
P2となり、着脱式蓋を持って待機していたポット移送
手段44のチャックが下降して洗浄用ポット40の着脱
式蓋を装着してからポット仮置き台51に移載する。そ
して、ポット仮置き台51上のメッキ済チップ部品及び
メッキ用メディアを収容した洗浄用ポット40はロボッ
トアーム33にて分離洗浄装置部60のポット受入位置
Qに移送する。
ャワー等へは図1の経路で洗浄水が供給され(詳細は後
述する)、液槽43からの排水は汚染が少ないので処理
水槽210に戻される。
置部60が設置されている。この分離洗浄装置部60
は、前記受渡装置部30にてチップ部品とメッキ用メデ
ィアが収容された洗浄用ポット40をポット移送手段か
ら受け取り、当該洗浄用ポットに洗浄液を噴射して当該
洗浄用ポットからメディアを落下させて分離するととも
にチップ部品を洗浄し、乾燥する工程を自動的に実行す
るものである。
成について説明する。この分離洗浄装置部60は、図5
のポット受入位置Qで受け入れた洗浄用ポット40を矢
印P1,P2,P3の順に間欠搬送し、移送される洗浄
用ポット40内のメッキ済チップ部品及びメッキ用メデ
ィアを、メディア分離部70、超音波洗浄部80及び純
水リンス部90にて洗浄するものであり、さらに図2の
乾燥部100で乾燥処理する。
に載せることで移送され、一連の分離、洗浄、乾燥プロ
セスが完了できるようになっている。
投入すると、搬送手段110上に載置され、まずメディ
ア分離部70に間欠搬送され、ここのシャワー部71に
おいて洗浄用ポット40を回転させながら洗浄水を噴射
して洗浄用ポット40からメディアを分離する。つま
り、洗浄用ポット40のメッシュはチップ部品は通過し
ないが、メディアは通過可能な粗さであり、シャワー部
71の洗浄水の噴射によりメディアが落下する。
メディア分離部70から超音波洗浄部80のシャッター
81,82が開いた状態において洗浄槽83内に導入さ
れる。洗浄用ポット40が洗浄槽83内に入るとシャッ
ター81,82が閉じ、洗浄槽83内に洗浄水が満たさ
れ、超音波振動子84より超音波を放射し、洗浄用ポッ
ト40内のチップ部品に超音波振動を与えることで超音
波洗浄が行われる。
洗浄槽83内の水位を下げ、シャッター81,82を開
いた状態にて搬送手段110により純水リンス部90に
移送される。純水リンス部90においてはスプレーノズ
ル91から洗浄用ポット40に純水を噴射して洗浄し、
チップ部品の表面を純水置換する。
は、搬送手段110の間欠搬送により図2の乾燥部10
0に移送され、エアーブローによってチップ部品は乾燥
させられる。その後、洗浄用ポット40は搬送手段11
0の排出側端に移送される。
離部70、超音波洗浄部80及び純水リンス部90には
図1の経路で洗浄水が供給され(詳細は後述する)、各
部からの排水は汚染が少ないので処理水槽210に戻さ
れる。
ト水洗工程、ポット水洗工程)等を含む連続搬送バレル
メッキ装置の洗浄水の供給並びに排水処理について説明
する。
1,22,23の前段及び中段の第1及び第2水洗槽部
25a,25bで使用された排水は原水槽200に戻さ
れるが、この原水槽200は各種混雑物によってかなり
汚染されている(例えばTDS(Total Dissociated So
lutes:全塩濃度):3000〜5000ppm程
度)。この原水槽200の水は活性炭による吸着効果で
浮遊物等を吸着除去する吸着除去手段としてのAC塔2
01、濾過手段としてのプレフィルター202を通して
RO装置(逆浸透膜装置)203に供給される。このR
O装置203の逆浸透膜により溶解分が除去されて純水
に近くなった水が処理水槽210に供給される。なお、
メッキ前洗浄部20及び傾斜洗浄部24の排水を、原水
槽200の濃度調整のために当該原水槽200に戻す構
成としてもよい。
溶解分を含む濃縮液は濃縮液槽220に蓄えられる。濃
縮液槽220からは濃縮液が蒸発装置221に連続的又
は随時供給され、ここで水分が蒸発させられてほぼ固形
分であるスラッジが排出物として得られる。このスラッ
ジの体積は、1時間当たり数百リットルの洗浄水を循環
させるような場合であっても、極めて少量であり、廃棄
処理するまでの保管が容易である。また、メッキに使用
した金属成分を多量に含むため、資源として再利用する
ことも可能である。
生した水蒸気はクーリングタワー222で冷却されて水
に戻され、前記原水槽200に供給される。
の排水は処理水槽210に戻されるとともに、補給水
(純水)が処理水槽210に適量供給される。処理水槽
210の水はCON(Conductivity:電導度)が100
μS/cm程度であり、その水は濾過手段としてのファイ
ナルフィルター211、イオン除去用のイオン交換装置
としてのMB塔212、紫外線で殺菌処理を行う紫外線
照射装置213、さらにMB塔214を通して前記受渡
装置部30及び分離洗浄装置部60に再生した洗浄水と
して供給される。
着したりして水分が失われ、処理水槽210に前記補給
水(純水)を追加して所定の水量を維持するようにする
が、1時間当たり数百リットルの洗浄水を循環させる場
合でも前記補給水は1時間当たり数リットル以下で済
む。水の再利用率は99.6%程度にまで高めることが
できる。
を得ることができる。
洗浄部20、第1乃至第3洗浄部21,22,23及び
傾斜洗浄部24)に用いる洗浄水として、図1のように
第1乃至第3洗浄部21,22,23がそれぞれ備える
第1及び第2水洗槽部25a,25bの排水からAC塔
201、プレフィルター202やRO装置203を用い
て浮遊物や溶解分を分離し、さらに、ファイナルフィル
ター211を通し、MB塔212によるイオン除去、紫
外線照射装置213の殺菌により再生した水を繰り返し
使用する構成である。そして、RO装置203より出た
濃縮液から更に水分を蒸発装置221で蒸発させてスラ
ッジを排出するとともに、水蒸気は水に戻して再利用す
るため、一連の装置における蒸発や付着で失われる水分
を除いて完全にクローズドに循環するシステムとするこ
とができ、スラッジとして排出される固形分は体積が微
小で、従来の濃廃液に比較して格段に取り扱いと保管が
容易である。
金属成分が含まれるため、金属資源としての利用が可能
である。
トルの洗浄水を循環させる場合でも、処理水槽210に
補給する純水は1時間当たり数リットル以下で済み(例
えば約400リットル/時で洗浄水を循環させる場合、
補給水は1.5リットル/時程度で済み)、水の再利用
率を99.6%程度にまで高めることができ、水資源が
あまり豊富でない所での稼働も可能である。
工程(メッキ前洗浄部20、第1乃至第3洗浄部21,
22,23及び傾斜洗浄部24)のうち、第1乃至第3
洗浄部21,22,23に用いた洗浄水の排水を1系統
のAC塔201、プレフィルター202及びRO装置2
03で処理している。この場合、スラッジにはCuの電
解メッキを施す第1バレルメッキ装置部1、Niの電解
メッキを施す第2バレルメッキ装置部2、Snの電解メ
ッキを施す第3バレルメッキ装置部3の各金属成分、つ
まり Cu,Ni,Snが混在しており、再利用に際
し、金属毎に分離する必要がある。
メッキ浴槽の後段の第1、第2、第3洗浄部21,2
2,23の各排水に対して、AC塔201、プレフィル
ター202、RO装置203及び濃縮液槽220の系統
をそれぞれ設けるようにする。これにより、第1洗浄部
21の排水を処理した濃縮液槽220中にはCu成分
が、第2洗浄部22の排水を処理した濃縮液槽220中
にはNi成分が、第3洗浄部23の排水を処理した濃縮
液槽220中にはSn成分がそれぞれ分離されて得られ
るため、別々に蒸発装置221で蒸発処理することで、
主にCu成分のスラッジ、主にNi成分のスラッジ、及
び主にSn成分のスラッジが別々に得られ、スラッジの
再利用が一層容易となる。
きたが、本発明はこれに限定されることなく請求項の記
載の範囲内において各種の変形、変更が可能なことは当
業者には自明であろう。
キ済み部品の洗浄水処理方法及び装置は、蒸発や付着で
失われる水分を除いて完全にクローズドに循環するシス
テムであり、スラッジとして排出される固形分は体積が
微小で、従来の濃廃液に比較して格段に取り扱いと保管
が容易であり、従って、スラッジを処理業者に渡すこと
は従来に比して遥かに容易であり、輸送に係る費用も遥
かに節約でき、安全かつ容易なスラッジ処理(一般に金
属を回収することが行われる)が可能になる大きな効果
が生じる。また、水の再利用率(リサイクル率)は最高
99.6%程度と高く、環境を汚染することなく資源の
無駄が省ける大きな効果が得られる。
及び装置の実施の形態を示す説明図である。
搬送バレルメッキ装置の例を示す正面図である。
キ装置部の正断面図である。
後段の洗浄部の正断面図である。
であって一部を断面とした正面図である。
置部の要部構成を示す説明図である。
Claims (8)
- 【請求項1】 メッキ浴槽に浸漬されてメッキ処理され
たメッキ済み部品を収容したバレルユニットを、前記メ
ッキ浴槽から取り出して洗浄水で洗浄するバレルユニッ
ト水洗工程を備え、 該バレルユニット水洗工程に用いる洗浄水として、当該
水洗工程の排水から固形分を除去し、再生した水を繰り
返し使用することを特徴とするメッキ済み部品の洗浄水
処理方法。 - 【請求項2】 メッキ浴槽に浸漬されてメッキ処理され
たメッキ済み部品及びメディアを収容したバレルユニッ
トを、前記メッキ浴槽から取り出して洗浄水で洗浄する
バレルユニット水洗工程と、該水洗工程を終了したバレ
ルユニットから前記メッキ済み部品及びメディアを洗浄
用ポットに移し替えて洗浄水で洗浄するとともにメディ
ア分離を行うポット水洗工程とを備え、 前記バレルユニット水洗工程及び前記ポット水洗工程に
用いる洗浄水として、当該バレルユニット水洗工程の排
水から固形分を除去したものと前記ポット水洗工程の排
水とを合わせて再生した水を繰り返し使用することを特
徴とするメッキ済み部品の洗浄水処理方法。 - 【請求項3】 前記バレルユニット水洗工程の排水を逆
浸透膜装置で処理して固形分となる成分を含む濃縮液を
除去した残りの排水と、前記濃縮液を蒸発装置で蒸発さ
せて固形分を取り出すときに発生する水蒸気を冷却した
水とを再利用する請求項1又は2記載のメッキ済み部品
の洗浄水処理方法。 - 【請求項4】 前記メッキ浴槽が複数あり、各メッキ浴
槽に対応して複数のバレルユニット水洗工程を備え、個
々のバレルユニット水洗工程の排水毎に前記逆浸透膜装
置が設けられている請求項3記載のメッキ済み部品の洗
浄水処理方法。 - 【請求項5】 部品を収容したバレルユニットが浸漬さ
れるメッキ浴槽の後段に配置されていて、該メッキ浴槽
でメッキ処理されたメッキ済み部品を収容したバレルユ
ニットを、洗浄水で洗浄するバレルユニット水洗部と、
該バレルユニット水洗部の排水から固形分となる成分を
含む濃縮液を除去する逆浸透膜装置と、前記濃縮液の水
分を蒸発させて固形分を取り出す蒸発装置とを備え、 前記逆浸透膜装置で前記固形分となる成分を含む濃縮液
を除去した残りの排水と、前記濃縮液を蒸発装置で蒸発
させて固形分を取り出すときに発生する水蒸気を冷却し
た水とを再生して前記洗浄水として前記バレルユニット
水洗部に供給することを特徴とするメッキ済み部品の洗
浄水処理装置。 - 【請求項6】 部品を収容したバレルユニットが浸漬さ
れるメッキ浴槽の後段に配置されていて、該メッキ浴槽
でメッキ処理されたメッキ済み部品を収容したバレルユ
ニットを、洗浄水で洗浄するバレルユニット水洗部と、 該水洗工程を終了したバレルユニットから前記メッキ済
み部品及びメディアを洗浄用ポットに移し替えて洗浄水
で洗浄するとともにメディア分離を行うポット水洗部
と、前記バレルユニット水洗部の排水から固形分となる
成分を含む濃縮液を除去する逆浸透膜装置と、前記濃縮
液の水分を蒸発させて固形分を取り出す蒸発装置とを備
え、 前記逆浸透膜装置で前記固形分となる成分を含む濃縮液
を除去した残りの排水と、前記濃縮液を蒸発装置で蒸発
させて固形分を取り出すときに発生する水蒸気を冷却し
た水と、前記ポット水洗部の排水とを合わせて再生して
前記洗浄水として前記バレルユニット水洗部及び前記ポ
ット水洗部に供給することを特徴とするメッキ済み部品
の洗浄水処理装置。 - 【請求項7】 前記メッキ浴槽が複数あり、各メッキ浴
槽に対応して前記バレルユニット水洗部を複数設け、個
々のバレルユニット水洗部の排水毎に前記逆浸透膜装置
を設けてなる請求項5又は6記載のメッキ済み部品の洗
浄水処理装置。 - 【請求項8】 前記洗浄水の供給経路にイオン除去用の
イオン交換装置と、紫外線で殺菌処理を行う紫外線照射
装置とを設けてなる請求項5,6又は7記載のメッキ済
み部品の洗浄水処理装置。
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- 2001-06-20 JP JP2001185760A patent/JP4623868B2/ja not_active Expired - Fee Related
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