JP2002542618A - 自由層の鏡電子散乱によるスピンバルブ・センサ - Google Patents

自由層の鏡電子散乱によるスピンバルブ・センサ

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Abstract

(57)【要約】 強磁性自由層（７６）と、強磁性ピン止め層（８０）と、自由層（７６）とピン止め層（８０）との間に位置する非強磁性材の層（７８）と、ピニング層（８２）がピン止め層（８０）と直接接触するようにピン止め層（８０）に隣接して位置する反強磁性ピニング層（８２）とを含むスピンバルブ・センサ（７０）が開示される。自由層（７６）は、第１及び第２強磁性副層（９４と９８）との間に位置する非磁性絶縁スペーサ（９６）を含む複数層スタックを含む。非磁性絶縁スペーサ（９６）は鏡電子散乱効果を与える。第１及び第２強磁性副層（９４と９８）の各々は中央能動域により分離された受動端部域を有する。スピンバルブ・センサ（７０）は、受動端部域の第１及び第２強磁性副層（９４と９８）との間に位置するバイアス装置（８６と８８）をさらに含む。バイアス装置（８６と８８）は強磁性副層（９４と９８）の能動中央域を単一領域状態に保持するのに十分なレベルの長手方向バイアスを受動端部域に発生する。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】 （発明の背景） 本発明は磁場を感知するするためのスピンバルブ（spin valve）効果を基にし
た磁気抵抗（ＭＲ）センサに概して関係し、特に鏡電子散乱による積層強磁性結
合の自由層と、クロストーク雑音抑止用に改良された長手方向バイアスとを有す
るセンサに関係する。
【０００２】 （関連技術の説明） 磁気読取りヘッドは磁気媒体、すなわちディスク上に記憶された磁気コード化
情報を検索する。磁気読取りヘッドは、上部シールド、下部シールド、及び上下
シールド間に位置する読取りヘッドとを含むいくつかの層から通常形成される。
読取りセンサは一般的に、巨大磁気抵抗（ＧＭＲ）読取りセンサのような型式の
磁気抵抗センサである。ＧＭＲ読取りセンサが磁気読取りヘッドで使用されて磁
気媒体の近くに位置する時、ＧＭＲ読取りセンサの抵抗値は磁気媒体から発生す
る磁場に応答して変動する。ＧＭＲ読取りセンサに感知電流を与えることにより
、ＧＭＲ読取りセンサの抵抗値を外部回路により測定使用し、磁気媒体上に記憶
された情報が復号可能である。
【０００３】 一般的なＧＭＲ読取りセンサ構成はスピンバルブ構成であり、ここでＧＭＲ読
取りセンサは、強磁性自由層と、強磁性ピン止め（pinned）層と、自由層とピン
止め層との間に位置する非磁性スペーサ層から形成される多層構造である。ピン
止め層の磁化方向は一般的にスピンバルブ・ヘッドの空気浮上面と垂直の所定の
方向に固定され、一方、自由層の磁化方向は外部磁場に応答して自由に振動する
。自由層の容易軸は一般的にピン止め層の磁化方向とは垂直に設定される。スピ
ンバルブ読取りセンサの抵抗値は自由層の磁化方向とピン止め層の磁化方向との
間で形成される角度の関数として変化する。この多層スピンバルブ構成は異方性
磁気抵抗（ＡＭＲ）読取りセンサで可能となるものより突出した磁気抵抗効果を
可能とする。
【０００４】 標準的には、ピン止め層の磁化は、ピン止め層との反強磁性ピニング（pinnin
g）層の交換結合により所定の方向に固定される。反強磁性ピニング層は、ピン
止め層と自由層がＧＭＲスピンバルブの末端を形成するように強磁性ピン止め層
上に配置される。
【０００５】 米国特許第５、２０６、５９０号（‘５９０号特許）はスピンバルブ効果を基
にした磁気抵抗センサとして参照されるスピンバルブ・センサを開示している。
‘５９０号特許に開示されたスピンバルブは５０−１００Åの範囲の厚さを有す
る自由層を含む。‘５９０号特許は自由層の領域構造を安定化するための２つの
長手方向バイアス方式を開示する。この方式の１つは自由層の縁部に蒸着した強
固な強磁性フィルムの印加を基にしている。または、‘５９０号特許は、自由層
の縁部に蒸着したフィルムが反強磁性材であるものを開示している。
【０００６】 ‘５９０号特許に開示されたスピンバルブ・センサの自由層の相対的に大きな
厚さは感知回路のシャントにより巨大磁気抵抗の減少を生じ、これは出力信号を
減少させる。従来技術によるスピンバルブ・センサはまた媒体上に記録された隣
接トラックからのクロストーク雑音に対して感度を増加している。
【０００７】 （発明の要約） 自由層と、強磁性材料のピン止め層と、自由層とピン止め層との間に位置する
反強磁性材の層と、ピニング゛層と、このピニング層がピン止め層と隣接して位
置し、ピニング層がピン止め層と直接接続するようにすることを含むスピンバル
ブ・センサが開示される。自由層は、第１及び第２強磁性副層の間に位置する非
磁性絶縁スペーサを含む複数層を含む。非磁性絶縁スペーサは鏡（specular）電
子散乱効果を与える。第１及び第２強磁性副層の各々は中央能動域により分離さ
れた受動端部域を有する。スピンバルブ・センサはさらに受動端部域の第１及び
第２強磁性副層間に位置するバイアス装置を含む。バイアス装置は中央能動域を
単一の領域状態に保持するのに十分なレベルの長手方向バイアスを受動端部域に
発生する。
【０００８】 本発明のスピンバルブ・センサは従来技術のスピンバルブ・センサより大きな
ＧＭＲ比とクロストーク雑音に対する小さな感度を与える。増大したＧＭＲ比は
、自由層で鏡電子散乱効果を開始し、これによりスピン依存散乱が最大である自
由層の部分内に電子を局在化することにより与えられる。クロストーク雑音に対
する感度の減少は、自由層スタックの薄い強磁性副層の端部域間に長手方向バイ
アスを発生する装置を配置することにより与えられる。
【０００９】 （詳細な説明） 本発明のスピンバルブ・センサを説明する前に、従来技術のスピンバルブ・セ
ンサのいくつかの特定実施例を説明する。図１は米国特許第５、２０６、５９０
号に開示されたスピンバルブ・センサを図示する。スピンバルブは、非磁性金属
スペーサ１４により分離された２つの強磁性層１２と１６から形成される複数層
を含む。強磁性層１２は磁場に応答して自由に振動し、一方強磁性層１６は反強
磁性層１８によりピン止めされる。‘５９０号特許は自由層１２の領域構造を安
定化する２つの長手方向バイアス方式を開示している。方式の１つは自由層１２
の縁部に蒸着した強固な強磁性フィルム２６の印加を基にしている。または、‘
５９０号特許は、フィルム２６が反強磁性材であるものを開示している。自由層
１２の厚さは５０−１００Åの範囲である。
【００１０】 図２は従来技術のスピンバルブ・センサ４０のスピン依存散乱の図を示す。ス
ピンバルブ４０は強磁性ピン止め層４２、非磁性スペーサ層４４および強磁性自
由層４６を含む。スピンバルブ４０の感度と熱安定性を改善するために、自由層
４６は、互いに直接接触している、Ｃｏ／ＮｉＦｅのような２つの強磁性層４８
と５０から構成される。図２の矢印により示されるように、特定条件下で、強磁
性層４２と４６の磁化方向は反平行となり得る。その大きな厚さのため、強磁性
層４２と４６は電子５２に大きな平均自由行程を与え、これは低いＧＭＲ比を生
じる。平均自由行程は強磁性層４２の上部と強磁性層５０の下部との境界散乱の
存在により最も制限される。
【００１１】 巨大磁気抵抗は反強磁性的に結合した強磁性層での電子のスピン依存散乱の産
物である。上向きスピン電子が下向きスピン電子とは異なって散乱されるためこ
の散乱はスピン依存である。上向きスピン電子が下向き磁化の強磁性層と出会う
と、電子は散乱されやすくなり、平均自由行程が減少し、抵抗が増加する。反対
に、上向きスピン電子が上向きの磁化の強磁性層と出会った場合、散乱の確率は
減少し、抵抗は減少する。同様に、下向きスピン電子は上向き磁化の強磁性層に
より頻繁に散乱され、下向き磁化の強磁性層により少なく散乱される。
【００１２】 スピン依存散乱は、非磁性層４４との強磁性／非磁性インターフェースに隣接
する強磁性層４２と４６のいくつかの単分子層で最も局在化される。スピン依存
散乱が大きければ大きいほど、ＧＭＲ比は大きくなる。スピン依存散乱とＧＭＲ
の確率はピン止めまたは自由層厚の増加により減少する。
【００１３】 図３は（Ｃｏ（ｔ）／Ｃｕ（１９Å））20複数層スタックでのＣｏ層厚（水平
軸）に対するΔＲまたはＧＭＲ（垂直軸）のグラフを図示する。図３に示すよう
に、巨大磁気抵抗の最大は約１０−１５Åの厚さで発生する。ＧＭＲは強磁性層
厚の増加に従って減少する。
【００１４】 小さいＧＭＲの発生に加えて、厚い強磁性自由層はまた‘５９０号特許の層２
６のように（図１参照）、長手方向バイアス装置との交換結合場の減少も生じる
。交換結合場の減少はクロストーク雑音に対する自由層の感度の減少を生じる。
【００１５】 本発明によるスピンバルブ・センサ７０の望ましい実施例は図４に図示されて
いる。スピンバルブ・センサ７０は基板７２、シード層７４、強磁性自由層７６
、非磁性スペーサ７８、強磁性ピン止め層８０、反強磁性ピニング層８２、キャ
ッピング層８４、反強磁性タブ８６と８８、及び導線９０と９２を含む。自由層
７６は、非磁性絶縁スペーサ９６により分離された強磁性副層９４と９８を含む
複数層構造であることが望ましい。強磁性副層９４と９８はＮｉＦｅ、Ｃｏ、Ｃ
ｏＦｅ、ＮｉＦｅＣｏ、ＣｏＺｒと共にその他の同様な軟磁性材から作成できる
。望ましい実施例では、強磁性副層９４はＮｉＦｅで強磁性副層９８はＣｏＦｅ
である。強磁性副層９８はまたＣｏ／ＮｉＦｅ、ＣｏＦｅ／ＮｉＦｅ、Ｃｏ／Ｎ
ｉＦｅＣｏまたはＣｏＦｅ／ＮｉＦｅＣｏのような、２つの強磁性層を含む複数
層構造を含んでもよい。このような場合、強磁性副層９４のＣｏまたはＣｏＦｅ
層はスペーサ７８と隣接して位置することが望ましい。非磁性金属スペーサ７８
はＣｕ、ＡｇまたはＡｕであることが望ましい。
【００１６】 ピン止め層８０の磁化方向をＡＢＳと直角に保持するために、ピン止め層８０
は反強磁性ピニング層８２と交換結合される。Ｔａから作成されることが望まし
いキャッピング層８４がピニング層８２上に蒸着されてセンサ７０の複数層構造
を酸化から保護する。センサ７０、電流源及び感知装置（図示せず）との間の回
路を形成するため導線９０と９２が設けられる。
【００１７】 シード層７４は自由層７６の蒸着の前に蒸着される。シード層７４はＴａ、Ｎ
ｉＦｅＣｒ、ＲｕまたはＣｒＶから作成されることが望ましい。シード層７４は
シャント効果を最小化するため高抵抗を有することが望ましい。シード層７４の
目的は以後の層のテクスチャ、粒径寸法及び形態（morphology）を最適化するこ
とである。例えば、強磁性層８０とスペーサ７８の間、強磁性層７６とスペーサ
７８との間のインターフェースにはある程度の粗さを有することが望ましい。こ
の粗さは、スピン依存散乱が発生している強磁性層７６と７８へスペーサからの
電子の転送を容易にする。しかしながら、インターフェースは粗すぎてはならず
、さもないとＧＭＲ効果が失われる。形態は大きなＧＭＲ効果を得る際に重要で
ある、何故ならこれは非常に薄い自由層７６と非磁気スペーサ７８の使用を可能
とするからである。
【００１８】 本発明のスピンバルブ・センサ７０では、自由層の従来の単一層またはＣｏ／
ＮｉＦｅ２層構造は、強磁性副層９４と９８間の強磁性結合を与える薄い絶縁フ
ィルム９６により分離された少なくとも２つの強磁性副層９４と９８を含む積層
構造により置き換えられる。本発明による積層自由層７６はＣｏ／ＭＯx／Ｎｉ
Ｆｅの全体構造を有することが望ましく、ここでＭＯxは絶縁体である。絶縁フ
ィルム９６は２つの強磁性フィルム９４と９８が互いに強磁性的に結合すること
を可能とするような適切な型式と厚さである。望ましい実施例では、絶縁フィル
ム９６は約２−１０Å厚のＡｌ2Ｏ3フィルムである。代わりに、絶縁スペーサ９
６はＦｅ2Ｏ3、Ｆｅ3Ｏ4、ＮｉＯ、Ｔａ2Ｏ5、ＳｉＯ2、Ｓｉ3Ｎ4、ＣｏＯ、Ｔ
ｉＯ2、またはその他の絶縁材の薄膜から作成可能である。積層構造の自由層７
６は、強磁性フィルム９４と９８との間の強磁性結合により２層または単一層構
造より低い保磁力とより安定な領域構造を有する。
【００１９】 さらに、絶縁スペーサ９６を有する自由層７６の積層構造はスピンバルブ・セ
ンサ７０のＧＭＲ効果を改善する。絶縁スペーサ９６は強磁性層９８とのインタ
ーフェースでの鏡電子散乱効果を開始する。スピンバルブの鏡電子散乱は、エッ
チ・ジェー・エム・スワッテン（Ｈ．Ｊ．Ｍ．Swagten）、ジー・ジェー・スト
リカー（Ｇ．Ｊ．Strijkers）、アール・エッチ・ジェー・エヌ・ビター（Ｒ．
Ｈ．Ｊ．Ｈ．Bitter）、ダブリュー・ジェー・エム・ド ヨング（Ｗ．Ｊ．Ｍ．
de Jonge）、ジェー・シー・エス・クールス（Ｊ．Ｃ．Ｓ．Kools）の、「Ｎｉ
Ｏ層により囲まれたスピンバルブの鏡反射」、磁性ＩＥＥＥ会誌、第３４巻、第
４号、９４８−９５３頁（１９９８年）に開示されている。強磁性副層９４と９
８との間に絶縁スペーサ９６を配置することにより、自由層７６の電子の平均自
由行程は、図５に見られるように、著しく減少する。
【００２０】 図５は、強磁性ピン止め層８０、非磁性スペーサ層７８、強磁性副層９８と絶
縁スペーサ９６と強磁性副層９４とを有する自由層７６を含む、スピンバルブ・
センサ７０の一部を示す。図５の矢印は各種の強磁性層の磁化方向を表す。電子
１００は、スピン依存散乱が最大である、金属非磁性スペーサ７８に隣接する強
磁性フィルム９８により形成された自由層７６の薄い部分に局在化される。強磁
性フィルム９８の局在化電子１００はスピン依存散乱と巨大磁気抵抗の増加を生
じる。絶縁スペーサ９６は非磁性スペーサ７８と強磁性層９８との間のインター
フェースに近接して配置して、高スピン依存散乱の領域を通過する電子１００の
行程数を増加することが望ましい。強磁性フィルム９８は１０−２０Å厚の範囲
であることが望ましく、これは図３で示すように最大ＧＭＲを発生する厚さであ
る。強磁性フィルム９４は２０−６０Å厚であることが望ましい。
【００２１】 再び図４を参照すると、自由層７６の矢印により指示するように単一領域状態
に自由層７６を保持するために長手方向バイアスを発生する装置が設けられる。
図示の特定実施例では、長手方向バイアスを発生する装置８６と８８は、高ブロ
ックキング温度を有しかつ強磁性フィルム９４と９８と高い交換結合を示す反強
磁性材の層を含む。反強磁性タブ８６と８８は強磁性フィルム９４と９８の端部
域の間に位置し直接接触している。各強磁性フィルム９４と９８の厚さはこれら
のフィルムと絶縁スペーサ９６とから構成される自由層７６の全体厚さより小さ
い。
【００２２】 図６はこれらの層厚に対する強磁性層９４と９８の端部域の保磁力（ＨCE）の
グラフを図示する。図７は強磁性副層９４と９８の厚さに対する反強磁性タブ８
６と８８と強磁性副層９４と９８との間の交換結合強度（ＨEX）のグラフを図示
する。図６と図７の破線は可変厚のＮｉＦｅ強磁性フィルム９８と３０ｎｍ厚の
ＮｉＭｎ反強磁性タブ８６に対するデータを表す。図６と図７の全線は可変厚の
ＮｉＦｅ強磁性フィルム９４と３０ｎｍ厚のＮｉＭｎ反強磁性タブ８６に対する
データを表す。従って、破線に対しては、強磁性フィルムは反強磁性タブより上
に位置し、全線に対しては、強磁性フィルムは反強磁性タブの下に位置する。
【００２３】 図６と図７に示すように、交換結合場（ＨEX）と保磁力（ＨCE）は強磁性副層
９４と９８の厚さの減少に従って増加する。本発明では、反強磁性タブ８６と８
８は自由層７６を形成する強磁性フィルム９４と９８との間に配置される。各強
磁性副層９４と９８の厚さは自由層７６の全体厚より小さく、従来技術の自由層
の厚さより小さい。従って、薄い強磁性副層９４と９８の端部域の交換結合ＨEX と保磁力ＨCEは従来技術より非常に高い。結果として、本発明による自由層７６
の端部域の磁気感度は従来技術より著しく低く、これはクロストーク雑音のより
よい抑止を生じる。
【００２４】 本発明は望ましい実施例を参照して説明して来たが、発明の要旨と範囲から逸
脱することなく形式と詳細に変更を加えうることを当業者は認識できるはずであ
る。
【図面の簡単な説明】
【図１】 従来技術のスピンバルブ・センサの第１の実施例。
【図２】 従来技術のスピンバルブ・センサでのスピン依存散乱の図。
【図３】 （Ｃｏ（ｔ）／Ｃｕ（１９Å））20複数層スタックでのＣｏ層厚に対するＧＭ
Ｒ強度のグラフ。
【図４】 本発明によるスピンバルブ・センサの望ましい実施例。
【図５】 本発明のスピンバルブ・センサの部分でのスピン依存散乱の図。
【図６】 これらの副層の厚さに対する自由層の強磁性副層の端部域の保持力のグラフ。
【図７】 副層の厚さに対する反強磁性バイアス層と自由層の強磁性副層の端部域との間
の交換結合強度のグラフ。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０１Ｆ 10/32 Ｇ０１Ｒ 33/06 Ｒ (72)発明者 マック、アンソニー、エム アメリカ合衆国 ミネソタ、ミネアポリ ス、ザークシーズ アベニュー サウス 4429 Ｆターム(参考） 2G017 AA01 AD55 AD65 5D034 BA03 BA04 BA05 CA08 5E049 AA01 AA04 AA07 AA09 AC05 BA16 CB02 DB12

Claims (18)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 スピンバルブ・センサにおいて、 自由層を含むスピンバルブ・スタックと、 鏡電子散乱効果を与えるための自由層内に位置する手段と、 を備えたスピンバルブ・センサ。
  2. 【請求項２】 請求項１記載のスピンバルブ・センサにおいて、自由層は、 第１及び第２強磁性副層間に位置する非磁性絶縁スペーサを含む複数層スタッ
    クを有し、非磁性絶縁スペーサが鏡電子散乱効果を与えることを含む、スピンバ
    ルブ・センサ。
  3. 【請求項３】 請求項２記載のスピンバルブ・センサにおいて、スピンバル
    ブ・スタックは、 ピン止め層と、 自由層とピン止め層との間に位置する非強磁性材の層を有し、該非強磁性材の
    層が自由層の第１強磁性副層と直接接触し、 ピニング層がピン止め層に隣接して位置するようにピニング層がピン止め層と
    直接接触するようにすること、を含む、スピンバルブ・センサ。
  4. 【請求項４】 請求項２記載のスピンバルブ・センサにおいて、第１及び第
    ２強磁性副層の各々は中央能動域により分離された受動端部域を有し、スピンバ
    ルブ・センサは第１及び第２強磁性副層の受動端部域で第１および第２強磁性副
    層間に位置するバイアス手段をさらに含み、該バイアス手段は中央能動域を単一
    領域状態に保持するのに十分なレベルの長手方向バイアスを受動端部域に発生す
    る、スピンバルブ・センサ。
  5. 【請求項５】 請求項２記載のスピンバルブ・センサにおいて、第１及び第
    ２強磁性副層は各々ＮｉＦｅ、Ｃｏ、ＣｏＦｅ、ＮｉＦｅＣｏ及びＣｏＺｒのど
    れかである、スピンバルブ・センサ。
  6. 【請求項６】 請求項３記載のスピンバルブ・センサにおいて、第１強磁性
    副層は第１及び第２強磁性層を有する複数層構造を含む、スピンバルブ・センサ
    。
  7. 【請求項７】 請求項６記載のスピンバルブ・センサにおいて、第１強磁性
    副層の第１強磁性層はＣｏとＣｏＦｅのうちの一方であり、第１強磁性副層の第
    ２強磁性層はＮｉＦｅとＮｉＦｅＣｏのうちの一方であり、第１強磁性副層の第
    １強磁性層は非強磁性材の層に隣接して位置している、スピンバルブ・センサ。
  8. 【請求項８】 請求項２記載のスピンバルブ・センサにおいて、非磁性絶縁
    スペーサはＳｉＯ2、Ｆｅ2Ｏ3、Ｆｅ3Ｏ4、ＮｉＯ、Ｔａ2Ｏ5、Ａｌ2Ｏ3、Ｓｉ3 Ｎ4、ＣｏＯ、及びＴｉＯ2のうちの１つである、スピンバルブ・センサ。
  9. 【請求項９】 請求項２記載のスピンバルブ・センサにおいて、非磁性絶縁
    スペーサは第１及び第２強磁性副層間の強磁性結合を可能とする適切な厚さであ
    る、スピンバルブ・センサ。
  10. 【請求項１０】 請求項９記載のスピンバルブ・センサにおいて、非磁性絶
    縁スペーサは約２−１０Å厚である、スピンバルブ・センサ。
  11. 【請求項１１】 請求項２記載のスピンバルブ・センサにおいて、第１強磁
    性副層は約１０−２０Å厚である、スピンバルブ・センサ。
  12. 【請求項１２】 請求項１１記載のスピンバルブ・センサにおいて、第２強
    磁性副層は約２０−６０Å厚である、スピンバルブ・センサ。
  13. 【請求項１３】 請求項３記載のスピンバルブ・センサにおいて、非強磁性
    材の層はＣｕ、Ａｇ及びＡｕのうちの１つである、スピンバルブ・センサ。
  14. 【請求項１４】 スピンバルブ・センサにおいて、 自由層を含むスピンバルブ・スタックを有し、該自由層は第１及び第２強磁性
    副層を含む複数層スタックを有し、第１及び第２強磁性副層の各々は中央能動域
    により分離された受動端部域を有し、 第１及び第２強磁性副層の受動端部域の第１および第２強磁性副層間に位置す
    るバイアス手段を有し、該バイアス手段は中央能動域を単一領域状態に保持する
    のに十分なレベルの長手方向バイアスを受動端部域に発生させる、スピンバルブ
    ・センサ。
  15. 【請求項１５】 請求項１４記載のスピンバルブ・センサにおいて、自由層
    は、第１及び第２強磁性副層の中央能動域で第１及び第２強磁性副層間に位置す
    るスペーサ副層をさらに含む、スピンバルブ・センサ。
  16. 【請求項１６】 請求項１５記載のスピンバルブ・センサにおいて、スペー
    サ副層は鏡電子散乱効果を与える、スピンバルブ・センサ。
  17. 【請求項１７】 請求項１４記載のスピンバルブ・センサにおいて、スピン
    バルブ・スタックは、 ピン止め層を有し、 自由層とピン止め層との間に位置する非強磁性材の層を有し、 ピニング層がピン止め層と隣接して位置し、ピニング層がピン止め層と接触す
    るようにすることを含む、スピンバルブ・センサ。
  18. 【請求項１８】 スピンバルブ・センサにおいて、 自由層を含むスピンバルブ・スタックと、 スピン依存散乱の確率が最大となる自由層の部分内に電子を局在化する手段と
    、を備えたスピンバルブ・センサ。
JP2000612769A 1999-04-20 1999-09-02 自由層の鏡電子散乱によるスピンバルブ・センサ Withdrawn JP2002542618A (ja)

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