JP2002531634A - エナメルに安全なクリーニング方法 - Google Patents
エナメルに安全なクリーニング方法Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D3/00—Other compounding ingredients of detergent compositions covered in group C11D1/00
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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-
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- Detergent Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】
本発明は、3.5またはそれより高いpKa値をもつエナメルに安全な酸を含有する液体酸性組成物でエナメル表面をクリーニングする方法であって、前記組成物中にジエチレングリコールのそれぞれモノ低級アルキルエーテル(ここに低級アルキルとは、2個〜6個の炭素原子をもつアルキル基である)またはフェニルエーテルまたはベンジルエーテルが存在しないことを条件とする、エナメルに安全な酸を含有する液体酸性組成物でエナメル表面をクリーニングする方法を提供すること。前記方法において使用する本発明の組成物は、エナメルに対して安全である。
Description
【0001】 技術分野 本発明は、液体酸性組成物を用いたエナメル表面をクリーニングする方法に関
するものである。
するものである。
【0002】 発明の背景 エナメル表面をクリーニングする組成物は、当業界で既知である。 エナメル表面をクリーニングする酸性pHを有する液体組成物は、当業界の文
献、特に硬質表面クリーニング用途(例えば、浴室クリーナー)の文献において
広範に記載されている。
献、特に硬質表面クリーニング用途(例えば、浴室クリーナー)の文献において
広範に記載されている。
【0003】 実際に、酸性組成物は良好な石けんカス除去性能およびライムスケール除去性
能を示す配合物として、酸性組成物をエナメル表面のクリーニングに使用するこ
とは既知である。石けんカスおよびライムスケールは、エナメル表面、特に浴室
、台所などに置かれたエナメル表面に頻繁に生じる汚れである。
能を示す配合物として、酸性組成物をエナメル表面のクリーニングに使用するこ
とは既知である。石けんカスおよびライムスケールは、エナメル表面、特に浴室
、台所などに置かれたエナメル表面に頻繁に生じる汚れである。
【0004】 しかしながら、エナメル表面クリーナーとして使用される酸性組成物の利便性
には幾つかの制限がある。特にエナメル表面が酸に傷つきやすく、エナメル表面
をクリーニングするのに使用する酸性組成物により激しく損傷し得ることは既知
である。
には幾つかの制限がある。特にエナメル表面が酸に傷つきやすく、エナメル表面
をクリーニングするのに使用する酸性組成物により激しく損傷し得ることは既知
である。
【0005】 従って、本発明の目的は、エナメル表面に安全であり、同時に種々の汚れに対
して良好なクリーニング性能を示す酸性組成物でエナメル表面をクリーニングす
る方法を提供することにある。
して良好なクリーニング性能を示す酸性組成物でエナメル表面をクリーニングす
る方法を提供することにある。
【0006】 今般、上記目的は、エナメルに安全な酸を含有する液体酸性組成物でエナメル
表面をクリーニングする方法により解決することが知見された。
表面をクリーニングする方法により解決することが知見された。
【0007】 有利なことに、エナメル表面をクリーニングする方法は、種々のエナメル表面
に使用できる。エナメル表面は、種々の場所で、例えば、家庭内で:台所で(流
しなど);浴室で(浴槽、流し、シャワータイル、浴室エナメル製品など);洗
濯機;および食器洗い機で、見掛けることができる。
に使用できる。エナメル表面は、種々の場所で、例えば、家庭内で:台所で(流
しなど);浴室で(浴槽、流し、シャワータイル、浴室エナメル製品など);洗
濯機;および食器洗い機で、見掛けることができる。
【0008】 本明細書に記載された方法のさらなる利点は、エナメル表面をクリーニングす
るのに使用する組成物が、良好な斑点/汚れ除去性能を示すことである。
るのに使用する組成物が、良好な斑点/汚れ除去性能を示すことである。
【0009】 より詳しくは、液体酸性組成物は、種々のタイプの斑点/汚れ、特に油状の汚
れ(例えば、油状石けんカスまたは台所で見られる油汚れ);ライムスケール;
カビ;白カビ;およびエナメル表面上に見掛けるその他の頑固な汚れに、良好な
斑点/汚れ除去性能を示す。
れ(例えば、油状石けんカスまたは台所で見られる油汚れ);ライムスケール;
カビ;白カビ;およびエナメル表面上に見掛けるその他の頑固な汚れに、良好な
斑点/汚れ除去性能を示す。
【0010】 技術背景 米国特許第4,501,680号には、有機酸、ジエチレングリコールのエーテル、お
よび界面活性剤の混合物を含む酸性液体洗剤組成物が開示されている。
よび界面活性剤の混合物を含む酸性液体洗剤組成物が開示されている。
【0011】 発明の要旨 本発明は、3.5またはそれより高いpKa値をもつエナメルに安全な酸を含
有する液体酸性組成物でエナメル表面をクリーニングする方法であって、前記組
成物中にジエチレングリコールのそれぞれモノ低級アルキルエーテル(ここに低
級アルキルとは、2個〜6個の炭素原子をもつアルキル基である)またはフェニ
ルエーテルまたはベンジルエーテルが存在しないことを条件とする、上記液体酸
性組成物でエナメル表面をクリーニングする方法を包含する。
有する液体酸性組成物でエナメル表面をクリーニングする方法であって、前記組
成物中にジエチレングリコールのそれぞれモノ低級アルキルエーテル(ここに低
級アルキルとは、2個〜6個の炭素原子をもつアルキル基である)またはフェニ
ルエーテルまたはベンジルエーテルが存在しないことを条件とする、上記液体酸
性組成物でエナメル表面をクリーニングする方法を包含する。
【0012】 本発明のその他の好適な態様では、前記液体酸性組成物は、さらに界面活性剤
をも含有する。
をも含有する。
【0013】 さらに、本発明は、3.5またはそれより高いpKa値をもつエナメルに安全
な酸でエナメル表面をクリーニングするのに組成物中で使用し、それにより該組
成物がエナメルに安全である、エナメルに安全な酸の使用方法をも包含する。
な酸でエナメル表面をクリーニングするのに組成物中で使用し、それにより該組
成物がエナメルに安全である、エナメルに安全な酸の使用方法をも包含する。
【0014】 発明の詳細な説明 硬質表面の処理方法 本発明は、本明細書に記載されているエナメルに安全な酸を含む液体酸性組成
物を用いてエナメル表面を処理する方法を包含する。好適な態様では、該方法は
、液体酸性組成物をエナメル表面と接触させることからなる。
物を用いてエナメル表面を処理する方法を包含する。好適な態様では、該方法は
、液体酸性組成物をエナメル表面と接触させることからなる。
【0015】 「エナメル表面」とは、エナメルでできた任意の種類の表面またはエナメルで
被覆した任意の種類の表面を本明細書では意味する。
被覆した任意の種類の表面を本明細書では意味する。
【0016】 「エナメル」とは、チタンまたはジルコニウムホワイトエナメル、または好ま
しくは金属(例えば、鋼)表面の腐食を防止するために金属表面に被覆剤として
使用するチタンまたはジルコニウムホワイト粉末エナメルを意味する。
しくは金属(例えば、鋼)表面の腐食を防止するために金属表面に被覆剤として
使用するチタンまたはジルコニウムホワイト粉末エナメルを意味する。
【0017】 エナメル表面は、通常家屋内で、例えば、浴室で、または台所で見掛けること
ができ、それらは例えばタイル、流し、シャワー、シャワー洗面器、水洗便所、
水槽、シンク、機械装置および付属装置などである。さらに、調理器具、食器や
皿類などもエナメル表面をもつことがある。エナメル表面は、家庭用の器具にも
見掛けることがあり、それらの器具はその内側表面および/または外側表面をエ
ナメルで被覆してあることがあり、それらの器具は加温ボイラー、洗濯機、自動
乾燥機、冷蔵庫。冷凍庫、オーブン、電子レンジ、食器洗い機などが挙げられる
が、これらに限定されない。さらにエナメル表面は、工業用用途、建築用用途な
どにも見掛けられる。これらの用途に見掛けられるエナメル表面の例示は、貯槽
、配管類、反応容器、ポンプ、化学処理装置、機械装置、熱交換器、温水貯槽、
看板、サイロ、または建築用パネルの上部または内部のエナメル表面が挙げられ
る。
ができ、それらは例えばタイル、流し、シャワー、シャワー洗面器、水洗便所、
水槽、シンク、機械装置および付属装置などである。さらに、調理器具、食器や
皿類などもエナメル表面をもつことがある。エナメル表面は、家庭用の器具にも
見掛けることがあり、それらの器具はその内側表面および/または外側表面をエ
ナメルで被覆してあることがあり、それらの器具は加温ボイラー、洗濯機、自動
乾燥機、冷蔵庫。冷凍庫、オーブン、電子レンジ、食器洗い機などが挙げられる
が、これらに限定されない。さらにエナメル表面は、工業用用途、建築用用途な
どにも見掛けられる。これらの用途に見掛けられるエナメル表面の例示は、貯槽
、配管類、反応容器、ポンプ、化学処理装置、機械装置、熱交換器、温水貯槽、
看板、サイロ、または建築用パネルの上部または内部のエナメル表面が挙げられ
る。
【0018】 本発明の方法は、液体酸性組成物が、被処理表面に適用することが提供される
。前記組成物は、非希釈形態で、または希釈形態であってもよい。
。前記組成物は、非希釈形態で、または希釈形態であってもよい。
【0019】 「希釈形態」は、液体酸性組成物を使用者が通常水で希釈することを意味する
。組成物は、その使用前に、典型的に組成物の10重量倍〜400重量倍の量の
水、好ましくは10重量倍〜200重量倍の量の水、より好ましくは10重量倍
〜100重量倍の量の水で希釈される。普通推奨する希釈度は、水中で組成物を
1.2%に希釈する度合である。
。組成物は、その使用前に、典型的に組成物の10重量倍〜400重量倍の量の
水、好ましくは10重量倍〜200重量倍の量の水、より好ましくは10重量倍
〜100重量倍の量の水で希釈される。普通推奨する希釈度は、水中で組成物を
1.2%に希釈する度合である。
【0020】 「非希釈形態」は、液体組成物を何れの希釈を行うことなく被処理エナメル表
面に直接的に適用すること、すなわち、本発明の液体組成物は本明細書に記載し
たような硬質表面に適用することであると理解されたい。
面に直接的に適用すること、すなわち、本発明の液体組成物は本明細書に記載し
たような硬質表面に適用することであると理解されたい。
【0021】 本発明の好適なエナメル表面をクリーニングする方法は、良好な斑点/汚れ除
去性能を達成するために本組成物を適用後に硬質表面の濯ぎ洗いを行わない希釈
形態で適用するにある。
去性能を達成するために本組成物を適用後に硬質表面の濯ぎ洗いを行わない希釈
形態で適用するにある。
【0022】 他の好適なエナメル表面の処理方法は、本発明の組成物を非希釈形態または希
釈形態のいずれかで、エナメル表面に適用して、該表面上に該組成物が作用する
のに充分な時間放置残留させ、適宜該表面を適切な器具、例えばスポンジで拭取
り、次いで好適には水で該表面を濯ぎ洗いするにある。
釈形態のいずれかで、エナメル表面に適用して、該表面上に該組成物が作用する
のに充分な時間放置残留させ、適宜該表面を適切な器具、例えばスポンジで拭取
り、次いで好適には水で該表面を濯ぎ洗いするにある。
【0023】 被処理エナメル表面は、種々の汚れ、例えば、油汚れ(例えば、油状石けんカ
ス、体脂による汚れ、台所の油汚れまたは通常台所で見られる焦げて/粘りつく
食料の残り物など)、またはいわゆる「ライムスケール含有汚れ」で汚される。
「ライムスケール含有汚れ」とは、ここでは、如何なる純ライムスケール汚れ、
すなわち無機質沈着物から本質的になる汚れ並びライムスケール含有汚れ、すな
わち炭酸カルシウムおよび/または炭酸マグネシウムのような無機質沈着物だけ
でなく石けんカス(例えばステアリン酸カルシウム)および他の油汚れ(例えば
体脂汚れ)をも含む汚れを意味する。
ス、体脂による汚れ、台所の油汚れまたは通常台所で見られる焦げて/粘りつく
食料の残り物など)、またはいわゆる「ライムスケール含有汚れ」で汚される。
「ライムスケール含有汚れ」とは、ここでは、如何なる純ライムスケール汚れ、
すなわち無機質沈着物から本質的になる汚れ並びライムスケール含有汚れ、すな
わち炭酸カルシウムおよび/または炭酸マグネシウムのような無機質沈着物だけ
でなく石けんカス(例えばステアリン酸カルシウム)および他の油汚れ(例えば
体脂汚れ)をも含む汚れを意味する。
【0024】クリーニング性能試験法 希釈形態のクリーニング性能は、下記試験法により評価することができる: エナメルのタイルにそれぞれ油状/粒状の人造汚れを塗布して、次いでそれら
経時放置させた。供試組成物および対照組成物を希釈し(例えば、組成物:水=
1:50〜1:100)、これをスポンジに吸収させ、シーンスクラブテスター
(Sheen scrub taster)でタイルをクリーニングするのに使用した。100%き
れにするのに要したテスターのストローク数を記録した。その結果、すなわち、
供試組成物のストローク数を対照組成物の結果(ストローク数)と比較した。
経時放置させた。供試組成物および対照組成物を希釈し(例えば、組成物:水=
1:50〜1:100)、これをスポンジに吸収させ、シーンスクラブテスター
(Sheen scrub taster)でタイルをクリーニングするのに使用した。100%き
れにするのに要したテスターのストローク数を記録した。その結果、すなわち、
供試組成物のストローク数を対照組成物の結果(ストローク数)と比較した。
【0025】 非希釈形態のクリーニング性能の評価のための試験法は、供試組成物および対
照組成物を希釈しないで使用したこと、およびクリーニング後にきれいな水で濯
ぎ洗いを実施したこと、以外は上記方法と同じである。
照組成物を希釈しないで使用したこと、およびクリーニング後にきれいな水で濯
ぎ洗いを実施したこと、以外は上記方法と同じである。
【0026】油状石けんカスのクリーニング性能試験法 この試験法では、エナメルホワイトタイル(通常24cm×4cm)を、主と
して商業的に入手可能なステアリン酸カルシウムと人造体脂汚れとに基づく典型
的な油状石けんカス汚れで被覆した(例えば、0.3gを霧吹きを用いて)。汚
れたタイルをオーブン中で140℃の温度で20分間乾燥し、次いで、一晩中室
温(約20℃〜25℃)で経時放置した。次いで、汚れたタイルを本発明の液体
組成物の3mlをスポンテックス(Spontex(登録商標))スポンジに直接注加
したものを使用してクリーニングした。エナメル表面を完全にきれいにするのに
要したストローク数により、本発明組成物の油状石けんカスの除去能力を測定し
た。ストローク数が少ないほど、組成物の油状石けんカスの除去能力は大きい。
して商業的に入手可能なステアリン酸カルシウムと人造体脂汚れとに基づく典型
的な油状石けんカス汚れで被覆した(例えば、0.3gを霧吹きを用いて)。汚
れたタイルをオーブン中で140℃の温度で20分間乾燥し、次いで、一晩中室
温(約20℃〜25℃)で経時放置した。次いで、汚れたタイルを本発明の液体
組成物の3mlをスポンテックス(Spontex(登録商標))スポンジに直接注加
したものを使用してクリーニングした。エナメル表面を完全にきれいにするのに
要したストローク数により、本発明組成物の油状石けんカスの除去能力を測定し
た。ストローク数が少ないほど、組成物の油状石けんカスの除去能力は大きい。
【0027】液体酸性組成物 本発明による液体酸性組成物は、好適には水性組成物である。従って、本発明
の液体酸性組成物は、全組成物の70重量%〜99重量%、好ましくは75重量
%〜95重量%、より好ましくは85重量%〜95重量%の水を含有する。
の液体酸性組成物は、全組成物の70重量%〜99重量%、好ましくは75重量
%〜95重量%、より好ましくは85重量%〜95重量%の水を含有する。
【0028】 本発明の液体組成物は、酸性であるから、従って7未満、好ましくは1〜6.
5、より好ましくは1〜5、さらにより好ましくは2〜5、最も好ましくは2〜
4のpHを有するのが好ましい。
5、より好ましくは1〜5、さらにより好ましくは2〜5、最も好ましくは2〜
4のpHを有するのが好ましい。
【0029】 本発明の組成物は、化学的に安定であることが有利であり、すなわち、本発明
組成物の異なる成分間には事実上如何なる化学反応もなく、かつ物理的にも安定
で、すなわち、急速経時試験(RAT)で貯蔵したときに、すなわち、50℃で
10日間貯蔵したときに、相分離が全く起こらない。
組成物の異なる成分間には事実上如何なる化学反応もなく、かつ物理的にも安定
で、すなわち、急速経時試験(RAT)で貯蔵したときに、すなわち、50℃で
10日間貯蔵したときに、相分離が全く起こらない。
【0030】 本発明の組成物は、ジエチレングリコールのそれぞれモノ低級アルキルエーテ
ル(ここに低級アルキルとは、2〜6個の炭素原子のアルキル基である)または
フェニルエーテルまたはベンジルエーテルを含まないことを条件とする。
ル(ここに低級アルキルとは、2〜6個の炭素原子のアルキル基である)または
フェニルエーテルまたはベンジルエーテルを含まないことを条件とする。
【0031】エナメルに安全な酸 本発明の方法に使用する組成物は、必須成分として本明細書に記載するエナメ
ルに安全な酸を含有する。
ルに安全な酸を含有する。
【0032】 前記エナメルに安全な酸は、3.5またはそれより高いpKa値を有する。前
記エナメルに安全な酸のpKa値は、好ましくは4.0より高く、より好ましく
は4.5より高い。
記エナメルに安全な酸のpKa値は、好ましくは4.0より高く、より好ましく
は4.5より高い。
【0033】 通常、本発明の組成物は、全組成物の0.1重量%〜10重量%、好ましくは
0.1重量%〜8重量%、より好ましくは0.1重量%〜6重量%のエナメルに
安全な酸を含むことができる。
0.1重量%〜8重量%、より好ましくは0.1重量%〜6重量%のエナメルに
安全な酸を含むことができる。
【0034】 3.5またはそれより高いpKa値をもつ適当なエナメルに安全な酸は、3.
5またはそれより高いpKa値をもつ有機酸または無機酸またはこれらの混合酸
である。
5またはそれより高いpKa値をもつ有機酸または無機酸またはこれらの混合酸
である。
【0035】 3.5またはそれより高いpKa値をもつ適当なエナメルに安全な酸は、3.
5またはそれより高いpKa値をもつ芳香族有機酸または脂肪族有機酸またはこ
れらの混合酸である。
5またはそれより高いpKa値をもつ芳香族有機酸または脂肪族有機酸またはこ
れらの混合酸である。
【0036】 エナメルに安全な適当な脂肪族有機酸の例示は、下記の酸からなる群から選択
される:酢酸、アセト酢酸、アクリル酸、アニス酸、アスコルビン酸、ギ酸、グ
ルタル酸、グリコール酸、アジポアミド酸、アジピン酸、アニシルプロピオン酸
、アスパラギン酸、バルビツル酸、酪酸、カプロン酸、β−クロロ酪酸、γ−ク
ロロ酪酸、クロロ桂皮酸、桂皮酸、クロトン酸、没食子酸、グルタラミン酸(グ
ルタミン酸)(glutaramic acid)、ヘプタン酸、ヘキサン酸、馬尿酸、ヒドロ
キシ酪酸、β−ヒドロキシプロピン酸、イタコン酸、メシチレン酸、メチル桂皮
酸、メチルグルタル酸、メチルコハク酸、オクタン酸、ピメリン酸、プロピオン
酸、スベリン酸、コハク酸、尿酸、および吉草酸、およびそれらの混合酸。
される:酢酸、アセト酢酸、アクリル酸、アニス酸、アスコルビン酸、ギ酸、グ
ルタル酸、グリコール酸、アジポアミド酸、アジピン酸、アニシルプロピオン酸
、アスパラギン酸、バルビツル酸、酪酸、カプロン酸、β−クロロ酪酸、γ−ク
ロロ酪酸、クロロ桂皮酸、桂皮酸、クロトン酸、没食子酸、グルタラミン酸(グ
ルタミン酸)(glutaramic acid)、ヘプタン酸、ヘキサン酸、馬尿酸、ヒドロ
キシ酪酸、β−ヒドロキシプロピン酸、イタコン酸、メシチレン酸、メチル桂皮
酸、メチルグルタル酸、メチルコハク酸、オクタン酸、ピメリン酸、プロピオン
酸、スベリン酸、コハク酸、尿酸、および吉草酸、およびそれらの混合酸。
【0037】 エナメルに安全な適当な芳香族有機酸の例示は、下記の酸からなる群から選択
される:o−アミノ安息香酸、m−アミノ安息香酸、p−アミノ安息香酸、安息
香酸、m−臭化安息香酸、m−塩化安息香酸、p−塩化安息香酸、o−クロロフ
ェニル酢酸、m−クロロフェニル酢酸、p−クロロフェニル酢酸、β−(o−ク
ロロフェニル)プロピオン酸、β−(m−クロロフェニル)プロピオン酸、β−
(p−クロロフェニル)プロピオン酸、3,4−ジヒドロキシ安息香酸、3,5−
ジヒドロキシ安息香酸、2,4−ジニトロフェノール、3,6−ジニトロフェノー
ル、ジフェニル酢酸、エチルフェニル酢酸、ヘキサヒドロ安息香酸、m−ヒドロ
キシ安息香酸、p−ヒドロキシ安息香酸、α−ナフトエ酸、β−ナフトエ酸、ニ
トロベンゼン、o−ニトロフェノール、m−ニトロフェノール、p−ニトロフェ
ノール、o−ニトロフェニル酢酸、m−ニトロフェニル酢酸、p−ニトロフェニ
ル酢酸、o−β−ニトロフェニルプロピオン酸、p−β−ニトロフェニルプロピ
オン酸、フェニル酢酸、γ−フェニル酪酸、α−フェニルプロピオン酸、β−フ
ェニルプロピオン酸、m−フタル酸、p−フタル酸、o−トルイル酸、m−トル
イル酸、およびp−トルイル酸、およびそれらの混合酸。
される:o−アミノ安息香酸、m−アミノ安息香酸、p−アミノ安息香酸、安息
香酸、m−臭化安息香酸、m−塩化安息香酸、p−塩化安息香酸、o−クロロフ
ェニル酢酸、m−クロロフェニル酢酸、p−クロロフェニル酢酸、β−(o−ク
ロロフェニル)プロピオン酸、β−(m−クロロフェニル)プロピオン酸、β−
(p−クロロフェニル)プロピオン酸、3,4−ジヒドロキシ安息香酸、3,5−
ジヒドロキシ安息香酸、2,4−ジニトロフェノール、3,6−ジニトロフェノー
ル、ジフェニル酢酸、エチルフェニル酢酸、ヘキサヒドロ安息香酸、m−ヒドロ
キシ安息香酸、p−ヒドロキシ安息香酸、α−ナフトエ酸、β−ナフトエ酸、ニ
トロベンゼン、o−ニトロフェノール、m−ニトロフェノール、p−ニトロフェ
ノール、o−ニトロフェニル酢酸、m−ニトロフェニル酢酸、p−ニトロフェニ
ル酢酸、o−β−ニトロフェニルプロピオン酸、p−β−ニトロフェニルプロピ
オン酸、フェニル酢酸、γ−フェニル酪酸、α−フェニルプロピオン酸、β−フ
ェニルプロピオン酸、m−フタル酸、p−フタル酸、o−トルイル酸、m−トル
イル酸、およびp−トルイル酸、およびそれらの混合酸。
【0038】 エナメルに安全な適当な無機酸の例示は、下記の酸からなる群から選択される
:o−ホウ酸、炭酸、ゲルマニウム酸、シアン化水素酸、硫化水素、m−珪酸、
o−珪酸、テルル酸およびテトラホウ酸、およびそれらの混合酸。
:o−ホウ酸、炭酸、ゲルマニウム酸、シアン化水素酸、硫化水素、m−珪酸、
o−珪酸、テルル酸およびテトラホウ酸、およびそれらの混合酸。
【0039】 3.5またはそれより高いpKa値をもつ好ましいエナメルに安全な酸は、3
.5またはそれより高いpKa値をもつ有機酸または無機酸、またはそれらの混
合酸である。3.5またはそれより高いpKa値をもつより好ましいエナメルに
安全な酸は、3.5またはそれより高いpKa値をもつ芳香族または脂肪族有機
酸、あるいは3.5またはそれより高いpKa値をもつ無機酸、またはそれらの
混合酸である。
.5またはそれより高いpKa値をもつ有機酸または無機酸、またはそれらの混
合酸である。3.5またはそれより高いpKa値をもつより好ましいエナメルに
安全な酸は、3.5またはそれより高いpKa値をもつ芳香族または脂肪族有機
酸、あるいは3.5またはそれより高いpKa値をもつ無機酸、またはそれらの
混合酸である。
【0040】 好ましいエナメルに安全な脂肪族有機酸は、酢酸、アセト酢酸、アクリル酸、
アニス酸、アスコルビン酸、ギ酸、グルタル酸、グリコール酸、コハク酸、およ
びアジピン酸、およびそれらの混合酸からなる群から選択される。
アニス酸、アスコルビン酸、ギ酸、グルタル酸、グリコール酸、コハク酸、およ
びアジピン酸、およびそれらの混合酸からなる群から選択される。
【0041】 好ましいエナメルに安全な芳香族有機酸は、安息香酸、o−アミノ安息香酸、
m−アミノ安息香酸、p−アミノ安息香酸、3,4−ジヒドロキシ安息香酸、3,
5−ジヒドロキシ安息香酸、およびフェニル酢酸、およびそれらの混合酸からな
る群から選択される。
m−アミノ安息香酸、p−アミノ安息香酸、3,4−ジヒドロキシ安息香酸、3,
5−ジヒドロキシ安息香酸、およびフェニル酢酸、およびそれらの混合酸からな
る群から選択される。
【0042】 好ましいエナメルに安全な無機酸は、テルル酸、炭酸、および次亜塩素酸、お
よびそれらの混合酸からなる群から選択される。
よびそれらの混合酸からなる群から選択される。
【0043】 3.5またはそれより高いpKa値をもつさらに好ましくさえあるエナメルに
安全な酸は、酢酸、アセト酢酸、グルタル酸、アジピン酸、コハク酸、および安
息香酸、およびそれらの混合酸からなる群から選択される。3.5またはそれよ
り高いpKa値をもつ最も好ましいエナメルに安全な酸は、酢酸、グルタル酸、
アジピン酸、およびコハク酸、およびそれらの混合酸からなる群から選択される
。 適当な酸は、アルドリッチ(Aldrich)、アイ・シー・アイ(ICI)およびBASF
から商業的に入手できる。
安全な酸は、酢酸、アセト酢酸、グルタル酸、アジピン酸、コハク酸、および安
息香酸、およびそれらの混合酸からなる群から選択される。3.5またはそれよ
り高いpKa値をもつ最も好ましいエナメルに安全な酸は、酢酸、グルタル酸、
アジピン酸、およびコハク酸、およびそれらの混合酸からなる群から選択される
。 適当な酸は、アルドリッチ(Aldrich)、アイ・シー・アイ(ICI)およびBASF
から商業的に入手できる。
【0044】 本発明は、本明細書に記載するエナメルに安全な酸を含有する液体酸性組成物
でエナメルをクリーニングする方法が、エナメル表面に安全であるとの知見に基
づくものである。
でエナメルをクリーニングする方法が、エナメル表面に安全であるとの知見に基
づくものである。
【0045】 本発明による好適な態様において、エナメル表面をクリーニングする方法に使
用する組成物は、3.5未満のpKa値、より好適には4.0未満のpKa値を
もつ如何なる酸も含まない。
用する組成物は、3.5未満のpKa値、より好適には4.0未満のpKa値を
もつ如何なる酸も含まない。
【0046】 本発明の他の一面は、3.5またはそれより高いpKa値をもつエナメルに安
全な酸をエナメル表面をきれいにするのに組成物中で使用し、それにより前記組
成物がエナメルに安全であることである。
全な酸をエナメル表面をきれいにするのに組成物中で使用し、それにより前記組
成物がエナメルに安全であることである。
【0047】 「エナメル表面に安全な」とは、本明細書に記載する酸性組成物が、他の酸性
組成物と比べて、該酸性組成物で処理したエナメル表面への損傷を防止するか、
あるいは少なくとも減少させることを本発明では意味する。
組成物と比べて、該酸性組成物で処理したエナメル表面への損傷を防止するか、
あるいは少なくとも減少させることを本発明では意味する。
【0048】 エナメル表面への損傷は、カチオン、最もありそうなことは小さなカチオン、
すなわちエナメル表面を処理するのに使用する酸性組成物中に存在する115p
mまたはそれ以下のイオン半径をもつカチオンにより生ずると思われる。このよ
うなカチオンは、例えば、組成物のpHを調節するためにpH緩衝成分またはp
H緩衝系を使用する場合には酸性組成物中に存在する可能性がある。これらのカ
チオンは、エナメルの結晶格子の表面層を貫通し、広がると考えられる。これら
のカチオンは、最終的にはエナメルの結晶格子の表面層に元から存在したカチオ
ンを置換しおよび/またはさもなければエナメルの結晶格子の表面層を変成する
と考えられる。上記置換の結果、エナメル表面は最終的にはその滑らかさを失い
、その結果、その光沢、すなわち輝きを失う。光沢の喪失は、消費者によりエナ
メル表面に対する損傷と認められる。
すなわちエナメル表面を処理するのに使用する酸性組成物中に存在する115p
mまたはそれ以下のイオン半径をもつカチオンにより生ずると思われる。このよ
うなカチオンは、例えば、組成物のpHを調節するためにpH緩衝成分またはp
H緩衝系を使用する場合には酸性組成物中に存在する可能性がある。これらのカ
チオンは、エナメルの結晶格子の表面層を貫通し、広がると考えられる。これら
のカチオンは、最終的にはエナメルの結晶格子の表面層に元から存在したカチオ
ンを置換しおよび/またはさもなければエナメルの結晶格子の表面層を変成する
と考えられる。上記置換の結果、エナメル表面は最終的にはその滑らかさを失い
、その結果、その光沢、すなわち輝きを失う。光沢の喪失は、消費者によりエナ
メル表面に対する損傷と認められる。
【0049】 理論に束縛されることを欲しないが、3.5またはそれより高いpKa値をも
つ酸をエナメルクリーニング組成物中に使用することにより、該酸性組成物のp
Hは、良好なクリーニング性能を達成するのに最適な範囲となり、同時に、処理
したエナメル表面に安全であると考えられている。すなわち、組成物は酸性、好
ましくは7未満、より好ましくは1〜6.5、さらにより好ましくは1〜5、な
お一層好ましくは2〜5、最も好ましくは2〜4のpHをもち、pHはさらに調
節する必要はない。従って、エナメルに安全な酸自体以外にpH緩衝成分または
pH緩衝系を使用する必要はない。こうして、エナメルクリーニング組成物中に
は、エナメル損傷性の少ないカチオンが存在すると考えられる。
つ酸をエナメルクリーニング組成物中に使用することにより、該酸性組成物のp
Hは、良好なクリーニング性能を達成するのに最適な範囲となり、同時に、処理
したエナメル表面に安全であると考えられている。すなわち、組成物は酸性、好
ましくは7未満、より好ましくは1〜6.5、さらにより好ましくは1〜5、な
お一層好ましくは2〜5、最も好ましくは2〜4のpHをもち、pHはさらに調
節する必要はない。従って、エナメルに安全な酸自体以外にpH緩衝成分または
pH緩衝系を使用する必要はない。こうして、エナメルクリーニング組成物中に
は、エナメル損傷性の少ないカチオンが存在すると考えられる。
【0050】 従って、本明細書に記載するエナメル表面をきれいにする方法に使用する組成
物は、エナメル表面に安全である。 エナメル損傷度合いは、下記のエナメル損傷試験法により測定できる。
物は、エナメル表面に安全である。 エナメル損傷度合いは、下記のエナメル損傷試験法により測定できる。
【0051】エナメル損傷試験法 非希釈形態または希釈形態の本発明組成物の数滴を、エナメル表面(例えば、
エナメルタイル)上に置き、その後で表面を時計皿で覆う。15分間後に時計皿
を除き、エナメル表面を水(脱イオン水または水道水)で濯ぎ洗いし、次いで表
面を拭いて乾燥した。エナメル表面の目視の試験(目視の等級付け)あるいは光
沢の測定により、組成物がエナメルに対して安全(非処理エナメル表面に比べて
光沢の差異がない)であるか、安全でない(非処理エナメル表面に比べて光沢の
差異がある)かを確かめた。
エナメルタイル)上に置き、その後で表面を時計皿で覆う。15分間後に時計皿
を除き、エナメル表面を水(脱イオン水または水道水)で濯ぎ洗いし、次いで表
面を拭いて乾燥した。エナメル表面の目視の試験(目視の等級付け)あるいは光
沢の測定により、組成物がエナメルに対して安全(非処理エナメル表面に比べて
光沢の差異がない)であるか、安全でない(非処理エナメル表面に比べて光沢の
差異がある)かを確かめた。
【0052】任意界面活性剤 本発明の液体組成物は、界面活性剤を含むことが好適である。界面活性剤は、
本発明組成物のクリーニング性能にさらなる貢献をするから、本発明では界面活
性剤は望ましい。
本発明組成物のクリーニング性能にさらなる貢献をするから、本発明では界面活
性剤は望ましい。
【0053】 本発明で使用する界面活性剤には、ノニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤
、アニオン界面活性剤、双性イオン界面活性剤、両性界面活性剤およびそれらの
混合界面活性剤が挙げられる。
、アニオン界面活性剤、双性イオン界面活性剤、両性界面活性剤およびそれらの
混合界面活性剤が挙げられる。
【0054】 従って、本発明による組成物は、好適には全組成物の15重量%まで、より好
適には0.5重量%〜8重量%、最も好適には0.5重量%〜8重量%の界面活
性剤を含むことができる。
適には0.5重量%〜8重量%、最も好適には0.5重量%〜8重量%の界面活
性剤を含むことができる。
【0055】 本発明で使用するのに適当なノニオン界面活性剤には、アルキレンオキシド基
(親水性)と分枝鎖状または直鎖状脂肪族[例えば、ゲルベ(Guerbet)アルコ
ールすなわち第二級アルコール]またはアルキル芳香族性であることができる有
機疎水性化合物との縮合により製造された化合物として広義に規定できる部類の
化合物である。特定の疎水性基と縮合する親水性基またはポリオキシアルキレン
基の鎖長は、親水性要素と疎水性要素との所望のバランス度合いをもつ水溶性化
合物を得るように容易に調節できる。従って、好適なノニオン合成洗剤には、下
記のものがある:
(親水性)と分枝鎖状または直鎖状脂肪族[例えば、ゲルベ(Guerbet)アルコ
ールすなわち第二級アルコール]またはアルキル芳香族性であることができる有
機疎水性化合物との縮合により製造された化合物として広義に規定できる部類の
化合物である。特定の疎水性基と縮合する親水性基またはポリオキシアルキレン
基の鎖長は、親水性要素と疎水性要素との所望のバランス度合いをもつ水溶性化
合物を得るように容易に調節できる。従って、好適なノニオン合成洗剤には、下
記のものがある:
【0056】 (i)アルキルフェノールのポリエチレンオキシド縮合物、例えばアルキル基
が直鎖または分枝鎖形態の6個〜20個の炭素原子、好適には8個〜14個の炭
素原子、さらに好適には8個〜12個の炭素原子をもつアルキルフェノールとエ
チレンオキシドとの縮合生成物(エチレンオキシドは、アルキルフェノール1モ
ル当たり通常3〜25モル、好適には10〜25モルのエチレンオキシドの量で
存在する)。このような化合物中のアルキル置換基は、重合したプロピレン、ジ
イソブチレン、オクタン、およびノナンから誘導されることができる。このタイ
プのノニオン界面活性剤の例には、ローム・エンド・ハース(Rohm & Haas)か
らのトリトン(Triton)N−57(登録商標)[ノニルフェノールエトキシレー
ト(5EO)]およびコルブ(KOLB)からのインベンチン(Imbentin)0200
(登録商標)[オクチルフェノールエトキシレート(20EO)]がある。
が直鎖または分枝鎖形態の6個〜20個の炭素原子、好適には8個〜14個の炭
素原子、さらに好適には8個〜12個の炭素原子をもつアルキルフェノールとエ
チレンオキシドとの縮合生成物(エチレンオキシドは、アルキルフェノール1モ
ル当たり通常3〜25モル、好適には10〜25モルのエチレンオキシドの量で
存在する)。このような化合物中のアルキル置換基は、重合したプロピレン、ジ
イソブチレン、オクタン、およびノナンから誘導されることができる。このタイ
プのノニオン界面活性剤の例には、ローム・エンド・ハース(Rohm & Haas)か
らのトリトン(Triton)N−57(登録商標)[ノニルフェノールエトキシレー
ト(5EO)]およびコルブ(KOLB)からのインベンチン(Imbentin)0200
(登録商標)[オクチルフェノールエトキシレート(20EO)]がある。
【0057】 (ii)プロピレンオキシドとエチレンジアミンとの反応から得られる生成物と
エチレンオキシドとの縮合反応から得られる生成物(この生成物は、所望の疎水
性要素および親水性要素間のバランスに応じて組成が変化できる)。この生成物
の例は、40〜80重量%のポリオキシエチレン単位を含み、エチレンジアミン
と過剰量のプロピレンオキシドとの反応生成物により構成される疎水性基剤(こ
の基剤は、2500〜3000程度の分子量をもつ)とエチレンオキシド基との
反応から得られる5000〜11000の分子量を有する。このタイプのノニオ
ン界面活性剤の例には、BASFにより市販されるテトロニック(Tetronic)(登録
商標)が商業的に入手可能である。
エチレンオキシドとの縮合反応から得られる生成物(この生成物は、所望の疎水
性要素および親水性要素間のバランスに応じて組成が変化できる)。この生成物
の例は、40〜80重量%のポリオキシエチレン単位を含み、エチレンジアミン
と過剰量のプロピレンオキシドとの反応生成物により構成される疎水性基剤(こ
の基剤は、2500〜3000程度の分子量をもつ)とエチレンオキシド基との
反応から得られる5000〜11000の分子量を有する。このタイプのノニオ
ン界面活性剤の例には、BASFにより市販されるテトロニック(Tetronic)(登録
商標)が商業的に入手可能である。
【0058】 (iii)直鎖状または分枝鎖状形態の2個〜24個の炭素原子鎖、好適には6
個〜22個、より好適には6個〜28個、さらに好適には8個〜18個の炭素原
子鎖をもつ脂肪族アルコールと、2〜35モル、好適には4〜25モル、より好
適には5〜18モル、さらに好適には3〜15モルのエチレンオキシドとの縮合
生成物。このタイプの物質の例は、ココヤシアルコールとエチレンオキシドとの
縮合生成物で、ココヤシアルコール1モル当たり5〜18モルのエチレンオキシ
ドを含み、ココヤシアルコール部分は9〜14個の炭素原子をもつ。このタイプ
のノニオン界面活性剤の他の例には、シェル(Shell)社により市販されて商業
的に入手できるドバノール(Dobanol)(登録商標)、ネオドール(Neodol)(登
録商標)、またはBASFから市販されているルテンソール(Lutensol)(登録商標)
、例えば、ドバノール(Dobanol)(登録商標)23.5(C12−C13 EO
5)、ドバノール(Dobanol)(登録商標)91.5(C9−C11 EO5)、
ドバノール(Dobanol)91.8(C9−C11 EO8)およびルテンソール(
Lutensol)(登録商標)AO30(C12−C14 EO30)がある。
個〜22個、より好適には6個〜28個、さらに好適には8個〜18個の炭素原
子鎖をもつ脂肪族アルコールと、2〜35モル、好適には4〜25モル、より好
適には5〜18モル、さらに好適には3〜15モルのエチレンオキシドとの縮合
生成物。このタイプの物質の例は、ココヤシアルコールとエチレンオキシドとの
縮合生成物で、ココヤシアルコール1モル当たり5〜18モルのエチレンオキシ
ドを含み、ココヤシアルコール部分は9〜14個の炭素原子をもつ。このタイプ
のノニオン界面活性剤の他の例には、シェル(Shell)社により市販されて商業
的に入手できるドバノール(Dobanol)(登録商標)、ネオドール(Neodol)(登
録商標)、またはBASFから市販されているルテンソール(Lutensol)(登録商標)
、例えば、ドバノール(Dobanol)(登録商標)23.5(C12−C13 EO
5)、ドバノール(Dobanol)(登録商標)91.5(C9−C11 EO5)、
ドバノール(Dobanol)91.8(C9−C11 EO8)およびルテンソール(
Lutensol)(登録商標)AO30(C12−C14 EO30)がある。
【0059】 (iv)トリアルキルアミンオキシドおよびトリアルキルホスフィンオキシド(こ
こに1個のアルキル基は10個〜18個の炭素原子をもち、2個のアルキル基は
1個〜3個の炭素原子をもつ;これらのアルキル基はヒドロキシ置換基を含むこ
とができる);特定例はドデシルジ(2−ヒドロキシエチル)アミンオキシドお
よびテトラデシルジメチルホスフィンオキシドである。
こに1個のアルキル基は10個〜18個の炭素原子をもち、2個のアルキル基は
1個〜3個の炭素原子をもつ;これらのアルキル基はヒドロキシ置換基を含むこ
とができる);特定例はドデシルジ(2−ヒドロキシエチル)アミンオキシドお
よびテトラデシルジメチルホスフィンオキシドである。
【0060】 (v)プロピレンオキシドとプロピレングリコールの縮合により生成した疎水性
基剤とエチレンオキシドとの縮合生成物;これらの化合物の疎水性部分は、好適
には1500〜1800の分子量をもち、水不溶性を示す。この疎水性部分にポ
リオキシエチレン単位の付加により分子全体としての水溶解性が増大する傾向が
あり、縮合生成物の液状特性はポリオキシエチレン含有量が縮合生成物の全重量
の50%の点まで維持される。この50%の点は、40モルまでのエチレンオキ
シド縮合物に対応する。このタイプの化合物の例には、BASFにより市販されてい
るプルロニック(Pluronic)(登録商標)界面活性剤が商業的に入手可能である。
基剤とエチレンオキシドとの縮合生成物;これらの化合物の疎水性部分は、好適
には1500〜1800の分子量をもち、水不溶性を示す。この疎水性部分にポ
リオキシエチレン単位の付加により分子全体としての水溶解性が増大する傾向が
あり、縮合生成物の液状特性はポリオキシエチレン含有量が縮合生成物の全重量
の50%の点まで維持される。この50%の点は、40モルまでのエチレンオキ
シド縮合物に対応する。このタイプの化合物の例には、BASFにより市販されてい
るプルロニック(Pluronic)(登録商標)界面活性剤が商業的に入手可能である。
【0061】 米国特許第4,565,647号[レナドー(Llenado)、1986年1月21日発行]明細書に
開示され、6個〜30個の炭素原子、好適には10個〜16個の炭素原子を含有
する疎水性基をもつアルキルポリサッカリド、および親水性基が1.3〜10個
のサッカリド単位、好適には1.3〜3個、最も好適には1.3〜2.7個のサ
ッカリド単位を含有するポリサッカリド、例えばポリグリコシドもノニオン界面
活性剤として有用である。5個〜6個の炭素原子を含有する任意の還元性サッカ
リドを使用でき、例えばグルコース、ガラクトースおよびガラクトシル部分をグ
ルコシル部分の代りに置換できる(適宜、疎水性基は2−位置、3−位置、4−
位置、など結合でき、従ってグルコシドまたはガラクトシドではなくグルコース
またはガラクトースを生じる)。サッカリド間の結合は、例えば付加するサッカ
リド単位と前置されたサカリド単位の前記2−位置、3−位置、4−位置および
/または6−位置の内の1つとの間で有り得る。
開示され、6個〜30個の炭素原子、好適には10個〜16個の炭素原子を含有
する疎水性基をもつアルキルポリサッカリド、および親水性基が1.3〜10個
のサッカリド単位、好適には1.3〜3個、最も好適には1.3〜2.7個のサ
ッカリド単位を含有するポリサッカリド、例えばポリグリコシドもノニオン界面
活性剤として有用である。5個〜6個の炭素原子を含有する任意の還元性サッカ
リドを使用でき、例えばグルコース、ガラクトースおよびガラクトシル部分をグ
ルコシル部分の代りに置換できる(適宜、疎水性基は2−位置、3−位置、4−
位置、など結合でき、従ってグルコシドまたはガラクトシドではなくグルコース
またはガラクトースを生じる)。サッカリド間の結合は、例えば付加するサッカ
リド単位と前置されたサカリド単位の前記2−位置、3−位置、4−位置および
/または6−位置の内の1つとの間で有り得る。
【0062】 適宜、そして余り望ましくないが、疎水性部分およびポリサッカリド部分に結
合したポリアルキレンオキシ鎖があってもよい。好適なアルキレンオキシドは、
エチレンオキシドである。典型的な疎水性基には、8個〜18個、好適には10
個〜16個の炭素原子を含有する、飽和または不飽和、直鎖または分枝鎖のアル
キル基である。好適には、該アルキル基は、3個までのヒドロキシル基および/
または10個までの、好適には5個までのアルキレンオキシド部分であることが
できるポリアルキレンオキシドを含有できる。適切なアルキルポリサッカリドは
、オクチル−、ノニルデシル−、ウンデシル−、ドデシル−、トリデシル−、テ
トラデシル−、ペンタデシル−、ヘキサデシル−、ヘプタデシル−およびオクタ
デシル−、ジ、トリ、テトラ、ペンタおよびヘキサグリコシド、ガラクトシド、
ラクトシド、グルコース、フルクトシド、フルクトースおよび/またはガラクト
ースである。好適な混合物は、ココナツアルキル ジ−、トリ−、テトラ−、お
よびペンタ−グルコシドおよびタロウアルキル−テトラ、ペンタおよびヘキサグ
リコシドである。
合したポリアルキレンオキシ鎖があってもよい。好適なアルキレンオキシドは、
エチレンオキシドである。典型的な疎水性基には、8個〜18個、好適には10
個〜16個の炭素原子を含有する、飽和または不飽和、直鎖または分枝鎖のアル
キル基である。好適には、該アルキル基は、3個までのヒドロキシル基および/
または10個までの、好適には5個までのアルキレンオキシド部分であることが
できるポリアルキレンオキシドを含有できる。適切なアルキルポリサッカリドは
、オクチル−、ノニルデシル−、ウンデシル−、ドデシル−、トリデシル−、テ
トラデシル−、ペンタデシル−、ヘキサデシル−、ヘプタデシル−およびオクタ
デシル−、ジ、トリ、テトラ、ペンタおよびヘキサグリコシド、ガラクトシド、
ラクトシド、グルコース、フルクトシド、フルクトースおよび/またはガラクト
ースである。好適な混合物は、ココナツアルキル ジ−、トリ−、テトラ−、お
よびペンタ−グルコシドおよびタロウアルキル−テトラ、ペンタおよびヘキサグ
リコシドである。
【0063】 好適なアルキルポリグリコシドは、下記の式で表わされる:
【0064】
【化1】 R2O(CnH2nO)t(グリコシル)x
【0065】 上式中、R2は、アルキル基、アルキルフェニル基、ヒドロキシアルキル基、
ヒドロキシアルキルフェニル基(ここにアルキルは、10〜18個、好適には1
2〜14個の炭素原子を含むアルキル基である)、およびこれらの混合基からな
る群から選択され、nは2または3、好適には2であり、tは0〜10、好適に
は0であり、xは1.3〜10、好適には1.3〜3、最も好適には1.3〜2
.7である。上記グリコシル基は、好適にはグルコースから得られる。これらの
化合物を製造するには、最初にアルコールあるいはアルキルポリエトキシアルコ
ールを造り、次いでこれをグルコースまたはグルコース源と反応させて、グルコ
シド(1−位置で結合)を生成させる。次いで付加的なグリコシル単位を、該付
加的なグリコシル単位の1−位置と前置されたグリコシル単位の2−、3−、4
−および/または6−位置、好適には2−位置との間に結合できる。
ヒドロキシアルキルフェニル基(ここにアルキルは、10〜18個、好適には1
2〜14個の炭素原子を含むアルキル基である)、およびこれらの混合基からな
る群から選択され、nは2または3、好適には2であり、tは0〜10、好適に
は0であり、xは1.3〜10、好適には1.3〜3、最も好適には1.3〜2
.7である。上記グリコシル基は、好適にはグルコースから得られる。これらの
化合物を製造するには、最初にアルコールあるいはアルキルポリエトキシアルコ
ールを造り、次いでこれをグルコースまたはグルコース源と反応させて、グルコ
シド(1−位置で結合)を生成させる。次いで付加的なグリコシル単位を、該付
加的なグリコシル単位の1−位置と前置されたグリコシル単位の2−、3−、4
−および/または6−位置、好適には2−位置との間に結合できる。
【0066】 本発明で使用する他の適当なノニオン界面活性剤は、下記の構造式(1)で表
わされる脂肪酸アミドである:
わされる脂肪酸アミドである:
【0067】
【化2】
【0068】 上式中、R1は、HまたはC1−C4炭化水素基、2−ヒドロキシエチル基、2
−ヒドロキシプロピル基、またはそれらの混合物であり、好適にはC1−C4アル
キル基、より好適にはC1またはC2アルキル基、最も好適にはC1アルキル基(
すなわちメチル基)であり、R2は、C5−C31炭化水素基、好適には直鎖C7−
C19アルキルまたはアルケニル基、より好適には直鎖C9−C17アルキルまたは
アルケニル基、最も好適には直鎖C11−C17アルキルまたはアルケニル基または
それらの混合基である。Zは、後記炭化水素鎖に直接結合した少なくとも3個の
ヒドロキシル基をもつ直鎖状炭化水素鎖をもつポリヒドロキシ炭化水素基または
そのアルコキシル化(好適にはエトキシル化またはプロポキシル化)誘導体であ
る。Zは、好適には還元性アミノ化反応において還元糖から得られ、Zはより好
適にはグリシチル基である。適切な還元糖は、グルコース、フルクトース、マル
トース、ラクトース、ガラクトース、マンノースおよびキシロースである。原料
物質として高デキストロースコーンシロップ、並びに上述の糖を使用できる。こ
れらのコーンシロップは、Zについての糖成分の混合物を生成できる。他の適当
な原料物質を排除することを意図するのもでないことを留意すべきである。Zは
、好適には−CH2−(CHOH)n−CH2OH、−CH(CH2OH)−(CHOH) n-1 −CH2OH、−CH2−(CHOH)2(CHOR')(CHOH)−CH2OH(こ
こにnは3〜5の整数で、R'はHまたは環式または脂肪族モノサッカリドであ
る)およびそれらのアルコキシル化誘導体からなる群から選ばれる。nが4であ
るグリシチル、特に−CH2−(CHOH)4−CH2OHが最も好適である。
−ヒドロキシプロピル基、またはそれらの混合物であり、好適にはC1−C4アル
キル基、より好適にはC1またはC2アルキル基、最も好適にはC1アルキル基(
すなわちメチル基)であり、R2は、C5−C31炭化水素基、好適には直鎖C7−
C19アルキルまたはアルケニル基、より好適には直鎖C9−C17アルキルまたは
アルケニル基、最も好適には直鎖C11−C17アルキルまたはアルケニル基または
それらの混合基である。Zは、後記炭化水素鎖に直接結合した少なくとも3個の
ヒドロキシル基をもつ直鎖状炭化水素鎖をもつポリヒドロキシ炭化水素基または
そのアルコキシル化(好適にはエトキシル化またはプロポキシル化)誘導体であ
る。Zは、好適には還元性アミノ化反応において還元糖から得られ、Zはより好
適にはグリシチル基である。適切な還元糖は、グルコース、フルクトース、マル
トース、ラクトース、ガラクトース、マンノースおよびキシロースである。原料
物質として高デキストロースコーンシロップ、並びに上述の糖を使用できる。こ
れらのコーンシロップは、Zについての糖成分の混合物を生成できる。他の適当
な原料物質を排除することを意図するのもでないことを留意すべきである。Zは
、好適には−CH2−(CHOH)n−CH2OH、−CH(CH2OH)−(CHOH) n-1 −CH2OH、−CH2−(CHOH)2(CHOR')(CHOH)−CH2OH(こ
こにnは3〜5の整数で、R'はHまたは環式または脂肪族モノサッカリドであ
る)およびそれらのアルコキシル化誘導体からなる群から選ばれる。nが4であ
るグリシチル、特に−CH2−(CHOH)4−CH2OHが最も好適である。
【0069】 構造式(1)において、R1は、例えばN−メチル、N−エチル、N−プロピ
ル、N−イソプロピル、N−ブチル、N−2−ヒドロキシエチルまたはN−2−
ヒドロキシプロピルであることができる。
ル、N−イソプロピル、N−ブチル、N−2−ヒドロキシエチルまたはN−2−
ヒドロキシプロピルであることができる。
【0070】 R2−CO−N<は、例えばコカミド、ステアルアミド、オレアミド、ラウリ
ンアミド、ミリストアミド、カプリンアミド、パルミトアミド、タロウアミドな
どであることができる。 Zは、1−デオキシグリシチル、2−デオキシフルクチチル、1−デオキシマ
ルチチル、1−デオキシラクチチル、1−デオキシガラクチチル、1−デオキシ
マンニチル、1−デオキシマルトトリオチチル基などであることができる。
ンアミド、ミリストアミド、カプリンアミド、パルミトアミド、タロウアミドな
どであることができる。 Zは、1−デオキシグリシチル、2−デオキシフルクチチル、1−デオキシマ
ルチチル、1−デオキシラクチチル、1−デオキシガラクチチル、1−デオキシ
マンニチル、1−デオキシマルトトリオチチル基などであることができる。
【0071】 本発明で使用する他の適当なノニオン界面活性剤は、下記の式に相当するアミ
ンオキシドである:
ンオキシドである:
【0072】
【化3】 RR′R″N→O
【0073】 上式において、Rは6〜24個の炭素原子、好適には10〜18個の炭素原子
を含有する第一級アルキル基で、R′とR″とは各々独立的に1〜6個の炭素原
子のアルキル基である。上記式中の矢印は、半極性結合の慣用の表現である。好
適なアミンオキシドは、前記第一級アルキル基がアミンオキシド分子の少なくと
も大部分、通常少なくとも70%、好適には少なくとも90%をなす直鎖をもつ
アミンオキシドであり、特に好適なアミンオキシドは、Rが10〜18個の炭素
原子をもち、R′とR″とが共にメチル基であるアミンオキシドである。好適な
アミンオキシドの例は、N−ヘキシルジメチルアミンオキシド、N−オクチルジ
メチルアミンオキシド、N−デシルジメチルアミンオキシド、N−ドデシルジメ
チルアミンオキシド、N−テトラデシルジメチルアミンオキシド、N−ヘキサデ
シルジメチルアミンオキシド、N−オクタデシルジメチルアミンオキシド、N−
エイコシルジメチルアミンオキシド、N−ドコシルジメチルアミンオキシド、N
−テトラコシルジメチルアミンオキシド、および上記アミンオキシドにおける1
個または2個のメチル基が、エチル基または2−ヒドロキシエチル基またはそれ
らの混合基で置換された対応するアミンオキシドである。本発明で使用するのに
最も好適なアミンオキシドは、N−デシルジメチルアミンオキシドである。
を含有する第一級アルキル基で、R′とR″とは各々独立的に1〜6個の炭素原
子のアルキル基である。上記式中の矢印は、半極性結合の慣用の表現である。好
適なアミンオキシドは、前記第一級アルキル基がアミンオキシド分子の少なくと
も大部分、通常少なくとも70%、好適には少なくとも90%をなす直鎖をもつ
アミンオキシドであり、特に好適なアミンオキシドは、Rが10〜18個の炭素
原子をもち、R′とR″とが共にメチル基であるアミンオキシドである。好適な
アミンオキシドの例は、N−ヘキシルジメチルアミンオキシド、N−オクチルジ
メチルアミンオキシド、N−デシルジメチルアミンオキシド、N−ドデシルジメ
チルアミンオキシド、N−テトラデシルジメチルアミンオキシド、N−ヘキサデ
シルジメチルアミンオキシド、N−オクタデシルジメチルアミンオキシド、N−
エイコシルジメチルアミンオキシド、N−ドコシルジメチルアミンオキシド、N
−テトラコシルジメチルアミンオキシド、および上記アミンオキシドにおける1
個または2個のメチル基が、エチル基または2−ヒドロキシエチル基またはそれ
らの混合基で置換された対応するアミンオキシドである。本発明で使用するのに
最も好適なアミンオキシドは、N−デシルジメチルアミンオキシドである。
【0074】 本発明の目的に適した他のノニオン界面活性剤は、下記の式で表されるホスフ
ィンオキシドまたはスルホキシド界面活性剤である:
ィンオキシドまたはスルホキシド界面活性剤である:
【0075】
【化4】 RR′R″A→O
【0076】 上記式において、Aはリン原子または硫黄原子で、Rは6〜24個、好適には
10〜18個の炭素原子を含む第一級アルキル基で、R′とR″とは各々独立的
にメチル基、エチル基および2−ヒドロキシエチル基から選ばれる。上記式中の
矢印は、半極性結合の慣用の表現である。
10〜18個の炭素原子を含む第一級アルキル基で、R′とR″とは各々独立的
にメチル基、エチル基および2−ヒドロキシエチル基から選ばれる。上記式中の
矢印は、半極性結合の慣用の表現である。
【0077】 本発明の好適な態様で使用するのに適したノニオン界面活性剤は、アルキルフ
ェノールのポリエチレンオキシド縮合体、アルキルアルコール、アルキルポリサ
ッカリドまたはそれらの混合物のポリエチレンオキシド縮合体である。3〜25
、好適には10〜25のエトキシ基をもつC6−C20、好適にはC8−C18アルキ
ルフェノールエトキシレート、および2〜35、好適には4〜25、より好適に
は5〜18、最も好適には3〜15のエチレンオキシド単位をもつC2−C24、
好適にはC8−C18アルコールエトキシレート、およびそれらの混合物は高度に
好適である。
ェノールのポリエチレンオキシド縮合体、アルキルアルコール、アルキルポリサ
ッカリドまたはそれらの混合物のポリエチレンオキシド縮合体である。3〜25
、好適には10〜25のエトキシ基をもつC6−C20、好適にはC8−C18アルキ
ルフェノールエトキシレート、および2〜35、好適には4〜25、より好適に
は5〜18、最も好適には3〜15のエチレンオキシド単位をもつC2−C24、
好適にはC8−C18アルコールエトキシレート、およびそれらの混合物は高度に
好適である。
【0078】 本発明で使用するのに適した双性イオン界面活性剤は、塩基性基と酸性基との
両者を含み、それにより比較的広範囲のpHにおいて同一分子中にカチオン親水
性基とアニオン親水性基とをもつ分子内塩を形成してなる。代表的カチオン性基
は、第四級アンモニウム基、であるがホスホニウム、イミダゾリウムおよびスル
ホニウム基のような他の正に荷電した基も使用できる。代表的なアニオン性親水
性基は、カルボキシレート基およびスルホネート基であるが、スルフェート、ホ
スホネートなどのような他の基も使用できる。
両者を含み、それにより比較的広範囲のpHにおいて同一分子中にカチオン親水
性基とアニオン親水性基とをもつ分子内塩を形成してなる。代表的カチオン性基
は、第四級アンモニウム基、であるがホスホニウム、イミダゾリウムおよびスル
ホニウム基のような他の正に荷電した基も使用できる。代表的なアニオン性親水
性基は、カルボキシレート基およびスルホネート基であるが、スルフェート、ホ
スホネートなどのような他の基も使用できる。
【0079】 本発明で使用するのに好適な双性イオン界面活性剤(すなわちベタインおよび
/またはスルホベタイン)の一般式は:
/またはスルホベタイン)の一般式は:
【0080】
【化5】 R1-N+(R2)(R3)R4X-
【0081】 で表される。式中、R1は疎水性基で、R2は水素原子、C1−C6アルキル、ヒド
ロキシアルキルまたは他に置換されたC1−C6アルキル基であり、R3はC1−C 6 アルキル、ヒドロキシアルキルまたは他に置換されたC1−C6アルキル基で、
R3はR2と結合してNと共に環構造を形成していてもよく、或はR3はC1−C6
カルボン酸基またはC1−C6スルホネート基であり、R4はカチオン性窒素原子
(N+)を親水性基に結合する基であり、通常、1〜10個の炭素原子を含むア
ルキレン基、ヒドロキシアルキレン基またはポリアルコキシ基であり、Xはカル
ボキシレート基またはスルホネート基、好適にはスルホネート基である親水性基
である。
ロキシアルキルまたは他に置換されたC1−C6アルキル基であり、R3はC1−C 6 アルキル、ヒドロキシアルキルまたは他に置換されたC1−C6アルキル基で、
R3はR2と結合してNと共に環構造を形成していてもよく、或はR3はC1−C6
カルボン酸基またはC1−C6スルホネート基であり、R4はカチオン性窒素原子
(N+)を親水性基に結合する基であり、通常、1〜10個の炭素原子を含むア
ルキレン基、ヒドロキシアルキレン基またはポリアルコキシ基であり、Xはカル
ボキシレート基またはスルホネート基、好適にはスルホネート基である親水性基
である。
【0082】 好適な疎水性基R1は、アミド基、エステル基のような結合基を含むことがで
きる脂肪族基または芳香族基、飽和または不飽和の、置換または非置換炭化水素
鎖である。より好適なR1は、1〜24個、好適には8〜18個、さらに好適に
は10〜16個の炭素原子を含むアルキル基である。これらの単純なアルキル基
がコスト上の理由により、また安定性の理由により好適である。しかし、疎水性
基R1は、式Ra-C(O)-NRb-(C(Rc)2)mで表されるアミド基であることもで
きる。式中、Raは8〜20個の炭素原子を含む脂肪族基または芳香族基、飽和
または不飽和の、置換または非置換炭化水素鎖であり、8〜20個、好適には1
8個までの、さらに好適には16個までの炭素原子を含むアルキル基であるのが
好適であり、Rbは水素原子であるか、1〜4個の炭素原子を含む短鎖アルキル
基または置換アルキル基であり、好適にはメチル、エチル、プロピル、ヒドロキ
シ置換エチルまたはプロピル、およびそれらの混合基からなる群から選ばれる基
で、より好適にはメチル基または水素原子であり、Rcは水素原子およびヒドロ
キシ基からなる群から選ばれ、mは1〜4、好適には2または3、より好適には
3で、どの(C(Rc)2)基にも1個より多いヒドロキシ基は存在しない。
きる脂肪族基または芳香族基、飽和または不飽和の、置換または非置換炭化水素
鎖である。より好適なR1は、1〜24個、好適には8〜18個、さらに好適に
は10〜16個の炭素原子を含むアルキル基である。これらの単純なアルキル基
がコスト上の理由により、また安定性の理由により好適である。しかし、疎水性
基R1は、式Ra-C(O)-NRb-(C(Rc)2)mで表されるアミド基であることもで
きる。式中、Raは8〜20個の炭素原子を含む脂肪族基または芳香族基、飽和
または不飽和の、置換または非置換炭化水素鎖であり、8〜20個、好適には1
8個までの、さらに好適には16個までの炭素原子を含むアルキル基であるのが
好適であり、Rbは水素原子であるか、1〜4個の炭素原子を含む短鎖アルキル
基または置換アルキル基であり、好適にはメチル、エチル、プロピル、ヒドロキ
シ置換エチルまたはプロピル、およびそれらの混合基からなる群から選ばれる基
で、より好適にはメチル基または水素原子であり、Rcは水素原子およびヒドロ
キシ基からなる群から選ばれ、mは1〜4、好適には2または3、より好適には
3で、どの(C(Rc)2)基にも1個より多いヒドロキシ基は存在しない。
【0083】 好適なR2は、水素原子または1〜4個の炭素原子を含有するアルキル基また
は置換アルキル基、好適にはメチル基、エチル基、プロピル基、ヒドロキシ置換
エチルもしくはプロピル基およびそれらの混合基から選択された基、さらに好適
にはメチルである。好適なR3は、C1−C4カルボン酸基、C1−C4スホネ−ト
基または1〜4個の炭素原子を含有するアルキル基または置換アルキル基、好適
にはメチル基、エチル基、プロピル基、ヒドロキシ置換エチルもしくはプロピル
基およびそれらの混合基からなる群から選択された基、さらに好適にはメチルで
ある。好適なR4は、(CH2)n基で、ここにnは1〜10、好適には1〜6、さ
らに好適には1〜3の整数である。
は置換アルキル基、好適にはメチル基、エチル基、プロピル基、ヒドロキシ置換
エチルもしくはプロピル基およびそれらの混合基から選択された基、さらに好適
にはメチルである。好適なR3は、C1−C4カルボン酸基、C1−C4スホネ−ト
基または1〜4個の炭素原子を含有するアルキル基または置換アルキル基、好適
にはメチル基、エチル基、プロピル基、ヒドロキシ置換エチルもしくはプロピル
基およびそれらの混合基からなる群から選択された基、さらに好適にはメチルで
ある。好適なR4は、(CH2)n基で、ここにnは1〜10、好適には1〜6、さ
らに好適には1〜3の整数である。
【0084】 ベタイン/スルホベタインの幾つかの周知の例は、米国特許第2,082,275号、
同2,702,279号、同2,255,082号明細書に記載され、これらの文献はこれを引用す
ることにより本明細書に援用する。
同2,702,279号、同2,255,082号明細書に記載され、これらの文献はこれを引用す
ることにより本明細書に援用する。
【0085】 特に好適なアルキルジメチルベタインの例としては、ココヤシ−ジメチルベタ
イン、ラウリルジメチルベタイン、デシルジメチルベタイン、2−(N−デシル
−N,N−ジメチル−アンモニオ)アセテート、2−(N−ココ−N,N−ジメ
チル−アンモニオ)アセテート、ミリスチルジメチルベタイン、パルミチルジメ
チルベタイン、セチルジメチルベタイン、ステアリルジメチルベタイン、が挙げ
られる。例えばココヤシジメチルベタインは、セピィック社(Seppic)からアモ
ニル(Amonyl)265(登録商標)の商品名で商業的に入手でき、ラウリルベタ
インは、アルブライト・エンド・ウイルソン社(Albright & Wilson)からエン
ピーゲン(Empigen)BB/L(登録商標)の商品名で商業的に入手できる。
イン、ラウリルジメチルベタイン、デシルジメチルベタイン、2−(N−デシル
−N,N−ジメチル−アンモニオ)アセテート、2−(N−ココ−N,N−ジメ
チル−アンモニオ)アセテート、ミリスチルジメチルベタイン、パルミチルジメ
チルベタイン、セチルジメチルベタイン、ステアリルジメチルベタイン、が挙げ
られる。例えばココヤシジメチルベタインは、セピィック社(Seppic)からアモ
ニル(Amonyl)265(登録商標)の商品名で商業的に入手でき、ラウリルベタ
インは、アルブライト・エンド・ウイルソン社(Albright & Wilson)からエン
ピーゲン(Empigen)BB/L(登録商標)の商品名で商業的に入手できる。
【0086】 ベタインのさらなる例には、ローン・プーラン(Rhone-Poulenc)からミラタ
イン(Mirataine)H2C-HA(登録商標)の商品名で商業的に入手できるラウ
リル−イミノ−ジプロピオネ−トがある。
イン(Mirataine)H2C-HA(登録商標)の商品名で商業的に入手できるラウ
リル−イミノ−ジプロピオネ−トがある。
【0087】 本発明の組成物に使用するのに特に好適な双性イオン界面活性剤は、最良の油
汚れクリーニング効果を達成するスルホベタイン界面活性剤である。
汚れクリーニング効果を達成するスルホベタイン界面活性剤である。
【0088】 特に好適なスルホベタイン界面活性剤の例には、タロウビス(ヒドロキシエチ
ル)スルホベタイン、ココアミドプロピルヒドロキシスルホベタイン[これはロ
ーン・プーランからミラタイン(Mirataine)CBS(登録商標)の商品名で、
ウィットコ社(Witco)からレウォテリック(Rewoteric)AM CAS 15(登録商標
)の商品名でそれぞれ商業的に入手可能である]がある。
ル)スルホベタイン、ココアミドプロピルヒドロキシスルホベタイン[これはロ
ーン・プーランからミラタイン(Mirataine)CBS(登録商標)の商品名で、
ウィットコ社(Witco)からレウォテリック(Rewoteric)AM CAS 15(登録商標
)の商品名でそれぞれ商業的に入手可能である]がある。
【0089】 アミドベタイン/アミドスルベタインのさらなる例には、ココアミドエチルベ
タイン、ココアミドプロピルベタイン、またはC10−C14脂肪アシルアミドプロ
ピレン(ヒドロプロピレン)スルホベタインがある。例えばC10−C14脂肪アシ
ルアミドプロピレン(ヒドロプロピレン)スルホベタインは、シェレックス社(S
herex Company)から「バリオン(Varion)CAS(登録商標)スルホベタイン」の商
品名で商業的に入手可能である。
タイン、ココアミドプロピルベタイン、またはC10−C14脂肪アシルアミドプロ
ピレン(ヒドロプロピレン)スルホベタインがある。例えばC10−C14脂肪アシ
ルアミドプロピレン(ヒドロプロピレン)スルホベタインは、シェレックス社(S
herex Company)から「バリオン(Varion)CAS(登録商標)スルホベタイン」の商
品名で商業的に入手可能である。
【0090】 本発明で使用するのに好適なアミンは、次式:RR′R″Nで表されるアミン
である。前記式中、Rは1〜30個、好ましくは1〜20個の炭素原子を含有す
る飽和または不飽和、置換または非置換の直鎖状または分枝鎖状アルキル基で、
R′とR″とは独立的に1〜30個の炭素原子を含有する飽和または不飽和、置
換または非置換の直鎖状または分枝鎖状アルキル基または水素原子である。本発
明で使用するのに特に好適なアミンは、次式:RR′R″Nで表されるアミンで
ある。前記式中、Rは1〜30個、好ましくは8〜20個、さらに好ましくは6
〜16個、最も好ましくは8〜14個の炭素原子を含有する飽和または不飽和の
直鎖状または分枝鎖状アルキル基で、R′とR″とは独立的に1〜4個、好適に
は1〜3個の炭素原子を含有する置換または非置換の直鎖状または分枝鎖状アル
キル基、さらに好適にはメチル基またはそれらの混合基である。
である。前記式中、Rは1〜30個、好ましくは1〜20個の炭素原子を含有す
る飽和または不飽和、置換または非置換の直鎖状または分枝鎖状アルキル基で、
R′とR″とは独立的に1〜30個の炭素原子を含有する飽和または不飽和、置
換または非置換の直鎖状または分枝鎖状アルキル基または水素原子である。本発
明で使用するのに特に好適なアミンは、次式:RR′R″Nで表されるアミンで
ある。前記式中、Rは1〜30個、好ましくは8〜20個、さらに好ましくは6
〜16個、最も好ましくは8〜14個の炭素原子を含有する飽和または不飽和の
直鎖状または分枝鎖状アルキル基で、R′とR″とは独立的に1〜4個、好適に
は1〜3個の炭素原子を含有する置換または非置換の直鎖状または分枝鎖状アル
キル基、さらに好適にはメチル基またはそれらの混合基である。
【0091】 本発明で使用するのに適切なアミンは、例えばC12ジメチルアミン、ココヤシ
ジメチルアミン、C12−C16ジメチルアミンである。これらのアミンは、ヘキス
ト社(Hoechst)からゲナミン(Genamin)(登録商標)、アクゾ(AKZO)社から
アロモックス(Aromox)(登録商標)またはフィナ社(Fina)からラジアミン(
Radiamine)(登録商標)の商品名で商業的に入手できる。
ジメチルアミン、C12−C16ジメチルアミンである。これらのアミンは、ヘキス
ト社(Hoechst)からゲナミン(Genamin)(登録商標)、アクゾ(AKZO)社から
アロモックス(Aromox)(登録商標)またはフィナ社(Fina)からラジアミン(
Radiamine)(登録商標)の商品名で商業的に入手できる。
【0092】 本発明で使用するのに適当な第四級アンモニウム界面活性剤は、式R1R2R3
R4N+X-で表される。前記式中、Xはハロゲン、硫酸メチル、スルホン酸メチ
ル、または水酸化物のような対アニオンで、R1は1〜30個、好ましくは12
〜20個、さらに好ましくは8〜20個の炭素原子を含有する飽和または不飽和
、置換または非置換の直鎖状または分枝鎖状アルキル基で、R2、R3およびR4
は独立的に水素原子、または1〜4個、好適には1〜3個の炭素原子を含有する
飽和または不飽和、置換または非置換の直鎖状または分枝鎖状アルキル基、さら
に好適にはメチル基である。ここで高度に好適な第四級アンモニウム界面活性剤
では、R1がC10−C18炭化水素鎖、最も好適にはC12、C14またはC16炭化水
素鎖で、R2、R3およびR4は3個ともすべてメチル基であり、Xはハロゲン、
好適には臭素または塩素、最も好適には臭素である。
R4N+X-で表される。前記式中、Xはハロゲン、硫酸メチル、スルホン酸メチ
ル、または水酸化物のような対アニオンで、R1は1〜30個、好ましくは12
〜20個、さらに好ましくは8〜20個の炭素原子を含有する飽和または不飽和
、置換または非置換の直鎖状または分枝鎖状アルキル基で、R2、R3およびR4
は独立的に水素原子、または1〜4個、好適には1〜3個の炭素原子を含有する
飽和または不飽和、置換または非置換の直鎖状または分枝鎖状アルキル基、さら
に好適にはメチル基である。ここで高度に好適な第四級アンモニウム界面活性剤
では、R1がC10−C18炭化水素鎖、最も好適にはC12、C14またはC16炭化水
素鎖で、R2、R3およびR4は3個ともすべてメチル基であり、Xはハロゲン、
好適には臭素または塩素、最も好適には臭素である。
【0093】 第四級アンモニウム界面活性剤の例は、ミリスチルトリメチルアンモニウムメ
チルスルフェート、セチルトリメチルアンモニウムメチルスルフェート、ラウリ
ルトリメチルアンモニウムブロミド、ステアリルトリメチルアンモニウムブロミ
ド(STAB)、セチルトリメチルアンモニウムブロミド(CTAB)、および
ミリスチルトリメチルアンモニウムブロミド(MTAB)である。ラウリルトリ
メチルアンモニウム塩は本発明で使用するのに高度に好適である。このようなト
リメチル第四級アンモニウム界面活性剤は、ヘキスト社から市販されているか、
アルブライト・エンド・ウイルソン社からエンピーゲン(Empigen)CM(登録商標
)の商品名で市販されている。
チルスルフェート、セチルトリメチルアンモニウムメチルスルフェート、ラウリ
ルトリメチルアンモニウムブロミド、ステアリルトリメチルアンモニウムブロミ
ド(STAB)、セチルトリメチルアンモニウムブロミド(CTAB)、および
ミリスチルトリメチルアンモニウムブロミド(MTAB)である。ラウリルトリ
メチルアンモニウム塩は本発明で使用するのに高度に好適である。このようなト
リメチル第四級アンモニウム界面活性剤は、ヘキスト社から市販されているか、
アルブライト・エンド・ウイルソン社からエンピーゲン(Empigen)CM(登録商標
)の商品名で市販されている。
【0094】 本発明の組成物で使用するのに適切なカチオン界面活性剤は、長鎖炭化水素基
をもつ界面活性剤である。このようなカチオン界面活性剤の例は、アルキルジメ
チルアンモニウムハロゲン化物のようなアンモニウム界面活性剤および下記の式
で表される界面活性剤である:
をもつ界面活性剤である。このようなカチオン界面活性剤の例は、アルキルジメ
チルアンモニウムハロゲン化物のようなアンモニウム界面活性剤および下記の式
で表される界面活性剤である:
【0095】
【化6】 [R2(OR3)y][R4(OR3)y]2R5N+X-
【0096】 式中、R2はアルキル鎖中に8〜18個の炭素原子を含有するアルキル基また
はアルキルベンジル基で、各R3は−CH2CH2−、−CH2CH(CH3)−、−
CH2CH(CH2OH)−、−CH2CH2CH2−およびこれらの混合基からなる
群から選ばれる。各R4はC1−C4アルキル、C1−C4ヒドロキシアルキル、2
個のR4基を結合することにより形成されるベンジル環構造体、−CH2CHOH
-CHOH-COR6-CHOH-CH2OH(ここにR6はヘキソースまたは100
0以下の分子量をもつヘキソースポリマー、yがゼロでない時は水素原子であり
、R5はR4と同じであるか、またはR2とR5との合計炭素原子数が、18以下と
なるアルキル鎖であり、各yは0〜10で、y値の合計は0〜15であり、Xは
適合性アニオンである。
はアルキルベンジル基で、各R3は−CH2CH2−、−CH2CH(CH3)−、−
CH2CH(CH2OH)−、−CH2CH2CH2−およびこれらの混合基からなる
群から選ばれる。各R4はC1−C4アルキル、C1−C4ヒドロキシアルキル、2
個のR4基を結合することにより形成されるベンジル環構造体、−CH2CHOH
-CHOH-COR6-CHOH-CH2OH(ここにR6はヘキソースまたは100
0以下の分子量をもつヘキソースポリマー、yがゼロでない時は水素原子であり
、R5はR4と同じであるか、またはR2とR5との合計炭素原子数が、18以下と
なるアルキル鎖であり、各yは0〜10で、y値の合計は0〜15であり、Xは
適合性アニオンである。
【0097】 本発明で有用な他のカチオン界面活性剤は、米国特許第4,228,044号[キャン
ブル(Cambre)、1980年10月14日発行]明細書に記載され、この文献を引用する
ことにより本明細書に援用する。
ブル(Cambre)、1980年10月14日発行]明細書に記載され、この文献を引用する
ことにより本明細書に援用する。
【0098】 両性界面活性剤および使用する系のpHに応じてカチオン性にもアニオン性に
もなり得る両性洗剤は、ドデシルベータアラニン、米国特許第2,658,072号の教
示によりイセチオン酸ナトリウムをドデシルアミンと反応させることにより造ら
れるN−アルキルタウリン、米国特許第2,438,091号の教示により造られるN−
高級アルキルアスパラギン酸、米国特許第2,528,378号明細書に記載されミラノ
−ル(「Miranol」)の商品名で市販されている製品のような洗剤により表され
、上記米国特許明細書は本明細書に援用する。さらに追加的合成洗剤およびそれ
らの商業上の給源はマククチェンの洗剤および乳化剤(McCutcheon's Detergent
s and Emulsifiers)(北米版、1980)に見ることができ、この文献はこれ
を引用することにより本明細書に援用する。
もなり得る両性洗剤は、ドデシルベータアラニン、米国特許第2,658,072号の教
示によりイセチオン酸ナトリウムをドデシルアミンと反応させることにより造ら
れるN−アルキルタウリン、米国特許第2,438,091号の教示により造られるN−
高級アルキルアスパラギン酸、米国特許第2,528,378号明細書に記載されミラノ
−ル(「Miranol」)の商品名で市販されている製品のような洗剤により表され
、上記米国特許明細書は本明細書に援用する。さらに追加的合成洗剤およびそれ
らの商業上の給源はマククチェンの洗剤および乳化剤(McCutcheon's Detergent
s and Emulsifiers)(北米版、1980)に見ることができ、この文献はこれ
を引用することにより本明細書に援用する。
【0099】 本発明で使用するのに適切なアニオン界面活性剤は、当業者により周知のもの
である。ここに使用するのに好適なアニオン界面活性剤には、アルキルスルホネ
ート、アルキルアリールスルホネート、アルキルスルフェート、アルキルアルコ
キシル化スルフェート、C6−C20アルキルアルコキシル化直鎖または分枝鎖ジ
フェニルオキシドジスルホネートまたはそれらの混合物が挙げられる。
である。ここに使用するのに好適なアニオン界面活性剤には、アルキルスルホネ
ート、アルキルアリールスルホネート、アルキルスルフェート、アルキルアルコ
キシル化スルフェート、C6−C20アルキルアルコキシル化直鎖または分枝鎖ジ
フェニルオキシドジスルホネートまたはそれらの混合物が挙げられる。
【0100】 本発明で使用するのに適当なアルキルスルホネートは、一般式RSO3Mで表
される水溶性塩または酸である。上記式中、RはC6−C20直鎖または分枝鎖、
飽和または不飽和アルキル基、好適にはC8−C18アルキル基、より好適にはC1 0 −C16アルキル基であり、MはHまたはカチオン、[例えばアルカリ金属カチ
オン(例えばナトリウム、カリウム、リチウム)またはアンモニウムカチオンも
しくは置換アンモニウムカチオン(例えばメチル−、ジメチル−およびトリメチ
ル−アンモニウムカチオンおよび第四級アンモニウムカチオン、例えばテトラメ
チル−アンモニウムカチオンおよびジメチルピペリジニウムカチオンおよびエチ
ルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミンから誘導された第四級アンモニウ
ムカチオン)およびそれらの混合カチオンなど]である。
される水溶性塩または酸である。上記式中、RはC6−C20直鎖または分枝鎖、
飽和または不飽和アルキル基、好適にはC8−C18アルキル基、より好適にはC1 0 −C16アルキル基であり、MはHまたはカチオン、[例えばアルカリ金属カチ
オン(例えばナトリウム、カリウム、リチウム)またはアンモニウムカチオンも
しくは置換アンモニウムカチオン(例えばメチル−、ジメチル−およびトリメチ
ル−アンモニウムカチオンおよび第四級アンモニウムカチオン、例えばテトラメ
チル−アンモニウムカチオンおよびジメチルピペリジニウムカチオンおよびエチ
ルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミンから誘導された第四級アンモニウ
ムカチオン)およびそれらの混合カチオンなど]である。
【0101】 本発明で使用するのに適切なアルキルアリールスルホネートは、一般式RSO 3 Mで表される水溶性塩または酸である。上記式中、Rはアリール基、好ましく
はC6−C20直鎖状または分枝鎖状飽和または不飽和アルキル基、好適にはC8−
C18アルキル基、より好適にはC10−C16アルキル基で置換されたベンジル基で
、MはHまたはカチオン、[例えばアルカリ金属カチオン(例えばナトリウム、
カリウム、リチウム、カルシウム、マグネシウムなど)またはアンモニウムカチ
オンもしくは置換アンモニウムカチオン(例えばメチル−、ジメチル−およびト
リメチル−アンモニウムカチオンおよび第四級アンモニウムカチオン、例えばテ
トラメチル−アンモニウムカチオンおよびジメチルピペリジニウムカチオンおよ
びエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミンから誘導された第四級アン
モニウムカチオン)およびそれらの混合カチオンなど]である。
はC6−C20直鎖状または分枝鎖状飽和または不飽和アルキル基、好適にはC8−
C18アルキル基、より好適にはC10−C16アルキル基で置換されたベンジル基で
、MはHまたはカチオン、[例えばアルカリ金属カチオン(例えばナトリウム、
カリウム、リチウム、カルシウム、マグネシウムなど)またはアンモニウムカチ
オンもしくは置換アンモニウムカチオン(例えばメチル−、ジメチル−およびト
リメチル−アンモニウムカチオンおよび第四級アンモニウムカチオン、例えばテ
トラメチル−アンモニウムカチオンおよびジメチルピペリジニウムカチオンおよ
びエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミンから誘導された第四級アン
モニウムカチオン)およびそれらの混合カチオンなど]である。
【0102】 C14−C16アルキルスルホネートの例は、ヘキスト社から入手可能なホスタプ
ール(Hostapur)(登録商標)SASである。商業的に入手できるアルキルアリ
ールスルホネートの例は、Su. Ma. から入手可能なラウリルアリールスルホネ
ートであり、特に好適なアルキルアリールスルホネートは、アルブライト・エン
ド・ウイルソンからナンサ(Nansa)(登録商標)の商品名で商業的に入手でき
るアルキルベンゼンスルホネートである。
ール(Hostapur)(登録商標)SASである。商業的に入手できるアルキルアリ
ールスルホネートの例は、Su. Ma. から入手可能なラウリルアリールスルホネ
ートであり、特に好適なアルキルアリールスルホネートは、アルブライト・エン
ド・ウイルソンからナンサ(Nansa)(登録商標)の商品名で商業的に入手でき
るアルキルベンゼンスルホネートである。
【0103】 本発明で使用するのに適したアルキルスルフェート界面活性剤は、式R1SO4 Mで表され、ここにR1は6〜20個の炭素原子を含有する直鎖または分枝鎖ア
ルキル基およびアルキル基中に6〜18個の炭素原子を含有するアルキルフェニ
ル基からなる群から選ばれる炭化水素基である。Mは、Hまたはカチオン、[例
えばアルカリ金属カチオン(例えばナトリウム、カリウム、リチウム、カルシウ
ム、マグネシウムなど)またはアンモニウムカチオンもしくは置換アンモニウム
カチオン(例えばメチル−、ジメチル−およびトリメチル−アンモニウムカチオ
ンおよび第四級アンモニウムカチオン、例えばテトラメチル−アンモニウムカチ
オンおよびジメチルピペリジニウムカチオンおよびエチルアミン、ジエチルアミ
ン、トリエチルアミンから誘導された第四級アンモニウムカチオン)およびそれ
らの混合カチオンなど]である。
ルキル基およびアルキル基中に6〜18個の炭素原子を含有するアルキルフェニ
ル基からなる群から選ばれる炭化水素基である。Mは、Hまたはカチオン、[例
えばアルカリ金属カチオン(例えばナトリウム、カリウム、リチウム、カルシウ
ム、マグネシウムなど)またはアンモニウムカチオンもしくは置換アンモニウム
カチオン(例えばメチル−、ジメチル−およびトリメチル−アンモニウムカチオ
ンおよび第四級アンモニウムカチオン、例えばテトラメチル−アンモニウムカチ
オンおよびジメチルピペリジニウムカチオンおよびエチルアミン、ジエチルアミ
ン、トリエチルアミンから誘導された第四級アンモニウムカチオン)およびそれ
らの混合カチオンなど]である。
【0104】 本発明で使用するのに特に好適なものは、アイサルケム(Isalchem)123A
S(登録商標)のような総炭素数として10〜14個の炭素原子を含む分枝鎖ア
ルキルスルフェートである。アイサルケム(Isalchem)123AS(登録商標)
は、94%が分枝鎖アルキルであるC12-13界面活性剤で、エニケム(Enichem)
から商業的に入手できる。この物質は、CH3-(CH2)m-CH(CH2OSO3Na
)-(CH2)n-CH3として記載でき、前記式においてn+mは8〜9である。また
、アルキル鎖が総数で12個の炭素原子を含むアルキルスルフェート、すなわち
2−ブチルオクチル硫酸ナトリウムも好適なアルキルスルフェートである。この
ようなアルキルスルフェートは、コンデア(Condea)からイソフォール(Isofol
)(登録商標)12Sの商品名で商業的に入手できる。特に好適な線状アルキル
スルホネートには、C12−18パラフィンスルホネート、例えばヘキストから市販
されているホスタプール(Hostapur)(登録商標)SASがある。
S(登録商標)のような総炭素数として10〜14個の炭素原子を含む分枝鎖ア
ルキルスルフェートである。アイサルケム(Isalchem)123AS(登録商標)
は、94%が分枝鎖アルキルであるC12-13界面活性剤で、エニケム(Enichem)
から商業的に入手できる。この物質は、CH3-(CH2)m-CH(CH2OSO3Na
)-(CH2)n-CH3として記載でき、前記式においてn+mは8〜9である。また
、アルキル鎖が総数で12個の炭素原子を含むアルキルスルフェート、すなわち
2−ブチルオクチル硫酸ナトリウムも好適なアルキルスルフェートである。この
ようなアルキルスルフェートは、コンデア(Condea)からイソフォール(Isofol
)(登録商標)12Sの商品名で商業的に入手できる。特に好適な線状アルキル
スルホネートには、C12−18パラフィンスルホネート、例えばヘキストから市販
されているホスタプール(Hostapur)(登録商標)SASがある。
【0105】 本発明で使用するのに適切なアルキルアルコキシル化スルフェート界面活性剤
は、式RO(A)mSO3Mで表され、ここにRは非置換C6−C20アルキルまたは
C6−C20アルキル成分を含むヒドロキシアルキル、好適にはC12−C20アルキ
ルまたはヒドロキシアルキルで、より好適にはC12−C18アルキルまたはヒドロ
キシアルキルであり、Aはエトキシまたはプロポキシ単位で、mはゼロより大き
い数で、通常0.5〜6、より好適には0.5〜3で、MはHであるか、または
カチオン、例えば金属カチオン(例えばナトリウム、カリウム、リチウム、カル
シウム、マグネシウムなど)、アンモニウムカチオンもしくは置換アンモニウム
カチオンである。アルキルエトキシル化スルフェート並びにアルキルプロポキシ
ル化スルフェートも本発明では意図される。置換アンモニウムカチオンの特定例
としては、メチル−、ジメチル−、トリメチル−アンモニウムカチオンおよび第
四級アンモニウムカチオン、例えばテトラメチルアンモニウムカチオン、ジメチ
ルピペリジニウムカチオン、エチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン
およびそれらの混合アミンなどのようなアルカノールアミンから誘導されたカチ
オンが挙げられる。代表的界面活性剤は、C12−C18アルキルポリエトキシル化
(1.0)スルフェート[C12−C18E(1.0)SM]、C12−C18アルキル
ポリエトキシル化(2.25)スルフェート[C12−C18E(2.25)SM]
、C12−C18アルキルポリエトキシル化(3.0)スルフェート[C12−C18E
(3.0)SM]、およびC12−C18アルキルポリエトキシル化(4.0)スル
フェート[C12−C18E(4.0)SM]であり、ここにMはナトリウムおよび
カリウムから選択するのが便宜である。
は、式RO(A)mSO3Mで表され、ここにRは非置換C6−C20アルキルまたは
C6−C20アルキル成分を含むヒドロキシアルキル、好適にはC12−C20アルキ
ルまたはヒドロキシアルキルで、より好適にはC12−C18アルキルまたはヒドロ
キシアルキルであり、Aはエトキシまたはプロポキシ単位で、mはゼロより大き
い数で、通常0.5〜6、より好適には0.5〜3で、MはHであるか、または
カチオン、例えば金属カチオン(例えばナトリウム、カリウム、リチウム、カル
シウム、マグネシウムなど)、アンモニウムカチオンもしくは置換アンモニウム
カチオンである。アルキルエトキシル化スルフェート並びにアルキルプロポキシ
ル化スルフェートも本発明では意図される。置換アンモニウムカチオンの特定例
としては、メチル−、ジメチル−、トリメチル−アンモニウムカチオンおよび第
四級アンモニウムカチオン、例えばテトラメチルアンモニウムカチオン、ジメチ
ルピペリジニウムカチオン、エチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン
およびそれらの混合アミンなどのようなアルカノールアミンから誘導されたカチ
オンが挙げられる。代表的界面活性剤は、C12−C18アルキルポリエトキシル化
(1.0)スルフェート[C12−C18E(1.0)SM]、C12−C18アルキル
ポリエトキシル化(2.25)スルフェート[C12−C18E(2.25)SM]
、C12−C18アルキルポリエトキシル化(3.0)スルフェート[C12−C18E
(3.0)SM]、およびC12−C18アルキルポリエトキシル化(4.0)スル
フェート[C12−C18E(4.0)SM]であり、ここにMはナトリウムおよび
カリウムから選択するのが便宜である。
【0106】 本発明で使用するのに適切なC6−C20アルキルアルコキシル化直鎖または分
枝鎖ジフェニルオキシドジスルホネート界面活性剤は、下記の式で表される:
枝鎖ジフェニルオキシドジスルホネート界面活性剤は、下記の式で表される:
【0107】
【化7】
【0108】 上記式中、RはC6−C20直鎖または分枝鎖、飽和または不飽和アルキル基、
好適にはC12−C18アルキル基、さらに好適にはC14−C16アルキル基で、X+
はHまたはカチオン、例えばアルカリ金属カチオン(例えばナトリウム、カリウ
ム、リチウム、カルシウム、マグネシウムなど)である。本発明で使用するのに
特に好適なC6−C20アルキルアルコキシル化直鎖または分枝鎖ジフェニルオキ
シドジスルホネート界面活性剤は、C12分枝鎖ジフェニルオキシドジスルホン酸
およびC16直鎖ジフェニルオキシドジスルホン酸ナトリウム塩で、それぞれダウ
ファックス(Dowfax)2A1(登録商標)およびダウファックス(Dowfax)83
90(登録商標)の商品名でダウ(DOW)により商業的に入手できる。
好適にはC12−C18アルキル基、さらに好適にはC14−C16アルキル基で、X+
はHまたはカチオン、例えばアルカリ金属カチオン(例えばナトリウム、カリウ
ム、リチウム、カルシウム、マグネシウムなど)である。本発明で使用するのに
特に好適なC6−C20アルキルアルコキシル化直鎖または分枝鎖ジフェニルオキ
シドジスルホネート界面活性剤は、C12分枝鎖ジフェニルオキシドジスルホン酸
およびC16直鎖ジフェニルオキシドジスルホン酸ナトリウム塩で、それぞれダウ
ファックス(Dowfax)2A1(登録商標)およびダウファックス(Dowfax)83
90(登録商標)の商品名でダウ(DOW)により商業的に入手できる。
【0109】 本発明で有用な他のアニオン界面活性剤には、石けんの塩(例えばナトリウム
、カリウム、アンモニウム塩および置換アンモニウム塩(例えばモノ−、ジ−お
よびトリ−エタノールアミン塩))、C8−C24オレフィンスルホネート、スル
ホン化ポリカルボン酸(これは例えば英国特許1,082,179号明細書に記載
されたクエン酸アルカリ土類金属塩の熱分解生成物のスルホン化により生成した
もの)、C8−C24アルキルポリグリコールエーテルスルフェート(10モルま
でのエチレンオキシド含有)、アルキルエステルスルホネート例えばC14−C16 メチルエステルスルホネート、アシルグリセロールスルホネート、脂肪族オレイ
ルグリセロールスルフェート、アルキルフェノールエチレンオキシドエーテルス
ルフェート、アルキルホスフェート、イセチオネート例えばアシルイセチオネー
ト、N−アシルタウレート、アルキルスクシナメートおよびスルホスクシネート
、スルホスクシネートのモノエステル(特に飽和および不飽和C12−C18モノエ
ステル)、スルホスクシネートのジエステル(特に飽和および不飽和C6−C14
ジエステル)、アシルサルコシネート、アルキルポリサッカリドのスルフェート
例えばアルキルポリグルコシドのスルフェート(ノニオン性非硫酸化化合物は後
記する)、アルキルポリエトキシカルボキシレート例えば式RO(CH2CH2O) k CH2COO-M+で表されるカルボキシレート(式中、RはC8−C22アルキル
基で、kは0〜10の整数であり、Mは可溶性塩形成カチオンである)が挙げら
れる。樹脂酸および水素化樹脂酸、例えばロジン、水素化ロジンも好適であり、
樹脂酸および水素化樹脂酸はトール油中に存在するか、トール油から誘導される
。さらなる例は、「界面活性剤および洗剤(Surface Active Agents and Deterg
ents)」[Vol.IおよびII、シュワルツ(Schwartz)、ペリ(Perry)、およびバ
ーチ(Berch)編]に記載されている。種々のこのような界面活性剤が、米国特許
第3,929,678号明細書[1975年12月30日発行、ラウリン(Laughlin)ら
]第23欄58行〜第29欄23行に記載されている。
、カリウム、アンモニウム塩および置換アンモニウム塩(例えばモノ−、ジ−お
よびトリ−エタノールアミン塩))、C8−C24オレフィンスルホネート、スル
ホン化ポリカルボン酸(これは例えば英国特許1,082,179号明細書に記載
されたクエン酸アルカリ土類金属塩の熱分解生成物のスルホン化により生成した
もの)、C8−C24アルキルポリグリコールエーテルスルフェート(10モルま
でのエチレンオキシド含有)、アルキルエステルスルホネート例えばC14−C16 メチルエステルスルホネート、アシルグリセロールスルホネート、脂肪族オレイ
ルグリセロールスルフェート、アルキルフェノールエチレンオキシドエーテルス
ルフェート、アルキルホスフェート、イセチオネート例えばアシルイセチオネー
ト、N−アシルタウレート、アルキルスクシナメートおよびスルホスクシネート
、スルホスクシネートのモノエステル(特に飽和および不飽和C12−C18モノエ
ステル)、スルホスクシネートのジエステル(特に飽和および不飽和C6−C14
ジエステル)、アシルサルコシネート、アルキルポリサッカリドのスルフェート
例えばアルキルポリグルコシドのスルフェート(ノニオン性非硫酸化化合物は後
記する)、アルキルポリエトキシカルボキシレート例えば式RO(CH2CH2O) k CH2COO-M+で表されるカルボキシレート(式中、RはC8−C22アルキル
基で、kは0〜10の整数であり、Mは可溶性塩形成カチオンである)が挙げら
れる。樹脂酸および水素化樹脂酸、例えばロジン、水素化ロジンも好適であり、
樹脂酸および水素化樹脂酸はトール油中に存在するか、トール油から誘導される
。さらなる例は、「界面活性剤および洗剤(Surface Active Agents and Deterg
ents)」[Vol.IおよびII、シュワルツ(Schwartz)、ペリ(Perry)、およびバ
ーチ(Berch)編]に記載されている。種々のこのような界面活性剤が、米国特許
第3,929,678号明細書[1975年12月30日発行、ラウリン(Laughlin)ら
]第23欄58行〜第29欄23行に記載されている。
【0110】 任意成分として本発明で使用する界面活性剤は、好ましくはノニオン界面活性
剤、カチオン界面活性剤、アニオン界面活性剤、双性イオン界面活性剤、両性界
面活性剤、およびそれらの混合界面活性剤からなる群から選ばれる。該界面活性
剤は、さらに好ましくはノニオン界面活性剤またはアニオン界面活性剤またはそ
れらの混合界面活性剤である。
剤、カチオン界面活性剤、アニオン界面活性剤、双性イオン界面活性剤、両性界
面活性剤、およびそれらの混合界面活性剤からなる群から選ばれる。該界面活性
剤は、さらに好ましくはノニオン界面活性剤またはアニオン界面活性剤またはそ
れらの混合界面活性剤である。
【0111】他の任意成分 本発明の組成物は、さらに慣用のエナメルクリーニング成分を含むことができ
る。好適には、本発明の液体組成物は、意図する技術上の効果および被処理表面
に依存して種々の任意成分を含むことができる。
る。好適には、本発明の液体組成物は、意図する技術上の効果および被処理表面
に依存して種々の任意成分を含むことができる。
【0112】 本発明で使用するのに好適な任意成分としては、溶媒、ビルダー、キレート剤
、殺菌剤、ハイドロトロープ、着色剤、安定剤、ラジカルスカベンジャー、ビニ
ルピロリドンホモポリマーもしくはコポリマー、ポリサッカリドポリマー、漂白
剤、漂白活性化剤、防腐剤、脂肪酸のような起泡制御剤、酵素、汚れ懸濁剤、染
料移転剤、増白剤、散粉防止剤、分散剤、染料移転抑制剤、顔料、染料および/
または香料が挙げられる。
、殺菌剤、ハイドロトロープ、着色剤、安定剤、ラジカルスカベンジャー、ビニ
ルピロリドンホモポリマーもしくはコポリマー、ポリサッカリドポリマー、漂白
剤、漂白活性化剤、防腐剤、脂肪酸のような起泡制御剤、酵素、汚れ懸濁剤、染
料移転剤、増白剤、散粉防止剤、分散剤、染料移転抑制剤、顔料、染料および/
または香料が挙げられる。
【0113】溶媒 本発明の組成物は、高度に好ましい任意成分としてさらに溶媒を含有できる。
本発明の組成物では、溶媒は本発明組成物の油汚れクリーニング性能に寄与する
から望ましい。
本発明の組成物では、溶媒は本発明組成物の油汚れクリーニング性能に寄与する
から望ましい。
【0114】 本発明で使用するのに適した溶媒は、該溶媒がジエチレングリコールのモノ低
級アルキルエーテルまたはフェニルエーテルまたはベンジルエーテルを含まない
ことを条件(低級アルキルとは、2〜6個の炭素原子のアルキルである)として
、グリコール、アルコキシル化グリコール、アルコキシル化芳香族アルコール、
芳香族アルコール、脂肪族分枝鎖アルコール、アルコキシル化脂肪族分枝鎖アル
コール、アルコキシル化直鎖C1−C5アルコール、直鎖C1−C5アルコール、C 8 −C14アルキルおよびシクロアルキル炭化水素およびハロゲン化炭化水素、お
よびそれらの混合物が挙げられる。
級アルキルエーテルまたはフェニルエーテルまたはベンジルエーテルを含まない
ことを条件(低級アルキルとは、2〜6個の炭素原子のアルキルである)として
、グリコール、アルコキシル化グリコール、アルコキシル化芳香族アルコール、
芳香族アルコール、脂肪族分枝鎖アルコール、アルコキシル化脂肪族分枝鎖アル
コール、アルコキシル化直鎖C1−C5アルコール、直鎖C1−C5アルコール、C 8 −C14アルキルおよびシクロアルキル炭化水素およびハロゲン化炭化水素、お
よびそれらの混合物が挙げられる。
【0115】 本発明で使用するのに好適なグリコールは、式HO−CR1R2−OHで表され
、ここにR1とR2とは独立してHまたはC2−C10の飽和または不飽和脂肪族炭
化水素鎖および/または環式炭化水素鎖である。本発明で使用するのに適当なグ
リコールは、ドデカングリコールおよび/またはプロパンジオールである。
、ここにR1とR2とは独立してHまたはC2−C10の飽和または不飽和脂肪族炭
化水素鎖および/または環式炭化水素鎖である。本発明で使用するのに適当なグ
リコールは、ドデカングリコールおよび/またはプロパンジオールである。
【0116】 本発明で使用するの好適なアルコキシル化グリコールは、式R−(A)n−R1−
OHで表され、前記式中、RはH、OH、1〜20個の炭素原子、好適には2〜
15個、より好適には2〜10個の炭素原子の直鎖状飽和もしくは不飽和アルキ
ル基で、R1は3〜20個の炭素原子、好適には3〜15個、より好適には3〜
10個の炭素原子の直鎖状飽和もしくは不飽和アルキル基であり、Aはアルコキ
シ基、好適にはエトキシ、メトキシ、および/またはプロポキシ基で、nは1〜
5、好適には1〜2の数である。本発明で使用するのに好適なアルコキシル化グ
リコールは、メトキシオクタデカノールおよび/またはエトキシエトキシエタノ
ールである。
OHで表され、前記式中、RはH、OH、1〜20個の炭素原子、好適には2〜
15個、より好適には2〜10個の炭素原子の直鎖状飽和もしくは不飽和アルキ
ル基で、R1は3〜20個の炭素原子、好適には3〜15個、より好適には3〜
10個の炭素原子の直鎖状飽和もしくは不飽和アルキル基であり、Aはアルコキ
シ基、好適にはエトキシ、メトキシ、および/またはプロポキシ基で、nは1〜
5、好適には1〜2の数である。本発明で使用するのに好適なアルコキシル化グ
リコールは、メトキシオクタデカノールおよび/またはエトキシエトキシエタノ
ールである。
【0117】 本発明で使用するのに好適なアルコシル化芳香族アルコールは、式R−(A)n
−OHで表され、前記式中、Rは1〜20個の炭素原子、好適には2〜15個、
より好適には2〜10個の炭素原子のアルキル置換またはアルキル非置換アリー
ル基であり、Aはアルコキシ基、好適にはブトキシ、プロポキシおよび/または
エトキシ基で、nは、Aがエトキシ基であるときには2の整数ではないことを条
件として、1〜5の整数、好適には1〜2の整数である。適当なアルコキシル化
芳香族アルコールは、ベンゾキシエタノールおよび/またはベンゾキシプロパノ
ールである。
−OHで表され、前記式中、Rは1〜20個の炭素原子、好適には2〜15個、
より好適には2〜10個の炭素原子のアルキル置換またはアルキル非置換アリー
ル基であり、Aはアルコキシ基、好適にはブトキシ、プロポキシおよび/または
エトキシ基で、nは、Aがエトキシ基であるときには2の整数ではないことを条
件として、1〜5の整数、好適には1〜2の整数である。適当なアルコキシル化
芳香族アルコールは、ベンゾキシエタノールおよび/またはベンゾキシプロパノ
ールである。
【0118】 本発明で使用するのに好適な芳香族アルコールは、式R−OHで表され、前記
式中、Rは1〜20個の炭素原子、好適には1〜15個、より好適には1〜10
個の炭素原子のアルキル置換またはアルキル非置換アリール基である。本発明で
使用するのに適当な芳香族アルコールは、例えばベンジルアルコールである。
式中、Rは1〜20個の炭素原子、好適には1〜15個、より好適には1〜10
個の炭素原子のアルキル置換またはアルキル非置換アリール基である。本発明で
使用するのに適当な芳香族アルコールは、例えばベンジルアルコールである。
【0119】 本発明で使用するのに好適な脂肪族分枝鎖アルコールは、式R−OHで表され
、前記式中、Rは1〜20個の炭素原子、好適には2〜15個、より好適には5
〜12個の炭素原子の分枝鎖飽和または不飽和アルキル基である。本発明で使用
するのに特に適した脂肪族分枝鎖アルコールには、2−エチルブタノールおよび
/または2−メチルブタノールがある。
、前記式中、Rは1〜20個の炭素原子、好適には2〜15個、より好適には5
〜12個の炭素原子の分枝鎖飽和または不飽和アルキル基である。本発明で使用
するのに特に適した脂肪族分枝鎖アルコールには、2−エチルブタノールおよび
/または2−メチルブタノールがある。
【0120】 本発明で使用するのに好適なアルコキシル化脂肪族分枝鎖アルコールは、式R
−(A)n−OHで表され、前記式中、Rは1〜20個の炭素原子、好適には2〜
15個、より好適には5〜12個の炭素原子の分枝鎖飽和または不飽和アルキル
基で、Aはアルコキシ基、好適にはブトキシ、プロポキシおよび/またはエトキ
シ基で、nはAがエトキシ基であるときには2の整数ではないことを条件として
、1〜5の整数、好適には1〜2の整数である。適当なアルコキシル化脂肪族分
枝鎖アルコールには、1−メチルプロポキシエタノールおよび/または2−メチ
ルブトキシエタノールがある。
−(A)n−OHで表され、前記式中、Rは1〜20個の炭素原子、好適には2〜
15個、より好適には5〜12個の炭素原子の分枝鎖飽和または不飽和アルキル
基で、Aはアルコキシ基、好適にはブトキシ、プロポキシおよび/またはエトキ
シ基で、nはAがエトキシ基であるときには2の整数ではないことを条件として
、1〜5の整数、好適には1〜2の整数である。適当なアルコキシル化脂肪族分
枝鎖アルコールには、1−メチルプロポキシエタノールおよび/または2−メチ
ルブトキシエタノールがある。
【0121】 本発明で使用するのに好適なアルコキシル化直鎖C1−C5アルコールは、式R
−(A)n−OHで表され、前記式中、Rは1〜5個の炭素原子、好適には2〜4
個の炭素原子の直鎖状飽和または不飽和アルキル基で、Aはアルコキシ基、好適
にはブトキシ、プロポキシおよび/またはエトキシ基で、nはAがエトキシ基で
あるときには2の整数ではないことを条件として、1〜5の整数、好適には1〜
2の整数である。好適なアルコキシル化脂肪族直鎖C1−C5アルコールは、ブト
キシプロポキシプロパノール(n-BPP)、ブトキシエタノール、ブトキシプ
ロパノール、エトキシエタノール、またはそれらの混合アルコールである。ブト
キシプロポキシプロパノールはダウ・ケミカルからn-BPP(登録商標)の商
品名で商業的に入手できる。
−(A)n−OHで表され、前記式中、Rは1〜5個の炭素原子、好適には2〜4
個の炭素原子の直鎖状飽和または不飽和アルキル基で、Aはアルコキシ基、好適
にはブトキシ、プロポキシおよび/またはエトキシ基で、nはAがエトキシ基で
あるときには2の整数ではないことを条件として、1〜5の整数、好適には1〜
2の整数である。好適なアルコキシル化脂肪族直鎖C1−C5アルコールは、ブト
キシプロポキシプロパノール(n-BPP)、ブトキシエタノール、ブトキシプ
ロパノール、エトキシエタノール、またはそれらの混合アルコールである。ブト
キシプロポキシプロパノールはダウ・ケミカルからn-BPP(登録商標)の商
品名で商業的に入手できる。
【0122】 本発明で使用するのに好適な直鎖C1−C5アルコールは、式R−OHで表され
、前記式中、Rは1〜5個の炭素原子、好適には2〜4個の炭素原子の直鎖状飽
和または不飽和アルキル基である。好適な直鎖C1−C5アルコールは、メタノー
ル、エタノール、プロパノール、またはそれらの混合アルコールである。
、前記式中、Rは1〜5個の炭素原子、好適には2〜4個の炭素原子の直鎖状飽
和または不飽和アルキル基である。好適な直鎖C1−C5アルコールは、メタノー
ル、エタノール、プロパノール、またはそれらの混合アルコールである。
【0123】 他の適当な溶媒には、ブチルトリグリコールエーテル、第3級アミルアルコー
ルなどが挙げられる。本発明で使用するのに特に好適な溶媒は、ブトキシプロポ
キシプロパノール、ベンジルアルコール、ブトキシプロパノール、エタノール、
メタノール、イソプロパノールおよびそれらの混合溶媒である。 本発明で使用するのに好適な溶媒は、ブトキシプロポキシプロパノール(n-
BPP)である。
ルなどが挙げられる。本発明で使用するのに特に好適な溶媒は、ブトキシプロポ
キシプロパノール、ベンジルアルコール、ブトキシプロパノール、エタノール、
メタノール、イソプロパノールおよびそれらの混合溶媒である。 本発明で使用するのに好適な溶媒は、ブトキシプロポキシプロパノール(n-
BPP)である。
【0124】 通常、本発明の組成物は、全組成物の0.1重量%〜8重量%、好適には0.
5重量%〜5重量%、より好適には1重量%〜3重量%の溶媒を含むことができ
る。
5重量%〜5重量%、より好適には1重量%〜3重量%の溶媒を含むことができ
る。
【0125】ビニルピロリドンホモポリマーまたはコポリマー 本発明の組成物は、ビニルピロリドンホモポリマーまたはコポリマーを含むこ
とができる。 通常、本発明組成物は、全組成物の0.01重量%〜5重量%、より好適には
0.05重量%〜3重量%、最も好適には0.05重量%〜1重量%のビニルピ
ロリドンホモポリマーまたはコポリマーを含むことができる。
とができる。 通常、本発明組成物は、全組成物の0.01重量%〜5重量%、より好適には
0.05重量%〜3重量%、最も好適には0.05重量%〜1重量%のビニルピ
ロリドンホモポリマーまたはコポリマーを含むことができる。
【0126】 本発明に使用するのに適当なビニルピロリドンホモポリマーは、下記の繰り返
しモノマーをもつN−ビニルピロリドンホモポリマーである:
しモノマーをもつN−ビニルピロリドンホモポリマーである:
【0127】
【化8】
【0128】 式中、n(重合度)は、10〜1,000,000、好適には20〜100,0
00、より好適には20〜10,000である。
00、より好適には20〜10,000である。
【0129】 従って、本発明で使用するのに適当なビニルピロリドンホモポリマー(「PV
P」)は、1,000〜100,000,000、好適には2,000〜10,00
0,000、より好適には5,000〜1,000,000、最も好適には50,0
00〜500,000の平均分子量をもつ。
P」)は、1,000〜100,000,000、好適には2,000〜10,00
0,000、より好適には5,000〜1,000,000、最も好適には50,0
00〜500,000の平均分子量をもつ。
【0130】 適当なビニルピロリドンホモポリマーは、アイ・エス・ピー社(ISP Corp.)
(米国、ニューヨーク洲、ニューヨーク市およびカナダ国、モントリオール)か
らPVP K-15 (登録商標)(粘度分子量10,000)、PVP K-30(登録商標)(平
均分子量40,000)、 PVP K-60(登録商標)(平均分子量160,000)
、および PVP K-90(登録商標)(平均分子量360,000)の製品名で市販さ
れている。他の適当なビニルピロリドンホモポリマーには、BASF社から商業的に
入手できるソカラン(Sokalan)HP 165(登録商標)、ソカランHP 12(登録商標)
、ルビスコール(Luviskol) K30(登録商標)、ルビスコール K60(登録商標)、
ルビスコール K80(登録商標)およびルビスコール K90(登録商標)および洗
剤分野で当業者に既知の他のビニルピロリドンホモポリマーがある(例えば、EP
-A-262,897 および EP-A-256,696を参照されたい)。
(米国、ニューヨーク洲、ニューヨーク市およびカナダ国、モントリオール)か
らPVP K-15 (登録商標)(粘度分子量10,000)、PVP K-30(登録商標)(平
均分子量40,000)、 PVP K-60(登録商標)(平均分子量160,000)
、および PVP K-90(登録商標)(平均分子量360,000)の製品名で市販さ
れている。他の適当なビニルピロリドンホモポリマーには、BASF社から商業的に
入手できるソカラン(Sokalan)HP 165(登録商標)、ソカランHP 12(登録商標)
、ルビスコール(Luviskol) K30(登録商標)、ルビスコール K60(登録商標)、
ルビスコール K80(登録商標)およびルビスコール K90(登録商標)および洗
剤分野で当業者に既知の他のビニルピロリドンホモポリマーがある(例えば、EP
-A-262,897 および EP-A-256,696を参照されたい)。
【0131】 本発明で使用するのに好適なビニルピロリドンのコポリマーには、N−ビニル
ピロリドンとアルキレン性不飽和モノマーまたはアルキレン性不飽和モノマーの
混合物とのコポリマーがある。
ピロリドンとアルキレン性不飽和モノマーまたはアルキレン性不飽和モノマーの
混合物とのコポリマーがある。
【0132】 前記コポリマーのアルキレン性不飽和モノマーとしては、マレイン酸、クロロ
マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸、フェニルマレイン酸、アコ
ニット酸、アクリル酸、N−ビニルイミダゾールおよびビニルアセテートなどの
不飽和ジカルボン酸が挙げられる。これら不飽和酸の無水物、例えばアクリレー
ト、メタクリレートも使用できる。スチレン、スルホン化スチレン、α−メチル
スチレン、ビニルトルエン、t−ブチルスチレンのような芳香族モノマ−および
同様な周知のモノマーも使用できる。
マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸、フェニルマレイン酸、アコ
ニット酸、アクリル酸、N−ビニルイミダゾールおよびビニルアセテートなどの
不飽和ジカルボン酸が挙げられる。これら不飽和酸の無水物、例えばアクリレー
ト、メタクリレートも使用できる。スチレン、スルホン化スチレン、α−メチル
スチレン、ビニルトルエン、t−ブチルスチレンのような芳香族モノマ−および
同様な周知のモノマーも使用できる。
【0133】 ビニルピロリドンのコポリマーの分子量は、得られたコポリマーが水溶性であ
り、若干の表面活性をもち、該コポリマーを含有する液体組成物から硬質表面に
吸着されて該表面の親水性を増大する限り、特に制限はない。しかし、N−ビニ
ルピロリドンとアルキレン性不飽和モノマーまたはそれらの混合物との好適なコ
ポリマーは、1,000〜1,000,000、好適には10,000〜500,0
00、より好適には10,000〜200,000の分子量を有する。
り、若干の表面活性をもち、該コポリマーを含有する液体組成物から硬質表面に
吸着されて該表面の親水性を増大する限り、特に制限はない。しかし、N−ビニ
ルピロリドンとアルキレン性不飽和モノマーまたはそれらの混合物との好適なコ
ポリマーは、1,000〜1,000,000、好適には10,000〜500,0
00、より好適には10,000〜200,000の分子量を有する。
【0134】 本発明で使用するのに特に好適な、例えばN−ビニルイミダゾールN−ビニル
ピロリドンポリマーは、5,000〜1,000,000、好適には5,000〜5
00,000、より好適には10,000〜200,000の平均分子量をもつ。
この平均分子量は、化学分析(Chemical Analysis)第113巻、「ポリマー特
性化の新式方法」[バース(Barth)H.G.およびメイズ(Mays)J.W.編]に
記載の光散乱法により測定できる。
ピロリドンポリマーは、5,000〜1,000,000、好適には5,000〜5
00,000、より好適には10,000〜200,000の平均分子量をもつ。
この平均分子量は、化学分析(Chemical Analysis)第113巻、「ポリマー特
性化の新式方法」[バース(Barth)H.G.およびメイズ(Mays)J.W.編]に
記載の光散乱法により測定できる。
【0135】 このようなN−ビニルピロリドンとアルキレン性不飽和モノマーとのコポリマ
ー、例えばPVP/ビニルアセテートコポリマーは、BASFからルビスコール(Lu
viskol)(登録商標)系列の商品名で商業的に入手できる。
ー、例えばPVP/ビニルアセテートコポリマーは、BASFからルビスコール(Lu
viskol)(登録商標)系列の商品名で商業的に入手できる。
【0136】 本発明の組成物で使用するビニルピロリドンコポリマーとしてはまた、第四級
化または非第四級化ビニルピロリドン/ジアルキルアミノアルキルアクリレート
またはメタクリレートコポリマーを挙げることができる。
化または非第四級化ビニルピロリドン/ジアルキルアミノアルキルアクリレート
またはメタクリレートコポリマーを挙げることができる。
【0137】 本発明の組成物で使用するのに好適な、このようなビニルピロリドン/ジアル
キルアミノアルキルアクリレートまたはメタクリレートコポリマー(第四級化ま
たは非第四級化)は、下記の式で表される:
キルアミノアルキルアクリレートまたはメタクリレートコポリマー(第四級化ま
たは非第四級化)は、下記の式で表される:
【0138】
【化9】
【0139】 上式において、nは20〜99モル%、好適には40〜90モル%、mは1〜
80モル%、好適には5〜40モル%を与える値で、R1はHまたはCH3を表わ
し、yは0または1で、R2は−CH2−CHOH−CH2−またはCxH2x(xは
2〜18)で、R3は1〜4個の炭素原子の低級アルキル基、好適にはメチル基
またはエチル基または下記の式で表される基であり:
80モル%、好適には5〜40モル%を与える値で、R1はHまたはCH3を表わ
し、yは0または1で、R2は−CH2−CHOH−CH2−またはCxH2x(xは
2〜18)で、R3は1〜4個の炭素原子の低級アルキル基、好適にはメチル基
またはエチル基または下記の式で表される基であり:
【0140】
【化10】
【0141】 R4は1〜4個の炭素原子の低級アルキル基、好適にはメチル基またはエチル
基で、X-はCl、Br、I、1/2SO4、HSO4およびCH3SO3からなる
群から選ばれる。これらのポリマーは、フランス特許2,077,143号および
2,393,573号明細書に記載されている方法により作られ得る。
基で、X-はCl、Br、I、1/2SO4、HSO4およびCH3SO3からなる
群から選ばれる。これらのポリマーは、フランス特許2,077,143号および
2,393,573号明細書に記載されている方法により作られ得る。
【0142】 本発明で使用するのに好適な第四級化または非第四級化ビニルピロリドン/ジ
アルキルアミノアルキルアクリレートまたはメタクリレートコポリマーは、1,
000〜1,000,000、好適には10,000〜500,000、より好適に
は10,000〜100,000の分子量を有する。
アルキルアミノアルキルアクリレートまたはメタクリレートコポリマーは、1,
000〜1,000,000、好適には10,000〜500,000、より好適に
は10,000〜100,000の分子量を有する。
【0143】 このようなビニルピロリドン/ジアルキルアミノアルキルアクリレートまたは
メタクリレートコポリマーは、米国、ニューヨーク洲、ニューヨーク市のおよび
カナダ国、モントリオールのアイ・エス・ピー社(ISP Corp.)からガフコート
(Gafquat)845(登録商標)、Gafquat734(登録商標)またはGafquat7
55(登録商標)の商品名のコポリマー、またはBASFからルビコート(Luviquat
)(登録商標)の商品名のコポリマーが商業的に入手可能である。
メタクリレートコポリマーは、米国、ニューヨーク洲、ニューヨーク市のおよび
カナダ国、モントリオールのアイ・エス・ピー社(ISP Corp.)からガフコート
(Gafquat)845(登録商標)、Gafquat734(登録商標)またはGafquat7
55(登録商標)の商品名のコポリマー、またはBASFからルビコート(Luviquat
)(登録商標)の商品名のコポリマーが商業的に入手可能である。
【0144】 本発明で使用するビニルピロリドンホモポリマーまたはコポリマーのうちで好
適なのは、ビニルピロリドンホモポリマーである。
適なのは、ビニルピロリドンホモポリマーである。
【0145】ポリサッカリドポリマー 本発明の組成物は、ポリサッカリドポリマーを含有することができる。 通常、本発明の組成物は、全組成物の0.01重量%〜5重量%、より好適に
は0.05重量%〜3重量%、最も好適には0.05重量%〜1重量%のポリサ
ッカリドポリマーを含有することができる。
は0.05重量%〜3重量%、最も好適には0.05重量%〜1重量%のポリサ
ッカリドポリマーを含有することができる。
【0146】 本発明で使用するのに好適なポリサッカリドポリマーには、置換セルロース材
料、例えばカルボキシメチルセルロース、エチルセルロース、ヒドロキシエチル
セルロース、ヒドロキシプロピルセルロースおよびヒドロキシメチルセルロース
;スクシノグリカンおよび天然産ポリサッカリドポリマー例えばキサンタンガム
、グアーガム、イナゴマメガム、トラガカントガムまたはそれらの誘導体、また
はそれらの混合物が挙げられる。
料、例えばカルボキシメチルセルロース、エチルセルロース、ヒドロキシエチル
セルロース、ヒドロキシプロピルセルロースおよびヒドロキシメチルセルロース
;スクシノグリカンおよび天然産ポリサッカリドポリマー例えばキサンタンガム
、グアーガム、イナゴマメガム、トラガカントガムまたはそれらの誘導体、また
はそれらの混合物が挙げられる。
【0147】 本発明で使用するのに特に好適なポリサッカリドポリマーは、キサンタンガム
およびその誘導体である。キサンタンガムおよびその誘導体は、例えばケルコ社
(Kelco)からケルトロール(Keltrol)RD(登録商標)、ケルザン(Kelzan)S(
登録商標)、または ケルザン(Kelzan)T(登録商標)の商品名で商業的に入手
でき、他の適当なキサンタンガムは、ローヌ・プーランからロードポール(Rhod
opol)T(登録商標)およびローディゲル(Rhodigel)X747(登録商標)の商
品名で商業的に入手でき、本発明で使用するスクシノグリカンガムは、ローヌ・
プーランからレオザン(Rheozan)(登録商標)の商品名で商業的に入手できる
。
およびその誘導体である。キサンタンガムおよびその誘導体は、例えばケルコ社
(Kelco)からケルトロール(Keltrol)RD(登録商標)、ケルザン(Kelzan)S(
登録商標)、または ケルザン(Kelzan)T(登録商標)の商品名で商業的に入手
でき、他の適当なキサンタンガムは、ローヌ・プーランからロードポール(Rhod
opol)T(登録商標)およびローディゲル(Rhodigel)X747(登録商標)の商
品名で商業的に入手でき、本発明で使用するスクシノグリカンガムは、ローヌ・
プーランからレオザン(Rheozan)(登録商標)の商品名で商業的に入手できる
。
【0148】染料 本発明による液体組成物は、着色でき、従って、染料を含むことができる。本
発明で使用するのに好適な染料は、安定な染料である。ここに「安定」とは、本
発明の組成物の酸性環境において化学的におよび物理的に安定である化合物のこ
とを意味する。
発明で使用するのに好適な染料は、安定な染料である。ここに「安定」とは、本
発明の組成物の酸性環境において化学的におよび物理的に安定である化合物のこ
とを意味する。
【0149】防腐剤 本発明による液体組成物は、さらに任意成分として防腐剤を含有することがで
きる。本発明で使用する防腐剤はすべて硬質表面クリーニング組成物の業界の当
業者に既知の防腐剤である。 防腐剤は、本発明組成物の安定性に寄与するから本発明では望ましい。 本発明で使用するのに好適な防腐剤は、ジアゾリジニル尿素、クエン酸トリエ
チル、4−ヒドロキシ安息香酸プロピル、ソルビン酸、p−ヒドロキシ安息香酸
のナトリウム塩またはグルタルアルデヒドまたはこれらの混合物である。
きる。本発明で使用する防腐剤はすべて硬質表面クリーニング組成物の業界の当
業者に既知の防腐剤である。 防腐剤は、本発明組成物の安定性に寄与するから本発明では望ましい。 本発明で使用するのに好適な防腐剤は、ジアゾリジニル尿素、クエン酸トリエ
チル、4−ヒドロキシ安息香酸プロピル、ソルビン酸、p−ヒドロキシ安息香酸
のナトリウム塩またはグルタルアルデヒドまたはこれらの混合物である。
【0150】ラジカルスカベンジャー 本発明の組成物は、ラジカルスカベンジャーを含むことができる。 本発明で使用するのに好適なラジカルスカベンジャーは、周知の置換モノヒド
ロキシベンゼン、置換ジヒドロキシベンゼンおよびそれらの同族体、アルキルお
よびアリールカルボキシレート、およびそれらの混合物である。本発明で使用す
るのに好適なこのようなラジカルスカベンジャーは、ジ−第3級ブチルヒドロキ
シトルエン(BHT)、ヒドロキノン、ジ−第3級ブチルヒドロキノン、モノ−
第3級ブチルヒドロキノン、第3級ブチルヒドロキシアニソール、安息香酸、ト
ルイル酸、カテコール、第3級ブチルカテコール、ベンジルアミン、1,1,3−
トリス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−第3級ブチルフェニル)ブタン、没
食子酸n−プロピル、およびそれらの混合物である。ジ−第3級ブチルヒドロキ
シトルエンが高度に好適である。このようなラジカルスカベンジャー、例えば没
食子酸n−プロピルは、ニッパ・ラボラトリーズ(Nipa Laboratories)からニ
ッパノックス(Nipanox)S1(登録商標)の商品名で商業的に入手できる。
ロキシベンゼン、置換ジヒドロキシベンゼンおよびそれらの同族体、アルキルお
よびアリールカルボキシレート、およびそれらの混合物である。本発明で使用す
るのに好適なこのようなラジカルスカベンジャーは、ジ−第3級ブチルヒドロキ
シトルエン(BHT)、ヒドロキノン、ジ−第3級ブチルヒドロキノン、モノ−
第3級ブチルヒドロキノン、第3級ブチルヒドロキシアニソール、安息香酸、ト
ルイル酸、カテコール、第3級ブチルカテコール、ベンジルアミン、1,1,3−
トリス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−第3級ブチルフェニル)ブタン、没
食子酸n−プロピル、およびそれらの混合物である。ジ−第3級ブチルヒドロキ
シトルエンが高度に好適である。このようなラジカルスカベンジャー、例えば没
食子酸n−プロピルは、ニッパ・ラボラトリーズ(Nipa Laboratories)からニ
ッパノックス(Nipanox)S1(登録商標)の商品名で商業的に入手できる。
【0151】 ラジカルスカベンジャーを使用する場合には、通常、全組成物の10重量%ま
での量で、好適には0.001〜0.5重量%の量で組成物中に存在させる。 ラジカルスカベンジャーの存在は、本発明組成物の化学的安定性に寄与するこ
とができる。
での量で、好適には0.001〜0.5重量%の量で組成物中に存在させる。 ラジカルスカベンジャーの存在は、本発明組成物の化学的安定性に寄与するこ
とができる。
【0152】香料 本発明による組成物は、さらに香料を含有することができる。 本発明で使用するのに好適な香料は、嗅覚の感性を良くする効果および/また
は製品がもつことがある「化学的な」臭気をマスクする物質である。これらの香
料中の少割合量の高揮発性で、低温沸騰性(低沸点)の香料成分の主たる機能は
、本発明組成物適用後のクリーニングされた表面の臭気に影響を与えるのではな
くて、芳香製品自体の芳香臭気を改善するにある。しかし、若干の、揮発性が比
較的低くて高い沸点の香料成分は表面に新鮮な且つ清潔な印象を与えるから、こ
れらの成分が表面に沈着して乾燥表面上に存在することが望ましい。香料成分は
、例えばアニオン界面活性剤(これが存在する場合には)により容易に組成物中
に可溶化できる。本発明で使用するのに適した香料成分および組成物は、業界に
おいて既知の慣用の物である。香料成分の選択および香料の量は、専ら感性上の
理由に基づく。
は製品がもつことがある「化学的な」臭気をマスクする物質である。これらの香
料中の少割合量の高揮発性で、低温沸騰性(低沸点)の香料成分の主たる機能は
、本発明組成物適用後のクリーニングされた表面の臭気に影響を与えるのではな
くて、芳香製品自体の芳香臭気を改善するにある。しかし、若干の、揮発性が比
較的低くて高い沸点の香料成分は表面に新鮮な且つ清潔な印象を与えるから、こ
れらの成分が表面に沈着して乾燥表面上に存在することが望ましい。香料成分は
、例えばアニオン界面活性剤(これが存在する場合には)により容易に組成物中
に可溶化できる。本発明で使用するのに適した香料成分および組成物は、業界に
おいて既知の慣用の物である。香料成分の選択および香料の量は、専ら感性上の
理由に基づく。
【0153】 適当な香料化合物および組成物は、米国特許第4,145,184号[ブレイン(Brain)
およびクミンズ(Cummins)、1979年3月20日発行]、同4,209,417号[ホワイト(Wh
yte)、1980年6月24日発行]、同4,515,705号[メーデル(Moeddel)、1985年5月7
日発行]、および同4,152,272号[ヤング(Young)、1979年5月1日発行]などの文
献に見出すことができる(これらすべての特許明細書は本明細書に援用する)。
一般に、香料の永続性度(degree of substativity)は、大凡使用した永続性香
料物質の割合(%)に比例する。比較的永続性ある香料は少なくとも1%、好適
には少なくとも10%の永続性香料物質を含有する。永続性香料物質は、クリー
ニング処理により表面上に沈着し、通常の嗅覚上の敏感さをもつ人により知覚で
きる有香物質である。このような物質は、普通平均的香料物質の蒸気圧より低い
蒸気圧をもち、また通常200以上の分子量をもつていて、平均的香料物質の蒸
気圧より低い圧(レベル)で知覚できる。本発明で有用な香料成分は、それら成
分の芳香特性およびそれら成分の物理的、化学的性質例えば沸点、分子量と共に
「香料および香味料化学剤(Perfume and Flavor Chemicals)」[ステッフェン
・アークタンダー(Steffen Arctander)著、および発行、1969、発行所Aroma C
hemicals]に記載されている(これらを引用により本明細書に援用する)。
およびクミンズ(Cummins)、1979年3月20日発行]、同4,209,417号[ホワイト(Wh
yte)、1980年6月24日発行]、同4,515,705号[メーデル(Moeddel)、1985年5月7
日発行]、および同4,152,272号[ヤング(Young)、1979年5月1日発行]などの文
献に見出すことができる(これらすべての特許明細書は本明細書に援用する)。
一般に、香料の永続性度(degree of substativity)は、大凡使用した永続性香
料物質の割合(%)に比例する。比較的永続性ある香料は少なくとも1%、好適
には少なくとも10%の永続性香料物質を含有する。永続性香料物質は、クリー
ニング処理により表面上に沈着し、通常の嗅覚上の敏感さをもつ人により知覚で
きる有香物質である。このような物質は、普通平均的香料物質の蒸気圧より低い
蒸気圧をもち、また通常200以上の分子量をもつていて、平均的香料物質の蒸
気圧より低い圧(レベル)で知覚できる。本発明で有用な香料成分は、それら成
分の芳香特性およびそれら成分の物理的、化学的性質例えば沸点、分子量と共に
「香料および香味料化学剤(Perfume and Flavor Chemicals)」[ステッフェン
・アークタンダー(Steffen Arctander)著、および発行、1969、発行所Aroma C
hemicals]に記載されている(これらを引用により本明細書に援用する)。
【0154】 高揮発性、低温沸騰性の香料成分の例は、アネトール、ベンズアルデヒド、酢
酸ベンジル、ベンジルアルコール、ギ酸ベンジル、酢酸イソ−ボルニル、カンフ
ェン、シスシトラール(ネラール)、シトロネラール、シトロネロール、シトロ
ネリルアセテート、パラ−シメン、デカナール、ジヒドロリナロール、ジヒドロ
ミルセノール、ジメチルフェニルカルビノール、ユーカリプトール、ゲラニアー
ル、ゲラニオール、ゲラニルアセテート、ゲラニルニトリル、シス−3−ヘキセ
ニルアセテート、ヒドロキシシトロネラール、d−リモネン、リナロール、リナ
ロールオキシド、リナリルアセテート、リナリルプロピオネート、メチルアント
ラニレート、α−メチルイオノン、メチルノニルアセトアルデヒド、メチルフェ
ニルカルビニルアセテート、リボ−メンチルアセテート、メントン、イソ−メン
トン、ミルセン、ミルセニルアセテート、ミルセノール、ネロール、ネリルアセ
テート、ノニルアセテート、フェニルエチルアルコール、α−ピネン、β−ピネ
ン、γ−テルピネン、α−テルピネオール、β−テルピネオール、テルピニルア
セテート、およびバーテネックス(p−t−ブチルシクロヘキシルアセテート)
である。ある種の天然油も高割合量の高揮発性の香料成分を含有する。例えば、
ラバンダン(lavandin)は主要成分としてリナロール、リナリルアセテート、ゲ
ラニオールおよびシトロネロールを含有する。レモン油およびオレンジテルペン
は、共に95%のd−リモネンを含有する。
酸ベンジル、ベンジルアルコール、ギ酸ベンジル、酢酸イソ−ボルニル、カンフ
ェン、シスシトラール(ネラール)、シトロネラール、シトロネロール、シトロ
ネリルアセテート、パラ−シメン、デカナール、ジヒドロリナロール、ジヒドロ
ミルセノール、ジメチルフェニルカルビノール、ユーカリプトール、ゲラニアー
ル、ゲラニオール、ゲラニルアセテート、ゲラニルニトリル、シス−3−ヘキセ
ニルアセテート、ヒドロキシシトロネラール、d−リモネン、リナロール、リナ
ロールオキシド、リナリルアセテート、リナリルプロピオネート、メチルアント
ラニレート、α−メチルイオノン、メチルノニルアセトアルデヒド、メチルフェ
ニルカルビニルアセテート、リボ−メンチルアセテート、メントン、イソ−メン
トン、ミルセン、ミルセニルアセテート、ミルセノール、ネロール、ネリルアセ
テート、ノニルアセテート、フェニルエチルアルコール、α−ピネン、β−ピネ
ン、γ−テルピネン、α−テルピネオール、β−テルピネオール、テルピニルア
セテート、およびバーテネックス(p−t−ブチルシクロヘキシルアセテート)
である。ある種の天然油も高割合量の高揮発性の香料成分を含有する。例えば、
ラバンダン(lavandin)は主要成分としてリナロール、リナリルアセテート、ゲ
ラニオールおよびシトロネロールを含有する。レモン油およびオレンジテルペン
は、共に95%のd−リモネンを含有する。
【0155】 中度の揮発性の香料成分の例は、アミル桂皮アルデヒド、サリチル酸イソアミ
ル、β−カリオフィレン、セドレン、桂皮アルコール、クマリン、ジメチルベン
ジルカルビニルアセテート、エチルバニリン、オイゲノール、イソ−オイゲノー
ル、フロールアセテート(flor acetate)、ヘリオトロピン、サリチル酸3−シ
ス−ヘキセニル、サリチル酸ヘキシル、リリアール(p−t−ブチル−α−メチ
ルヒドロ桂皮アルデヒド)、γ−メチルイオノン、ネロリドール、パチョリアル
コール、フェニルヘキサノール、β−セリネン、トリクロロメチルフェニルカル
ビニルアセテート、クエン酸トリエチル、バニリンおよびベラトルムアルデヒド
である。シダー材テルペンは、主としてα−セドレン、β−セドレンおよび他の
C15H24セスキテルペン類からなる。
ル、β−カリオフィレン、セドレン、桂皮アルコール、クマリン、ジメチルベン
ジルカルビニルアセテート、エチルバニリン、オイゲノール、イソ−オイゲノー
ル、フロールアセテート(flor acetate)、ヘリオトロピン、サリチル酸3−シ
ス−ヘキセニル、サリチル酸ヘキシル、リリアール(p−t−ブチル−α−メチ
ルヒドロ桂皮アルデヒド)、γ−メチルイオノン、ネロリドール、パチョリアル
コール、フェニルヘキサノール、β−セリネン、トリクロロメチルフェニルカル
ビニルアセテート、クエン酸トリエチル、バニリンおよびベラトルムアルデヒド
である。シダー材テルペンは、主としてα−セドレン、β−セドレンおよび他の
C15H24セスキテルペン類からなる。
【0156】 比較的低揮発性で高温沸騰性の香料成分の例は、ベンゾフェノン、サリチル酸
ベンジル、ブラシル酸エチレン、ガラクソリド(1,3,4,6,7,8−ヘキサヒ
ドロ−4,6,6,7,8,8−ヘキサメチルシクロペンタ−γ−2−ベンゾピラン
)、ヘキシル桂皮アルデヒド、リラール[4−(4−ヒドロキシ−4メチルペン
チル)−3−シクロヘキセン−10−カルボキシアルデヒド]、メチルセドリオ
ン(methyl cedryone)、メチルジヒドロジャスモネート、メチル−β−ナフチ
ルケトン、ムスクインダノン、ムスクケトン、ムスクチベチンおよびフェニルエ
チルフェニルアセテートである。
ベンジル、ブラシル酸エチレン、ガラクソリド(1,3,4,6,7,8−ヘキサヒ
ドロ−4,6,6,7,8,8−ヘキサメチルシクロペンタ−γ−2−ベンゾピラン
)、ヘキシル桂皮アルデヒド、リラール[4−(4−ヒドロキシ−4メチルペン
チル)−3−シクロヘキセン−10−カルボキシアルデヒド]、メチルセドリオ
ン(methyl cedryone)、メチルジヒドロジャスモネート、メチル−β−ナフチ
ルケトン、ムスクインダノン、ムスクケトン、ムスクチベチンおよびフェニルエ
チルフェニルアセテートである。
【0157】 個々の香料成分の選択は、主として感性上の理由から決められる。 本発明の組成物は、全組成物の5.0重量%までの量で、好適には0.1〜1
.5重量%の量で香料成分を含むことができる。
.5重量%の量で香料成分を含むことができる。
【0158】キレート剤 本発明で使用する他のクラスの任意成分は、キレート剤である。 キレート剤は、全組成物の10.0重量%までの量で、好適には0.01〜5
.0重量%の量で本発明組成物にキレート剤を含むことができる。
.0重量%の量で本発明組成物にキレート剤を含むことができる。
【0159】 本発明で使用するのに好適なホスホネートキレート剤には、1−ヒドロキエタ
ンジホスホン酸アルカリ金属(HEDP)、アルキレンポリ(アルキレンホスホ
ネート)並びにアミノアミノトリ(メチレンホスホン酸)(ATMP)、ニトリ
ロトリメチレンホスホネート(NTP)、エチレンジアミンテトラメチレンホス
ホネートおよびジエチレントリアミンペンタメチレンホスホネート(DTPMP
)を含むアミノホスホネート化合物がある。ホスホネート化合物は、それらの酸
形で存在しても、或はそれらの酸官能基の幾つか或は全部が異なるカチオンの塩
として存在することもできる。本発明で使用する好適なホスホネートキレート剤
は、ジエチレントリアミンペンタメチレンホスホネート(DTPMP)および1
−ヒドロキエタンジホスホネート(HEDP)である。このようなホスホネート
キレート剤は、モンサント(Monsanto)社からディクエスト(DEQUEST)(登録
商標)の商品名で商業的に入手できる。
ンジホスホン酸アルカリ金属(HEDP)、アルキレンポリ(アルキレンホスホ
ネート)並びにアミノアミノトリ(メチレンホスホン酸)(ATMP)、ニトリ
ロトリメチレンホスホネート(NTP)、エチレンジアミンテトラメチレンホス
ホネートおよびジエチレントリアミンペンタメチレンホスホネート(DTPMP
)を含むアミノホスホネート化合物がある。ホスホネート化合物は、それらの酸
形で存在しても、或はそれらの酸官能基の幾つか或は全部が異なるカチオンの塩
として存在することもできる。本発明で使用する好適なホスホネートキレート剤
は、ジエチレントリアミンペンタメチレンホスホネート(DTPMP)および1
−ヒドロキエタンジホスホネート(HEDP)である。このようなホスホネート
キレート剤は、モンサント(Monsanto)社からディクエスト(DEQUEST)(登録
商標)の商品名で商業的に入手できる。
【0160】 多官能的に置換された芳香族キレート剤も本発明の組成物に有用である。米国
特許第3,812,044号[カナ(Connor)ら、1974年5月21日発行]を参照されたい。酸
形のこのタイプの好適な化合物は、ジヒドロキシジスルホベンゼン、例えば1,
2−ジヒドロキシ−3,5−ジスルホベンゼンである。
特許第3,812,044号[カナ(Connor)ら、1974年5月21日発行]を参照されたい。酸
形のこのタイプの好適な化合物は、ジヒドロキシジスルホベンゼン、例えば1,
2−ジヒドロキシ−3,5−ジスルホベンゼンである。
【0161】 本発明で使用するのに好適な生分解性キレート剤は、エチレンジアミンN,N'
−ジコハク酸またはそのアルカリ金属塩またはアルカリ土類金属塩、アンモニウ
ム塩、置換アンモニウム塩またはそれらの混合物である。エチレンジアミンN,
N'−ジコハク酸、特にその(S,S)異性体は米国特許第4,704,233号[ハート
マン(Hartman)およびパーキンス(Perkins)、1978年11月3日発行]明細書に
広範囲に亙り記載されている。エチレンジアミンN,N'−ジコハク酸は、例えば
パルマー・リサーチ・ラボラトリーズ(Palmer Research Laboratories)からss
EDDS(登録商標)の商品名で商業的に入手できる。
−ジコハク酸またはそのアルカリ金属塩またはアルカリ土類金属塩、アンモニウ
ム塩、置換アンモニウム塩またはそれらの混合物である。エチレンジアミンN,
N'−ジコハク酸、特にその(S,S)異性体は米国特許第4,704,233号[ハート
マン(Hartman)およびパーキンス(Perkins)、1978年11月3日発行]明細書に
広範囲に亙り記載されている。エチレンジアミンN,N'−ジコハク酸は、例えば
パルマー・リサーチ・ラボラトリーズ(Palmer Research Laboratories)からss
EDDS(登録商標)の商品名で商業的に入手できる。
【0162】 本発明で使用するのに好適なアミノカルボキシレートには、エチレンジアミン
テトラアセテート、ジエチレントリアミンペンタアセテート、ジエチレントリア
ミンペンタアセテート(DTPA)、N−ヒドロキシエチルエチレンジアミント
リアセテート、ニトリロトリアセテート、エチレンジアミンテトラプロピオネー
ト、トリエチレンテトラアミンヘキサアセテート、エタノール−ジグリシン、プ
ロピレンジアミンテトラ酢酸(PDTA)およびメチルグリシンジ酢酸(MGD
A)(両者共にそれらの酸形もしくはそれらのアルカリ金属塩形、アンモニウム
塩形、および置換アンモニウム塩形で)がある。本発明で使用するのに特に好適
なアミノカルボキシレートは、ジエチレントリアミンペンタ酢酸、プロピレンジ
アミンテトラ酢酸(PDTA)[これは例えばBASFからトリロン(Trilon)FS(
登録商標)の商品名で商業的に入手可能である]およびメチルグリシンジ酢酸(
MGDA)である。 本発明で使用できる別のカルボキシレートキレート剤には、サリチル酸、アス
パラギン酸、グルタミン酸、グリシン、マロン酸またはそれらの混合酸がある。
テトラアセテート、ジエチレントリアミンペンタアセテート、ジエチレントリア
ミンペンタアセテート(DTPA)、N−ヒドロキシエチルエチレンジアミント
リアセテート、ニトリロトリアセテート、エチレンジアミンテトラプロピオネー
ト、トリエチレンテトラアミンヘキサアセテート、エタノール−ジグリシン、プ
ロピレンジアミンテトラ酢酸(PDTA)およびメチルグリシンジ酢酸(MGD
A)(両者共にそれらの酸形もしくはそれらのアルカリ金属塩形、アンモニウム
塩形、および置換アンモニウム塩形で)がある。本発明で使用するのに特に好適
なアミノカルボキシレートは、ジエチレントリアミンペンタ酢酸、プロピレンジ
アミンテトラ酢酸(PDTA)[これは例えばBASFからトリロン(Trilon)FS(
登録商標)の商品名で商業的に入手可能である]およびメチルグリシンジ酢酸(
MGDA)である。 本発明で使用できる別のカルボキシレートキレート剤には、サリチル酸、アス
パラギン酸、グルタミン酸、グリシン、マロン酸またはそれらの混合酸がある。
【0163】漂白剤 本発明の液体組成物は、また漂白成分を含むことができる。任意の過酸素漂白
剤並びに任意の次亜ハロゲン酸塩漂白剤を始めとして、当業者に既知の任意の漂
白剤が本発明で使用するのに好適で有り得る。
剤並びに任意の次亜ハロゲン酸塩漂白剤を始めとして、当業者に既知の任意の漂
白剤が本発明で使用するのに好適で有り得る。
【0164】 本発明で使用するのに好適な過酸素漂白剤としては、過酸化水素またはその給
源物質が挙げられる。本発明で使用する過酸化水素の給源物質とは、水と接触す
ると活性酸素を生成する任意の化合物を云う。本発明で使用するのに好適な水溶
性過酸化水素給源物質としては、過炭酸塩、前形成された過カルボン酸、過珪酸
塩、過硫酸塩、過ホウ酸塩、有機および無機ペルオキシドおよび/またはヒドロ
ペルオキシドが挙げられる。
源物質が挙げられる。本発明で使用する過酸化水素の給源物質とは、水と接触す
ると活性酸素を生成する任意の化合物を云う。本発明で使用するのに好適な水溶
性過酸化水素給源物質としては、過炭酸塩、前形成された過カルボン酸、過珪酸
塩、過硫酸塩、過ホウ酸塩、有機および無機ペルオキシドおよび/またはヒドロ
ペルオキシドが挙げられる。
【0165】 本発明で使用するのに好適な次亜ハロゲン酸塩漂白剤には、塩素放出成分を含
む、例えば次亜塩素酸アルカリ金属塩がある。有利なことに、本発明による組成
物は、この漂白成分の存在下で安定である。次亜塩素酸アルカリ金属塩が好適で
あるけれども、他の次亜塩素酸化合物も本発明に使用でき、次亜塩素酸塩として
例えば次亜塩素酸カルシウムまたは次亜塩素酸マグネシウムから選ぶこともでき
る。本発明で使用するのに好適な次亜塩素酸アルカリ金属塩は、次亜塩素酸ナト
リウムである。
む、例えば次亜塩素酸アルカリ金属塩がある。有利なことに、本発明による組成
物は、この漂白成分の存在下で安定である。次亜塩素酸アルカリ金属塩が好適で
あるけれども、他の次亜塩素酸化合物も本発明に使用でき、次亜塩素酸塩として
例えば次亜塩素酸カルシウムまたは次亜塩素酸マグネシウムから選ぶこともでき
る。本発明で使用するのに好適な次亜塩素酸アルカリ金属塩は、次亜塩素酸ナト
リウムである。
【0166】漂白剤活性剤 本発明組成物が過酸素漂白剤を含有する好適な態様では、該組成物はさらに漂
白剤活性剤をも含む。 「漂白剤活性剤」とは、過酸素漂白剤、例えば過酸化水素と反応して過酸を生
成する物質を意味する。こうして生成した過酸は、活性化された漂白剤となる。
本発明で使用するのに好適な漂白剤活性剤は、エステル、アミド、イミドまたは
無水物のクラスに属する化合物である。
白剤活性剤をも含む。 「漂白剤活性剤」とは、過酸素漂白剤、例えば過酸化水素と反応して過酸を生
成する物質を意味する。こうして生成した過酸は、活性化された漂白剤となる。
本発明で使用するのに好適な漂白剤活性剤は、エステル、アミド、イミドまたは
無水物のクラスに属する化合物である。
【0167】 このタイプの好適な化合物の例は、英国特許1 586 769号および同2 143 231号
明細書に記載され、粒状形態のそれら化合物の製造方法は、欧州特許願EP-A-62
523号公表公報に記載されている。本発明で使用するのに好適なこのような化合
物の例は、例えば米国特許第4 818 425号明細書に記載されたテトラセチルエチ
レンジアミン(TAED)、3,5,5−トリメチルヘキサノイルオキシベンゼン
スルホン酸ナトリウム、ジペルオキシドデカン酸、および例えば米国特許第4 25
9 201号明細書に記載されたペルオキシアジピン酸のノニルアミドおよびn−ノ
ナノイルオキシベンゼンスルホネート(NOBS)である。また、置換または非
置換、ベンゾイルカプロラクタム、オクタノイルカプロラクタム、ノナノイルカ
プロラクタム、ヘキサノイルカプロラクタム、デカノイルカプロラクタム、ウン
デセノイルカプロラクタム、ホルミルカプロラクタム、アセチルカプロラクタム
、プロパノイルカプロラクタム、ブタノイルカプロラクタム、ペンタノイルカプ
ロラクタムまたはそれらの混合カプロラクタムからなる群から選ばれたN−アシ
ルカプロラクタムも好適である。重要な注目すべき系列の漂白剤活性剤が EP 62
4 154号明細書に開示され、この系列の内でクエン酸アセチルトリエチル(AT
C)が特に好適である。クエン酸アセチルトリエチルは、最終的にはクエン酸と
アルコールに分解するので環境に優しい点で有利である。さらに、クエン酸アセ
チルトリエチルは、貯蔵に際し製品中で良好な加水分解安定性をもち、効率の良
い漂白剤活性剤である。最後に、クエン酸アセチルトリエチルは、組成物に良好
な漂白増強能力を付与する。
明細書に記載され、粒状形態のそれら化合物の製造方法は、欧州特許願EP-A-62
523号公表公報に記載されている。本発明で使用するのに好適なこのような化合
物の例は、例えば米国特許第4 818 425号明細書に記載されたテトラセチルエチ
レンジアミン(TAED)、3,5,5−トリメチルヘキサノイルオキシベンゼン
スルホン酸ナトリウム、ジペルオキシドデカン酸、および例えば米国特許第4 25
9 201号明細書に記載されたペルオキシアジピン酸のノニルアミドおよびn−ノ
ナノイルオキシベンゼンスルホネート(NOBS)である。また、置換または非
置換、ベンゾイルカプロラクタム、オクタノイルカプロラクタム、ノナノイルカ
プロラクタム、ヘキサノイルカプロラクタム、デカノイルカプロラクタム、ウン
デセノイルカプロラクタム、ホルミルカプロラクタム、アセチルカプロラクタム
、プロパノイルカプロラクタム、ブタノイルカプロラクタム、ペンタノイルカプ
ロラクタムまたはそれらの混合カプロラクタムからなる群から選ばれたN−アシ
ルカプロラクタムも好適である。重要な注目すべき系列の漂白剤活性剤が EP 62
4 154号明細書に開示され、この系列の内でクエン酸アセチルトリエチル(AT
C)が特に好適である。クエン酸アセチルトリエチルは、最終的にはクエン酸と
アルコールに分解するので環境に優しい点で有利である。さらに、クエン酸アセ
チルトリエチルは、貯蔵に際し製品中で良好な加水分解安定性をもち、効率の良
い漂白剤活性剤である。最後に、クエン酸アセチルトリエチルは、組成物に良好
な漂白増強能力を付与する。
【0168】組成物の充填あるいは包装形態 本発明の組成物は、当業者に既知の種々の適当な洗剤包装態様で包装できる。
液体組成物は、慣用の洗剤用プラスチックボトルに充填するのが好適である。
液体組成物は、慣用の洗剤用プラスチックボトルに充填するのが好適である。
【0169】 一態様では、本発明の組成物は、手作業で、あるいは電気的に運転される、通
常の合成有機プラスチックポリマー材料で造られたスプレーディスペンサー容器
に充填される。従って、本発明は、スプレーディスペンサー、好適にはトリガー
スプレーディスペンサーに、またはポンプスプレーディスペンサーに充填された
本発明の液体クリーニング組成物をも包含する。
常の合成有機プラスチックポリマー材料で造られたスプレーディスペンサー容器
に充填される。従って、本発明は、スプレーディスペンサー、好適にはトリガー
スプレーディスペンサーに、またはポンプスプレーディスペンサーに充填された
本発明の液体クリーニング組成物をも包含する。
【0170】 事実、該スプレー型ディスペンサーは、クリーニングされる表面の比較的広い
区域に亙り本発明により使用するのに好適な液体クリーニング組成物を一様に適
用することを可能となす。このようなスプレー型ディスペンサーは、垂直な表面
をきれいにするのに特に適している。
区域に亙り本発明により使用するのに好適な液体クリーニング組成物を一様に適
用することを可能となす。このようなスプレー型ディスペンサーは、垂直な表面
をきれいにするのに特に適している。
【0171】 本発明により使用するのに好適なスプレー型ディスペンサーには、例えば ス
ペシャルティー・パッケイジング・プロダクト社(Specialty Packaging Produc
ts Inc.)または コンチネンタル・スプレイヤー社(Continental Sprayers, I
nc.)により販売される手動トリガー型泡ディスペンサーがある。これらの型の
ディスペンサーは、例えば米国特許第4,701,311号[ダニニング(Dunnining)ら]
および米国特許第4,646,973号および米国特許第4,538,745号[共にフォカラッシ
(Focarracci)]に開示されている。本発明で使用するのに特に好適なスプレー型
ディスペンサーは、コンチネンタル・スプレー・インターナショナル社(Contin
ental Spray International)から商業的に入手できるT 8500(登録商標)また
は北アイルランドのキャニオン(Canyon)から商業的に入手できるT 8100(登
録商標)である。このようなディスペンサー中の液体組成物は、微細な液滴に分
割されて噴霧を生じ、被処理表面に向けられる。実際に、このようなスプレー型
ディスペンサーでは、使用者がポンプメカニズムに付勢するとポンプメカニズム
に連絡したエネルギーによりスプレー型ディスペンサーの本体に含まれた組成物
はスプレー型ディスペンサーヘッド を通って噴霧される。さらに詳しくは、こ
のスプレー型ディスペンサーヘッド中の組成物は、障害物、例えば格子または円
錐体などに向けて強制噴出され、それにより液体組成物を霧状化する衝撃が組成
物に与えられ、すなわち液滴が生成される。
ペシャルティー・パッケイジング・プロダクト社(Specialty Packaging Produc
ts Inc.)または コンチネンタル・スプレイヤー社(Continental Sprayers, I
nc.)により販売される手動トリガー型泡ディスペンサーがある。これらの型の
ディスペンサーは、例えば米国特許第4,701,311号[ダニニング(Dunnining)ら]
および米国特許第4,646,973号および米国特許第4,538,745号[共にフォカラッシ
(Focarracci)]に開示されている。本発明で使用するのに特に好適なスプレー型
ディスペンサーは、コンチネンタル・スプレー・インターナショナル社(Contin
ental Spray International)から商業的に入手できるT 8500(登録商標)また
は北アイルランドのキャニオン(Canyon)から商業的に入手できるT 8100(登
録商標)である。このようなディスペンサー中の液体組成物は、微細な液滴に分
割されて噴霧を生じ、被処理表面に向けられる。実際に、このようなスプレー型
ディスペンサーでは、使用者がポンプメカニズムに付勢するとポンプメカニズム
に連絡したエネルギーによりスプレー型ディスペンサーの本体に含まれた組成物
はスプレー型ディスペンサーヘッド を通って噴霧される。さらに詳しくは、こ
のスプレー型ディスペンサーヘッド中の組成物は、障害物、例えば格子または円
錐体などに向けて強制噴出され、それにより液体組成物を霧状化する衝撃が組成
物に与えられ、すなわち液滴が生成される。
【0172】 実施例 下記表に列挙した成分を列挙した割合(重量%)で含む組成物をつくった。
【0173】
【表1】
【0174】 全ての上記組成物は、エナメル表面の処理に使用したときにエナメルに対して
安全であった。
安全であった。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C11D 7/26 C11D 7/26 7/50 7/50 (81)指定国 EP(AT,BE,CH,CY, DE,DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,I T,LU,MC,NL,PT,SE),OA(BF,BJ ,CF,CG,CI,CM,GA,GN,GW,ML, MR,NE,SN,TD,TG),AP(GH,GM,K E,LS,MW,SD,SL,SZ,TZ,UG,ZW ),EA(AM,AZ,BY,KG,KZ,MD,RU, TJ,TM),AE,AL,AM,AT,AU,AZ, BA,BB,BG,BR,BY,CA,CH,CN,C R,CU,CZ,DE,DK,DM,EE,ES,FI ,GB,GD,GE,GH,GM,HR,HU,ID, IL,IN,IS,JP,KE,KG,KP,KR,K Z,LC,LK,LR,LS,LT,LU,LV,MA ,MD,MG,MK,MN,MW,MX,NO,NZ, PL,PT,RO,RU,SD,SE,SG,SI,S K,SL,TJ,TM,TR,TT,UA,UG,US ,UZ,VN,YU,ZA,ZW (71)出願人 ONE PROCTER & GANBL E PLAZA,CINCINNATI, OHIO,UNITED STATES OF AMERICA (72)発明者 イアコヴィデス,パノス イタリア国、00144 ローマ、ヴィアッレ、 デッラストロノーミア 9 (72)発明者 オルランディーニ,ラウラ イタリア国、80070 バコーリ、ヴィア、 ファロ 35 (72)発明者 レッシオ,マリア−ローザ イタリア国、00153 ローマ、ヴィアーレ、 ディ、トラステヴェーレ 203 Fターム(参考) 4H003 AB27 AC08 BA12 DA05 DA08 DA15 EB07 EB08 EB13 EB28 EB41 ED02 ED29 FA15 FA28
Claims (11)
- 【請求項1】 3.5またはそれより高いpKa値をもつエナメルに安全な
酸を含有する液体酸性組成物でエナメル表面をクリーニングする方法であって、
前記組成物中にジエチレングリコールのそれぞれモノ低級アルキルエーテル(こ
こに低級アルキルとは、2個〜6個の炭素原子をもつアルキル基である)または
フェニルエーテルまたはベンジルエーテルが存在しないことを条件とする、エナ
メルに安全な酸を含有する液体酸性組成物でエナメル表面をクリーニングする方
法。 - 【請求項2】 前記酸が、4.0より高いpKa値をもつ、請求項1記載の
方法。 - 【請求項3】 3.5またはそれより高いpKa値をもつエナメルに安全な
酸が、3.5またはそれより高いpKa値をもつ有機酸または無機酸またはそれ
らの混合酸である、請求項1または2記載の方法。 - 【請求項4】 前記組成物が、全組成物の0.1重量%〜10重量%の前記
エナメルに安全な酸を含有する、請求項1ないし3のいずれかに1項記載の方法
。 - 【請求項5】 前記組成物が、7未満のpHを有する、請求項1ないし4の
いずれか1項記載の方法。 - 【請求項6】 前記組成物が、さらに界面活性剤を含有する、請求項1ない
し5のいずれか1項記載の方法。 - 【請求項7】 前記組成物が、全組成物の15重量%までの前記界面活性剤
を含有する、請求項6記載の方法。 - 【請求項8】 前記組成物が、さらに溶媒を含有する、請求項1ないし7の
いずれか1項記載の方法。 - 【請求項9】 前記組成物が、全組成物の0.1重量%〜8重量%の前記溶
媒を含有する、請求項8記載の方法。 - 【請求項10】 前記組成物が、3.5未満のpKa値を有する酸を含有し
ない、請求項1ないし9のいずれか1項記載の方法。 - 【請求項11】 3.5またはそれより高いpKa値を有するエナメルに安
全な酸を組成物中でエナメル表面のクリーニングに使用し、それにより前記組成
物はエナメルに安全である、エナメルに安全な酸のエナメル表面のクリーニング
への使用方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP98870262.7 | 1998-12-02 | ||
EP98870262A EP1006177A1 (en) | 1998-12-02 | 1998-12-02 | Enamel safe cleaning process |
PCT/US1999/028179 WO2000032737A1 (en) | 1998-12-02 | 1999-11-29 | Enamel safe cleaning process |
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002531634A true JP2002531634A (ja) | 2002-09-24 |
Family
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000585368A Withdrawn JP2002531634A (ja) | 1998-12-02 | 1999-11-29 | エナメルに安全なクリーニング方法 |
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---|---|
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---|---|---|---|---|
KR20030011349A (ko) * | 2000-06-05 | 2003-02-07 | 에스.씨. 존슨 앤드 선, 인코포레이티드 | 살생 클리너 조성물 |
US8814861B2 (en) | 2005-05-12 | 2014-08-26 | Innovatech, Llc | Electrosurgical electrode and method of manufacturing same |
US7147634B2 (en) | 2005-05-12 | 2006-12-12 | Orion Industries, Ltd. | Electrosurgical electrode and method of manufacturing same |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
ZA715630B (en) * | 1970-10-12 | 1973-04-25 | Colgate Palmolive Co | Cleaning compositions |
SU633896A1 (ru) * | 1977-03-10 | 1978-11-25 | Уральский филиал Всесоюзного научно-исследовательского и проектного института химической промышленности | Средства дл удалени накипи с эмалированной и металлической поверхности |
DD138782A1 (de) * | 1978-09-19 | 1979-11-21 | Michael Gallus | Reinigungsmittel |
DD290019A5 (de) * | 1989-12-13 | 1991-05-16 | Chemiewerk Bad Koestritz,De | Fluessiges reinigungs- und desinfektionsmittel und verfahren zu seiner herstellung |
NZ248582A (en) * | 1992-09-24 | 1995-02-24 | Colgate Palmolive Co | Acidic, thickened cleaner containing dicarboxylic acids and aminoalkylene phosphonic acid for cleaning lime scale from acid-resistant or zirconium white enamel hard surfaces |
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1998
- 1998-12-02 EP EP98870262A patent/EP1006177A1/en not_active Ceased
-
1999
- 1999-11-29 TR TR2001/01582T patent/TR200101582T2/xx unknown
- 1999-11-29 AU AU18349/00A patent/AU1834900A/en not_active Abandoned
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- 1999-11-29 EP EP99961854A patent/EP1135456A1/en not_active Withdrawn
- 1999-11-29 JP JP2000585368A patent/JP2002531634A/ja not_active Withdrawn
- 1999-11-29 CA CA002350770A patent/CA2350770A1/en not_active Abandoned
-
2001
- 2001-05-16 ZA ZA200104001A patent/ZA200104001B/en unknown
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Publication number | Publication date |
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Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20070206 |