JP2002527897A - ウェーハ・マッピング・システム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 開示されるウェーハ・マッピング・システムはプロセス・ツール（２０）のポートドア（２２）に取り付けられている。ポートドアがプロセス・ツールのアクセスポート（２４）から遠ざかるように降下されると、本発明に係るウェーハ・マッピング・システムはポッド・シェル（３２）内の様々なウェーハの存在及び位置を検出し、その情報は追って使用されるためにメモリ内に保存される。このようにして、このシステムに係るウェーハ・マッピングは追加的な処理ステップ及び時間無しに行われる。ポートドアがサーボ・ドライバによって降下され、該ドライバがポートドアの正確な位置が任意の所与時に識別されることを可能とする。このようにして、ポッド・シェル内のウェーハの位置は、ポートドアが降下されると、該ポートドア上に取り付けられたウェーハ・マッピング・システムによって正確に識別され得る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】 発明の背景 発明の分野 本発明は半導体ウェーハに関し、特にカセット或はポットのウェーハ・スロッ
ト内におけるウェハーの存在及び位置を検出するシステムであって、該ウェーハ
の位置を追っての使用のためにメモリ内に保存又はマッピング（写像）するシス
テムに関する。

【０００２】関連技術の説明 Ｈｅｗｌｅｔｔ−Ｐａｃｋａｒｄ Ｃｏｍｐａｎｙ社によって提案されるＳＭ
ＩＦシステムは合衆国特許第４，５３２，９７０号及び第４，５３４，３８９号
に開示されている。ＳＭＩＦシステムの目的は、半導体製造プロセスを介しての
ウェーハの保存中及び移送中における半導体ウェーハ上への粒子フラックスを低
減することである。この目的は、部分的には、保存及び移送の最中において、ウ
ェーハを取り巻く（空気或は窒素等の）ガス状媒体が該ウェーハに対して本質的
には静的であることを機械的に確保することによって、そして、周囲環境からの
粒子が直ぐ隣接するウェーハ環境に入らないことを確保することによって達成さ
れる。

【０００３】 ＳＭＩＦシステムは３つの主要要素：（１）ウェーハ及び／又はウェーハ・カ
セットを保存及び移送するために使用される最小限の体積である封止状態のポッ
ド、（２）露出状態のウェーハ及び／又はウェーハ・カセットが処理ツールの内
部へ移送され得るか或は該内部から移送され得る小型のクリーン空間（清浄空気
が充填されている）を提供すべく半導体処理ツール上に配置された入力／出力（
Ｉ／Ｏ）ミニ環境、そして（３）ウェーハ及び／又はウェーハ・カセットをＳＭ
ＩＦポッド及びＳＭＩＦミニ環境の間でそれらウェーハ或はカセットを粒子に曝
露すること無しに移送のためのインターフェース、を有する。１つの提案された
ＳＭＩＦシステムの更なる詳細は、Ｍｉｈｉｒ Ｐａｒｉｋｈ及びＵｌｒｉｃｈ
Ｋａｅｍｐｆ著の論文「ＳＭＩＦ： Ａ ＴＥＣＨＮＯＬＯＧＹ ＦＯＲ Ｗ
ＡＦＥＲ ＣＡＳＳＥＴＴＥ ＴＲＡＮＳＦＥＲ ＩＮ ＶＬＳＩ ＭＡＮＵＦ
ＡＣＴＵＲＩＮＧ」，Ｓｏｌｉｄ Ｓｔａｔｅ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ，１９８
４年７月，第１１１−１１５頁、に記載されている。

【０００４】 ＳＭＩＦパッドは、ウェーハが保存及び移送され得る封止状態の環境を提供す
べくポッド・シェルと符合するポッド・ドアを一般的には含む。所謂、「底部開
口」ポッドが知られており、そこではポッド・ドアがポッドの底部に水平に設け
られており、ウェーハはそのポッド・ドア上に支持されているカセット内に支持
されている。また、「前部開口」ポッドも知られており、そこではポッド・ドア
は垂直平面内に配置されており、ウェーハはポッド・シェル内に取り付けられた
カセット内か、或は、ポッド・シェル自体内に取り付けられた棚に支持される。

【０００５】 ＳＭＩＦポッドとウェーハ製造機内のプロセス・ツールの間にウェーハを移送
するために、ポッドは典型的にはプロセス・ツールの前部におけるロードポート
上に手動的か或は自動的かの何れかでロードされる。このプロセス・ツールは、
ポッドがない場合に、ポートドアによって覆われるアクセスポートを含む。ひと
たびポッドがロードポート上に配置されれば、そのポートドア内の機構はポッド
・ドアをポッド・シェルからアンラッチ（ラッチ解除）し、該ポッド・ドア及び
ポートドアを一緒にプロセス・ツール内へ移動させられて、そこにそれらのドア
が移送経路から遠ざけられ、且つしまい込まれる。ポッド・シェルは内部ポート
に依然として隣接させられて、ウェーハを取り囲むプロセス・ツール及びポッド
・シェルの内部を含む清浄環境を維持するようにしている。プロセス・ツール内
のウェーハ取り扱いロボットは、その後、ポッド及びプロセス・ツールの間での
移送のためにポッド或はカセット内のウェーハ・スロット内に支持された特定の
ウェーハにアクセスし得る。

【０００６】 製造中、半導体ウェーハは個々別々の集積回路チップに切断される前に３００
工程段階以上を被り得て、それらウェーハはこれら工程段階各々のためにＳＭＩ
Ｆへそして該ＳＭＩＦから移送され得ることになる。一群のウェーハが個々別々
のプロセス又は工程のためにポッドから除去され且つ該ポッドへ戻されるたびに
、１つ或はそれ以上のウェーハが損傷或は破壊され得る危険がある。シリコン半
導体ウェーハは非常に高価であり、各ウェーハは一千ドル以上の値段である。よ
り重要なことは、装置がそうしたウェーハ面上に形成されると、ポッド内の複数
のウェーハから成る特定ロットの価値は百万ドルを超え得る。それ故に、製造中
のウェーハに損傷を与えること或は損失することを回避することが重要である。

【０００７】 ウェーハ損傷の１つの原因は、ウェーハがポッド或はカセット内のウェーハ・
スロット内に不適切に着座させられる結果である。ウェーハは、例えばピックア
ンドプレースロボット（ｐｉｃｋ ａｎｄ ｐｌａｃｅ ｒｏｂｏｔ）によって
、手動或は自動の何れかでポッド或はカセットのスロット内にロードされ得る。
ウェーハが手動でウェーハ・スロット内にロードされる場合、ウェーハが「交差
配列」或は「二重配列」される危険性がある。交差配列されたウェーハはカセッ
ト或はポッドの一方面上の第１スロット内と、該第１スロットよりも高いか或は
低いカセット或はポッドの反対面上の第２スロット内とに着座されているもので
ある。その結果、ウェーハは水平ではなく、カセット或はポッド内の他の適切に
着座されているウェーハと平行していない。ピックアンドプレースロボットが交
差配列されたウェーハにアクセスしようとすると、ロボットがウェーハと衝突し
、且つ／若しくは、ウェーハがロボット上に適切に着座しない可能性がある。何
れの状況においても、交差配列されたウェーハやおそらくはそれを取り巻くそう
したウェーハの損傷或は破壊を引き起こし得る可能性がある。二重配列されたウ
ェーハは他方のウェーハの上部に直に横たわるウェーハであり、それら２つのウ
ェーハはウェーハ・スロットの単一組内に配置されることになる。この状況はそ
れらウェーハに対する処理を妨げ、ウェーハの一方或は双方を損失することにな
る。

【０００８】 不適切に配置されたウェーハによるウェーハ損傷の問題とは別であり且つ離れ
て、ポッド或はカセットは数個の空のウェーハ・スロットを含み得る。この場合
、ウェーハ・スロットの特定組のウェーハ無しが検出されなければ、事実上、そ
こにはないウェーハにアクセスすべくカセットにピックアンドプレースロボット
の末端作動器を入れさせるために時間の浪費がなされる。

【０００９】 ウェーハが不適切に配置された結果としての損傷を防止するために、且つ、想
像上のウェーハにアクセスする時間浪費を回避するために、ウェーハ・スロット
内のウェーハの存在及び位置を検出する検知システムを提供することが知られて
いる。この情報は次いでコンピュータ・メモリ内に保存され得て、特定のポッド
或はカセットに対するウェーハ・マップを追って使用するために提供する。従来
のウェーハ・マッピング・システムのタイプ及び配置箇所は従来技術において様
々である。幾つかの従来のウェーハ・マッピング・システムは、ひとたびポッド
或はカセットがロードされたならばウェーハの存在及び位置を検出する独立又は
スタンドアローン型ステーションを利用している。そうしたシステムの例は、Ｐ
ｏｗｅｒｓ等の合衆国特許第５，２２５，６９１号に開示されている。この引用
例はベース部に搭載された１対のコラムを開示し、それらコラムはそれらの間に
ウェーハ・カセットを受け入れるべく充分に離間されている。一方のコラムは複
数のトランスミッタを収容し、他方のコラムは複数のレシーバを収容している。
ウェーハ・カセットがベース上のそれらコラム間に着座された後、ウェーハの存
在、位置、並びに、水平配向が異なる時間での各トランスミッタ上での回転によ
って決定され得る。この合衆国特許第５，２２５，６９１号に開示されたような
システムの短所は、これらシステムがプロセス時間と設備コストとを著しく追加
することである。マッピング・ステーションから遠ざかるように移送した後にウ
ェーハを移動することも可能であって、特定のウェーハのマップされた位置は次
に引き続く処理ステーションでのウェーハの位置ではない可能性がある。

【００１０】 スタンドアローン型マッピング・ステーションに加えて、マッピング・ステー
ションを特定のプロセス・ツールのロードポートに統合することが知られている
。例えばＭａｇｅｒｓ等の合衆国特許第５，７７２，３８６号は、処理ツール・
ポートを透かしてポッドを調べる処理ツール内に取り付けられた割り出しセンサ
を開示しており、その上にウェーハが搭載されることになるプラットフォームが
垂直軸に沿って上下に割り出されると共にウェーハをマッピングする。そうした
システムは前部開口ロードポート・システムとして動作せず、ウェーハのプロセ
ス・ツール内への移送中に垂直軸に沿ってウェーハを移動する割り出し器を含ま
ない。

【００１１】 前部開口システムにおいて、ウェーハ取り扱い作動器上にウェーハ・マッピン
グ・システムを提供することを知られており、そのシステムが垂直軸に沿って割
り出しを行い、特定のパッド或はカセット内におけるウェーハについでの存在及
び位置の情報を提供する。しかしながらこれらシステムは、ポートドアを開いた
後であり且つウェーハへのアクセスに先行して、ウェーハをウェーハ・マッピン
グに専用の別個のステップでポッド内にマッピングする。そのようにして、こう
したタイプのシステムは、ウェーハのポッド或はカセット内でのマッピングを提
供するために付加的な処理ステップ及び時間を必要とする。

【００１２】 発明の概要 それ故に、本発明の長所はロードポート内に統合されたウェーハ・マッピング
・システムを提供することであり、追加的又は付加的な処理ステップ或は時間無
しに、ウェーハ・マッピング機能を提供するものである。

【００１３】 本発明の別の長所は、サーボ駆動ポート上にウェーハ・マッピング・システム
を搭載して、該ウェーハ・マッピング・システムの垂直位置がプロセス・ツール
・アクセスポートから遠ざかるような移動中の任意の時点で識別され得るように
為す。

【００１４】 本発明の更なる長所は、ポッド・シェル或はカセット内に配置され得るウェー
ハ・マッピング・システムを提供することである。

【００１５】 本発明の更に別の長所は、ウェーハ・スロットの特定組からウェーハの有無を
検出するウェーハ・マッピング・システムを提供することである。

【００１６】 本発明の更なる長所は、交差配列されたウェーハを検出するウェーハ・マッピ
ング・システムを提供することである。

【００１７】 本発明の別の長所は、二重配列されたウェーハを検出するウェーハ・マッピン
グ・システムを提供することである。

【００１８】 本発明の更なる長所は、マッピング・システムの位置をポッド・シェル或はカ
セット内へ延ばし或は該ポッド或はカセットから引っ込めるための電気的及び／
又は受動的な機械駆動機構を提供することである。

【００１９】 本発明の更に別の長所は、広範なポッド・シェル及びカセットで作業できるウ
ェーハ・マッピング・システムを提供することである。

【００２０】 本発明のこれらの長所や他の長所は、全般的にはプロセス・ツールのポートド
アに取り付けられたウェーハ・マッピング・システムの様々な実施例に関する本
発明のよって提供される。アクセスポートを介してウェーハを移送させるために
ポートドアがプロセス・ツールのアクセスポートから遠ざかるように降下される
と、本発明に従ったウェーハ・マッピング・システムがポッド・シェル内の様々
なウェーハの存在及び位置を検出し、その情報が追っての使用のためにメモリ内
に保存され得る。このようにして、このシステムに従ったウェーハ・マッピング
は追加的な処理ステップ或は時間無しに行われる。ポートドアがサーボ・ドライ
ブによって降下され、該ポートドアの正確な位置が任意所与時に識別され得る。
このようにして、ポッド・シェル内のウェーハの位置はポートドアが降下される
と該ポートドア上に取り付けられたウェーハ・マッピング・システムによって正
確に識別され得る。

【００２１】 本発明の一実施例に従えば、ウェーハ・マッピング・システムはポートドアの
上部に上部エッジに向かって回転自在に取り付けられた１対のフィンガを含む。
後退位置において、フィンガはポートドア上方且つ背後に横たわる。これらフィ
ンガは、フィンガ及びポッド・シェル間の接触を回避すべくポートドアが充分に
降下させられた後に、ポッド・シェル内部のそれらの拡張位置へ回転させられる
。ウェーハ・マッピング・システムは、ポートドア内に取り付けられるか或はフ
ィンガの端部上に取り付けられるかするトランスミッタ及びレシーバを更に含む
。それらの拡張位置において、フィンガはトランスミッタからの電磁エネルギー
のビームを伝送し、ポッド・シェルの前部を横切らせレシーバに戻す。ポートド
ア及びウェーハ・マッピング・システムが下方へ移動すると、ウェーハ・スロッ
ト内のウェーハはそのビームを分断し、レシーバ内へのビーム受信を妨害する。
この時、ウェーハの高さはビームの既知の高さと符合して、ウェーハの位置がメ
モリ内にマッピングされ得る。ビームが阻止されている期間は交差配置ウェーハ
及び二重配置ウェーハをも識別する。

【００２２】 本発明の更なる実施例に従えば、移動中のフィンガが省略され得て、トランス
ミッタからのビームが代わりにポッド・シェル内に且つ該ポッド・シェルを横切
るように反射され、ポッド・シェルの後方に設けられた反射性ストリップによっ
てレシーバに戻される。ポッド・シェル内に１つ或は２つの反射性ストリップが
可能であって、それらがビームが適切にレシーバへ戻るように反射されることを
保証するように角度付けされている。本発明の更なる実施例において、トランス
ミッタ及びレシーバはポートドアの対向する側部上のイヤー部に取り付けられ得
る。この実施例において、プロセス・ツールのアクセスポートの両側のポート・
プレートは垂直方向に配向されたウィンドウを含み、ポートドアがポート・プレ
ート背後で降下されると、トランスミッタがウィンドウを通じてビームをポート
の一方の側部に伝送し、レシーバがポートの対向側部上のウィンドウを介して戻
るビームを受信し得る。この実施例において、１対の反射性ストリップがポッド
・シェル外部のロードポート上に取り付けられ、水平ポッド支持面から上方へ延
在している。これらストリップは、トランスミッタからのビームをポッドを介し
てレシーバへ戻すために設けられて、ウェーハの位置をウェーハによるビームの
分断に及んでマッピングし得る。上述のように、マッピング・システムは交差配
置ウェーハ及び二重配置ウェーハをも検出し得る。

【００２３】 ウェーハ・マッピング・システムの上述した実施例はビーム分断システムを備
える。このシステムはビームがレシーバからの阻止される結果として特定高さの
ウェーハの存在を検出する。本発明の更なる代替実施例は、１つのトランスミッ
タ／レシーバ・ユニットを含む逆反射ウェーハ・マッピング・システムを備える
。このトランスミッタ／レシーバ・ユニットのトランスミッタはビームを、ポー
トドアが下方へ移動する際にポッド・シェルの内部に伝送する。特定ウェーハ・
スロット内のウェーハと遭遇するに及んで、ビームはウェーハ・エッジから反射
されて、そのトランスミッタ／レシーバ・ユニットのレシーバへ戻される。ビー
ムの受信に及んで、レシーバはウェーハの位置を追って使用するために保存させ
る。このシステムは１対のトランスミッタ／レシーバ・ユニットを備え得て、ユ
ニットの一方がウェーハ・ノッチから反射させる場合の状況を考慮する（その場
合、たとえウェーハ存在指示の結果となるが、ビームはレシーバへ戻るように反
射されない）。加えて、トランスミッタ／レシーバ・ユニットの各々はポートド
アに調整自在に取り付けられて、トランスミッタから放射されるビームがポート
ドア上方の所定高さであり且つポッド・シェル内のウェーハの平面と平行である
ことを保証する。

【００２４】 以下、本発明は、全般的にはＳＭＩＦポッドにおけるスロット内におけるウェ
ーハの存在及び位置を検出するウェーハ・マッピング・システムに関する図１乃
至図２０を参照して説明される。本発明はポッド・シェルに直に結着されたウェ
ーハ・スロットを有する３００ｍｍの前部開口ＳＭＩＦポッドに関して説明され
るが、本発明の底部開口ポッド及びスタンドアローン型ウェーハ・カセットを含
む任意の様々な他の容器で作動できることを理解して頂きたい。更に理解して頂
きたいことは、本発明はポッド或はカセット内に移送された、半導体ウェーハ、
レティクル、並びに、平坦なパネル・ディスプレイを含む様々なワークピースに
対する存在及び位置的情報を検知すべく使用され得ることである。

【００２５】 次に図１乃至図３を参照すると、ポッドがない際のツール・アクセスポート２
４を覆うポートドア２２を含むプロセス・ツール２０内部から背面図をそれぞれ
が示している。特に図２及び図３に示されるように、ポッド２６がプロセス・ツ
ールの前部上のロードポート上にロードされた後、筐体２８内に収容された（不
図示の）機構はポッド・ドア３０をポッド・シェル３２から結合解除し、ポッド
・ドア３０をポートドア２２に結合する。ポッド・ドアのポートドアに対する結
合後、水平移送機構３４はポートドア及びポッド・ドアをアクセスポート２４か
ら後方へ引っ張る。その後、垂直移送機構３６はポッド・ドア及びポートドアを
下方へ移動させてアクセスポート２４に通ずる経路を開けて、ウェーハ２５がポ
ッド・シェル及びプロセス・ツール間で移送され得るように為している。ウェー
ハ取り扱いロボット（不図示）をプロセス・チャンバー内に設けることができて
、ウェーハのポッド・シェル及びプロセス・ツール間での移送を実行する。

【００２６】 垂直移送機構３６は、好ましくは、ポッド・ドア及びポートドアがアクセスポ
ートから離れて下方へ移動させられると共にそれらドアの垂直位置の正確な決定
を可能とするサーボ・ドライブを含む。本発明にとっては重要ではないが、水平
移送機構３４は、ポートドアがアクセスポート２４から取り除かれると共に該ポ
ートドアの水平位置の正確なモニタを為すためのサーボ・ドライブをも含み得る
。垂直とおそらくは水平との移送機構のサーボ・ドライブは、各モータと、リー
ド・ネジと、当該移送機構によってポートドア及びポッド・ドアの水平及び垂直
の移動を正確にモニタすることを可能とするエンコーダ等の既知のサーボ装置と
を備える。好適実施例において、エンコーダはモータの回転部に取り付けられ得
るが、代替実施例ではリード・ネジのシャフトに取り付けられ得る。サーボ・ド
ライブと、特に垂直移送機構３６上のサーボ・ドライブとの結果、ポートドア２
２の正確な垂直位置が任意の所与時に知られる。結果として、以降に説明される
ようにポートドア上に取り付けられたウェーハ・マッピング・システムの垂直位
置は任意の所与時に知られる。

【００２７】 本発明に従った図１乃至図３を更に参照すれば、ウェーハ・マッピング・シス
テム３８はポートドアの上部或は該上部へ向かってポートドアの後方に取り付け
られる。本発明の第１実施例に従えば、ウェーハ・マッピング・システム３８は
トランスミッタ・アセンブリ４０及びレシーバ・アセンブリ４２を含む。トラン
スミッタ・アセンブリ４０はフィンガ４６の端部に取り付けられたトランスミッ
タ４４を含む。フィンガ４６はトランスミッタ・アセンブリ・ハウジング４８内
のベアリング（不図示）で回転自在に支持されたシャフト５０に取り付けられて
いる。トランスミッタは測定可能な光ビームを放射する。好適実施例において、
トランスミッタ４４から放射された光はベース内のレーザ・ダイオード（不図示
）によって生成され、シャフト５０及びフィンガ４６を通じて光ファイバ担体（
不図示）によってフィンガ４６の端部内におけるトランスミッタと連通している
。理解して頂けるように、トランスミッタ４４から放射された光は可視及び不可
視の光波周波数を含む様々な周波数であることが可能であり、代替実施例では発
光ダイオード（ＬＥＤ）からのようなコーヒレント光或はインコーヒレント光を
含み得る。こうした光ビームは光波の代わりに音波を含み得ることも意図されて
いる。

【００２８】 レシーバ・アセンブリ４２はフィンガ５４内に設けられたレシーバ５３を含む
。フィンガ５４はレシーバ・アセンブリ・ハウジング５６内のベアリング（不図
示）によって回転自在に支持されたシャフト５８に結着されている。レシーバ５
３はトランスミッタ４４から発せられたビームを受信して、該ビームの受領を示
す信号を生成するように構成されている。次いでこの生成信号は、光ファイバ担
体、電気リード線、或は、無線通信方式（不図示）を介して処理及び／又は保存
のために中央処理ユニット（不図示）へ通信され得る。

【００２９】 後退位置において、フィンガ４６及び５４は図１に示されるようにポートドア
上方且つ後方に横たわっている。ポッド・ドア及びポートドアがアクセスポート
２４から一緒に移動させられ、そして垂直移送機構３６がそれらポートドア及び
ポッド・ドアの下方への移動を始動した後、フィンガ４６及び５４は垂直軸線回
りに、例えば図２及び図３に示されるポッド・シェル内におけるそれらの拡張位
置まで回転させられる。次いでトランスミッタはレシーバ５３へビームを放射し
、ポートドア及びポッド・ドアが下方へ移動するに連れて、ビームの平面におけ
るウェーハはビームを分断することになる。ウェーハがビームを分断する時のポ
ートドアの高さは、ビームが分断されている時間長と共に、ポッド内のウェーハ
に関する存在及び位置の情報を識別すべく以降に説明されるように使用される。

【００３０】 フィンガ４６及び５４は、ひとたびそれらフィンガが充分に降下させられてポ
ッド・シェルの上部から離れたならば、それらの拡張位置まで内側にだけ回転さ
せられ得る。同時にフィンガ４６及び５４は、ポッド・シェル内の最上部のスロ
ット内であり得るウェーハに関する情報を記録に間に合うようにそれらの拡張位
置まで内側に回転させなければならない。垂直移送機構３６は、通常、ポートド
ア及びポッド・ドアを約４インチ／秒の速度で下方へ移送する。しかしながらこ
の垂直移送機構３６は、フィンガがポッド・シェルの上部から離れた後、内側に
揺動するに充分な時間を許容すべく減速するか或は完全停止となり得て、依然と
して上部スロット内のウェーハをモニタする位置に維持され得ることが意図され
ている。

【００３１】 次に図４及び図５で参照されるように、好適実施例におけるビームは、好まし
くは、ウェーハの前方エッジから５ｍｍ乃至２５ｍｍ後方、そして最適には約１
５ｍｍ後方の何れかの位置でウェーハを横切るように進む。図１に示されるよう
にフィンガ４６及び５４の取付点は、好ましくは、ポートドアの中心へ向かって
おり、それらフィンガがポートドアの側部へ向かって拡張している。フィンガ４
６，５４は、その後にポートドアが図５に示されるような検知位置まで降下させ
られると、ポートドアの側部から遠ざかって内側に揺動し得る。当業者であれば
理解して頂けるように、フィンガがそれらの後退位置から拡張位置まで回転させ
られる角度はフィンガの長さと共に、フィンガが下方へ移動するに連れてウェー
ハと接触することなしに、伝送ビームがカセット内のウェーハの存在及び配置を
検出できるような位置決めに備えて変動され得る。理解して頂けるように、ウェ
ーハの前方エッジから後方のビームまでの距離は５ｍｍ以下であり得て、代替実
施例では２５ｍｍ以上であり得る。

【００３２】 図６に示されるように、フィンガはポートドアの側部に向かうように旋回自在
に取り付けられ、ポートドアの中心へ向かって内側に拡張することも意図されて
いる。フィンガがポートドア上に取り付けられる場合にかかわらず、好適実施例
におけるフィンガ４６及び５４の長さは、該フィンガが内側に自由に揺動でき、
ポッド・シェル３２内のウェーハの直上、該ウェーハ下方、或は、該ウェーハ間
の何れかの空間に入らないように設けられる。このことは、それらフィンガが完
全に拡張された位置にある場合と、それらの完全拡張位置に向かって開いている
最中との双方に当てはまる。しかしながら代替実施例において、それらアームは
それらの完全拡張位置に向かって開いている最中、ウェーハの直上、該ウェーハ
下方、或は、該ウェーハ間の何れかの空間に入るように充分に長くなっているこ
とも意図されている。水平移送機構３４がウェーハの空間に入ることなしに、よ
り長いフィンガが外側に回転することを可能とするに充分な余剰距離だけ、プロ
セス・ツール内に向かって後方へポートドア及びポッド・ドアを移動することも
可能である。ひとたびフィンガが拡張されてウェーハ範囲の外側に配置されたな
らば、水平移送機構はその拡張されたフィンガをウェーハの側部に沿ってポッド
・シェル内に位置決めすべくポートドア及びポッド・ドアを水平方向前方へ移動
する。

【００３３】 図７に示される代替実施例に従えば、トランスミッタ４４及びレシーバ５３は
ポートドア上に取り付けられることが意図されている。この実施例の場合、フィ
ンガ４６及び５４の端部はミラー５２及び６０を含む。これらミラーは相互に角
度付けられて、ミラー５２がトランスミッタからのビームを受信し、該ビームを
ウェーハの前方エッジを横切ってミラー６０へ移送し、次いで該ミラー６０はそ
のビームをレシーバ５３へ移送する。理解して頂けるように、ミラー５２及び６
０の角度はフィンガがそれらの拡張位置まで回転させられる角度や、ポートドア
上におけるフィンガ、トランスミッタ、並びに、レシーバの相対的な取付位置に
応じて変動することになる。更に理解して頂けるように、上述したようにビーム
を移送するミラーの代わりに他の機構が使用され得る。

【００３４】 先に簡単に議論したように、拡張位置まで回転させられたフィンガによって、
ウェーハ・マッピング・システム３８はポッド・シェル内のウェーハ各々に関す
る存在及び位置の情報を検出することになる。ウェーハがビームを分断すると、
（分断された際のビームの既知の高さによって決定される）ウェーハの高さが追
って使用されるためにメモリ内に保存又はマッピングされる。加えて、移動中の
ポートドアの速度と各ウェーハの厚みとは双方ともに既知であるので、適切に配
置されたウェーハがビームを分断する時間長は既知である。このようにして、二
重配置ウェーハ状態はビームが予想される長さよりも２倍の間阻止されることが
示唆される。加えて交差配置状態は、二重配置ウェーハよりも長い期間の間、ビ
ームが阻止される結果として示唆されることになる。二重配置或は交差配置のウ
ェーハのウェーハ・マッピング・システム３８による検出に及んで、その特定ポ
ッドにおけるウェーハの処理は停止され得て、ウェーハの不適切な配置が矯正さ
れる。加えて、ウェーハがアクセスポートを通じてポッド・シェル及びプロセス
・ツール間を通過できるようにポートドアがプロセス・ツールから遠ざかるよう
に降下される段階中に、ウェーハ・マッピングが生じることが本発明の特徴であ
る。このようにして、本発明のこのシステムはプロセス・ステップ及び時間を従
来のウェーハ製造プロセスに追加することなしにウェーハ・マッピングを達成す
る。

【００３５】 次に、フィンガ４６及び５４をポッド内においてそれらの後退位置からそれら
の拡張位置まで回転する様々なドライブ・システムを、図１乃至図３と図８Ａ乃
至図１０とを参照して説明される。図１及び図３に示されるように、フィンガを
起動する１つのシステムはトランスミッタ或はレシーバのアセンブリ４０及び４
２の下方或はそれらの両側に位置決めされた単一電気ドライバ６２を備え得る。
この実施例に従えば、ドライブ６２は、フィンガがポッド・シェルの上部から離
れたことを示す信号の受領に及んで起動される多極モータ或はソレノイド等の従
来の起動力構成要素であり得る。この状態は、例えばポートドアが特定高さを通
過して降下された際に示唆され得る。

【００３６】 ドライバ６２からのトルクは様々な既知伝達方式に従って各フィンガへ伝達さ
れ得る。図１及び図３に示されるように、一実施例におけるドライバ６２はそれ
から延出するシャフト６３を含み、該シャフトがベルト６５を介してローラ６４
を駆動する。ローラ６４はトランスミッタ・アセンブリ４０及びレシーバ・アセ
ンブリ４２間に延在するシャフト６６に取り付けられ、該シャフト６６はローラ
６４と共に回転する。シャフト６６の回転は、次いで、シャフト６６及び５０の
間、及び、シャフト６６及び５８の間にそれぞれ設けられた１対の傘歯車６７及
び６８を介してトランスミッタ及びレシーバの各アセンブリの各シャフト５０及
び５８を回転し得る。こうして、ドライバ６２の回転はフィンガをそれらの後退
位置から拡張位置まで一方方向に旋回し、該ドライバ６２の回転はフィンガをそ
れらの拡張位置から後退位置まで反対方向にフィンガを旋回する。

【００３７】 代替的なドライブ・システムが図２に示されている。この実施例はドライバ６
２、シャフト６３、並びに、先に説明したようなベルト６５を含む。ベルトは、
トランスミッタ・アセンブリ４０のシャフト５０に同軸状に取り付けられたロー
ラ１５０を駆動する。こうして、ドライバ６２の回転はトランスミッタ・アセン
ブリのフィンガ４６を回転する。第１の偏心ロッド１５２がシャフト５０の第１
側部に結着され、第２の偏心ロッド１５４がシャフト５８の対向側部に結着され
る（即ち、シャフト５０に対する第１偏心ロッドの連結点から１８０°離間）。
連結ロッド１５６は第１及び第２の偏心ロッド１５２及び１５４の端部間に結着
されている。上述の機構によって、フィンガ４６の一方方向の回転がフィンガ５
４の他方方向への回転を駆動する。理解して頂けるように、ドライバ６２及びベ
ルト６５は、代替的には、レシーバ・アセンブリに結着され得て、該レシーバ・
アセンブリがトランスミッタ・アセンブリを駆動するようになる。

【００３８】 当業者ではあれば理解して頂けるように、様々な他の既知の伝達システムが使
用され得て、ドライバ６２からのトルクを各フィンガ４６，５４へ移送する。３
つのそうした追加的な実施例が図８Ａ乃至図８Ｃに示されている。図８Ａにおけ
る実施例は図１及び図３に示されたものと同等であり、シャフト６６からシャフ
ト５０及び５８へのトルク伝達用の傘歯車の代わりにヘリカル・ギヤを含む変更
が伴っている。図８Ｂにおける実施例は図２に対して説明された実施例と同様で
あり、偏心ロッド及び連結ロッドが省略され、ベルト１５８が各フィンガのシャ
フト上のローラ１６０及び１６２間に連結されている変更が伴っている。このベ
ルトはねじれて、シャフト５０の一方方向の回転がシャフト５８の他方方向の回
転を駆動するようになっている。図８Ｃも図２に対して説明した実施例と同様で
あり、偏心ロッド及び連結ロッドが省略されて、ラック・アンド・ピニオン機構
で置き換わっている変更を伴っている。特に、１対のピニオン・ギヤ１６４及び
１６６は各シャフト５０，５８回りに取り付けられている。オフセット・ラック
１６８はピニオン・ギヤ１６４と係合された第１端部と、ピニオン・ギヤ１６６
と係合された第２端部とを有する。ラック１６８はその両端部間にオフセット１
７０を有し、ピニオン・ギヤ１６４と係合するギヤ歯は、ピニオン・ギヤ１６６
と係合するギヤ歯とは反対側のラックの側部上である。それ故に、シャフト５０
の一方方向の回転はシャフト５８の他方方向の回転を駆動することになる。他の
伝達システムも意図されている。本発明の更なる代替実施例において（不図示）
、フィンガ４６及び５４の各々はそれ自体のドライバ６２を含み得る。

【００３９】 上述した実施例の各々において、好ましくは一定バイアス力がフィンガ各々に
対して付勢されて、上述したドライバからの駆動力が欠如された際、フィンガを
ポートドア背後のそれらの後退位置に維持することになる。このバイアス力は、
ポートドアが適切な高さにある際、フィンガがそれらの後退位置から拡張するだ
けであることを保証する。一実施例において、トーション・スプリング（不図示
）がシャフト５０及び５８回りに巻き付けられて、上述したバイアス力を提供す
る。他の既知のバイアス構成要素も意図されている。ポートドアがひとたび放射
ビームがカセット内の底部ウェーハ・スロットの下方を通過する高さまで降下さ
れたならば、フィンガのポッド・シェルの底部に対する接触に先行して、ドライ
バはフィンガをそれらの後退位置まで旋回するように回転し得る。ポートドアが
底部ウェーハ・スロットに到達するに及んで、上述したドライバによって生成さ
れた任意の力が除去されて、フィンガに対するトーション・スプリングのバイア
ス力がフィンガをそれらの後退位置まで戻すように回転することも意図されてい
る。

【００４０】 代替実施例において、トランスミッタ／レシーバ対はロードポート上に提供さ
れ得て、ポッド・シェルの底部近傍の該ポッド・シェルの開口を横切るようにビ
ームを送る。このトランスミッタ／レシーバ対は、フィンガの内の一方がそれが
事実上後退させられるべき際にその拡張位置にあるかどうかを示す。もしフィン
ガが依然として拡張されていれば、このトランスミッタ／レシーバ対は信号を生
成でき、それが制御回路へ送信されて、問題が修繕され得るようにポートドアの
下方運動を停止する。理解して頂けるように、このビームは、様々なビーム・ス
プリッタ及びミラーの使用と共に、上述したトランスミッタ４４及びレシーバ５
３によってそれぞれ生成され受信され得る。代替的には、別個のトランスミッタ
／レシーバ対（不図示）が使用され得る。更なる代替実施例において、フィンガ
がポッド・シェルの底部に接触する場合、フィンガ及び／又はポッド・シェルに
損傷が生ずる前にそれらが分離できるようになる分離ジョイントを含み得る。

【００４１】 電気駆動システムに加えて、フィンガはそれらの後退位置及び拡張位置の間を
図９及び図１０に示されるような受動的駆動システムによって回転させられ得る
。例えば図９に示されるように、電気ドライバが省略され得て、フィンガ４６及
び５４のの代わりに各々が延長部７４，７６を含み得る。延長部７４及び７６の
構造及び動作は相互に同等であり、一方のみの延長部７４と付随する構造が図９
に完全に示されると共にこれ以降に説明される。延長部７４，７６の各々はそれ
自体の端部７８に結着された磁石８０を含む。フィンガがそれらの後退位置にあ
る際、マグネット８０がアクセスポート２４の両側のポート・プレートの内面上
に配置される。図９の実施例はトーション・スプリング（不図示）等のバイアス
力をも含み、フィンガをそれらの後退位置へバイアスすると共に、磁石８０をポ
ート・プレートの内面に隣接する位置にバイアスする。

【００４２】 図９の実施例において、垂直方向に配向された磁気ストライプ８２が、アクセ
スポート２４の両側のポート・プレートの内面内或は該内面上に更に設けられる
。ポートドアが下方へ移動するに連れて、フィンガ４６及び５４がポッド・シェ
ル上部から離間する高さになった直後、端部７８上の磁石８０は各磁気ストライ
プ８２と係合することになる。磁石８０及び磁気ストライプ８２の磁極は整合さ
せられて、磁気ストライプに遭遇するに及んで、トーション・スプリングのバイ
アス力と対抗すると共に克服する力が生成される。この時点で、磁石８０はポー
トドア上の磁気ストライプから遠ざかるように跳びはね、それによってフィンガ
４６及び５４を図９に示されるようにポッド・シェル３２の拡張位置まで回転す
る。ひとたび、フィンガがポッド・シェル３２内の最終ウェーハ・スロットから
離間する地点までポートドアが降下させられたならば、磁石８０は磁気ストライ
プ８２の端部を超えて移動して、ポッド・シェルの底部との接触を回避するよう
に、バイアス力がフィンガをそれらの後退位置までもう一度回転する。

【００４３】 受動的ドライブ・システムの１つの代替実施例は図１０に示されている。図１
０の実施例は図９に関して先に説明したような端部７８を有する延長部７４及び
７６を含む。上述のように、この実施例に従った延長部７４及び７６の構造及び
動作は相互に同等であり、延長部７４のみと付随する構造とが図１０に完全に示
され、これ以降に説明される。図１０の実施例において、フィンガ４６及び５４
がそれぞれ取り付けられているシャフト５０及び５８は引き伸ばされており、ト
ランスミッタ及びレシーバの各アセンブリ・ハウジング４８，５６内のベアリン
グ（不図示）によって回転自在に支持されている。先に説明した延長部７４，７
６はシャフト５０及び５８の対応する端部に取り付けられ、環状フォロア８４が
延長部７４及び７６各々の端部に回転自在に取り付けられている。加えて、磁気
ストライプ８２の代わりに、***トラック８６がアクセスポート２４の両側のポ
ート・プレートの内面上に垂直方向に設けられている。図示されていないが、ト
ラック８６の最上位部は好ましくはアクセスポート２４の最下位部下方に配置さ
れている。しかしながら、理解して頂けるように、トラック８６のアクセスポー
ト２４に対する高さと、それに従ったシャフト５０及び５８の長さとは代替実施
例において変動し得る。上述のトーション・スプリングが好ましくは更に設けら
れて、フィンガをそれらの後退位置にバイアスすると共に、フォロア８４をポー
トドアの内側にバイアスする。

【００４４】 図１０の実施例に従えば、ポートドアが下方へ移動するに連れて、フォロア８
４は各***トラック８６と係合してフィンガ４６，５４をポッド・シェル内のそ
れらの拡張位置へ向けて外側へ回転する。フォロア８４は、好ましくは、凹状外
周を含んで、該フォロア８４の***トラック８６に対する追随能力を改善する。
フォロア８４は、好ましくは、ラバーで形成されるか或は他の低微粒子発生材料
で形成される。フィンガが最も底部のウェーハ・スロットを通過する時点で、フ
ォロア８４微粒子発生材料で形成される。フィンガが最も底部のウェーハ・スロ
ットを通過する時点で、フォロア８４は***トラック８６の底部に到達して、バ
イアス力がフィンガ４６，５４をポートドア背後であるそれらの後退位置までも
う一度戻す。

【００４５】 この時点までに、フィンガ４６，５４は垂直軸線回りをポートドア背後のそれ
らの後退位置からポッド・シェル内のそれらの拡張位置まで回転した。図１１に
示された本発明の代替実施例において、それらの後退位置では、フィンガ４６，
５４はポートドア２２の後方面に取り付けられ、ポートドアの上部エッジ（不図
示）上に上方へ延在している。ポートドアの降下に及んで、フィンガ４６及び５
４はポッド・シェル３２内部の位置まで下方へ水平軸線回りに回転させられ得る
。フィンガがこの実施例における最上位部ウェーハ・スロット上方に位置決めさ
せるために、フィンガが適切に配置されて最上位ウェーハ・スロットから情報を
マッピングするようにフィンガがポッド・シェルの上部を離間した後に、ポート
ドアが減速、停止、或は、上昇の何れかを為すことが意図されている。フィンガ
が、ポートドアに直交する平面内、或は、それらフィンガの完全拡張位置におけ
るポートドアに対して９０°以下若しくはそれ以上の何等かの他の角度である平
面内においてそれらの後退位置及び拡張位置の間を回転することが意図されてい
る。

【００４６】 本発明の更なる実施例において（不図示）、理解して頂けるように、回転の代
わりに、フィンガがポートドアから直線状に延出し得る。この実施例において、
フィンガは伸縮自在ボディを備え得て、それがフィンガが既知駆動システムによ
る起動に応じて拡張及び後退を為すことを可能とする。この駆動システムはソレ
ノイドを含み得て、電流の受領に及んで、フィンガが拡張し、電流の除去に及ん
で、フィンガが後退する。張力下のスプリング等のバイアス力が提供され得て、
フィンガをそれらの後退位置へバイアスする。

【００４７】 この時点まで、ウェーハのマッピングはロードポート上のポッド・シェルの位
置とは完全に独立して達成された。即ち、ウェーハ・マッピング・システム３８
はポッド・シェルと係合することなしに或はロードポート上のポッド・シェルの
位置に依存することなしに該ポッド・シェルに効果的に挿入される。ウェーハ・
マッピング・システム３８によって決定されたようなウェーハの位置は、ポート
ドアがアクセスポートからの遠ざかるように下方へ移動するに連れて該ポートド
アの位置だけに応じる。

【００４８】 図１２に示される更なる代替実施例において、移動中のフィンガ４６及び５４
は省略されている。この実施例での先に説明したトランスミッタ４４はポートド
アの後方に取り付けられて、ビームをドア上方にわたってポッド内へ送信し、先
に説明したレシーバ５３はポートドアの後方に取り付けられて、ポートドアの上
部にわたってポッド・シェルから戻るビームを受信する。この実施例に従えば、
１対の垂直配置された反射性ストリップはポッド・シェル３２内に設けられ、個
々別々のウェーハ・スロットを含むウェーハ支持コラムに取り付けられるか、或
は、ポッド・シェル自体に取り付けられる。反射性ストリップ８８，９０は相互
に対して内側へ例えば４５°の角度が付けられて、反射性ストリップ８８がトラ
ンスミッタ４４からビームを受信し、それをポッド・シェル内部を横切って第２
反射性ストリップ９０へ向けて移送する。次いで反射性ストリップ９０はポッド
・シェルからのビームをレシーバ５３へ向けて移送する。ウェーハにわたるビー
ムの正確な箇所は、ポートドア上のトランスミッタ及びレシーバの位置と、ポッ
ド・シェル内の反射性ストリップの位置とによって決定される。上述の実施例に
おけるように、この実施例に従ったウェーハ・マッピング・システムはポッド内
のウェーハ各々の高さを検出しマッピングすることができると共に、交差配置或
は二重配置された任意ウェーハを識別することができる。

【００４９】 図１３は、図１２に示されるものの代替実施例を示す。図１３の実施例におい
て、トランスミッタ４４及びレシーバ５３はポッドの後方の単一反射性ストリッ
プ９２に向けて内側に角度付けされている。この実施例において、トランスミッ
タ４４はポートドアの上部にわたると共にポッド内へ反射性ストリップ９２に向
かってビームを方向付ける。次いでこのストリップはそのビームをレシーバ５３
へ戻すように反射する。理解して頂けるように、トランスミッタ及びレシーバの
箇所及び角度と、ストリップ９２の箇所及び角度とは、ビームが反射性ストリッ
プ９２に対して伝送されてレシーバ内に戻るように受信される備えに応じて変動
し得る。図１３の実施例に従ったウェーハ・マッピング・システムは、特定ウェ
ーハ・スロット内のウェーハお存在を検出すべく、先に説明されたような二重配
置ウェーハを検出すべく使用され得る。しかしながらこの実施例でのビームがウ
ェーハ・スロット間をポッド・シェルを横切るようにもはや移動しないので、僅
かに異なるアルゴリズムが交差配置ウェーハの存在を検知すべく制御システムに
よって利用されなければならない。この実施例に従ったアルゴリズムは、例えば
、ポートドアが一定速度で下方へ移動するという事実を利用し得る。それ故に、
ウェーハ・マッピング・システムは、もしウェーハ・スロットのピッチによって
付与された予め設定された一定間隔でウェーハと遭遇することが予想され得る。
ビームがその予め設定された間隔以外の時間に分断される場合、これは交差配置
ウェーハの指示である。先に説明したように、もし交差配置ウェーハ或は二重配
置ウェーハが検出されれば、プロセスは停止され得て、交差配置ウェーハ或は二
重配置ウェーハの配置が矯正され得る。

【００５０】 本発明の更なる代替実施例が図１４に示されている。この実施例は図１２の実
施例と同様であり、反射性ストリップがポッド・シェル内に取り付けられていな
いが、その代わりに、ポートドアの両側のポート・プレート上であり且つ該ポー
トドアから前方に垂直に取り付けられている。反射性ストリップはポッド２６を
支持するロードポートの水平面上に取り付けられ得て、そこから上方へ拡張する
ことも理解して頂きたい。この実施例において、ポートドアの上部にトランスミ
ッタ及びレシーバを取り付ける代わりに、それらトランスミッタ及びレシーバは
ポートドアの両側から外側に延出するイヤー部９４及び９６上に取り付けられる
。この実施例において、透明ウィンドウ９８及び１００がアクセスポート２４の
両側におけるポート・プレート内に垂直方向に設けられる。図１４の実施例に従
えば、ポートドアが下方へ移動するに連れて、トランスミッタ４４はウィンドウ
９８を通じてビームをポート・プレート上の反射性ストリップ１０２上へ移送す
る。反射性ストリップ１０２は内側に向かって角度付けられて、ポッド・シェル
の第１側部を通じてビームを、該ポッド・シェルの内部を横切って、該ポッド・
シェルの第２側部まで移送する。その時点で、ビームは第２反射性ストリップ１
３に衝突し、そのビームを該ストリップが透明ウィンドウ１００を通じてレシー
バ５３へ戻すように移送すべく角度付けられている。ポッド・シェルの側部はそ
こをビームが通過することを可能とするように透明である。例えば図１２の実施
例のように、図１４の従ったウェーハ・マッピング・システムはポッド２６内の
ウェーハの存在及び位置をマッピングできる。

【００５１】 典型的には、ロードポート上に配置された任意の構造はそれら構造と、ロード
ポート上に手動的に或は自動的に配置されたポッド或はカセットとの間に大きな
間隙を残すように配置されている。しかしながら、本発明で利用されるような前
方開口ロードポートにおいて、ポッドが手動的に或は自動的にロードポートの水
平支持プレート上にロードされた後、ポッドが反射性ストリップ１０２及び１０
３の間のポートドアまで自動的に前進させられる。ポッドが自動制御機構によっ
て前進させられると、窮屈な間隙が反射性ストリップ１０２，１０３とポッドと
の間に提供され得る。これはビームの迷反射の可能性を低減する長所をもたらす
。

【００５２】 図１４の実施例において、ウェーハ・マッピング・システムはポッド或はカセ
ットがロードポート上のロードされたかを検出すべく使用されもする。例えば、
ポッドが下方へ移動すると、ポッドの上部が第１高さでビーム射を分断する一方
で、空のカセットの上部が第２高さでビームを分断する。次いで中央プロセッサ
は、ポッド或はカセットがビームが最初に分断されるに及んで、ポートドアの高
さに基づいてロードポート上にあるかを識別できる。

【００５３】 ポッドのプロセス・ツールのロードポート上へのロード中に、製造技術者がう
かつに彼或は彼女の手を、ポッド・ドアがそれと接触するように前進している際
にポートドアの前方に置くことが生じ得る。彼或は彼女の手がポッド及びポート
ドア間に挟まれる結果として、製造技術者が多少の怪我を負うことに加えて、そ
うした出来事はポッド及びポートドアの適切な符合を阻む可能性がある。他の物
体がポッド・ドアがそれと結合しようとする際にポートドアの前方にうかつに配
置され得ることも可能である。

【００５４】 ポッド・ドアが前進する際に技術者の手或は他の任意の物体をポートドア上に
検出するために、本発明の代替実施例に係るウェーハ・マッピング・システムは
、ポートドア及びポッド・ドアが結合してポートドア回りの「検知ウィンドウ」
を形成する前に該ポートドアをビームで取り巻くように為すことが可能である。
そうした実施例は図１４Ａ及び図１４Ｂの正面図及び側面図で示されている。こ
れらの図面に示されるように、ポッド・ドアがポートドアと符合する前にポート
ドアがアクセスポート内に封止されると、トランスミッタ４４は先に説明したウ
ィンドウ９８を通じてビームを伝送し、該ビームが第１スプリッタ／移送装置１
４０と接触する。このスプリッタ／移送装置１４０は反射性ストリップ１０２の
上方に配置されている。スプリッタ／移送装置１４０と接触するに及んで、ビー
ムは***又は分割されて移送され、ビームの第１部がポートドア２２の上部を横
切って移送され、且つ、ビームの第２部がポートドア２２の側部に沿って下方へ
移送される。当業者には理解して頂けるように、スプリッタ／移送装置１４０は
、先に説明したようにビームを分割し移送するための様々なビーム・分割及び反
射構成要素を備える。

【００５５】 ポートドアの側部に沿って下方へ投影されるビームの部分はポートドア下方の
高さに取り付けられたレシーバ１４２内に受信される。レシーバ１４２はポート
ドアを取り囲むポート・プレートの外部に取り付けられ得るか、或は、プロセス
・ツールの内部に取り付けられ得て、その場合にはミラー（不図示）がポート・
プレートの外部に設けられてビームをレシーバ１４２へ移送する。ポートドアの
上部を横切って移動するビームの部分は第２ビーム・スプリッタ／移送装置１４
４と接触し、それがビームの一部をウィンドウ１００を通じてレシーバ５３へ戻
すように移送すると共に、ビームの一部をポートドア２２の第２側部に沿って下
方へ移送する。第１スプリッタ／移送装置１４０の場合のように、スプリッタ・
移送装置１４４はビームを分割及び移送するための様々な既知の構成要素を備え
る。代替実施例において、ビームは単に下方へ移送されて分割され得ない。ポー
トドアの第２側部に沿って下方へ反射されたビーム（もし分割されなければ）或
はビームの一部（もし分割されれば）はレシーバ１４６に受信されるか、或は代
替的に、ミラーと接触し、該ミラーがそのビームをウィンドウ１００を通じて、
レシーバ１４２に関して先に説明したように、プロセス・ツールの内部に取り付
けられたレシーバ１４６上に移送される。

【００５６】 図１４Ａ及び図１４Ｂの実施例に従えば、検知ウィンドウはポートドアと略平
行する垂直平面内に横たわっている。検知ウィンドウのポートドアからの距離は
代替実施例において変動し得る。オペレータの手或は他の異物がポッドが接近す
る際にポートドアの前方に横たわる場合、ビームの何等かの部分が分断され、各
レシーバ５３，１４２，１４６の内の１つ或はそれ以上で受信されない。分断ビ
ームの検出に及んで、警告信号が物体がセンサ・ウィンドウ内に配置されている
こと、及び／又は、ポッドのポートドアへの前進が停止され得ることについての
警報を技術者に出し得る。

【００５７】 図１４Ｃ及び図１４Ｄで参照されるように、ポートドア２２及びポッド・ドア
３０が結合されて、プロセス・ツールの内部に移動した後、それは先に説明した
ように下方へ移動し始める。ひとたびトランスミッタ４４がスプリッタ／移送装
置１４０の水平平面下方に降下したならば、図１４Ａ及び図１４Ｂに示されたよ
うなビームの分割及び移送が停止し、センサ・ウィンドウが消える。次いで、ト
ランスミッタ４４が反射性ストリップ１０２及び１０３の上部の水平平面に到達
するまでポートドア及びポッド・ドアが続けて降下し、その到達時にトランスミ
ッタ４４からのビームはポッド（図１４Ｃ及び１４Ｄに不図示）を通じて反射性
ストリップ１０２によって移送され、反射性ストリップ１０３に当たって、図１
４で先に説明したようにレシーバ５３へ戻る。

【００５８】 この時点まで、ウェーハ・マッピング・システムの様々な実施例は全てビーム
分断システムであった。即ち、それらシステムは、ビームがレシーバから分断さ
れる結果、特定高さでのウェーハの存在を検出する。本発明の更なる代替実施例
は図１５乃至図２０に示され、一般に逆反射性ウェーハ・マッピング・システム
１０４に関する。この逆反射性マッピング・システム１０４は１対のトランスミ
ッタ／レシーバのユニット１０６を含み、それらユニット各々が先に説明したよ
うなトランスミッタ及びレシーバを含む。図１５乃至図２０の実施例に従えば、
ユニット１０６のトランスミッタは、ポートドアが下方へ移動する際、水平面内
のポッド・シェル３２の内部にビームを伝送する。特定ウェーハ・スロット内の
ウェーハとの遭遇に及んで、ビームがウェーハ・エッジからユニット１０６のレ
シーバへ反射される。ウェーハからのビームを受信するに及んで、レシーバはコ
ントローラへ信号を送って、そのウェーハの特定箇所を保存する。この実施例に
従えば、ビームは様々な波長で伝送され得て、コーヒレント光或は他のものを含
み得る。更なる代替実施例において、ビームは光波の代わりに音波を含み得る。

【００５９】 ウェーハは、従来、それらの外周にノッチを伴って形成されている。ポッド内
のウェーハの回転位置は変動し得て、それ故にポッド内のウェーハにおけるノッ
チの角度位置は明確には知られないか或は均一ではない。それ故に、２つの独立
したトランスミッタ／レシーバのユニット１０６が設けられている。両方の対は
上縁の側部近傍のポートドアの上部に取り付けられている。各ユニット１０６の
トランスミッタ及びレシーバは、特定ウェーハの遭遇に及んで、各トランスミッ
タのビームが反射されてそれらのレシーバへ戻されるように配置されている。こ
れらトランスミッタ／レシーバ対の内の一方がビームをウェーハに向けて方向付
け、該ビームがウェーハのノッチ内に到着（そのユニットのレシーバには反射で
戻らない）する場合、これら２つのトランスミッタ／レシーバのユニット１０６
の他方はその特定のウェーハ・スロット内のウェーハの存在を記録することにな
る。

【００６０】 ウェーハ・エッジからの反射に加えて、一方のユニット１０６からのビームの
一部がウェーハ・エッジを通過して、ポッド・シェルの後方から反射されて他方
のユニット１０６のレシーバ内に受信されることが決定される。このクロストー
クを削除するために、各ユニット１０６のトランスミッタは異なる波長でビーム
を伝送し、レシーバがその対応するトランスミッタの周波数だけを検出するよう
に同調される。例えば、トランスミッタ／レシーバ・ユニット１０６の内の一方
が６７０ナノメートル（ｎｍ）±５ｎｍの周波数に同調され得て、他方のトラン
スミッタ／レシーバ・ユニット１０６は６５０ｎｍ±５ｎｍの周波数に同調され
得る。加えて、それらトランスミッタからのビームは変調され得て、レシーバは
その対応するトランスミッタの変調信号のみを記録するように構成され得る。こ
れは、各ユニット１０６間のクロストークを更に防止すると共に、環境光からの
レシーバ内への擬似読み込みを防止する。

【００６１】 ウェーハ・エッジからの反射に係わる別の潜在的な問題は、ウェーハ・エッジ
がウェーハの平面或はビームの平面に対して純粋に直交していないことである。
これらエッジは幾分丸まっている。それ故に、図１６Ａに示されるように、セン
サ・システムが特定ウェーハ上方である場合、ビームの下方移動成分がウェーハ
・エッジから上方へ反射されてレシーバへ戻る可能性がある。この状況は「早期
」反射信号となり、その信号はウェーハ・マッピング・システムが実際に検出ウ
ェーハの平面に到着する前にウェーハの存在を示唆することになる。同様に、図
１６Ｂに示されるように、センサ・システムが特定ウェーハ下方を通過した後、
ビームの上方移動成分がウェーハ・エッジから下方へ反射されてレシーバへ戻る
可能性がある。この状況は「遅延」反射信号となり、ウェーハ・マッピング・シ
ステムが検出ウェーハの平面を通過した後、ウェーハの存在を示唆することにな
る。

【００６２】 この状況を回避するために、トランスミッタ／レシーバ・ユニット１０６各々
におけるレシーバはアパチャー１０８（図１７）背後に後退させられ、そのアパ
チャーが傾斜入射角度でレシーバに到着するビームの成分を防止する。ウェーハ
の平面において実質的に反射されるビームの成分のみが受信される。こうして、
ビームはウェーハ・マッピング・システムがウェーハ平面内に実質的に駐留する
ときのみにレシーバ内に反射して戻される。加えて、ビームの傾斜入射成分がレ
シーバに接触することを防止することは、レシーバを高利得設定に較正させるこ
とを可能とする。これは、反射率が乏しい窒化ウェーハでの作業時に有益である
。

【００６３】 次に図１５及び図１７乃至図１８を参照すると、トランスミッタ／レシーバ・
ユニット１０６各々は支持ブラケット１１０に取り付けられている。支持ブラケ
ット１１０はポートドアの上部中央に取り付けられている。好適実施例において
、トランスミッタ／レシーバ・ユニット１０６各々は支持ブラケット上に略３イ
ンチ離間されているが、この寸法は代替実施例で変動し得る。トランスミッタ／
レシーバ・ユニット１０６の各々は相互に構造的に且つ動作的に同等であり（先
に議論されたように放射ビームの周波数の例外を伴って）、そこで便宜上、これ
らユニット１０６の一方のみがこれ以降に説明される。しかしながら、理解して
頂けるように、以下の説明は両トランスミッタ／レシーバ・ユニット１０６に同
等に適用される。

【００６４】 図１８の後方斜視図に最も明確に示されているように、トランスミッタ／レシ
ーバ・ユニット１０６はネジ１１４によって上部支持プレート１１２に結着され
ている。アパチャー・プレート１１６はトランスミッタ／レシーバ・ユニット１
０６及び支持プレート１１２の間に差し込まれ得る。図１８には示されていない
が、図１７はこのアパチャー・プレート１１６がこれらユニット１０６各々にお
けるトランスミッタ／レシーバを覆っていることを示し、トランスミッタがビー
ムを放射する穴１１８を含むと共に、背後にレシーバが取り付けられた先に説明
下アパチャーとを含む。

【００６５】 支持プレート１１２は次いで複数の締付ネジ１２２によって回転調整プレート
１２０（以下により詳細に説明）に取り付けされている。３つの整準ネジ１２４
ａ，１２４ｂ，１２４ｃが支持プレート１１２内のネジ切り穴を介して回転調整
プレート１２０と接触するように設けられている。これらの整準ネジ１２４ａ乃
至１２４ｃはトランスミッタ／レシーバ・ユニット１０６及び回転調整プレート
１２０間の間隙を決定する。整準ネジ各々の位置を一体的に調整することによっ
て、回転調整プレート及びポートドアの上方におけるトランスミッタ／レシーバ
・ユニット１０６の垂直高さが調整され得る。これは、コントローラがウェーハ
・マッピング・システムによって記録されたウェーハの正確な高さを決定するた
めに、ビームの平面がポートドア上方の所定の設定高さに設けられなければなら
ないので重要である。３つの整準ネジ１２４ａ乃至１２４ｃの回転は一体的に、
ビームの高さがポートドア上方におけるこの所定の設定高さに調整されることを
可能としている。

【００６６】 加えて、ネジの内の１つの位置を調整することによって、トランスミッタ／レ
シーバ・ユニット１０６が回転調整プレート及びポートドアに対して傾斜され得
る。こうして、例えば、他方の２つの整準ネジ１２４ａ及び１２４ｂを静止状態
に保持する一方で後方の整準ネジ１２４ｃの位置を調整することによって、トラ
ンスミッタ／レシーバ・ユニット１０６は上方或は下方へ傾斜され、それによっ
て、ビームが伝送される角度を変更する。この特徴はトランスミッタ／レシーバ
・ユニットの傾斜角度の調整が該ユニットから放射されるビームが常にウェーハ
の平面と平行することを保証することを可能としている。

【００６７】 回転調整プレート１２０はスロット（不図示）内に嵌合している旋回ネジ１２
６及びネジ１２８を含む。スロットは回転調整プレート１２０の位置が旋回ネジ
１２６を介して軸線回りに旋回されることを可能として、トランスミッタ／レシ
ーバ・ユニット１０６の配向をウェーハの平面内で調整する。ひとたびユニット
が適切に配置されて、ウェーハから反射されたトランスミッタからのビームがレ
シーバ内に受信されたならば、ネジ１２６及び１２８は締め付け可能であり、ユ
ニット１０６の位置を然るべき位置に固定する。回転調整プレートはトランスミ
ッタ／レシーバ・ユニット１０６を受け入れるための中央開口１２９を含む。こ
の開口１２９は充分に大きく、先に説明したような整準ネジ１２４ａ乃至１２４
ｃによってその中にユニット１０６の傾斜角度の調整を許容する。

【００６８】 ユニット１０６各々のトランスミッタから放射されるビームが双方ともにポー
トドアに対して適切な高さであり、ウェーハの平面に平行であることを保証する
ために、システムは図１９及び図２０に示されるように較正プレート１３０の使
用によって最初に較正される。そこに示されるように、プレート１３０は最初に
ポッド２６がロードされようとしているロードポート１３２の運動ピン１３１上
に着座される。較正プレート１３０は所定高さに多数のスロット１３４を含む壁
１３３を含む。較正プレートは、スロット１３４として同一高さに設けられた溝
１３８を含む第２の壁１３６を更に含む。

【００６９】 較正動作において、ユニット１０６各々からのビームはプレート１３０に向か
って伝送される。もしビームがスロット１３４を通過して、溝１３８内に到着す
れば、ビームは双方ともに適切な高さであり、水平データ・プレート及びウェー
ハに平行している。もしビームがスロット１３４の下方或は上方であれば、３つ
の整準ネジ１２４ａ乃至１２４ｃの各々はビームの高さがスロット１３４の高さ
になるまで調整され得る。もしビームがスロット１３４を通過するものの、溝１
３８で壁１３６と接触しなければ、ビームはウェーハの水平面と平行ではなく、
前方整準ネジ１２４ａ，１２４ｂ或は後方整準ネジ１２４ｃの何れかがビームが
平行となるまでトランスミッタ／レシーバ・ユニット１０６を傾斜させるように
調整される必要がある。水平データ・プレートにおけるユニット１０６の平面性
は各ユニットにおけるレシーバがトランスミッタとして同一高さであることを保
証するためにも検査される。ビームが較正された後、較正プレートは除去され得
て、本発明に係るウェーハ・マッピング・システムは使用の準備ができる。本発
明の好適実施例は可視範囲における電磁気周波数で動作するので、ビームの高さ
及び平面性は見ることが可能である。理解して頂けるように、溝１３８は他の機
構によって置き換え可能であって、可視範囲以外の周波数を有する周波数を検出
する。

【００７０】 トランスミッタ／レシーバ・ユニット１０６に対する先に説明されたものと同
様な調整機構も、図１乃至図１４を参照して説明されたビーム分断マッピング・
システムの様々な実施例において利用され得る。特にトランスミッタ４４／レシ
ーバ５３は支持プレートに取り付け可能であり、該支持プレートは複数の締付ネ
ジ及び整準ネジによって回転調整プレートに取り付けられる。このようにして、
トランスミッタ４４及びレシーバ５３は垂直軸線回りに調整自在に回転可能であ
り、ビームの高さ及び水平平面性も調整可能である。更には、較正プレートも利
用され得て、トランスミッタ４４の位置及び平面性を最初に較正し、トランスミ
ッタに対するレシーバの平面性が検査され得て、それら双方が同一水平プレート
内に横たわることを保証する。

【００７１】 この発明は、ポートドアが下方へ移動する際にウェーハをマッピングするとい
うことで説明された。しかしながら、本発明は追加的に或は代替的にポートドア
が上方へ移動する際に動作し得る。特に、ウェーハがツール２０で処理されてポ
ッドに戻された後、先に説明されたウェーハ・マッピング・システムの様々な実
施例が使用され得て、アクセスポート２４を覆う準備においてポートドア２２が
上方へ移動する際にポッド内のウェーハをマッピングする。このプロセスはウェ
ーハがそれらの適切なスロットへ戻されることを保証する。加えて、封止ＳＭＩ
Ｆポッドにおいて、ウェーハ保持機構がポッド・ドア内に配置され、該装置が移
送中にウェーハを然るべき位置に固定するためにポッドが封止される際に各ウェ
ーハが着座するスロットを含む。もしウェーハがポッドに戻されたならば、例え
ば交差配置状態でポッドに戻されたならば、ポッドが封止され且つウェーハ保持
機構が該ウェーハと係合するとウェーハは破損し得る。ウェーハがポッドに戻さ
れた後に該ウェーハをマッピングすることは、交差配置ウェーハを検出し、それ
に及んで、プロセスが停止され得て、交差配置ウェーハの位置が修正され得る。

【００７２】 更なる実施例において、ビーム分断或は逆反射性のセンサ・システムの代わり
に、電荷結合ディスプレイ（ＣＣＤ）カメラ等のビデオ・カメラをポートドアの
上部に取り付けることができ、ポートドアが下方へ移動する際にカセット内のウ
ェーハのビデオ画像を検索する。ビデオ画像とドアが下方へ移動される際のドア
の既知高さとが使用され得て、ウェーハ・カセット内のウェーハの存在及び位置
を識別する。

【００７３】 先に説明された発明は、ポートドアの上部に配置された検知システムを備え、
ポッド・ドアが下方へ移動する際にポッド・シェル内の１つ或はそれ以上のウェ
ーハに関する情報を検知する。更に理解して頂けるように、本発明はポートドア
がアクセスポート２４から戻って、アクセスポートから遠ざかるように上方へ移
動する場合にも動作し得る。そうした実施例において、検知システムはポートド
アの底部エッジに配置され得る。

【００７４】 本発明がここで詳細に説明されたが、理解して頂きたいことは、この発明はこ
こに開示された実施例に限定されないことである。様々な変更、代替、並びに、
変形が、特許請求の範囲で説明され且つ規定された発明の精神或は範囲から逸脱
することなしに、当業者であれば為され得るであろう。

【図面の簡単な説明】

【図１】 図１は、プロセス・ツールのアクセスポート内に配置されたポートドアの後方
斜視図であり、該ポートドアが本発明のウェーハ・マッピング・システムを含む
。

【図２】 図２は、プロセス・ツールのアクセスポートから部分的に除去されたポートド
アの後方斜視図であり、該ポートドアが本発明のウェーハ・マッピング・システ
ムを含む。

【図３】 図３は、本発明の実施例に従ったウェーハ・マッピング・システムを示す拡大
された後方斜視図である。

【図４】 図４は、ロードポート上にロードされたポッドと、本発明の実施例に従ったウ
ェーハ・マッピング・システムを含むポートドアとの部分的な側面図である。

【図５】 図５は、ポートドアを含むポッドの内部と本発明の実施例に従ったウェーハ・
マッピング・システムとの上面図を示している。

【図６】 図６は、ポートドアと本発明の代替実施例に従ったウェーハ・マッピング・シ
ステムとを示すポッドの内部の上面図である。

【図７】 図７は、ポートドアと本発明の代替実施例に従ったウェーハ・マッピング・シ
ステムとを示すポッドの内部の斜視図である。

【図８】 図８Ａ乃至図８Ｃは、ドライバからフィンガまでトルクを移送するための代替
的移送アセンブリの斜視図を示している。

【図９】 図９は、更なる代替的なドライブ・システムを示す、本発明に従ったウェーハ
・マッピング・システムの後方斜視図である。

【図１０】 図１０は、別の代替的なドライブ・システムを示す、本発明に従ったウェーハ
・マッピング・システムの後方斜視図である。

【図１１】 図１１は、図３に示されるものに対する代替軸線回りに回転するフィンガを含
む、本発明に従ったウェーハ・マッピング・システムの側面図を図示している。

【図１２】 図１２は、移動中のフィンガを含んでいない、本発明の代替実施例に従ったウ
ェーハ・マッピング・システムを示す後方斜視図である。

【図１３】 図１３は、図１２に示されたものに対する代替実施例に従ったウェーハ・マッ
ピング・システムを図示する後方斜視図である。

【図１４】 図１４は、ポートドアの側部上に取り付けられたトランスミッタ及びレシーバ
を含む、本発明の代替実施例に従ったウェーハ・マッピング・システムの後方斜
視図を示している。図１４Ａ及び図１４Ｃは図１４に示されたウェーハ・マッピ
ング・システムの前方図であり、製造技術者の手或は他の物体がポートドアと符
合するポッド・ドアの経路内にあるかを検知する機構を付加的に示している。図
１４Ｂ及び図１４Ｄは図１４に示されるウェーハ・マッピング・システムの側面
図であり、製造技術者の手或は他の物体がポートドアと符合するポッド・ドアの
経路内にあるかを検知する機構を付加的に示している。

【図１５】 図１５は、本発明の代替実施例に従った逆反射トランスミッタ／レシーバ・ユ
ニットを含むウェーハ・マッピング・システムの後方斜視図である。

【図１６】 図１６Ａは伝送されたビームの１成分がウェーハの上方エッジから反射されて
いる状態のトランスミッタ／レシーバ・ユニットの概略図である。図１６Ｂは伝
送されたビームの１成分がウェーハの底部エッジから反射されている状態のトラ
ンスミッタ／レシーバ・ユニットの概略図である。

【図１７】 図１７は、図１５に示された逆反射センサの拡大された前方斜視図である。

【図１８】 図１８は、図１５に示された逆反射センサの展開された後方斜視図である。

【図１９】 図１９は、本発明に従った較正プレート及びウェーハ・マッピング・システム
の上面図である。

【図２０】 図２０は、本発明に従った較正プレート及びウェーハ・マッピング・システム
の側面図である。

【符号の説明】

２０ プロセス・ツール ２２ ポートドア ２４ アクセスポート ２５ ウェーハ ３０ ポッド・ドア ３２ ポッド・シェル ３８ ウェーハ・マッピング・システム ４４ トランスミッタ ４６，５４ フィンガ ５３ レシーバ

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 リチャードソン ブルース アメリカ合衆国 カリフォルニア州 94566 プレザントン シュッター ゲー ト アヴェニュー 4766 (72)発明者 フォスナイト ウィリアム ジェイ アメリカ合衆国 テキサス州 78730 オ ースティン カイト テール ドライヴ 5300 (72)発明者 ボノラ アンソニー シー アメリカ合衆国 カリフォルニア州 94025 メンロ パーク フェルトン ド ライヴ 300 Ｆターム(参考） 5F031 CA02 DA08 EA14 EA20 FA01 FA11 GA36 JA05 JA06 JA13 JA23 KA15 KA18 KA20 NA10 PA02 PA20

Claims (12)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ワークピースを処理するツールのロードポート上の容器内に
   着座された複数のワークピースの存在及び／又は位置をマッピングするシステム
   であって、前記ロードポートが、前記ワークピースが移送されるアクセスポート
   と、ポートドアとを有し、該ポートドアが、前記アクセスポートを覆うことがで
   き、前記アクセスポートから遠ざかるように垂直方向に移動することができる、
   システムにおいて、 前記ポートドアに取り付けられ、前記ポートドアと共に移動するトランスミッ
   タを有し、該トランスミッタが前記容器内にビームを伝送することができ、 前記ポートドアに取り付けられ、前記ポートドアと共に移動するレシーバを有
   し、該レシーバが前記ビームを受け取ることができ、前記レシーバは、該レシー
   バが前記ビームを受け取ったときの第１状態を指示することができ、前記レシー
   バは、該レシーバが前記ビームを受け取らないときの第２状態を指示することが
   でき、 前記第１状態及び前記第２状態との間の前記レシーバの切り替えに基づいて、
   前記ウェーハの存在及び／又は位置を決定するための手段とを備える、 前記システム。
2. 【請求項２】 前記ウェーハの存在及び／又は位置を決定する前記手段が、
   前記レシーバが前記第１状態から前記第２状態へ切り替わると前記ウェーハの位
   置を決定する、請求項１に記載の複数のウェーハの存在及び／又は位置をマッピ
   ングするシステム。
3. 【請求項３】 前記ウェーハの存在及び／又は位置を決定する前記手段が、
   前記レシーバが前記第２状態から前記第１状態へ切り替わると前記ウェーハの位
   置を決定する、請求項１に記載の複数のウェーハの存在及び／又は位置をマッピ
   ングするシステム。
4. 【請求項４】 ワークピースを処理するツールのロードポート上の容器内に
   着座された複数のワークピースの存在及び／又は位置をマッピングするシステム
   であり、前記ロードポートがアクセスポートを含み、該アクセスポートを通じて
   前記ワークピースが移送され、ポートドアが前記アクセスポートを覆うことがで
   きると共に該アクセスポートから遠ざかるように垂直方向に移動できることから
   成るシステムであって、 前記ポートドア上に取り付けられて該ポートドアと伴に移動して、前記容器内
   へビームを伝送することができるトランスミッタと、 前記ポートドア上に取り付けられて該ポートドアと伴に移動するレシーバであ
   り、前記ビームを受信でき、前記ビームを受信すると第１状態を指示できると共
   に、ワークピースが前記ビームの前記レシーバ内への受信を妨害すると第２状態
   を指示できるレシーバと、 前記第１状態及び前記第２状態の間における前記レシーバの切り替えに基づい
   て、前記ウェーハの存在及び／又は位置を決定する手段と、 を備えるシステム。
5. 【請求項５】 前記ポートドア上に取り付けられてそれと伴に移動する第１
   フィンガであり、当該第１フィンガが前記容器内へ拡張しない場合に後退位置を
   占有することができ、当該第１フィンガが前記容器内へ拡張する場合に拡張位置
   を占有することができる第１フィンガと、 前記ポートドア上に取り付けられてそれと伴に移動する第２フィンガであり、
   当該第２フィンガが前記容器内へ拡張しない場合に後退位置を占有することがで
   き、当該第２フィンガが前記容器内へ拡張する場合に拡張位置を占有することが
   できる第２フィンガと、を更に備え、 前記トランスミッタが前記第１フィンガ上に取り付けられ、前記レシーバが前
   記第２フィンガ上に取り付けられることから成る、請求項４に記載の複数のウェ
   ーハの存在及び／又は位置をマッピングするシステム。
6. 【請求項６】 前記第１フィンガ及び前記第２フィンガがそれら後退位置及
   び拡張位置の間を能動的に駆動される、請求項７に記載の複数のウェーハの存在
   及び／又は位置をマッピングするシステム。
7. 【請求項７】 前記第１フィンガ及び前記第２フィンガがそれら後退位置及
   び拡張位置の間を受動的に駆動される、請求項７に記載の複数のウェーハの存在
   及び／又は位置をマッピングするシステム。
8. 【請求項８】 前記ビームが前記ワークピースによって阻止されない場合、
   前記トランスミッタからの前記ビームを受信すると共に該ビームを前記レシーバ
   へ反射するために、前記容器内に設けられた少なくとも１つの反射性面を更に含
   む、請求項４に記載の複数のウェーハの存在及び／又は位置をマッピングするシ
   ステム。
9. 【請求項９】 前記ビームが前記ワークピースによって阻止されない場合、
   前記トランスミッタからの前記ビームを受信すると共に該ビームを前記レシーバ
   へ反射するために、前記容器外に設けられた少なくとも１つの反射性面を更に含
   む、請求項４に記載の複数のウェーハの存在及び／又は位置をマッピングするシ
   ステム。
10. 【請求項１０】 前記トランスミッタ及び前記レシーバが前記ポートドアの
    上部に取り付けられている、請求項４に記載の複数のウェーハの存在及び／又は
    位置をマッピングするシステム。
11. 【請求項１１】 ワークピースを処理するツールのロードポート上の容器内
    に着座された複数のワークピースの存在及び／又は位置をマッピングするシステ
    ムであり、前記ロードポートがアクセスポートを含み、該アクセスポートを通じ
    て前記ワークピースが移送され、ポートドアが前記アクセスポートを覆うことが
    できると共に該アクセスポートから遠ざかるように垂直方向に移動できることか
    ら成るシステムであって、 前記ポートドア上に取り付けられて該ポートドアと伴に移動して、前記容器内
    へビームを伝送することができるトランスミッタと、 前記ポートドア上に取り付けられて該ポートドアと伴に移動するレシーバであ
    り、前記ビームが前記複数のワークピースの内の１つのワークピースから反射さ
    れると前記ビームを受信でき、当該レシーバが前記ビームを受信すると第１状態
    を指示できると共に、前記ビームを受信しないと第２状態を指示できるレシーバ
    と、 前記第１状態及び前記第２状態の間における前記レシーバの切り替えに基づい
    て、前記ウェーハの存在及び／又は位置を決定する手段と、 を備えるシステム。
12. 【請求項１２】 少なくとも１つのワークピースを処理するツールのロード
    ポート上に配置された容器内のその少なくとも１つのワークピースに関する情報
    を検知するシステムであり、前記ロードポートがアクセスポートを含み、該アク
    セスポートを通じて前記少なくとも１つのワークピースが移送され、ポートドア
    が前記アクセスポートを覆うことができると共に該アクセスポートから遠ざかる
    ように垂直方向に移動できることから成るシステムであって、 前記ポートドア上に取り付けられて該ポートドアと伴に移動し、前記少なくと
    も１つのワークピースに関する情報を検知するセンサと、 前記情報を解釈する手段と、 を備えるシステム。