JP2002515917A - アルファ−オレフィン類の製造 - Google Patents

アルファ−オレフィン類の製造

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Abstract

(57)【要約】 選択した2,6−ピリジンジカルボキサアルデヒドビスイミンまたは選択した2,6−ジアシルピリジンビスイミンの鉄錯体およびある場合には選択した活性化剤化合物、例えばアルキルアルミニウム化合物にエチレンを接触させることを通してアルファ−オレフィン類を非常に高い選択率を伴わせて高い収率で製造する。また、新規なビスイミン類およびそれの鉄錯体も開示する。このα−オレフィン類はモノマー類および化学中間体として用いるに有用である。

Description

【発明の詳細な説明】 アルファ−オレフィン類の製造 本出願は、1997年7月11日付けで提出した暫定的米国出願番号60/0 52,604および1997年11月14日付けで提出した暫定的米国出願番号 60/065,538および1998年1月12日付けで提出した非暫定的米国 出願番号09/005,965の利点を請求するものである。 発明の分野 選択した2,6−ピリジンジカルボキサアルデヒドビスイミンまたは選択した 2,6−ジアシルピリジンビスイミンの鉄錯体と通常は選択した活性化剤(ac tivator)化合物にエチレンを接触させることを通してアルファ−オレフ ィン類を非常に高い選択率を伴わせて高い収率で製造することができる。 技術背景 アルファ−オレフィン類、特に炭素原子を約6から約20個含むアルファ−オ レフィン類は重要な商品であり、報告によると1992年に生産された量は約1 .5百万トンである。このα−オレフィン類は洗剤の製造で中間体として用いら れ、モノマー(特に線状低密度ポリエチレンの)として用いられ、かつ他の数多 くの種類の製品の中間体として用いられる。その結果として、そのような化合物 を製造する改良方法に興味が持たれる。 商業的に生産されているα−オレフィン類の製造は大部分がいろいろな種類の 化合物を触媒として用いたエチレンのオリゴマー化で行われている[例えばB.E lvers,他編集Ullmann's Encyclopedia of Industri al Chemistry,A13巻,VCH Verlagsgesellschaft mbH,Weinheim,1989,243-24 7および275-276頁,そしてB.Cornils,他編集Applied Homogeneous Catalysis with Organometallic Compounds,A Comprehensive Handbook,1巻,VCH Verlag sgesellschaft mbH,Weinheim,1996,245-258頁を参照]。商業的に用いられて いる主要な種類の触媒はアルキルアルミニウム化合物、特定のニッケル−ホスフ ィン錯体、およびハロゲン化チタン(これはAlCl3の如きルイス酸と一緒に 用いられる)である。このような方法では、それらの全部で、分枝および/また は内部オレフィンおよび/またはジオレフィンが有意量で生じる。ほとんどの場 合それらは望まれないものでありかつしばしば所望の線状α−オレフィン類から 分離するのが困難なことから、そのような副生成物の量を最小限にすることが探 求されている。 発明の要約 本発明は、α−オレフィン類を製造する1番目の方法に関し、この方法に、式 で表される化合物と、エチレンと、 (a)WX-が弱く配位するアニオンであることを条件としてFeからX-、アル キル基またはハイドライド基を引き抜いてWX-、(WR20-またはWH-を生 じさせる能力を有しかつまたアルキル基またはハイドライドをFeに渡す能力を 有する中性ルイス酸である1番目の化合物W、または (b)アルキルまたはハイドライド基をFeに渡す能力を有する2番目の化合物 とFeからX-、ハイドライドまたはアルキル基を引き抜いて弱く配位するアニ オンを生じさせる能力を有する中性ルイス酸である3番目の化合物の組み合わせ を、 約−100℃から約+300℃の温度で接触させることを含めるが、ここで、 各Xはアニオンであり、 nは、上記アニオンまたはアニオン類上の負の電荷の全数が(I)中に存在する Fe原子の酸化状態に等しいように1、2または3であり、 R1、R2およびR3は、各々独立して、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカル ビルまたは不活性な官能基であり、 R4およびR5は、各々独立して、水素、ヒドロカルビル、不活性な官能基または 置換ヒドロカルビルであり、 R9、R10、R11、R14、R15およびR16は、各々独立して、水素、ヒドロカル ビル、不活性な官能基または置換ヒドロカルビルであり、 R8は、第一炭素基、第二炭素基または第三炭素基であり、そして R20はアルキルであるが、但し R8が第一炭素基の時にはR12、R13およびR17の1つまたは2つが第 一炭素基であるか或はいずれも第一炭素基でなくそしてR12、R13およびR17の 残りが水素であること、 R8が第二炭素基の時にはR12、R13およびR17の1つが第一炭素基または第二 炭素基であるか或はいずれも第一炭素基でも第二炭素基でもなくそしてR12、R13 およびR17の残りが水素であること、 R8が第三炭素基の時にはR12、R13およびR14の全部が水素であること、そし て R8、R9、R10、R11、R12、R13、R14、R15、R16およびR17のいずれか2 つが互いに隣接する時には一緒になって環を形成していてもよいこと、 を条件とする。 本明細書では、また、式[式中、 各Xはアニオンであり、 nは、上記アニオンまたはアニオン類上の負の電荷の全数が(I)中に存在する Fe原子の酸化状態に等しいように1、2または3であり、R1、R2およびR3 は、各々独立して、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビルまたは不活性な 官能基であり、 R4およびR5は、各々独立して、水素、ヒドロカルビル、不活性な官能基または 置換ヒドロカルビルであり、そして R9、R10、R11、R14、R15およびR16は、各々独立して、水素、ヒドロカル ビル、不活性な官能基または置換ヒドロカルビルであり、 R8は、第一炭素基、第二炭素基または第三炭素基であるが、但し R8が第一炭素基の時にはR12、R13およびR17の1つまたは2つが第一炭素基 であるか或はいずれも第一炭素基でなくそしてR12、R13およびR17の残りが水 素であること、 R8が第二炭素基の時にはR12、R13およびR17の1つが第一炭素基または第二 炭素基であるか或はいずれも第一炭素基でも第二炭素基でもなくそしてR12、R13 およびR17の残りが水素であること、そして R8が第三炭素基の時にはR12、R13およびR14の全部が水素であること、そし て R8、R9、R10、R11、R12、R13、R14、R15、R16およびR17のいずれか2 つが互いに隣接する時には一緒になって環を形成していてもよいこと、 を条件とする] で表される化合物も開示する。 本発明は、式 [式中、 R1、R2およびR3は、各々独立して、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカル ビルまたは不活性な官能基であり、 R4およびR5は、各々独立して、水素、ヒドロカルビル、不活性な官能基または 置換ヒドロカルビルであり、そして R9、R10、R11、R14、R15およびR16は、各々独立して、水素、ヒドロカル ビル、不活性な官能基または置換ヒドロカルビルであり、 R8は、第一炭素基、第二炭素基または第三炭素基であるが、但し R8が第一炭素基の時にはR12、R13およびR17の1つまたは2つが第一炭素基 であるか或はいずれも第一炭素基でなくそしてR12、R13およびR17の残りが水 素であること、 R8が第二炭素基の時にはR12、R13およびR17の1つが第一炭素基または第二 炭素基であるか或はいずれも第一炭素基でも第二炭素基でもなくそしてR12、R13 およびR17の残りが水素であること、 R8が第三炭素基の時にはR12、R13およびR14の全部が水素であること、そし て R8、R9、R10、R11、R12、R13、R14、R15、R16およびR17のいずれか2 つが互いに隣接する時には一緒になって環を形成していてもよいこと、 を条件とする] で表される化合物を包含する。 本発明はまたα−オレフィン類を製造する2番目の方法にも関し、この方法に 、エチレンを、式 [式中、 R1、R2およびR3は、各々独立して、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカル ビルまたは不活性な官能基であり、 R4およびR5は、各々独立して、水素、ヒドロカルビル、不活性な官能基または 置換ヒドロカルビルであり、 R9、R10、R11、R14、R15およびR16は、各々独立して、水素、ヒ ドロカルビル、不活性な官能基または置換ヒドロカルビルであり、 R8は、第一炭素基、第二炭素基または第三炭素基であるが、但し R8が第一炭素基の時にはR12、R13およびR17の1つまたは2つが第一炭素基 であるか或はいずれも第一炭素基でなくそしてR12、R13およびR17の残りが水 素であること、 R8が第二炭素基の時にはR12、R13およびR17の1つが第一炭素基または第二 炭素基であるか或はいずれも第一炭素基でも第二炭素基でもなくそしてR12、R13 およびR17の残りが水素であること、 R8が第三炭素基の時にはR12、R13およびR14の全部が水素であること、 R8、R9、R10、R11、R12、R13、R14、R15、R16およびR17のいずれか2 つが互いに隣接する時には一緒になって環を形成していてもよいこと、 を条件とする] で表される三座配位子とそれに結合しているFe[II]またはFe[III] 原子を含んでいてFe[II]またはFe[III]がまた空の配位部位も有す るか或は上記エチレンが取って代わり得る配位子と上記エチレンに付加し得る配 位子も有するFe[II]またはFe[III]錯体に、約−100℃から約+ 300℃の温度で接触させることを含める。 本発明は、また、式または[式中、 R1、R2およびR3は、各々独立して、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカル ビルまたは不活性な官能基であり、 R4およびR5は、各々独立して、水素、ヒドロカルビル、不活性な官能基または 置換ヒドロカルビルであり、 R9、R10、R11、R14、R15およびR16は、各々独立して、水素、ヒドロカル ビル、不活性な官能基または置換ヒドロカルビルであり、 R8は、第一炭素基、第二炭素基または第三炭素基であり、 T1は、ハイドライドまたはアルキルであるか、或はエチレンが挿入し得る他の 任意アニオン性配位子であり、 Yは、空の配位部位であるか、或はエチレンが取って代わり得る中性配位子であ り、 Qは、比較的配位しないアニオンであり、そして Pは、式−(CH2CH2x−(式中、xは1以上の整数である)で表 される二価の(ポリ)エチレン基であるが、但し R8が第一炭素基の時にはR12、R13およびR17の1つまたは2つが第一炭素基 であるか或はいずれも第一炭素基でなくそしてR12、R13およびR17の残りが水 素であること、 R8が第二炭素基の時にはR12、R13およびR17の1つが第一炭素基または第二 炭素基であるか或はいずれも第一炭素基でも第二炭素基でもなくそしてR12、R13 およびR17の残りが水素であること、 R8が第三炭素基の時にはR12、R13およびR14の全部が水素であること、そし て R8、R9、R10、R11、R12、R13、R14、R15、R16およびR17のいずれか2 つが互いに隣接する時には一緒になって環を形成していてもよいこと、 を条件とする] で表される化合物も包含する。 本発明は、また、α−オレフィン類を製造する3番目の方法にも関し、この方 法に、エチレンと式 または [式中、 R1、R2およびR3は、各々独立して、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカル ビルまたは不活性な官能基であり、 R4およびR5は、各々独立して、水素、ヒドロカルビル、不活性な官能 基または置換ヒドロカルビルであり、 R9、R10、R11、R14、R15およびR16は、各々独立して、水素、ヒドロカル ビル、不活性な官能基または置換ヒドロカルビルであり、 R8は、第一炭素基、第二炭素基または第三炭素基であり、 T1は、ハイドライドまたはアルキルであるか、或はエチレンが挿入し得る他の 任意アニオン性配位子であり、 Yは、空の配位部位であるか、或はエチレンが取って代わり得る中性配位子であ り、 Qは、比較的配位しないアニオンであり、そして Pは、式−(CH2CH2x−(式中、xは1以上の整数である)で表される二 価の(ポリ)エチレン基であるが、但し R8が第一炭素基の時にはR12、R13およびR17の1つまたは2つが第一炭素基 であるか或はいずれも第一炭素基でなくそしてR12、R13およびR17の残りが水 素であること、 R8が第二炭素基の時にはR12、R13およびR17の1つが第一炭素基または第二 炭素基であるか或はいずれも第一炭素基でも第二炭素基でもなくそしてR12、R13 およびR17の残りが水素であること、 R8が第三炭素基の時にはR12、R13およびR14の全部が水素であること、そし て R8、R9、R10、R11、R12、R13、R14、R15、R16およびR17のいずれか2 つが互いに隣接する時には一緒になって環を形成していてもよいこと、 を条件とする] で表される化合物を約−100℃から約+300℃の温度で接触させる ことを含める。 発明の詳細 本明細書では特定の用語を用いる。それらのいくつかは下記である: − 「ヒドロカルビル基」は、炭素と水素のみを含有する一価の基である。特に 明記しない限り、本明細書におけるヒドロカルビル基は炭素原子を1から約30 個含むのが好適である。 − 本明細書における「置換ヒドロカルビル」は、このような基を含有する化合 物がさらされる工程条件下で不活性な置換基を1つ以上含むヒドロカルビル基を 意味する。上記置換基は、また、実質的に本方法を妨害しない。特に明記しない 限り、本明細書における置換ヒドロカルビル基は炭素原子を1から約30個含む のが好適である。複素芳香族環も「置換」の意味に含まれる。 − 本明細書における「(不活性な)官能基」は、ヒドロカルビルもしくは置換 ヒドロカルビル以外で、このような基を含有する化合物がさらされる工程条件下 で不活性な基を意味する。このような官能基は、また、それらが存在する化合物 が参与し得る本明細書に記述する如何なる方法も実質的に妨害しない。官能基の 例にはハロ(フルオロ、クロロ、ブロモおよびヨード)、エーテル、例えば−O R18(ここで、R18はヒドロカルビルもしくは置換ヒドロカルビルである)など が含まれる。官能基が鉄原子の近くに存在し得る場合(例えばR4、R5、R8、 R12、R13およびR17の場合)、このような官能基は、鉄原子に配位するとして 示す基(R4、R5、R8、R12、R13およびR17を含有する化合物に存在する) よりも強力に鉄原子に配位すべきでない、即ちそれらは所望の配位基を追い出す べきでない。 − 「アルキルアルミニウム化合物」は、アルミニウム原子にアルキル基が少な くとも1つ結合している化合物を意味する。また、この化合物中のアルミニウム 原子に他の基、例えばアルコキサイド、酸素およびハロゲンなどが結合していて も構わない。好適なアルキルアルミニウム化合物に関しては以下を参照のこと。 − 「中性のルイス塩基」は、ルイス塩基として働き得るが鉄でない化合物を意 味する。そのような化合物の例にはエーテル類、アミン類、スルフィド類および 有機ニトリル類が含まれる。 − 「カチオン性ルイス酸」は、ルイス酸として働き得るカチオンを意味する。 このようなカチオンの例はナトリウムカチオンおよび銀カチオンである。 − 「比較的配位しない(または弱く配位する)アニオン」は、本技術分野にお いてこの様式で一般に呼ばれる如きアニオンを意味し、そのようなアニオンが配 位する能力は知られていて文献に考察されており、例えばW.Beck.,他,Chem.R ev.,88巻,1405-1421頁(1988),そしてS.H.Strauss,Chem.Rev.,93巻,927 -942頁(1993)(これらは両方とも引用することによって本明細書に組み入れられ る)を参照のこと。そのようなアニオンは、とりわけ、この上に定義したアルキ ルアルミニウム化合物とX-で作られたアニオンであり、それにはR9 3AlX-、R9 2A lClX-、R9AlCl2X-、および“R9AlOX-”が含まれる。配位しない他の有用なアニ オンには、BAF-(BAF=テトラキス[3,5−ビス(トリフルオロメチル)フ ェニル]ボレート)、SbF6 -、PF6 -およびBF4 -、トリフルオロメタンスル ホネート、p−トルエンスルホネート、(RfSO2)2-(ここで、Rfはパーフ ルオロアルキルである)および(C654 -が含まれる。 − 「α−オレフィンの生成」は、式H(CH2CH2qCH=CH2(式中、q は1から約18の整数である)で表される化合物(または化合物の混合物)の生 成を意味する。そのような大部分の反応では、いろいろなq値を有する化合物の 混合物が生じ、そしてα−オレフィン類が生じる大部分の反応では、生成するα −オレフィン類のいくつかは18を越えるq値を有するであろう。18を越える q値を有するのは生成混合物の好適には50重量パーセント未満、より好適には 20重量パーセント未満であろう。この生成混合物が含有する他の種類の化合物 、例えばアルカン類、分枝アルケン類、ジエン類および/または内部オレフィン 類などの量は少量であり得る(好適には30重量パーセント未満、より好適には 10重量パーセント未満、特に好適には2重量パーセント未満)。 − 「空の配位部位」は、配位子が結合していない潜在的配位部位を意味する。 従って、エチレン分子が空の配位部位の近くに存在すると、このエチレン分子は 金属原子に配位し得る。 − 本明細書における「第一炭素基」は式−CH2−−−で表される基を意味し 、ここで、遊離原子価−−−は他の任意原子に対するものである(ハイフンで表 す結合は第一炭素基が結合しているベンゼン環に対するものである)。従って、 遊離原子価−−−は水素原子、ハロゲン原子、炭素原子、酸素原子、硫黄原子な どに結合していてもよい。言い換えれば、遊離原子価−−−は水素、ヒドロカル ビル、置換ヒドロカルビルまたは官能基に対するものであり得る。第一炭素基の 例には−CH3、−CH2CH(CH32、−CH2Cl、−CH265、−OC H3および−CH2OCH3が含まれる。 − 「第二炭素基」は基 を意味し、ここで、破線で示す両方の遊離結合は水素以外の原子または原子類に 対するものである。上記原子または基は同一または異なっていてもよい。言い換 えれば、破線で示す遊離原子価はヒドロカルビル、置換ヒドロカルビルまたは官 能基に対するものであり得る。第二炭素基の例には−CH(CH32、−CHC l2、−CH(C652、シクロヘキシル、−CH(CH3)OCH3、および− CH=CCH3が含まれる。 − 「第三炭素基」は式 で表される基を意味し、ここで、実線はベンゼン環との結合であり、そして破線 で示す3遊離結合は水素以外の原子または原子類に対するものである。言い換え れば、破線で示す結合はヒドロカルビル、置換ヒドロカルビルまたは不活性な官 能基に対するものである。第三炭素基の例には−C(CH33、−C(C653 、−CCl3、−C(CH32OCH3、−C≡CH、−C(CH3)CH=CH2 、および1−アダマンチルが含まれる。 − 「エチレンに付加し得る配位子」は、金属原子に配位しているがその部分に オリゴマー化(origomerization)が開始または継続するように エチレン分子(または配位しているエチレン分子)が挿入し得る配位子を意味す る。例えば、これは反応:(ここで、Lは配位子である)の形態を取り得る。上記式の左側の構造は化合物 (V)および(VI)(以下を参照)に類似していることに注目されたい。 配位子として有用な化合物は、一般式 [式中、「R」基は全部この上で定義した通りである] で表される2,6−ピリジンジカルボキサアルデヒドもしくは2,6−ジアシル ピリジンのジイミン類である。好適な化合物(I)および(II)そして下記の 「R」基が表示されている他の全ての好適な化合物において、 R4およびR5は、メチルまたは水素であり、そして/または R1、R2およびR3は、全部が水素であり、そして/または R9、R10、R11、R14、R15およびR16は、全部が水素であり、そして/また は R12およびR17は、各々独立して、メチル、エチル、プロピルまたはイ ソプロピルであり、より好適には両方がメチルまたはエチルであり、そして/ま たは 各Xは、一価アニオン、より好適にはハライドおよびニトリルから成る群から選 択される。 また、それらが表示されている全ての化合物において、 R8が第一炭素基の時にはR13が第一炭素基でありそしてR12およびR17が水素 であり、 R8が第二炭素基の時にはR13が第一炭素基または第二炭素基、より好適には第 二炭素基でありそしてR12およびR17が水素である、 のが好適である。 それらが表示されている特定の好適な化合物全部において、 R4およびR5がメチルでR9、R10、R11、R14、R15およびR16の全部が水素 でR12およびR17の両方がメチルであり、 R4およびR5がメチルでR9、R10、R11、R14、R15およびR16の全部が水素 でR12およびR17の両方がエチルであり、 R4およびR5がメチルでR9、R10、R11、R14、R15およびR16の全部が水素 でR12およびR17の両方がイソプロピルであり、 R4およびR5がメチルでR9、R10、R11、R14、R15およびR16の全部が水素 でR12およびR17の両方がn−プロピルでり、 R4およびR5がメチルでR9、R10、R11、R14、R15およびR16の全部が水素 でR12およびR17の両方がクロロであり、そして R4およびR5がメチルでR9、R10、R11、R14、R15およびR16の全部が水素 でR12およびR17の両方がトリフルオロメチルである、 のが好適である。 この上に示した特定の化合物全部において、Xをクロライド、ブロマイドおよ びナイトレートから成る群から選択するのが好適であり、これがクロライドであ るのがより好適である。 (II)の如き化合物は、式で表される化合物と式H2NR6またはH2NR7[式中、R6およびR7はこの上に 記述した通りである]で表される化合物の反応で製造可能である。このような反 応ではしばしばカルボン酸、例えば蟻酸などを触媒として用いる。このような反 応を実施例1−3に記述する。 上記鉄錯体は、適切な三座配位子と鉄塩、例えばハロゲン化鉄または硝酸鉄[ III]などの如き化合物を反応させると生じ得る。鉄錯体の調製に関しては実 施例4−6を参照のこと。 本明細書に記述する1番目のオリゴマー化方法(α−オレフィン類を生じさせ る)では、鉄錯体(I)をエチレンに接触させかつ(I)からX-、ハイドライ ドまたはアルキル(R20)を引き抜いて弱く配位するアニオンを生じさせ得る中 性ルイス酸Wに接触させるが、この中性ルイス酸Wは鉄をアルキル化(alky late)すべきであるか或はハイドライドイオンを鉄原子に付加させる能力を 有するべきであるか、或は追加的アルキル化剤を存在させる必要があるか或はハ イドライドアニオ ンを鉄原子に付加させる能力を有する作用剤を存在させる必要がある。このよう な中性ルイス酸は最初は帯電していない(即ちイオン性でない)。適切な中性ル イス酸にはSbF5、Ar3B(ここで、Arはアリールである)およびBF3が 含まれる。適切なカチオン性ルイス酸またはブレンステッド酸にはNaBAF、 トリフルオロメタンスルホン酸銀、HBF4、または[C65NH(CH32+ [B(C654-が含まれる。(I)(および中性ルイス酸もしくはカチオン 性ルイス酸またはブレンステッド酸の存在を必要とする同様な触媒)が既に鉄原 子に結合しているアルキル基もハイドライド基も含まない場合にも、また、この ような中性ルイス酸もしくはカチオン性ルイス酸またはブレンステッド酸が鉄を アルキル化するか或はハイドライドを鉄に付加させるようにするか、或は個別の アルキル化剤または水素化剤を存在させる、即ちアルキル基(R20)またはハイ ドライドが鉄原子に結合するようにする。 R20が炭素原子を1から4個含むのが好適であり、R20がメチルまたはエチル であるのがより好適である。 例えば、アルキルアルミニウム化合物(次のパラグラフを参照)は(I)をア ルキル化し得る。しかしながら、アルキルアルミニウム化合物の必ずしも全部が 鉄原子からX-またはアルキル基を引き抜くに充分なほど強いルイス酸であると は限らない可能性がある。その場合には、引き抜きを行うに充分なほど強い個別 のルイス酸を存在させるべきである。例えば(C653または(C653Bが 有用なルイス酸であり、これらを例えばトリエチルアルミニウムの如きアルキル アルミニウム化合物と組み合わせて用いてもよい。 鉄をアルキル化し得る好適な中性ルイス酸をアルキルアルミニウム化 合物、例えばR19 3Al、R19AlCl2、R19 2AlCl、および“R19AlO ”(アルキルアルミノキサン)[ここで、R19は、炭素原子を1から25個、好 適には炭素原子を1から4個含むアルキルである]などから選択する。適切なア ルキルアルミニウム化合物にはメチルアルミノキサン類(これは一般式[MeA lO]n)、(C252AlCl、C25AlCl2、および[(CH32CH CH23Alで表されるオリゴマー類である)が含まれる。 金属ハイドライド類、例えばNaBH4などを用いてハイドライド基をFeに 結合させることも可能である。 本明細書に記述する2番目のオリゴマー化方法では、(II)で表される鉄錯 体をオリゴマー化過程に添加するか或はそれを工程中にインサイチューで生じさ せる。実際には、その工程中にそのような錯体が2種以上生じる可能性があり、 例えば初期錯体が生成した後にその錯体が反応を起こして上記錯体を含有してい て活性末端を有する(active ended)オリゴマーが生じ得る。 最初にインサイチューで生じ得るそのような錯体の例には、および が含まれ、ここで、「R」置換基はこの上で定義した通りであり、T1は、ハイ ドライドまたはアルキルであるか、或はエチレンが挿入し得る他の任意アニオン 性配位子であり、Yは、空の配位部位であるか、或はエチレンが取って代わり得 る中性配位子であり、そしてQは、比較的配位しないアニオンである。錯体を工 程に直接添加してもよいか或はそれをインサイチューで生じさせることも可能で ある。例えば、(IV)は、(I)と中性ルイス酸、例えばアルキルアルミニウ ム化合物などとの反応で生じ得る。そのような錯体をインサイチューで生じさせ る別の方法は、適切な鉄化合物、例えば塩化鉄などと(II)とアルキルアルミ ニウム化合物を一緒にする方法である。塩化物に類似していてルイス酸またはブ レンステッド酸との反応で除去され得るアニオンが存在する他の鉄塩。例えば鉄 のハロゲン化物、硝酸塩およびカルボン酸塩(例えば酢酸塩)を用いることも可 能であり、特にそれらが工程媒体中で若干溶解 し得るならば使用可能である。このような前駆体である鉄塩が工程媒体に少なく ともある程度溶解し得るのが好適である。 エチレンのオリゴマー化を開始させた後の上記錯体は、 の如き形態であり得、ここでもこの上と同様に「R」置換基およびQはこの上で 定義した通りであり、そしてPは、式−(CH2CH2x−(式中、xは1以上 の整数である)で表される二価の(オリゴ)エチレン基である。この場合、Pに 付いている「末端基」をHとして記述する、と言うのは、上記オリゴマー化をα −オレフィン類が生じるように進行させることから上記末端基は必ずHでなけれ ばならないからである。ある場合、特にオリゴマー化の開始時点では、それがT1 である可能性もある。(I)、(IV)、(V)および(VI)中のFeは+ 2の酸化状態であるのが好適である。 (IV)、(V)および(VI)の如き化合物は、オリゴマー化過程の環境に 類似した環境から離れた時に安定であり得るか或は安定でない 可能性もある。 3番目のオリゴマー化方法では、エチレンのオリゴマー化を行う時、(IV) 、(V)および(VI)をまた如何なる「共触媒」も「活性化剤」も存在させる ことなく用いることも可能である。この3番目の方法の工程条件、例えば温度、 圧力、オリゴマー化用媒体などは、この方法で用いる材料を除き、1番目および 2番目のオリゴマー化方法の場合と同じであり得、このような方法の好適な条件 がまた3番目のオリゴマー化方法でも好適である。 本明細書における全てのオリゴマー化方法において、これを実施する温度は約 −100℃から約+300℃、好適には約0℃から約200℃、より好適には約 50℃から約150℃である。このオリゴマー化を約0kPaから約35MPa 、より好適には約500kPaから約15MPaのエチレン(ゲージ)圧下で実 施するのが好適である。このオリゴマー化を反応が有意に拡散律速(diffu sion limited)にならない条件下で実施するのが好適である。 本明細書におけるオリゴマー化方法はいろいろな液体、特に非プロトン性有機 液の存在下で実施可能である。触媒系、エチレンおよびα−オレフィン生成物は そのような液体に可溶または不溶であってもよいが、明らかに、そのような液体 はオリゴマー化が起こるのを妨げるべきでない。適切な液体にはアルカン類、ア ルケン類、シクロアルカン類、選択したハロゲン置換炭化水素および芳香族炭化 水素が含まれる。特に有用な溶媒にはヘキサン、トルエン、α−オレフィン自身 およびベンゼンが含まれる。 本明細書に記述する如きα−オレフィン類の生成は多くの場合比較的 迅速で、1時間以内に有意な収率を得ることができる。正確な条件を用いるとα −オレフィンの選択率が非常に高くなることが分かる[例えば実施例8−17を 参照]。 正確な条件を用いると、また、炭素原子を望ましい数で含むα−オレフィン類 の混合物が得られる。得られるオレフィン類の分子量を示す1つの測定値はSc hulz−Flory理論によるファクターKである[例えばB.Elvers,他編 集Ullmann's Encyclopedia of Industrial Chemistry,A13巻,VCH Verlagsgese llschaft mbH,Weinheim,1989,243-247および275-276頁を参照]。これは、 K=n(Cn+2オレフィン)/n(Cnオレフィン) として定義され、ここで、n(Cnオレフィン)は、炭素原子をn個含むオレフ ィンのモル数であり、そしてn(Cn+2オレフィン)は、炭素原子をn+2個含 むオレフィン、言い換えればCnオレフィンの次に高級なオリゴマーのモル数で ある。これから、結果として生じるオリゴマー反応生成物混合物に含まれるいろ いろなオレフィン類の重量(質量)分率を決定することができる。商業的に最も 興味の持たれるα−オレフィン類を製造しようとする場合、Kファクターは約0 .7から約0.8の範囲であるのが好適である。また、その時点で要求されるオ レフィンが生じるように上記ファクターを変えることができることも重要である 。実施例8から17に本オリゴマー化方法でそれを行うことができることを示す 。 本明細書で製造するα−オレフィン類を更に他のオレフィン類と一緒に重合さ せてポリオレフィン類、特に線状低密度ポリエチレン(これはエチレンを含めた 共重合体である)を生じさせることも可能である。ま た、それのホモ重合を行うことも可能である。このような重合体は数多くの公知 方法で製造可能であり、例えばチーグラー・ナッタ型重合、メタロセン触媒を用 いた重合および他の方法で製造可能である[例えば国際特許出願96/2301 0が参考になり、例えばメタロセン型触媒の情報に関してはAngew.Che m.、Int.Ed.Engl.、34巻、1143−1170頁(1995) 、ヨーロッパ特許出願416,815および米国特許第5,198,401号が 参考になり、そしてチーグラー・ナッタ型触媒の情報に関してはJ.Boor Jr.,Z iegler-Natta Catalysts and Polymerizations,Academic Press,New York,19 79そしてG.Al1en,他編集,Comprehensive Polymer Science,4巻,Pergamon P ress,Oxford,1989,1-108,409-412および533-584頁が参考になり、そしてポ リエチレンの情報に関してはH.Mark,他編集,Encyclopedia of Polymer Scien ce and Engineering,6巻,Johm Wiley & Sons,New York,1992,383-522頁が 参考になり、これらは全部引用することによって本明細書に組み入れられる]。 本明細書で製造するα−オレフィン類を公知方法でアルコール類に変えること も可能であり、このようなアルコール類はいろいろな用途、例えば洗剤または可 塑剤の中間体などとして用いるに有用である。いろいろな方法、例えばオキソ方 法に続く水添、または修飾1段オキソ方法(「修飾Shell方法」)[例えば B.Elvers,他編集,Ullmann's Encyclopedia of Chemical Technology,第5版 ,A18巻,VCH Verlagsgesellschaft mbW Weinheim,1991,321-327頁(引用する ことによって本明細書に組み入れられる)を参照]などを用いて上記α−オレフ ィン類をアルコールに変えることができる。 本明細書では、また、エチレンのオリゴマー化を最初に固体状態で実施するこ とも可能であり、例えば活性触媒または触媒前駆体を基質、例えばシリカまたは アルミナなどに支持させることも可能である。触媒前駆体、例えば鉄のハロゲン 化物または硝酸塩などを用いる場合には、それにルイス酸(例えばW、例えばア ルキルアルミニウム化合物)による活性化を受けさせた後にそれをエチレンに接 触させることも可能である。別法として、触媒前駆体が入っている溶液を、アル キルアルミニウム化合物を表面に担持している支持体に接触させることも可能で ある。また、この支持体にルイス酸またはブレンステッド酸の代わりをさせるこ とも可能であり、例えば酸性粘土、例えばモントモリロナイトなどを用いること も可能である。支持型触媒を製造する別の方法は、シリカまたはアルミナなどの 如き支持体上で重合を開始させるか或は少なくとも別のオレフィン、例えばシク ロペンテンなどまたはオレフィンのオリゴマーの鉄錯体を生じさせる方法である 。触媒を用いてオリゴマー化を気相または液相中で行う時、そのような「不均一 」触媒の全部が使用可能である。気相は、エチレンが気相中に存在しながらエチ レンが移送されて触媒粒子に接触することを意味する。 本実施例で製造または使用する化合物のいくつかを以下に示す: 実施例1 2,6−ビス−[1−(2−メチルフェニルイミノ)エチル]ピリジン(VII )の製造 三角フラスコに1gの2,6−ジアセチルピリジンと3.0mlのo−トルイ ジンを20mlの塩化メチレンと一緒に入れた。撹拌子(stirbar)と9 7%の蟻酸を5滴加えた後、上記フラスコを密封して、溶液を40時間撹拌した 。次に、溶媒を真空下で除去した後、上記フラスコを−30℃の冷凍庫に入れた 。その結果として生じた粘性油状物を冷メタノールで洗浄すると黄色固体が生じ 、これを濾過で単離した後、これは1H NMRにより所望生成物であると同定 した(959mg,45.9%)。 実施例2 2,6−ビス−[1−(2−エチルフェニルイミノ)エチル]ピリジン(VII I)の製造 丸底フラスコに1gの2,6−ジアセチルピリジンと3.0mlの2−エチル アニリンを30mlのメタノールと一緒に入れた。撹拌子と97%の蟻酸を5滴 加えた後、上記フラスコを密封して、溶液を50℃で24時間撹拌した。次に、 このフラスコを室温に冷却した後、−30℃の冷凍庫に入れた。1日後、黄色の 結晶が生じた。この結晶を濾過で単離した後、これは1H NMRにより所望生 成物であると同定した(1.25g,55.2%)。 実施例3 2,6−ビス−[1−(2−イソプロピルフェニルイミノ)エチル]ピリジン( IX)の製造 三角フラスコに1gの2,6−ジアセチルピリジンと3.0mlの2−イソプ ロピルアニリンを20mlの塩化メチレンと一緒に入れた。撹拌子と97%の蟻 酸を5滴加えた後、上記フラスコを密封して、溶液を40時間撹拌した。次に、 溶媒を真空下で除去した後、上記フラスコを−30℃の冷凍庫に入れた。その結 果として生じた粘性油状物を冷メタノールで洗浄すると黄色固体が生じ、これを 濾過で単離した後、これは1H NMRにより所望生成物であると同定した(1 .63g,66.8%)。 実施例4 2,6−ビス−[1−(2−メチルフェニルイミノ)エチル]ピリジンと塩化鉄 (II)の錯体(X)の製造 シュレンク(Schlenk)フラスコに(VII)(150mg、1.05 当量)と84mgの塩化鉄(II)四水化物を撹拌子と一緒に 入れた。このフラスコにアルゴンを用いたバックフィルを2回受けさせた(ba ck−filled twice)後、THFを15ml仕込んだ。撹拌を静的 アルゴン圧力下で開始して18時間継続した後、濃青色の固体を濾過で単離して エーテルそしてペンタンで洗浄した(182mg、92%)。 実施例5 2,6−ビス−[1−(2−エチルフェニルイミノ)エチル]ピリジンと塩化鉄 (II)の錯体(XI)の製造 シュレンクフラスコに(VIII)(300mg、1.05当量)と154m gの塩化鉄(II)四水化物を撹拌子と一緒に入れた。このフラスコにアルゴン を用いたバックフィルを2回受けさせた後、THFを30ml仕込んだ。撹拌を 静的アルゴン圧力下で開始して2時間継続した後、濃青色の固体を濾過で単離し てエーテルそしてペンタンで洗浄した(352mg、91.7%)。 実施例6 2,6−ビス−[1−(2−イソプロピルフェニルイミノ)エチル]ピリジンと 塩化鉄(II)の錯体(XII)の製造 シュレンクフラスコに(IX)(200mg、1.05当量)と95mgの塩 化鉄(II)四水化物を撹拌子と一緒に入れた。このフラスコにアルゴンを用い たバックフィルを2回受けさせた後、THFを15ml仕込んだ。撹拌を静的ア ルゴン圧力下で開始して6時間継続した後、濃青色の固体を濾過で単離してエー テルそしてペンタンで洗浄した(160mg、64.0%)。 実施例7−23および比較実施例A これらの実施例に示す圧力は全部エチレンのゲージ圧である。 実施例7、18および19の一般的手順:鉄錯体を量り取って、炎で乾燥させ ておいた250mlのシュレンクフラスコに撹拌子と一緒に入れた。このフラス コにエチレンを用いたバックフィルを少なくとも2回受けさせた後、このフラス コにトルエンを50ml仕込んだ。撹拌しながらシリンジを用いて修飾メチルア ルミノキサン(Akzo Chemical、ヘプタン中〜7重量%のアルミニ ウム)を1ml加えた後、反応を一定のエチレン圧(大気圧)下で進行させた。 最初にアセトンをオリゴマー化生成物(origomerization)に加 えていくらか残存する活性化剤を分解させた後に溶媒を真空下で除去することを 通して、オリゴマーを単離した。生じたオレフィンの「K」値と純度をガスクロ で測定した。生成物混合物に入っているC16/C14化合物の比率から「K」値を 計算した。 実施例8−17、20−23および比較実施例Aの一般的手順:1LのPar r(商標)反応槽を真空下で一晩加熱した後、それにアルゴンを用いたバックフ ィルを受けさせた。この反応槽にトルエンまたはヘキサンを150ml仕込んだ 後、エチレンで1.4MPaになるまで加圧した。この反応槽の圧抜きを行った 後、この反応槽に正のアルゴン圧下で鉄錯体を固体または溶液/懸濁液として5 0mlのトルエンと一緒に加えた。次に、修飾メチルアルミノキサン溶液(この 上と同じ)を1ml加えた後、この反応物を撹拌しながら反応槽を迅速に再加圧 した。この反応槽の圧抜きを行った後、オリゴマーをこの上に記述した様式と同 じ様式で単離した。再びガスクロを用いて生成物の純度と「K」値を測定した。 これらの実施例およびその結果に関する詳細を表1に示す。示した反応条件は 使用したエチレン圧、温度、反応(rxn)時間、そして鉄錯体の組成および量 である。実施例20−22をヘキサン中で実施しそして実施例23を95:5( 体積:体積)のヘキサン:1−ペンテン中で実施した以外は全ての実施例で用い た「溶媒」はトルエンであった。表1に、また、単離した固体状生成物、真空を かけた後に単離したオレフィンの量、そして全体収量[これは単離した固体とオ レフィンに加えて真空処理中に失われたオレフィン(K、即ちSchulz−F loryファクターを用いて計算した如き)の総量である]も挙げる。また、T OF、即ち全体収量を基準にして鉄化合物1モル当たりにオリゴマー化したエチ レンのモル数/時も、真空をかけた後に存在するオレフィンの全量を基準にした α−オレフィンのパーセントと同様に示す。 実施例24 ドライボックス内で914mgのビフェニルに(X)を20mg(43μモル )とトリス(ペンタフルオロフェニル)ボランを66mg(129μモル)加え た。これらの固体を一緒に粉砕して粉末にした後、炎で乾燥させておいたシュレ ンクフラスコ(磁気撹拌子が入っている)に上記粉末を100mg[(X)が2 .0mg入っている]加えた。このフラスコを隔壁で密封した後、シュレンク多 岐管(manifold)に移して、それにエチレンを用いたバックフィルを3 回受けさせた。次に、このフラスコをエチレン下に置きながらそれにトルエンを 30ml仕込んだ。撹拌を開始した後、シリンジでトリエチルアルミニウムを0 .24ml(トルエン中1.9M、106当量)加えた。反応を1.5時間進行 させ、この反応中にエチレンが急速に絶え間無く吸収されることが観察された。 アセトンを添加して反応を終結させた後、生成物をGCで分析した。この生成物 の全体収量は8.64gで、TOF=48,200/時で、K値は0.72で、 線状アルファオレフィンのモルパーセントは>96%であった。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (31)優先権主張番号 09/005,965 (32)優先日 平成10年1月12日(1998.1.12) (33)優先権主張国 米国(US) (81)指定国 EP(AT,BE,CH,CY, DE,DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,I T,LU,MC,NL,PT,SE),OA(BF,BJ ,CF,CG,CI,CM,GA,GN,GW,ML, MR,NE,SN,TD,TG),AP(GH,GM,K E,LS,MW,SD,SZ,UG,ZW),EA(AM ,AZ,BY,KG,KZ,MD,RU,TJ,TM) ,AL,AM,AU,AZ,BA,BB,BG,BR, BY,CA,CN,CU,CZ,EE,GE,HU,I D,IL,IS,JP,KG,KP,KR,KZ,LC ,LK,LR,LT,LV,MD,MG,MK,MN, MX,NO,NZ,PL,RO,RU,SG,SI,S K,SL,TJ,TM,TR,TT,UA,US,UZ ,VN,YU (72)発明者 ブルツクハート,モーリス・エス アメリカ合衆国ノースカロライナ州27514 チヤペルヒル・オールドリストラロード 944 (72)発明者 スモール,ブルツク・エル アメリカ合衆国ノースカロライナ州27510 カンボロ・ハイウエイ54バイパス501・ロ イヤルパーク4―エイ

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1. α−オレフィン類の製造方法であって、式 で表される化合物と、エチレンと、 (a)WX-が弱く配位するアニオンであることを条件としてFeからX-、アル キル基またはハイドライド基を引き抜いてWX-、(WR20-またはWH-を生 じさせる能力を有しかつまたアルキル基またはハイドライドをFeに渡す能力を 有する中性ルイス酸である1番目の化合物W、または (b)アルキルまたはハイドライド基をFeに渡す能力を有する2番目の化合物 とFeからX-、ハイドライドまたはアルキル基を引き抜いて弱く配位するアニ オンを生じさせる能力を有する中性ルイス酸である3番目の化合物の組み合わせ を、 約−100℃から約+300℃の温度で接触させることを含み、ここで、各Xは アニオンであり、 nは、上記アニオンまたはアニオン類上の負の電荷の全数が(I)中に存在する Fe原子の酸化状態に等しいように1、2または3であり、R1、R2およびR3 は、各々独立して、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビルまたは不活性な 官能基であり、 R4およびR5は、各々独立して、水素、ヒドロカルビル、不活性な官能基または 置換ヒドロカルビルであり、 R9、R10、R11、R14、R15およびR16は、各々独立して、水素、ヒドロカル ビル、不活性な官能基または置換ヒドロカルビルであり、 R8は、第一炭素基、第二炭素基または第三炭素基であり、そして R20はアルキルであるが、但し R8が第一炭素基の時にはR12、R13およびR17の1つまたは2つが第一炭素基 であるか或はいずれも第一炭素基でなくそしてR12、R13およびR17の残りが水 素であること、 R8が第二炭素基の時にはR12、R13およびR17の1つが第一炭素基または第二 炭素基であるか或はいずれも第一炭素基でも第二炭素基でもなくそしてR12、R13 およびR17の残りが水素であること、 R8が第三炭素基の時にはR12、R13およびR14の全部が水素であること、そし て R8、R9、R10、R11、R12、R13、R14、R15、R16およびR17のいずれか2 つが互いに隣接する時には一緒になって環を形成していてもよいこと、 を条件とする方法。 2. R4およびR5がメチルまたは水素であり、 R1、R2およびR3の全部が水素であり、 R9、R10、R11、R12、R13、R14、R15およびR16の全部が水素であり、そし て R8およびR17が各々独立してメチル、エチル、プロピルまたはイソプロピルで ある、 請求の範囲第1項記載の方法。 3. R4およびR5がメチルまたは水素であり、 R12およびR13が水素であり、そして R8およびR17が各々独立してメチル、エチル、プロピルまたはイソプロピルで ある、 請求の範囲第1項記載の方法。 4. R4およびR5がメチルまたは水素であり、 R12およびR13が水素であり、そして R8およびR17の両方がメチルである、 請求の範囲第1項記載の方法。 5. R8およびR17の両方がメチルまたはエチルである、 請求の範囲第2項記載の方法。 6. R4およびR5がメチルでR9、R10、R11、R12、R13、R14、R15お よびR16の全部が水素でR8およびR17の両方がメチルであるか、或は R4およびR5がメチルでR9、R10、R11、R12、R13、R14、R15お よびR16の全部が水素でR8およびR17の両方がエチルであるか、或は R4およびR5がメチルでR9、R10、R11、R12、R13、R14、R15お よびR16の全部が水素でR8およびR17の両方がイソプロピルで あるか、或は R4およびR5がメチルでR9、R10、R11、R12、R13、R14、R15お よびR16の全部が水素でR8およびR17の両方がn−プロピルであるか、或は R4およびR5がメチルでR9、R10、R11、R12、R13、R14、R15お よびR16の全部が水素でR8およびR17の両方がクロロであるか、或は R4およびR5がメチルでR9、R10、R11、R12、R13、R14、R15お よびR16の全部が水素でR8およびR17の両方がトリフルオロメチルである、 請求の範囲第1項記載の方法。 7. 上記温度が約50℃から約150℃である請求の範囲第1項記載の方法 。 8. エチレン圧を約500kPaから約15MPaにする請求の範囲第1項 記載の方法。 9. ファクターKが約0.7から約0.8である請求の範囲第1項記載の方 法。 10. Wがアルキルアルミニウム化合物である請求の範囲第1項記載の方法 。 11. 上記アルキルアルミニウム化合物がアルキルアルミノキサンである請 求の範囲第10項記載の方法。 12. R8が第一炭素基の時にR13が第一炭素基でR12およびR17が水素で あるか、或は R8が第二炭素基の時にR13が第一もしくは第二炭素基でR1 2 およびR17が水素である、 請求の範囲第1項記載の方法。 13. 式 [式中、 各Xはアニオンであり、 nは、上記アニオンまたはアニオン類上の負の電荷の全数が(I)中に存在する Fe原子の酸化状態に等しいように1、2または3であり、 R1、R2およびR3は、各々独立して、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカル ビルまたは不活性な官能基であり、 R4およびR5は、各々独立して、水素、ヒドロカルビル、不活性な官能基または 置換ヒドロカルビルであり、そして R9、R10、R11、R14、R15およびR16は、各々独立して、水素、ヒドロカル ビル、不活性な官能基または置換ヒドロカルビルであり、 R9は、第一炭素基、第二炭素基または第三炭素基であるが、但し R8が第一炭素基の時にはR12、R13およびR17の1つまたは2つが第一炭素基 であるか或はいずれも第一炭素基でなくそしてR12、R13およびR17の残りが水 素であること、 R8が第二炭素基の時にはR12、R13およびR17の1つが第一炭素基または第二 炭素基であるか或はいずれも第一炭素基でも第二炭素基でもなくそしてR12、R13 およびR17の残りが水素であること、 R8が第三炭素基の時にはR12、R13およびR14の全部が水素であること、そし て R8、R9、R10、R11、R12、R13、R14、R15、R16およびR17のいずれか2 つが互いに隣接する時には一緒になって環を形成していてもよいこと、 を条件とする] で表される化合物。 14. R4およびR5がメチルまたは水素であり、 R1、R2およびR3の全部が水素であり、 R9、R10、R11、R12、R13、R14、R15およびR16の全部が水素であり、そ して R8およびR17が各々独立してメチル、エチル、プロピルまたはイソプロピルで ある、 請求の範囲第13項記載の化合物。 15. R4およびR5がメチルまたは水素であり、そして R8およびR17が各々独立してメチル、エチル、プロピルまたはイソプロピルで ある、 請求の範囲第13項記載の化合物。 16. R4およびR5がメチルまたは水素であり、そして R8およびR17の両方がメチルまたはエチルである、 請求の範囲第13項記載の化合物。 17. R8およびR17の両方がメチルまたはエチルである、 請求の範囲第14項記載の化合物。 18. R4およびR5がメチルでR9、R10、R11、R12、R13、R14、R15 およびR16の全部が水素でR8およびR17の両方がメチルであるか、或は R4およびR5がメチルでR9、R10、R11、R12、R13、R14、R15 およびR16の全部が水素でR8およびR17の両方がエチルであるか、或は R4およびR5がメチルでR9、R10、R11、R12、R13、R14、R15 およびR16の全部が水素でR8およびR17の両方がイソプロピルであるか、或は R4およびR5がメチルでR9、R10、R11、R12、R13、R14、R15 およびR16の全部が水素でR8およびR17の両方がn−プロピルであるか、或は R4およびR5がメチルでR9、R10、R11、R12、R13、R14、R15 およびR16の全部が水素でR8およびR17の両方がクロロであるか、或は R4およびR5がメチルでR9、R10、R11、R12、R13、R14、R15 およびR16の全部が水素でR8およびR17の両方がトリフルオロメチルである、 請求の範囲第13項記載の化合物。 19. 各Xが一価アニオンである請求の範囲第13項記載の化合物。 20. R8が第一炭素基の時にR13が第一炭素基でR12およびR17が水素で あるか、或は R8が第二炭素基の時にR13が第一もしくは第二炭素基でR12および R17が水素である、 請求の範囲第13項記載の化合物。 21. 式 [式中、 R1、R2およびR3は、各々独立して、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカル ビルまたは不活性な官能基であり、 R4およびR5は、各々独立して、水素、ヒドロカルビル、不活性な官能基または 置換ヒドロカルビルであり、そして R9、R10、R11、R14、R15およびR16は、各々独立して、水素、ヒドロカル ビル、不活性な官能基または置換ヒドロカルビルであり、 R8は、第一炭素基、第二炭素基または第三炭素基であるが、但しR8が第一炭素 基の時にはR12、R13およびR17の1つまたは2つが第一炭素基であるか或はい ずれも第一炭素基でなくそしてR12、R13およびR17の残りが水素であること、 R8が第二炭素基の時にはR12、R13およびR17の1つが第一炭素基または第二 炭素基であるか或はいずれも第一炭素基でも第二炭素基でもなくそしてR12、R13 およびR17の残りが水素であること、 R8が第三炭素基の時にはR12、R13およびR14の全部が水素であること、そし て R8、R9、R10、R11、R12、R13、R14、R15、R16およびR17のいずれか2 つが互いに隣接する時には一緒になって環を形成していてもよいこと、 を条件とする] で表される化合物。 22. R4およびR5がメチルまたは水素であり、 R1、R2およびR3の全部が水素であり、 R9、R10、R11、R12、R13、R14、R15およびR16の全部が水素であり、そし て R8およびR17が各々独立してメチル、エチル、プロピルまたはイソプロピルで ある、 請求の範囲第21項記載の化合物。 23. R4およびR5がメチルまたは水素であり、そして R8およびR17が各々独立してメチル、エチル、プロピルまたはイソプロピルで ある、 請求の範囲第21項記載の化合物。 24. R4およびR5がメチルまたは水素であり、そして R8およびR17の両方がメチルまたはエチルである、 請求の範囲第21項記載の化合物。 25. R8およびR17の両方がメチルまたはエチルである、 請求の範囲第23項記載の化合物。 26. R4およびR5がメチルでR9、R10、R11、R12、R13、R14、R15 およびR16の全部が水素でR8およびR17の両方がメチルであるか、或は R4およびR5がメチルでR9、R10、R11、R12、R13、R14、R15 およびR16の全部が水素でR8およびR17の両方がエチルであるか、或は R4およびR5がメチルでR9、R10、R11、R12、R13、R14、R15 およびR16の全部が水素でR8およびR17の両方がイソプロピルであるか、或は R4およびR5がメチルでR9、R10、R11、R12、R13、R14、R15 およびR16の全部が水素でR8およびR17の両方がn−プロピルであるか、或は R4およびR5がメチルでR9、R10、R11、R12、R13、R14、R15 およびR16の全部が水素でR8およびR17の両方がクロロであるか、或は R4およびR5がメチルでR9、R10、R11、R12、R13、R14、R15 およびR16の全部が水素でR8およびR17の両方がトリフルオロメチルである、 請求の範囲第21項記載の化合物。 27. R8が第一炭素基の時にR13が第一炭素基でR12およびR17が水素で あるか、或は R8が第二炭素基の時にR13が第一もしくは第二炭素基でR12および R17が水素である、 請求の範囲第21項記載の化合物。 28. α−オレフィン類の製造方法であって、エチレンを、式 [式中、 R1、R2およびR3は、各々独立して、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカル ビルまたは不活性な官能基であり、 R4およびR5は、各々独立して、水素、ヒドロカルビル、不活性な官能基または 置換ヒドロカルビルであり、 R9、R10、R11、R14、R15およびR16は、各々独立して、水素、ヒドロカル ビル、不活性な官能基または置換ヒドロカルビルであり、 R8は、第一炭素基、第二炭素基または第三炭素基であるが、但し R8が第一炭素基の時にはR12、R13およびR17の1つまたは2つが第一炭素基 であるか或はいずれも第一炭素基でなくそしてR12、R13およびR17の残りが水 素であること、 R8が第二炭素基の時にはR12、R13およびR17の1つが第一炭素基または第二 炭素基であるか或はいずれも第一炭素基でも第二炭素基でもなくそしてR12、R13 およびR17の残りが水素であること、 R8が第三炭素基の時にはR12、R13およびR14の全部が水素であること、 R8、R9、R10、R11、R12、R13、R14、R15、R16およびR17のいずれか2 つが互いに隣接する時には一緒になって環を形成していてもよいこと、 を条件とする] で表される三座配位子とそれに結合しているFe[II]またはFe[III] 原子を含んでいてFe[II]またはFe[III]がまた空の配位部位も有す るか或は上記エチレンが取って代わり得る配位子と上記エチレンに付加し得る配 位子も有するFe[II]またはFe[III]錯体に、約−100℃から約+ 300℃の温度で接触させることを含む方法。 29. R4およびR5がメチルまたは水素であり、 R1、R2およびR3の全部が水素であり、 R9、R10、R11、R12、R13、R14、R15およびR16の全部が水素であり、そ して R8およびR17が各々独立してメチル、エチル、プロピルまたはイソプロピルで ある、 請求の範囲第28項記載の方法。 30. R4およびR5がメチルまたは水素であり、そして R8およびR17が各々独立してメチル、エチル、プロピルまたはイソプロピルで ある、 請求の範囲第28項記載の方法。 31. R4およびR5がメチルまたは水素であり、そして R8およびR17の両方がメチルまたはエチルである、 請求の範囲第28項記載の方法。 32. R8およびR17の両方がメチルまたはエチルである、 請求の範囲第28項記載の方法。 33. R4およびR5がメチルでR9、R10、R11、R12、R13、R14、R15 およびR16の全部が水素でR8およびR17の両方がメチルであるか、或は R4およびR5がメチルでR9、R10、R11、R12、R13、R14、R15お よびR16の全部が水素でR8およびR17の両方がエチルであるか、或は R4およびR5がメチルでR9、R10、R11、R12、R13、R14、R15 およびR16の全部が水素でR8およびR17の両方がイソプロピルであるか、或は R4およびR5がメチルでR9、R10、R11、R12、R13、R14、R15 およびR16の全部が水素でR8およびR17の両方がn−プロピルであるか、或は R4およびR5がメチルでR9、R10、R11、R12、R13、R14、R15 およびR16の全部が水素でR8およびR17の両方がクロロで あるか、或は R4およびR5がメチルでR9、R10、R11、R12、R13、R14、R15 およびR16の全部が水素でR8およびR17の両方がトリフルオロメチルである、 請求の範囲第28項記載の方法。 34. 上記温度が約−50℃から約100℃である請求の範囲第28項記載 の方法。 35. エチレン圧を約500kPaから約15MPaにする請求の範囲第2 8項記載の方法。 36. ファクターKが約0.7から約0.8である請求の範囲第28項記載 の方法。 37. R8が第一炭素基の時にR13が第一炭素基でR12およびR17が水素で あるか、或は R8が第二炭素基の時にR13が第一もしくは第二炭素基でR12および R17が水素である、 請求の範囲第28項記載の方法。 38. 式 または[式中、 R1、R2およびR3は、各々独立して、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカル ビルまたは不活性な官能基であり、 R4およびR5は、各々独立して、水素、ヒドロカルビル、不活性な官能基または 置換ヒドロカルビルであり、 R9、R10、R11、R14、R15およびR16は、各々独立して、水素、ヒドロカル ビル、不活性な官能基または置換ヒドロカルビルであり、 R8は、第一炭素基、第二炭素基または第三炭素基であり、 T1は、ハイドライドまたはアルキルであるか、或はエチレンが挿入し得る他の 任意アニオン性配位子であり、 Yは、空の配位部位であるか、或はエチレンが取って代わり得る中性配位子であ り、 Qは、比較的配位しないアニオンであり、 Pは、式−(CH2CH2x−(式中、xは1以上の整数である)で表される二 価の(ポリ)エチレン基であり、そして T2は、末端基であるが、但し R8が第一炭素基の時にはR12、R13およびR17の1つまたは2つが第一炭素基 であるか或はいずれも第一炭素基でなくそしてR12、R13およびR17の残りが水 素であること、 R8が第二炭素基の時にはR12、R13およびR17の1つが第一炭素基または第二 炭素基であるか或はいずれも第一炭素基でも第二炭素基でもなくそしてR12、R13 およびR17の残りが水素であること、 R8が第三炭素基の時にはR12、R13およびR14の全部が水素であること、そし て R8、R9、R10、R11、R12、R13、R14、R15、R16およびR17のいずれか2 つが互いに隣接する時には一緒になって環を形成していてもよいこと、 を条件とする] で表される化合物。 39. R4およびR5がメチルまたは水素であり、 R1、R2およびR3の全部が水素であり、 R9、R10、R11、R12、R13、R14、R15およびR16の全部が水素であり、そ して R8およびR17が各々独立してメチル、エチル、プロピルまたはイソプロピルで ある、 請求の範囲第38項記載の化合物。 40. R4およびR5がメチルまたは水素であり、そして R8およびR17の両方がメチル、エチル、プロピルまたはイソプロピルである、 請求の範囲第38項記載の化合物。 41. R4およびR5がメチルまたは水素であり、そして R8およびR17の両方がメチルまたはエチルである、 請求の範囲第38項記載の化合物。 42. R8およびR17の両方がメチルまたはエチルである、 請求の範囲第39項記載の化合物。 43. R4およびR5がメチルでR9、R10、R11、R12、R13、R14、R15 およびR16の全部が水素でR8およびR17の両方がメチルであるか、或は R4およびR5がメチルでR9、R10、R11、R12、R13、R14、R15 およびR16の全部が水素でR8およびR17の両方がエチルであるか、或は R4およびR5がメチルでR9、R10、R11、R12、R13、R14、R15 およびR16の全部が水素でR8およびR17の両方がイソプロピルであるか、或は R4およびR5がメチルでR9、R10、R11、R12、R13、R14、R15 およびR16の全部が水素でR8およびR17の両方がn−プロピルであるか、或は R4およびR5がメチルでR9、R10、R11、R12、R13、R14、R15 およびR16の全部が水素でR8およびR17の両方がクロロであるか、或は R4およびR5がメチルでR9、R10、R11、R12、R13、R14、R15 およびR16の全部が水素でR8およびR17の両方がトリフルオロメチルである、 請求の範囲第38項記載の化合物。 44. 式(IV)で表される請求の範囲第38項記載の化合物。 45. 式(V)で表される請求の範囲第38項記載の化合物。 46. 式(VI)で表される請求の範囲第38項記載の化合物。 47. R8が第一炭素基の時にR13が第一炭素基でR12およびR17が水素で あるか、或は R8が第二炭素基の時にR13が第一もしくは第二炭素基でR12および R17が水素である、 請求の範囲第38項記載の化合物。 48. α−オレフィン類の製造方法であって、エチレンと式または[式中、 R1、R2およびR3は、各々独立して、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカル ビルまたは不活性な官能基であり、 R4およびR5は、各々独立して、水素、ヒドロカルビル、不活性な官能基または 置換ヒドロカルビルであり、 R9、R10、R11、R14、R15およびR16は、各々独立して、水素、ヒドロカル ビル、不活性な官能基または置換ヒドロカルビルであり、 R8は、第一炭素基、第二炭素基または第三炭素基であり、 T1は、ハイドライドまたはアルキルであるか、或はエチレンが挿入し得る他の 任意アニオン性配位子であり、 Yは、空の配位部位であるか、或はエチレンが取って代わり得る中性配位子であ り、 Qは、比較的配位しないアニオンであり、 Pは、式−(CH2CH2x−(式中、xは1以上の整数である)で表 される二価の(ポリ)エチレン基であり、そして T2は、末端基であるが、但し R8が第一炭素基の時にはR12、R13およびR17の1つまたは2つが第一炭素基 であるか或はいずれも第一炭素基でなくそしてR12、R13およびR17の残りが水 素であること、 R8が第二炭素基の時にはR12、R13およびR17の1つが第一炭素基または第二 炭素基であるか或はいずれも第一炭素基でも第二炭素基でもなくそしてR12、R13 およびR17の残りが水素であること、 R8が第三炭素基の時にはR12、R13およびR14の全部が水素であること、そし て R8、R9、R10、R11、R12、R13、R14、R15、R16およびR17のいずれか2 つが互いに隣接する時には一緒になって環を形成していてもよいこと、 を条件とする] で表される化合物を約−100℃から約+300℃の温度で接触させることを含 む方法。 49. R4およびR5がメチルまたは水素であり、 R1、R2およびR3の全部が水素であり、 R9、R10、R11、R12、R13、R14、R15およびR16の全部が水素であり、そ して R8およびR17が各々独立してメチル、エチル、プロピルまたはイソプロピルで ある、 請求の範囲第48項記載の方法。 50. R4およびR5がメチルまたは水素であり、そして R8およびR17が各々独立してメチル、エチル、プロピルまたはイソプロピルで ある、 請求の範囲第48項記載の方法。 51. R4およびR5がメチルまたは水素であり、そして R8およびR17の両方がメチルまたはエチルである、 請求の範囲第48項記載の方法。 52. R8およびR17の両方がメチルまたはエチルである、 請求の範囲第48項記載の方法。 53. R4およびR5がメチルでR9、R10、R11、R12、R13、R14、R15 およびR16の全部が水素でR8およびR17の両方がメチルであるか、或は R4およびR5がメチルでR9、R10、R11、R12、R13、R14、R15お よびR16の全部が水素でR8およびR17の両方がエチルであるか、或は R4およびR5がメチルでR9、R10、R11、R12、R13、R14、R15お よびR16の全部が水素でR8およびR17の両方がイソプロピルであるか、或は R4およびR5がメチルでR9、R10、R11、R12、R13、R14、R15お よびR16の全部が水素でR8およびR17の両方がn−プロピルであるか、或は R4およびR5がメチルでR9、R10、R11、R12、R13、R14、R15お よびR16の全部が水素でR8およびR17の両方がクロロであるか、或は R4およびR5がメチルでR9、R10、R11、R12、R13、R14、 R15およびR16の全部が水素でR8およびR17の両方がトリフルオロメチルであ る、 請求の範囲第48項記載の方法。 54. 上記温度が約−50℃から約100℃である請求の範囲第48項記載 の方法。 55. エチレン圧を約500kPaから約15MPaにする請求の範囲第4 8項記載の方法。 56. ファクターKが約0.7から約0.8である請求の範囲第48項記載 の方法。 57. 上記化合物が(IV)である請求の範囲第48項記載の方法。 58. 上記化合物が(V)である請求の範囲第48項記載の方法。 59. 上記化合物が(VI)である請求の範囲第48項記載の方法。 60. R8が第一炭素基の時にR13が第一炭素基でR12およびR17が水素で あるか、或は R8が第二炭素基の時にR13が第一もしくは第二炭素基でR12および R17が水素である、 請求の範囲第48項記載の方法。 61. 上記α−オレフィンを重合させる追加的段階を含む請求の範囲第1項 記載の方法。 62. 上記α−オレフィンを重合させる追加的段階を含む請求の範囲第28 項記載の方法。 63. 上記α−オレフィンをアルコールに変化させる追加的段階を含む請求 の範囲第1項記載の方法。 64. 上記α−オレフィンをアルコールに変化させる追加的段階を 含む請求の範囲第28項記載の方法。 65. 上記α−オレフィンを重合させる追加的段階を含む請求の範囲第48 項記載の方法。 66. 上記α−オレフィンをアルコールに変化させる追加的段階を含む請求 の範囲第48項記載の方法。 67. 上記化合物が固体状支持体に支持されている不均一触媒の一部である か或は一部になる請求の範囲第1項記載の方法。 68. 気相または液相中で実施する請求の範囲第67項記載の方法。 69. 上記錯体が固体状支持体に支持されている不均一触媒の一部であるか或 は一部になる請求の範囲第28項記載の方法。 70. 気相または液相中で実施する請求の範囲第69項記載の方法。 71. 上記錯体が固体状支持体に支持されている不均一触媒の一部であるか 或は一部になる請求の範囲第48項記載の方法。 72. 気相または液相中で実施する請求の範囲第71項記載の方法。
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