JP2002515505A - 硫化オルトホスフェート組成物、それの製法及びそれの使用 - Google Patents

硫化オルトホスフェート組成物、それの製法及びそれの使用

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JP2002515505A JP2000549620A JP2000549620A JP2002515505A JP 2002515505 A JP2002515505 A JP 2002515505A JP 2000549620 A JP2000549620 A JP 2000549620A JP 2000549620 A JP2000549620 A JP 2000549620A JP 2002515505 A JP2002515505 A JP 2002515505A
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    • C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
    • C07F9/02—Phosphorus compounds
    • C07F9/06—Phosphorus compounds without P—C bonds
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    • C07F9/09—Esters of phosphoric acids

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Abstract

(57)【要約】 発明は、アルコキシル化硫黄アルコールオルトホスフェート組成物に関する。発明は、また、アルコキシル化アルコールオルトホスフェート組成物を硫化することによって該組成物を製造する方法にも関する。発明は、更に、該アルコキシル化硫黄アルコールオルトホスフェート組成物の、潤滑用又は洗剤水性配合物における多機能添加剤としての使用に関する。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】 （技術分野） 本発明の主題は、アルコキシル化された硫化アルコールのオルトホスフェート
で形成される組成物、製造プロセス及びそれらの水性潤滑又は洗剤配合物におけ
る多機能添加剤としての使用である。
【０００２】 （背景技術） 苛酷な条件（剪断応力、温度）下で用いられるリン及び硫黄を含む、潤滑用配
合物用添加剤が、数年間開発された。そのような化合物は、潤滑用配合物の耐摩
耗及び腐食防止性能を適当に向上させることを可能にする。このタイプの化合物
の中で、フランス国特許２ ３４２ ９８３号に記載されているものを挙げるこ
とができる。これらの化合物は、モノリン酸の硫化モノエステルである。
【０００３】 これらの化合物の利点をここで疑わないが、それでもこれらの化合物は、水溶
性でないことの不利を示す。よって、それらの使用は、油ベースの潤滑用組成物
における用途について何ら困難を提示しないが、水性配合物において、例えば金
属切削液として使用する場合に、それらを適当な界面活性剤と組み合わせること
が必要である。その作業は、こうしてエマルションの存在において実施される。
しかし、代わりに、環境上の規制が、そのような化合物を使用することを制限す
る傾向になっている。
【０００４】 本発明の目的の内の一つは、これより、水溶性又は水分散性でありかつ特に水
性潤滑流体における使用に適合し得る性質を示すの両方である組成物を提供する
にあり、界面活性剤を加えることが必要でない。
【０００５】 （発明の開示） これより、発明の第一の主題は、下記： （ｉ）（Ｉ）式： （Ｒ1−Ｏ）3−Ｐ＝Ｏ ［式中、Ｒ1ラジカルは、同じであり又は異なり、下記を表わす： ・Ｒ1ラジカルの内の少なくとも１つは、Ｒ1−（Ｏ−Ｘ）n− （式中、Ｒ1は、水素原子又は炭素原子１〜３０を含む飽和もしくは不飽和の、
線状、枝分れもしくは環状炭化水素質ラジカルであり、 Ｘは、炭素原子２〜４を含む線状又は枝分れアルキレンラジカルであり、 ｎは、平均値１〜１００、好ましくは２〜５０を有する） ラジカルを表わし、 ・水素原子、 ・炭素原子１〜３０を含む飽和もしくは不飽和の、線状、枝分れもしくは環状
炭化水素質ラジカル ・（Ｉ）式の化合物の分子のＲ1ラジカルの内の少なくともつは、Ｓ−Ｃ結合
を用いて１つ又はそれ以上のモノ−又はポリスルフィドブリッジを経て（Ｉ）式
の化合物の別の分子のＲ1ラジカルに接続される］ の少なくとも１種の化合物又はこの化合物の塩を含み； （ｉｉ）かつ硫黄のレベル１〜５０重量％の範囲を示す ことを含むアルコキシル化された硫化オルトホスフェート組成物（ＳＯＰＣ）で
ある。
【０００６】 発明の別の主題は、下記： −（ＩＩ）式： （Ｒ2−Ｏ）3−Ｐ＝Ｏ ［式中、Ｒ2ラジカルは、同じであり又は異なり、下記を表わす： ・Ｒ2ラジカルの内の少なくとも１つは、Ｒ2−（Ｏ−Ｘ）n− （式中、Ｒ2は、水素原子又は炭素原子１〜３０を含む飽和もしくは不飽和の、
線状、枝分れもしくは環状炭化水素質ラジカルであり、 Ｘは、炭素原子２〜４を含む線状又は枝分れアルキレンラジカルであり、 ｎは、平均値１〜１００、好ましくは２〜５０を有する） ラジカルを表わし、 ・水素原子、 ・炭素原子１〜３０を含む飽和もしくは不飽和の、線状、枝分れもしくは環状
炭化水素質ラジカル］ の少なくとも一種のオルトリン酸化合物又はこの化合物の塩； −Ｒ2−（Ｏ−Ｘ）n−ＯＨ式（式中、Ｒ2、Ｘ及びｎは、上記の定義に一致する
）の少なくとも一種のアルコール； −随意にＲ2−ＯＨ式（式中、Ｒ2は、上記と同じ定義を有する）の少なくとも一
種のアルコール； −及びＲ2−ＯＨ式のアルコールに関して測定したＲ2ラジカルのヨウ素価が１０
〜３００、好ましくは５０〜１２０である を含むオルトホスフェート組成物（ＯＰＣ）の硫化を実施するそのような組成物
の製造方法である。
【０００７】 最後に、本発明の主題は、これらの化合物の水性配合物における添加剤として
の使用である。
【０００８】 発明に従う組成物は、リン及び硫黄の両方を導入しかつ水溶性又は水分散性で
あり、界面活性剤を導入することが必要でないことの利点を示す。
【０００９】 しかし、本発明のその他の利点及び目的は、下記の記述及び例を読む際に一層
明らかに現れるようになると思う。
【００１０】 （好ましい具体例の説明） 前に示した通りに、発明に従う組成物は、（Ｉ）式（Ｒ1−Ｏ）3−Ｐ＝Ｏのオ
ルトホスフェートを含む。
【００１１】 発明の一層特定の実施態様に従えば、Ｒ1ラジカルは、同じに又は異なること
ができ、炭素原子８〜２２を含む線状もしくは枝分れアルキル又はモノ−もしく
はポリ不飽和のアルケニルラジカルであるのが好ましい。そのようなラジカルの
例として、ステアリル、オレイル、リノレイル及びリノレニルラジカルを特に挙
げることができる。
【００１２】 発明に従う（ＳＯＰＣ）組成物は、特に酸又は塩化された形態のオルトリン酸
モノ−又はジエステルの分子、或は随意にオルトリン酸トリエステルの分子で構
成される。それらは、これらの種の混合物で構成されることができることに留意
すべきである。そして、（ＳＯＰＣ）組成物は、オルトリン酸モノ−及びジエス
テルの混合物を含むのが好ましい。発明に従う（ＳＯＰＣ）組成物は、加えて遊
離のリン酸を含むことができる。それが存在する時に、酸又は塩化された形態の
リン酸の含量は、組成物の１０重量％までに相当することができる。
【００１３】 （Ｉ）式のオルトリン酸化合物の塩の中で、元素の周期分類の表のＩＡ、ＩＩ
Ａ、ＩＢ及びＶＩＩＩ欄から現れる金属の塩を挙げることができる。本発明の特
に有利な代わりの形態に従えば、オルトリン酸化合物の塩は、ナトリウム、カリ
ウム、カルシウム、マグネシウム、鉄、銅又は亜鉛塩である。
【００１４】 同様に、適することができる塩の中で、−ＮＲ4＋式（式中、Ｒラジカルは、
同一であり又は同一でなく、水素原子又は炭素原子１〜３０、一層特に炭素原子
１〜１０を含む、随意に１つ又はそれ以上のヒドロキシル基で置換されるアルキ
ルラジカルを表わす）のアンモニウムの塩を挙げることができる。例えば、アン
モニア、メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、イソプロピルアミン、
モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノエチ
ルエタノールアミンに由来するアンモニウム、アミノエチルエタノールアミン、
ジエチルエタノールアミンに由来するアンモニウム又はアミノメチルプロパノー
ルアミンに由来するアンモニウムを挙げることができる。
【００１５】 また、Ｒ1−（Ｏ−Ｘ）n−ＯＨ式の少なくとも一種のアルコール及び随意にＲ 1 −ＯＨ式の少なくとも一種のアルコール（式中、Ｒ1、Ｘ及びｎは、（Ｉ）式に
従って規定したものである）５０重量％までを該（ＳＯＰＣ）組成物中に存在さ
せることもできる。
【００１６】 加えて、Ｒ1ラジカルは、随意に、上述したアルコール中に存在する他のＲ1ラ
ジカルに或は代わりに（Ｉ）式のオルトリン酸化合物中に存在するＲ1ラジカル
にＳ−Ｃ結合を用いた１つ又はそれ以上のモノ−又はポリスルフィドブリッジを
介して接続することができることに留意すべきである。
【００１７】 発明の第二の主題は、硫化オルトホスフェート組成物（ＳＯＰＣ）を調製する
ことを可能にするプロセスである。
【００１８】 プロセス該プロセスは、下記： −（ＩＩ）式： （Ｒ2−Ｏ）3−Ｐ＝Ｏ ［式中、Ｒ2ラジカルは、同じであり又は異なり、下記を表わす： ・Ｒ2ラジカルの内の少なくとも１つは、Ｒ2−（Ｏ−Ｘ）n− （式中、Ｒ2は、水素原子又は炭素原子１〜３０を含む飽和もしくは不飽和の、
線状、枝分れもしくは環状炭化水素質ラジカルであり、 Ｘは、炭素原子２〜４を含む線状又は枝分れアルキレンラジカルであり、 ｎは、平均値１〜１００、好ましくは２〜５０を有する） ラジカルを表わし、 ・水素原子、 ・炭素原子１〜３０を含む飽和もしくは不飽和の、線状、枝分れもしくは環状
炭化水素質ラジカル］ の少なくとも一種のオルトリン酸化合物又はこの化合物の塩； −Ｒ2−（Ｏ−Ｘ）n−ＯＨ式（式中、Ｒ2、Ｘ及びｎは、上記の定義に一致する
）の少なくとも一種のアルコール； −随意にＲ2−ＯＨ式（式中、Ｒ2は、上記したのと同じ定義である）の少なくと
も一種のアルコール； −及びＲ2−ＯＨ式のアルコールに関して測定したＲ2ラジカルのヨウ素価が１０
〜３００、好ましくは５０〜１２０である を含むオルトホスフェート組成物（ＯＰＣ）の硫化を実施することに在る。
【００１９】 発明の一層特定の実施態様に従えば、Ｒ2ラジカルは、同じであり又は異なり
、炭素原子８〜２２を含む線状もしくは枝分れアルキル又はモノ−もしくはポリ
不飽和のアルケニルラジカルである。例として、ステアリル、オレイル、リノレ
イル及びリノレニルラジカルを挙げることができる。
【００２０】 硫化すべき（ＯＰＣ）組成物は、酸又は塩化された形態のモノエステル又はジ
エステルの分子、或は随意にトリエステルの分子或は代わりにこれらの種の内の
いくつかの混合物の分子で構成されることができる。（ＯＰＣ）組成物は、酸又
は塩化された形態のモノエステル及びジエステルの混合物を示すのが好ましい。
【００２１】 該（ＯＰＣ）組成物は、加えてリン酸を、酸又は塩化された形態で組成物の１
０重量％までに相当する量で含むことができる。
【００２２】 （ＩＩ）式のオルトリン酸化合物の塩の中で、元素の周期分類の表のＩＡ、Ｉ
ＩＡ、ＩＢ及びＶＩＩＩ欄から現れる金属の塩を挙げることができる。本発明の
特に有利な代わりの形態に従えば、オルトリン酸化合物の塩は、ナトリウム、カ
リウム、カルシウム、マグネシウム、鉄、銅又は亜鉛塩である。
【００２３】 同様に、適することができる塩の中で、−ＮＲ4＋式（式中、Ｒラジカルは、
同一であり又は同一でなく、水素原子又は炭素原子１〜１０、一層特に炭素原子
１〜６を含む、随意に１つ又はそれ以上のヒドロキシル基で置換されるアルキル
ラジカルを表わす）のアンモニウムの塩を挙げることができる。例えば、アンモ
ニア、トリメチルアミン、トリエチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノ
ールアミン、トリエタノールアミンに由来するアンモニウム、アミノエチルエタ
ノールアミンに由来するアンモニウム又はアミノメチルプロパノールアミンに由
来するアンモニウムを挙げることができる。
【００２４】 その上に、硫化すべき組成物は、Ｒ2−（Ｏ−Ｘ）n−ＯＨ式の少なくとも一種
のアルコール及び随意にＲ2−ＯＨ式の少なくとも一種のアルコールを含む。こ
れらのアルコールの含量は、該組成物の５０重量％までに相当することができる
。
【００２５】 硫化作業は、硫黄の助けにより不活性雰囲気下で、随意に硫化触媒の存在にお
いて既知の方法で実施する。
【００２６】 採用する硫黄の量は、（ＯＰＣ）１００重量部当たり大概１〜５０重量部であ
る。
【００２７】 温度は、１５０°〜２００℃程度であるのが慣用である。
【００２８】 当業者ならば、作業の期間を困難なく決めることができる。例示として、それ
は、およそ１〜４時間である。
【００２９】 この硫化方法は、特にトリグリセリドの硫化について当業者に良く知られてい
る（Ｋｉｒｋ−Ｏｔｈｍｅｒ，Ｅｎｃｙｃｌｏｐｅｄｉａ ｏｆ Ｃｈｅｍｉｃ
ａｌ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ、第３版、２２巻、２５８頁）。
【００３０】 発明の主題を形成する硫化オルトホスフェート組成物（ＳＯＰＣ）を調製する
のに良く適したオルトホスフェート組成物（ＯＰＣ）は、Ｒ2−（Ｏ−Ｘ）n−Ｏ
Ｈ式（式中、Ｒ2、Ｘ及びｎは、前に挙げたのと同じ意味を有する）の少なくと
も一種のアルコールのリン酸塩化（ｐｈｏｓｐｈａｔｉｏｎ）から生じるもので
ある。
【００３１】 特定の実施態様に従えば、該アルコールは、Ｒ2−ＯＨ式のアルコールのアル
コキシル化から生じる。
【００３２】 一層特に、Ｒ2ラジカルは、同じであり又は異なり、炭素原子８〜２２を含む
線状もしくは枝分れアルキル又はモノ−もしくはポリ不飽和のアルケニルラジカ
ルである。そのようなラジカルの例として、ステアリル、オレイル、リノレイル
及びリノレニルラジカルを特に挙げることができる。
【００３３】 加えて、Ｒ2−ＯＨ式のアルコールに関して測定したＲ2ラジカルのヨウ素価は
、一層特に１０〜３００、好ましくは５０〜１２０である。
【００３４】 上に示した少なくとも一種のアルコールとＲ2−ＯＨ式（式中、Ｒ2は、上に挙
げたのと同じ意味を有する）の少なくとも一種の他のアルコールとを含む混合物
に関してリン酸塩化反応を実施することは、本発明の範囲から逸脱しないことに
留意すべきである。
【００３５】 そのような場合に、初めの（Ｒ2−（Ｏ−Ｘ）n−ＯＨ）に対する後者のアルコ
ール（Ｒ2−ＯＨ）の割合は、リン酸塩化及び硫化反応の後に、（Ｉ）式に一致
する硫化オルトホスフェート化合物に到達することを可能にするようにする。
【００３６】 一層特に、リン酸塩化すべき組成物中のＲ2−ＯＨ式のアルコールの含量は、
上述したアルコールの２つのタイプの混合物の２０重量％よりも多くに相当しな
いようにする。
【００３７】 リン酸塩化方法は、当業者に良く知られており、そういうわけで、取り分け、
ＦＲ出願１ ４４６ ８８４及びＥＰ出願６７５ ０７６を参照するのがよい。
【００３８】 発明の主題を形成する硫化オルトホスフェート組成物（ＳＯＰＣ）は、それら
が水溶性又は水分散性であることから、種々の用途で使用ことができる。加えて
、それらは、潤滑用用途（リン及び硫黄の接合寄与）について所望される特徴を
示すが、それらは、また、有利な界面活性も有する。
【００３９】 これより、有利なことに、それらは、特に水性媒体中で潤滑組成物において多
機能添加剤として用いることができる。
【００４０】 例えば、それらは、取り分け冶金において使用することを意図する水性潤滑配
合物において耐摩耗、極圧及び腐食防止添加剤として用いるならば、有利である
。金属切削液は、このタイプの用途の例示である。
【００４１】 そのような場合に、該剤は、該配合物の質量により０．５〜５０％に相当する
のが普通である。
【００４２】 これらの配合物は、また、その他の慣用の極圧、耐摩耗、腐食防止、表面活性
、酸化防止、殺生、制細菌性剤又は殺カビ性添加剤、等も含むことができる。
【００４３】 最後に、発明に従う硫化オルトホスフェート組成物（ＳＯＰＣ）は、有利なこ
とに、工業用洗剤又は家庭用洗剤において使用することを意図する水性潤滑配合
物において界面活性剤として利用できることができる。
【００４４】 発明の具体的であるが、制限しない例を今提示することにする。
【００４５】 例 エトキシル化脂肪アルコールＲ’−（Ｏ−ＣＨ2−ＣＨ2）5−ＯＨ（エトキシ
ル化単位を平均で５含むステアリル、オレイル、リノレイル及びリノレニルアル
コールをベースにする）の混合物であって、アルコールの該混合物は、Ｒ’ラジ
カルに関して計算してヨウ素価７０〜７５を示すものをリン酸塩化することから
誘導される商用のアルコキシル化アルキルオルトホスフェート組成物（ＯＰＣ）
Ｒｈｏｄａｆａｃ ＰＡ ３５（登録商標）（Ｒｈｏｄｉａ Ｃｈｉｍｉｅによ
り販売されている）を用いる。 この（ＯＰＣ）組成物のＮＭＲ（核磁気共鳴）分析は、下記の情報を与える：
【００４６】
【表１】
【００４７】 ＯＰＣ組成物９５ｇを、櫂形攪拌機を装備した０．２リットルガラス反応装置
に導入し、加熱して１４０℃にする。
【００４８】 次いで、硫黄５ｇを加える。
【００４９】 混合物を加熱して１５０℃にし、次いで、不活性雰囲気下で温度１８０℃程度
に保つ（系の発熱により）。
【００５０】 形成されたＨ2Ｓ及び未反応硫黄を、空気に同伴させることによって除く。
【００５１】 硫黄レベル２．５重量％を示す硫化されたエトキシル化アルコールのオルトホ
スフェートで形成される組成物（ＳＯＰＣ）９７．５ｇが得られる。
【００５２】 この硫化組成物（ＳＯＰＣ）のＮＭＲ（核磁気共鳴）分析は、下記の情報を与
える：
【００５３】
【表２】
【００５４】 （ＳＯＰＣ）組成物のＲ’鎖当たりの平均不飽和数が（ＯＰＣ）組成物に比べ
て小さいことは、（ＳＯＰＣ）組成物中に硫黄ブリッジが存在することの証拠で
ある。
【００５５】 出発Ｒｈｏｄａｆａｃ ＰＡ ３５（ＯＰＣ）組成物及び「硫化された」Ｒｈ
ｏｄａｆａｃ ＰＡ ３５（ＳＯＰＣ）組成物の潤滑用配合物用多機能添加剤の
それぞれの性質を、水性媒体中でのＦａｌｅｘ極圧（ＡＳＴＭ Ｄ３２３３−８
６）及び耐摩耗（ＡＳＴＭ Ｄ２６７０−８８）テスト並びにＤＩＮ ５１３６
０／２腐食防止テストを用いて比較する。
【００５６】１）水性媒体中での極圧及び摩耗テスト テストすべき（ＯＰＣ）又は（ＳＯＰＣ）組成物を水に異なる濃度で溶解し（
テスト１及び２を参照）、次いでトリエタノールアミン「ＴＥＡ」で中和する。
【００５７】 次いで、極圧及び摩耗テストを、上記の規格に従い、加熱しないで実施する。
【００５８】２）水性媒体中での腐食防止テスト テストすべき（ＯＰＣ）又は（ＳＯＰＣ）組成物を３重量％で溶解し、次いで
トリエタノールアミン３％で中和する。
【００５９】 次いで、腐食防止テストを、上記の規格に従って実施する。
【００６０】 得られた結果は、表１及び２に現れる。
【００６１】 これらの結果の分析は、（ＳＯＰＣ）組成物が、（ＯＰＣ）組成物に比べて下
記を示すことを示す： 水性媒体中であろうと油中であろうと、低い濃度で、極圧添加剤としての性質
が向上され、 極めて低い濃度で、耐摩耗剤としての性質が大きく向上され、 腐食防止剤としての性質が同等である。
【００６２】
【表３】
【００６３】
【表４】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ１０Ｍ 173/02 Ｃ１０Ｍ 173/02 Ｃ１１Ｄ 1/34 Ｃ１１Ｄ 1/34 //(Ｃ１０Ｍ 173/02 (Ｃ１０Ｍ 173/02 137:02 137:02 137:08 137:08 137:10） 137:10） Ｃ１０Ｎ 30:06 Ｃ１０Ｎ 30:06 30:12 30:12 40:20 40:20 60:10 60:10 (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ， ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，Ｉ Ｔ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＭＬ，ＭＲ， ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，ＧＭ，ＫＥ，Ｌ Ｓ，ＭＷ，ＳＤ，ＳＺ，ＵＧ，ＺＷ)，ＥＡ(ＡＭ，ＡＺ ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ，ＲＵ，ＴＪ，ＴＭ)，ＡＬ ，ＡＭ，ＡＴ，ＡＵ，ＡＺ，ＢＡ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ， ＢＹ，ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ，ＣＵ，ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ，Ｅ Ｅ，ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ，ＧＥ，ＧＨ，ＧＭ，ＧＷ，ＨＵ ，ＩＤ，ＩＬ，ＩＳ，ＪＰ，ＫＥ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ， ＫＺ，ＬＣ，ＬＫ，ＬＲ，ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ，Ｍ Ｄ，ＭＧ，ＭＫ，ＭＮ，ＭＷ，ＭＸ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ ，ＰＴ，ＲＯ，ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ， ＳＬ，ＴＪ，ＴＭ，ＴＲ，ＴＴ，ＵＡ，ＵＧ，ＵＳ，Ｕ Ｚ，ＶＮ，ＹＵ，ＺＷ Ｆターム(参考） 4D077 AA10 AB10 AC10 BA01 BA03 BA07 BA13 DC02X DC02Y DC03X DC03Y DC14Z DC51X DC51Y DC51Z DC67X DC67Y DC67Z DC73Z DD32Z DD33Z DE02X DE02Y DE02Z DE03X DE03Y DE03Z DE07X DE07Y DE07Z DE08Y DE08Z DE28X DE28Y DE28Z DE32X DE32Y DE32Z 4H003 AB39 BA12 DA01 DA02 DA05 DA14 DA15 DA17 ED02 FA15 4H050 AA02 AA03 AB61 AB70 AC60 BB61 BC31 BE90 4H104 BH06C BH07C BH08C FA01 FA02 FA08 LA03 LA06 QA01

Claims (20)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 下記： （ｉ）（Ｉ）式： （Ｒ1−Ｏ）3−Ｐ＝Ｏ ［式中、Ｒ1ラジカルは、同じであり又は異なり、下記を表わす： ・Ｒ1ラジカルの内の少なくとも１つは、Ｒ1−（Ｏ−Ｘ）n− （式中、Ｒ1は、水素原子又は炭素原子１〜３０を含む飽和もしくは不飽和の、
    線状、枝分れもしくは環状炭化水素質ラジカルであり、 Ｘは、炭素原子２〜４を含む線状又は枝分れアルキレンラジカルであり、 ｎは、平均値１〜１００、好ましくは２〜５０を有する） ラジカルを表わし、 ・水素原子、 ・炭素原子１〜３０を含む飽和もしくは不飽和の、線状、枝分れもしくは環状
    炭化水素質ラジカル ・（Ｉ）式の化合物の分子のＲ1ラジカルの内の少なくともつは、Ｓ−Ｃ結合
    を用いて１つ又はそれ以上のモノ−又はポリスルフィドブリッジを経て（Ｉ）式
    の化合物の別の分子のＲ1ラジカルに接続される］ の少なくとも１種の化合物又はこの化合物の塩を含み； （ｉｉ）かつ硫黄のレベル１〜５０重量％の範囲を示す ことを特徴とする硫化オルトホスフェート組成物（ＳＯＰＣ）。
  2. 【請求項２】 Ｒ1ラジカルが、同じであり又は異なり、炭素原子８〜２２
    を含む線状もしくは枝分れアルキル又はアルケニルラジカルであることを特徴と
    する請求項１の硫化オルトホスフェート組成物（ＳＯＰＣ）。
  3. 【請求項３】 Ｒ1ラジカルが、同じであり又は異なり、ステアリル、オレ
    イル、リノレイル及びリノレニルラジカルから選ぶことを特徴とする請求項１及
    び２のいずれかの組成物。
  4. 【請求項４】 酸又は塩化された形態のオルトリン酸モノ−又はジエステル
    、或は随意にオルトリン酸トリエステル或はこれらの種の混合物の分子で構成さ
    れることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一の硫化オルトホスフェート組成
    物（ＳＯＰＣ）。
  5. 【請求項５】 リン酸を、酸又は塩化された形態で組成物の１０重量％まで
    に相当する量で含むことを特徴とする請求項１〜４のいずれか一の硫化オルトホ
    スフェート組成物（ＳＯＰＣ）。
  6. 【請求項６】 （Ｉ）式のオルトリン酸化合物が、元素の周期分類の表のＩ
    Ａ、ＩＩＡ、ＩＢ及びＶＩＩＩ欄から現れる金属の塩の形態であり又は−ＮＲ4
    ＋式（式中、Ｒラジカルは、同一であり又は同一でなく、水素原子又は炭素原子
    １〜３０を含む、随意に１つ又はそれ以上のヒドロキシル基で置換されるアルキ
    ルラジカルを表わす）のアンモニウムの塩の形態であることを特徴とする請求項
    １〜５のいずれか一の硫化オルトホスフェート組成物（ＳＯＰＣ）。
  7. 【請求項７】 Ｒ1−（Ｏ−Ｘ）n−ＯＨ式の少なくとも一種のアルコール及
    び随意にＲ1−ＯＨ式の少なくとも一種のアルコール（式中、Ｒ1、Ｘ及びｎは、
    （Ｉ）式に従って規定したものである）を５０重量％まで含み、Ｒ1ラジカルは
    、随意に、上述したアルコール中に存在する他のＲ1ラジカルに或は代わりに（
    Ｉ）式のオルトリン酸化合物中に存在するＲ1ラジカルにＳ−Ｃ結合を用いて１
    つ又はそれ以上のモノ−又はポリスルフィドブリッジを経て接続することが可能
    であることを特徴とする請求項１〜６のいずれか一の硫化オルトホスフェート組
    成物（ＳＯＰＣ）。
  8. 【請求項８】 下記： −（ＩＩ）式： （Ｒ2−Ｏ）3−Ｐ＝Ｏ ［式中、Ｒ2ラジカルは、同じであり又は異なり、下記を表わす： ・Ｒ2ラジカルの内の少なくとも１つは、Ｒ2−（Ｏ−Ｘ）n− （式中、Ｒ2は、水素原子又は炭素原子１〜３０を含む飽和もしくは不飽和の、
    線状、枝分れもしくは環状炭化水素質ラジカルであり、 Ｘは、炭素原子２〜４を含む線状又は枝分れアルキレンラジカルであり、 ｎは、平均値１〜１００、好ましくは２〜５０を有する） ラジカルを表わし、 ・水素原子、 ・炭素原子１〜３０を含む飽和もしくは不飽和の、線状、枝分れもしくは環状
    炭化水素質ラジカル］ の少なくとも一種のオルトリン酸化合物又はこの化合物の塩； −Ｒ2−（Ｏ−Ｘ）n−ＯＨ式（式中、Ｒ2、Ｘ及びｎは、上記の定義に一致する
    ）の少なくとも一種のアルコール； −随意にＲ2−ＯＨ式（式中、Ｒ2は、上記したのと同じ定義である）の少なくと
    も一種のアルコール； −及びＲ2−ＯＨ式のアルコールに関して測定したＲ2ラジカルのヨウ素価が１０
    〜３００、好ましくは５０〜１２０である を含むオルトホスフェート組成物（ＯＰＣ）の硫化を実施することを特徴とする
    請求項１〜７のいずれか一の硫化オルトホスフェート組成物（ＳＯＰＣ）の製造
    方法。
  9. 【請求項９】 前記（ＯＰＣ）組成物において、Ｒ2ラジカルが、同じであ
    り又は異なり、炭素原子８〜２２を含む線状もしくは枝分れアルキル又はモノ−
    もしくはポリ不飽和のアルケニルラジカルであることを特徴とする請求項８の方
    法。
  10. 【請求項１０】 Ｒ2ラジカルが、同じであり又は異なり、ステアリル、オ
    レイル、リノレイル及びリノレニルラジカルから選ぶことを特徴とする請求項９
    の方法。
  11. 【請求項１１】 硫化すべき（ＯＰＣ）組成物が、酸又は塩化された形態の
    モノエステル又はジエステル、或は随意にトリエステル或は代わりにこれらの種
    の内のいくつかの混合物の分子で構成されることを特徴とする請求項８〜１０の
    内の一の方法。
  12. 【請求項１２】 前記（ＯＰＣ）組成物が、加えてリン酸を、酸又は塩化さ
    れた形態で組成物の１０重量％までに相当する量で含むことを特徴とする請求項
    ８〜１１のいずれか一の方法。
  13. 【請求項１３】 （ＩＩ）式の化合物オルトリン酸化合物が、元素の周期分
    類の表のＩＡ、ＩＩＡ、ＩＢ及びＶＩＩＩ欄から現れる金属の塩の形態であり又
    は−ＮＲ4＋式（式中、Ｒラジカルは、同一であり又は同一でなく、水素原子又
    は炭素原子１〜３０を含む、随意に１つ又はそれ以上のヒドロキシル基で置換さ
    れるアルキルラジカルを表わす）のアンモニウムの塩の形態であることを特徴と
    する請求項８〜１２のいずれか一の方法。
  14. 【請求項１４】 オルトホスフェート組成物（ＯＰＣ）が、また、Ｒ2−（
    Ｏ−Ｘ）n−ＯＨ式の少なくとも一種のアルコール及び随意にＲ2−ＯＨ式の少な
    くとも一種のアルコール（式中、Ｒ2、Ｘ及びｎは、（ＩＩ）式に従って規定し
    たものである）を５０重量％まで含むことを特徴とする請求項８〜１３のいずれ
    か一の方法。
  15. 【請求項１５】 硫化作業を硫黄の助けにより不活性雰囲気下で実施するこ
    とを特徴とする請求項８〜１４のいずれか一の方法。
  16. 【請求項１６】 硫化触媒を採用することを特徴とする請求項１５の方法。
  17. 【請求項１７】 採用する硫黄の量が、（ＯＰＣ）組成物１００重量部当た
    り１〜５０重量部であることを特徴とする請求項１５及び１６のいずれか一の方
    法。
  18. 【請求項１８】 請求項１〜７の一に規定する通りの、又は請求項８〜１７
    のいずれか一に記載する通りの方法を用いることによって得られることができる
    硫化オルトホスフェート組成物（ＳＯＰＣ）を耐摩耗、極圧及び腐食防止添加剤
    として含むことを特徴とする水性潤滑用組成物。
  19. 【請求項１９】 前記配合物を質量により０．５〜５０％含むことを特徴と
    する請求項１８の水性潤滑用組成物。
  20. 【請求項２０】 請求項１〜７の一に規定する通りの、又は請求項８〜１７
    のいずれか一に記載する通りの方法を用いることによって得られることができる
    硫化オルトホスフェート組成物（ＳＯＰＣ）を界面活性剤として含む、工業用洗
    剤又は家庭用洗剤として用いることができる水性組成物。
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