JP2002513848A - 色相体を回避するための中間留出物の多段水素化処理法 - Google Patents

色相体を回避するための中間留出物の多段水素化処理法

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JP2002513848A JP2000547185A JP2000547185A JP2002513848A JP 2002513848 A JP2002513848 A JP 2002513848A JP 2000547185 A JP2000547185 A JP 2000547185A JP 2000547185 A JP2000547185 A JP 2000547185A JP 2002513848 A JP2002513848 A JP 2002513848A
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Abstract

(57)【要約】 中間石油留出物を2つの温度ステージにおいて水素化処理する処理方法を開示する。原料(11)は、約360〜約450℃の温度で運転される2つ以上の第1温度ステージにおいて水素化処理される。第1温度ステージの反応生成物(13)を約260〜約350℃の温度に急冷し、硫化水素、アンモニアおよびその他の溶存ガスをストリップし、反応生成物(17)を該急冷温度範囲で運転される第2温度ステージに送る。第2温度ステージの生成物からもストリッピングゾーン(16b)において溶存ガスをストリップする。より温度の高い第1ステージで生成した色相体は、最後のステージにおいて水素化される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】 本発明の分野 本発明は、中間石油留出物を2段の温度ステージにて水素化処理するための処
理方法に関する。原料流は、約360〜約450℃の温度で運転される2つ以上
の第1温度ステージにおいて水素化処理される。第1温度ステージの反応生成物
は、約260〜約350℃の温度に急冷され、HS、NHおよび他の溶存ガ
スをストリップし、前記急冷温度範囲で運転される第2温度ステージへと送られ
る。この第2温度ステージの生成物からも溶存ガスがストリップされる。より温
度の高い第1ステージで生成する色相体は、最後のステージにおいて水素化され
る。
【0002】 本発明の背景 石油精製業者は、環境に有害となる可能性のある成分を生成物から除去するた
めの改良された処理方法を引き続き必要としている。ディーゼル燃料、あるいは
中間留出物などの燃料製品は、絶えず厳しくなる硫黄および窒素成分などのヘテ
ロ原子のレベルに関する政府の規制に適合しなくてはならない製品の代表である
。例えば、ディーゼル燃料を製造するための原料は、通常約1〜2重量%あるい
はそれ以上の硫黄を含有するが、政府の規制を満たすためには、最終燃料製品は
、約0.05重量%を越える硫黄を含有してはならず、さらに近々、約0.00
5重量%を越える硫黄を含有してはならないであろう。
【0003】 高過酷度の処理により、硫黄および窒素成分のレベルを0.05重量%以下に
減少させることはできるが、斯かる処理で用いられる高温のため、色相に劣る燃
料が製造される。これは、主に、高温において縮合および脱水素などの望ましく
ない反応が生じ、黒っぽい色相の、除去が大変困難である成分が生じるからであ
る。
【0004】 硫黄および窒素含有量は低いが最終燃料製品に関するASTM色相品質を満足
する中間留出物に対する需要を満たすために、より活性の高い触媒および改良さ
れたプロセス設計を開発すべく、多大の努力が払われている。色相品質を良好に
保つかどうかに関わらず、中間留出物におけるヘテロ原子のレベルを低下させる
ために、様々なプロセスシナリオが提案されている。例えば、特開平3−867
93号公報では、硫黄含有量が0.2重量%以下のディーゼルガスオイルの製造
のための2段水素化処理方法が教示されている。第1段は、約280〜約370
℃の温度と約10〜40kg/cmの圧力が必要とされる。第2段は、約15
0〜約325℃の温度と第1段同様の圧力が必要とされる。斯かる2段処理方法
により、硫黄の含有量が充分低く、且つ色相基準を満たすような製品を製造する
ことは困難である。
【0005】 また、米国特許第4、755、280号には、炭化水素化合物の色相および酸
化安定性を向上させるための2段水素化処理方法が教示されており、鉄型触媒が
第2段において使用されている。しかし、鉄型触媒の水素化処理活性は、硫化水
素により容易に低下することが知られている。したがって、第2段へと供給され
る原料中に存在する硫黄および窒素化合物の量は、10wppmという非経済的
なレベルにまで低下させなくてはならない。
【0006】 さらに米国特許第3、841、995号によれば、炭化水素化合物の色相およ
び臭気向上のための2段水素化処理方法が提案されている。しかし、この処理方
法においては、プラチナ触媒のような貴金属触媒が第2段で使用されており、触
媒の水素化処理活性は硫黄成分によって容易に低下する。
【0007】 欧州特許第0523679A2号は、色相特性の優れた低硫黄ディーゼルガス
オイルを製造するための2段処理方法を教示している。第1段は、水素化処理触
媒の存在下、約350〜約450℃の温度と約45〜100kg/cmの圧力
で処理され、第2段は、約200〜約300℃の温度および約45〜100kg
/cmの圧力で処理される。
【0008】 その他のプロセス構成としては、単一の反応容器、あるいは別々の反応容器に
おける複数反応段の使用があげられる。ヘテロ原子成分の濃度が順々に低下する
ため、硫黄に対する感受性のより高い触媒を下流側で使用することができる。欧
州特許第93200165.4号は、単一の反応容器において行われる2段水素
化処理方法を教示しているが、各反応ゾーンからの液体反応流に対する独特のス
トリッピング配置に関する示唆はなく、また第2段での水素化処理に先立って第
1段からの流出液を急冷するという示唆もない。
【0009】 留出物原料のヘテロ原子含有量を減少させることに関し、かなりの量の技術が
存在するものの、ヘテロ原子含有量が低く、色相の規格が許容範囲にある中間留
出物を製造しうる改良プロセスに対する需要は依然として存在する。
【0010】 本発明の概要 本発明によれば、以下の工程(a)〜(g)を含むことを特徴とするヘテロ原
子を含有する中間留出物原料からヘテロ原子を除去するための処理方法が提供さ
れる。 (a)水素化処理触媒を含む第1温度ステージにおいて、ワンススルー水素含 有処理ガスと下流温度ステージからのリサイクル処理ガスとからなる処 理ガスの存在下に、約360〜約450℃の温度を含む水素化処理条件 で、液体成分と蒸気成分とからなる反応生成物を製造するように、前記 原料を水素化処理する工程 (b)前記反応生成物が、約260〜約350℃の温度へ急冷される工程 (c)前記蒸気成分から前記液体成分を分離する工程 (d)第1ストリッピングゾーンにおいて、前記液体成分から溶存ガス状物質 をストリップする工程 (e)水素化処理触媒を含む第2温度ステージにおいて、フレッシュ水素含有 ガスの存在下に、約260〜約350℃の温度を含む水素化処理条件で 、液体成分と蒸気成分とからなる反応生成物を製造するように、工程( d)の前記ストリップされた液体成分を水素化処理する工程 (f)前記蒸気成分から前記液体成分を分離する工程 (g)第2ストリッピングゾーンにおいて、前記液体成分から溶存ガス状物質 をストリップする工程
【0011】 本発明の好ましい実施態様においては、2つ以上の第2温度ステージが存在し
、この第2温度ステージは、不活性耐火物担体材料上に担持されたNiMoから
なる触媒を含む。
【0012】 本発明の詳細な説明 本発明の水素化処理に適した原料流は、当該分野で「中間留出物」と呼ばれて
いるものであり、通常、硫黄および窒素などの望ましくないヘテロ原子を含有し
ている。このような流れは、通常、約150〜約400℃の範囲に沸点を持ち、
原油の蒸留により得られる物、流動接触分解生成物の分留により得られる留出物
、熱分解油の分留により得られる留出物、およびそれらの混合物である。このよ
うな原料の例としては、これに限定される訳ではないが、ディーゼル燃料、ジェ
ット燃料および暖房用オイル類が挙げられる。現代の環境基準に合うように、こ
の中間留出物中に含有される望ましくないレベルのヘテロ原子は、最終燃料製品
の色相に悪影響を与えることなく、除去されねばならない。本発明の処理方法に
より、ヘテロ原子成分の含有量が低く、さらに色相品質を満たすような燃料製品
、好ましくは留出燃料製品を製造することができる。これは、プロセスのコスト
を大幅に引き上げる過度に高い圧力を必要とせずに実施される。
【0013】 本発明の処理方法は、ここに掲載する図1(2つの温度ステージ10aと10
bを持つ単一反応器が示されている)に示す好ましい実施態様の説明を通じて一
層容易に理解することができる。雑多な反応容器のインターナル、バルブ、ポン
プ、熱電対、および熱伝達装置などは、簡略化のため図面には示されていない。
各反応ステージの下流には、気/液分離手段12aおよび12bが設けられてい
る。第1温度ステージからの生成物流は、気/液分離手段12aの上流で冷却さ
れる(3で示す)。流れ分配手段14aと14bも、各反応ステージの上流に設
けられている。ストリッピング容器2には、2つのストリッピングゾーン16a
と16b、および気/液分離手段18が含まれている。このストリッピングゾー
ンは、単一の容器内にある必要はない。ただ1つの温度ステージからの反応生成
物からガス状の不純物を除去するために各ストリッピングゾーンが使用される限
り、各ストリッピングステージには、それぞれ別の容器を使用することができる
【0014】 このストリッピング容器は、向流モードで運転され、上方へ昇るストリッピン
グガス、好ましくは水蒸気は、ライン20を通じてストリッピング容器に導入さ
れ、両ストリッピングゾーンを上方へと通過し、一方、液体反応生成物は、各ス
トリッピングゾーンを下向きに流れる。向流するストリッピングガスは、下方へ
と流れる液体から、殆どの燃料製品において望ましくないと考えられているH SおよびNHなどの溶存ガス状不純物を除去する上で役立つ。ストリッピング
ゾーンに、このストリッピングゾーンのストリッピング能力を強化するような適
当な固体ストリッピング媒体が設けられていることが好ましい。好ましいストリ
ッピング媒体としては、溶存ガスの液体からの分離を促進するに十分な広い表面
積を持つものがあげられる。適当なストリッピング媒体の例をあげると、これら
に限定するわけではないが、水素化処理分野の当業者にとってよく知られている
従来構造のパッキングを詰めた充填層およびトレイなどが挙げられる。
【0015】 本発明の処理方法は、図1に関しては、ライン11を通じて第1温度ステージ
10aの触媒床の上方に中間留出物原料を供給することによって実施される。こ
の第1温度ステージは、約360〜約450℃の温度で運転される。触媒は、反
応器中で固定床として存在する事が好ましいが、スラリーおよび沸騰床など他の
タイプの触媒配置を用いることも可能である。原料は、反応容器内に導入され、
分配手段14aを用いて、処理ガスと共に反応ステージ10aの触媒床上に沿っ
て分配される。次いで、原料は水素化処理触媒床を通過し、飽和物の水素化、お
よび原料からの硫黄と窒素の除去を含む所望の反応が進行する。原料中の硫黄と
窒素は、HSとNHのようなガス状の生成物へと転化されて除去される。本
発明の実施は、液体分配手段の種類によっていかなる制限も受けないと考えられ
るが、シーブトレー、バブルキャップトレー、あるいはスプレーノズル、チムニ
ーおよびチューブ付きのトレーなどのトレー配置が好ましい。
【0016】 反応生成物および下方に流れる処理ガスは、ライン13を通って反応容器を出
、約260〜約350℃の温度に急冷される。この急冷により、セパレータ12
a中で中間留出物液を処理ガスから分離することが容易になるばかりでなく、規
格外の着色成分が水素化され、望ましくない着色成分がさらに生成されることの
ない、より望ましいプロセス環境が作り出される。即ち、この第2温度ステージ
に導入される原料は、低いHSおよびNH環境において、色相体の水素添加
に役立つ比較的低い温度で処理されるので、低い温度の第2反応ステージが望ま
しい。蒸気相流出物フラクションは、ライン15によりセパレータ12aから取
り出される。この蒸気相流出物フラクションは集めてもよいが、少なくともその
一部を再循環することが好ましい。再循環に先立ち、この蒸気相流は、HSお
よびNHのような汚染物質を除去すべく洗浄され、圧縮される(図示せず)こ
とが好ましい。液体反応生成物は、ストリッピングステージ16aにライン17
を通じて供給され、上方へ上ってくる水蒸気のようなストリッピングガスと接触
する。先に述べたように、液体とストリッピングガスが接触する表面積を増加さ
せるために、ストリッピングステージがパッキングあるいはトレイなどのストリ
ッピング媒体を含んでいることが好ましい。ストリップされた液体は、気/液セ
パレータ手段18に集められ、ライン19を通じて抜き出され、さらにライン2
1からの適当な水素含有処理ガスと一緒に反応容器1に供給され、分配手段14
bを通じて反応ステージ10bへと送られる。原料流は、この時点で望ましくな
い化学種、特に硫黄および窒素を実質的に減少させている。
【0017】 下方へと流れる処理ガスと下方へと流れる第1反応ステージからのストリップ
された液体は、共に反応ステージ10b中の触媒床を通過し、ストリップされた
液体反応生成物は、所定の水素化処理反応に付される。この触媒床中の触媒は、
第1温度ステージにおける触媒と同じであっても異なっていても良い。この第2
ステージの触媒は、処理された原料流中のヘテロ原子のレベルがより低いため、
また処理ガス中のヘテロ原子種HSおよびNHのレベルが低いため、ヘテロ
原子による不活性化に対してより敏感な高性能触媒であってもよい。第2反応ス
テージ10bからの液体反応生成物は、気/液セパレータ手段12bを通じて分
離され、第2ストリッピングゾーン16bへと送られ、そこを下方に流れ、上方
へ上ってくるストリッピングガスと対向する。ストリッピングゾーン16bから
のストリップされた液体は、ストリッピング容器からライン23を通って取り出
される。両ストリッピングゾーンにおいて液体反応生成物からストリップされた
気体状の成分は、ストリッピング容器からライン25を通って抜き出される。ラ
イン25から出てくる蒸気流出物の一部は、凝縮させてストリッピング容器へと
戻してもよい(図示せず)。
【0018】 この下流反応ステージにおいて幾分高いレベルのヘテロ原子が許容される状況
が起こるかもしれない。例えば、下流反応ステージにおける触媒は、その反応ス
テージで処理されるストリーム中の少量のHSおよびNHに対しては比較的
耐性があるかもしれない。このような場合には、生成物ストリームはフラッシュ
され、蒸気フラクションが塔頂から引き出され、一方液体フラクションが下方か
ら集められるようなセパレータあるいはフラッシュドラムをストリッパーの代わ
りに使用することが望ましいかもしれない。この液体フラクションには、ストリ
ッパーから得られた場合のフラクションよりも幾分高いレベルのHSおよびN
が含有されるであろう。単一ストリッピングステージの代わりに、複数の分
離ステップあるいは装置を使用することは本発明の範囲内のことである。
【0019】 第1温度ステージ中の水素化処理触媒は、耐火性担体に担持された触媒にCo
−Moを含有し、下流反応ステージが耐火性担体に担持された触媒にNi−Mo
を含有することが好ましい。ここで使用する「水素化処理」という用語は、水素
含有処理ガスを、主に硫黄および窒素のようなヘテロ原子の除去および芳香族化
合物の水素化に対して活性を持つ適当な触媒の存在下で使用する処理方法を指す
。本発明で使用される適当な水素化処理触媒としては、従来の水素化処理触媒の
いずれを使用してもよいが、少なくとも1種のVIII属金属、好ましくはFe
、CoおよびNi、より好ましくはCoおよび/またはNi、もっとも好ましく
はCoを、且つ、少なくとも1種のVI属金属、好ましくはMoおよびW、より
好ましくはMoを、アルミナなどの高表面積担体材料上に担持したものが挙げら
れる。その他の適当な水素化処理触媒の例としては、ゼオライト触媒、および貴
金属触媒があげられるが、貴金属とは、PdまたはPtから選択されるものを指
す。同じ反応容器中で1つを超える水素化処理触媒を使用することは、本発明の
範囲内のことである。第VIII属の金属は、通常約2〜20重量パーセントの
範囲で存在し、好ましくは約4〜12重量パーセントで存在する。第VI属金属
は、通常約5〜50重量パーセントの範囲で、好ましくは約10〜40重量パー
セントの範囲、さらに好ましくは約20〜30重量パーセントの範囲で存在する
。すべての金属の重量パーセントは担体ベースである。「担体ベース」とは、パ
ーセントが担体の重量をベースにしているということである。例えば、担体が1
00gであった場合、20重量パーセントの第VIII族金属とは20gの第V
III族金属がこの担体の上に担持されていたということである。
【0020】 「水素含有処理ガス」という用語は、少なくとも所定の反応のために有効量の
水素を含有している処理ガスという意味である。反応容器へと導入される処理ガ
ス流は、少なくとも約50体積%、より好ましくは少なくとも約75体積%の水
素を含有することが好ましいであろう。この水素含有処理ガスは、補給水素リッ
チガス、好ましくは水素、であることが好ましい。
【0021】 原料の性状と所望される品質向上のレベルに応じ、1つを超える温度ゾーンが
第1および/または第2温度ステージを構成してもよい。1つを超える温度ゾー
ンというのは、その温度ステージに対する所定の温度範囲内で、各温度ステージ
が水素化処理触媒を含む1つを超えるゾーンを含み、それが、そのステージの温
度範囲内である限り、同じあるいは異なる温度において運転されることを指す。
例えば、第1温度ステージにおいて2つのゾーンを使用し、各ゾーンは約360
〜約450℃の温度を含む水素化処理条件のもとで運転される。この第1温度ス
テージにおける各ゾーンには、先に記載したように、水素化処理触媒が含まれる
。第2温度ステージは、約260〜約350℃の温度で運転されるが、2つ以上
の温度ゾーンを含んでもよい。つまり、前記温度ステージの温度範囲において運
転される水素化処理触媒を含有する2つ以上の反応ゾーンがあってもよい。この
第2温度ステージの触媒は、NiMo担持水素化処理触媒であることが好ましい
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の実施において使用される、単一容器中に2つの反応ステ
ージを持つ反応容器と、2つのストリッピングゾーンを持つストリッピング容器
を示す。
【手続補正書】
【提出日】平成13年3月1日(2001.3.1)
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正内容】
【特許請求の範囲】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C10G 47/10 C10G 47/10 65/00 65/00 65/02 65/02 65/04 65/04 (81)指定国 EP(AT,BE,CH,CY, DE,DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,I T,LU,MC,NL,PT,SE),OA(BF,BJ ,CF,CG,CI,CM,GA,GN,GW,ML, MR,NE,SN,TD,TG),AP(GH,GM,K E,LS,MW,SD,SL,SZ,UG,ZW),E A(AM,AZ,BY,KG,KZ,MD,RU,TJ ,TM),AL,AU,BA,BB,BG,BR,CA ,CN,CU,CZ,EE,GE,HR,HU,ID, IL,IN,IS,JP,KP,KR,LC,LK,L R,LT,LV,MG,MK,MN,MX,NO,NZ ,PL,RO,SG,SI,SK,SL,TR,TT, UA,UZ,VN,YU,ZA

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 以下の工程(a)〜(g)を含むことを特徴とする、ヘテロ
    原子を含有する中間留出物原料からヘテロ原子を除去するための処理方法。 (a)水素化処理触媒を含む第1温度ステージにおいて、ワンススルー水素含有
    処理ガスと下流温度ステージからのリサイクル処理ガスとからなる処理ガスの存
    在下に、約360〜約450℃の温度を含む水素化処理条件で、液体成分と蒸気
    成分とからなる反応生成物を製造するように、前記原料を水素化処理する工程 (b)前記反応生成物が、約260〜約350℃の温度へ急冷される工程 (c)前記蒸気成分から前記液体成分を分離する工程 (d)第1ストリッピングゾーンにおいて、前記液体成分から溶存ガス状物質を
    ストリップする工程 (e)水素化処理触媒を含む第2温度ステージにおいて、フレッシュ水素含有ガ
    スの存在下に、約260〜約350℃の温度を含む水素化処理条件で、液体成分
    と蒸気成分とからなる反応生成物を製造するように、工程(d)の前記ストリッ
    プされた液体成分を水素化処理する工程 (f)前記蒸気成分から前記液体成分を分離する工程 (g)第2ストリッピングゾーンにおいて、前記液体成分から溶存ガス状物質を
    ストリップする工程
  2. 【請求項2】 前記第1温度ステージに2つ以上の温度ゾーンが存在するこ
    とを特徴とする請求項1に記載のヘテロ原子を含有する中間留出物原料からヘテ
    ロ原子を除去するための処理方法。
  3. 【請求項3】 前記温度ステージのすべてが単一容器内に存在することを特
    徴とする請求項2に記載のヘテロ原子を含有する中間留出物原料からヘテロ原子
    を除去するための処理方法。
  4. 【請求項4】 前記第2温度ステージに2つ以上の温度ゾーンが存在するこ
    とを特徴とする請求項1に記載のヘテロ原子を含有する中間留出物原料からヘテ
    ロ原子を除去するための処理方法。
  5. 【請求項5】 前記温度ステージのすべてが単一容器内に存在することを特
    徴とする請求項4に記載のヘテロ原子を含有する中間留出物原料からヘテロ原子
    を除去するための処理方法。
  6. 【請求項6】 すべての温度ステージの前記水素化処理触媒は、無機耐火物
    担体上に担持された、元素周期律表第VIII属の金属から選ばれる少なくとも
    1種の金属と、第VI属の金属から選ばれる少なくとも1種の金属とを含むこと
    を特徴とする請求項1に記載のヘテロ原子を含有する中間留出物原料からヘテロ
    原子を除去するための処理方法。
  7. 【請求項7】 前記第VIII属金属は、貴金属、鉄、コバルトおよびニッ
    ケルからなる群から選ばれる1種の金属であり、且つ、前記第VI属金属は、モ
    リブデンまたはタングステンから選ばれる1種の金属であることを特徴とする請
    求項6に記載のヘテロ原子を含有する中間留出物原料からヘテロ原子を除去する
    ための処理方法。
  8. 【請求項8】 第1温度ステージの前記触媒は、無機耐火物担体上に担持さ
    れたコバルトおよびモリブデンを含み、且つ、第2温度ステージの前記触媒は、
    無機耐火物担体上に担持されたニッケルおよびモリブデンを含むことを特徴とす
    る請求項7に記載のヘテロ原子を含有する中間留出物原料からヘテロ原子を除去
    するための処理方法。
  9. 【請求項9】 前記ストリッピングゾーンの少なくとも1つは、液体からの
    S、NH、およびその他の溶存ガスの除去を促進するストリッピング媒体
    を含むことを特徴とする請求項1に記載のヘテロ原子を含有する中間留出物原料
    からヘテロ原子を除去するための処理方法。
  10. 【請求項10】 同一容器内に1つより多いストリッピングゾーンが存在す
    ることを特徴とする請求項1に記載のヘテロ原子を含有する中間留出物原料から
    ヘテロ原子を除去するための処理方法。
  11. 【請求項11】 前記液体反応生成物の一部は、ストリッピングに付すこと
    なく、次の下流反応ステージへと送られることを特徴とする請求項1に記載のヘ
    テロ原子を含有する中間留出物原料からヘテロ原子を除去するための処理方法。
JP2000547185A 1998-05-07 1999-04-26 色相体を回避するための中間留出物の多段水素化処理法 Pending JP2002513848A (ja)

Applications Claiming Priority (3)

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US09/074,268 1998-05-07
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