JP2002507494A - ナノチューブ・マトリクス物質の形成方法 - Google Patents

ナノチューブ・マトリクス物質の形成方法

Info

Publication number
JP2002507494A
JP2002507494A JP2000537800A JP2000537800A JP2002507494A JP 2002507494 A JP2002507494 A JP 2002507494A JP 2000537800 A JP2000537800 A JP 2000537800A JP 2000537800 A JP2000537800 A JP 2000537800A JP 2002507494 A JP2002507494 A JP 2002507494A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
nanotube
nanotubes
armchair
electrical device
interconnected
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000537800A
Other languages
English (en)
Inventor
キア シルバーブルック
Original Assignee
キア シルバーブルック
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from AUPP2563A external-priority patent/AUPP256398A0/en
Priority claimed from AUPP2564A external-priority patent/AUPP256498A0/en
Application filed by キア シルバーブルック filed Critical キア シルバーブルック
Publication of JP2002507494A publication Critical patent/JP2002507494A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82NANOTECHNOLOGY
    • B82YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y10/00Nanotechnology for information processing, storage or transmission, e.g. quantum computing or single electron logic
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82NANOTECHNOLOGY
    • B82YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y30/00Nanotechnology for materials or surface science, e.g. nanocomposites
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82NANOTECHNOLOGY
    • B82YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y40/00Manufacture or treatment of nanostructures
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B32/00Carbon; Compounds thereof
    • C01B32/15Nano-sized carbon materials
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B32/00Carbon; Compounds thereof
    • C01B32/15Nano-sized carbon materials
    • C01B32/158Carbon nanotubes
    • C01B32/16Preparation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B32/00Carbon; Compounds thereof
    • C01B32/15Nano-sized carbon materials
    • C01B32/158Carbon nanotubes
    • C01B32/168After-treatment
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C13/00Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00
    • G11C13/02Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00 using elements whose operation depends upon chemical change
    • G11C13/025Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00 using elements whose operation depends upon chemical change using fullerenes, e.g. C60, or nanotubes, e.g. carbon or silicon nanotubes
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K10/00Organic devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching; Organic capacitors or resistors having a potential-jump barrier or a surface barrier
    • H10K10/701Organic molecular electronic devices
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K85/00Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
    • H10K85/20Carbon compounds, e.g. carbon nanotubes or fullerenes
    • H10K85/221Carbon nanotubes
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C2213/00Indexing scheme relating to G11C13/00 for features not covered by this group
    • G11C2213/70Resistive array aspects
    • G11C2213/81Array wherein the array conductors, e.g. word lines, bit lines, are made of nanowires
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2201/00Electrodes common to discharge tubes
    • H01J2201/30Cold cathodes
    • H01J2201/304Field emission cathodes
    • H01J2201/30446Field emission cathodes characterised by the emitter material
    • H01J2201/30453Carbon types
    • H01J2201/30469Carbon nanotubes (CNTs)
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K19/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic element specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching, covered by group H10K10/00
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S977/00Nanotechnology
    • Y10S977/70Nanostructure
    • Y10S977/734Fullerenes, i.e. graphene-based structures, such as nanohorns, nanococoons, nanoscrolls or fullerene-like structures, e.g. WS2 or MoS2 chalcogenide nanotubes, planar C3N4, etc.
    • Y10S977/735Carbon buckyball
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S977/00Nanotechnology
    • Y10S977/70Nanostructure
    • Y10S977/734Fullerenes, i.e. graphene-based structures, such as nanohorns, nanococoons, nanoscrolls or fullerene-like structures, e.g. WS2 or MoS2 chalcogenide nanotubes, planar C3N4, etc.
    • Y10S977/742Carbon nanotubes, CNTs
    • Y10S977/75Single-walled
    • Y10S977/751Single-walled with specified chirality and/or electrical conductivity
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S977/00Nanotechnology
    • Y10S977/84Manufacture, treatment, or detection of nanostructure
    • Y10S977/842Manufacture, treatment, or detection of nanostructure for carbon nanotubes or fullerenes
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S977/00Nanotechnology
    • Y10S977/84Manufacture, treatment, or detection of nanostructure
    • Y10S977/842Manufacture, treatment, or detection of nanostructure for carbon nanotubes or fullerenes
    • Y10S977/844Growth by vaporization or dissociation of carbon source using a high-energy heat source, e.g. electric arc, laser, plasma, e-beam
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S977/00Nanotechnology
    • Y10S977/84Manufacture, treatment, or detection of nanostructure
    • Y10S977/895Manufacture, treatment, or detection of nanostructure having step or means utilizing chemical property
    • Y10S977/896Chemical synthesis, e.g. chemical bonding or breaking
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S977/00Nanotechnology
    • Y10S977/902Specified use of nanostructure
    • Y10S977/932Specified use of nanostructure for electronic or optoelectronic application
    • Y10S977/936Specified use of nanostructure for electronic or optoelectronic application in a transistor or 3-terminal device
    • Y10S977/938Field effect transistors, FETS, with nanowire- or nanotube-channel region
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/30Self-sustaining carbon mass or layer with impregnant or other layer

Abstract

(57)【要約】 制御された方法によりナノチューブ・マトリクス物質を構築する方法では、ナノチューブ断片は少なくとも2つの位置エネルギー結合面を有し、それらは、ナノチューブ断片を結合させるために使用される。該結合面は、水素結合による結合位置エネルギー及び共有結合による第2のより低い結合位置エネルギーからなる2つの異なるレベルを有する。前記方法は次のステップにより構成される。(a)ナノチューブ断片の溶液を集める。(b)水素結合は分離するが、共有結合の特性を変化させるに十分ではない温度に該溶液を加熱する。(c)前記溶液を攪拌し、水素結合が安定する温度までゆっくりと温度を下げて(アニール化して)、好ましい形態を生成する。(d)前記溶液に試薬を加え、環閉鎖を生じさせる。(e)形成されたナノチューブ・マトリクス物質の精製及び脱水素のための触媒要素を導入する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】 [発明の分野] 本発明は、複合物質及び/又は電子構造の形成に関するものであり、特にナ
ノチューブ・マトリクス物質の形成を開示するものである。
【0002】 [発明の背景] 力学的及び電子的に物質を使用することが一般的には基本である。重量特性
に対する力学的強度の点で、スチール・ファイバやカーボン・ファイバといった
異なる物質の需要が高い。更に、新たに向上した性質をもつ新たな物質が常に要
望されている。また、独特な電気的性質をもつ物質も、これらが高度な有効性を
もつ分野で強く望まれている。
【0003】 更に、近年、シリコン・ウェーハ等へのIC型装置の製造において巨大な産
業が形成されてきている。電子回路の更なる小型化や、半導体ウェーハ上に積層
させて複合三次元構造を構築することに莫大な研究投資が続けられている。
【0004】 1991年には、スミオ・イイジマが、カーボン・ナノチューブ型装置の発
見を報告した。カーボン・ナノチューブの発見は、ナノメータの寸法を有し、カ
ーボン化学及び物理学における興味深い新たな領域を約束してくれる新たな魅力
的な物質であると見なされている。
【0005】 カーボン・ナノチューブ型装置の適用における一連の背景技術については、
エンドウ、イイジマ、ドレッセル・ハウスにより編集され、エルセヴィア・サイ
エンス・リミテッドにより1996年に出版された文献「カーボン・ナノチュー
ブ」を参照する。この刊行物は当該分野をカバーする多くの調査記事を含んでい
る。
【0006】 残念ながら、ナノチューブ型装置の構築は、やや行き当たりばったりで、統
制のない方法により進められている。ナノチューブは、DCアーク放電又は、多
様に維持された遷移金属触媒が存在する中でのアセチレンの触媒構造において形
成されることが知られている。
【0007】 残念ながら、このような構成では無秩序な形態のカーボン・ナノチューブに
なりやすく、このカーボン・ナノチューブでは、複雑な機構をナノチューブより
構成する能力が制限されているため、その有用性が制限されたものとなっている
【0008】 [発明の概要] 本発明の目的は、ナノチューブ装置のような複合物質構造体を、制御された
方法により合成する効果的な形態を提供することである。
【0009】 本発明の第1の形態において、中間部から構造体を構築する方法が提供され
ている。この方法は、前記各中間物は、少なくとも2つの位置エネルギー結合表
面を含んでおり、各表面は、別の対応する中間物と結合するための少なくとも2
つのレベルの結合位置エネルギーを有しており、前記結合エネルギーは、第1の
中間結合位置エネルギーと第2のより低い結合位置エネルギーとを含んでおり、
(a)中間物を突き合わせる際に、1連の中間物を集め、(b)前記突き合わされた中
間物を、前記中間結合エネルギーを超える平均エネルギーまで攪拌し、(c)前記 平均エネルギーを、実質的に前記第1の中間結合位置エネルギーのレベルまでゆ
っくりと低下させ、(d)触媒要素を前記突き合わされた中間物に導入することに より、実質的に前記第2の低位置エネルギーにおいて前記中間物の結合を生じさ
せて、前記構造体を構成する、以上ステップにより構成した方法である。
【0010】 更に前記方法は、他の構造体を形成する形で、ステップ(a)乃至(d)を反復繰
り返すステップにより構成することができる。
【0011】 前記中間物は分子により構成可能であり、前記第1の中間結合位置エネルギ
ーは実質的に前記中間物の水素結合により構成可能であり、前記第2のより低い
位置エネルギーは前記中間物の共有結合により構成することができる。
【0012】 前記攪拌のステップは、前記突き合わされた中間物の加熱又は超音波攪拌に
より構成可能である。
【0013】 前記中間物はナノチューブ断片を含んでもよく、該ナノチューブ断片は、抵
抗、ダイオード又はトランジスタのうち1つの部分を有する。
【0014】 前記構造体はナノチューブ断片の三次元結合構造を有してもよく、またナノ
チューブ・ハブ要素と結合した1連のナノチューブ・ロッドを含んでもよい。前
記ナノチューブ断片はその外部の非反応面に形成された1連の突起を含んでもよ
く、これによりファンデルワールス作用を低減させる。
【0015】 本発明の更なる形態において、結合された四面体又は立方体のナノチューブ
結合のマトリクスにより構成されるナノチューブ構造体が提供される。前記結合
はナノチューブの筋交い部により構成され得る。
【0016】 本発明の更なる形態において、フラレーン(fullerene)又はその他のハブ 要素に結合されたナノチューブ要素を構築する方法が提供される。
【0017】 本発明の更なる形態において、多数のナノチューブ要素を結合させるための
ハブ要素を構築する方法が提供される。
【0018】 本発明の更なる形態において、低密度ナノチューブ結晶を構築する方法が提
供される。
【0019】 本発明の更なる形態において、アームチェア型の2つのナノチューブ間に結
合された、所定長さのジグザグ型の中央ナノチューブにより構成された、制御さ
れた抵抗特性を有する電気装置が提供される。
【0020】 本発明の更なる形態において、アームチェア型の2つのナノチューブ間に結
合されたジグザグ型の中央ナノチューブと、前記中央ナノチューブに電場を作用
させ、これにより前記アームチェア型ナノチューブ間の導電経路を変更するため
の電場作用手段と、により構成された、信号増幅特性を有する電気装置が提供さ
れる。
【0021】 本発明の更なる形態において、アームチェア型の2つのナノチューブ間に結
合されたジグザグ型の中央ナノチューブと、前記中央ナノチューブに結合された
ジグザグ型の制御ナノチューブを有し、前記ナノチューブは前記中央ナノチュー
ブに電場を作用させるための電場作用手段に結合され、これにより前記アームチ
ェア型ナノチューブ間の導電経路を変更するように構成した、信号増幅特性を有
する電気装置が提供される。
【0022】 本発明の更なる形態において、共有結合部で結合された1連のナノチューブ
を備え、前記結合部において、前記ナノチューブは、ジグザグのナノチューブを
有し、電気装置の操作特性を提供するためにアームチェア型ナノチューブに対す
る周辺の結合部を有する所定数のナノチューブを設けて構成した電気装置が提供
される。
【0023】 好ましくは、少なくとも1つの前記アームチェア型ナノチューブが、更にア
ームチェア型ナノチューブの共有結合部に結合されている。
【0024】 本発明の更なる形態において、共有結合部で結合された1連のナノチューブ
を備え、前記結合部において、前記ナノチューブは、ジグザグのナノチューブを
有し、電気装置の操作特性を提供するためにアームチェア型ナノチューブに対す
る周辺の結合部を有する所定数の前記ナノチューブを設けて構成した電気装置が
提供される。
【0025】 本発明の更なる形態において、共有結合部で結合された1連のアームチェア
型ナノチューブを備えて構成した電気装置が提供される。
【0026】 本発明の更なる形態において、共有結合を経由してナノチューブ装置のラビ
リンスの結合を備え、前記装置は、異なる大きさのナノチューブの結合により形
成された1連のダイオード要素を有して構成した電気装置が提供される。
【0027】 本発明の更なる形態において、半導体ナノチューブに取付けられた1連の金
属型ナノチューブ構造体の結合部を有し、電子が実質的に前記結合部に捕捉され
る量子井戸状構造体を備えて構成した電気装置が提供される。
【0028】 本発明の更なる形態において、ナノチューブ結合部を有する衝撃電子ナノチ
ューブ装置を備え、該衝撃電子ナノチューブ装置は前記結合部に隣接した少なく
とも1つの量子井戸状構造体を有する電気装置が提供される。
【0029】 本発明の更なる形態において、ナノチューブ断片を形成するための前駆合成
要素を構築する方法が提供される。
【0030】 [図面の簡単な説明] 本発明の範囲には他の形態も入るが、以下では、本発明の好ましい実施形態
を説明する。この説明は、単なる例示として添付された以下の図面を参照する。
【0031】 図1は、アームチェアとジグザグ・ナノチューブの線状結合により形成され
たカーボン・ナノチューブ・ダイオードを示している。 図2及び図3は、ナノチューブ抵抗要素を示している。 図4は、ナノチューブ二極型要素を示している。 図5乃至図7は、立方体ナノチューブ構造体を構築するための核構築ブロッ
クの様々な図である。 図8は、四面体構造体を構築するための核構築ブロックを示している。 図9は、四面体構造体の一部を示している。 図11及び図12は、4結合ナノチューブ構造体を示している。 図13乃至図15は、図11及び図12に示す要素から構築された様々なナ
ノチューブ配列を示している。 図16は、異なる長さの筋交いベンジン・ユニットに対するナノチューブ・
メッシュの密度を示している。 図17は、衝撃電子流トランジスタ構造体を示している。 図18は、ジグザグ前駆合成のプロセスを示している。 図19は、アームチェア(8,8)前駆合成のプロセスを示している。 図20は、両端ジグザグ前駆合成のプロセスを示している。 図21は、両端ジグザグ・ナノチューブ合成のプロセスを示している。 図22は、ジグザグ・ナノチューブ合成のプロセスを示している。 図23は、ナノチューブ断片の一端に対する機能化及び保護のプロセスを示
している。 図24は、ナノチューブ線状ダイオード合成のプロセスを示している。 図25は、アームチェア・ナノチューブの長さを増加させるプロセスを示し
ている。 図26は、アームチェア・ナノチューブの長さを更に増加させるプロセスを
示している。 図27は、ナノチューブ・ロッドの合成プロセスを示している。 図28は、端部結合部を有するナノチューブ・ロッドの合成プロセスを示し
ている。 図29は、「ボール」をナノチューブ・ロッドに結合させる第1の方法を示
している。 図30は、低密度ナノチューブ結晶の合成プロセスを示している。 図31は、低密度ナノチューブ結晶を示している。 図32は、ナノチューブ結晶配列ハブ要素開始物質の形成における別の形態
を示している。 図33は、ハブ要素を形成するプロセスを示している。 図34は、「ダンベル」合成プロセスを示している。 図35は、ナノチューブ結晶を形成するための別のプロセスを示している。 図36は、ナノチューブ−ナノチューブの引力における問題を示している。 図37は、ナノチューブの変形例を示している。
【0032】 [好ましい実施形態及びその他の実施形態] 好ましい実施形態では、中間要素から複合ナノチューブ・マトリクス配列を
製造する方法を開示している。詳細な説明を行うが、該好ましい実施形態の示唆
が、任意の要素配置により構成された任意のナノチューブ型装置の構築にまで及
び得ることは当業者にとって明白である。
【0033】 電気装置には、三次元形態の、ダイオード、トランジスタ、抵抗等を含むこ
とができる。以下、いくつかのこれら装置を、図1乃至図17を参照して説明す
る。
【0034】 図1においてナノチューブ断片1が図示されており、該ナノチューブ断片1
は、ジグザグ型のナノチューブと結合した「アームチェア」ナノチューブ2を含
んでおり、その結合部4にはダイオード構造が形成されている。このように、結
合部4の周りの不均一な配置による結果、該装置はダイオードとして作用し得る
ようになっている。
【0035】 図2及び3にはトンネル抵抗(tunnelling resistor)型装置が図示されて おり、該装置は、2つのアームチェア型のナノチューブ6,8から形成され得る
。このナノチューブ6,8は、様々な長さの中央のジグザグ型のナノチューブ7
,9を包囲している。カーボン・ナノチューブが利用される場合、図2及び3の
構成の降服電圧は約2ボルトである。窒化ホウ素ナノチューブが利用される場合
は約6ボルトである。
【0036】 図4では、二極型トランジスタ11が図示されており、これは第3アーム1
0を有すること以外は図3の構成に類似している。該第3アーム10は、他のア
ーム12,13に沿った電流を制御するために電気的に駆動自在となっている。
【0037】 図4の二極型トランジスタ11は、バンドギャップ(band gap)の不整合に
より、通常では衝撃トランジスタ(ballistic transistor)の非導電となる。結
合部10を介した電位付与により、衝撃移送(ballistic transport)を生じさ せるバンドギャップ整合を起こすバンドシフト(band shifting)が生じる。ア ーム10を介した電位付与によると、漏れ電流も発生する。
【0038】 図4のトランジスタ複合体はネットワーク複合体にまで拡大することができ
る。図5乃至図7では、ネットワーク複合体の基本要素が示されており、該ネッ
トワーク複合体は、互いに背向した6つのダイオードからなる組合せを有してい
る。勿論、直接結合、ダイオード、量子ドット(quantum dot)等を提供する形 で、アームのその他の形態も形成可能である。図5乃至図7において異なる図示
がなされている該ネットワーク要素は、立方体ネットワーク・マトリクス(cubi
c network matrix)において利用可能である。勿論、他のネットワーク・マトリ
クスも可能である。例えば図8において、四面体型要素20〜22が示されてお
り、これらは図9に示すように、対応マトリクス23(corresponding matrix)
を形成する形で利用可能である。該マトリクス構成は、導電経路24,25及び
トランジスタ要素26を含む。図9の構成23は更に回路要求に応じた四面体メ
ッシュに形成されている。
【0039】 他の構成も可能である。次に図10では、ジグザグ型ナノチューブ・アーム
31等により包囲されている「金属」核ナノチューブ部30をもつ四面体格子に
おける量子ドット配列が示されている。集束核30に押し入れられた電子はそこ
で順次格納される。
【0040】 次に図11及び12では、別の四面体結合部35が示されており、該四面体
結合部35は、各結合部においてsp炭素を有するように形成されている。該
構成は、別のものであり、sp構成から形成されているので、固有の電荷を有
していない。図13乃至図15に示すように、要素33は、様々な構成配列をも
つ構成要素として利用可能である。該構成配列は、多くの重要な有利な特徴を有
している。例えば図16には、基本要素が異なる支柱(strut)長さを有する場 合に、その密度が変化する状態を示すグラフが示されている。(支柱長さはグラ
フに示された長さの2倍である。)図16のグラフは(18,0)型のナノチュ
ーブについてのものである。よって、図13乃至図15で図示されたものと同様
の構造における機械的性質は、極めて強度が高く、弾性が高く、伸縮性が高く、
圧縮性が高く、ねじれ性が高いことが含まれる。しかしながら、該構成は低いせ
ん断抵抗をもつようである。これから説明する構成はより高いせん断抵抗をもつ
ようにすることも出来る。
【0041】 次に図17では、変更されたトランジスタ型の結合要素50が図示されてい
る。この場合、アーム52,53が変更されて、窒化ホウ素バンド(Boron Nitr
ide bands)54,55及び58,59等を含んでいる。これらはアーム56, 57等の各側で量子ドット・トラップ(quantum dot trap)として作用し、該量
子ドット・トラップは衝撃電子流を許容することができる。この衝撃電子流は、
各側の量子ドット・トラップによって影響され、そのため量子ドット・トラップ
は、衝撃電子流チャンネル56,57に沿った電子流の反射を制御する。図17
の構成は、量子ドット構造の利用により、図4の構成と比べて、ゲート電流を劇
的に削減したようである。図17の構成50はマルチレベルメモリとして利用可
能であり、アーム52,53,56,57等は、多くの異なる性能を発揮する異
なる機能を介して、異なる多様な組合せで構成可能である。
【0042】 所定の構成における上記装置を含む複合三次元マトリクスの形成方法につい
て説明する。まず図18では、ジグザグ・ナノチューブ前駆体要素を形成するス
テップを説明する。第1ステップは2つの分子60,61を準備する。これら分
子は、標準的な有機化学技術を用いて合成可能である。両分子は4つの側部をも
つものと見なされる。これら側部のうち3つは水素結合部を有し、これら結合部
は合成の後の段階で使用される。これらは3つの直交した保護基、即ち記号A,
B,Cが付された基により保護されている。4番目の側部は水素結合パターンを
有しており、これは2分子間で相補的である。このパターンは、逆結合を防止す
るために非対称でなければならない。
【0043】 2つの要素60,61は混合されアニール化されて結合体63が生成され、
これは後で閉鎖体64となり、最終生成物65を形成する。これは、脱水素及び
精製により可能である。脱水素は、例えばパラジウム触媒を使用することにより
起こすことができる。なお、脱水素は全ての主な段階で示される。大部分の場合
、全合成の最終段階まで脱水素は必要ない。
【0044】 生成物を精製することにより、残留した未結合片及び環閉鎖試薬から分離す
る。試薬と生成物との間での分子の質量には基本的な差異があり、様々な形態の
精製が採用可能である。
【0045】 次に図19では、アームチェア(8,8)の前駆合成のプロセスが図示され
ている。この第1ステップは2つの分子70,71を準備することであり、標準
的な有機化学技術によりこれらは合成可能である。両分子は4つの側部をもつも
のと見なされる。この側部のうち3つは水素結合部を有しており、該水素結合部
は後の合成段階において使用される。これらは3つの直交する保護基、即ち記号
A,B,Cが付された基により保護されている。4番目の側部は水素結合パター
ンを有し、この水素結合パターンは、2分子間で相補的である。逆付着を防止す
るため、このパターンは非対称でなければならない。
【0046】 その結果、混合72され、アニール化73され、試薬が加えられ、環が閉じ
られて前駆片74が形成される。
【0047】 図20には両端(16,0)が形成されたナノチューブ前駆合成のプロセス
が示されている。この第1ステップは2つの分子80,81を準備することであ
り、標準的な有機化学技術によりこれらは合成可能である。両分子は4つの側部
をもつものと見なされる。この側部のうち3つは水素結合部を有しており、該水
素結合部は後の合成段階において使用される。これらは3つの直交する保護基、
即ち記号A,B,Cが付された基により保護されている。4番目の側部は水素結
合パターンを有し、この水素結合パターンは、2分子間で相補的である。逆付着
を防止するため、このパターンは非対称でなければならない。
【0048】 その結果、混合83され、アニール化84され、試薬が加えられ、環が閉じ
られる85。
【0049】 そして、以下更に詳細に説明するように、様々なナノチューブ・セグメント
を形成する際に上記断片は利用可能である。
【0050】 図21では、両端のジグザグ(16,0ナノチューブ断片)の形成プロセス
が図示されている。機能化された端部92,93を有するベンゼン[G,H,I
]ペリレン(peryelen)のような機能化されたPAH90,91から開始し、そ
のような要素93の溶液が、水素結合を崩壊するのに十分な温度で、しかしなが
ら如何なる共有結合も変性させるほどではない温度まで加熱される。そして該溶
液は、攪拌され、水素結合が高度に安定する温度までゆっくり温度を下げられる
(即ち、アニール化される)。このプロセスにより、ループ要素を構成する最善
の形状に断片をアニール化する。そして試薬が混合物に加えられ、リングの閉鎖
95が生じる。次いで、例えば、パラジウム触媒を使用することにより脱水素が
生じ得る。そして精製により、残留した未結合の断片及び試薬から生成物96を
分離できる。
【0051】 次いで図22では、ここでジグザグ(16,0)ナノチューブ要素の形成プ
ロセスを説明する。機能化された端部102−105を有するジグザグ前駆分子
101から開始し、端部104,105が保護解除される106,107。要素
の溶液108が、水素結合を崩壊するのに十分な温度で、しかしながら如何なる
共有結合も変性させるほどではない温度まで加熱される。そしてアニール化温度
が、水素結合が高度に安定する点までゆっくり下げられる。該プロセスにより、
最善の形状109−112に断片をアニール化する。そして試薬が加えられ、リ
ングの閉鎖113が生じる。最後に、例えば、パラジウム触媒を使用することに
より要素113は脱水素される。そして精製ステップにより、残留した未結合の
断片及び環閉鎖試薬から生成物を分離できる。
【0052】 上述した合成プロセスは、異なる対掌性をもつ他のナノチューブ断片にも適
用され得ることは明らかである。
【0053】 図23では、ナノチューブ断片120の例がより詳細に図示されている。該
断片は、よく反応する酸素層122が続いたグラファイト層121を構成し得る
ものであり、該酸素層はイソプロピル・ターミネーション層123によりマスク
されている。上述したナノチューブ要素の構築技術は、ダイオード等のような他
のナノチューブ構造に適用する形で拡張可能である。次に、多くの構造について
説明する。
【0054】 ナノチューブ線状ダイオードの合成プロセスを示す図24から始める。開始
物質は、別個に合成されたナノチューブ要素130,131を含んでもよい。こ
のナノチューブ要素は、アームチェア・ナノチューブ断片である要素130及び
、ジグザグ型ナノチューブ要素である要素131を有する。各要素130,13
1は保護された端部を有している。第1ステップは、アームチェア・ナノチュー
ブ130の端部B及び、ジグザグナノチューブ131の端部Aを保護解除して、
ナノチューブ要素132及び133を形成することである。そして、保護解除さ
れた端部を有するナノチューブは、溶液134内で混合される。該溶液は、水素
結合を崩壊するのに十分な温度で、しかしながら如何なる共有結合も変性させる
ほどではない温度から始まって、水素結合が高度に安定する状態135の温度に
至るまで、ゆっくりアニール化され得る。次に、試薬が加えられることにより、
閉鎖136を確実にし、その結果、例えばパラジウム触媒を使って脱水素が行わ
れる。そして該溶液は精製され、ダイオード生成物を、残留した未結合の断片及
び環閉鎖試薬から分離することが可能である。
【0055】 次に図25では、ナノチューブ要素の長さを増加させる方法が図示されてい
る。まず、ナノチューブ断片140の量から始めて、半分の断片によって、B端
部が保護解除141され、他の半分の断片によって、A端部が保護解除される1
42。2つの半分は混合され143、水素結合を崩壊するのに十分な室温で、し
かしながら如何なる共有結合も変性させるほどではない温度から始まって、水素
結合が高度に安定145する温度に至るまで、ゆっくりアニール化される。次に
、試薬が加えられることにより、リング閉鎖が生じ、その後、脱水素が行われる
【0056】 次に図26では、ナノチューブ断片の長さを延長するプロセスが図示されて
いる。まず、空いた水素結合端部を備え、両端部が保護されたナノチューブ断片
150の量からの開始であった。半分の断片について、端部Bが保護解除151
され、他の半分の断片について、端部Aが保護解除される152。2つの半分は
混合され153、水素結合を崩壊するのに十分な温度で、しかしながら如何なる
共有結合も変性させるほどではない温度から始まって、水素結合が高度に安定1
55する温度に至るまで、ゆっくりアニール化154される。次に、試薬が加え
られることにより、リング閉鎖156が生じる。
【0057】 図27では、ナノチューブ断片の長さを延長するプロセスが図示されている
。このプロセスでは、2つのナノチューブ断片161及び162が保護解除され
て164,165、互いに混合される166。この混合物はゆっくりアニール化
され167、試薬が加えられ168、リング閉鎖が起こされ、その結果169、
最善の脱水素及び精製となる。上述したプロセスは、ナノチューブ型要素による
任意の三次元メッシュを構築するのに利用可能である。次いで図28では、キャ
ップされた端部をもつナノチューブ・ロッドの合成プロセスが図示されている。
【0058】 はじめに、ナノチューブ断片170の量が、相補的な水素結合端部及び両側
部が保護された形で利用される。断片170の半分は保護解除された第1の端部
171を有しており、断片の他の半分は保護解除された第2の端部を有している
。キャッピングユニット173,174は、始めのナノチューブ・セグメント合
成、対応する混合173,174、アニール化された混合と類似の方法を使用し
て合成可能である。次の閉鎖175,176では通常の方法で処理される。そし
て、図28で説明されたプロセスにより形成されたロッドは、対応する「ボール
」に合わせられ、全体的なマトリクスが形成される。「ボール」及びロッドの一
形成形態を図29に基づいて説明する。続けて、他端が保護解除等177,17
8行われ、2つの混合物が互いに加えられアニール化179されて、緩く結合し
た構造179を形成する。そしてこの構造は閉鎖され、脱水素180される。
【0059】 次に図29では、マトリクス形成時の要素構築の一方法における処理ステッ
プを示している。第1のステップは、水素結合部を、バキボールの12個の5部
分リングそれぞれに引き寄せることにより、バキボール(buckyball)182を 機能化181させることである。そして、ナノチューブ要素(図28の180)
は機能化されたバキボール181と混合される。バキボールの濃度は、ナノチュ
ーブの倍の濃度よりもさらに大きくなければならず、これにより1つ以上のロッ
ドが単一のバキボールに付着することを最小限におえる。水素結合は完了183
され、試薬が加えられて水素結合を共有結合184に変更する。最後に、ロッド
が精製185され、1つ以上のロッドを含む分子を排除する。これと共に、個々
の残留バキボール及び結合試薬を排除する。
【0060】 次に図30に示すように、ナノチューブ180の混合及び、端部185にお
いて共有結合され機能化されたバキボールを有するナノチューブが設けられてい
る。好ましくは、混合比率において正確に8.33%のナノチューブ120が設
けられる。ナノチューブ・ロッドの希釈溶液が、バキボール終端をもたない11
/12のロッドと、両端部にバキボール終端を有する残りのロッドの形で用意さ
れる。溶液の量は、好ましくは、所望する拡大されたナノチューブ・メッシュの
量よりも多い。そしてナノチューブ・メッシュは非常にゆっくりとアニール化さ
れ、図31に示すようにメッシュ187を形成する。バキボールとの間の水素結
合相互作用は、マトリクス187が自己形成できるほどに強力でなければならな
い。ゆっくりとしたアニール化により水素結合エネルギーがより小さくて済む。
アニール化の後、試薬が加えられ、水素結合を共有結合に転換する。最後に前記
溶液が排水され、構造187が不活性ガスで満たされる。
【0061】 図29で示した、バキボールハブ181要素に代るハブ要素を利用して異な
るメッシュが形成されてもよい。代りの構成は、図32に示すようにハブ断片の
合成から開始される。ハブ断片190は、有機合成技術を利用して合成され得る
。断片は、PAHの2つの側部の水素結合部の相補的なパターンにより機能化さ
れ得る。
【0062】 第3側部上には水素結合部のパターンがあり、これは相溶性のナノチューブ
断片の1つの端部上で使用されるものと相補的である。これはBで保護されてい
るのが示されている。4番目の側部は、水素結合部の循環の自己相補的パターン
を有している。これらは直交した保護基Aにより保護されている。そして要素1
91の溶液は、水素結合を崩壊するのに十分な温度で、しかしながら如何なる共
有結合も変性させるほどではない温度に加熱される。該温度は水素結合が高度に
安定する温度にゆっくりと下げられる。この結果、断片192が形成される。そ
して試薬が加えられることにより、最終的なハブ断片193が形成される。
【0063】 そして、図33に示すように、ハブ断片がハブユニットに形成される。ハブ
ユニット204は12個のハブ断片193から構築される。第1ステップ200
は、多くのハブ断片の反応しやすい要素を保護解除し、これらを溶液201に加
えることである。この溶液は、水素結合を崩壊するのに十分な温度で、しかしな
がら如何なる共有結合も変性させるほどではない温度に加熱される。断片はアニ
ール化され、表面に均一に分散された断片により12のハブ断片がクラスタを形
成する。類型的結合203が、同じく設けられている単一ハブの「立体図」20
4と共に図示されている。試薬が加えられることにより、リングの閉鎖が生じ、
精製により任意の脱水素が実行される。
【0064】 別の合成方法では、機能化されたC60バキボールを、球状に群がった形の
ハブ形成体の内部に残して、ハブ形成に対する「ガイド」として使用してもよい
【0065】 次いで、図34に示されたプロセスにより「ダンベル」ユニットが形成可能
である。該ダンベルユニットは合成されたハブ204及び両端ロッド210の混
合物を提供することにより、上記合成体を利用することにより形成される。ハブ
及びロッドそれぞれの端部は保護解除される210,212。ハブ及びロッドの
混合体が設けられ、このハブのモル濃度は、ロッドのモル濃度の2倍よりもかな
り大きい。これにより、2つのロッドが同一のハブに結合する可能性を最小限に
する。続いて、試薬が加えられることにより、リングを閉鎖させ、精製により任
意の脱水素が実行される。これにより、精製されたダンベルユニット213の集
合が提供される。
【0066】 次に図35では、ここには低密度高強度ナノチューブ結晶の合成において必
要なステップが示されている。このナノチューブ結晶は、ダンベル要素213(
図34)と保護解除221されてダブルユニット213と共に溶液に加えられた
一連の両端ロッド220から合成可能である。ダンベル及びロッドの混合では、
11個のロッドの各ダンベルに対するモル比率が正確に制御される。チョクラル
スキの結晶成長(Czochralski crystal growing)に類似したプロセスにより、 ナノチューブ格子の表面中央向けの立方体結晶が形成されてもよい。この場合、
ナノチューブダンベル及びロッドは、チョクラルスキの結晶成長における原子に
類似している。ナノチューブ溶液は、水素結合分離温度よりやや高い温度まで加
熱される。種結晶がこの溶液中に落とされ、ゆっくりと取り出される。結晶を引
き出すプロセスにおいて温度が融点に下降すると、ナノチューブは該種上で結晶
化される。好ましくは前記種は回転されるので、互いに直交した方向のナノチュ
ーブが「溶解液」中において真っ先に消耗してしまうことはない。結晶が引き出
されるにつれ、格子が溶媒から抽出される。別の例において、初期の種は、平ら
な表面を、スポットを結晶格子と同一ピッチに引き寄せるダンベルでパターニン
グすることにより生成できる。
【0067】 結晶が引き抜かれた後、これは、環閉鎖試薬と脱水素触媒を含むクリーンな
溶媒中に落とされる。全ての水素結合は共有結合に置換されており、脱水素され
ているので、該構造は完全に芳香族で、完全な強度を達成する。最終構造は22
5に図示されている。
【0068】 本発明の思想及び範囲の中において、大型メッシュ構造の構築における上述
した説明が、多様にかつ簡単に変更され得ることが明白である。
【0069】 例えば、所望の電気装置を有したマトリクス構造が、電気的要素を形成し、
混合及びアニール化プロセスの所定のポイントで該要素を代替することにより、
構築可能である。更に、アニール化プロセスも、他の複合結合構造の生成におい
て利用可能であることが明白である。
【0070】 更に、構造形成において利用されたナノチューブ・ロッド要素は、多くの精
製を包含可能である。特に、溶液におけるファンデルワールス引力の相互作用に
より、ナノチューブ要素それ自体は、要素間で高度の引力を呈するかもしれない
。このような状態は図36に示されており、ナノチューブ断片230及び231
が高い引力を呈することで、ナノチューブ要素がからみ合った部分が形成される
【0071】 ファンデルワールス引力の効果の低減の一形態が図37に示されている。こ
こではナノチューブの外壁においてメタンのグループ235,236等が形成さ
れる。これによりチューブ237,238間におけるファンデルワールス引力が
生じる機会の低減がなされる。
【0072】 広く説明される本発明の思想及び範囲から逸脱することなく、多くのバリエ
ーション及び/又は変更が、実施形態で示されたような本発明に対してなされ得
ることは、当業者により想到することができる。それゆえ本実施形態は、全ての
点において例示的であって、限定的なものではない。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 EP(AT,BE,CH,CY, DE,DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,I T,LU,MC,NL,PT,SE),OA(BF,BJ ,CF,CG,CI,CM,GA,GN,GW,ML, MR,NE,SN,TD,TG),AP(GH,GM,K E,LS,MW,SD,SL,SZ,UG,ZW),E A(AM,AZ,BY,KG,KZ,MD,RU,TJ ,TM),AE,AL,AM,AT,AU,AZ,BA ,BB,BG,BR,BY,CA,CH,CN,CU, CZ,DE,DK,EE,ES,FI,GB,GD,G E,GH,GM,HR,HU,ID,IL,IN,IS ,JP,KE,KG,KP,KR,KZ,LC,LK, LR,LS,LT,LU,LV,MD,MG,MK,M N,MW,MX,NO,NZ,PL,PT,RO,RU ,SD,SE,SG,SI,SK,SL,TJ,TM, TR,TT,UA,UG,US,UZ,VN,YU,Z A,ZW

Claims (28)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 中間物から構造体を構築する方法であって、前記中間物は、少なくとも2つ
    の位置エネルギー結合面表を含んでおり、各表面は、別の対応する中間物と結合
    するための少なくとも2つのレベルの結合位置エネルギーを有しており、前記結
    合エネルギーは、第1の中間結合位置エネルギーと第2のより低い結合位置エネ
    ルギーとを含んでおり、 (a)中間物を突き合わせる際に、1連の中間物を集め、 (b)前記突き合わされる中間物を、前記中間結合エネルギーを超える平均エネ ルギーまで攪拌し、 (c)前記平均エネルギーを、実質的に前記第1の中間結合位置エネルギーのレ ベルまでゆっくりと低下させ、 (d)触媒要素を前記突き合わされる中間物に導入することにより、実質的に前 記第2のより低い位置エネルギーにおいて前記中間物の結合を生じさせて、前記
    構造体を構成する、 上記ステップにより構成した方法。
  2. 【請求項2】 ステップ(a)乃至(d)を反復繰り返して構成した請求項1記載の方法。
  3. 【請求項3】 前記中間物は分子により構成され、前記第1の中間結合位置エネルギーは実
    質的に前記中間物の水素結合により構成され、前記第2のより低い位置エネルギ
    ーは前記中間物の共有結合により構成される、請求項2記載の方法。
  4. 【請求項4】 前記攪拌のステップは、前記突き合わされる中間物の加熱又は超音波攪拌に
    より構成される、請求項1乃至3のいずれか1項記載の方法。
  5. 【請求項5】 前記中間物はナノチューブ断片を含む、請求項1乃至4のいずれか1項記載
    の方法。
  6. 【請求項6】 前記ナノチューブ断片は、抵抗、ダイオード又はトランジスタ装置特性のう
    ちの一つを含む部分を有する、請求項5記載の方法。
  7. 【請求項7】 前記構造体はナノチューブ断片の三次元結合配列により構成されている、請
    求項4乃至6のいずれか1項記載の方法。
  8. 【請求項8】 前記構造体はナノチューブ・ハブ要素と結合した1連のナノチューブ・ロッ
    ドを含む、請求項1乃至7のいずれか1項記載の方法。
  9. 【請求項9】 前記ナノチューブ断片はその外部の非反応面に形成された1連の突起を含む
    、請求項4乃至7のいずれか1項記載の方法。
  10. 【請求項10】 請求項1乃至9のいずれか1項記載の方法により形成された構造体。
  11. 【請求項11】 四面体又は立方体のナノチューブ結合が相互結合されたマトリクスにより構
    成されるナノチューブ構造体。
  12. 【請求項12】 前記相互結合はナノチューブの筋交い部により構成される請求項11記載の
    ナノチューブ構造体。
  13. 【請求項13】 フラレーン相互結合要素と相互結合された1連のナノチューブにより構成さ
    れるナノチューブ構造体。
  14. 【請求項14】 バキボール(buckyball)又はその他のハブ要素に相互結合されたナノチュー
    ブ要素を構築する方法。
  15. 【請求項15】 多重のナノチューブ要素を相互結合させるためのハブ要素を構築する方法。
  16. 【請求項16】 低密度ナノチューブ結晶を構築する方法。
  17. 【請求項17】 アームチェア型の2つのナノチューブ間に相互結合された、所定長さのジグ
    ザグ型の中央ナノチューブにより構成された、 制御された抵抗特性を有する電気装置。
  18. 【請求項18】 アームチェア型の2つのナノチューブ間に相互結合されたジグザグ型の中央
    ナノチューブと、 前記中央ナノチューブに電場を作用させ、これにより前記アームチェア型ナ
    ノチューブ間の導電経路を変更するための電場作用手段と、により構成された、
    信号増幅特性を有する電気装置。
  19. 【請求項19】 アームチェア型の2つのナノチューブ間に相互結合されたジグザグ型の中央
    ナノチューブと、 前記中央ナノチューブに相互結合されたジグザグ型の制御ナノチューブとを
    有し、該制御ナノチューブには、前記中央ナノチューブに電圧を作用させるため
    の電場作用手段が相互結合され、これにより前記アームチェア型ナノチューブ間
    の導電経路を変更することを特徴とする、信号増幅特性を有する電気装置。
  20. 【請求項20】 共有結合部で相互結合された1連のナノチューブを有し、前記結合部におい
    て、前記ナノチューブは、ジグザグのナノチューブを有し、所定数の前記ナノチ
    ューブは、アームチェア型ナノチューブに対する周囲結合部を有し、これにより
    電気装置の操作特性を提供する電気装置。
  21. 【請求項21】 少なくとも1つの前記アームチェア型ナノチューブが、更にアームチェア型
    ナノチューブの共有結合部に相互結合されている、請求項20記載の電気装置。
  22. 【請求項22】 共有結合部で相互結合された1連のナノチューブを備え、前記結合部におい
    て、前記ナノチューブは、ジグザグのナノチューブを有し、所定数の前記ナノチ
    ューブは、アームチェア型ナノチューブに対する周囲結合部を有し、これにより
    電気装置の操作特性を提供して構成した電気装置。
  23. 【請求項23】 共有結合部で結合された1連のアームチェア型ナノチューブを備えて構成し
    た電気装置。
  24. 【請求項24】 共有結合によるナノチューブ装置のラビリンスの相互結合を備え、前記装置
    は、異なる大きさのナノチューブの相互結合により形成された1連のダイオード
    要素を有して構成した電気装置。
  25. 【請求項25】 半導体ナノチューブに取付けられた1連の金属型ナノチューブ構造体の結合
    部を有し、電子が実質的に前記結合部に捕捉される量子井戸状構造体を備えて構
    成した電気装置。
  26. 【請求項26】 ナノチューブ結合部を有する衝撃電子ナノチューブ装置を備え、該衝撃電子
    ナノチューブ装置は前記結合部に隣接した少なくとも1つの量子井戸状構造体を
    有する電気装置。
  27. 【請求項27】 請求項1乃至9のいずれか1項記載の方法を利用して請求項17乃至26の
    いずれか1項記載の電気装置を構築する方法。
  28. 【請求項28】 実質的に上述したようなナノチューブ断片を形成するための前駆合成要素を
    構築する方法。
JP2000537800A 1998-03-24 1999-03-24 ナノチューブ・マトリクス物質の形成方法 Pending JP2002507494A (ja)

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
AU2564 1998-03-24
AU2563 1998-03-24
AUPP2563A AUPP256398A0 (en) 1998-03-24 1998-03-24 Material and electronic structures (NT03)
AUPP2564A AUPP256498A0 (en) 1998-03-24 1998-03-24 Material and electronic structures (NT02)
PCT/AU1999/000204 WO1999048810A1 (en) 1998-03-24 1999-03-24 Method for construction of nanotube matrix material

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009275458A Division JP2010100520A (ja) 1998-03-24 2009-12-03 ナノチューブ、及び該ナノチューブを有する電気装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2002507494A true JP2002507494A (ja) 2002-03-12

Family

ID=25645737

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000537800A Pending JP2002507494A (ja) 1998-03-24 1999-03-24 ナノチューブ・マトリクス物質の形成方法
JP2009275458A Pending JP2010100520A (ja) 1998-03-24 2009-12-03 ナノチューブ、及び該ナノチューブを有する電気装置

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009275458A Pending JP2010100520A (ja) 1998-03-24 2009-12-03 ナノチューブ、及び該ナノチューブを有する電気装置

Country Status (5)

Country Link
US (5) US6593166B1 (ja)
EP (1) EP1068149A4 (ja)
JP (2) JP2002507494A (ja)
CA (1) CA2324405C (ja)
WO (1) WO1999048810A1 (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005522037A (ja) * 2002-03-28 2005-07-21 コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ ナノワイヤ及び電子デバイス
JP2006032477A (ja) * 2004-07-13 2006-02-02 Sharp Corp 素子、集積回路及びそれらの製造方法
JP2008524855A (ja) * 2004-12-16 2008-07-10 ノースロップ グラマン コーポレイション カーボンナノチューブ装置およびその製作方法

Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6593166B1 (en) * 1998-03-24 2003-07-15 Silverbrook Research Pty Ltd Method for construction of nanotube matrix material
SE9903079L (sv) * 1999-08-31 2001-03-01 Ultratec Ltd Förfarande för framställning av nanorörformigt material och material vilket framställts genom detta förfarande
US6923915B2 (en) * 2001-08-30 2005-08-02 Tda Research, Inc. Process for the removal of impurities from combustion fullerenes
SE0104452D0 (sv) * 2001-12-28 2001-12-28 Forskarpatent I Vaest Ab Metod för framställning av nanostrukturer in-situ, och in-situ framställda nanostrukturer
US7147894B2 (en) * 2002-03-25 2006-12-12 The University Of North Carolina At Chapel Hill Method for assembling nano objects
US6764874B1 (en) * 2003-01-30 2004-07-20 Motorola, Inc. Method for chemical vapor deposition of single walled carbon nanotubes
DE10345522A1 (de) * 2003-09-30 2004-11-25 Infineon Technologies Ag Speicherbauelement als ROM
US20050275056A1 (en) * 2004-05-26 2005-12-15 Stephen Forrest Organic heterojunction bipolar transistor
JP4847106B2 (ja) * 2005-11-18 2011-12-28 保土谷化学工業株式会社 炭素繊維構造体
WO2008019154A2 (en) * 2006-08-05 2008-02-14 Reveo, Inc. Methods of and systems for forming carbon based materials
FI20075767A0 (fi) * 2007-10-30 2007-10-30 Canatu Oy Pinnoite ja sähkölaitteita jotka käsittävät tätä
FI121156B (fi) * 2008-06-27 2010-07-30 Canatu Oy Hiilinanonuppumolekyylin käyttö sähkömagneettisen säteilyn kanssa vuorovaikuttamiseksi laitteessa
US20100212727A1 (en) * 2009-02-26 2010-08-26 Ji Ung Lee Apparatus and methods for continuously growing carbon nanotubes and graphene sheets
CN102781816A (zh) * 2010-01-25 2012-11-14 小利兰·斯坦福大学托管委员会 富勒烯掺杂的纳米结构及其方法
KR20120120358A (ko) * 2010-01-25 2012-11-01 더 보드 어브 트러스티스 어브 더 리랜드 스탠포드 주니어 유니버시티 결합된 나노구조체 및 이를 위한 방법
US9505621B2 (en) * 2013-03-19 2016-11-29 Nanolab, Inc. Synthesis of length-selected carbon nanotubes
RU2698806C1 (ru) * 2018-03-01 2019-08-30 Общество с ограниченной ответственностью "Фрязинские Магнитные Технологии" Волокно из углеродных нанотрубок и способ его получения

Family Cites Families (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US659627A (en) * 1900-03-05 1900-10-09 George A Reddick Permutation-lock.
JPS5911886A (ja) * 1982-07-13 1984-01-21 旭化成株式会社 新規な羽毛様中綿素材
JPS62186938A (ja) * 1986-02-13 1987-08-15 Okazaki Seisakusho:Kk 固体の接合方法
US5223479A (en) 1991-08-01 1993-06-29 The Trustees Of The University Of Pennsylvania Process for preparing alkali metal-doped fullerenes
JP2701709B2 (ja) * 1993-02-16 1998-01-21 株式会社デンソー 2つの材料の直接接合方法及び材料直接接合装置
JPH06271306A (ja) * 1993-03-17 1994-09-27 Nec Corp 数珠状高分子とその構成方法
AU7211494A (en) 1993-06-28 1995-01-17 William Marsh Rice University Solar process for making fullerenes
JPH07193294A (ja) * 1993-11-01 1995-07-28 Matsushita Electric Ind Co Ltd 電子部品およびその製造方法
JP2591458B2 (ja) 1993-12-21 1997-03-19 日本電気株式会社 カーボンナノチューブの加工方法
JP3502490B2 (ja) * 1995-11-01 2004-03-02 昭和電工株式会社 炭素繊維材料及びその製造法
US6538262B1 (en) * 1996-02-02 2003-03-25 The Regents Of The University Of California Nanotube junctions
EP0913359A4 (en) * 1996-07-17 1999-10-20 Citizen Watch Co Ltd FERROELECTRIC ELEMENT AND PROCESS FOR PRODUCING THE SAME
JP3447492B2 (ja) * 1996-11-12 2003-09-16 日本電気株式会社 炭素材料とその製造方法
CH690720A5 (de) * 1996-12-18 2000-12-29 Eidgenoess Tech Hochschule Nanotubes, Verwendung solcher Nanotubes sowie Verfahren zu deren Herstellung.
JP3077655B2 (ja) 1997-12-22 2000-08-14 日本電気株式会社 カーボンナノチューブの製造装置及びその製造方法
US6593166B1 (en) 1998-03-24 2003-07-15 Silverbrook Research Pty Ltd Method for construction of nanotube matrix material
US6203864B1 (en) 1998-06-08 2001-03-20 Nec Corporation Method of forming a heterojunction of a carbon nanotube and a different material, method of working a filament of a nanotube
US6059627A (en) * 1999-03-08 2000-05-09 Motorola, Inc. Method of providing uniform emission current
EP1059266A3 (en) * 1999-06-11 2000-12-20 Iljin Nanotech Co., Ltd. Mass synthesis method of high purity carbon nanotubes vertically aligned over large-size substrate using thermal chemical vapor deposition
US6225198B1 (en) * 2000-02-04 2001-05-01 The Regents Of The University Of California Process for forming shaped group II-VI semiconductor nanocrystals, and product formed using process
US6306736B1 (en) * 2000-02-04 2001-10-23 The Regents Of The University Of California Process for forming shaped group III-V semiconductor nanocrystals, and product formed using process
JP3859199B2 (ja) * 2000-07-18 2006-12-20 エルジー エレクトロニクス インコーポレイティド カーボンナノチューブの水平成長方法及びこれを利用した電界効果トランジスタ
US6559550B2 (en) * 2000-11-03 2003-05-06 Lockheed Martin Corporation Nanoscale piezoelectric generation system using carbon nanotube
US6682677B2 (en) * 2000-11-03 2004-01-27 Honeywell International Inc. Spinning, processing, and applications of carbon nanotube filaments, ribbons, and yarns
US6667572B2 (en) * 2001-11-20 2003-12-23 Brother International Corporation Image display apparatus using nanotubes and method of displaying an image using nanotubes

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005522037A (ja) * 2002-03-28 2005-07-21 コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ ナノワイヤ及び電子デバイス
JP4920872B2 (ja) * 2002-03-28 2012-04-18 コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ ナノワイヤの製造方法
JP2006032477A (ja) * 2004-07-13 2006-02-02 Sharp Corp 素子、集積回路及びそれらの製造方法
JP4488815B2 (ja) * 2004-07-13 2010-06-23 シャープ株式会社 素子、集積回路及びそれらの製造方法
JP2008524855A (ja) * 2004-12-16 2008-07-10 ノースロップ グラマン コーポレイション カーボンナノチューブ装置およびその製作方法

Also Published As

Publication number Publication date
US6940088B2 (en) 2005-09-06
WO1999048810A1 (en) 1999-09-30
US7307272B2 (en) 2007-12-11
JP2010100520A (ja) 2010-05-06
US20060076551A1 (en) 2006-04-13
CA2324405C (en) 2009-09-15
EP1068149A4 (en) 2009-10-21
US7119357B2 (en) 2006-10-10
US7132679B2 (en) 2006-11-07
US20050003105A1 (en) 2005-01-06
US20040009648A1 (en) 2004-01-15
US20070108439A1 (en) 2007-05-17
US6593166B1 (en) 2003-07-15
CA2324405A1 (en) 1999-09-30
EP1068149A1 (en) 2001-01-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2002507494A (ja) ナノチューブ・マトリクス物質の形成方法
US20030044608A1 (en) Nanowire, method for producing the nanowire, nanonetwork using the nanowires, method for producing the nanonetwork, carbon structure using the nanowire, and electronic device using the nanowire
Kiang et al. Carbon nanotubes with single-layer walls
DE60212118T2 (de) Verfahren zur Herstellung einer Kreuzschienenstruktur von Nanodrähten
JP4379002B2 (ja) カーボンナノチューブデバイスの製造方法、並びに、カーボンナノチューブ転写体
TW200418722A (en) Nanotube polymer composite and methods of making same
JP2005096055A (ja) カーボンナノチューブ複合構造体およびその製造方法
AU784579B2 (en) Method for bulk separation of single-walled tubular fullerenes based on chirality
JP2005125187A (ja) ガス分解器、燃料電池用電極およびその製造方法
JP3843736B2 (ja) カーボンナノチューブデバイスおよびその製造方法、並びに、カーボンナノチューブの精製方法
CN101218173B (zh) 用于生长具有预定手性的碳纳米管的方法
JPH05208805A (ja) 塊状カーボン成形体およびその集合体並びにそれらの製法
AU758032B2 (en) Method for construction of nanotube matrix material
WO2002058139A2 (en) Diamondoid-containing materials in microelectronics
AU2003204543B2 (en) Armchair - zigzag single wall nanotube heterojunction device
AU2005202473B2 (en) Molecular structures comprising single wall carbon nanotubes
JP2004360115A (ja) 炭化ケイ素系ナノ繊維の製造方法
Seraphin et al. Extraordinary growth phenomena in carbon nanoclusters
Xie et al. One-step synthesis of crystalline tris (8-hydroxyquinoline) aluminum microtubes and their waveguide properties
Nikolaev et al. Fullerene nanowires
Kiricsi et al. Synthesis procedures for production of carbon nanotube junctions
US6228498B1 (en) Structured body of carbon having frustum protrusion and method for the preparation thereof
Haino et al. Supramolecular Chemistry of Fullerenes
Krätschmer C 60 as building block for new interesting carbon structures and species
WANG et al. The strings of multi-shell buckyballs

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20060203

A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711

Effective date: 20080109

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20080109

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20081209

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20090306

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20090313

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20090407

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20090414

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20090416

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20090818

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20091117

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20091203