JP2002505720A - 臭気およびシワ抑制用の未複合シクロデキストリン組成物 - Google Patents
臭気およびシワ抑制用の未複合シクロデキストリン組成物Info
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Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1. A.悪臭を吸収するために有効な量の可溶化未複合シクロデキストリン ; B.場合により、組成物の性能を改善するために有効な量のシクロデキストリ ン適合性界面活性剤; C.場合により、微生物を死滅させるか、またはその増殖を抑制するために有 効な量の、シクロデキストリン適合性で水溶性の抗微生物活性剤; D.場合により、香料の少くとも約50重量%の、約3.5未満のClogP を有した成分、および、場合により、アンブロックス、バクダノール、サリチル 酸ベンジル、アントラニル酸ブチル、セタロックス、ダマスセノン、α−ダマス コン、γ−ドデカラクトン、エバノール、ハーババート、シス−3−ヘキセニル サリチレート、α−ヨノン、β−ヨノン、α−イソメチルヨノン、リリアール、 メチルノニルケトン、γ−ウンデカラクトン、ウンデシレンアルデヒドおよびそ れらの混合物からなる群より選択される少量の香料成分を含有している、組成物 の許容性を改善するために有効な量の親水性香料; E.場合により、組成物の約0.01〜約3重量%の低分子量ポリオール; F.場合により、組成物の約0.001〜約0.3重量%のアミノカルボキシ レートキレーター; G.場合により、有効量の臭気効果改善用の金属塩; H.場合により、有効量の臭気抑制効果改善用の酵素; I.場合により、有効量の可溶化水溶性抗微生物保存剤; J.有効量のシクロデキストリン適合性布帛シワ抑制剤 (上記のシワ抑制剤は、場合により、シクロデキストリン適合性繊維平滑剤、シ クロデキストリン適合性形状保持ポリマー、シクロデキストリン適合性可塑剤、 シクロデキストリン適合性リチウム塩およびそれらの混合物からなる群より選択 される);および K.水性キャリア を含んだ安定な水性の臭気吸収組成物であって、 上記組成物は有効量の(B)、(C)のいずれか、または(B)および(C) の双方を有しており、および/または上記組成物は使用条件下で布帛を汚すかま たはしみにする物質を実質的に含まずに、約3.5以上のpHを有しており、お よび/または、上記組成物は、約10〜約120μmの重量平均径を有する小滴 として、上記組成物を分配することができる容器に充填されている、上記の臭気 吸収組成物。 2. シクロデキストリン適合性布帛シワ抑制剤が: I.繊維平滑剤である 〔場合により、その繊維平滑剤は以下のシリコーンである: 1.場合により式〔(CH3)2SiO〕5を有して、場合により約0.1〜約 5%のレベルで存在する、揮発性シリコーン 2.約0.1〜約5重量%のレベル、場合により約0.2〜約4重量%のレベ ルで存在し、場合により約10〜約2,000,000cstの粘度を有し、お よび/または下記からなる群より選択されるシリコーン: a.下記構造を有するポリアルキルシリコーン: A―Si(R2)―O―〔Si(R2)―O―〕q―Si(R2)―A (上記式中各R基はアルキル、ヒドロキシまたはヒドロキシアルキル基、および それらの混合物であり、約8未満の炭素原子を有している;qは約7〜約800 0の整数である;各Aは水素、メチル、メトキシ、エトキシ、ヒドロキシおよび プロポキシから選択される基である) b.下記式を有するシリコーン: HO―〔Si(CH3)2−O〕x―〔Si(OH)〔(CH2)3−NH− (CH2)2−NH2〕O〕y―H (上記式中xおよびyは整数である) c.下記式を有するシリコーン物質: (R1)aG3-a−Si−(−OSiG2)n− (OSiGb(R1)2-b)m−O−SiG3-a(R1)a (上記式中Gは水素、OHおよび/またはC1−C5アルキルからなる群より選択 される;aは0または1〜3の整数を表す;bは0または1を表す;n+mの合 計は1〜約2000の数である;R1は式CpH2pLの一価基であって、ここでp は2〜4の整数であり、Lは −N(R2)CH2−CH2−N(R2)2 −N(R2)2 −N+(R2)3A-および −N+(R2)CH2−CH2N+H2A- からなる群より選択され、上記式中各R2は水素、C1−C5飽和炭化水素基から なる群より選択され、各A-は適合性アニオンを表す) d.下記式を有するシリコーン: R3―N+(CH3)2―Z―〔Si(CH3)2O〕f―Si(CH3)2―Z―N+( CH3)2―R3・2CH3COO- (上記式中 Z=−CH2−CH(OH)−CH2O−(CH2)3 - R3は長鎖アルキル基を表す;および fは少くとも約2の整数を表す)、および e.それらの混合物 (場合により、ポリアルキルシリコーンである A―Si(R2)―O―〔Si(R2)―O―〕q―Si(R2)―A 上記式中AおよびR基はメチルである);または、 上記のシクロデキストリン適合性繊維平滑剤は微細なポリエチレンである〕;ま たは II.上記のシクロデキストリン適合性シワ抑制剤が約0.05〜約10%の形状 保持ポリマーであって、これはホモポリマーおよび/またはコポリマー、場合に より約−20〜約150℃のガラス転移温度を有したホモポリマーおよび/また はコポリマーであり、低分子量C1−C6不飽和有機モノおよびポリカルボン酸; 上記酸とC1−C6アルコールとのエステル;上記酸のアミドおよびイミド;低分 子量不飽和アルコール;上記アルコールと低分子量カルボン酸とのエステル;上 記アルコールのエーテル;極性ビニルヘテロサイクル化合物;不飽和アミンおよ びアミド;ビニルスルホネート;上記酸および上記アミンの塩;上記アミンのC1 −C4アルキル四級誘導体;低分子量不飽和炭化水素および誘導体;およびそれ らの混合物からなる群より選択されるモノマーからなり、そのモノマーは、場合 により、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、マレイン酸およびその半エス テル、イタコン酸、およびこれらの酸とメタノール、エタノール、1−プロパノ ール、2−プロパノール、1−ブタノール、2−メチル−1−プロパノール、1 −ペンタノール、2−ペンタノール、3−ペンタノール、2−メチル−1−ブタ ノール、1−メチル−1−ブタノール、3−メチル−1−ブタノール、1−メチ ル−1−ペンタノール、2−メチル−1−ペンタノール、3−メチル−1−ペン タノール、t−ブタノール、シクロヘキサノール、2−エチル−1−ブタノール およびそれらの混合物とのエステル、メチルアクリレート、エチルアクリレート 、t−ブチルアクリレート、メチルメタクリレート、ヒドロキシエチルメタクリ レート、メトキシエチルメタクリレート、N,N−ジメチルアクリルアミド、N −t−ブチルアクリルアミド、マレイミド、ビニルアルコール、アリルアルコー ル、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、メチルビニルエーテル、ビニルピロリ ドン、ビニルカプロラクタム、ビニルピリジン、ビニルイミダゾール、ビニルア ミン、ジエチレントリアミン、ジメチルアミノエチルメタクリレート、エテニル ホルムアミド、ビニルスルホネート、エチレン、プロピレン、ブタジエン、シク ロヘキサジエン、塩化ビニル、塩化ビニリデン、それらの塩、それらのアルキル 四級誘導体、およびそれらの混合物からなる群より、または ビニルアルコール、アクリル酸、メタクリル酸、メチルアクリレート、エチルア クリレート、メチルメタクリレート、t−ブチルアクリレート、t−ブチルメタ クリレート、n−ブチルアクリレート、n−ブチルメタクリレート、ジメチルア ミノエチルメタクリレート、N,N−ジメチルアクリルアミド、N,N−ジメチ ルメタクリルアミド、N−t−ブチルアクリルアミド、ビニルピロリドン、ビニ ルピリジン、アジピン酸、ジエチレントリアミン、それらの塩、それらのアルキ ル四級誘導体、およびそれらの混合物からなる群より選択され、または 上記のシクロデキストリン適合性シワ抑制剤が親水性モノマーおよび疎水性モノ マーのコポリマーであって、疎水性モノマー/親水性モノマーの比率がコポリマ ーの重量で約95:5〜約20:80または約90:10〜約40:60である か、または 上記の形状保持ポリマーが約0.1〜約5重量%で存在し、約−10〜約100 ℃のガラス転移温度を有して、場合により約1000〜約50,000の重量平 均分子量を有しているか、または 上記のシクロデキストリンシワ抑制剤がデンプン、デンプン誘導体およびそれら の混合物からなる形状保持ポリマーである;または III.上記のシクロデキストリン適合性シワ抑制剤が、グリセロール、エチレン グリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリ コールおよびそれらの混合物からなる群より選択される可塑剤約0.01〜約5 %である;または IV.上記のシクロデキストリン適合性シワ抑制剤が、臭化リチウム、乳酸リチウ ム、塩化リチウム、酒石酸リチウム、重酒石酸リチウム、それらの水和物、およ びそれらの混合物からなる群より選択されるリチウム塩およびリチウム塩水和物 約0.1〜約10%である;または V.それらの混合物である(その混合物は、場合により、繊維平滑剤および形状 保持ポリマーの混合物、または繊維平滑剤、形状保持ポリマーおよびリチウム塩 の混合物である)、 請求項1に記載の組成物。 3. シクロデキストリンが: (1)β−シクロデキストリン、α−シクロデキストリン、γ−シクロデキス トリン、上記シクロデキストリンの誘導体およびそれらの混合物からなる群より 選択されるか、 (2)メチル置換シクロデキストリン、エチル置換シクロデキストリン、ヒド ロキシアルキル置換シクロデキストリン、分岐シクロデキストリン、カチオン性 シクロデキストリン、四級アンモニウムシクロデキストリン、アニオン性シクロ デキストリン、両性シクロデキストリン、少くとも1つのグルコピラノース単位 が3−6−アンヒドロ−シクロマルト構造を有するシクロデキストリン、および それらの混合物からなる群より選択されるか、 (3)メチル化β−シクロデキストリン (4)メチル化α−シクロデキストリンおよびメチル化β−シクロデキストリ ンの混合物 (5)ヒドロキシプロピルβ−シクロデキストリン、または (6)ヒドロキシプロピルα−シクロデキストリンおよびヒドロキシプロピル β−シクロデキストリンの混合物 である、請求項1または2に記載の組成物。 4. (1)シクロデキストリンが組成物の約0.01〜約20重量%のレベ ルで存在し、界面活性剤が組成物の約0.01〜約8重量%のレベルで存在し、 (2)シクロデキストリンが組成物の約0.01〜約5重量%のレベルで存在 し、界面活性剤が組成物の約0.01〜約2重量%のレベルで存在し、 (3)シクロデキストリンが組成物の約0.1〜約3重量%のレベルで存在し 、界面活性剤が組成物の約0.03〜約0.6重量%のレベルで存在し、または (4)シクロデキストリンが組成物の約0.5〜約2重量%のレベルで存在し 、界面活性剤が組成物の約0.05〜約0.3重量%のレベルで存在する、 請求項1〜3のいずれか一項に記載の組成物。 5. 界面活性剤が有効量で存在し、 (1)エチレンオキシドおよびプロピレンオキシドのブロックコポリマー〔エ チレンオキシドおよびプロピレンオキシドの上記ブロックコポリマーは、場合に より、初期反応水素化合物としてエチレングリコール、プロピレングリコール、 グリセロール、トリメチロールプロパン、エチレンジアミンまたはそれらの混合 物をベースにしており、場合により、一般式 H(EO)n(PO)m(EO)nH(EOはエチレンオキシド基である;POは プロピレンオキシド基である;nおよびmは界面活性剤中にある基の平均数を示 した数値である;nは約2〜約100である;mは約10〜約100である)を 有する〕 (2)ポリアルキレンオキシドポリシロキサン(そのポリアルキレンオキシド ポリシロキサンは場合により下記一般式を有している: R1−(CH3)2SiO−〔(CH3)2SiO〕a - 〔(CH3)(R1)SiO〕b−Si(CH3)2−R1 上記式中a+bは約1〜約50である;各R1はメチルおよび下記一般式を有す る1以上のランダムポリ(エチレンオキシド/プロピレンオキシド)コポリマー 基からなる群より選択される: −(CH2)nO(C2H4O)c(C3H6O)dR2 上記式中nは3または4である;すべてのポリアルキレンオキシ側基について全 体のcは1〜約100の値を有する;dは0〜約14である;c+dは約5〜約 150の値を有する;各R2は同一または異なっており、水素、1〜4の炭素原 子を有するアルキル、およびアセチル基からなる群より選択される) (3)下記一般式を有するアルキルジフェニルオキシドジスルホネートアニオ ン性界面活性剤: (上記式中Rはアルキル基である) およびそれらの混合物からなる群より選択され、上記界面活性剤が場合により約 20〜約45dyne/cmの表面張力を呈する、請求項1〜4のいずれか一項に記載 の組成物。 6. (1)抗微生物活性剤が、組成物の約0.001〜約0.4重量%のレ ベルで、クロリド、ブロミド、硫酸、アルキルスルホン酸、フェニルスルホン酸 、p−メチルフェニルスルホン酸、硝酸、酢酸、グルコン酸の塩およびそれらの 混合物からなる群より選択されるビスビグアニドアルカン水溶性塩からなる群よ り選択される; (2)シクロデキストリンが組成物の約0.5〜約2重量%のレベルで存在し 、上記のビスビグアニドアルカン水溶性塩が組成物の約0.05〜約0.2重量 %のレベルで存在し、上記のビスビグアニドアルカン水溶性塩が、クロルヘキシ ジン、1,6−ビス(2−エチルヘキシルビグアニドヘキサン)二塩酸、1,6 − ジ(N1,N1’−フェニルジグアニド−N5,N5’)ヘキサン四塩酸、1,6− ジ(N1,N1’−フェニル−N1,N1’−メチルジグアニド−N5,N5’)ヘキ サン二塩酸、1,6−ジ(N1,N1’−o−クロロフェニルジグアニド−N5, N5’)ヘキサン二塩酸、1,6−ジ(N1,N1’−2,6−ジクロロフェニル ジグアニド−N5,N5’)ヘキサン二塩酸、1,6−ジ〔N1,N1’−β−(p −メトキシフェニル)ジグアニド−N5,N5’〕ヘキサン二塩酸、1,6−ジ( N1,N1’−α−メチル−β−フェニルジグアニド−N5,N5’)ヘキサン二塩 酸、1,6−ジ(N1,N1’−p−ニトロフェニルジグアニド−N5,N5’)ヘ キサン二塩酸、ω,ω’−ジ(N1,N1’−フェニルジグアニド−N5,N5’) ジ−n−プロピルエーテル二塩酸、ω,ω’−ジ(N1,N1’−p−クロロフェ ニルジグアニド−N5,N5’)ジ−n−プロピルエーテル四塩酸、1,6−ジ( N1,N1’−2,4−ジクロロフェニルジグアニド−N5,N5’)ヘキサン四塩 酸、1,6−ジ(N1,N1’−p−メチルフェニルジグアニド−N5,N5’)ヘ キサン二塩酸、1,6−ジ(N1,N1’−2,4,5−トリクロロフェニルジグ アニド−N5,N5’)ヘキサン四塩酸、1,6−ジ〔N1,N1’−α−(p−ク ロロフェニル)エチルジグアニド−N5,N5’〕ヘキサン二塩酸、ω,ω’−ジ (N1,N1’−p−クロロフェニルジグアニド−N5,N5’)m−キシレン二塩 酸、1,12−ジ(N1,N1’−p−クロロフェニルジグアニド−N5,N5’) ドデカン二塩酸、1,10−ジ(N1,N1’−フェニルジグアニド−N5,N5’ )デカン四塩酸、1,12−ジ(N1,N1’−フェニルジグアニド−N5,N5’ )ドデカン四塩酸、1,6−ジ(N1,N1’−o−クロロフェニルジグアニド− N5,N5’)ヘキサン二塩酸、1,6−ジ(N1,N1’−p−クロロフェニルジ グアニド−N5,N5’)ヘキサン四塩酸、エチレンビス(1−トリルビグアニド )、エチレンビス(p−トリルビグアニド)、エチレンビス(3,5−ジ メチルフェニルビグアニド)、エチレンビス(p-tert-アミルフェニルビグアニ ド)、エチレンビス(ノニルフェニルビグアニド)、エチレンビス(フェニルビ グアニド)、エチレンビス(N−ブチルフェニルビグアニド)、エチレンビス( 2,5−ジエトキシフェニルビグアニド)、エチレンビス(2,4−ジメチルフ ェニルビグアニド)、エチレンビス(o−ジフェニルビグアニド)、エチレンビ ス(混合アミルナフチルビグアニド)、N−ブチルエチレンビス(フェニルビグ アニド)、トリメチレンビス(o−トリルビグアニド)、N−ブチルトリメチレ ンビス(フェニルビグアニド)、および上記すべてに対応した製薬上許容される 塩、例えば酢酸、グルコン酸、塩酸、臭化水素酸、クエン酸、重亜硫酸、フルオ リド、ポリマレイン酸、N−ココナツアルキルサルコシン酸、亜リン酸、次亜リ ン酸、ペルフルオロオクタン酸、ケイ酸、ソルビン酸、サリチル酸、マレイン酸 、酒石酸、フマル酸、エチレンジアミン四酢酸、イミノ二酢酸、シンナム酸、チ オシアン酸、アルギン酸、ピロメリット酸、テトラカルボキシ酪酸、安息香酸、 グルタル酸、モノフルオロリン酸、ペルフルオロプロピオン酸の塩およびそれら の混合物からなる群より選択される; (3)上記の抗微生物活性剤がクロルヘキシジンである; (4)上記の抗微生物活性剤が存在しており、組成物の約0.001〜約0. 8重量%のレベルにある四級アンモニウム化合物である;または (5)上記の四級アンモニウム化合物が組成物の約0.001〜約0.4重量 %のレベルであり、(1)塩化ベンザルコニウム、(2)置換塩化ベンザルコニ ウム、(3)ジ(C6−C14)アルキルアンモニウム塩、(4)N−(3−クロ ロアリル)ヘキサミニウムクロリド、(5)塩化ベンゼトニウム、(6)塩化メ チルベンゼトニウム、(7)塩化セチルピリジニウムおよび(8)それらの混合 物からなる群より選択される; 請求項1〜5のいずれか一項に記載の組成物。 7. 界面活性剤がポリアルキレンオキシドポリシロキサンであって、D〜H のうち少くとも1種を更に含んでいる、請求項1〜6のいずれか一項に記載の組 成物。 8. A.香料の少くとも約50重量%の、約3.5未満のClogPを有し た成分、および、場合により、アンブロックス、バクダノール、サリチル酸ベン ジル、アントラニル酸ブチル、セタロックス、ダマスセノン、α−ダマスコン、 γ−ドデカラクトン、エバノール、ハーババート、シス−3−ヘキセニルサリチ レート、α−ヨノン、β−ヨノン、α−イソメチルヨノン、リリアール、メチル ノニルケトン、γ−ウンデカラクトン、ウンデシレンアルデヒドおよびそれらの 混合物からなる群より選択される少量の香料成分を含有している、組成物の許容 性を改善するために有効な量の親水性香料; B.組成物の約0.01〜約3重量%の低分子量ポリオール(そのポリオール は、場合により、グリセロール、エチレングリコール、プロピレングリコール、 ジエチレングリコール、ジプロピレングリコールおよびそれらの混合物からなる 群より選択される); C.組成物の約0.001〜約0.3重量%のアミノカルボキシレートキレー ター; D.有効量の臭気効果改善用の金属塩; E.有効量の可溶化水溶性抗微生物保存剤; F.約20,000以下の平均分子量を有する有効量のポリアニオン酸または そのアルカリ金属塩(上記のポリアニオン酸またはそのアルカリ金属塩は、場合 により、組成物の約0.001〜約3重量%の上記ポリアクリル酸またはそのア ルカリ金属塩であって、約5000以下の平均分子量を有している); G.組成物の約0.001〜約0.8重量%の、2つのC1-4アルキルおよび /またはヒドロキシアルキル基および2つのC6-14アルキル基を有した四級化合 物;および H.有効量の臭気抑制効果改善用の酵素; のうち少くとも1種を場合により含んだ、請求項1〜7のいずれか一項に記載さ れた安定な水性の臭気吸収組成物。 9. 透明である、および/または、場合によりトリガースプレー装置を含め た、約10〜約120μmの重量平均径を有する小滴を供せる、スプレーディス ペンサー中に存在している、請求項1〜8のいずれか一項に記載の組成物。 10.布帛で臭気および/またはシワを抑制するための方法であって、 場合により (1)トリガースプレー装置(場合により、形成されるスプレーの小滴は約1 0〜約120μmの重量平均径を有する);または (2)非手動式スプレー器(その非手動式スプレー器は、場合により、動力式 スプレー器、空気吸引式スプレー器、液体吸引式スプレー器、静電気スプレー器 およびネブライザースプレー器からなる群より選択され、非手動式スプレー器に より形成されるスプレーの小滴は、場合により約10〜約120μmの重量平均 径を有している) を用いて、請求項1〜9のいずれか一項に記載された組成物の有効量をこのよう な表面上にスプレーすることからなる、上記の方法。
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