JP2002504206A - 渦流プレート及び渦流プレートを備えた燃料噴射弁 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 本発明は、渦流プレートであって、該渦流プレートが少なくとも１つの金属材料から成っていて、少なくとも１つの入口部分（６５）及び少なくとも１つの流出開口（６９）で以て形成されており、この場合、少なくとも１つの流出開口（６９）が下側の底部層（６２）内に形成されており、かつ当該渦流プレートが、渦流室（６８）内に開口する少なくとも２つの渦流通路（６６）を備えており、渦流室（６８）が中間の渦流形成層（６１）内に設けられている形式のものに関する。上側の層がカバー層（６０）として形成されており、カバー層が横断面全体にわたって開口輪郭のない閉じた層を成している。渦流プレート（３０）のすべての層が電気めっきによる金属堆積（多層電気めっき）によって互いに重なって直接に付着結合して形成されている。渦流プレート（３０）が特に、燃料噴射弁、殊に混合気圧縮外部点火式の内燃機関の燃焼室内への燃料の直接的な噴射のための高圧噴射弁への使用に適している。

Description

【発明の詳細な説明】 渦流プレート及び渦流プレートを備えた燃料噴射弁 背景技術 本発明は、請求項１の上位概念に記載の形式の渦流プレート及び、渦流プレー トを備えた、請求項２３の上位概念に記載の形式の燃料噴射弁に関する。 ドイツ連邦共和国特許第３９４３００５号明細書により公知の電磁操作式の燃 料噴射弁においては、座領域にプレート状の複数の部材が配置されている。磁気 回路の励磁に際して、扁平可動子として機能する扁平な弁プレートが、該弁プレ ートと協働する相対する弁座プレートから持ち上げられるようになっており、弁 座プレートと弁プレートとが一緒にプレート弁部分を形成している。弁座プレー トの上流側に渦流部材を配置してあり、該渦流部材が弁座に向かって流れる燃料 に円形の回転運動を与える。ストッパプレートが、弁座プレートに相対する側で 弁プレートの軸線方向の行程を制限している。弁プレートは大きな遊びを置いて 渦流部材によって取り囲まれており、従って弁プレートの案内が渦流部材を受容 している。渦流部材の下側の端面に接線方向へ延びる複数の溝を形成してあり、 該溝が外周から出発して、中央の渦流室内に達している。渦流部材を下側の端面 で弁座プレートに接触させ ることによって、溝が渦流通路として機能する。 国際公開９６／１１３３５号明細書によりすでに公知の燃料噴射弁においては 、燃料噴射弁の下流側の端部に、渦流形成機能付きの多プレート状(mehrscheibi g)の霧化ユニットが配置されている。霧化ユニットは、弁座支持体内に組み込ま れたプレート状の案内部材及び弁座の下流側で同じく弁座支持体に設けられてお り、この場合、付加的な支持部材が霧化ユニットを規定された位置に保持してい る。霧化ユニットは二枚プレート状(zweischeibig)若しくは四枚プレート状(vie rscheibig)に形成されており、個別のプレートがステンレス鋼若しくは珪素から 製造されている。プレート内への開口の形成に際して慣用の加工手段、例えば浸 食、打ち抜き若しくはエッチングが用いられる。霧化ユニットの個別の各プレー トは個別に製造されて、互いに同じ大きさのすべてのプレートが完全な霧化ユニ ットの形成のために所望の数で互いに上下に積み重ねられる。 ドイツ連邦共和国特許出願公開第１９６０７２８８号明細書には、特に燃料噴 射弁への使用に適した穴付きプレートの製造のための多層電気めっきが詳細に記 載してある。複数回の電気めっきでの種々の構造の金属堆積によるこのような製 造手段が本発明の先行技術である。複数の面、層若しくは工程内でのマイクロ電 気めっきによる金属堆積が本発明に基づく渦流プレー トの製造にも用いられる。 発明の利点 請求項１に記載の特徴を有する本発明に基づく渦流プレートにおいては利点と して、渦流プレートが特に簡単にかつ経済的に製造可能である。著しい利点とし て、渦流プレートが極めて正確に再現可能な形式で著しく大きな個数で同時に製 造できる（高いバッチ処理能力）。このような渦流プレートは金属構造に基づき 壊れにくく、かつ例えば噴射弁若しくはあらゆる種類の流体の噴射ノズルに良好 に組み込み可能である。多層電気めっきの利用によって極めて大きな形状自由度 が得られ、それというのは渦流プレートの開口部分（流入部分、渦流通路、渦流 室、流出開口）の輪郭が自由に選択可能であるからである。結晶軸に基づき可能 な輪郭を制限している（角錐台）珪素プレートに比べて、極めて柔軟な輪郭形成 が有利に可能である。 金属質の堆積は珪素プレートの製造に比べて極めて大きな材料多様性を有して いる。磁気特性及び硬度の異なる種々の材料が、渦流プレートの製造のために用 いるマイクロ電気めっきによって使用可能である。異なる材料の異なる硬度が、 シール性の材料部分を形成する場合に有利に活用される。渦流プレート内の輪郭 の大きな形状自由度によって、噴射すべきスプレーの種々の噴流形が簡単に得ら れる。スプレーが中空円錐、斜めの中空円錐、内実円錐、斜めの内実円錐の形で 得られ、若しくは扁平噴射流が得られる。多層電気めっきによって、特に有利な 形式で問題なく経済的にかつ極めて高い精度でアンダーカット部及びオーバーラ ップ部が得られる。 請求項１に記載の渦流プレートの有利な改良が従属項に記載の構成によって可 能である。 特に有利には、渦流プレートが３つの層から成っており、金属堆積のための３ つの電気めっき段階が設けられている。この場合、上流側の層がカバー層であり 、カバー層が中間の渦流形成層の渦流質を完全に被っている。渦流形成層が単数 若しくは複数の材料部分によって形成されており、該材料部分が輪郭形成及び相 互の幾何学的な位置に基づき渦流室及び渦流通路の輪郭を規定している。電気め っきプロセスによって、個別の層が分離箇所若しくは継ぎ目箇所なしに重ねて形 成されて、従って一貫して均質な材料を成す。 有利には渦流プレート内に２つ、３つ、４つ若しくは６つの渦流通路が設けら れている。材料部分は渦流通路の所望の輪郭形成に対応して著しく異なる形を有 し、例えばウエブ状若しくはスパイラル状であってよい。さらに有利な形式で、 渦流質、カバー層及び流出開口の輪郭が柔軟に形成可能であり、この場合、所定 の開口輪郭の非対称によって、傾斜された、例えば機関固有の噴射流若しくはス プレーが得られる。簡単にかつ所定の斜め噴射輪郭（斜め孔）のための付加的な 構成部分なしに、渦流プレートの対称軸線に対して所定の角度γで傾斜された（ 中空円錐の、内実円錐の、全周にわたって均一に分布若しくは不均一に分布する ）スプレー若しくは噴射流、若しくは非回転対称的な（扁平・）噴射流を形成で きることは、本発明の渦流プレートの極めて重要な利点である。 特に有利には、材料部分が次のように互いに異なって形成されていて、即ち、 すべての渦流通路が渦流プレートの対称軸線に関連してそれぞれ異なる方向を有 している。渦流通路が渦流通路の向きを半径方向から接線方向に周方向で連続的 に変化させるように延びている。このような構成によって、精密機械加工されて 下流側に接続される構成部分なしに、渦流プレートの対称軸線に対して傾斜した スプレーが形成されできる。 請求項２３に記載の構成を有する本発明に基づく燃料噴射弁においては利点と して、該燃料噴射弁を用いることによって、噴射すべき燃料の著しく高い微粒化 特性、並びにそれぞれの要求（例えば、組み込み条件、機関構造、シリンダ形状 、点火プラグ位置）に適合された噴射流若しくはスプレーが得られる。結果とし て、多層電気めっき・渦流プレートを内燃機関の噴射弁に使用した場合、特に内 燃機関の排ガスエミッションが減少され、同じく燃料消費量の減少が達成される 。 渦流プレートについて述べた利点から、燃料噴射弁への使用における相応の利 点が必然的に理解されるものであり、それというのは渦流プレートの簡単かつ申 し分なく再現可能な製造によって燃料噴射弁にとって、流体、ここでは燃料内に 高い渦流作用を伴って高い品質、均一な微粒噴霧、噴射流の形の容易な変更及び コスト削減が達成されるからである。 内燃機関のガソリン直接噴射においては一般的に問題として、噴射弁の、燃焼 室に突入する下流側の先端がガソリン付着物によって炭化する。従って燃焼室内 に突入する従来公知の噴射弁においてはスプレーパラメータ（例えば、流量、噴 射角度）への不都合な影響のおそれがあり、このような不都合な影響は噴射弁の 故障につながる。燃料噴射弁の下流側の端部にニッケル若しくはニッケル・コバ ルトの材料から成る多層電気めっき・渦流プレートを使用することによって、該 領域での炭化が効果的に避けられる。適当な材料はさらに酸化コバルト、酸化ニ ッケル及びこれらの金属の合金である。このような材料から成る渦流プレートの 構成によって、カーボン粒子の完全燃焼が触媒作用によって促進され、炭素粒子 の堆積が避けられる。触媒作用は、貴金属Ru，Rh，Pd，Os，Ir及びPt若しくはこ れらの金属の合金、若しくは別の金属によっても得られる。 次に図示の実施例に基づきさらなる利点を、詳細に 述べる。 図面 本発明の実施例を図面に概略的に示してある。図１は、渦流プレートを装備可 能な燃料噴射弁の断面図、図２は本発明に基づく渦流プレートの平面図、図３は 図２の線ＩＩＩ−ＩＩＩに沿った断面図、図４は本発明に基づく多層電気めっき ・渦流プレートの第１の実施例の平面図、図５は本発明に基づく渦流プレートの 第２の実施例の平面図、図６は本発明に基づく渦流プレートの第３の実施例の平 面図、図７は本発明に基づく渦流プレートの第４の実施例の平面図、図８は本発 明に基づく渦流プレートの第５の実施例の平面図、図９は本発明に基づく渦流プ レートの第６の実施例の平面図、図１０は本発明に基づく渦流プレートの第７の 実施例の平面図、図１１は本発明に基づく渦流プレートの第８の実施例の平面図 、及び図１２は本発明に基づく渦流プレートの第９の実施例の平面図である。 実施例の説明 混合気圧縮外部点火式の内燃機関の燃料噴射装置のための噴射弁の形の、図１ に実施例として示す電磁操作可能な弁は、磁気コイル１によって少なくとも部分 的に取り囲まれて磁気回路の内側極(Innenpol)として役立つ管状のほぼ中空円筒 形のコア２を有している。このような燃料噴射弁は特に高圧噴射弁として内燃機 関の燃焼室内へ燃料を直接に噴射するために適してい る。後で詳細に述べる本発明に基づく渦流プレートの使用にとって、（ガソリン 若しくはディーゼルのため、直接噴射若しくは吸気管噴射のための）噴射弁は、 重要な使用範囲の１つである。渦流プレートはインキジェット印刷、あらゆる種 類の液体のスプレーのためのノズル若しくは吸入器にも使用できる。渦流成分を 伴った細かいスプレーの形成のために、本発明に基づく渦流プレートは全く一般 的に用いられる。 プラスチックから成る実施例では段付きのコイル本体３は、磁気コイル１の巻 体を受容していて、磁気コイル１の領域でコア２及び、磁気コイル１によって部 分的に取り囲まれた非磁性のリング状の断面Ｌ字形の中間部材４と関連して噴射 弁の特にコンパクト及び短い構造を可能にしている。 コア２内に貫通する縦孔７を設けてあり、縦孔は弁縦軸線８に沿って延びてい る。磁気回路のコア２は燃料入口片としても役立っており、縦孔７が燃料供給通 路を成している。コア２に、磁気コイル１の上側で金属性（例えばフェライト性 ）の外側のケーシング部分１４を堅く結合してあり、ケーシング部分が外側極(A ussenpol)若しくは外側の導体部材として磁気回路を閉じていて、磁気コイル１ を少なくとも周方向で完全に取り囲んでいる。コア２の縦孔７内には流入側に燃 料フィルタ１５を設けてあり、燃料フィルタは、大きいために噴射弁内で詰まり 若しくは損傷を生ぜしめて しまうような燃料成分の濾過のために役立っている。 燃料フィルタ１５は例えば圧入によってコア２内に固定されている。 コア２はケーシング部分１４と一緒に燃料噴射弁の流入側の端部を形成してお り、上側のケーシング部分１４が実施例では軸線方向で見てちょうど磁気コイル １を越えて延びている。上側のケーシング部分１４に管状の下側のケーシング部 分１８を密接にかつ堅く結合してあり、該ケーシング部分は、例えば軸線方向運 動可能な１つの弁部分を受容しており、弁部分が可動子１９及びロッド状の弁ニ ードル２０若しくは長尺の弁座支持体２１から成っている。運動可能な弁部分は 例えば、可動子と組み合わされた扁平なプレートの形を有していてよい。両方の ケーシング部分１４，１８は例えば循環する溶接継ぎ目によって互いに堅く結合 されている。 図１に示す実施例においては、下側のケーシング部分１８とほぼ管状の弁座支 持体２１とがねじによって互いに堅く結合されているが、溶接、ろう付け若しく はつば出し(Boerdeln)も同じく可能な継ぎ手手段である。ケーシング部分１８と 弁座支持体２１との間の密閉が例えばシールリング２２によって行われる。弁座 支持体２１は内部に軸線方向の全長にわたって貫通孔２４を有しており、該貫通 孔は弁縦軸線８と同軸的に延びている。 弁座支持体２１は下側の端部２５（該端部は燃料噴射弁の下流側の閉鎖部を成 す）で以て、貫通孔２４内にはめ込まれたプレート状の弁座部材２６を取り囲ん でおり、弁座部材は下流側へ円錐台形に先細の弁座面２７を備えている。貫通孔 ２４内に、例えばほぼ円形横断面のロッド状の弁ニードル２０を配置してあり、 弁ニードルは下流側の端部に弁閉鎖区分２８を有している。実施例では円錐状に 先細の弁閉鎖区分２８は公知の形式で、弁座部材２６に設けられた弁座面２７と 協働する。弁座面２７の下流側で弁座部材２６に続けて、本発明に基づく渦流プ レート(Drallscheibe)３０を配置してあり、渦流プレートは多層電気メッキによ って形成されていて、重ねて堆積された３つの金属層を有している。 噴射弁の作動は公知の形式で電磁的に行われる。弁ニードル２０の軸線方向の 運動のため、ひいては噴射弁の、コア２の縦孔７内に配置された戻しばね３３の ばね力に抗した開放若しくは閉鎖のために、磁気コイル１、コア２、ケーシング 部分１４，１８及び可動子１９を備えた電磁回路が用いられている。可動子１９ は弁ニードル２０の、弁閉鎖区分２８と逆側の端部に、例えば溶接継ぎ目によっ て結合されていて、コア２に向けられている。可動子１９による弁ニードル２０ の軸線方向運動中に弁ニードルを弁縦軸線８に沿って案内するために、一方で、 弁座支持体２１内で可動子 １９に向けられた端部に設けられた案内開口３４が役立ち、かつ他方で、弁座部 材２６の上流側に配置されたプレート状の案内部材３５の正確な寸法の案内開口 ３６が役立っている。可動子１９は軸線方向運動中には中間部分４によって取り 囲まれている。 電磁回路の代わりに励起可能な別のアクチュエータ、例えば圧電素子が用いら れてよく、若しくは軸線方向で運動可能な弁部分の作動が液力若しくはサーボ圧 力によって行われてよい。 コア２の縦孔７内に押し込まれ、圧入され、若しくはねじ込まれた調節スリー ブ３８は、上流側の端部でセンタリング片３９を介して調節スリーブ３８に接触 する戻しばね３３のばね予張力の調節のために役立っており、該戻しばねは相対 する端部で可動子１９に支持されている。可動子１９内に孔状の単数若しくは複 数の流れ通路４０が設けてあり、従って燃料がコア２の縦孔７から、流れ通路４ ０、及び該流れ通路４０の下流側で弁座支持体２１内の案内開口３４の近くに形 成された接続通路４１を通って貫通孔２４まで達する。 弁ニードル２０の行程が弁座部材２６の組み込み位置によって規定される。弁 ニードル２０の一方の終端位置が磁気コイル１の非励磁状態で弁閉鎖区分２８と 弁座部材２６の弁座面２７との接触によって規定されており、弁ニードル２０の 他方の終端位置が磁気コイ ル１の励磁状態で可動子１９とコア２の下流側の端面との接触によって規定され ている。コアと可動子との接触領域の表面は実施例ではクロムめっきされている 。 磁気コイル１の電気的な接触、ひいては磁気コイルの励磁は接触部材４３を介 して行われ、接触部材はコイル本体３の外側でプラスチック射出成形部４４を備 えている。プラスチック射出成形部４４はさらに燃料噴射弁の別の構成部分（例 えばケーシング部分１４，１８）にわたって延びていてよい。プラスチック射出 成形部４４から電気的な接続ケーブル４５が延びており、接続ケーブルを介して 磁気コイル１への給電が行われる。プラスチック射出成形部４４は、該領域で中 断された上側のケーシング部分１４内に入り込んでいる。 弁座支持体２１の貫通孔２４は、案内開口３４の下流側で実施例では２つの段 部で以て形成されている。第１の段部４９が例えばコイル状の圧縮ばね５０のた めの支持面として役立っている。第２の段部５１によって、プレート状の３つの 部材３５，２６，３０のための組み込みスペースが拡大されている。弁ニードル ２０を取り囲む圧縮ばね５０は、段部４９と逆の側で案内部材３５を押圧して弁 座支持体２１内に案内部材３５を締め付けている。弁座部材２６内で弁座面２７ の下流側に出口開口５３が形成されており、出口開口 を介して噴射弁の開放時に弁座面２７に沿って流れる燃料が流過して、次いで渦 流プレート３０内に流入する。渦流プレート３０は実施例では、プレート状の保 持部材５５の凹所５４内に配置されており、保持部材が弁座支持体２１に例えば 溶接、接着若しくは締め付け(Verklemmen)によって堅く結合されている。図１に は渦流プレート３０の取り付け例が概略してあり、種々の取り付け手段が可能で ある。重要なことは、弁座面２７の下流側でのマイクロ電気めっき(mikrogalvan isch)によって堆積された渦流プレートの配置である。保持部材５５の、弁座に 向けられた凹所５４の下流側に中央の流出開口５６が形成されており、流出開口 を通って燃料が今や渦流を成して燃料噴射弁から流出する。 図２は本発明に基づく渦流プレート３０の原理を示しており、図３は図２の線 ＩＩＩ−ＩＩＩに沿った断面図である。この場合、図２には渦流プレート３０の 平面が示してあり、渦流プレート３０のすべての層が透かし作図(glaeserne Dar stellungsweise)によって明らかにしてある。軸線方向の層構造が特に図３に明 瞭に示してあり、図３は図１の渦流プレート領域の拡大図である。図３において 、堆積された個々の層に対して、異なるハッチングを選んであるものの、渦流プ レート３０は一体構造体であり、それというのは個別の層は直接に重ねて堆積さ れ、後から接合されるもの ではないからである。渦流プレート３０の層は順次に電気めっきによって堆積さ れ、その結果、後続層が電気めっきの付着によって下側の層に堅く結合される。 渦流プレート３０は、わずかな遊びでピンと張った状態で燃料噴射弁の受容開 口、例えば保持部材５５の凹所５４内若しくは弁座支持体２１の開口内に押し込 まれるような外径である。渦流プレート３０は電気めっきで重ねて堆積され、従 って組み込まれた状態で軸線方向に上下に続く３つの面(Ebene)、ステップ若し くは層から形成される。渦流プレート３０の３つの層は以下において、層の機能 に基づきカバー層６０、渦流形成層６１、及び底部層６２と呼ぶ。図２及び図３ から明らかなように、上側のカバー層６０は続く両方の層６１，６２よりも小さ な外径で形成されている。これによって、燃料が確実にカバー層６０の外周を通 って流れ、従って妨げられずに、中間の渦流形成層６１内に渦流プレート３０の 外周から延びるように形成された実施例では４つの渦流通路６６の外側の入口部 分６５内へ流入する（図３の流れ経過のための矢印、参照）。渦流プレート３０ は本発明の方法に基づき３つよりも多くの層で形成されてよく、この場合にも前 述の層６０，６１，６２の構造体が同じように見られ、例えばカバー層６０の上 にさらに第４の図示してない構造体層(Strukturschicht)を成長させ、該構造体 層が所定の組み込み条件及び流過条件に適合される。 上側の層６０は、流過のための開口部分を有することのない閉じた金属性の層 を成しており、該層はしかしながら小さい直径に基づきリング状の流れ部分６７ によって取り囲まれている。これに対して、渦流形成層６１内に複雑な開口輪郭 (Oeffnungskontur)を設けてあり、開口輪郭は該層６１の軸線方向の厚さ全体に わたって延びている。中間の層６１の開口輪郭は内側の１つの渦流室６８及び該 渦流室内に開口する複数の渦流通路６６によって形成されている。渦流プレート ３０の図２に示す原理図では、中間の層６１はほぼ正方形の１つの渦流室６８及 び４つの渦流通路６６を有している。それぞれ隣接の渦流通路６６に対して垂直 に延びる渦流通路６６は、接線方向で渦流室６８に開口している。渦流室６８が 完全にカバー層６０によって被われているのに対して、渦流通路６６は部分的に しか被われておらず、それというのは渦流室６８と逆の側の端部が上側に向かっ て開いた入口部分６５を形成しているからである。渦流室６８内への渦流通路６ ６の接線方向の開口に基づき、燃料が回転パルスを受け、回転パルスは下側の底 部層６２の中央の円形の流出開口６９内でも維持されている。流出開口６９の直 径は実施例では、該流出開口のすぐ上に位置する渦流室６８の開口幅よりも著し く小さくなっている。これによって、渦流室６８内での渦流力が増大される。こ のような遠心力によって燃料は中空円錐状に噴射され る。 本発明に基づく渦流プレート３０は金属性の複数の層で電気めっきの堆積によ って形成される（多層電気めっき[Multlayergalvanik)。ディープリソグラフィ 、電気めっき式の製造に基づき、輪郭形成における特徴が得られ、特徴の幾つか を短く述べると： ―プレート面にわたって一様な厚さの層、 ―ディープリソグラフィによるパターニングに基づいて、層内の、流過される中 空室を形成するほぼ垂直な切り口(Einschnitt)（理想的な垂直な壁に対してほぼ ３°の偏差しか生せず）、 ―パターニングされた個別の金属層の多層構造による切り口の所望のアンダーカ ット及びオーバーラップ、 ―ほぼ軸線平行な側壁を有する開口の任意の横断面形状、 ―渦流プレートの一体構造、それというのは個別の金属堆積が直接に重ねて行わ れるからである。 次に渦流プレート３０の製造のための方法を概略的に述べる。孔付きプレート の製造のための電気めっきによる金属堆積の詳細な方法は既にドイツ連邦共和国 特許出願公開第１９６０７２８８号明細書に記載してある。連続的な壁の製造法 の特徴はフォトリソグラフィプロセス（ＵＶ・ディープリソグラフィ）及び続く マイクロ電気めっきであり、大きな面で高い精度のパターニングが保証され、従 って大きな個品数の大量生 産（高いバッチ処理能力）に理想的に使用可能である。１つのウエハーに複数の 渦流プレート３０が同時に製造されてよい。 前記製造方法の出発点は平らな安定的な支持プレート(Traegerplatte)であり 、支持プレートは例えば金属（チタン、鋼）、珪素、ガラス若しくはセラミック から成っていてよい。支持プレート上に選択的にまず少なくとも１つの補助層が 形成される。この場合、補助層は例えば電気めっきスタート層（例えば、TiCuTi ，CrCuCr，Ni）であり、電気めっきスタート層は後のマイクロ電気めっきの電気 的な導体のために必要である。補助層の形成は、例えばスパッタリング若しくは 無電流の金属堆積によって行われる。支持プレートのこのような前処理の後に、 補助層上にフォトレジスト（フォトラック）が面全体に施され、例えば圧延若し くは遠心付着される。 フォトレジストの厚さは、後で行われる電気めっきプロセスで形成すべき金属 層の厚さ、即ち渦流プレート３０の下側の底部層６２の厚さでありたい。レジス ト層はフォトパターニング可能なシートの１つ若しくは複数の膜若しくは液体レ ジスト（ポリイミド、フォトラック）から成っていてよい。選択的に犠牲層を後 で形成すべきラック構造体内に電気めっきしたい場合には、フォトレジストの厚 さは犠牲層の厚さだけ増大される。形成する金属構造体はフォトリソグラフィ可 能なマスクを用いてフォトレジスト内に移される。１つの可能性が、フォトレジ ストを直接にマスクを介してＵＶ・露光装置（導体プレート露光装置若しくは半 導体露光装置）によって露光して（ＵＶ・ディープリソグラフィ）、次いで現像 することにある。 渦流プレート３０の後の層６２のための、最終的にフォトレジスト内に生じる ネガ構造体が、電気めっきによって金属（例えば、Ni，NiCo，NiFe，NiW，Cu） を満たされる（金属堆積）。金属は電気めっきによってネガ構造体の輪郭に密着 しており、従って形成される輪郭はネガ構造体内で正確に再現される。渦流プレ ート３０の構造体を形成するために、前述の段階が補助層の選択的な形成から所 望の層の数に応じて繰り返され、従って３層の渦流プレート３０の場合には３回 の電気めっき処置が行われる。渦流プレート３０の層にとって異なる金属が用い られてよい。 渦流プレート３０のカバー層６０の形成に際しては金属が導電性の材料部分６ １’上にも、渦流通路６６及び渦流室６８の領域の非導電性のフォトレジスト上 にも堆積される。このために、スタート層金属が先行の中間の層６１のレジスト 上に施される。上側のカバー層６０の堆積の後に、残っているフォトレジストが 金属構造体から科学的なウエットタイプのストリップによって除去される。不活 性化された平滑な支持プレート（サブストレート）においては渦流プレート３０ がサブストレートから外されて個別化される。渦流プレート３０の良好に付着し た支持プレートにおいては犠牲層がサブストレート及び渦流プレート３０に対し てエッチング除去され、これによって渦流プレート３０が支持プレートから離さ れて個別化される。 図４乃至図１２に多層電気めっき・渦流プレート(Multilayergalvanik-Dralls cheibe)３０の新規な実施例が示してある。このような種々の実施例は使用目的 に応じて通常は回転対称的な円錐噴射流、若しくは扁平噴射流、若しくは傾斜さ れた非対称的な噴射流の形成のために用いられる。 図４には、同じく３つの層６０，６１，６２を有する渦流プレート３０が示し てある。この場合、上側のカバー層６０及び下側の底部層６２が図２と同じ形式 で、即ち円形の輪郭で形成されており、底部層６２が大きな外径であって、中央 に流出開口６９を備えている。中間の渦流形成層６１は、図２に示す渦流形成層 と異なっている。周方向で互いに隔てられた４つの材料部分６１’（該材料部分 間に渦流通路６５及び渦流室６８の輪郭が正確に形成されている）が図２の実施 例では渦流プレート３０の外側の縁部から出発しているのに対して、図４の渦流 形成層６１の材料部分６１’はウエブ状(stegartig)に、渦流プレート３０の外 側の縁部から距離を置いて形成されている。４つの材料部分６１’はそれぞれ隣 接の材料部分６１’に対して ほぼ垂直に位置して、規定された間隔で互いに協働して、カバー層６０によって 被われた渦流通路６６を形成している。材料部分６１’の、渦流室６８を半径方 向で制限する端部７０が実施例ではショベル状(schaufelfoermig)に丸味を付け られていて、その結果、材料部分６１’の輪郭が噴射すべき燃料の渦流形成に役 立っており、円形の渦流室６８が形成されている。材料部分６１’の内側の端部 ７０と逆の側の端部は例えば外側の輪郭を同じく丸味を付けられており、これに よって、渦流プレートを簡単に例えば燃料噴射弁の開口内に挿入して取り付ける ための接合直径が規定される。渦流プレート３０の対称軸線若しくは弁の弁縦軸 線８に対して所定の角度γを成した非対称的な噴射流を形成するために、流出開 口６９は中心からずらして底部層６２に形成されていてよく、このことは図４に 一点鎖線で描かれた流出開口６９ａによって示してある。このような変化例によ って、傾きの他に中空円錐若しくは中実円錐の周囲にわたって所望する不均一な 分布が達成されて、非対称性が生じる。 図５及び図６に示してある渦流プレート３０は底部層６２内に楕円形の流出開 口６９を有している。このような形式で形成された渦流プレート３０によっては 、渦巻く扁平噴射流が生ぜしめられる。図５の渦流プレート３０は回転対称的な 渦流室６８を有しており；これに対して図６の渦流プレート３０は楕円形の渦流 室６８を有しており、該渦流室は流出開口６９の輪郭に適合されていて、特に一 様な流れを形成するようになっている。図６に示す楕円形の渦流室６８は、それ ぞれ相対する２つの材料部分６１’が互いに同じ厚さで、しかしながら別の両方 の材料部分６１’に対して異なる幅で形成し、しかも材料部分６１’のすべての 端部７０が楕円形の流出開口６９に対して互いに同じ距離を有することによって 得られる。 渦流形成層６１のスパイラル状の材料部分６１’を備えた渦流プレート３０が 図７及び図８に示してある。前述の実施例の渦流プレート３０の縁部から隔てら れたウエブ状の材料部分６１’の代わりに、２つ（図７）若しくは４つ（図８） の材料部分６１’が外側の縁部から出発してスパイラル状に回転された状態で配 置されている。この場合、渦流通路６６は特に図８に示す実施例では流れ方向で 横断面を狭めて、流動損失を減少させてあり、それというのは最も狭い箇所が短 い長さに制限されているからである。このような構成は同時に乱流(turbulente Stroemung)を減少させ、ひいては流動抵抗を減少させる。流出開口６９の下流側 に形成される噴射円錐流の幾何学形状が、流体の渦流速度によって規定される。 渦流速度が高くなると、噴射円錐流のスプレー円錐角が大きくなる。渦流室６８ と流出開口６９との直径、並びに渦流通路横断面によっても渦流速度が調節され る。 既に述べたように、種々の使用領域で穴付きプレート(Lochscheibe)が一般的 であり、渦流プレートが特に、縦軸線に対して所定の角度γで傾斜された噴射流 を形成するために所望される。ガソリン直接噴射にとって、燃焼室への直接的な 所定の組み込み条件に基づき、弁縦軸線８に対して斜めに傾斜されたスプレーを 噴射する噴射弁が有利である。この場合には可能な１つの例として、できるだけ 回転対称的な渦流を伴った中空円錐形スプレー(Hohlkegelspray)が中空円錐全周 にわたって均一な分布で形成されたい。このような噴射は、公知の渦流プレート 若しくは渦流部材では下流側の噴射構成部材内の斜めに延びる流出孔によってし か可能ではない。 本発明の重要な点は、渦流プレート３０のための幾何学形状を創作して、これ によって前述の目的を極めて簡単に達成することである。多層電気めっき(Multi layergalvanik)によって形成されたプレート３０は製造技術に基づき極めて垂直 な側壁を有しており、このような側壁はそれ自体、斜めの噴射を生ぜしめること はない。しかしながら別の有利な実施例では、渦流プレート３０内の垂直な側壁 を用いて、渦流プレート３０の少なくとも１つの層の非対称的な輪郭形成に基づ き、斜め噴射が保証され、利点として、精密機械加工によって斜めに延びる噴射 孔を形成されて下流側に接続される構成部分が省略できる。もちろん、既に渦流 プレート３０で得られた効果の増大のため、若しくは渦流プレート３０の支持若 しくは簡単な取り付けのために、下流側に構成部分、例えば噴射孔付きプレート を接続することは考えられる（図１２、参照）。 図９に示す本発明に基づく渦流プレート３０を用いては、すべての開口部分の 垂直な側壁にも拘わらず、渦流プレート３０の対称軸線に対して斜めに傾斜して 流れるスプレーを形成でき、該スプレーは例えば中空円錐全周にわたって均一な 分布を有している。中間の渦流形成層６１内に４つの材料部分６１’を設けてあ り、該材料部分はすべて互いに異なる輪郭を有している。材料部分６１’間に４ つの渦流通路６６を形成してあり、該渦流通路は材料部分６１’の輪郭の相違に 基づき異なる位置を占めていて、従って符号Ｉ乃至ＩＶを付けてある。４つの渦 流通路６６は噴射すべき流体に対して渦流通路の方向によって大きさの異なる割 合の渦流速度成分及び半径方向速度成分を生ぜしめなければならない。図示の実 施例では、半径方向速度成分が渦流通路６６−Ｉから渦流通路６６−ＩＶに向か って連続的に減少しているのに対して、渦流速度成分は渦流通路６６−Ｉから渦 流通路６６−ＩＶに向かって連続的に増大している。該実施例では流出開口６９ が有利には楕円形に形成されていて、軸線方向でできるだけ短くなっている。第 １の渦流通路６６−Ｉがほぼ楕円形の流出開口６９の中心に向けられているのに 対して、このような半径方向の向きは図９の実施例では時計回り方向で次第にそ らされて、第４の渦流通路６６−ＩＶは流出開口６９に対して接線を成して延び るように方向付けられている。図９の実施例では、噴射すべきスプレーは図平面 に対して斜めに左側へ傾斜して渦流通路６６−ＩＩＩと渦流通路６６−ＩＶとの 間で流出する。このような噴射方向は矢印と符号γで示してあり、この場合、符 号γは渦流プレート３０の対称軸線に対する角度を表している。 付言すれば、中空円錐仝周にわたって均一に分布する回転対称的な中空円錐形 スプレーが斜め噴射のための前述のスプレー形を成すものであるが、別のスプレ ー形、例えば不均一に分布して筋を生ぜしめるようなスプレー形も、同じく渦流 プレート３０内に相応に非対称的な輪郭形成によって達成できる。 特別な構成を備えた渦流プレート３０が図１０に示してある。第１の特別な点 として、下側の両方の層６１，６２が互いに同じ大きさの外径を有しており、こ の場合、中間の渦流形成層６１がつながった唯一の材料部分６１’から成ってい る。従って、ほぼ接線方向に渦流室６８内に開口する渦流通路６６は、渦流室６ ８と逆の側の入口部分６５で渦流プレート３０の外周には接続していない。むし ろ、渦流通路６６の入口部分６５と渦流プレート３０の外周との間に材料部分６ １’の環状の縁部区分が残されている。渦流プレート ３０が前記縁部区分に基づき周囲で取り付けのために簡単に締め付けられ得る。 すでに述べた実施例の２つ若しくは４つの渦流通路６６を備えた渦流プレート３ ０のほかに、図１０によって明らかであるように、前述の実施例とは異なる数（ 例えば６つ）の渦流通路６６を多層電気めっきによって形成することも可能であ る。ほぼ長方形若しくは正方形の輪郭の入口部分６５の構成のほかに、渦流通路 ６６を入口部分６５と一緒にフック状(hakenfoermig)に曲げて形成すること（図 示せず）も有利である。入口部分６５内に流れ込んだ燃料は乱流を生ぜしめるこ となく渦流室内に流入でき、これによってほぼ申し分のない渦流が形成される。 特に有利には、入口部分６５の図平面に位置する流入横断面（該流入横断面は相 応にカバー層６０のオーバーラップによって規定される）が、図平面に対して垂 直に形成されて渦流通路６６の高さ及び幅によって規定される渦流横断面よりも 小さくなっている。従って、入口部分６５が渦流プレート３０の前絞り(Vordros sel)及び流量規定の横断面を形成している。 図１１には、多層電気めっきによって製造可能な渦流プレート３０の無数に可 能な実施例の１つが示してあり、該プレートは渦流通路６６の形成及び渦流室６ ８の輪郭及び大きさの規定のための材料部分６１’に対して付加的に別の材料部 分６１”を渦流形成層６１の渦流室６８内に有している。付加的な材料部分６１ ”は意図的に、スプレーが渦流プレート３０の対称軸線に対して斜めに傾けて、 それも図１１に示す実施例では矢印及びγで表す方向に噴射されるように、配置 されてよい。このような斜め噴射は、１つ若しくは複数の鎌形(sichelfoermig) 若しくは円弧状（図１１）若しくは図示してない長方形、三角形、正方形若しく は類似の輪郭の材料部分６１”を渦流室６８内に配置することによって達成され る。図示の実施例では、円弧状の材料部分６１”が流出開口６９への流れに対す るバリアを形成しており、その結果、流体がバリアと相対する側から特に強くか つ渦巻いて流出開口６９内へ流入し、従って斜め噴射流が材料部分６１”へ向け られている（矢印γ）。多層電気めっきによって、渦流室６８内の材料部分６１ ”の任意の輪郭が形成可能である。 図１２は渦流プレート３０の個別の層６０，６１，６２の特別な材料選択のた めの実施例を示している。異なる材料（Ni，NiCo，NiFe，NiW，Cu）を重ねて堆 積することが、多層電気めっきによって問題なく可能であり、この場合、１つの 電気めっき段階では１つの金属だけが堆積される。このような柔軟な材料選択に よって、噴射装置、特に燃料噴射弁への組み込みの際の渦流プレート３０の有利 なシールが可能である。カバー層６０及び底部層６２が比較的硬い電気めっき材 料（例えば、NiCo）から形成されているのに対して、中 間の渦流形成層６１は比較的軟らかい電気めっき材料（例えば、Ni）で堆積され ている。このような製造に際しては、電気めっき層から電気めっき層へ、もっぱ ら電気めっき槽がNiCoからNiへ次いでNiからNiCoに交換される。両方の槽６０， ６２はNiCoの高い材料強度に基づき渦流プレート３０に、例えば高圧噴射弁内に 高い圧力負荷に起因して必要である高い安定性を与える。渦流形成層６１は渦流 通路６６の形成のためのすでに述べた材料部分６１’のほかに、別の外側のリン グ状の材料部分７５を有している。 材料部分７５は渦流プレート３０の周囲を中断することなく延びていて、シー ル部材として役立っている。上側のカバー層６０が下側に位置する層６１，６２ よりも小さい直径であるので、外側の材料部分７５は上側で被われずに露出して いる。渦流プレート３０は材料部分７５で以て、図１２に示すように例えば弁座 部材２６の切欠き内に密接に受容されている。材料部分７５の軟らかい材料（Ni ）は大きな圧縮量(Stauchweg)を材料部分７５内の比較的低い応力で許すもので ある。このような圧縮量は材料部分７５の上側のシール面と硬質の弁座部材２６ の表面との形状接続的な接触(formschluessigesAnliegen)を可能にし、これによ ってシール機能が保証されている。このような構成では、別個のシール部材が省 略できる。弁座部材２６への材料部分７５の永続的な十分な圧着力が、例えば、 渦流プレート３０の下流側に噴射孔付きプレート７６を配置して、該噴射孔付き プレートを例えば溶接継ぎ目７７によって弁座部材２６に堅く結合して、該噴射 孔付きプレートによって渦流プレート３０を支えることに基づき達成される。噴 射孔付きプレート７６は例えば、弁縦軸線８に対して斜めに傾斜された噴射孔７ ８を有していて、すでに繰り返し述べた斜め噴射を実現している。基本的に、複 数の渦流プレート３０をサンドイッチユニット(Sandwichpaket)として重ねて形 成することも可能である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 アルミン グロック ドイツ連邦共和国 Ｄ―73655 プリュー ダーハウゼン オーベレ ハルデ ３ (72)発明者 ラルフ トルッチェル ドイツ連邦共和国 Ｄ―06766 ヴォルフ ェン ドクトル―オット―ヌシュケ―シュ トラーセ 28 (72)発明者 ゴットフリート フリーク ドイツ連邦共和国 Ｄ―71229 レオンベ ルク アインシュタインシュトラーセ 35 (72)発明者 ギュンター ダンテス ドイツ連邦共和国 Ｄ―71735 エーバー ディンゲン カールシュトラーセ 20 (72)発明者 デトレフ ノヴァーク ドイツ連邦共和国 Ｄ―74199 ウンター グルッペンバッハ カピスハルデ 16 (72)発明者 イェルク ハイゼ ドイツ連邦共和国 Ｄ―71706 マルクグ レーニンゲン アイヒェンヴェーク 15 (72)発明者 トーマス シュニットニー ドイツ連邦共和国 Ｄ―36041 フルダ アム ハイリゲンフェルト １ (72)発明者 ユルゲン ハッケンベルク ドイツ連邦共和国 Ｄ―74343 ザクセン ハイム ツィンマーラー プファート 99 (72)発明者 ローナルト グラース ドイツ連邦共和国 Ｄ―38106 ブラウン シュヴァイク ゲッティンガーシュトラー セ 16 【要約の続き】

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １．渦流プレート、殊に噴射弁のためのものであり、少なくとも１つの金属の材 料から成っていて、液体のための完全な貫通路、少なくとも１つの入口部分（６ ５）及び少なくとも１つの流出開口（６９）を備えており、少なくとも１つの流 出開口（６９）が下側の底部層（６２）内に形成されており、当該渦流プレート が少なくとも２つの渦流通路（６６）を備えており、渦流通路が渦流室（６８） 内に開口しており、渦流室（６８）が中間の渦流形成層（６１）内に設けられて いる形式のものにおいて、上側の層がカバー層（６０）として形成されており、 カバ一層が横断面全体にわたって開口輪郭のない閉じた層を成しており、かつカ バー層が該カバー層の下側に位置する渦流室（６８）を完全に被っており、渦流 プレート（３０）の層が電気めっきによる金属堆積（多層電気めっき）によって 互いに重なって直接に付着結合して形成されていることを特徴とする渦流プレー ト。 ２．中間の渦流形成層（６１）が周方向で互いに離隔された複数の材料部分（６ １’）によって形成されており、該材料部分が相互の幾何学的な位置に基づき渦 流室（６８）及び渦流通路（６６）の輪郭を規定している請求項１記載の渦流プ レート。 ３．４つの材料部分（６１’）が渦流形成層（６１）を形成しており、該材料部 分間に１つの渦流室（６８）及び４つの渦流通路（６６）が生じている請求項２ 記載の渦流プレート。 ４．材料部分（６１’）が下側の底部層（６２）の外径から半径方向内側へ渦流 室（６８）に向かって延びている請求項２又は３記載の渦流プレート。 ５．材料部分（６１’）が、渦流プレート（３０）全体の外径を規定する下側の 底部層（６２）の外周に対して距離を置いて延びている請求項２又は３記載の渦 流プレート。 ６．材料部分（６１’）が、ウエブ状に延びている請求項５記載の渦流プレート 。 ７．材料部分（６１’）が、渦流室（６８）に向けられた端部（７０）をショベ ル状に丸味を付けられている請求項５又は６記載の渦流プレート。 ８．材料部分（６１’）が、該材料部分によって円形、楕円形若しくは多角形、 若しくはこれらの組み合わせの形の渦流室（６８）を制限するように配置されて いる請求項３から７のいずれか１項記載の渦流プレート。 ９．材料部分（６１’）がスパイラル状に延びている請求項４又は５記載の渦流 プレート。 １０．材料部分（６１’）間に包囲して形成された渦流通路（６６）が流れ方向 で横断面縮小部を有して いる請求項９記載の渦流プレート。 １１．材料部分（６１’）が次のように互いに異なって形成されていて、即ち、 すべての渦流通路（６６）が渦流プレート（３０）の対称軸線に関連してそれぞ れ異なる方向を有している請求項２記載の渦流プレート。 １２．渦流通路（６６）が渦流通路の向きを半径方向から接線方向に周方向で連 続的に変化させるように延びている請求項１１記載の渦流プレート。 １３．中間の渦流形成層（６１）が、つながった唯一の材料部分（６１’）によ って形成されており、該材料部分が該材料部分の幾何学形状に基づき渦流室（６ ８）及び渦流通路（６６）の輪郭を規定している請求項１記載の渦流プレート。 １４．材料部分（６１’）が下側の底部層（６２）と同じ外径で形成されている 請求項１３記載の渦流プレート。 １５．渦流通路（６６）が渦流室（６８）と逆の側の端部に入口部分（６５）を 有しており、該入口部分が材料部分（６１’）の環状の縁部区分によって渦流プ レート（３０）の外周に対して距離を置いている請求項１３又は１４記載の渦流 プレート。 １６．渦流プレート（３０）の各渦流通路（６６）の被われていない開いた入口 部分（６５）の水平方向の流入断面が、該渦流通路の垂直な最小の渦流通路 横断面よりも小さくなっている請求項１５記載の渦流プレート。 １７．渦流室（６８）内に流れ制御のための材料部分（６１”）が設けられてい る請求項１から１６のいずれか１項記載の渦流プレート。 １８．異なる少なくとも２つの材料が層（６０，６１，６２）の形成のために用 いられている請求項１から１７のいずれか１項記載の渦流プレート。 １９．カバー層（６０）及び底部層（６２）が、該層間に位置する渦流形成層（ ６１）よりも硬い電気めっき材料から成っている請求項１８記載の渦流プレート 。 ２０．少なくとも１つの流出開口（６９）が底部層（６２）内に円形に、楕円形 に、多角形に、若しくはこれらの組み合わせの形で形成されている請求項１から １９のいずれか１項記載の渦流プレート。 ２１．少なくとも１つの流出開口（６９）が底部層（６２）内で中心に若しくは 渦流プレート（３０）の対称軸線から離して形成されている請求項１から２０の いずれか１項記載の渦流プレート。 ２２．上側のカバー層（６０）が下側の底部層（６２）よりも小さな直径を有し ている請求項１から２１のいずれか１項記載の渦流プレート。 ２３．内燃機関の燃料噴射装置のための燃料噴射弁であって、殊に内燃機関の燃 焼室への燃料の直接的な 噴射のためのものであり、当該燃料噴射弁が弁縦軸線（８）を有して、アクチュ エータ（１，２，１４，１８，１９）、運動可能な弁部分（２０）を備えており 、弁部分が弁の開閉のために、不動の弁座（２７）と協働するようになっており 、弁座が弁座部材（２６）に形成されており、及び当該燃料噴射弁が前記弁座（ ２７）の下流側に配置された渦流プレート（３０）を備えており、渦流プレート が多層の構造体であり、少なくとも１つの金属材料から成り、かつ少なくとも１ つの入口部分（６５）及び少なくとも１つの流出開口（６９）を有しており、少 なくとも１つの流出開口（６９）が下側の底部層（６２）に形成されており、か つ前記渦流プレートが前記流出開口（６９）の上流側に１つの渦流室（６８）及 び該渦流室内に開口する少なくとも２つの渦流通路（６６）を有している形式の ものにおいて、渦流プレート（３０）がカバー層（６０）としての上側の層を有 しており、該カバー層が横断面全体にわたって開口輪郭のない閉じた層を成して おり、 前記カバー層（６０）が該カバー層の下側に位置する渦流室（６８）を完全に被 っており、 渦流プレート（３０）の層が電気めっきの金属堆積（多層電気めっき）によって 互いに重なって直接に付着結合して形成されていることを特徴とする、渦流プレ ートを備えた燃料噴射弁。 ２４．渦流プレート（３０）の中間の渦流形成層（６１）が、周方向で互いに離 隔された複数の材料部分（６１’）によって形成されており、該材料部分が該材 料部分の幾何学形状に基づき渦流室（６８）及び渦流通路（６６）の輪郭を規定 している請求項２３記載の燃料噴射弁。 ２５．４つの材料部分（６１’）が、渦流形成層（６１）を形成しており、該材 料部分間に１つの渦流室（６８）及び４つの渦流通路（６６）が生じている請求 項２４記載の燃料噴射弁。 ２６．材料部分（６１’）が、下側の底部層（６２）の外径から内側へ渦流室（ ６８）に向かって延びている請求項２４又は２５記載の燃料噴射弁。 ２７．材料部分（６１’）が、渦流プレート（３０）全体の外径を規定する下側 の底部層（６２）の外周に対して距離を置いて延びている請求項２４又は２５記 載の燃料噴射弁。 ２８．材料部分（６１’）が、ウエブ状に延びている請求項２７記載の燃料噴射 弁。 ２９．材料部分（６１’）が、渦流室（６８）に向けられた端部（７０）をショ ベル状に丸味を付けられている請求項２７又は２８記載の燃料噴射弁。 ３０．材料部分（６１’）が、該材料部分によって円形、楕円形若しくは多角形 、若しくはこれらの組み合わせの形の渦流室（６８）を制限するように配置 されている請求項２５から２９のいずれか１項記載の燃料噴射弁。 ３１．材料部分（６１’）がスパイラル状に延びている請求項２６又は２７記載 の燃料噴射弁。 ３２．材料部分（６１’）間に包囲して形成された渦流通路（６６）が流れ方向 で横断面縮小部を有している請求項３１記載の燃料噴射弁。 ３３．材料部分（６１’）が次のように互いに異なって形成されていて、即ち、 すべての渦流通路（６６）が渦流プレート（３０）の対称軸線に関連してそれぞ れ異なる方向を有している請求項２４記載の燃料噴射弁。 ３４．渦流通路（６６）が渦流通路の向きを半径方向から接線方向に周方向で連 続的に変化させるように延びている請求項３３記載の燃料噴射弁。 ３５．渦流プレート（３０）の中間の渦流形成層（６１）が、つながった唯一の 材料部分（６１’）によって形成されており、該材料部分が該材料部分の幾何学 形状に基づき渦流室（６８）及び渦流通路(6６）の輪郭を規定している請求項２ ３記載の燃料噴射弁。 ３６．材料部分（６１’）が下側の底部層（６２）と同じ外径で形成されている 請求項３５記載の燃料噴射弁。 ３７．渦流通路（６６）が渦流室（６８）と逆の側の 端部に入口部分（６５）を有しており、該入口部分が材料部分（６１’）の環状 の縁部区分によって渦流プレート（３０）の外周に対して距離を置いている請求 項３５又は３６記載の燃料噴射弁。 ３８．渦流プレート（３０）の各渦流通路（６６）の被われていない開いた入口 部分（６５）の水平方向の流入断面が、該渦流通路の垂直な最小の渦流通路横断 面よりも小さくなっている請求項３７記載の燃料噴射弁。 ３９．渦流室（６８）内に流れ制御のための材料部分（６１”）が設けられてい る請求項２３から３８のいずれか１項記載の燃料噴射弁。 ４０．異なる少なくとも２つの材料が層（６０，６１，６２）の形成のために用 いられている請求項２３から３９のいずれか１項記載の燃料噴射弁。 ４１．カバー層（６０）及び底部層（６２）が、該層間に位置する渦流形成層（ ６１）よりも硬い電気めっき材料から成っている請求項４０記載の燃料噴射弁。 ４２．少なくとも１つの流出開口（６９）が底部層（６２）内に円形に、楕円形 に、多角形に、若しくはこれらの組み合わせの形で形成されている請求項２３か ら４１のいずれか１項記載の燃料噴射弁。 ４３．少なくとも１つの流出開口（６９）が底部層（６２）内で中心に若しくは 渦流プレート（３０）の 対称軸線から離して形成されている請求項２３から４２のいずれか１項記載の燃 料噴射弁。 ４４．上側のカバー層（６０）が下側の底部層（６２）よりも小さな直径を有し ている請求項２３から４３のいずれか１項記載の燃料噴射弁。 ４５．渦流プレート（３０）が少なくとも１つの材料部分（７５）を備えていて 、該材料部分（７５）で以て弁座部材（２６）に対してシール作用を生ぜしめて いる請求項２３から４４のいずれか１項記載の燃料噴射弁。 ４６．渦流プレート（３０）が溶接、接着、締め付けによって、弁座部材（２６ ）の下流側に配置された保持部材（５５）内に固定されている請求項２３から４ ５のいずれか１項記載の燃料噴射弁。 ４７．保持部材（５５）が噴射孔付きプレート（７６）である請求項４６記載の 燃料噴射弁。 ４８．渦流プレート（３０）が溶接、接着、締め付けによって弁座支持体（２１ ）内に固定されている請求項２３から４５のいずれか１項記載の燃料噴射弁。 ４９．複数の渦流プレート（３０）がサンドイッチユニットとして重ねて形成さ れている請求項２３から４８のいずれか１項記載の燃料噴射弁。