JP2002367135A - 磁気記録媒体およびその製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体およびその製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 電磁変換特性を損なうことなく、耐久性およ
び耐候保存性を向上させた磁気記録媒体を提供する。 【解決手段】 非磁性基板(1)の一方の面に強磁性金
属薄膜(2)を形成し、強磁性金属薄膜(2)の上に炭
素膜(3)を形成し、炭素膜(3)の上に潤滑剤層
(4)を形成し、非磁性基板(1)の他方の面にバック
コート層(5)を形成することにより構成した磁気記録
媒体において、強磁性金属薄膜(2)のシート抵抗を1
×103〜1×105Ω/□とする。
び耐候保存性を向上させた磁気記録媒体を提供する。 【解決手段】 非磁性基板(1)の一方の面に強磁性金
属薄膜(2)を形成し、強磁性金属薄膜(2)の上に炭
素膜(3)を形成し、炭素膜(3)の上に潤滑剤層
(4)を形成し、非磁性基板(1)の他方の面にバック
コート層(5)を形成することにより構成した磁気記録
媒体において、強磁性金属薄膜(2)のシート抵抗を1
×103〜1×105Ω/□とする。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、VTR、データス
トレージおよび磁気ディスク装置等に用いられる強磁性
金属薄膜型磁気記録媒体およびその製造方法に関する。
トレージおよび磁気ディスク装置等に用いられる強磁性
金属薄膜型磁気記録媒体およびその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、磁気記録分野においては、磁気記
録装置の大容量化、高速化、高画質・高音質化および小
型軽量化等が要望されている。かかる要望を満たすに
は、高密度記録に適した磁気記録媒体が必要である。そ
こで、磁気テープの分野においては、磁性体を結合剤中
に分散させた塗布液を塗布することにより磁性層を形成
した、いわゆる塗布型磁気記録媒体に代えて、強磁性金
属の真空蒸着により磁性層を形成した、いわゆる強磁性
金属薄膜型磁気記録媒体が実用化されつつある。強磁性
金属薄膜型磁気記録媒体は、その残留磁束密度(Br)
及び保磁力(Hc)が共に大きいために、磁性層を薄く
形成しても高い記録密度を確保できる。したがって、強
磁性金属薄膜型磁気記録媒体の全厚は、一般に塗布型磁
気記録媒体のそれと比較してかなり薄い。そのため、所
定寸法のケースに収容できる巻き長さは、塗布型磁気記
録媒体よりも強磁性金属薄膜型磁気記録媒体の方が長
い。また、強磁性金属薄膜型磁気記録媒体の磁性層は超
平滑化された表面を有するため、ヘッド−テープ間のス
ペーシングロスが小さく、電磁変換特性において有利で
ある。
録装置の大容量化、高速化、高画質・高音質化および小
型軽量化等が要望されている。かかる要望を満たすに
は、高密度記録に適した磁気記録媒体が必要である。そ
こで、磁気テープの分野においては、磁性体を結合剤中
に分散させた塗布液を塗布することにより磁性層を形成
した、いわゆる塗布型磁気記録媒体に代えて、強磁性金
属の真空蒸着により磁性層を形成した、いわゆる強磁性
金属薄膜型磁気記録媒体が実用化されつつある。強磁性
金属薄膜型磁気記録媒体は、その残留磁束密度(Br)
及び保磁力(Hc)が共に大きいために、磁性層を薄く
形成しても高い記録密度を確保できる。したがって、強
磁性金属薄膜型磁気記録媒体の全厚は、一般に塗布型磁
気記録媒体のそれと比較してかなり薄い。そのため、所
定寸法のケースに収容できる巻き長さは、塗布型磁気記
録媒体よりも強磁性金属薄膜型磁気記録媒体の方が長
い。また、強磁性金属薄膜型磁気記録媒体の磁性層は超
平滑化された表面を有するため、ヘッド−テープ間のス
ペーシングロスが小さく、電磁変換特性において有利で
ある。
【0003】強磁性金属薄膜型磁気記録媒体の磁性層
は、硬度が低く塑性変形しやすく、また表面性が極めて
良好である。そのため、強磁性金属薄膜型磁気記録媒体
を磁気テープとして使用し、高速回転するVTRの磁気
ヘッドおよび金属シリンダに磁性層を直接接触させる
と、磁性層は瞬間的に摩耗し又は損傷される。磁性層の
摩耗又は損傷は、繰り返し走行させたときの記録再生出
力の大幅な低下およびスチルライフの著しい減少を招
き、したがって磁気記録媒体の耐久性を低下させる。磁
性層の摩耗および損傷はまた、ヘッド摺動面で金属凝着
を引き起こすことがある。このことは磁気記録装置の性
能を低下させ、場合によっては磁気記録装置の使用を不
可能にする。
は、硬度が低く塑性変形しやすく、また表面性が極めて
良好である。そのため、強磁性金属薄膜型磁気記録媒体
を磁気テープとして使用し、高速回転するVTRの磁気
ヘッドおよび金属シリンダに磁性層を直接接触させる
と、磁性層は瞬間的に摩耗し又は損傷される。磁性層の
摩耗又は損傷は、繰り返し走行させたときの記録再生出
力の大幅な低下およびスチルライフの著しい減少を招
き、したがって磁気記録媒体の耐久性を低下させる。磁
性層の摩耗および損傷はまた、ヘッド摺動面で金属凝着
を引き起こすことがある。このことは磁気記録装置の性
能を低下させ、場合によっては磁気記録装置の使用を不
可能にする。
【0004】また、一般に、強磁性金属薄膜型磁気記録
媒体の磁性層の表面には酸化被膜が形成され、それによ
り内部が保護されている。しかし、かかる被膜だけで
は、高湿環境下における耐食性を十分に確保することは
困難である。
媒体の磁性層の表面には酸化被膜が形成され、それによ
り内部が保護されている。しかし、かかる被膜だけで
は、高湿環境下における耐食性を十分に確保することは
困難である。
【0005】かかる問題を回避するために、微小突起を
形成したベースフィルムを非磁性基板として使用し、さ
らにヘッド摺動面と接する側の表面に含フッ素系潤滑剤
層を形成することによって、強磁性金属薄膜型磁気記録
媒体の走行性を確保することが提案され、実用化されて
いる。また、耐摩耗性および耐食性を向上させるため
に、磁性層の表面に保護膜を形成することも提案されて
いる。例えば、特開平1−245417号公報及び特開
平2−158909号公報等においては、磁性層上に保
護膜としてのダイヤモンド状炭素膜を形成し、ダイヤモ
ンド状炭素膜上に潤滑剤層(含フッ素脂肪酸層)を形成
する構成が開示されている。ダイヤモンド状炭素膜のよ
うな保護膜は、特にヘッド摺動面における金属凝着を有
効に防止する。
形成したベースフィルムを非磁性基板として使用し、さ
らにヘッド摺動面と接する側の表面に含フッ素系潤滑剤
層を形成することによって、強磁性金属薄膜型磁気記録
媒体の走行性を確保することが提案され、実用化されて
いる。また、耐摩耗性および耐食性を向上させるため
に、磁性層の表面に保護膜を形成することも提案されて
いる。例えば、特開平1−245417号公報及び特開
平2−158909号公報等においては、磁性層上に保
護膜としてのダイヤモンド状炭素膜を形成し、ダイヤモ
ンド状炭素膜上に潤滑剤層(含フッ素脂肪酸層)を形成
する構成が開示されている。ダイヤモンド状炭素膜のよ
うな保護膜は、特にヘッド摺動面における金属凝着を有
効に防止する。
【0006】また、さらなる大容量化を実現するため
に、特に磁気テープに関してはベースフィルムの薄手化
が進められている。しかし、ベースフィルムを薄くする
と、磁気記録媒体全体の剛性が低下し、それによりエン
ベロープ不良が発生することがある。そこで、磁気記録
媒体の剛性を確保するために、ベースフィルムの磁性層
が形成された面とは反対の面に金属薄膜または非磁性金
属薄膜を形成する構成が提案されている。
に、特に磁気テープに関してはベースフィルムの薄手化
が進められている。しかし、ベースフィルムを薄くする
と、磁気記録媒体全体の剛性が低下し、それによりエン
ベロープ不良が発生することがある。そこで、磁気記録
媒体の剛性を確保するために、ベースフィルムの磁性層
が形成された面とは反対の面に金属薄膜または非磁性金
属薄膜を形成する構成が提案されている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】このように、強磁性金
属薄膜型磁気記録媒体の走行性、耐久性、耐食性および
剛性を向上させるために、種々の構成が提案されてい
る。しかしながら、磁気記録媒体に対する要求は厳し
く、より優れた走行性等を有する磁気記録媒体が常に要
求されている。
属薄膜型磁気記録媒体の走行性、耐久性、耐食性および
剛性を向上させるために、種々の構成が提案されてい
る。しかしながら、磁気記録媒体に対する要求は厳し
く、より優れた走行性等を有する磁気記録媒体が常に要
求されている。
【0008】特に、磁気記録装置の用途拡大および磁気
記録媒体の高記録密度化に伴い、磁気記録媒体にはより
高い実用信頼性が求められている。特に、耐久性につい
てはより一層の改善が求められている。しかし、従来の
強磁性金属薄膜型磁気記録媒体は、その磁性層の硬度が
低いために、保護膜で耐久性を向上させるには限界があ
った。さらに、上述の非磁性基板の磁性層が形成される
面とは反対の面に金属薄膜または非磁性金属薄膜を設け
た磁気記録媒体については、磁性層および炭素膜が金属
薄膜または非磁性金属薄膜と接触し、磁性層と金属薄膜
または非磁性金属薄膜との間で電気化学的な反応が進行
することにより、磁性層において腐食が発生するという
問題がある。
記録媒体の高記録密度化に伴い、磁気記録媒体にはより
高い実用信頼性が求められている。特に、耐久性につい
てはより一層の改善が求められている。しかし、従来の
強磁性金属薄膜型磁気記録媒体は、その磁性層の硬度が
低いために、保護膜で耐久性を向上させるには限界があ
った。さらに、上述の非磁性基板の磁性層が形成される
面とは反対の面に金属薄膜または非磁性金属薄膜を設け
た磁気記録媒体については、磁性層および炭素膜が金属
薄膜または非磁性金属薄膜と接触し、磁性層と金属薄膜
または非磁性金属薄膜との間で電気化学的な反応が進行
することにより、磁性層において腐食が発生するという
問題がある。
【0009】本発明はかかる実情に鑑みてなされたもの
であり、電磁変換特性を損なうことなく、実用信頼性を
向上させた強磁性金属薄膜型磁気記録媒体を提供するこ
とを課題とする。
であり、電磁変換特性を損なうことなく、実用信頼性を
向上させた強磁性金属薄膜型磁気記録媒体を提供するこ
とを課題とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、第1の要旨において、本発明は、非磁性基板の一方
の面に形成された強磁性金属薄膜、強磁性金属薄膜の上
に形成された炭素膜、および炭素膜の上に形成された潤
滑剤層を有する磁気記録媒体であって、強磁性金属薄膜
のシート抵抗が1×103〜1×105(Ω/□)である
磁気記録媒体を提供する。
め、第1の要旨において、本発明は、非磁性基板の一方
の面に形成された強磁性金属薄膜、強磁性金属薄膜の上
に形成された炭素膜、および炭素膜の上に形成された潤
滑剤層を有する磁気記録媒体であって、強磁性金属薄膜
のシート抵抗が1×103〜1×105(Ω/□)である
磁気記録媒体を提供する。
【0011】本発明の磁気記録媒体は、強磁性金属薄膜
のシート抵抗が上記範囲内にあることを特徴とする。か
かる特徴により、磁性層である強磁性金属薄膜は高い硬
度を有するから、摩耗しにくく、また損傷されにくい。
したがって、本発明の磁気記録媒体は、優れた走行耐久
性を示す。
のシート抵抗が上記範囲内にあることを特徴とする。か
かる特徴により、磁性層である強磁性金属薄膜は高い硬
度を有するから、摩耗しにくく、また損傷されにくい。
したがって、本発明の磁気記録媒体は、優れた走行耐久
性を示す。
【0012】強磁性金属薄膜のシート抵抗が1×103
(Ω/□)未満であると硬度が小さく、したがって磁気
記録媒体の耐久性を十分に確保することができない。強
磁性金属薄膜のシート抵抗が1×105(Ω/□)を超
えると、磁性層の厚さを薄くしたときに(例えば20〜
120nmとしたときに)、磁気記録に必要な残留磁束密
度を確保することが困難となる。
(Ω/□)未満であると硬度が小さく、したがって磁気
記録媒体の耐久性を十分に確保することができない。強
磁性金属薄膜のシート抵抗が1×105(Ω/□)を超
えると、磁性層の厚さを薄くしたときに(例えば20〜
120nmとしたときに)、磁気記録に必要な残留磁束密
度を確保することが困難となる。
【0013】本発明の磁気記録媒体はまた、上記の特徴
を有することにより、強磁性金属薄膜が他の金属薄膜と
接触した場合でも、両者の間で生じる電気化学的反応が
有効に抑制される。したがって、本発明の磁気記録媒体
は、非磁性基板の強磁性金属薄膜が形成された面とは反
対の面に金属薄膜が形成された構成を有するものであっ
ても、良好な耐食性および耐候保存性を示す。なお、耐
候保存性が良いというときには、高温高湿のような苛酷
な条件を含むあらゆる環境条件下で長時間放置された後
でも走行耐久性および出力等の低下が小さいことをいう
ものとする。
を有することにより、強磁性金属薄膜が他の金属薄膜と
接触した場合でも、両者の間で生じる電気化学的反応が
有効に抑制される。したがって、本発明の磁気記録媒体
は、非磁性基板の強磁性金属薄膜が形成された面とは反
対の面に金属薄膜が形成された構成を有するものであっ
ても、良好な耐食性および耐候保存性を示す。なお、耐
候保存性が良いというときには、高温高湿のような苛酷
な条件を含むあらゆる環境条件下で長時間放置された後
でも走行耐久性および出力等の低下が小さいことをいう
ものとする。
【0014】第2の要旨において、本発明は、本発明の
磁気記録媒体を製造する方法であって、強磁性金属薄膜
を酸素雰囲気中にて真空蒸着により形成するに際し、酸
素導入量を制御することにより強磁性金属薄膜のシート
抵抗を制御することを特徴とする磁気記録媒体の製造方
法を提供する。
磁気記録媒体を製造する方法であって、強磁性金属薄膜
を酸素雰囲気中にて真空蒸着により形成するに際し、酸
素導入量を制御することにより強磁性金属薄膜のシート
抵抗を制御することを特徴とする磁気記録媒体の製造方
法を提供する。
【0015】本発明の磁気記録媒体の製造方法によれ
ば、強磁性金属薄膜形成時の酸素導入量を制御すること
により、強磁性金属薄膜のシート抵抗を容易に制御する
ことが可能となる。したがって、本発明の製造方法によ
れば、所望のシート抵抗を有する強磁性金属薄膜を磁性
層として含む磁気記録媒体を容易に得ることができる。
ば、強磁性金属薄膜形成時の酸素導入量を制御すること
により、強磁性金属薄膜のシート抵抗を容易に制御する
ことが可能となる。したがって、本発明の製造方法によ
れば、所望のシート抵抗を有する強磁性金属薄膜を磁性
層として含む磁気記録媒体を容易に得ることができる。
【0016】
【発明の実施の形態】以下、本発明の具体的な形態を説
明する。図1に本発明の強磁性金属薄膜型磁気記録媒体
の一例を模式的に示す。図1に示す磁気記録媒体(10)
は磁気テープであり、非磁性基板(1)の一方の面に形
成された磁性層としての強磁性金属薄膜(2)、強磁性
金属薄膜(2)の上に形成された保護膜としての炭素膜
(3)、炭素膜(3)の上に形成された潤滑剤層
(4)、ならびに非磁性基板(1)の強磁性金属薄膜
(2)が形成された面とは反対の面に形成されたバック
コート層(5)を有する。
明する。図1に本発明の強磁性金属薄膜型磁気記録媒体
の一例を模式的に示す。図1に示す磁気記録媒体(10)
は磁気テープであり、非磁性基板(1)の一方の面に形
成された磁性層としての強磁性金属薄膜(2)、強磁性
金属薄膜(2)の上に形成された保護膜としての炭素膜
(3)、炭素膜(3)の上に形成された潤滑剤層
(4)、ならびに非磁性基板(1)の強磁性金属薄膜
(2)が形成された面とは反対の面に形成されたバック
コート層(5)を有する。
【0017】最初に、本発明の磁気記録媒体を構成する
強磁性金属薄膜(2)について説明する。
強磁性金属薄膜(2)について説明する。
【0018】本発明の磁気記録媒体は、強磁性金属薄膜
(2)のシート抵抗が1×103〜1×105(Ω/□)
であることを特徴とする。かかる特徴により、強磁性金
属薄膜(2)の硬度が向上し、それにより磁気記録媒体
の耐久性が向上する。強磁性金属薄膜(2)のシート抵
抗は、より好ましくは2×104〜5×104(Ω/□)
である。
(2)のシート抵抗が1×103〜1×105(Ω/□)
であることを特徴とする。かかる特徴により、強磁性金
属薄膜(2)の硬度が向上し、それにより磁気記録媒体
の耐久性が向上する。強磁性金属薄膜(2)のシート抵
抗は、より好ましくは2×104〜5×104(Ω/□)
である。
【0019】かかるシート抵抗を有する強磁性金属薄膜
(2)は、強磁性金属を真空蒸着により非磁性基板
(1)の表面に形成するに際し、真空蒸着を酸素雰囲気
下で実施し、酸素導入量を適切に制御することにより得
られる。酸素は、例えば、強磁性金属を蒸着する真空槽
内に一定の流量で連続的に供給することによって導入す
るとよい。酸素は、具体的には、蒸着領域の始点または
終点付近において、非磁性基板から数cm程度離れたと
ころに設けたノズルから酸素を吹き付けることによって
導入される。一般に、酸素の導入量が多くなるほど、強
磁性金属薄膜のシート抵抗は大きくなる傾向にある。
(2)は、強磁性金属を真空蒸着により非磁性基板
(1)の表面に形成するに際し、真空蒸着を酸素雰囲気
下で実施し、酸素導入量を適切に制御することにより得
られる。酸素は、例えば、強磁性金属を蒸着する真空槽
内に一定の流量で連続的に供給することによって導入す
るとよい。酸素は、具体的には、蒸着領域の始点または
終点付近において、非磁性基板から数cm程度離れたと
ころに設けたノズルから酸素を吹き付けることによって
導入される。一般に、酸素の導入量が多くなるほど、強
磁性金属薄膜のシート抵抗は大きくなる傾向にある。
【0020】酸素雰囲気下で真空蒸着により形成した強
磁性金属薄膜は膜内に酸素を含む。酸素は金属酸化物の
形態で含まれていてよく、あるいは金属と結合していな
い状態で含まれていてよい。
磁性金属薄膜は膜内に酸素を含む。酸素は金属酸化物の
形態で含まれていてよく、あるいは金属と結合していな
い状態で含まれていてよい。
【0021】強磁性金属薄膜のシート抵抗はまた、強磁
性金属薄膜の厚さによっても変化する。酸素導入量が同
じ場合、強磁性金属薄膜の厚さが小さいほど、シート抵
抗は大きくなる。
性金属薄膜の厚さによっても変化する。酸素導入量が同
じ場合、強磁性金属薄膜の厚さが小さいほど、シート抵
抗は大きくなる。
【0022】強磁性金属薄膜は、Fe系金属、Co系金
属またはNi系金属で形成することが好ましい。本発明
においてはCo系金属またはNi系金属で磁性層を形成
することが好ましい。ここで、「Co系金属」とは、コ
バルト、およびコバルトを主成分として好ましくは50
原子%以上含む合金をいう。「Fe系金属」および「N
i系金属」も同様である。
属またはNi系金属で形成することが好ましい。本発明
においてはCo系金属またはNi系金属で磁性層を形成
することが好ましい。ここで、「Co系金属」とは、コ
バルト、およびコバルトを主成分として好ましくは50
原子%以上含む合金をいう。「Fe系金属」および「N
i系金属」も同様である。
【0023】強磁性金属薄膜(2)は、具体的には、F
e、CoおよびNi、ならびにCo−Ni、Co−F
e、Co−Cr、Co−Cu、Co−Pt、Co−P
d、Co−Sn、Co−Au、Fe−Cr、Fe−Co
−Ni、Fe−Cu、Ni−Cr、Fe−Co−Cr、
Co−Ni−Cr、Co−Pt−Cr、Fe−Co−N
i−Cr、Mn−BiおよびMn−Al等の合金から選
択される1または複数の材料で形成される。強磁性金属
薄膜は、単層膜の形態であってもよく、あるいは多層膜
の形態であってもよい。また、強磁性金属薄膜は記録に
関与しない下地層を有していてよい。
e、CoおよびNi、ならびにCo−Ni、Co−F
e、Co−Cr、Co−Cu、Co−Pt、Co−P
d、Co−Sn、Co−Au、Fe−Cr、Fe−Co
−Ni、Fe−Cu、Ni−Cr、Fe−Co−Cr、
Co−Ni−Cr、Co−Pt−Cr、Fe−Co−N
i−Cr、Mn−BiおよびMn−Al等の合金から選
択される1または複数の材料で形成される。強磁性金属
薄膜は、単層膜の形態であってもよく、あるいは多層膜
の形態であってもよい。また、強磁性金属薄膜は記録に
関与しない下地層を有していてよい。
【0024】強磁性金属薄膜の厚さは30〜200nmと
することが好ましい。本発明の磁気記録媒体をMRヘッ
ドが搭載された磁気記録装置で使用する場合には、強磁
性金属薄膜の厚さは20〜120nmとすることが好まし
い。強磁性金属薄膜の厚さが120nmを超えると、これ
に記録した信号を磁気抵抗型ヘッド(MRヘッド)で再
生したときに出力が飽和してCN比が小さくなる。強磁
性金属薄膜の厚さが20nm未満であると、磁気記録に必
要な残留磁束密度を確保することが困難となる。
することが好ましい。本発明の磁気記録媒体をMRヘッ
ドが搭載された磁気記録装置で使用する場合には、強磁
性金属薄膜の厚さは20〜120nmとすることが好まし
い。強磁性金属薄膜の厚さが120nmを超えると、これ
に記録した信号を磁気抵抗型ヘッド(MRヘッド)で再
生したときに出力が飽和してCN比が小さくなる。強磁
性金属薄膜の厚さが20nm未満であると、磁気記録に必
要な残留磁束密度を確保することが困難となる。
【0025】強磁性金属薄膜(2)は、酸素雰囲気中で
強磁性金属を非磁性基板(1)に真空蒸着させることに
より形成される。具体的には、強磁性金属薄膜(2)
は、CoもしくはCo−Ni合金等の強磁性金属に所定
範囲の入射角で電子ビームを照射して金属を蒸発させ、
これを、キャン状回転体等の冷却回転支持体に沿って移
動する非磁性基板表面に付着させることにより形成され
る。真空蒸着は、強磁性金属を抵抗加熱法もしくは外熱
るつぼ法等により蒸発させて実施してよい。また、強磁
性金属薄膜(2)は、これ以外の方法、例えばイオンプ
レーティングまたはスパッタリング等により形成するこ
とができる。
強磁性金属を非磁性基板(1)に真空蒸着させることに
より形成される。具体的には、強磁性金属薄膜(2)
は、CoもしくはCo−Ni合金等の強磁性金属に所定
範囲の入射角で電子ビームを照射して金属を蒸発させ、
これを、キャン状回転体等の冷却回転支持体に沿って移
動する非磁性基板表面に付着させることにより形成され
る。真空蒸着は、強磁性金属を抵抗加熱法もしくは外熱
るつぼ法等により蒸発させて実施してよい。また、強磁
性金属薄膜(2)は、これ以外の方法、例えばイオンプ
レーティングまたはスパッタリング等により形成するこ
とができる。
【0026】強磁性金属薄膜(2)は、成膜速度の観点
から、強磁性金属を斜方から非磁性基板の表面に蒸着さ
せる斜方蒸着法によって形成することが好ましい。この
場合、非磁性基板の冷却回転支持体は、キャン状回転体
またはベルト状支持体であってよい。生産効率の点から
は、蒸着領域の広いベルト状支持体を用いることが望ま
しい。
から、強磁性金属を斜方から非磁性基板の表面に蒸着さ
せる斜方蒸着法によって形成することが好ましい。この
場合、非磁性基板の冷却回転支持体は、キャン状回転体
またはベルト状支持体であってよい。生産効率の点から
は、蒸着領域の広いベルト状支持体を用いることが望ま
しい。
【0027】本発明の磁気記録媒体は、強磁性金属薄膜
のシート抵抗が1×103〜1×105(Ω/□)である
限りにおいて、任意の構成とすることができる。以下、
上記において説明した強磁性金属薄膜の以外の要素、即
ち、非磁性基板、炭素膜、潤滑剤層およびバックコート
層の構成を説明する。
のシート抵抗が1×103〜1×105(Ω/□)である
限りにおいて、任意の構成とすることができる。以下、
上記において説明した強磁性金属薄膜の以外の要素、即
ち、非磁性基板、炭素膜、潤滑剤層およびバックコート
層の構成を説明する。
【0028】一般に、非磁性基板(1)は高分子から成
るフィルムである。非磁性基板(1)は常套の材料およ
び方法を用いて形成したものであってよい。非磁性基板
の厚さは一般に2〜10μmであり、好ましくは3〜5
μmである。非磁性基板の厚さが小さいほど、磁気記録
媒体全体の厚さが小さくなるため、所定寸法のケースに
より多くの磁気記録媒体を収容でき、長時間記録が可能
な磁気記録媒体製品(例えばDVC)が得られる。
るフィルムである。非磁性基板(1)は常套の材料およ
び方法を用いて形成したものであってよい。非磁性基板
の厚さは一般に2〜10μmであり、好ましくは3〜5
μmである。非磁性基板の厚さが小さいほど、磁気記録
媒体全体の厚さが小さくなるため、所定寸法のケースに
より多くの磁気記録媒体を収容でき、長時間記録が可能
な磁気記録媒体製品(例えばDVC)が得られる。
【0029】非磁性基板(1)の材料および構造は特に
限定されない。例えば、非磁性基板として、ポリエチレ
ンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリア
ミドまたはポリイミド等から成る高分子フィルムを用い
ることができる。
限定されない。例えば、非磁性基板として、ポリエチレ
ンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリア
ミドまたはポリイミド等から成る高分子フィルムを用い
ることができる。
【0030】磁気記録媒体の磁性層側表面の走行性を向
上させるために、非磁性基板(1)の強磁性金属薄膜
(2)が形成される面(即ち、強磁性金属薄膜(2)と
接する側の面)には超微粒子が分散し固着して、微細な
突起が形成されていることが好ましい。超微粒子は、例
えば、SiO2もしくはZnO等の無機物質またはイミ
ド等の有機物質から成る直径5〜70nmの超微粒子であ
る。そのような超微粒子は1μm2につき3〜150
個、分散し固着していることが望ましい。超微粒子は、
非磁性基板(1)のバック面にも分散し固着していてよ
い。あるいは、そのような微粒子を含む高分子材料でフ
ィルムを製造することによっても、表面に微細な突起を
有する非磁性基板が得られる。表面に突起を有する非磁
性基板の例は、特開平9−164644号公報および特
開平10−261215号公報等に開示されている。
上させるために、非磁性基板(1)の強磁性金属薄膜
(2)が形成される面(即ち、強磁性金属薄膜(2)と
接する側の面)には超微粒子が分散し固着して、微細な
突起が形成されていることが好ましい。超微粒子は、例
えば、SiO2もしくはZnO等の無機物質またはイミ
ド等の有機物質から成る直径5〜70nmの超微粒子であ
る。そのような超微粒子は1μm2につき3〜150
個、分散し固着していることが望ましい。超微粒子は、
非磁性基板(1)のバック面にも分散し固着していてよ
い。あるいは、そのような微粒子を含む高分子材料でフ
ィルムを製造することによっても、表面に微細な突起を
有する非磁性基板が得られる。表面に突起を有する非磁
性基板の例は、特開平9−164644号公報および特
開平10−261215号公報等に開示されている。
【0031】炭素膜(3)は、例えば、スパッタリング
もしくはプラズマCVD等の方法で得られる、アモルフ
ァス状、グラファイト状もしくはダイヤモンド状の炭素
から成る炭素膜、あるいはそれらの炭素を混合および/
または積層して形成した炭素膜である。
もしくはプラズマCVD等の方法で得られる、アモルフ
ァス状、グラファイト状もしくはダイヤモンド状の炭素
から成る炭素膜、あるいはそれらの炭素を混合および/
または積層して形成した炭素膜である。
【0032】炭素膜(3)は、特にダイヤモンド状の炭
素、すなわちダイヤモンドライクカーボンで形成するこ
とが好ましい。ダイヤモンドライクカーボンは適度な硬
度を有するため、磁性層側表面と接する走行系部材を損
傷することなく、磁気記録媒体の損傷を抑制することか
ら、最も好ましい材料である。
素、すなわちダイヤモンドライクカーボンで形成するこ
とが好ましい。ダイヤモンドライクカーボンは適度な硬
度を有するため、磁性層側表面と接する走行系部材を損
傷することなく、磁気記録媒体の損傷を抑制することか
ら、最も好ましい材料である。
【0033】いずれの材料を用いて炭素膜(3)を形成
する場合も、その厚さは、短波長領域で記録した信号の
再生出力を確保するために、6〜20nmとすることが好
ましい。
する場合も、その厚さは、短波長領域で記録した信号の
再生出力を確保するために、6〜20nmとすることが好
ましい。
【0034】潤滑剤層(4)は、磁気記録媒体の潤滑剤
として汎用されている潤滑剤で形成してよい。潤滑剤
は、例えば、カルボキシル基等の極性基を分子中に導入
した含フッ素系潤滑剤であることが好ましい。潤滑剤層
は、潤滑剤以外の成分として、例えば極圧剤、防錆剤等
を含んでよい。潤滑剤層は、例えば、潤滑剤を適当な溶
剤(溶媒)に溶解し又は分散させた塗布液を炭素膜の上
に塗布した後、溶剤を蒸発させることによって形成され
る。あるいは、潤滑剤層は有機蒸着法により形成してよ
い。潤滑剤層の厚さは、好ましくは0.05〜50nmで
あり、より好ましくは1〜10nmである。
として汎用されている潤滑剤で形成してよい。潤滑剤
は、例えば、カルボキシル基等の極性基を分子中に導入
した含フッ素系潤滑剤であることが好ましい。潤滑剤層
は、潤滑剤以外の成分として、例えば極圧剤、防錆剤等
を含んでよい。潤滑剤層は、例えば、潤滑剤を適当な溶
剤(溶媒)に溶解し又は分散させた塗布液を炭素膜の上
に塗布した後、溶剤を蒸発させることによって形成され
る。あるいは、潤滑剤層は有機蒸着法により形成してよ
い。潤滑剤層の厚さは、好ましくは0.05〜50nmで
あり、より好ましくは1〜10nmである。
【0035】バックコート層(5)は、湿式塗布法によ
り形成される。バックコート層は、具体的には、カーボ
ンブラック、炭酸カルシウム、ポリエステル樹脂および
ポリウレタン樹脂等を、適当な溶剤(例えば、トルエ
ン、メチルエチルケトンおよびシクロヘキサノンの混合
溶剤)に溶解し及び/または分散させた塗布液を調製
し、この塗布液を非磁性基板(1)の強磁性金属薄膜
(2)が形成された面とは反対の面に塗布した後、乾燥
して溶剤を蒸発させることにより形成される。塗布液
は、リバースコーティング法、バーコーティング法、グ
ラビアコーティング法、ダイコーティング法、またはデ
ィッピング法等により塗布される。いずれの材料を用い
る場合においても、湿式塗布法により形成するバックコ
ート層の厚さは100〜600nm(0.1〜0.6μ
m)とすることが好ましく、例えば500nmとするとよ
い。
り形成される。バックコート層は、具体的には、カーボ
ンブラック、炭酸カルシウム、ポリエステル樹脂および
ポリウレタン樹脂等を、適当な溶剤(例えば、トルエ
ン、メチルエチルケトンおよびシクロヘキサノンの混合
溶剤)に溶解し及び/または分散させた塗布液を調製
し、この塗布液を非磁性基板(1)の強磁性金属薄膜
(2)が形成された面とは反対の面に塗布した後、乾燥
して溶剤を蒸発させることにより形成される。塗布液
は、リバースコーティング法、バーコーティング法、グ
ラビアコーティング法、ダイコーティング法、またはデ
ィッピング法等により塗布される。いずれの材料を用い
る場合においても、湿式塗布法により形成するバックコ
ート層の厚さは100〜600nm(0.1〜0.6μ
m)とすることが好ましく、例えば500nmとするとよ
い。
【0036】図2に、本発明の磁気記録媒体の別の例を
模式的に断面図にて示す。図2に示す磁気記録媒体(1
0)も磁気テープであり、非磁性基板(1)の強磁性金
属薄膜(2)が形成された面とは反対の面に金属薄膜
(6)が形成されている点で、図1に示す磁気記録媒体
とは異なる。
模式的に断面図にて示す。図2に示す磁気記録媒体(1
0)も磁気テープであり、非磁性基板(1)の強磁性金
属薄膜(2)が形成された面とは反対の面に金属薄膜
(6)が形成されている点で、図1に示す磁気記録媒体
とは異なる。
【0037】金属薄膜(6)は、例えば、Ti、Cr、
Mn、Fe、Al、Cu、Zn、Sn、Ni、Ag、P
bおよびCoならびにこれらの合金等から成るグループ
から選択される1または複数の金属材料を用いて形成さ
れる。金属薄膜(6)は、強磁性金属薄膜(2)の磁性
に悪影響を及ばさないよう、非磁性金属から成るもので
あることが好ましい。Fe、NiおよびCoは磁性体で
あるから、これらを使用する場合には、酸化して非磁性
体にした状態で金属薄膜中に存在させることが好まし
い。金属薄膜は、単層膜の形態であってもよく、あるい
は多層膜の形態であってもよい。金属薄膜の厚さは20
〜500nmとすることが好ましい。
Mn、Fe、Al、Cu、Zn、Sn、Ni、Ag、P
bおよびCoならびにこれらの合金等から成るグループ
から選択される1または複数の金属材料を用いて形成さ
れる。金属薄膜(6)は、強磁性金属薄膜(2)の磁性
に悪影響を及ばさないよう、非磁性金属から成るもので
あることが好ましい。Fe、NiおよびCoは磁性体で
あるから、これらを使用する場合には、酸化して非磁性
体にした状態で金属薄膜中に存在させることが好まし
い。金属薄膜は、単層膜の形態であってもよく、あるい
は多層膜の形態であってもよい。金属薄膜の厚さは20
〜500nmとすることが好ましい。
【0038】コスト、付着速度、および金属薄膜を形成
する金属が酸化された場合の酸化後の安定性を考慮すれ
ば、金属薄膜は、Cu、AlもしくはZn、またはC
u、AlもしくはZnを主成分として好ましくは50原
子%以上含むCu系合金、Al系合金もしくはZn系合
金を用いて形成することが好ましい。
する金属が酸化された場合の酸化後の安定性を考慮すれ
ば、金属薄膜は、Cu、AlもしくはZn、またはC
u、AlもしくはZnを主成分として好ましくは50原
子%以上含むCu系合金、Al系合金もしくはZn系合
金を用いて形成することが好ましい。
【0039】金属薄膜(6)は、非磁性基板(1)の強
磁性金属薄膜(2)が位置する面とは反対の面(以下バ
ック面とも呼ぶ)に形成される。金属薄膜は、好ましく
は、電子ビーム加熱法、誘導加熱法または抵抗加熱法に
より金属を加熱蒸発させる真空蒸着法により形成され
る。あるいは、金属薄膜はスパッタ法もしくはイオンプ
レーティング法等により形成してよい。
磁性金属薄膜(2)が位置する面とは反対の面(以下バ
ック面とも呼ぶ)に形成される。金属薄膜は、好ましく
は、電子ビーム加熱法、誘導加熱法または抵抗加熱法に
より金属を加熱蒸発させる真空蒸着法により形成され
る。あるいは、金属薄膜はスパッタ法もしくはイオンプ
レーティング法等により形成してよい。
【0040】金属薄膜の上(露出表面)には必要に応じ
て、先に図1を参照して説明したバックコート層を更に
形成してよい。その場合、バックコート層の厚さは10
0〜600nm程度とすることが好ましい。
て、先に図1を参照して説明したバックコート層を更に
形成してよい。その場合、バックコート層の厚さは10
0〜600nm程度とすることが好ましい。
【0041】その他の要素については、図1を参照して
説明したとおりであるから、その詳細な説明は省略す
る。
説明したとおりであるから、その詳細な説明は省略す
る。
【0042】金属薄膜(6)を有する磁気テープが巻き
取られた状態にて所定のケースに収容されると、磁気テ
ープの強磁性金属薄膜(2)と金属薄膜(6)は、潤滑
剤層(4)および炭素膜(3)を介して隣接することと
なる。通常、潤滑剤層(4)および炭素膜(3)は極め
て薄いために欠陥部等を有し、強磁性金属薄膜(2)と
金属薄膜(6)との間を完全に隔てることができない。
そのため、2つの金属薄膜(2,6)の金属が直接的に
接触することがある。本発明の磁気記録媒体において
は、そのような接触が生じても、強磁性金属薄膜のシー
ト抵抗が1×10 3〜1×105(Ω/□)であるため
に、電気化学的な反応が起こりにくく、強磁性金属薄膜
(2)の腐食が有効に抑制される。
取られた状態にて所定のケースに収容されると、磁気テ
ープの強磁性金属薄膜(2)と金属薄膜(6)は、潤滑
剤層(4)および炭素膜(3)を介して隣接することと
なる。通常、潤滑剤層(4)および炭素膜(3)は極め
て薄いために欠陥部等を有し、強磁性金属薄膜(2)と
金属薄膜(6)との間を完全に隔てることができない。
そのため、2つの金属薄膜(2,6)の金属が直接的に
接触することがある。本発明の磁気記録媒体において
は、そのような接触が生じても、強磁性金属薄膜のシー
ト抵抗が1×10 3〜1×105(Ω/□)であるため
に、電気化学的な反応が起こりにくく、強磁性金属薄膜
(2)の腐食が有効に抑制される。
【0043】いずれの形態の磁気記録媒体においても、
磁気記録媒体全体の厚さは5μm以下であることが好ま
しい。全体の厚さが5μmを越える磁気記録媒体は、記
録容量を有効に増加させるほど薄手化されたものである
とはいえない。
磁気記録媒体全体の厚さは5μm以下であることが好ま
しい。全体の厚さが5μmを越える磁気記録媒体は、記
録容量を有効に増加させるほど薄手化されたものである
とはいえない。
【0044】このように形成される本発明の磁気記録媒
体は、その強磁性金属薄膜が特定のシート抵抗を有する
ために、優れた耐久性を示す。さらに、本発明の磁気記
録媒体は、非磁性基板のバック面に金属薄膜が形成さ
れ、強磁性金属薄膜と金属薄膜とが接触するように保管
されるテープ状磁気記録媒体であっても、強磁性金属薄
膜と金属薄膜との間で電気化学的な反応が起こりにくい
ものであり、したがって優れた耐食性を示す。
体は、その強磁性金属薄膜が特定のシート抵抗を有する
ために、優れた耐久性を示す。さらに、本発明の磁気記
録媒体は、非磁性基板のバック面に金属薄膜が形成さ
れ、強磁性金属薄膜と金属薄膜とが接触するように保管
されるテープ状磁気記録媒体であっても、強磁性金属薄
膜と金属薄膜との間で電気化学的な反応が起こりにくい
ものであり、したがって優れた耐食性を示す。
【0045】
【実施例】以下、本発明を実施例により具体的に説明す
る。 (実施例1:試験例1〜8)磁気記録媒体の非磁性基板
(1)として、幅280mm、厚さ4.0μmのポリエチ
レンナフタレートフィルム(PENフィルム)を用意し
た。このフィルムの片面には、有機物から成る直径10
〜70nmの微粒子が1μm2当り5〜50個分散し、固
着していた。
る。 (実施例1:試験例1〜8)磁気記録媒体の非磁性基板
(1)として、幅280mm、厚さ4.0μmのポリエチ
レンナフタレートフィルム(PENフィルム)を用意し
た。このフィルムの片面には、有機物から成る直径10
〜70nmの微粒子が1μm2当り5〜50個分散し、固
着していた。
【0046】このPENフィルム(1)の微粒子が存在
する側の面に、強磁性金属薄膜(2)を斜方蒸着法によ
り形成した。強磁性金属薄膜(2)は、真空槽内の圧力
を10mPaとし、非磁性基板(1)を冷却回転支持体で
あるベルト状支持体に沿って65m/分で走行させなが
ら、電子銃(出力18kW)によりるつぼ内のCoを蒸
発させることにより形成した。各試験例で形成した強磁
性金属薄膜(2)の厚さは表1に示すとおりである。
する側の面に、強磁性金属薄膜(2)を斜方蒸着法によ
り形成した。強磁性金属薄膜(2)は、真空槽内の圧力
を10mPaとし、非磁性基板(1)を冷却回転支持体で
あるベルト状支持体に沿って65m/分で走行させなが
ら、電子銃(出力18kW)によりるつぼ内のCoを蒸
発させることにより形成した。各試験例で形成した強磁
性金属薄膜(2)の厚さは表1に示すとおりである。
【0047】蒸着は、真空槽内に酸素ガスを導入しなが
ら実施した。酸素ガスの導入は、直径1mmの小孔がフィ
ルム幅の1.2倍の長さにわたって等間隔に50個形成
されたパイプであって、該小孔からガスが吐出されるノ
ズルを用いて実施した。ノズルは、蒸着領域の終点付近
にPENフィルムとの間の距離が20mmとなるように設
置した。また、酸素は、非磁性基板(即ちベルト状支持
体)と平行な方向であって、非磁性基板の進行方向とは
反対の方向に向けて導入した。酸素導入量(即ちノズル
全体から吐出される酸素ガスの流量)は表1に示すよう
に各試験例ごとに変えた。
ら実施した。酸素ガスの導入は、直径1mmの小孔がフィ
ルム幅の1.2倍の長さにわたって等間隔に50個形成
されたパイプであって、該小孔からガスが吐出されるノ
ズルを用いて実施した。ノズルは、蒸着領域の終点付近
にPENフィルムとの間の距離が20mmとなるように設
置した。また、酸素は、非磁性基板(即ちベルト状支持
体)と平行な方向であって、非磁性基板の進行方向とは
反対の方向に向けて導入した。酸素導入量(即ちノズル
全体から吐出される酸素ガスの流量)は表1に示すよう
に各試験例ごとに変えた。
【0048】次に、非磁性基板(1)のバック面に、バ
ックコート層(5)を形成した。バックコート層(5)
は、溶剤としてトルエン、メチルエチルケトンおよびシ
クロヘキサノンをそれぞれ500重量部、バインダーと
してポリウレタンを100重量部、およびカーボンブラ
ックを20重量部混合して調製した塗布液を塗布した
後、乾燥して溶媒を蒸発させることにより形成した。バ
ックコート層(5)の厚さは0.5μmとした。
ックコート層(5)を形成した。バックコート層(5)
は、溶剤としてトルエン、メチルエチルケトンおよびシ
クロヘキサノンをそれぞれ500重量部、バインダーと
してポリウレタンを100重量部、およびカーボンブラ
ックを20重量部混合して調製した塗布液を塗布した
後、乾燥して溶媒を蒸発させることにより形成した。バ
ックコート層(5)の厚さは0.5μmとした。
【0049】続いて、炭素膜(3)をECR(Electron
Cyclotron Resonance)法を利用したプラズマCVD法
により強磁性金属薄膜(2)の上に形成した。具体的に
は、真空雰囲気中の真空槽内に、メタンガスとアルゴン
ガスとを混合気体にして連続的に真空槽内に供給して、
真空槽内の圧力を2Paに設定し、マイクロ波電力を供給
することにより炭素膜を形成した。このとき、メタンガ
スの供給流量は100sccmとし、アルゴンガスの供
給流量は10sccmとした。炭素膜は厚さが10nmと
なるよう形成した。
Cyclotron Resonance)法を利用したプラズマCVD法
により強磁性金属薄膜(2)の上に形成した。具体的に
は、真空雰囲気中の真空槽内に、メタンガスとアルゴン
ガスとを混合気体にして連続的に真空槽内に供給して、
真空槽内の圧力を2Paに設定し、マイクロ波電力を供給
することにより炭素膜を形成した。このとき、メタンガ
スの供給流量は100sccmとし、アルゴンガスの供
給流量は10sccmとした。炭素膜は厚さが10nmと
なるよう形成した。
【0050】次に、炭素膜(3)の上に、含フッ素系潤
滑剤を有機溶媒に溶かした溶液を塗布した後、乾燥させ
て、厚さ6nmの潤滑剤層(4)を形成した。
滑剤を有機溶媒に溶かした溶液を塗布した後、乾燥させ
て、厚さ6nmの潤滑剤層(4)を形成した。
【0051】各試験例で作製した磁気記録媒体を、幅8
mmに裁断してテープ状の磁気記録媒体(磁気テープ)を
得た。得られた磁気テープの耐久性を、市販のAITフ
ォーマットのドライブ(SDX−300)を用いてShor
t-Shuttleテストにより評価した。具体的には、8mmカ
セットに巻き回して収納した磁気テープの特定部分(長
さ約600mm)を1往復させた場合を1passとし、繰り
返し往復させて各passのエラーレートを測定した。エラ
ーレートが測定不能となったpass数(即ち、エラーレー
トが100%となったpass数)をその磁気テープの耐久
性限界とし、エラーレートが測定不能となったpass数の
大小で耐久性を評価した。Short-Shuttleテストにおい
て、エラーレートが測定不能となるpass数が20,00
0以上であれば、その磁気テープの実用耐久性は十分で
あると判断できるため、pass数(往復走行回数)は2
0,000を上限とした。
mmに裁断してテープ状の磁気記録媒体(磁気テープ)を
得た。得られた磁気テープの耐久性を、市販のAITフ
ォーマットのドライブ(SDX−300)を用いてShor
t-Shuttleテストにより評価した。具体的には、8mmカ
セットに巻き回して収納した磁気テープの特定部分(長
さ約600mm)を1往復させた場合を1passとし、繰り
返し往復させて各passのエラーレートを測定した。エラ
ーレートが測定不能となったpass数(即ち、エラーレー
トが100%となったpass数)をその磁気テープの耐久
性限界とし、エラーレートが測定不能となったpass数の
大小で耐久性を評価した。Short-Shuttleテストにおい
て、エラーレートが測定不能となるpass数が20,00
0以上であれば、その磁気テープの実用耐久性は十分で
あると判断できるため、pass数(往復走行回数)は2
0,000を上限とした。
【0052】各試験例で得た磁気記録媒体の強磁性金属
薄膜のシート抵抗は、図3に示すようにして測定した。
具体的には次の手順に従って測定した。まず、炭素膜
(3)および潤滑剤層(4)を形成する前に磁気記録媒
体を8mm幅に裁断し、裁断した磁気記録媒体(10)の両
端にそれぞれ0.1Nの荷重(9)を加えて金属端子
(7a,7b)に固定した。それから、両金属端子(7
a,7b)間に10Vの電圧をDC電源(8)から印加
し、両金属端子(7a,7b)間で流れた電流値から電
気抵抗を求め、電気抵抗からシート抵抗を算出した。シ
ート抵抗(Ω/□)は、測定誤差を小さくするために、
2つの金属端子(7a,7b)間の距離を240mmと
し、測定した電気抵抗値を1/30とすることにより求
めた。
薄膜のシート抵抗は、図3に示すようにして測定した。
具体的には次の手順に従って測定した。まず、炭素膜
(3)および潤滑剤層(4)を形成する前に磁気記録媒
体を8mm幅に裁断し、裁断した磁気記録媒体(10)の両
端にそれぞれ0.1Nの荷重(9)を加えて金属端子
(7a,7b)に固定した。それから、両金属端子(7
a,7b)間に10Vの電圧をDC電源(8)から印加
し、両金属端子(7a,7b)間で流れた電流値から電
気抵抗を求め、電気抵抗からシート抵抗を算出した。シ
ート抵抗(Ω/□)は、測定誤差を小さくするために、
2つの金属端子(7a,7b)間の距離を240mmと
し、測定した電気抵抗値を1/30とすることにより求
めた。
【0053】表1に、各試験例で得た磁気テープの強磁
性金属薄膜のシート抵抗および磁気テープの耐久性の評
価結果を示す。
性金属薄膜のシート抵抗および磁気テープの耐久性の評
価結果を示す。
【0054】
【表1】
【0055】試験例1および試験例5のように、強磁性
金属薄膜のシート抵抗が1×103(Ω/□)を下回る
と耐久性が悪くなる。強磁性金属薄膜のシート抵抗が1
×103(Ω/□)以上であれば、実用上問題のない耐
久性が得られる。これは、強磁性金属薄膜自体の硬度が
向上していることによると考えられる。試験例1と試験
例7、および試験例2と試験例8を比較すると、同じ導
入酸素量でも、強磁性金属薄膜の厚さが小さいと強磁性
金属薄膜のシート抵抗が大きくなることがわかる。
金属薄膜のシート抵抗が1×103(Ω/□)を下回る
と耐久性が悪くなる。強磁性金属薄膜のシート抵抗が1
×103(Ω/□)以上であれば、実用上問題のない耐
久性が得られる。これは、強磁性金属薄膜自体の硬度が
向上していることによると考えられる。試験例1と試験
例7、および試験例2と試験例8を比較すると、同じ導
入酸素量でも、強磁性金属薄膜の厚さが小さいと強磁性
金属薄膜のシート抵抗が大きくなることがわかる。
【0056】(実施例2:試験例9〜12)磁気記録媒
体の非磁性基板(1)として、実施例1の各試験例で使
用したポリエチレンナフタレートフィルムと同じフィル
ムを用意した。このPENフィルム(1)の微粒子が存
在する側の面に、強磁性金属薄膜(2)を斜方蒸着法に
より形成した。強磁性金属薄膜(2)は、真空槽内の圧
力を10mPaとし、非磁性基板(1)を冷却回転支持体
であるベルト状支持体に沿って65m/分で走行させな
がら、電子銃(出力18kW)によりるつぼ内のCoを
蒸発させることにより形成した。蒸着は酸素を導入しな
がら実施した。酸素の導入は、実施例1で使用したノズ
ルと同じものを使用し、実施例1と同様にして実施し
た。各試験例における酸素導入量は表2に示すとおりで
ある。各試験例で形成した強磁性金属薄膜(2)の厚さ
はいずれも70nmである。
体の非磁性基板(1)として、実施例1の各試験例で使
用したポリエチレンナフタレートフィルムと同じフィル
ムを用意した。このPENフィルム(1)の微粒子が存
在する側の面に、強磁性金属薄膜(2)を斜方蒸着法に
より形成した。強磁性金属薄膜(2)は、真空槽内の圧
力を10mPaとし、非磁性基板(1)を冷却回転支持体
であるベルト状支持体に沿って65m/分で走行させな
がら、電子銃(出力18kW)によりるつぼ内のCoを
蒸発させることにより形成した。蒸着は酸素を導入しな
がら実施した。酸素の導入は、実施例1で使用したノズ
ルと同じものを使用し、実施例1と同様にして実施し
た。各試験例における酸素導入量は表2に示すとおりで
ある。各試験例で形成した強磁性金属薄膜(2)の厚さ
はいずれも70nmである。
【0057】続いて、非磁性基板(1)のバック面に、
非磁性金属薄膜(6)を真空蒸着法により形成した。非
磁性金属薄膜(6)は、真空槽内の圧力を10mPaと
し、非磁性基板(1)を冷却回転支持体であるキャン状
支持体に沿って10m/分で走行させながら、電子銃
(出力5kW)によりるつぼ内のAlを蒸発させること
により形成した。非磁性金属薄膜(6)の厚さは200
nmとした。
非磁性金属薄膜(6)を真空蒸着法により形成した。非
磁性金属薄膜(6)は、真空槽内の圧力を10mPaと
し、非磁性基板(1)を冷却回転支持体であるキャン状
支持体に沿って10m/分で走行させながら、電子銃
(出力5kW)によりるつぼ内のAlを蒸発させること
により形成した。非磁性金属薄膜(6)の厚さは200
nmとした。
【0058】次に、炭素膜(3)および潤滑剤層(4)
を実施例1の各試験例と同様にして形成した。それか
ら、実施例1の各試験例と同様にして、得られた各磁気
記録媒体を裁断して磁気テープを得た。
を実施例1の各試験例と同様にして形成した。それか
ら、実施例1の各試験例と同様にして、得られた各磁気
記録媒体を裁断して磁気テープを得た。
【0059】各試験例で得られた磁気テープの耐候保存
性を次の手順に従って評価した。まず、各試験例で得ら
れた磁気テープを、6.35mmテープ用カセットに巻き
回して収容したものを60℃80%RHの高温高湿の環
境下にて1週間保存した。次いで、RF(高周波)出力
測定用に改造した市販デジタルVTR(松下電器(株)
製、DV−DJ1)を用いて、保存後の磁気テープに周
波数21MHzの信号を記録し、記録した信号の自己記
録再生出力を測定した。保存後の磁気テープの自己記録
再生出力は、保存前の磁気テープに記録した信号の自己
録再生出力を0dBとしたときの出力低下量で示した。
性を次の手順に従って評価した。まず、各試験例で得ら
れた磁気テープを、6.35mmテープ用カセットに巻き
回して収容したものを60℃80%RHの高温高湿の環
境下にて1週間保存した。次いで、RF(高周波)出力
測定用に改造した市販デジタルVTR(松下電器(株)
製、DV−DJ1)を用いて、保存後の磁気テープに周
波数21MHzの信号を記録し、記録した信号の自己記
録再生出力を測定した。保存後の磁気テープの自己記録
再生出力は、保存前の磁気テープに記録した信号の自己
録再生出力を0dBとしたときの出力低下量で示した。
【0060】各試験例で得た磁気記録媒体の強磁性金属
薄膜のシート抵抗は、実施例1と同様に図3に示すよう
にして測定した。
薄膜のシート抵抗は、実施例1と同様に図3に示すよう
にして測定した。
【0061】表2に、各試験例で得た磁気テープの強磁
性金属薄膜のシート抵抗および磁気テープの耐候保存性
の評価結果を示す。
性金属薄膜のシート抵抗および磁気テープの耐候保存性
の評価結果を示す。
【0062】
【表2】
【0063】試験例9のように、強磁性金属薄膜のシー
ト抵抗が1×103(Ω/□)を下回ると、自己再生出
力に異常が生じる。これは、高温高湿下で保存している
間に、非磁性金属薄膜(6)と強磁性金属薄膜(2)と
の間で電気化学的な反応が起きて強磁性金属薄膜(2)
に錆が発生し、この錆が記録再生装置のヘッドの目詰ま
りを発生させたためであると考えられる。非磁性金属薄
膜(6)と強磁性金属薄膜(2)との間には炭素膜
(3)が存在しているが、炭素膜(3)は10nmと極め
て薄いために欠陥部等を有し、この欠陥部を介して2つ
の金属薄膜(2,6)は直接的に接触したものと考えら
れる。一方、強磁性金属薄膜のシート抵抗が1×103
(Ω/□)以上になると、良好な自己記録再生出力が得
られた。これは、非磁性金属薄膜(6)と強磁性金属薄
膜(2)との間で電気化学的な反応が起きず、したがっ
て磁気ヘッドの目詰まりが発生しなかったためであると
考えられる。
ト抵抗が1×103(Ω/□)を下回ると、自己再生出
力に異常が生じる。これは、高温高湿下で保存している
間に、非磁性金属薄膜(6)と強磁性金属薄膜(2)と
の間で電気化学的な反応が起きて強磁性金属薄膜(2)
に錆が発生し、この錆が記録再生装置のヘッドの目詰ま
りを発生させたためであると考えられる。非磁性金属薄
膜(6)と強磁性金属薄膜(2)との間には炭素膜
(3)が存在しているが、炭素膜(3)は10nmと極め
て薄いために欠陥部等を有し、この欠陥部を介して2つ
の金属薄膜(2,6)は直接的に接触したものと考えら
れる。一方、強磁性金属薄膜のシート抵抗が1×103
(Ω/□)以上になると、良好な自己記録再生出力が得
られた。これは、非磁性金属薄膜(6)と強磁性金属薄
膜(2)との間で電気化学的な反応が起きず、したがっ
て磁気ヘッドの目詰まりが発生しなかったためであると
考えられる。
【0064】以上、本発明の磁気記録媒体を磁気テープ
を例に挙げて説明したが、本発明の磁気記録媒体は磁気
テープに限定されない。本発明の磁気記録媒体は、例え
ば磁気ディスクであってよい。
を例に挙げて説明したが、本発明の磁気記録媒体は磁気
テープに限定されない。本発明の磁気記録媒体は、例え
ば磁気ディスクであってよい。
【0065】
【発明の効果】本発明の磁気記録媒体は、非磁性基板の
一方の面に形成された強磁性金属薄膜、強磁性金属薄膜
の上に形成された炭素膜、および炭素膜の上に形成され
た潤滑剤層を有する磁気記録媒体であって、強磁性金属
薄膜のシート抵抗が1×103〜1×105(Ω/□)で
あることを特徴とする。この特徴により、本発明の磁気
記録媒体は電磁変換特性を損なうことなく、優れた耐久
性を示す。
一方の面に形成された強磁性金属薄膜、強磁性金属薄膜
の上に形成された炭素膜、および炭素膜の上に形成され
た潤滑剤層を有する磁気記録媒体であって、強磁性金属
薄膜のシート抵抗が1×103〜1×105(Ω/□)で
あることを特徴とする。この特徴により、本発明の磁気
記録媒体は電磁変換特性を損なうことなく、優れた耐久
性を示す。
【0066】さらに、上記特徴により、本発明の磁気記
録媒体は、非磁性基板の強磁性金属薄膜が形成された面
とは反対の面に金属薄膜が形成された構成を有し、強磁
性金属薄膜と金属薄膜とが近接した状態(例えば磁気テ
ープのように巻き回された状態)で保存されても、2つ
の膜の間で電気化学的な反応が生じにくく、強磁性金属
薄膜の腐食の発生等が抑制される。したがって、本発明
によれば、非磁性基板のバック面に金属薄膜が形成され
た剛性の大きい磁気記録媒体であって、優れた保存性お
よび耐食性を示す、実用信頼性の高い磁気記録媒体(特
に磁気テープ)を得ることができる。
録媒体は、非磁性基板の強磁性金属薄膜が形成された面
とは反対の面に金属薄膜が形成された構成を有し、強磁
性金属薄膜と金属薄膜とが近接した状態(例えば磁気テ
ープのように巻き回された状態)で保存されても、2つ
の膜の間で電気化学的な反応が生じにくく、強磁性金属
薄膜の腐食の発生等が抑制される。したがって、本発明
によれば、非磁性基板のバック面に金属薄膜が形成され
た剛性の大きい磁気記録媒体であって、優れた保存性お
よび耐食性を示す、実用信頼性の高い磁気記録媒体(特
に磁気テープ)を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の強磁性金属薄膜型磁気記録媒体の一
例を模式的に示す断面図である。
例を模式的に示す断面図である。
【図2】 本発明の強磁性金属薄膜型磁気記録媒体の別
の一例を模式的に示す断面図である。
の一例を模式的に示す断面図である。
【図3】 磁気記録媒体の強磁性金属薄膜のシート抵抗
を測定する方法を示す模式図である。
を測定する方法を示す模式図である。
1...非磁性基板、2...強磁性金属薄膜、3...炭素
膜、4...潤滑剤層、5...バックコート層、6...金属
薄膜、7a,7b...金属端子、8...DC電源、9...
荷重、10...磁気記録媒体(磁気テープ)
膜、4...潤滑剤層、5...バックコート層、6...金属
薄膜、7a,7b...金属端子、8...DC電源、9...
荷重、10...磁気記録媒体(磁気テープ)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 前澤 可治 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Fターム(参考) 5D006 BB07 CC01 EA03 FA01 FA02 FA05 FA09 5D112 AA05 AA08 BB01 BD03 FA02 FB20
Claims (7)
- 【請求項1】 非磁性基板の一方の面に形成された強磁
性金属薄膜、強磁性金属薄膜の上に形成された炭素膜、
および炭素膜の上に形成された潤滑剤層を有する磁気記
録媒体であって、強磁性金属薄膜のシート抵抗が1×1
03〜1×105(Ω/□)である磁気記録媒体。 - 【請求項2】 強磁性金属薄膜の厚さが20〜120nm
である請求項1に記載の磁気記録媒体。 - 【請求項3】 磁気記録媒体全体の厚さが5μm以下で
ある請求項1または請求項2に記載の磁気記録媒体。 - 【請求項4】 非磁性基板の強磁性金属薄膜が形成され
た面とは反対の面に形成された金属薄膜をさらに有する
請求項1〜3のいずれか1項に記載の磁気記録媒体。 - 【請求項5】 金属薄膜を構成する金属が非磁性金属で
ある請求項4に記載の磁気記録媒体。 - 【請求項6】 金属薄膜が真空蒸着法により形成された
ものである請求項4または請求項5に記載の磁気記録媒
体。 - 【請求項7】 請求項1〜6のいずれか1項に記載の磁
気記録媒体を製造する方法であって、強磁性金属薄膜を
酸素雰囲気中にて真空蒸着により形成するに際し、酸素
導入量を制御することにより強磁性金属薄膜のシート抵
抗を制御することを特徴とする磁気記録媒体の製造方
法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001171005A JP2002367135A (ja) | 2001-06-06 | 2001-06-06 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001171005A JP2002367135A (ja) | 2001-06-06 | 2001-06-06 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002367135A true JP2002367135A (ja) | 2002-12-20 |
Family
ID=19012843
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001171005A Pending JP2002367135A (ja) | 2001-06-06 | 2001-06-06 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2002367135A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7224544B2 (en) | 2003-11-10 | 2007-05-29 | Sony Corporation | Method and device for recording data and erasing servo data |
Citations (9)
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JPH0223515A (ja) * | 1988-07-12 | 1990-01-25 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体 |
JPH03152711A (ja) * | 1989-11-08 | 1991-06-28 | Tdk Corp | 磁気記録媒体および磁気記録再生方法 |
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JPH0798835A (ja) * | 1993-09-29 | 1995-04-11 | Victor Co Of Japan Ltd | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
JPH07254148A (ja) * | 1994-03-16 | 1995-10-03 | Kao Corp | 磁気記録媒体の製造方法及び製造装置並びに磁気記録媒体 |
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JP2000149247A (ja) * | 1998-11-04 | 2000-05-30 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気テープおよび磁気記録再生装置 |
JP2001093130A (ja) * | 1999-09-24 | 2001-04-06 | Naruse Atsushi | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
-
2001
- 2001-06-06 JP JP2001171005A patent/JP2002367135A/ja active Pending
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Effective date: 20091211 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 |
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Effective date: 20091222 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 |
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Effective date: 20100601 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 |