JP2002343712A - 振動減衰システム - Google Patents

振動減衰システム

Info

Publication number
JP2002343712A
JP2002343712A JP2001402585A JP2001402585A JP2002343712A JP 2002343712 A JP2002343712 A JP 2002343712A JP 2001402585 A JP2001402585 A JP 2001402585A JP 2001402585 A JP2001402585 A JP 2001402585A JP 2002343712 A JP2002343712 A JP 2002343712A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mount
vibration
actuator
sensor
joint
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2001402585A
Other languages
English (en)
Inventor
Franz Sorg
ゾルグ フランツ
Stefan Xalter
クサルター シュテファン
Michael Muhlbeyer
ミュールベイアー ミヒャエル
Bernhard Gellrich
ゲルリヒ ベルンハルト
Frank Melzer
メルツァー フランク
Thomas Ittner
イットナー トーマス
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Carl Zeiss AG
Original Assignee
Carl Zeiss AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Carl Zeiss AG filed Critical Carl Zeiss AG
Publication of JP2002343712A publication Critical patent/JP2002343712A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70858Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
    • G03F7/709Vibration, e.g. vibration detection, compensation, suppression or isolation
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16FSPRINGS; SHOCK-ABSORBERS; MEANS FOR DAMPING VIBRATION
    • F16F15/00Suppression of vibrations in systems; Means or arrangements for avoiding or reducing out-of-balance forces, e.g. due to motion
    • F16F15/005Suppression of vibrations in systems; Means or arrangements for avoiding or reducing out-of-balance forces, e.g. due to motion using electro- or magnetostrictive actuation means
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16FSPRINGS; SHOCK-ABSORBERS; MEANS FOR DAMPING VIBRATION
    • F16F15/00Suppression of vibrations in systems; Means or arrangements for avoiding or reducing out-of-balance forces, e.g. due to motion
    • F16F15/02Suppression of vibrations of non-rotating, e.g. reciprocating systems; Suppression of vibrations of rotating systems by use of members not moving with the rotating systems
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/64Imaging systems using optical elements for stabilisation of the lateral and angular position of the image
    • G02B27/646Imaging systems using optical elements for stabilisation of the lateral and angular position of the image compensating for small deviations, e.g. due to vibration or shake

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Acoustics & Sound (AREA)
  • Aviation & Aerospace Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Atmospheric Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Vibration Prevention Devices (AREA)
  • Exposure Control For Cameras (AREA)
  • Apparatuses For Generation Of Mechanical Vibrations (AREA)

Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【課題】 投写照明装置(特には、マイクロリソグラフ
ィック投写装置)における投射対物系の振動を低減す
る。 【解決手段】 投写照明装置における変形減結合マウン
ト2′、6および操作子11に対して作用する振動をセ
ンサ3により検出する。そして、アクチュエータ4によ
り、上記妨害的振動に対して逆相の同一の又は少なくと
も類似した周波数及び振幅の波を発生させ、上記マウン
ト2′、6に導入する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、結像装置における
光学エレメント、特には、半導体製造用のマイクロリソ
グラフィック投写露光対物系等の投写照明装置における
変形減結合されたマウント及び操作子に作用する振動減
衰システムに関する。
【0002】
【背景技術】特にマイクロリソグラフィック投写露光対
物系においては非常に高い結像精度が要求され、当該投
写照明装置又は該装置の構造に入り込む振動は全体の光
学系、従って結像精度に対して非常な悪影響を有する。
【0003】例えばレンズ等の光学エレメントを、外部
から作用する力及び変形から隔離するために、該光学エ
レメントを例えば外側マウント等の外部構造に対して変
形減結合態様で接続することが知られている。斯様な減
結合された光学エレメントは、当然、外部構造に対する
接続点において比較的柔軟となっている。このことは、
固有周波数が低くなり、これは当該光学エレメントが外
部から励起される振動により例えば機械周波数で振動を
開始し得る危険性に繋がり、これが当該照明装置の結像
品質に悪影響を有することを意味する。このような理由
で、従来は、良好な変形減結合と必然的に要求される最
小の剛性との間の妥協点を見付け、当該光学エレメント
が振動を起こさないようにする試みが常になされてい
た。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、最大
限の変形減結合が、相応に柔軟な支持又は接続点による
ものであるが、外部から作用する振動が当該光学エレメ
ントに対して悪影響を有さないようにして達成されるよ
うなシステムを提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、この目
的は、光学エレメントと、弾性的に結合された2つのユ
ニットを有し上記光学エレメントを保持するマウント
と、該マウントに取り付けられて前記弾性的に結合され
たユニットの振動に作用する少なくとも1つの能動的振
動減衰器とを有するような光学マウントユニットにより
達成される。
【0006】他の態様によれば、本発明は対物系におけ
る光学エレメントに作用する振動減衰システムに関し、
上記光学エレメントは2つのユニットを有するマウント
に保持され、これらユニットは弾性的に結合され、発生
する妨害的振動がセンサにより検出され、次いで、アク
チュエータにより上記妨害的振動に対して逆相の同一又
は少なくとも類似した周波数及び振幅を持つ波形が発生
され且つ前記マウントに導入される。
【0007】好ましい態様によれば、本発明は、マイク
ロリソグラフィック投写露光対物系におけるレンズに作
用する振動減衰システムに関するものである。
【0008】本発明によれば、振動はセンサを含む減衰
器により検出され、その際、特に圧電素子等のアクチュ
エータが特に適応電子的(adaptronic)制御ループ等の
制御システムに関連して、振幅及び周波数の両者に関し
て反対方向の波が上記アクチュエータにより、特に一次
振動のような外部から入り込む振動が実質的に完全に又
は少なくとも実質的に除去されるべく活性化されるよう
に駆動される。
【0009】言い換えると、上記アクチュエータは逆相
ではあるが同一の周波数及び同一の振幅の波を発生し、
この結果、上記妨害的振動が消滅する。勿論、多くの可
能性により、非常に強い減衰は少なくとも保証される
が、通常は全ての振動の完全な消滅を達成することは可
能ではない。また、変形の結果としての振動又はバイブ
レーションも上記減衰器により減衰することができる。
【0010】本発明の有利な構成においては、上記圧電
素子は薄板、シート又は膜の形状のアクチュエータとし
て設けられるものとする。何故なら、このようにすれ
ば、上記アクチュエータは当該構造内に最適に一体化す
ることができるからである。
【0011】本発明の非常に有利な構成は、圧電素子が
好ましくは薄板、シート又は膜の形態のセンサとして設
けられるようにする点にあるものとすることができる。
【0012】本発明は、変形減結合されたマウント及び
操作子に関して特に有利に使用することができる。この
場合、センサは固定の又は静止型の外側リング上に周に
わたり対応して分散され、圧電素子は上記外側リングに
対して弾性的に接続された内側リング内に若しくは該内
側リング上に、又は前記光学エレメントに、同様に周に
わたり分散されたアクチュエータとして設けられる。
【0013】この場合において、上記センサ及びアクチ
ュエータが連結部(ジョイント)の近傍に配置されるな
ら、外側マウントを介して外部的に誘起される振動又は
変形は、対応して駆動されるアクチュエータにより、上
記内側リングとの該ジョイントにおける逆相の波で以っ
て巧妙に防止することができる。
【0014】本発明による構成において上記センサも圧
電素子として設計されている場合は、上記ジョイントで
発生する変形、従って発生する上記センサの長さの変化
により、誘起される振動を非常に正確に検出することが
でき、反対に作用する、即ち同一の周波数及び振幅で逆
相で作用する振動を対応して発生させることができる。
【0015】本発明の例示的実施例を、以下に図面の助
けをかりて概略説明する。
【0016】
【発明の実施の形態】図1は、光学エレメントとしての
レンズ1を概念的且つ抜粋的にのみ示し、該レンズはマ
ウント2(詳細には図示せず)内に支持されている。振
動センサ3と、振動アクチュエータ4と、該振動センサ
3から信号を入力すると共に上記振動アクチュエータ4
を駆動する制御システムとを有する能動アクチュエータ
が、周にわたって分散配置されている(詳細には図示せ
ず)。センサ3及びアクチュエータ4の両者は、薄板、
シート又は膜の形態の圧電素子であり、斯様にして当該
構造内に集積化されている。センサ3により検出された
振動は制御ライン9を介して評価ユニットを備えるコン
ピュータ(詳細には図示せず)5に送られる。該コンピ
ュータによれば、センサ3からの結果の評価の後、アク
チュエータ4は制御ライン10を介しての適応電子的閉
制御ループにおいて、導入された振動とは反対に作用す
る周波数が同一の振幅でマウント2内に作用するよう
に、駆動される。
【0017】センサ3はマウント2に作用する変形も検
出し、従ってアクチュエータ4は、計算ユニット5を介
して、同一の周波数及び同一の振幅の逆相により反対の
変形を発生する。
【0018】振動を減衰する当該システムの好ましい実
施例又は好ましい利用分野は、図2に抜粋として表され
るような変形減結合マウントである。変形減結合マウン
ト自体は既知であるので、ここでは詳細には説明しな
い。例えば、DE 199 08 554及びP 199 01 295を参照さ
れたい。
【0019】図2から分かるように、レンズ1は内側マ
ウント6内に支持され、該マウントは固体ジョイント7
の形態の狭い接続リンクを介して外側マウント2’に接
続されている。この目的のため、複数の固体ジョイント
7が、外側マウント2’と内側マウント6との間の周部
にわたって分散配置されている。レンズ1は、半導体を
製造するマイクロリソグラフィック投写露光対物系の一
部とすることができる。当該対物系12のハウジングの
一部が、図2の点線により示されている。外側マウント
2’と内側マウント6とは一体であると共に、変形減結
合接続部を形成するために、個体ジョイント7を除き環
状間隙8により互いに分離されている。該環状間隙8に
おける断続部、即ち個体ジョイント7の近傍において、
該環状間隙8は間隙連続部8’を有し、これら連続部は
各々当該個体ジョイント7の両側において半径方向外側
に向かって延在している。この場合、2つの間隙連続部
8’の一方は、光学エレメント1の方向に内側に向かっ
て更に延長されると共に、少なくとも略周方向に延びる
拡幅部8’’を備えている。このようにして、個体ジョ
イント7には、両側にL字状間隙が各々設けられてい
る。かくして、センサ3及びアクチュエータ4は、これ
らL字状間隙に交互に対向して取り付けられている。セ
ンサ3及びアクチュエータ4はシートとして適用され、
図1におけるのと同様の態様で計算ユニット5(図2に
は詳細には示さない)に接続されている。個体ジョイン
ト7に発生し、従って該個体ジョイント7を介して内側
リング7へ(従ってレンズ1へ)伝達されるような、セ
ンサ3により検出される振動及び変形は、制御ライン9
を介してコンピュータ5へ伝送され、該コンピュータに
より制御ライン10を介してアクチュエータ4に供給さ
れる。
【0020】対応して駆動されるアクチュエータ4によ
り斯様にして“逆周波数”又は“逆変形”が発生される
と、個体ジョイント7における振動又は変形は実質的に
除去される。このことは、高度な弾性を有する相応に
“軟らかな”個体ジョイント7により、レンズ1の振動
又はバイブレーションの危険性なしに一層強力な変形減
結合を達成することができることを意味する。
【0021】発生する振動に依存して、単一のものに代
えて多分幾つかの適応電子的制御ループを設ける必要が
あるかもしれない。その場合、センサ3及びアクチュエ
ータ4の数、並びにこれらが配置される方法は、当該構
造に依存するであろう。
【0022】L字状間隙を備える固体ジョイント7に代
えて、少なくとも外部的に導入される振動を略除去する
ためにセンサ3及びアクチュエータ4を適用するのに適
した他の実施例を用いることも勿論可能である。
【0023】図3は、図2の鎖線円形抜粋部に対応する
構造を示し、固体ジョイントは外側マウント2’と内側
マウントとの間の半径方向に延びる単純なリンク7’に
より形成されている。この場合、間隙8’は該リンクの
両側に配置されている。該個体ジョイントのような純粋
に半径方向の経路のリンク7に代えて、半径方向に対し
て傾斜されたリンクを使用することも勿論可能である。
この場合、勿論、間隙8’も直角ではなく斜めに延び
る。
【0024】図4は、横方向に隣接する間隙8’とリン
クの間の2つの孔8’’’とを備えるようなX字状を形
成する個体ジョイント7’’’の構成を示している。
【0025】上記両者の場合において、センサ3及びア
クチュエータ4は間隙8’内における当該リンクの側部
上に配置されている。図4の実施例においては、センサ
3及び/又はアクチュエータ4は、任意選択事項とし
て、当該リンクの内側の孔8’’’内に配置することも
できる。
【0026】内側マウント、従ってレンズ1の位置的変
更を可能にする操作子11(図2に示す点線参照)を、
外側マウント2’と内側マウント6との間において個体
ジョイント7の近傍に又は異なる点に設けることができ
る。本発明によるセンサ3及びアクチュエータ4は、こ
れら操作子11上に又は該操作子を介して作用すること
もできる。
【0027】本発明による解決策においては、上記圧電
素子は二重の意味で使用されている。即ち、一方におい
て、発生する振動は、薄板、シート又は膜の形態で存在
し、従って歪計ストリップの形態で対応して折曲するよ
うな当該圧電素子の長さの変化に繋がる。既知の態様に
より、これら圧電素子に対する変化は電圧を発生し、こ
れら電圧は対応して検出されると共にコンピュータ5に
おいて評価される。上記圧電素子がアクチュエータとし
て使用される場合は、これら圧電素子の逆の効果が使用
される。即ち、この場合は該圧電素子に電圧を供給する
ために制御ライン10が使用され、上記電圧は当該圧電
素子の長さの変化又は折曲に繋がる。従って、これらの
圧電素子に対する変化は隣接する構造の振動を生じさせ
る。これらの振動が、外部から当該構造に導入される不
所望な振動と同じ周波数及び同じ振幅の反対(逆相)の
ものとなるように対応して制御されるならば、実際に不
所望な周波数の実質的な消滅ではなくても、著しい減衰
が生じる。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は、マウントを備える光学エレメントとし
てのレンズの抜粋平面図を示す。
【図2】図2は、変形減結合マウントを備える光学エレ
メントとしてのレンズの抜粋平面図を示す。
【図3】図3は、図2の鎖線円形抜粋部に対応する固体
ジョイントの他の構成を示す。
【図4】図4は、図2の鎖線円形抜粋部に対応する固体
ジョイントの更に他の構成を示す。
【符号の説明】
1:レンズ(光学素子) 2:マウント 2’:外側マウント 3:センサ 4:アクチュエータ 5:コンピュータ 6:内側マウント 7:固体ジョイント 8、8’、8’’:間隙 9:制御ライン 10:制御ライン 11:操作子
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 フランツ ゾルグ ドイツ国 ディー−73433 アーレン、 ヴェスターハルデンシュトラーセ 2 (72)発明者 シュテファン クサルター ドイツ国 ディー−73447 オベルコヒェ ン、 フルエリングシュトラーセ 7 (72)発明者 ミヒャエル ミュールベイアー ドイツ国 ディー−73430 アーレン、 シューマンシュトラーセ 39 (72)発明者 ベルンハルト ゲルリヒ ドイツ国 ディー−73434 アーレン、 シュナイトベルグシュトラーセ 3 (72)発明者 フランク メルツァー ドイツ国 ディー−73469 ウツメミンゲ ン、 ノエルドリンゲル シュトラーセ 270 (72)発明者 トーマス イットナー ドイツ国 ディー−73431 アーレン、 ヤンシュトラーセ 38 Fターム(参考) 2H002 GA00 GA41 GA45 GA46 JA01 JA11 5D107 AA05 CC13 5F046 AA23 CB12 DA12 DB14

Claims (29)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 光学エレメントと、弾性的に結合された
    2つのユニットを有すると共に前記エレメントを保持す
    るマウントと、該マウントに取り付けられて前記弾性的
    に結合されたユニットの振動に作用する少なくとも1つ
    の能動的振動減衰器とを有していることを特徴とする光
    学マウントユニット。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載の光学マウントユニット
    において、前記少なくとも1つの能動的振動減衰器は、
    振動センサと、振動アクチュエータと、前記振動センサ
    から信号を入力して前記振動アクチュエータを駆動する
    制御システムとを有していることを特徴とする光学マウ
    ントユニット。
  3. 【請求項3】 請求項2に記載の光学マウントユニット
    において、前記少なくとも1つの能動的振動減衰器は、
    前記弾性的に結合されたユニットの振動に対する逆相に
    おいて同一又は少なくとも類似した周波数及び振幅で駆
    動されることを特徴とする光学マウントユニット。
  4. 【請求項4】 請求項2に記載の光学マウントユニット
    において、前記少なくとも1つの振動アクチュエータが
    圧電材料を有していることを特徴とする光学マウントユ
    ニット。
  5. 【請求項5】 請求項4に記載の光学マウントユニット
    において、少なくとも1つの振動センサ及び1つの振動
    アクチュエータが1部品の圧電材料に統合されているこ
    とを特徴とする光学マウントユニット。
  6. 【請求項6】 対物系における光学エレメントに作用す
    る振動減衰システムにおいて、前記光学エレメントは弾
    性的に結合された2つのユニットを有するマウントに保
    持され、発生する妨害的振動がセンサにより検出され、
    次いでアクチュエータにより、前記妨害的振動に対して
    逆相の同一又は少なくとも類似した周波数及び振幅を持
    つ波が発生されると共に前記マウントに導入されること
    を特徴とする振動減衰システム。
  7. 【請求項7】 請求項6に記載のシステムにおいて、前
    記アクチュエータとしての圧電素子が前記マウントに作
    用することを特徴とするシステム。
  8. 【請求項8】 請求項7に記載のシステムにおいて、前
    記圧電素子が、前記光学エレメント又は前記マウントに
    薄板、シート又は膜の形態のアクチュエータとして集積
    化されていることを特徴とするシステム。
  9. 【請求項9】 請求項6に記載のシステムにおいて、圧
    電素子が前記センサとして設けられていることを特徴と
    するシステム。
  10. 【請求項10】 請求項9に記載のシステムにおいて、
    前記圧電素子が、薄板、シート又は膜の形態のセンサと
    して設けられていることを特徴とするシステム。
  11. 【請求項11】 請求項6に記載のシステムにおいて、
    前記マウントは前記2つのユニットを有し、これら両ユ
    ニットの一方は前記対物系のハウジングに固定された外
    側リングとして形成され、第2のユニットは該外側リン
    グに弾性的に結合された内側リングとして形成され、前
    記センサ及びアクチュエータが前記内側リングと前記外
    側リングとの間に配置されていることを特徴とするシス
    テム。
  12. 【請求項12】 請求項11に記載のシステムにおい
    て、前記外側リングはジョイントを介して前記内側リン
    グに接続され、センサ及びアクチュエータが前記ジョイ
    ントの両側に配置されていることを特徴とするシステ
    ム。
  13. 【請求項13】 請求項12に記載のシステムにおい
    て、前記ジョイントは固体ジョイントとして構成され、
    前記外側リングと前記内側リングとが一体に構成されて
    いることを特徴とするシステム。
  14. 【請求項14】 請求項13に記載のシステムにおい
    て、前記固体ジョイントは少なくとも略L字状に構成さ
    れていることを特徴とするシステム。
  15. 【請求項15】 請求項13に記載のシステムにおい
    て、前記固体ジョイントは、前記内側リングと前記外側
    リングとの間で半径方向に延在するリンクとして構成さ
    れていることを特徴とするシステム。
  16. 【請求項16】 請求項13に記載のシステムにおい
    て、前記固体ジョイントは、半径方向に対し傾斜して延
    在するリンクとして構成されていることを特徴とするシ
    ステム。
  17. 【請求項17】 請求項13に記載のシステムにおい
    て、前記固体ジョイントが少なくとも略X字状に形成さ
    れていることを特徴とするシステム。
  18. 【請求項18】 マイクロリソグラフィック投写露光対
    物系におけるレンズに作用する振動減衰システムにおい
    て、前記レンズは弾性的に結合された2つのユニットを
    有するマウントに保持され、発生する妨害的振動がセン
    サにより検出され、次いでアクチュエータにより、前記
    妨害的振動に対して逆相の同一又は少なくとも類似した
    周波数及び振幅を持つ波が発生されると共に前記マウン
    トに導入されることを特徴とする振動減衰システム。
  19. 【請求項19】 請求項18に記載のシステムにおい
    て、前記アクチュエータとしての圧電素子が前記マウン
    トに作用することを特徴とするシステム。
  20. 【請求項20】 請求項19に記載のシステムにおい
    て、前記圧電素子が、前記レンズ又は前記マウントに薄
    板、シート又は膜の形態のアクチュエータとして集積化
    されていることを特徴とするシステム。
  21. 【請求項21】 請求項18に記載のシステムにおい
    て、圧電素子が前記センサとして設けられていることを
    特徴とするシステム。
  22. 【請求項22】 請求項21に記載のシステムにおい
    て、前記圧電素子が、薄板、シート又は膜の形態のセン
    サとして設けられていることを特徴とするシステム。
  23. 【請求項23】 請求項21に記載のシステムにおい
    て、前記マウントは前記2つのユニットを有し、これら
    両ユニットの一方は前記対物系のハウジングに固定され
    た外側リングとして形成され、第2のユニットは該外側
    リングに弾性的に結合された内側リングとして形成さ
    れ、前記センサ及びアクチュエータが前記内側リングと
    前記外側リングとの間に配置されていることを特徴とす
    るシステム。
  24. 【請求項24】 請求項23に記載のシステムにおい
    て、前記外側リングはジョイントを介して前記内側リン
    グに接続され、センサ及びアクチュエータが前記ジョイ
    ントの両側に配置されていることを特徴とするシステ
    ム。
  25. 【請求項25】 請求項24に記載のシステムにおい
    て、前記ジョイントは固体ジョイントとして構成され、
    前記外側リングと前記内側リングとが一体に構成されて
    いることを特徴とするシステム。
  26. 【請求項26】 請求項25に記載のシステムにおい
    て、前記固体ジョイントは少なくとも略L字状に構成さ
    れていることを特徴とするシステム。
  27. 【請求項27】 請求項25に記載のシステムにおい
    て、前記固体ジョイントは、前記内側リングと前記外側
    リングとの間で半径方向に延在するリンクとして構成さ
    れていることを特徴とするシステム。
  28. 【請求項28】 請求項25に記載のシステムにおい
    て、前記固体ジョイントは、半径方向に対して傾斜して
    延在するリンクとして構成されていることを特徴とする
    システム。
  29. 【請求項29】 請求項25に記載のシステムにおい
    て、前記固体ジョイントが少なくとも略X字状に形成さ
    れていることを特徴とするシステム。
JP2001402585A 2000-12-15 2001-12-12 振動減衰システム Pending JP2002343712A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE10062786A DE10062786A1 (de) 2000-12-15 2000-12-15 System zur Dämpfung von Schwingungen
DE10062786.2 2000-12-15

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2002343712A true JP2002343712A (ja) 2002-11-29

Family

ID=7667439

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001402585A Pending JP2002343712A (ja) 2000-12-15 2001-12-12 振動減衰システム

Country Status (4)

Country Link
US (1) US6700715B2 (ja)
EP (1) EP1220012B1 (ja)
JP (1) JP2002343712A (ja)
DE (2) DE10062786A1 (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006120927A1 (ja) * 2005-05-02 2006-11-16 Nikon Corporation 光学要素駆動装置、投影光学系、露光装置、及びデバイスの製造方法
JP2010002904A (ja) * 2008-06-19 2010-01-07 Jenoptik Laser Optik Systeme Gmbh 屈曲レバーマニピュレーターユニットを備えた横に調整可能な光学マウント
KR100964312B1 (ko) 2008-08-19 2010-06-16 금호타이어 주식회사 인 휠 모터 구동 차륜의 능동 진동 감쇠 장치
JP2011135076A (ja) * 2009-12-22 2011-07-07 Asml Netherlands Bv アクティブマウント、アクティブマウントを備えるリソグラフィ装置、およびアクティブマウントを調整する方法

Families Citing this family (30)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1321822A1 (en) * 2001-12-21 2003-06-25 ASML Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
JP2005534998A (ja) * 2002-08-08 2005-11-17 カール・ツァイス・エスエムティー・アーゲー イメージングデバイスにおける光学式アセンブリを保持するための装置
US6672212B1 (en) * 2002-09-03 2004-01-06 Sharp Laboratories Of America, Inc. Single print job emulation of multiple TIFF files
JP3787556B2 (ja) * 2003-02-17 2006-06-21 キヤノン株式会社 保持装置、露光装置及びデバイス製造方法
WO2005006416A1 (ja) * 2003-07-09 2005-01-20 Nikon Corporation 結合装置、露光装置、及びデバイス製造方法
US7738193B2 (en) 2004-06-29 2010-06-15 Carl Zeiss Smt Ag Positioning unit and alignment device for an optical element
EP1846791A1 (en) * 2005-02-11 2007-10-24 Carl Zeiss SMT AG Vibration damping for photolithographic lens mount
WO2006133800A1 (en) 2005-06-14 2006-12-21 Carl Zeiss Smt Ag Lithography projection objective, and a method for correcting image defects of the same
JP2009501350A (ja) * 2005-07-14 2009-01-15 カール・ツァイス・エスエムティー・アーゲー 光学素子
DE102005052930B4 (de) 2005-11-03 2018-05-30 Airbus Defence and Space GmbH Verfahren und Vorrichtung zur Strömungsbeeinflussung
US7649333B2 (en) * 2007-01-15 2010-01-19 Asm Assembly Automation Ltd. Active damping device for a positioning stage
DE102008041310A1 (de) 2007-08-31 2009-03-05 Carl Zeiss Smt Ag Optisches Element
EP2045664B1 (en) * 2007-10-04 2013-03-06 ASML Netherlands B.V. Lithographic apparatus, projection assembly and active damping
DE102008026077B4 (de) * 2008-05-30 2017-11-09 Integrated Dynamics Engineering Gmbh Lithographiesystem
DE102008047562B4 (de) 2008-09-16 2012-11-08 Carl Zeiss Smt Gmbh Vorrichtung zur Dämpfung von Schwingungen in Projektionsbelichtungsanlagen für die Halbleiterlithographie
DE102008063223B3 (de) * 2008-12-23 2010-09-09 Jenoptik Laser, Optik, Systeme Gmbh Monolithische optische Fassung
DE102009029673A1 (de) 2009-09-22 2010-11-25 Carl Zeiss Smt Ag Manipulator zur Positionierung eines optischen Elementes in mehreren räumlichen Freiheitsgraden
DE102009045163B4 (de) 2009-09-30 2017-04-06 Carl Zeiss Smt Gmbh Optische Anordnung in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
US8482868B2 (en) * 2010-07-15 2013-07-09 Newport Corporation Optical adjustable mounts with absolute position feedback
EP2469340B1 (en) 2010-12-21 2021-01-06 ASML Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
DE102012202553A1 (de) 2012-02-20 2013-08-22 Carl Zeiss Smt Gmbh Lithographievorrichtung mit dämpfungsvorrichtung
US10113606B1 (en) * 2013-11-22 2018-10-30 The United States Of America As Represented By The Administrator Of National Aeronautics And Space Administration Vibration ring
US9425711B2 (en) 2014-04-15 2016-08-23 Newport Corporation Integral preload mechanism for piezoelectric actuator
CN104216237B (zh) * 2014-08-26 2016-06-01 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 一种解耦的光刻投影物镜中透镜偏心调节装置
DE102015210408A1 (de) * 2015-06-08 2016-06-16 Carl Zeiss Smt Gmbh Lithographieanlage sowie verfahren zum dämpfen von schwingungen eines bauteils in einer lithographieanlage
CN105259651B (zh) * 2015-10-30 2017-12-26 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 一种能够产生多种像差的变形镜装置
DE102015224743A1 (de) * 2015-12-09 2016-10-20 Carl Zeiss Smt Gmbh Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie mit einem pseudoelastischen Dämpfungselement
US10443676B2 (en) 2017-09-20 2019-10-15 Rosemount Aerospace Inc. Isolated seeker optics
US10451892B2 (en) 2017-09-20 2019-10-22 Rosemount Aerospace Inc. Active isolation for seeker optics
DE102018132436A1 (de) * 2018-12-17 2019-10-31 Carl Zeiss Smt Gmbh Baugruppe, insbesondere in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3552271A (en) 1968-11-12 1971-01-05 Charles W Suggs Vibration damping device
DE3843775A1 (de) 1988-12-24 1990-07-05 Zeiss Carl Fa Fernrohr mit bildfeldstabilisierung
JP3411603B2 (ja) * 1992-07-28 2003-06-03 ペンタックス株式会社 光学式情報記録再生装置の対物レンズ電磁駆動装置
US6959484B1 (en) 1994-01-27 2005-11-01 Cymer, Inc. System for vibration control
JP2850822B2 (ja) * 1995-12-26 1999-01-27 日本電気株式会社 レンズアクチュエータ
US6134057A (en) * 1997-09-17 2000-10-17 Minolta Co., Ltd. Drive and guide mechanism and apparatus using the mechanism
DE19825716A1 (de) 1998-06-09 1999-12-16 Zeiss Carl Fa Baugruppe aus optischem Element und Fassung
JP3825921B2 (ja) 1998-07-23 2006-09-27 キヤノン株式会社 走査露光装置およびデバイス製造方法

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006120927A1 (ja) * 2005-05-02 2006-11-16 Nikon Corporation 光学要素駆動装置、投影光学系、露光装置、及びデバイスの製造方法
JPWO2006120927A1 (ja) * 2005-05-02 2008-12-18 株式会社ニコン 光学要素駆動装置、投影光学系、露光装置、及びデバイスの製造方法
JP5125508B2 (ja) * 2005-05-02 2013-01-23 株式会社ニコン 光学要素駆動装置、投影光学系、露光装置、及びデバイスの製造方法
US8400613B2 (en) 2005-05-02 2013-03-19 Nikon Corporation Optical element driving apparatus, projection optical system, exposure apparatus and device manufacturing method
JP2010002904A (ja) * 2008-06-19 2010-01-07 Jenoptik Laser Optik Systeme Gmbh 屈曲レバーマニピュレーターユニットを備えた横に調整可能な光学マウント
KR100964312B1 (ko) 2008-08-19 2010-06-16 금호타이어 주식회사 인 휠 모터 구동 차륜의 능동 진동 감쇠 장치
JP2011135076A (ja) * 2009-12-22 2011-07-07 Asml Netherlands Bv アクティブマウント、アクティブマウントを備えるリソグラフィ装置、およびアクティブマウントを調整する方法
US8717532B2 (en) 2009-12-22 2014-05-06 Asml Netherlands B.V. Active mount, lithographic apparatus comprising such active mount and method for tuning such active mount

Also Published As

Publication number Publication date
US20020075574A1 (en) 2002-06-20
DE60109405D1 (de) 2005-04-21
DE10062786A1 (de) 2002-06-20
EP1220012B1 (en) 2005-03-16
DE60109405T2 (de) 2006-04-13
EP1220012A3 (en) 2003-10-29
EP1220012A2 (en) 2002-07-03
US6700715B2 (en) 2004-03-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2002343712A (ja) 振動減衰システム
JP3580931B2 (ja) 構造振動及び音響振動の発生装置及び発生方法
KR101155066B1 (ko) 리소그래피 장치, 투영 조립체 및 능동 감쇠
KR20020022594A (ko) 광학 요소 변형 시스템, 광학 요소의 특정 변형 시스템,및 광학 요소의 특정 변형 방법
JP2002334832A (ja) 振動を緩衝させるためのシステム
JP2002061703A (ja) 防振方法及びこの防振方法を用いた防振装置
US8212992B2 (en) Device for damping vibrations in projection exposure apparatuses for semiconductor lithography
JP2007171929A5 (ja)
JP7037476B2 (ja) 板状部材を制振する装置
JPH03263810A (ja) 半導体露光装置の振動制御方法
JPWO2018216711A1 (ja) 圧電型平板スピーカ及びその形成方法
JP2009031643A5 (ja)
US11049688B2 (en) Charged particle beam irradiation apparatus
JP2002321700A (ja) 衛星構体パネルの制振方法及び制振装置
TWI744591B (zh) 制振系統以及具備該制振系統的光學裝置
JP2000269563A (ja) 圧電素子のパネルへの取付構造
JP2002287196A (ja) 画像安定化装置におけるブレ補正光学装置
JP2020106079A (ja) 板状部材を制振する装置
JP2008116945A (ja) 高速減衰超音波ドライバ
JP4677145B2 (ja) 画像読取装置及び画像形成装置
KR20170023217A (ko) 리소그래피 장치 및 디바이스 제조 방법
JPH118181A (ja) 投影型露光装置
KR20190033009A (ko) 압전형 평판 스피커
JP2534808B2 (ja) 除振装置
JP2004163217A (ja) 走査装置及びこの走査装置を用いた走査型プローブ顕微鏡

Legal Events

Date Code Title Description
A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711

Effective date: 20040730

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20041110

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20080118

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20080122

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080416

RD03 Notification of appointment of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423

Effective date: 20080818

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20080902

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20080918