JP2002340815A - パターン検査装置 - Google Patents

パターン検査装置

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JP2002340815A
JP2002340815A JP2001152303A JP2001152303A JP2002340815A JP 2002340815 A JP2002340815 A JP 2002340815A JP 2001152303 A JP2001152303 A JP 2001152303A JP 2001152303 A JP2001152303 A JP 2001152303A JP 2002340815 A JP2002340815 A JP 2002340815A
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Japan
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illumination
light
optical system
pattern inspection
lens
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JP2001152303A
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English (en)
Inventor
Naoto Nakajima
直人 中島
Atsushi Tamada
厚 玉田
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Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 照明光を比較的高輝度に維持しつつ、輝度ム
ラを抑制するパターン検査装置を提供する。 【解決手段】 パターン検査装置の照明光学系20A
は、オプティカルファイバーアレイ21の出射面Fから
出射されるインコヒーレント光を、シリンドリカルレン
ズ22などの非軸対象結像要素を用いて、プリント基板
7の表面に形成される細長形状の照明領域Rに対して導
く。照明光学系20Aは、照明領域Rの長手方向(X方
向)における照明方式がケーラー照明となるように構成
されており、照明領域Rの短手方向(Y方向)における
照明方式がクリティカル照明となるように構成されてい
る。このような照明光によって照明されたプリント基板
7の表面の状態を、X方向に細長いCCDリニアセンサ
12を用いて撮像する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、プリント基板など
の被検査物の表面に設けられたパターン(たとえば回路
パターン)を撮像し、その欠陥の有無を検出するパター
ン検査装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、プリント基板などの被検査物の表
面に設けられた回路パターンの検査においては、たとえ
ば、特開平8−122265号公報に記載されるような
パターン検査装置が用いられている。
【0003】このパターン検査装置においては、CCD
リニアイメージセンサーを撮像素子として用い、かつ、
次のような照明光を用いている。すなわち、超高圧水銀
ランプから放射される高輝度の放射光を集光してオプテ
ィカルファイバーに入射させ、入射光をこのオプティカ
ルファイバーを通して検出ヘッドまで導くことによって
得た光を照明光として用いている。そして、このパター
ン検査装置においては、出射側の複数のオプティカルフ
ァイバー素線を扁平な形状に束ねて配列させることによ
ってオプティカルファイバーの出射面をCCDリニアイ
メージセンサーの検出視野と同様に細長形状としてお
き、検査対象となるプリント基板の表面に集束させるこ
とによって、細長形状(線状)かつ高輝度の照明光を得
ている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
パターン検査装置の照明に関しては、次のような問題が
ある。
【0005】すなわち、まず、この照明光は、複数のオ
プティカルファイバーからの光の集合として構成されて
いるが、例えば、超高圧水銀ランプから取り出された光
束の輝度分布は、中心の輝度がその周囲の輝度に比べて
高い釣鐘状の輝度分布となっているので、これらの複数
のオプティカルファイバーのそれぞれから出射される光
の輝度は、均一とはならないため、照明光の出射面(し
たがって被検査物表面の照明領域)において、輝度ムラ
が生じてしまう。なお、この輝度ムラは次述する輝度ム
ラに比べて「巨視的な」輝度ムラであるといえる。ま
た、オプティカルファイバーの素線は、光を伝搬させる
コア部分とその外側のクラッド層とを有している。した
がって、個々のオプティカルファイバーから出射される
光のそれぞれにおいても、輝度ムラが生じてしまう。な
お、この輝度ムラは、上記の輝度ムラに比べて「微視的
な」輝度ムラであるといえる。
【0006】そして、上記のパターン検査装置において
は、高輝度の照明光を得るため、オプティカルファイバ
ーの出射面と被検査物表面とが結像関係を有しており、
また、レンズ等で構成される照明光学系は、細長形状の
照明領域に照明光を絞り込める程度の解像性能を有して
いる。したがって、上記の巨視的な輝度ムラはもちろ
ん、微視的な輝度ムラもが、被検査物表面においても発
生することになってしまう。そして、このような輝度ム
ラを有する照明光を用いて撮像した画像を用いたパター
ン検査においては、輝度ムラに起因する問題が存在す
る。
【0007】具体的には、本来暗く見えるべき微小な欠
陥部分が、輝度ムラに起因して照明高輝度が比較的高い
部分に存在するため、明るい部分として撮像されてしま
い、その微小欠陥が見過ごされたりすることがある。あ
るいは、逆に、本来明るく見えるべき微小な欠陥部分
が、輝度ムラに起因して照明高輝度が比較的低い部分に
存在するため、暗い部分として撮像されてしまい、その
微小欠陥が見過ごされたりすることもある。このよう
に、輝度ムラに起因して、パターン欠陥の検出性能が不
安定になるという問題が存在する。
【0008】そこで、本発明は前記問題点に鑑み、照明
光を比較的高輝度に維持しつつ、輝度ムラを抑制するパ
ターン検査装置を提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項1の発明は、被検査物の表面に形成されたパ
ターンを検査するパターン検査装置であって、光源から
出射されるインコヒーレント光を、非軸対象結像要素を
用いて、被検査物の表面に形成される細長形状の照明領
域に対して導く照明光学系と、前記照明光学系によって
照明された被検査物の表面を撮像する撮像手段と、前記
撮像手段によって撮像された画像に基づいてパターン検
査を行う検査手段と、を備え、前記照明光学系は、前記
照明領域の長手方向における照明方式がケーラー照明と
なるように構成されている。
【0010】請求項2の発明は、請求項1の発明に係る
パターン検査装置において、前記照明領域の長手方向と
交差する方向に沿って、前記被検査物と前記撮像手段と
を相対的に走査する走査手段、をさらに備える。
【0011】請求項3の発明は、請求項1または請求項
2の発明に係るパターン検査装置において、前記照明光
学系は、前記照明領域の短手方向における照明方式がク
リティカル照明となるように構成されている。
【0012】請求項4の発明は、請求項1ないし請求項
3のいずれかの発明に係るパターン検査装置において、
前記照明光学系は、前記被検査物側にテレセントリック
となるように構成されている。
【0013】請求項5の発明は、請求項1ないし請求項
4のいずれかの発明に係るパターン検査装置において、
前記照明光学系は、複数の光の出射点の集合として構成
される細長形状の出射面を有する。
【0014】請求項6の発明は、請求項1ないし請求項
4のいずれかの発明に係るパターン検査装置において、
前記照明光学系は、前記光源からの光を空間に対して出
射する出射面を有し、前記出射面は、前記照明光学系に
おける物空間側焦点位置のうち、最も被検査物に近い焦
点位置に設けられている。
【0015】請求項7の発明は、請求項1ないし請求項
6のいずれかの発明に係るパターン検査装置において、
前記照明光学系は、蛍光を励起させることが可能な励起
光を前記被検査物の表面に照射し、前記撮像手段は、前
記被検査物の表面において励起された蛍光に基づく画像
を撮像する。
【0016】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を図面に
基づいて説明する。
【0017】<A.第1実施形態> <A1.構成>図1は、第1実施形態に係るパターン検
査装置1Aの概略を示す外観斜視図である。このパター
ン検査装置1Aは、プリント基板7などの被検査物の表
面に形成された微細なパターン(回路パターン等)にお
ける欠陥の有無を検査する光学検査装置である。
【0018】図1に示すように、このパターン検査装置
1Aは、走査テーブル2と撮影ユニット3と画像処理ユ
ニット4とランプハウス5とオプティカルファイバー6
とを備えている。
【0019】走査テーブル2は、図示しないモータ、ギ
アなどを有する駆動部によってY方向に移動可能であ
る。また、この走査テーブル2の上面には、被検査物で
あるプリント基板7が載置されて固定される。したがっ
て、プリント基板7は、走査テーブル2によってY方向
(走査方向)に移動可能である。
【0020】また、このパターン検査装置1Aには、複
数(具体的には8つ)の撮影ユニット3がX方向に配列
されて設けられている。複数の撮影ユニット3は、一体
にX方向に移動可能である。このX方向は、走査テーブ
ル2の走査方向であるY方向に直交する方向である。
【0021】後述するように、各撮影ユニット3は各瞬
間においてX方向を長手方向とする細長領域を撮像する
ので、上記の走査テーブル2をこの撮影ユニット3に対
してY方向に走査することによって、プリント基板7の
表面について平面的な画像を撮像することができる。具
体的には、各撮影ユニット3は、X方向において所定長
を有し、かつ、Y方向に走査距離を有する撮影領域に関
する画像を得ることができる。さらに、このような撮影
ユニット3はX方向に複数個配列されているので、1回
のY方向の走査によって撮影ユニット3の数に応じて、
より広い面積の画像を撮像することができる。また、複
数の撮影ユニット3を一体に、X方向において若干移動
することによって、各撮影ユニット3を移動前の複数の
撮影ユニット3の相互間のX方向における隙間の位置に
移動させることができる。したがって、そのX方向にお
けるその位置に固定した上で上記と同様の走査テーブル
2のY方向への移動動作を行うことによって、プリント
基板7の全面にわたってそのパターンの検査を行うこと
ができる。
【0022】画像処理ユニット4は、撮影ユニット3に
よって撮影された画像に関する画像処理を行うユニット
である。この画像処理ユニット4は、撮影画像と基準画
像(マスター画像)とを比較することによって、回路パ
ターンにおける欠陥の有無や欠陥の位置を検査する機能
を有している。すなわち、この画像処理ユニット4は、
撮像された画像に基づいてパターン検査を行う機能を有
している。また、パターン検査装置1Aは、装置全体の
制御を行うコンピュータ(図示せず)をさらに備えてい
る。このコンピュータの入出力部(キーボード、マウ
ス、ディスプレイなど)は、パターン検査装置1Aのマ
ン・マシンインターフェイスとしても機能する。
【0023】ランプハウス5は、インコヒーレント光を
出射する光源を有している。この光源としては、たとえ
ば、超高圧水銀ランプなどを用いることができる。この
超高圧水銀ランプからの放射光はインコヒーレント光で
ある。このようなインコヒーレント光を使用することに
よって、レーザー光などのコヒーレント光を用いた照明
において生じるスペックルパターンのような干渉性のノ
イズを回避することができる。
【0024】このランプハウス5から出射されたインコ
ヒーレント光は、オプティカルファイバー6を通って撮
影ユニット3へと導かれる。このようにして導かれてき
たインコヒーレント光は、撮影ユニット3による撮影時
の照明光として用いられる。
【0025】図2は、この撮影ユニット3の構成等を示
す斜視図である。図2に示すように、この撮影ユニット
3は、照明光学系20Aの一部と結像光学系10とを有
している。
【0026】撮影ユニット3は、照明光学系20Aの一
部を構成する光学要素として、オプティカルファイバー
アレイ21とシリンドリカルレンズ22,23,24と
開口絞り25とレンズ26とハーフミラー31とを有し
ている。照明光学系20Aは、これらの光学要素に加え
て、ランプハウス5内の光源や、オプティカルファイバ
ー6などによって構成されている。この照明光学系20
Aは、ランプハウス5内の光源から出射された光を、被
検査物(ここではプリント基板7)の表面に形成される
細長形状(線状)の照明領域Rに対して導く機能を有し
ている。
【0027】オプティカルファイバーアレイ21は、複
数のオプティカルファイバー6を互い略平行に束ねたも
のであり、複数のオプティカルファイバー6からの照明
光を出射する細長形状の出射面Fを有している。出射面
Fは、光源からの光を空間に対して出射する面である。
ここでは、出射面Fは、複数の光の出射点の集合として
構成されており、その形状は概略長方形の細長形状を有
している。
【0028】図3は、オプティカルファイバー6の軸方
向に沿った断面図であり、図4は、オプティカルファイ
バーアレイ21の出射面Fを示す図である。
【0029】図3に示されるように、オプティカルファ
イバー6は、主に光が伝搬するコア部6aと、コア部6
aの周囲に存在するクラッド層6bとを有している。
【0030】また、図4に示すように、このオプティカ
ルファイバーアレイ21の出射面Fにおいては、X方向
を長手方向としZ方向を短手方向とする細長形状の領域
に、複数のオプティカルファイバー6の射出部開口が配
列されている。これらの複数のオプティカルファイバー
6は、接着部6cによって互いに接着されて束ねられて
いる。
【0031】また、オプティカルファイバーアレイ21
の出射面Fの前方においては、ロッドレンズ(登録商
標)21a(図2)がその長手方向を射出面Fの長手方
向に沿わせるようにして設けられており、各オプティカ
ルファイバー6から出射された光は、ロッドレンズ21
aを通ってさらに先方に向けて進行する。
【0032】図2に示すように、オプティカルファイバ
ーアレイ21の出射面から出射される光は、ロッドレン
ズ21a、シリンドリカルレンズ22,23,24、開
口絞り25、およびレンズ26を通過し、さらに、ハー
フミラー31で反射されて下方(−Z方向)へと進行
し、被検査物の表面において細長形状の照明領域Rを照
明する。ロッドレンズ21aおよびシリンドリカルレン
ズ22,23,24は、非軸対象結像要素の一例であ
る。後述するように、この照明光学系20Aは、これら
の非軸対象結像要素を用いて、照明領域Rの長手方向
(X方向)における照明方式がケーラー照明となるよう
に構成されており、これによって、照明光を比較的高輝
度に維持しつつ、輝度ムラを抑制することが可能にな
る。
【0033】一方、結像光学系10は、撮影レンズ11
とCCDリニアセンサ12とハーフミラー31とを有し
ている。なお、この実施形態においては、結像光学系1
0は、フィルタ15(図中において二点鎖線で示されて
いる)を有していないものとする。
【0034】撮影レンズ11は、1枚あるいは複数のレ
ンズによって構成される。CCDリニアセンサ12は、
直線状に複数のCCDセルが配置された構造を有してお
り、この直線状の複数のCCDセルの配列は、細長形状
の照明領域Rの長手方向(X方向)に平行となるように
配置されている。また、ハーフミラー31は、結像光学
系10と照明光学系20Aとで共用されている。
【0035】上記の照明光学系20Aによって照明光が
プリント基板7の表面に照射されると、その照明光はプ
リント基板7の表面で反射され反射光として上方(+Z
方向)へと進行する。その反射光は、ハーフミラー31
を今度は透過してさらに上方へと進行し、撮影レンズ1
1を通って、CCDリニアセンサ12へと進む。
【0036】このCCDリニアセンサ12によって照明
領域Rからの反射光が受光されると、その受光された光
が光電変換により電気信号に変換され、A/D(アナロ
グ/デジタル)変換などが行われることによって、各C
CDセルに対応する画素の画素値が決定される。
【0037】ここで、プリント基板7の表面とCCDリ
ニアセンサ12とは撮影レンズ11に関して共役な関係
を有している。言い換えれば、プリント基板7の表面と
CCDリニアセンサ12とは撮影レンズ11について結
像関係を有している。したがってCCDリニアセンサ1
2はプリント基板7の表面の状況を鮮明に撮像すること
ができる。このように、CCDリニアセンサ12は、照
明光学系によって照明された被検査物の表面を撮像する
撮像手段として機能する。
【0038】また、上述したように、走査テーブル2の
Y方向への移動に伴って、撮影ユニット3と走査テーブ
ル2上のプリント基板7とがY方向において相対的に移
動することになる。このようなプリント基板7と撮影ユ
ニット3との相対的移動に併せて、撮影動作を行うこと
によって、撮影ユニット3によってプリント基板7の表
面を走査することができる。
【0039】<A2.照明原理>図5は照明光学系20
Aを上方(Z方向)から見た上面図であり、図6は照明
光学系20Aを側方(X方向)から見た側面図である。
図5および図6を参照しながら、被検査物表面に対する
照明光学系20Aを用いた照明について説明する。な
お、図5および図6においては、照明領域Rとは別に、
仮想的な照明領域R0の位置が示されている。この照明
領域R0は、ハーフミラー31が存在しない場合の照明
領域であって、光学的には照射領域Rと同一である。以
下の説明において便宜上、適宜に用いるものとする。
【0040】この実施形態においては、非軸対象結像要
素であるロッドレンズ21a、シリンドリカルレンズ2
2,23,24を用いることによって、照明領域Rの長
手方向および短手方向における各照明方式を互いに異な
る方式とする場合を例示する。具体的には、照明領域R
の長手方向における照明方式をケーラー照明とし、か
つ、照明領域Rの短手方向における照明方式をクリティ
カル照明(臨界照明)とするように、照明光学系20A
を構成する場合を例示する。
【0041】<照明領域Rの長手方向における照明>ま
ず、図5の上面図を参照しながら、照明領域Rの長手方
向における照明方式がケーラー照明となることについて
説明する。
【0042】XY平面内においては、3つのレンズ、す
なわちシリンドリカルレンズ22とシリンドリカルレン
ズ24とレンズ26とが、光を屈折させる光学的作用を
有している。
【0043】シリンドリカルレンズ22の前側焦点位置
には、オプティカルファイバーアレイ21の出射面Fが
存在し、シリンドリカルレンズ22の後側焦点位置には
シリンドリカルレンズ24の前側焦点位置が存在する
(図7参照)。ここでは、このシリンドリカルレンズ2
2の後側焦点近傍位置にはシリンドリカルレンズ23が
存在している。また、シリンドリカルレンズ24の後側
焦点位置には開口絞り25が存在する。したがって、オ
プティカルファイバーアレイ21の出射面Fと開口絞り
25とは共役な関係(すなわち結像関係)を有してい
る。
【0044】また、レンズ26の前側焦点位置には、開
口絞り25が存在し、レンズ26の後側焦点位置にはプ
リント基板7の表面が存在する。したがって、開口絞り
25は、プリント基板7の表面からレンズ26を通して
見ると、無限遠に位置しているように見える。
【0045】さらに、XY平面内の光路についてより詳
細に説明する。ここでは、オプティカルファイバーアレ
イ21のX方向における中央位置P2から出射される光
について説明する。図7は、図5と同様の図であるが、
位置P2から出射される光に関する光路が斜線で示され
ている点で図5と相違している。
【0046】オプティカルファイバーアレイ21の出射
面Fから出射された光は、XY平面内において光を屈折
させる光学的作用を有していないロッドレンズ21aを
そのまま通過して、シリンドリカルレンズ22へと向か
う。シリンドリカルレンズ22は、光をXY平面内にお
いて屈折させる光学的作用を有しているので、光はシリ
ンドリカルレンズ22によって屈折されてコリメートさ
れ、平行光として進行する。そして、この平行光はシリ
ンドリカルレンズ23の位置に到達する。
【0047】シリンドリカルレンズ23は、光をXY平
面内において屈折させる光学的作用を有しておらず、光
はシリンドリカルレンズ23によって屈折されることな
くそのまま進行してシリンドリカルレンズ24へと到達
する。
【0048】シリンドリカルレンズ24は、光をXY平
面内において屈折させる光学的作用を有しており、光は
このシリンドリカルレンズ24によって屈折されて開口
絞り25において結像する。
【0049】したがって、オプティカルファイバーアレ
イ21の出射面から出射される光源の像が、開口絞り2
5の位置に投影されていることが判る。
【0050】その後、開口絞り25において結像した光
は、さらに進行してレンズ26へと向かう。
【0051】レンズ26は、光をXY平面内において屈
折させる光学的作用を有しており、光はレンズ26によ
って屈折されてコリメートされ、平行光としてさらに進
行してプリント基板7の表面上に到達する。
【0052】図8は、この光路、すなわち開口絞り25
の中央付近に結像した光がプリント基板7の表面上に到
達するまでの光路を示す拡大図である。なお、図8にお
いては、原理を模式的に示すため、開口絞り25および
レンズ26の形状等については図示を省略し、それらの
位置のみが示されている。また、図7および図8などに
おいては、照明領域Rは図示の容易化のため照明領域R
0の位置にあるものとして示している。
【0053】上述したように、オプティカルファイバー
アレイ21の出射面Fから出射される光の像が、開口絞
り25の位置に投影されており、かつ、開口絞り25
は、レンズ26の後側焦点位置に存在している。すなわ
ち、オプティカルファイバーアレイ21の出射面Fから
出射される光の像が、レンズ26の後側焦点位置に投影
されている。したがって、照明光学系20Aの照明方式
は、XY平面内においてケーラー照明となっているこ
と、すなわち、照明領域Rの長手方向における照明方式
はケーラー照明となっていることが判る。
【0054】この照明原理について、さらに図9および
図10などを参照しながら説明する。図9は、図5およ
び図7と同様の図であるが、位置P1から出射される光
に関する光路が斜線で示されている点で図5および図7
と相違している。
【0055】図9に示すように、オプティカルファイバ
ーアレイ21の出射面のX方向において位置P2よりも
プラス側(+X側)の位置P1から出射された光は、上
記の照明光学系20Aによって、開口絞り25において
位置Q1に結像する。また、図示しないが、同様に、オ
プティカルファイバーアレイ21の出射面のX方向にお
いて位置P2よりもマイナス側(−X側)の位置P3か
ら出射された光は、上記の照明光学系20Aによって、
開口絞り25において位置Q3に結像する。このよう
に、オプティカルファイバーアレイ21から出射された
光は、開口絞り25の位置において結像する。
【0056】図10は、このように開口絞り25におい
て結像された光のその後の光路を示す拡大図である。図
10は、上述の図8と同様の図である。ただし、図8に
おいては、点Q2からの出射光の光路のみが示されてい
るのに対して、この図10においては点Q1,Q2,Q
3からの出射光の光路があわせて示されている。
【0057】図8に示すように、点Q2からの出射光線
L21,L22,L23は、レンズ26で屈折されるこ
とによってコリメートされて、照明領域Rに照射され
る。すなわち、点Q2からの出射光は、プリント基板7
表面の照明領域RのX方向に拡がった状態で照明領域R
に到達する。
【0058】同様に、図10に示すように、点Q1から
の出射光線L11,L12,L13は、レンズ26によ
って屈折されることによってコリメートされて、照明領
域Rの全体に照射される。すなわち、点Q1からの出射
光は、プリント基板7表面の照明領域RのX方向に拡が
った状態で照明領域Rに到達する。
【0059】さらに同様に、点Q3からの出射光線L3
1,L32,L33は、レンズ26によって屈折される
ことによってコリメートされて、照明領域Rの全体に照
射される。すなわち、点Q3からの出射光は、プリント
基板7表面の照明領域RのX方向に拡がった状態で照明
領域Rに到達する。
【0060】また、このケーラー照明によれば、照明領
域R上のX方向位置が互いに異なる3つの点a,b,c
のいずれにおいても、同程度の光が到達する。以下で
は、このことについて説明する。
【0061】まず、点aに対しては、点Q1,Q2,Q
3を含む全ての点から所定方向に出射する光線(一点鎖
線で示す)が到達する。たとえば、点Q1からの光線L
11、点Q2からの光線L21、点Q3からの光線L3
1が、いずれも点aに到達する。この状態は、図11に
おける斜線部として示されている。なお、図11は、図
9などと同様の図であるが、各点P1,P2,P3から
所定の角度で出射された光線が点aに到達している状態
を斜線部で示している点で、図9などと相違している。
【0062】同様に、点bに対しても、点Q1,Q2,
Q3を含む全ての点から所定方向(この場合は、−Y方
向)に出射する光線(破線で示す)が到達する。たとえ
ば、点Q1からの光線L12、点Q2からの光線L2
2、点Q3からの光線L32が、いずれも点bに到達す
る。
【0063】さらに、点cに対しても、点Q1,Q2,
Q3を含む全ての点から所定方向に出射する光線(二点
鎖線で示す)が到達する。たとえば、点Q1からの光線
L13、点Q2からの光線L23、点Q3からの光線L
33が、いずれも点cに到達する。
【0064】以上のように、照明領域R内の全ての点の
それぞれにおいて、複数の点光源からの光が全て到達す
る。このため、点P1,P2,P3における出射光の輝
度が互いに異なっている場合であっても、各点a,b,
cにおける輝度が同程度になる。たとえば、点P1にお
ける出射光の輝度A1と、点P2における出射光の輝度
A2と、点P3における出射光の輝度A3とが互いに異
なる場合であっても、点a,b,cには、それぞれ、い
ずれの点P1,P2,P3からの光もが到達するので、
点a,b,cのそれぞれにおける輝度の比は、各点から
の輝度の合計値の比、((A1+A2+A3):(A1
+A2+A3):(A1+A2+A3))、すなわち
(1:1:1)となる。このように、輝度ムラを解消す
ることができる。
【0065】以上のように、点P1,P2,P3からの
出射光(点Q1,Q2,Q3からの光とも表現できる)
は、いずれも、プリント基板7表面の照明領域RのX方
向に拡がった状態で照明領域Rに到達するので、輝度ム
ラを抑制して均一な照明を実現することができる。
【0066】また、たとえば、照明光学系20Aの各レ
ンズの焦点距離等を適宜に設定変更することにより、照
明領域Rの点aにおける入射光線L11の入射角度θを
適宜に設定することが可能である。すなわち、開口数N
Aを適宜に設定することが可能である。例えば、プリン
ト基板の表面に微細な凹凸が多数存在する場合であって
も、開口数NAを適当な大きさに設定することで、その
微細な凹凸の画像の濃淡を低減して撮影することが可能
である。
【0067】<照明領域Rの短手方向における照明>つ
ぎに、図6の側面図を参照しながら、照明領域Rの短手
方向における照明方式がクリティカル照明(臨界照明)
となることについて説明する。
【0068】オプティカルファイバーアレイ21の出射
面Fから出射された光は、ロッドレンズ21aおよびシ
リンドリカルレンズ22を通過してシリンドリカルレン
ズ23へと向かう。
【0069】ロッドレンズ21aは、光をYZ平面内に
おいて屈折させる光学的作用を有しており、オプティカ
ルファイバーアレイ21の出射面Fから大きな角度で出
射された光を効率良く取り込んで、その光を屈折して比
較的小さな出射角度に修正する。このようなロッドレン
ズ21aをオプティカルファイバーアレイ21の出射面
Fに近接させて配置することによって、オプティカルフ
ァイバーアレイ21から大きな角度で出射された光を効
率良く取り込んで、光量損失を抑制することが可能であ
る。出射面Fから出射される光は、ロッドレンズ21a
によって屈折されて、より小さな出射角度に修正された
後、シリンドリカルレンズ22へと向かう。
【0070】また、シリンドリカルレンズ22は、光を
YZ平面内において屈折させる光学的作用(ないしは光
学的なパワー)を有しておらず、光はシリンドリカルレ
ンズ22によって屈折されることなくそのまま進行し
て、シリンドリカルレンズ23に到達する。
【0071】シリンドリカルレンズ23は、光をYZ平
面内において屈折させる光学的作用を有しており、光は
シリンドリカルレンズ23によって屈折されコリメート
されて、平行光として進行する。
【0072】シリンドリカルレンズ24は、光をYZ平
面内において屈折させる光学的作用を有しておらず、光
はシリンドリカルレンズ22によって屈折されることな
くそのまま進行する。この光は、さらに進行して開口絞
り25を通過した後、レンズ26へと到達する。
【0073】レンズ26は、光をYZ平面内において屈
折させる光学的作用を有しており、光はこのレンズ26
によって屈折され、その屈折光がハーフミラー31で反
射されてその進行方向を下方へと変更して進行し、プリ
ント基板7の照明領域Rにおいて結像する。
【0074】このように、YZ平面内においてはオプテ
ィカルファイバーアレイ21の出射面Fの位置と照明対
象面(プリント基板7の表面)の位置とが結像関係にあ
るので、照明光学系20Aの照明方式は、YZ平面内に
おいてクリティカル照明(臨界照明)となっている。す
なわち、照明領域Rの短手方向における照明方式はクリ
ティカル照明となっていることが判る。
【0075】このように、照明光学系20Aの照明方式
は、YZ平面内においてクリティカル照明となっている
ので、照明光を照明領域Rに効率的に集光することがで
きる。
【0076】以上のように、この実施形態のパターン検
査装置1Aによれば、照明領域Rの長手方向における照
明方式はケーラー照明となっているので、均一性が良い
輝度分布を有する照明光を得ることができる。したがっ
て、パターン検査の照明における輝度ムラを抑制するこ
とができる。さらに、照明領域Rの短手方向における照
明方式はクリティカル照明となっているので、効率的な
集光を行うことによって高輝度の照明光を得ることがで
きる。このように、照明光を無駄なく有効に利用するこ
とによって、使用するランプの数やランプの定格出力を
低減させることが可能である。これに伴って、パターン
検査装置1A全体の消費電力を低減することも可能であ
る。
【0077】また、図8に示すように、開口絞り25か
らさらに進行した光はレンズ26で屈折され、レンズ2
6の像空間において主光線は軸に平行に進行する。この
場合、開口絞り25は、プリント基板7の表面からレン
ズ26を通して見ると無限遠に位置しているように見え
る。すなわち、この照明光学系20Aは、被検査物(プ
リント基板7)側にテレセントリックとなるように構成
されたテレセントリック系である。この結果、撮影対象
のプリント基板に有意な凹凸が存在しても、撮影される
画像の大きさが変わらない。したがって、プリント基板
7の表面の凹凸に係わらず同じ大きさの撮影画像が得ら
れるので、パターン比較検査をより正確に行うことがで
きる。
【0078】さらに、上記実施形態においては、インコ
ヒーレント光を出射する光源を用いて照明を行っている
ので、レーザー光などのコヒーレント光を用いた照明に
おいて生じるスペックルパターンのような干渉性のノイ
ズは全く生ずることがない。また、上述したように、照
明光学系20Aにおいては、照明光学系20Aの各レン
ズの焦点距離等を適宜に設定変更することにより、照明
領域Rの点aにおける入射光線L11の入射角度θを適
宜に設定することが可能である。すなわち、開口数NA
を適宜に設定することが可能である。このように、開口
数NAを適宜に設定することによって、プリント基板7
表面の凹凸が存在する場合であっても、その凹凸による
散乱等の影響を抑制してS/N比を高めて、プリント基
板7の表面に存在するパターン欠陥や傷等をより適切に
検出することなどができる。
【0079】また、図12は、オプティカルファイバー
アレイ21の出射面F付近の状態を示す側面図である。
ロッドレンズ21aがオプティカルファイバーアレイ2
1の出射面Fに近接されて配置されている。この状態に
おいては、オプティカルファイバーアレイ21からの出
射面Fからの出射光は、点Eの位置に虚像を結ぶ。そし
て、この点Eは、シリンドリカルレンズ23の前側焦点
位置に存在する。
【0080】このようなロッドレンズ21aを用いるこ
とによって、オプティカルファイバーアレイ21から出
射された光を効率良く取り込んで、光量損失を抑制する
ことが可能である。
【0081】一方、ロッドレンズ21aは、図12のよ
うな位置に配置する場合に限定されない。たとえば、出
射面Fからさらに離間させることによって、図13に示
すような位置に配置するようにしても良い。図13にお
いては、ロッドレンズ21aの前側焦点位置が出射面F
の位置に存在し、ロッドレンズ21aの後側焦点位置が
シリンドリカルレンズ23の前側焦点位置に存在する。
したがって、照明光学系20Aの照明方式は、YZ平面
内においてもケーラー照明になる。すなわち、照明領域
Rの短手方向における照明方式もケーラー照明となる。
【0082】ただし、この場合、照明光学系20AのY
Z平面内における照明方式は、ケーラー照明となってい
るので、クリティカル照明の場合に比べて集光効率は低
減する。特に集光効率を向上させたい場合には、上記実
施形態のように、照明光学系20AのYZ平面内におけ
る照明方式を、クリティカル照明とすることが好まし
い。
【0083】<B.第2実施形態>つぎに、本発明の第
2実施形態に係るパターン検査装置1Bについて説明す
る。この第2実施形態に係るパターン検査装置1Bは、
第1実施形態に係るパターン検査装置1Aと類似の構成
を有しているが、照明光学系の構成において第1実施形
態と相違する。以下では、相違点を中心に説明する。な
お、第1実施形態と同一の構成を有する部分については
同一参照符号を付して示している。
【0084】図14は、照明光学系20Bの一部の概略
構成を示す概略斜視図である。
【0085】照明光学系20Bは、オプティカルファイ
バーアレイ21と開口絞り41とシリンドリカルレンズ
42とレンズ43とハーフミラー31とを有している。
これらは、ランプハウス5内の光源から出射された光
を、被検査物(ここではプリント基板7)の表面に形成
される細長形状の照明領域Rに対して導く機能を有して
いる。なお、収差を抑制するため、シリンドリカルレン
ズ42は非円筒面として形成されることが好ましく、レ
ンズ43は非球面として形成されることが好ましい。
【0086】図15は照明光学系20Bを上方(Z方
向)から見た上面図であり、図16は照明光学系20B
を側方(X方向)から見た側面図である。図15および
図16を参照しながら、被検査物表面に対する照明光学
系20Bを用いた照明について説明する。
【0087】この第2実施形態においては、非軸対象結
像要素であるシリンドリカルレンズ42を用いることに
よって、照明領域Rの長手方向および短手方向における
各照明方式を互いに異なる方式とする場合を例示する。
具体的には、照明領域Rの長手方向における照明方式が
ケーラー照明となるように構成され、照明領域Rの短手
方向における照明方式がクリティカル照明となるように
構成される。
【0088】この第2実施形態の照明光学系20Bは、
照明領域の長手方向における照明方式をケーラー照明と
するにあたって、当該照明光学系における物空間側焦点
位置のうち、最も被検査物に近い焦点位置に、オプティ
カルファイバーアレイ21の出射面Fを設けている点
で、第1実施形態と大きく相違する。
【0089】まず、図15の上面図を参照しながら、照
明領域Rの長手方向における照明方式がケーラー照明と
なることについて説明する。
【0090】XY平面内においては、光を屈折させる光
学的作用(光学的パワー)をレンズ43のみが有してい
る。
【0091】レンズ43の前側焦点位置には、オプティ
カルファイバーアレイ21の出射面Fが存在し、レンズ
43の後側焦点位置にはプリント基板7の表面が存在す
る。したがって、照明光学系20Aの照明方式は、XY
平面内においてケーラー照明となっていること、すなわ
ち、照明領域Rの長手方向における照明方式はケーラー
照明となっていることが判る。
【0092】つぎに、図16の側面図を参照しながら、
照明領域Rの短手方向における照明方式がクリティカル
照明となることについて説明する。
【0093】YZ平面内においては、光を屈折させる光
学的作用(光学的パワー)を、シリンドリカルレンズ4
2およびレンズ43が有している。
【0094】シリンドリカルレンズ42の前側焦点位置
には、オプティカルファイバーアレイ21の出射面Fが
存在し、レンズ43の後側焦点位置にはプリント基板7
の表面が存在する。
【0095】オプティカルファイバーアレイ21の出射
面Fから出射された光は、開口絞り41で絞られた後、
シリンドリカルレンズ42で屈折されてコリメートされ
る。その後、その平行光は、今度はレンズ43によって
屈折されてプリント基板7の表面において結像される。
【0096】したがって、照明光学系20Bの照明方式
は、YZ平面内においてクリティカル照明となっている
こと、すなわち、照明領域Rの短手方向における照明方
式はクリティカル照明となっていることが判る。
【0097】この第2実施形態に係る照明光学系20B
を用いたパターン検査装置1Bによっても、第1実施形
態と同様の効果を得ることができる。また、この第2実
施形態の照明光学系20Bにおいては、照明領域の長手
方向における照明方式をケーラー照明とするにあたっ
て、その照明光学系20Bにおける前側焦点位置(言い
換えれば、物空間側焦点位置)のうち最も被検査物に近
い焦点位置、すなわち、レンズ43の物空間側焦点位置
に、オプティカルファイバーアレイ21の出射面Fを設
けているので、レンズの枚数を削減して簡易な構成とす
ることが可能である。ここで、「物空間側焦点位置」と
は、結像要素(例えばレンズ43)ないしは結像要素群
についての像空間側焦点位置とは反対側の焦点位置(言
い換えれば、被検査物とは反対側の焦点位置)を意味す
るものとする。
【0098】これに対して、第1実施形態の照明光学系
20A(図7参照)においては、その照明光学系20A
におけるレンズ26についての前側焦点位置Q2と、シ
リンドリカルレンズ24についての前側焦点位置(図示
せず)と、シリンドリカルレンズ22についての前側焦
点位置P2とのうち、被検査物に最も近い焦点位置Q2
ではない位置(ここでは、シリンドリカルレンズ22に
ついての前側焦点位置P2、すなわち最も被検査物から
離れた焦点位置P2)に出射面Fが存在しているので、
この第2実施形態の照明光学系20Bよりも多くの枚数
のレンズが必要になっている。
【0099】<C.第3実施形態>つぎに、本発明の第
3実施形態に係るパターン検査装置1Cについて説明す
る。この第3実施形態に係るパターン検査装置1Cは、
第2実施形態に係るパターン検査装置1Bのさらなる変
形例である。照明光学系の構成において第2実施形態と
さらに相違する。以下では、相違点を中心に説明する。
なお、第1実施形態と同一の構成を有する部分について
は同一参照符号を付して示している。
【0100】図17は、照明光学系20Cの一部の概略
構成を示す概略斜視図である。
【0101】照明光学系20Cは、オプティカルファイ
バーアレイ21とレンズ51と開口絞り52とシリンド
リカルレンズ53,54とレンズ55とハーフミラー3
1とを有している。この照明光学系20Cは、ランプハ
ウス5内の光源から出射された光を、被検査物(ここで
はプリント基板7)の表面に形成される細長形状の照明
領域Rに対して導く機能を有している。
【0102】この第3実施形態の照明光学系20Cにお
いては、照明領域の長手方向における照明方式をケーラ
ー照明とするにあたって、その照明光学系における物空
間側焦点位置のうち最も被検査物に近い焦点位置(具体
的には、照明光学系のレンズ51、シリンドリカルレン
ズ53、レンズ55からなる結像要素群についての物空
間側焦点位置)に、オプティカルファイバーアレイ21
の出射面Fを設けている点で、第2実施形態と共通して
いる。
【0103】ただし、この第3実施形態においては、非
円筒面ではなく円筒面を有するシリンドリカルレンズ5
3,54と、非球面ではなく球面を有するレンズ51,
55とを適宜に組みあわせて用いていることにより、収
差を抑制する場合について例示する。すなわち、複数の
レンズを適宜に組みあわせて用いることによれば、非球
面レンズや非円筒面シリンドリカルレンズを用いること
なく、収差を抑制することが可能である。
【0104】図18は照明光学系20Cを上方(Z方
向)から見た上面図であり、図19は照明光学系20C
を側方(X方向)から見た側面図である。図18および
図19を参照しながら、被検査物表面に対する照明光学
系20Cを用いた照明について説明する。
【0105】この第3実施形態においては、非軸対象結
像要素であるシリンドリカルレンズ53,54を用いる
ことによって、照明領域Rの長手方向および短手方向に
おける各照明方式を互いに異なる方式とする場合を例示
する。具体的には、照明領域Rの長手方向における照明
方式がケーラー照明となるように構成され、照明領域R
の短手方向における照明方式がクリティカル照明となる
ように構成される。
【0106】図18および図19を参照すると判るよう
に、シリンドリカルレンズ54は第2実施形態のレンズ
42と同様の機能を有しており、レンズ55は第2実施
形態のレンズ43と同様の機能を有している。そして、
この第3実施形態においては、収差補正を図るために、
レンズ51とシリンドリカルレンズ53をさらに有して
いる。
【0107】ここで、XY平面内においては、レンズ5
5の後ろ側焦点位置にプリント基板7の表面が位置して
おり、かつ、光学要素群51,53,55を1つの光学
要素としてみた場合における当該光学要素群についての
前側焦点位置(言い換えれば、当該光学要素群について
の被検査物とは反対側の焦点位置)にオプティカルファ
イバーアレイ21の出射面Fを配置しているので、照明
領域Rの長手方向における照明方式はケーラー照明であ
ることが判る。
【0108】また、YZ平面内においては、レンズ51
などを含む照明光学系20Cの光学的作用によって、オ
プティカルファイバーアレイ21の出射面Fとプリント
基板7の表面とが結像関係を有するように構成されてい
るので、照明領域Rの短手方向における照明方式はクリ
ティカル照明であることが判る。
【0109】この第3実施形態に係る照明光学系20C
を用いたパターン検査装置1Cによっても、第2実施形
態と同様の効果を得ることができる。また、この第3実
施形態の照明光学系20Cにおいては、複数のレンズを
用いることによって収差を補正しているので、非球面お
よび非円筒面のレンズを用いることなく収差を抑制する
ことができる。
【0110】<D.その他>上記実施形態においては、
非軸対象結像要素として、シリンドリカルレンズやロッ
ドレンズを用いたが、本発明はこれに限定されず、互い
に直交する2つの方向に曲率が異なるトーリックレン
ズ、1方向に結像性を有するフレネルレンズ、屈折率分
散レンズ、および円筒面ミラーなどを用いて上述のよう
な照明光学系20を構成するようにしても良い。
【0111】また、上記実施形態においては、照明領域
Rからの通常の反射光についての撮影画像を用いてパタ
ーン検査を行う場合を例示したが、本発明は、これに限
定されず、蛍光についての撮影画像を用いてパターン検
査を行うパターン検査装置にも適用することができる。
これは、特定の波長をプリント基板等に照射した場合
に、基材(絶縁層)は照射光の波長と異なる蛍光を発生
させるが、パターン(金属導体)は蛍光を発生させない
ことを利用して、発生した蛍光を検出することにより、
パターン検査を行うものである。
【0112】具体的には、ランプハウス5内において、
蛍光を励起する能力が高い波長の光(g線、h線、i線
など)を選択的に透過するフィルタ(図示せず)を設
け、プリント基板7に照射する。そして、このような励
起光の照射に応じてプリント基板7の表面において蛍光
を励起させる。また、その励起された蛍光を選択的に透
過させるフィルタ15(図2において二点鎖線で示す)
をプリント基板7とCCDリニアセンサ12との間に設
けておく。このフィルタ15は、プリント基板7に照射
された照射光についての反射光を透過させない一方で、
当該照射光の照射に応じてプリント基板7の表面におい
て励起された蛍光を透過させるような波長選択性を有す
るフィルタである。なお、ハーフミラー31にフィルタ
15と同様の波長選択性を持たせるようにしても良い。
【0113】そして、プリント基板7からの光のうちフ
ィルタ15によって選択的に透過された蛍光をCCDリ
ニアセンサ12で受光して、蛍光に基づく画像を作成す
る。このようにして得た蛍光検出による画像を用いてパ
ターン検査を行うことも可能である。
【0114】特に、蛍光検出を行う装置においては、照
明光(励起光)に対する蛍光の明るさが著しく低いこと
に起因して、桁違いに大きな輝度の照明が必要とされる
が、本発明を適用することによって照明光を効率的に用
いることによるメリットがさらに大きくなる。すなわ
ち、上記の消費電力低減等のメリットがより大きくな
る。
【0115】
【発明の効果】以上のように、請求項1に記載の発明に
よれば、照明光学系は、照明領域の長手方向における照
明方式がケーラー照明となるように構成されているの
で、照明領域の長手方向において照明光輝度を均一化し
輝度ムラを抑制することができる。
【0116】請求項2に記載の発明によれば、照明領域
の長手方向と交差する方向に沿って、被検査物と撮像手
段とを相対的に走査する走査手段、をさらに備えるの
で、細長形状を有する照明領域を集中的に照明しつつ、
2次元的な広がりを有する画像を撮像することができ
る。
【0117】請求項3に記載の発明によれば、照明光学
系は、照明領域の短手方向における照明方式がクリティ
カル照明となるように構成されているので、照明領域の
短手方向において照明効率をより向上させることができ
る。
【0118】請求項4に記載の発明によれば、照明光学
系は、被検査物側にテレセントリックとなるように構成
されているので、照明光学系と被検査物との距離が変わ
っても画像の大きさが変化しないようにすることができ
る。
【0119】請求項5に記載の発明によれば、照明光学
系が、複数の光の出射点の集合として構成される細長形
状の出射面を有する場合においても、複数の点光源の相
互間における輝度ムラを抑制することができる。
【0120】請求項6に記載の発明によれば、出射面
は、照明光学系における物空間側焦点位置のうち、最も
被検査物に近い焦点位置に設けられているので、レンズ
枚数を抑制して簡易な構成とすることができる。
【0121】請求項7に記載の発明によれば、照明光学
系は、蛍光を励起させることが可能な励起光を被検査物
の表面に照射し、撮像手段は、被検査物の表面において
励起された蛍光に基づく画像を撮像するので、蛍光を用
いたパターン検査を行うことができる。より高輝度の照
明光を必要とする蛍光検出において、輝度ムラを抑制し
つつ高い輝度の照明光を効率的に得ることができる。し
たがって、消費電力を一層低減することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】第1実施形態に係るパターン検査装置1Aの概
略を示す外観斜視図である。
【図2】撮影ユニット3の構成等を示す斜視図である。
【図3】オプティカルファイバー6の軸方向に沿った断
面図である。
【図4】オプティカルファイバーアレイ21の出射面F
を示す図である。
【図5】照明光学系20Aを上方(Z方向)から見た上
面図である。
【図6】照明光学系20Aを側方(X方向)から見た側
面図である。
【図7】照明光学系20Aを上方(Z方向)から見た上
面図である。
【図8】開口絞り25からプリント基板7までにおける
光路を示す図である。
【図9】照明光学系20Aを上方(Z方向)から見た上
面図である。
【図10】開口絞り25からプリント基板7までにおけ
る光路を示す図である。
【図11】照明光学系20Aを上方(Z方向)から見た
上面図である。
【図12】オプティカルファイバーアレイ21の出射面
F付近の状態を示す側面図である。
【図13】変形例に係るオプティカルファイバーアレイ
21の出射面F付近の状態を示す側面図である。
【図14】第2実施形態に係る照明光学系20Bの概略
構成を示す概略斜視図である。
【図15】照明光学系20Bを上方(Z方向)から見た
上面図である。
【図16】照明光学系20Bを側方(X方向)から見た
側面図である。
【図17】第3実施形態に係る照明光学系20Cの概略
構成を示す概略斜視図である。
【図18】照明光学系20Cを上方(Z方向)から見た
上面図である。
【図19】照明光学系20Cを側方(X方向)から見た
側面図である。
【符号の説明】
1A,1B,1C パターン検査装置 2 走査テーブル 3 撮影ユニット 4 画像処理ユニット 5 ランプハウス 6 オプティカルファイバー 7 プリント基板 10 結像光学系 12 CCDリニアセンサ 20,20A,20B,20C 照明光学系 21 オプティカルファイバーアレイ 21a ロッドレンズ 22,23,24,42,53,54 シリンドリカル
レンズ 25,41,52 開口絞り 26,43,51,55 レンズ 31 ハーフミラー F 出射面 R 照明領域
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 玉田 厚 京都市上京区堀川通寺之内上る4丁目天神 北町1番地の1 大日本スクリーン製造株 式会社内 Fターム(参考) 2F065 AA56 BB02 CC01 DD04 FF04 GG03 GG14 HH05 JJ05 JJ25 LL03 LL08 LL22 LL30 LL59 2G051 AA65 AB07 AB20 AC21 BA01 BB09 BB17 CA03 CA07

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 被検査物の表面に形成されたパターンを
    検査するパターン検査装置であって、 光源から出射されるインコヒーレント光を、非軸対象結
    像要素を用いて、被検査物の表面に形成される細長形状
    の照明領域に対して導く照明光学系と、 前記照明光学系によって照明された被検査物の表面を撮
    像する撮像手段と、 前記撮像手段によって撮像された画像に基づいてパター
    ン検査を行う検査手段と、を備え、 前記照明光学系は、前記照明領域の長手方向における照
    明方式がケーラー照明となるように構成されていること
    を特徴とするパターン検査装置。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載のパターン検査装置にお
    いて、 前記照明領域の長手方向と交差する方向に沿って、前記
    被検査物と前記撮像手段とを相対的に走査する走査手
    段、をさらに備えることを特徴とするパターン検査装
    置。
  3. 【請求項3】 請求項1または請求項2に記載のパター
    ン検査装置において、 前記照明光学系は、前記照明領域の短手方向における照
    明方式がクリティカル照明となるように構成されている
    ことを特徴とするパターン検査装置。
  4. 【請求項4】 請求項1ないし請求項3のいずれかに記
    載のパターン検査装置において、 前記照明光学系は、前記被検査物側にテレセントリック
    となるように構成されていることを特徴とするパターン
    検査装置。
  5. 【請求項5】 請求項1ないし請求項4のいずれかに記
    載のパターン検査装置において、 前記照明光学系は、複数の光の出射点の集合として構成
    される細長形状の出射面を有することを特徴とするパタ
    ーン検査装置。
  6. 【請求項6】 請求項1ないし請求項4のいずれかに記
    載のパターン検査装置において、 前記照明光学系は、前記光源からの光を空間に対して出
    射する出射面を有し、 前記出射面は、前記照明光学系における物空間側焦点位
    置のうち、最も被検査物に近い焦点位置に設けられてい
    ることを特徴とするパターン検査装置。
  7. 【請求項7】 請求項1ないし請求項6のいずれかに記
    載のパターン検査装置において、 前記照明光学系は、蛍光を励起させることが可能な励起
    光を前記被検査物の表面に照射し、 前記撮像手段は、前記被検査物の表面において励起され
    た蛍光に基づく画像を撮像することを特徴とするパター
    ン検査装置。
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