JP2002321937A - ホウ酸塩ガラス、エタロンフィルター基板、及びエタロンフィルター - Google Patents
ホウ酸塩ガラス、エタロンフィルター基板、及びエタロンフィルターInfo
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- JP2002321937A JP2002321937A JP2001123090A JP2001123090A JP2002321937A JP 2002321937 A JP2002321937 A JP 2002321937A JP 2001123090 A JP2001123090 A JP 2001123090A JP 2001123090 A JP2001123090 A JP 2001123090A JP 2002321937 A JP2002321937 A JP 2002321937A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 エタロンフィルターに好適なｄＳ／ｄｔが小
さいガラスを提供する。 【解決手段】 質量百分率で、ＳｉＯ2２〜８％、Ｂ2Ｏ
3６４〜７５％、Ａｌ2Ｏ 3５〜１５％、Ｌｉ2Ｏ０〜５
％、ＢａＯ5〜２０％、ＺｒＯ2０〜４％、Ｎｂ2Ｏ5０〜
５％、Ａｓ2Ｏ3＋Ｓｂ2Ｏ3０〜２％を含有するホウ酸塩
ガラスである。さらに光路長の温度係数（ｄＳ／ｄＴ、
ここでｄＳ／ｄＴ＝ｎ×ＣＴＥ＋ｄｎ／ｄｔであって、
ＣＴＥがガラスの平均線膨張係数、ｎがガラスの屈折
率、ｄｎ／ｄｔがガラスの屈折率の温度係数である）が
８ｐｐｍ以下である。
さいガラスを提供する。 【解決手段】 質量百分率で、ＳｉＯ2２〜８％、Ｂ2Ｏ
3６４〜７５％、Ａｌ2Ｏ 3５〜１５％、Ｌｉ2Ｏ０〜５
％、ＢａＯ5〜２０％、ＺｒＯ2０〜４％、Ｎｂ2Ｏ5０〜
５％、Ａｓ2Ｏ3＋Ｓｂ2Ｏ3０〜２％を含有するホウ酸塩
ガラスである。さらに光路長の温度係数（ｄＳ／ｄＴ、
ここでｄＳ／ｄＴ＝ｎ×ＣＴＥ＋ｄｎ／ｄｔであって、
ＣＴＥがガラスの平均線膨張係数、ｎがガラスの屈折
率、ｄｎ／ｄｔがガラスの屈折率の温度係数である）が
８ｐｐｍ以下である。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光通信用デバイ
ス、特にエタロンフィルターに使用するのに好適なホウ
酸塩ガラス、ならびにこのガラスを用いたエタロンフィ
ルター基板およびエタロンフィルターに関する。
ス、特にエタロンフィルターに使用するのに好適なホウ
酸塩ガラス、ならびにこのガラスを用いたエタロンフィ
ルター基板およびエタロンフィルターに関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、光通信システムの急速な普及にと
もない、光通信用デバイスに使用するガラスが求められ
ている。光通信システムやそれに関連するレーザーシス
テムにおいては、波長の安定化、光出力の安定化および
波長選択等の目的でエタロンフィルターが使用されてい
る。エタロンフィルターの基板は、光路長が一定である
ことがもっとも望ましい。よって、光路長の温度による
変化が大きい、すなわち、光路長の温度係数（ｄＳ／ｄ
Ｔ）が大きい材料を基板として使用すると、光路長の温
度変化を防ぐために、厳密な温度制御が必要となる。特
に、バルクなガラスを研磨して得られるソリッドエタロ
ンフィルターでは、基板の光路長の温度変化がフィルタ
ーの最大透過波長の変化に与える影響が大きい。
もない、光通信用デバイスに使用するガラスが求められ
ている。光通信システムやそれに関連するレーザーシス
テムにおいては、波長の安定化、光出力の安定化および
波長選択等の目的でエタロンフィルターが使用されてい
る。エタロンフィルターの基板は、光路長が一定である
ことがもっとも望ましい。よって、光路長の温度による
変化が大きい、すなわち、光路長の温度係数（ｄＳ／ｄ
Ｔ）が大きい材料を基板として使用すると、光路長の温
度変化を防ぐために、厳密な温度制御が必要となる。特
に、バルクなガラスを研磨して得られるソリッドエタロ
ンフィルターでは、基板の光路長の温度変化がフィルタ
ーの最大透過波長の変化に与える影響が大きい。
【０００３】
【発明が解決しょうとする課題】このような厳密な温度
制御を不要とするためには、光路長の温度係数（ｄＳ／
ｄＴ）がなるべく小さい材料を基板として用いる必要が
ある。光路長の温度係数（ｄＳ／ｄＴ）は下記式１のよ
うに表すことができる。
制御を不要とするためには、光路長の温度係数（ｄＳ／
ｄＴ）がなるべく小さい材料を基板として用いる必要が
ある。光路長の温度係数（ｄＳ／ｄＴ）は下記式１のよ
うに表すことができる。
【０００４】 （ｄＳ／ｄＴ）＝ｎ×ＣＴＥ＋ｄｎ／ｄｔ （式１） なお、ここで、ＣＴＥは基板の平均線膨張係数，ｎは基
板の屈折率、ｄｎ／ｄｔは基板の屈折率の温度係数であ
る。
板の屈折率、ｄｎ／ｄｔは基板の屈折率の温度係数であ
る。
【０００５】従来、エタロン板（エタロンフィルター基
板）としては、硝子等が使用されていた。しかし、従来
のガラスは石英より光路長の温度係数（ｄＳ／ｄｔ）が
大きいため、例えば、特開２０００−８１５１２号公報
に示されているように、近年では、石英基板が使用され
るようになってきている。しかし、石英のｄＳ／ｄｔは
９．０ｐｐｍであり、エタロンフィルター用の基板とし
て用いる場合、光路長を一定にするために、やはり精密
な温度制御が必要であり、石英よりもｄＳ／ｄｔが小さ
い材料が求められている。さらに、石英は、一般的には
溶融法により製造し、その場合１７００℃程度という非
常に高い温度で溶融しなければならないため、溶融が困
難であり、しかもそのような高温に耐える特殊な溶融炉
を必要とする。また、特殊な製造方法を用いて、より低
い温度で石英を合成する方法も種々提案されているが、
いずれの方法も製造工程が複雑であり、一般的に石英
は、ガラスよりも製造コストが高いという問題がある。
板）としては、硝子等が使用されていた。しかし、従来
のガラスは石英より光路長の温度係数（ｄＳ／ｄｔ）が
大きいため、例えば、特開２０００−８１５１２号公報
に示されているように、近年では、石英基板が使用され
るようになってきている。しかし、石英のｄＳ／ｄｔは
９．０ｐｐｍであり、エタロンフィルター用の基板とし
て用いる場合、光路長を一定にするために、やはり精密
な温度制御が必要であり、石英よりもｄＳ／ｄｔが小さ
い材料が求められている。さらに、石英は、一般的には
溶融法により製造し、その場合１７００℃程度という非
常に高い温度で溶融しなければならないため、溶融が困
難であり、しかもそのような高温に耐える特殊な溶融炉
を必要とする。また、特殊な製造方法を用いて、より低
い温度で石英を合成する方法も種々提案されているが、
いずれの方法も製造工程が複雑であり、一般的に石英
は、ガラスよりも製造コストが高いという問題がある。
【０００６】本発明の目的は、上記従来技術の諸欠点、
すなわち光路長の温度変化が大きく、製造が困難である
という問題を解決し、精密な温度制御が不要な、光通信
用デバイス、特にエタロンフィルター基板として好適な
光路長の温度係数が小さいガラスならびにこのガラスを
用いたエタロンフィルター基板およびこの基板を用いた
エタロンフィルターを提供することにある。
すなわち光路長の温度変化が大きく、製造が困難である
という問題を解決し、精密な温度制御が不要な、光通信
用デバイス、特にエタロンフィルター基板として好適な
光路長の温度係数が小さいガラスならびにこのガラスを
用いたエタロンフィルター基板およびこの基板を用いた
エタロンフィルターを提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明者は、前記課題を
解決すべく鋭意研究を重ね、種々の組成系のガラスを用
いて実験した結果、Ｂ2Ｏ3、ＳｉＯ2およびＡｌ2Ｏ3を
含むホウ酸塩ガラスにおいて、溶融石英より溶融温度が
低く、かつ、ガラスの化学的耐久性を維持しつつ、光路
長の温度係数（ｄＳ／ｄＴ）が８ｐｐｍ以下のガラスが
得られることを見出し、本発明をなすに至った。
解決すべく鋭意研究を重ね、種々の組成系のガラスを用
いて実験した結果、Ｂ2Ｏ3、ＳｉＯ2およびＡｌ2Ｏ3を
含むホウ酸塩ガラスにおいて、溶融石英より溶融温度が
低く、かつ、ガラスの化学的耐久性を維持しつつ、光路
長の温度係数（ｄＳ／ｄＴ）が８ｐｐｍ以下のガラスが
得られることを見出し、本発明をなすに至った。
【０００８】すなわち、前記目的を達成するための請求
項１に記載の発明は、Ｂ2Ｏ3、ＳｉＯ2およびＡｌ2Ｏ3
を含むホウ酸塩ガラスであって、光路長の温度係数（ｄ
Ｓ／ｄＴ、ここでｄＳ／ｄＴ＝ｎ×ＣＴＥ＋ｄｎ／ｄｔ
であって、ＣＴＥがガラスの平均線膨張係数、ｎがガラ
スの屈折率、ｄｎ／ｄｔがガラスの屈折率の温度係数で
ある）が８ｐｐｍ以下であることを特徴とする。
項１に記載の発明は、Ｂ2Ｏ3、ＳｉＯ2およびＡｌ2Ｏ3
を含むホウ酸塩ガラスであって、光路長の温度係数（ｄ
Ｓ／ｄＴ、ここでｄＳ／ｄＴ＝ｎ×ＣＴＥ＋ｄｎ／ｄｔ
であって、ＣＴＥがガラスの平均線膨張係数、ｎがガラ
スの屈折率、ｄｎ／ｄｔがガラスの屈折率の温度係数で
ある）が８ｐｐｍ以下であることを特徴とする。
【０００９】また、請求項２に記載の発明は、請求項１
に記載のホウ酸塩ガラスにおいて、質量百分率で、 ＳｉＯ2 ２〜８％、 Ｂ2Ｏ3 ６４〜７５％、 Ａｌ2Ｏ3 ５〜１５％、 Ｌｉ2Ｏ ０〜５％、 ＢａＯ ５〜２０％、 ＺｒＯ2 ０〜４％、 Ｎｂ2Ｏ5 ０〜５％、 Ａｓ2Ｏ3＋Ｓｂ2Ｏ3 ０〜２％、 を含有することを特徴とする。
に記載のホウ酸塩ガラスにおいて、質量百分率で、 ＳｉＯ2 ２〜８％、 Ｂ2Ｏ3 ６４〜７５％、 Ａｌ2Ｏ3 ５〜１５％、 Ｌｉ2Ｏ ０〜５％、 ＢａＯ ５〜２０％、 ＺｒＯ2 ０〜４％、 Ｎｂ2Ｏ5 ０〜５％、 Ａｓ2Ｏ3＋Ｓｂ2Ｏ3 ０〜２％、 を含有することを特徴とする。
【００１０】請求項３に記載の発明は、請求項１または
２に記載のホウ酸塩ガラスにおいて、Ｂ2Ｏ3に対するＡ
ｌ2Ｏ3のモル比が０．０４５〜０．１６０の範囲内であ
ることを特徴とする。
２に記載のホウ酸塩ガラスにおいて、Ｂ2Ｏ3に対するＡ
ｌ2Ｏ3のモル比が０．０４５〜０．１６０の範囲内であ
ることを特徴とする。
【００１１】また、請求項４に記載のエタロンフィルタ
ー基板は、Ｂ2Ｏ3、ＳｉＯ2およびＡｌ2Ｏ3を含み、光
路長の温度係数（ｄＳ／ｄＴ、ここでｄＳ／ｄＴ＝ｎ×
ＣＴＥ＋ｄｎ／ｄｔであって、ＣＴＥがガラスの平均線
膨張係数、ｎがガラスの屈折率、ｄｎ／ｄｔがガラスの
屈折率の温度係数である）が８ｐｐｍ以下であるホウ酸
塩ガラスからなることを特徴とする。
ー基板は、Ｂ2Ｏ3、ＳｉＯ2およびＡｌ2Ｏ3を含み、光
路長の温度係数（ｄＳ／ｄＴ、ここでｄＳ／ｄＴ＝ｎ×
ＣＴＥ＋ｄｎ／ｄｔであって、ＣＴＥがガラスの平均線
膨張係数、ｎがガラスの屈折率、ｄｎ／ｄｔがガラスの
屈折率の温度係数である）が８ｐｐｍ以下であるホウ酸
塩ガラスからなることを特徴とする。
【００１２】請求項５に記載の発明は、請求項４に記載
のエタロンフィルター基板において、ホウ酸塩ガラス
は、質量百分率で、 ＳｉＯ2 ２〜８％、 Ｂ2Ｏ3 ６４〜７５％、 Ａｌ2Ｏ3 ５〜１５％、 Ｌｉ2Ｏ ０〜５％、 ＢａＯ ５〜２０％、 ＺｒＯ2 ０〜４％、 Ｎｂ2Ｏ5 ０〜５％、 Ａｓ2Ｏ3＋Ｓｂ2Ｏ3 ０〜２％、 を含有することを特徴とする。
のエタロンフィルター基板において、ホウ酸塩ガラス
は、質量百分率で、 ＳｉＯ2 ２〜８％、 Ｂ2Ｏ3 ６４〜７５％、 Ａｌ2Ｏ3 ５〜１５％、 Ｌｉ2Ｏ ０〜５％、 ＢａＯ ５〜２０％、 ＺｒＯ2 ０〜４％、 Ｎｂ2Ｏ5 ０〜５％、 Ａｓ2Ｏ3＋Ｓｂ2Ｏ3 ０〜２％、 を含有することを特徴とする。
【００１３】請求項６に記載の発明は、請求項４または
５に記載のエタロンフィルター基板において、ホウ酸塩
ガラスにおいて、Ｂ2Ｏ3に対するＡｌ2Ｏ3のモル比が
０．０４５〜０．１６０の範囲内であることを特徴とす
る。
５に記載のエタロンフィルター基板において、ホウ酸塩
ガラスにおいて、Ｂ2Ｏ3に対するＡｌ2Ｏ3のモル比が
０．０４５〜０．１６０の範囲内であることを特徴とす
る。
【００１４】請求項７に記載の発明は、請求項４、請求
項５または請求項６に記載のエタロンフィルター基板に
おいて、ソリッドエタロンフィルター用の基板であるこ
とを特徴とする。
項５または請求項６に記載のエタロンフィルター基板に
おいて、ソリッドエタロンフィルター用の基板であるこ
とを特徴とする。
【００１５】また、請求項８に記載のエタロンフィルタ
ーは、Ｂ2Ｏ3、ＳｉＯ2およびＡｌ2Ｏ3を含み、光路長
の温度係数（ｄＳ／ｄＴ、ここでｄＳ／ｄＴ＝ｎ×ＣＴ
Ｅ＋ｄｎ／ｄｔであって、ＣＴＥがガラスの平均線膨張
係数、ｎがガラスの屈折率、ｄｎ／ｄｔがガラスの屈折
率の温度係数である）が８ｐｐｍ以下であるホウ酸塩ガ
ラスからなるエタロンフィルター基板を基板とすること
を特徴とする。
ーは、Ｂ2Ｏ3、ＳｉＯ2およびＡｌ2Ｏ3を含み、光路長
の温度係数（ｄＳ／ｄＴ、ここでｄＳ／ｄＴ＝ｎ×ＣＴ
Ｅ＋ｄｎ／ｄｔであって、ＣＴＥがガラスの平均線膨張
係数、ｎがガラスの屈折率、ｄｎ／ｄｔがガラスの屈折
率の温度係数である）が８ｐｐｍ以下であるホウ酸塩ガ
ラスからなるエタロンフィルター基板を基板とすること
を特徴とする。
【００１６】請求項９に記載の発明は、請求項８に記載
のエタロンフィルターにおいて、ホウ酸塩ガラスは、質
量百分率で、 ＳｉＯ2 ２〜８％、 Ｂ2Ｏ3 ６４〜７５％、 Ａｌ2Ｏ3 ５〜１５％、 Ｌｉ2Ｏ ０〜５％、 ＢａＯ ５〜２０％、 ＺｒＯ2 ０〜４％、 Ｎｂ2Ｏ5 ０〜５％、 Ａｓ2Ｏ3＋Ｓｂ2Ｏ3 ０〜２％、 を含有することを特徴とする。
のエタロンフィルターにおいて、ホウ酸塩ガラスは、質
量百分率で、 ＳｉＯ2 ２〜８％、 Ｂ2Ｏ3 ６４〜７５％、 Ａｌ2Ｏ3 ５〜１５％、 Ｌｉ2Ｏ ０〜５％、 ＢａＯ ５〜２０％、 ＺｒＯ2 ０〜４％、 Ｎｂ2Ｏ5 ０〜５％、 Ａｓ2Ｏ3＋Ｓｂ2Ｏ3 ０〜２％、 を含有することを特徴とする。
【００１７】請求項１０に記載の発明は、請求項８また
は９に記載のエタロンフィルターにおいて、ホウ酸塩ガ
ラスにおいて、Ｂ2Ｏ3に対するＡｌ2Ｏ3のモル比が０．
０４５〜０．１６０の範囲内であることを特徴とする。
は９に記載のエタロンフィルターにおいて、ホウ酸塩ガ
ラスにおいて、Ｂ2Ｏ3に対するＡｌ2Ｏ3のモル比が０．
０４５〜０．１６０の範囲内であることを特徴とする。
【００１８】請求項１１に記載の発明は、請求項８、請
求項９または請求項１０に記載のエタロンフィルターに
おいて、ソリッドエタロンフィルターであることを特徴
とする。
求項９または請求項１０に記載のエタロンフィルターに
おいて、ソリッドエタロンフィルターであることを特徴
とする。
【００１９】
【発明の実施の形態】本発明の光路長の温度係数が小さ
いガラスならびにこのガラスを用いたエタロンフィルタ
ー基板およびこの基板を用いたエタロンフィルターにつ
いて、光路長の温度係数およびガラスの組成を上記のよ
うに限定した理由を以下に述べる。
いガラスならびにこのガラスを用いたエタロンフィルタ
ー基板およびこの基板を用いたエタロンフィルターにつ
いて、光路長の温度係数およびガラスの組成を上記のよ
うに限定した理由を以下に述べる。
【００２０】まず光路長の温度係数（ｄＳ／ｄＴ）につ
いてであるが、ｄＳ／ｄＴが８ｐｐｍを越えると光通信
用デバイス、特にエタロンフィルターの精密な温度制御
が必要となる。ｄＳ／ｄＴは７．５ｐｐｍ以下であるこ
とがより好ましく、さらに７ｐｐｍ以下であることが好
ましい。
いてであるが、ｄＳ／ｄＴが８ｐｐｍを越えると光通信
用デバイス、特にエタロンフィルターの精密な温度制御
が必要となる。ｄＳ／ｄＴは７．５ｐｐｍ以下であるこ
とがより好ましく、さらに７ｐｐｍ以下であることが好
ましい。
【００２１】次に、組成についてであるが、Ｂ2Ｏ3成分
は、ガラス形成酸化物であるとともに、ガラスのｄＳ／
ｄＴを小さくする最も有効な成分であり、本発明のガラ
スに不可欠な成分である。ｄＳ／ｄＴを８ｐｐｍ以下に
するためには、その量を６４％以上にすることが好まし
い。また、その量が７５％を超えるとガラスの化学的耐
久性が著しく低下する場合があるため好ましくない。特
にｄＳ／ｄＴが小さく、かつ、良好な化学的耐久性を有
するガラスを得るためには、Ｂ2Ｏ3成分の量を６６〜７
３％の範囲とすることが好ましく、さらに、その範囲を
６８〜７１％とすることがより好ましい。
は、ガラス形成酸化物であるとともに、ガラスのｄＳ／
ｄＴを小さくする最も有効な成分であり、本発明のガラ
スに不可欠な成分である。ｄＳ／ｄＴを８ｐｐｍ以下に
するためには、その量を６４％以上にすることが好まし
い。また、その量が７５％を超えるとガラスの化学的耐
久性が著しく低下する場合があるため好ましくない。特
にｄＳ／ｄＴが小さく、かつ、良好な化学的耐久性を有
するガラスを得るためには、Ｂ2Ｏ3成分の量を６６〜７
３％の範囲とすることが好ましく、さらに、その範囲を
６８〜７１％とすることがより好ましい。
【００２２】ＳｉＯ2成分は、ガラスの化学的耐久性を
良好に維持するために、本発明のガラスに不可欠な成分
で、２〜８％の範囲で含有することが好ましい。その量
が２％未満では、得られるガラスの化学的耐久性が著し
く低下する場合があるため好ましいとは言えず、また８
％を越えるとガラスの耐失透性が悪化する場合があるた
め好ましくない。特に良好な化学的耐久性を有するガラ
スを得るためには、ＳｉＯ2成分の量を３〜７％の範囲
とすることが好ましく、さらに、その範囲を４〜６％と
することがより好ましい。
良好に維持するために、本発明のガラスに不可欠な成分
で、２〜８％の範囲で含有することが好ましい。その量
が２％未満では、得られるガラスの化学的耐久性が著し
く低下する場合があるため好ましいとは言えず、また８
％を越えるとガラスの耐失透性が悪化する場合があるた
め好ましくない。特に良好な化学的耐久性を有するガラ
スを得るためには、ＳｉＯ2成分の量を３〜７％の範囲
とすることが好ましく、さらに、その範囲を４〜６％と
することがより好ましい。
【００２３】Ａｌ2Ｏ3成分はガラス化学的耐久性を向上
させる成分であり、本発明のガラスに不可欠な成分で、
５〜１５％の範囲で含有することが好ましい。その量が
５％未満では化学的耐久性が低下する場合があるため好
ましくない。また、１５％を超えるとｄＳ／ｄＴが所望
の値より大きくなりやすく、さらに、ガラスの耐失透性
が悪化する場合があるので好ましいとは言えない。特に
良好な化学的耐久性を有し、かつ耐失透性が優れたガラ
スを得るためには、Ａｌ2Ｏ3成分の量を６〜１３％の範
囲とすることが好ましく、さらに、その範囲を７〜１２
％とすることがより好ましい。
させる成分であり、本発明のガラスに不可欠な成分で、
５〜１５％の範囲で含有することが好ましい。その量が
５％未満では化学的耐久性が低下する場合があるため好
ましくない。また、１５％を超えるとｄＳ／ｄＴが所望
の値より大きくなりやすく、さらに、ガラスの耐失透性
が悪化する場合があるので好ましいとは言えない。特に
良好な化学的耐久性を有し、かつ耐失透性が優れたガラ
スを得るためには、Ａｌ2Ｏ3成分の量を６〜１３％の範
囲とすることが好ましく、さらに、その範囲を７〜１２
％とすることがより好ましい。
【００２４】また、ガラスの化学的耐久性を良好に維持
するためには、Ｂ2Ｏ3に対するＡｌ 2Ｏ3のモル比を０．
０４５以上にすることが好ましく、ガラスの溶融性を向
上させるためには、Ｂ2Ｏ3に対するＡｌ2Ｏ3のモル比を
０．１６０以下にすることが好ましい。
するためには、Ｂ2Ｏ3に対するＡｌ 2Ｏ3のモル比を０．
０４５以上にすることが好ましく、ガラスの溶融性を向
上させるためには、Ｂ2Ｏ3に対するＡｌ2Ｏ3のモル比を
０．１６０以下にすることが好ましい。
【００２５】ＢａＯ成分は，ガラスの溶融性を向上さ
せ、その耐失透性を向上させ、さらに、その化学的耐久
性を向上させる効果があるため、本発明のガラスに５〜
２０％の範囲で含有させることが望ましい成分である。
しかし、その量が５％未満の場合にはこれらの効果が十
分に得られず、また、２０％を超えるとｄＳ／ｄＴが所
望の値より大きくなるため、好ましくない。ＢａＯ成分
を添加する場合、上記ＢａＯ成分添加による諸効果を十
分に得つつ、かつ、ｄＳ／ｄＴが小さいガラスを得るた
めには、その量を７〜１９％の範囲とすることがより好
ましく、さらに、その範囲を９〜１８％とすることが好
ましい。
せ、その耐失透性を向上させ、さらに、その化学的耐久
性を向上させる効果があるため、本発明のガラスに５〜
２０％の範囲で含有させることが望ましい成分である。
しかし、その量が５％未満の場合にはこれらの効果が十
分に得られず、また、２０％を超えるとｄＳ／ｄＴが所
望の値より大きくなるため、好ましくない。ＢａＯ成分
を添加する場合、上記ＢａＯ成分添加による諸効果を十
分に得つつ、かつ、ｄＳ／ｄＴが小さいガラスを得るた
めには、その量を７〜１９％の範囲とすることがより好
ましく、さらに、その範囲を９〜１８％とすることが好
ましい。
【００２６】Ｌｉ2Ｏ成分は，ガラスの溶融性を向上さ
せ、さらにその耐失透性を向上させる成分であり、任意
に添加し得るが、５％を越えると化学的耐久性を悪化さ
せ、かつ、ｄＳ／ｄＴを大きくしてしまう。特に良好な
化学的耐久性を有し、かつ、ｄＳ／ｄＴが小さいガラス
を得るためには、その量を４％までとすることが好まし
く。さらに、３％までとすることがより好ましい。
せ、さらにその耐失透性を向上させる成分であり、任意
に添加し得るが、５％を越えると化学的耐久性を悪化さ
せ、かつ、ｄＳ／ｄＴを大きくしてしまう。特に良好な
化学的耐久性を有し、かつ、ｄＳ／ｄＴが小さいガラス
を得るためには、その量を４％までとすることが好まし
く。さらに、３％までとすることがより好ましい。
【００２７】ＺｒＯ2成分はガラスの化学的耐久性を向
上させる成分であり、任意に添加し得るが、その量が４
％を越えるとガラスの耐失透性が悪化するとともに、ｄ
Ｓ／ｄＴを大きくしてしまい所望の特性が得られない。
特に良好な耐失透性を有し、かつ、ｄＳ／ｄＴが小さい
ガラスを得るためには、その量を３％までとすることが
好ましく。さらに、２％までとすることがより好まし
い。
上させる成分であり、任意に添加し得るが、その量が４
％を越えるとガラスの耐失透性が悪化するとともに、ｄ
Ｓ／ｄＴを大きくしてしまい所望の特性が得られない。
特に良好な耐失透性を有し、かつ、ｄＳ／ｄＴが小さい
ガラスを得るためには、その量を３％までとすることが
好ましく。さらに、２％までとすることがより好まし
い。
【００２８】Ｎｂ2Ｏ5成分はガラスの化学的耐久性を向
上させる成分であり、任意に添加し得るが、その量が５
％を越えると耐失透性を悪化させてしまう、特に良好な
耐失透性を有するガラスを得るためには、その量を３％
までとすることが好ましく。さらに、２％までとするこ
とがより好ましい。
上させる成分であり、任意に添加し得るが、その量が５
％を越えると耐失透性を悪化させてしまう、特に良好な
耐失透性を有するガラスを得るためには、その量を３％
までとすることが好ましく。さらに、２％までとするこ
とがより好ましい。
【００２９】Ａｓ2Ｏ3およびＳｂ2Ｏ3成分は、ガラス溶
融の際の清澄剤として任意に添加し得るが、その効果を
得るためには、両成分の１種または２種の合計量が２％
までで十分である。清澄効果を十分に得ながら、かつ、
環境対策上の問題が少ないガラスを得るためには、両成
分の１種または２種の合計量を０．０１〜１％の範囲と
することが好ましく、さらに、その範囲を０．１〜１％
とすることがより好ましい。
融の際の清澄剤として任意に添加し得るが、その効果を
得るためには、両成分の１種または２種の合計量が２％
までで十分である。清澄効果を十分に得ながら、かつ、
環境対策上の問題が少ないガラスを得るためには、両成
分の１種または２種の合計量を０．０１〜１％の範囲と
することが好ましく、さらに、その範囲を０．１〜１％
とすることがより好ましい。
【００３０】なお、前記各成分の他に、ガラスの溶融性
や耐失透性の改善等を目的として、本発明のガラスの所
望の特性を損なわない範囲で、Ｎａ2Ｏ、Ｋ2Ｏ、Ｃｓ2
Ｏ、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、Ｆ2、Ｌａ2Ｏ3、Ｂｉ2Ｏ
3、Ｐ2Ｏ5、ＴｉＯ2、ＷＯ3、Ｙ2Ｏ3およびＴａ2Ｏ5成
分の１種または２種以上を合計で２％まで添加すること
ができる。
や耐失透性の改善等を目的として、本発明のガラスの所
望の特性を損なわない範囲で、Ｎａ2Ｏ、Ｋ2Ｏ、Ｃｓ2
Ｏ、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、Ｆ2、Ｌａ2Ｏ3、Ｂｉ2Ｏ
3、Ｐ2Ｏ5、ＴｉＯ2、ＷＯ3、Ｙ2Ｏ3およびＴａ2Ｏ5成
分の１種または２種以上を合計で２％まで添加すること
ができる。
【００３１】
【実施例】次に、本発明の好適な実施例について説明す
る。なお、本発明は以下の実施例のみに限定されるもの
ではない。まず、酸化物、炭酸塩、硝酸塩等の通常のガ
ラス原料を、表１に示す組成比になるように、秤量、混
合した。これを通常のガラス溶解装置を用いて約１２０
０℃〜１４００℃の温度で溶解し、撹拌均質化した後，
金型等にキャストして成形し、冷却することにより、実
施例Ｎｏ.１〜Ｎｏ.１２のガラスを容易に得ることがで
きた。本発明の好適な実施例（Ｎｏ.１〜Ｎｏ.１２）の
ガラスでは、失透および時間経過による潮解は生じなか
った。
る。なお、本発明は以下の実施例のみに限定されるもの
ではない。まず、酸化物、炭酸塩、硝酸塩等の通常のガ
ラス原料を、表１に示す組成比になるように、秤量、混
合した。これを通常のガラス溶解装置を用いて約１２０
０℃〜１４００℃の温度で溶解し、撹拌均質化した後，
金型等にキャストして成形し、冷却することにより、実
施例Ｎｏ.１〜Ｎｏ.１２のガラスを容易に得ることがで
きた。本発明の好適な実施例（Ｎｏ.１〜Ｎｏ.１２）の
ガラスでは、失透および時間経過による潮解は生じなか
った。
【００３２】表１および表２には、前記実施例（Ｎｏ.
１〜Ｎｏ.１２）のガラス、比較例のガラス（Ｎｏ.Ａお
よびＮｏ.Ｂ）および石英の組成(重量％)、ならびにそ
れらのガラスおよび石英の１５５０ｎｍにおける屈折率
（ｎ）、１５５０ｎｍにおける屈折率の温度係数ｄｎ／
ｄｔ（０〜５０℃）、０〜５０℃の平均線膨張係数（Ｃ
ＴＥ）および前述の式１によりそれらの値から計算した
ｄＳ／ｄＴを示した。なお、１５５０ｎｍは光通信技術
において使用される代表的な波長である。比較例のガラ
スＮｏ.Ａ、Ｎｏ.Ｂは実施例Ｎｏ.１〜Ｎｏ.１同様の方
法で製造した。石英については、ＳｉＯ2の純度が９
９．９９％の市販の合成石英を用いた。
１〜Ｎｏ.１２）のガラス、比較例のガラス（Ｎｏ.Ａお
よびＮｏ.Ｂ）および石英の組成(重量％)、ならびにそ
れらのガラスおよび石英の１５５０ｎｍにおける屈折率
（ｎ）、１５５０ｎｍにおける屈折率の温度係数ｄｎ／
ｄｔ（０〜５０℃）、０〜５０℃の平均線膨張係数（Ｃ
ＴＥ）および前述の式１によりそれらの値から計算した
ｄＳ／ｄＴを示した。なお、１５５０ｎｍは光通信技術
において使用される代表的な波長である。比較例のガラ
スＮｏ.Ａ、Ｎｏ.Ｂは実施例Ｎｏ.１〜Ｎｏ.１同様の方
法で製造した。石英については、ＳｉＯ2の純度が９
９．９９％の市販の合成石英を用いた。
【００３３】
【表１】
【００３４】
【表２】
【００３５】表１に見られるように、本発明の好適な実
施例（Ｎｏ.１〜Ｎｏ.１２）のガラスは、いずれも、光
路長の温度係数（ｄＳ／ｄＴ）が８ｐｐｍ以下であり、
石英より一段と小さいｄＳ／ｄＴを有しており、温度変
化による光路長の変化が小さいことが分かる。また、比
較例Ｎｏ.Ａのガラスは、溶融し、成形した後、冷却す
る過程でガラスが失透し、光学部品としては適切なもの
ではなかった。これはＳｉＯ2の割合が多すぎるためと
考えられる。比較例Ｎｏ.Ｂのガラスは、化学的耐久性
が著しく悪く、溶融、成形、冷却して固化した後、空気
中の水分の影響でガラスの表面が２日後に潮解した。こ
れは、Ｂ2Ｏ3の割合が多すぎるためと考えられる。以上
の理由により、比較例Ｎｏ.ＡおよびＮｏ.Ｂのガラスに
ついては、屈折率、ｄｎ／ｄｔおよびＣＴＥを測定する
ことができなかった。
施例（Ｎｏ.１〜Ｎｏ.１２）のガラスは、いずれも、光
路長の温度係数（ｄＳ／ｄＴ）が８ｐｐｍ以下であり、
石英より一段と小さいｄＳ／ｄＴを有しており、温度変
化による光路長の変化が小さいことが分かる。また、比
較例Ｎｏ.Ａのガラスは、溶融し、成形した後、冷却す
る過程でガラスが失透し、光学部品としては適切なもの
ではなかった。これはＳｉＯ2の割合が多すぎるためと
考えられる。比較例Ｎｏ.Ｂのガラスは、化学的耐久性
が著しく悪く、溶融、成形、冷却して固化した後、空気
中の水分の影響でガラスの表面が２日後に潮解した。こ
れは、Ｂ2Ｏ3の割合が多すぎるためと考えられる。以上
の理由により、比較例Ｎｏ.ＡおよびＮｏ.Ｂのガラスに
ついては、屈折率、ｄｎ／ｄｔおよびＣＴＥを測定する
ことができなかった。
【００３６】次に図１に基づき本発明のソリッドエタロ
ンフィルター基板の実施例を説明する。図１は本発明の
ソリッドエタロンフィルター基板１の側面図である。こ
こでは、表１に示した、１５５０ｎｍにおける屈折率ｎ
が１．４８９０である実施例Ｎｏ．１のガラスの対向す
る表面を精密に平行になるように研磨し、図１に示すよ
うに、厚みｄが１．８２±０．０１ｍｍのソリッドエタ
ロンフィルター基板１を作製した。表１の実施例Ｎｏ．
１のガラスは、ｄＳ／ｄＴの値が石英より小さいので、
本実施例のソリッドエタロンフィルター基板１は、石英
を基板とする従来のソリッドエタロンフィルター基板よ
りも、温度変化による基板の光路長の変化が小さい。ま
た、表１に示した本発明の実施例（Ｎｏ．２〜Ｎｏ．１
２）のガラスの屈折率等から下記式２より最大透過が得
られるときの所望の厚みｄを求め、これらの各実施例の
ガラスの対向する表面を精密に平行になるように研磨
し、図１に示す、前記所望の厚みｄであるソリッドエタ
ロンフィルター基板１を作製した。表１に示すように実
施例Ｎｏ．２〜Ｎｏ．１２のガラスは、いずれも、ｄＳ
／ｄＴの値が石英より小さいので、これらの実施例のガ
ラスを用いた本発明の実施例のソリッドエタロンフィル
ター基板１は、石英を基板とする従来のソリッドエタロ
ンフィルター基板よりも、温度変化による基板の光路長
の変化が小さい。
ンフィルター基板の実施例を説明する。図１は本発明の
ソリッドエタロンフィルター基板１の側面図である。こ
こでは、表１に示した、１５５０ｎｍにおける屈折率ｎ
が１．４８９０である実施例Ｎｏ．１のガラスの対向す
る表面を精密に平行になるように研磨し、図１に示すよ
うに、厚みｄが１．８２±０．０１ｍｍのソリッドエタ
ロンフィルター基板１を作製した。表１の実施例Ｎｏ．
１のガラスは、ｄＳ／ｄＴの値が石英より小さいので、
本実施例のソリッドエタロンフィルター基板１は、石英
を基板とする従来のソリッドエタロンフィルター基板よ
りも、温度変化による基板の光路長の変化が小さい。ま
た、表１に示した本発明の実施例（Ｎｏ．２〜Ｎｏ．１
２）のガラスの屈折率等から下記式２より最大透過が得
られるときの所望の厚みｄを求め、これらの各実施例の
ガラスの対向する表面を精密に平行になるように研磨
し、図１に示す、前記所望の厚みｄであるソリッドエタ
ロンフィルター基板１を作製した。表１に示すように実
施例Ｎｏ．２〜Ｎｏ．１２のガラスは、いずれも、ｄＳ
／ｄＴの値が石英より小さいので、これらの実施例のガ
ラスを用いた本発明の実施例のソリッドエタロンフィル
ター基板１は、石英を基板とする従来のソリッドエタロ
ンフィルター基板よりも、温度変化による基板の光路長
の変化が小さい。
【００３７】次に図２に基づき本発明のソリッドエタロ
ンフィルターの実施例を説明する。図２は本発明の実施
例のソリッドエタロンフィルター２の側面図である。図
２のソリッドエタロンフィルター２は、図１に示した実
施例Ｎｏ．１のガラスから作製したソリッドエタロンフ
ィルター基板１の対向する平行な両表面上に公知の反射
膜３を蒸着して作製したものである。ソリッドエタロン
フィルターでは、最大透過は、以下の式２を満たすとき
に起こる。 ｄ＝ｍ×λ／２ｎ／ｃｏｓθ （式２）
ンフィルターの実施例を説明する。図２は本発明の実施
例のソリッドエタロンフィルター２の側面図である。図
２のソリッドエタロンフィルター２は、図１に示した実
施例Ｎｏ．１のガラスから作製したソリッドエタロンフ
ィルター基板１の対向する平行な両表面上に公知の反射
膜３を蒸着して作製したものである。ソリッドエタロン
フィルターでは、最大透過は、以下の式２を満たすとき
に起こる。 ｄ＝ｍ×λ／２ｎ／ｃｏｓθ （式２）
【００３８】ここで、λは最大透過させようとする光線
の波長、ｎはその波長における基板の屈折率、ｍは任意
の整数、θはソリッドエタロンフィルターに入射する光
に対するソリッドエタロンフィルターの屈折角であり、
ｄはソリッドエタロンフィルター基板の対向する平行な
両表面上に形成する反射膜の表面どうし間の距離であ
る。しかし反射膜の膜厚は非常に薄いため、通常はｄを
基板の厚みとしてよい。本発明のソリッドエタロンフィ
ルター２の基板１のガラス（表１の実施例Ｎｏ.１）
は、ｄＳ／ｄＴの値が石英より小さいので、ソリッドエ
タロンフィルター２は、石英を基板とする従来のソリッ
ドエタロンフィルターよりも、基板の温度変化による光
路長の変化が小さく、精密な温度制御を必要としない。
また、表１に示した本発明の実施例（Ｎｏ．２〜Ｎｏ．
１２）のガラスから作製された図１に示すソリッドエタ
ロンフィルター基板１の対向する平行な両表面上に公知
の反射膜３を蒸着して、図２に示すソリッドエタロンフ
ィルター２を作製した。表１の実施例Ｎｏ．２〜Ｎｏ．
１２のガラスは、いずれも、ｄＳ／ｄＴの値が石英より
小さいので、これらの実施例のガラスを基板として用い
た本発明の実施例のソリッドエタロンフィルター２は、
石英を基板とする従来のソリッドエタロンフィルターよ
りも、基板の温度変化による光路長の変化が小さく、精
密な温度制御を必要としない。
の波長、ｎはその波長における基板の屈折率、ｍは任意
の整数、θはソリッドエタロンフィルターに入射する光
に対するソリッドエタロンフィルターの屈折角であり、
ｄはソリッドエタロンフィルター基板の対向する平行な
両表面上に形成する反射膜の表面どうし間の距離であ
る。しかし反射膜の膜厚は非常に薄いため、通常はｄを
基板の厚みとしてよい。本発明のソリッドエタロンフィ
ルター２の基板１のガラス（表１の実施例Ｎｏ.１）
は、ｄＳ／ｄＴの値が石英より小さいので、ソリッドエ
タロンフィルター２は、石英を基板とする従来のソリッ
ドエタロンフィルターよりも、基板の温度変化による光
路長の変化が小さく、精密な温度制御を必要としない。
また、表１に示した本発明の実施例（Ｎｏ．２〜Ｎｏ．
１２）のガラスから作製された図１に示すソリッドエタ
ロンフィルター基板１の対向する平行な両表面上に公知
の反射膜３を蒸着して、図２に示すソリッドエタロンフ
ィルター２を作製した。表１の実施例Ｎｏ．２〜Ｎｏ．
１２のガラスは、いずれも、ｄＳ／ｄＴの値が石英より
小さいので、これらの実施例のガラスを基板として用い
た本発明の実施例のソリッドエタロンフィルター２は、
石英を基板とする従来のソリッドエタロンフィルターよ
りも、基板の温度変化による光路長の変化が小さく、精
密な温度制御を必要としない。
【００３９】
【発明の効果】上述したとおり、本発明のホウ酸塩ガラ
スは、Ｂ2Ｏ3、ＳｉＯ2およびＡｌ2Ｏ 3を含むホウ酸塩
ガラスであって、光路長の温度係数（ｄＳ／ｄＴ）が８
ｐｐｍ以下であるから、石英および従来のガラスよりも
ｄＳ／ｄＴは小さく、光通信用デバイス、特にエタロン
フィルターに使用するのに好適である。また、本発明の
エタロンフィルター基板は、本発明に係るガラスからな
るものであるから、石英や従来のガラスからなる従来の
エタロンフィルター基板よりも温度変化による基板の光
路長の変化が小さく、しかも石英よりも製造コストが安
いため、経済的にも有利である。また、本発明のエタロ
ンフィルターは、本発明に係るエタロンフィルター基板
からなるものであるから、石英や従来のガラスを基板と
する従来のエタロンフィルターよりも温度変化による基
板の光路長の変化が小さいため、精密な温度制御を必要
としない。
スは、Ｂ2Ｏ3、ＳｉＯ2およびＡｌ2Ｏ 3を含むホウ酸塩
ガラスであって、光路長の温度係数（ｄＳ／ｄＴ）が８
ｐｐｍ以下であるから、石英および従来のガラスよりも
ｄＳ／ｄＴは小さく、光通信用デバイス、特にエタロン
フィルターに使用するのに好適である。また、本発明の
エタロンフィルター基板は、本発明に係るガラスからな
るものであるから、石英や従来のガラスからなる従来の
エタロンフィルター基板よりも温度変化による基板の光
路長の変化が小さく、しかも石英よりも製造コストが安
いため、経済的にも有利である。また、本発明のエタロ
ンフィルターは、本発明に係るエタロンフィルター基板
からなるものであるから、石英や従来のガラスを基板と
する従来のエタロンフィルターよりも温度変化による基
板の光路長の変化が小さいため、精密な温度制御を必要
としない。
【図１】本発明の実施例のソリッドエタロンフィルター
基板の側面図である。
基板の側面図である。
【図２】本発明の実施例のソリッドエタロンフィルター
の側面図である。
の側面図である。
１ ソリッドエタロンフィルター基板 ２ ソリッドエタロンフィルター ３ 反射膜
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H048 GA09 GA13 GA48 GA51 GA62 4G062 AA04 BB08 CC04 DA03 DB03 DB04 DC06 DC07 DD01 DE01 DF01 EA01 EA02 EA03 EB01 EC01 ED01 EE01 EF01 EG03 EG04 FA01 FA10 FB01 FC01 FC02 FC03 FD01 FE01 FF01 FG01 FG02 FG03 FH01 FJ01 FK01 FL01 GA01 GA10 GB01 GC01 GD01 GE01 HH01 HH03 HH05 HH07 HH09 HH11 HH13 HH15 HH17 HH20 JJ01 JJ03 JJ04 JJ05 JJ07 JJ10 KK01 KK03 KK05 KK07 KK10 MM04 NN01 NN10 NN32 NN34
Claims (11)
- 【請求項１】Ｂ2Ｏ3、ＳｉＯ2およびＡｌ2Ｏ3を含むホ
ウ酸塩ガラスであって、光路長の温度係数（ｄＳ／ｄ
Ｔ、ここでｄＳ／ｄＴ＝ｎ×ＣＴＥ＋ｄｎ／ｄｔであっ
て、ＣＴＥがガラスの平均線膨張係数、ｎがガラスの屈
折率、ｄｎ／ｄｔがガラスの屈折率の温度係数である）
が８ｐｐｍ以下であることを特徴とするホウ酸塩ガラ
ス。 - 【請求項２】質量百分率で、 ＳｉＯ2 ２〜８％、 Ｂ2Ｏ3 ６４〜７５％、 Ａｌ2Ｏ3 ５〜１５％、 Ｌｉ2Ｏ ０〜５％、 ＢａＯ ５〜２０％、 ＺｒＯ2 ０〜４％、 Ｎｂ2Ｏ5 ０〜５％、 Ａｓ2Ｏ3＋Ｓｂ2Ｏ3 ０〜２％、 を含有することを特徴とする請求項１に記載のホウ酸塩
ガラス。 - 【請求項３】Ｂ2Ｏ3に対するＡｌ2Ｏ3のモル比が０．０
４５〜０．１６０の範囲内であることを特徴とする請求
項１または２に記載のホウ酸塩ガラス。 - 【請求項４】Ｂ2Ｏ3、ＳｉＯ2およびＡｌ2Ｏ3を含み、
光路長の温度係数（ｄＳ／ｄＴ、ここでｄＳ／ｄＴ＝ｎ
×ＣＴＥ＋ｄｎ／ｄｔであって、ＣＴＥがガラスの平均
線膨張係数、ｎがガラスの屈折率、ｄｎ／ｄｔがガラス
の屈折率の温度係数である）が８ｐｐｍ以下であるホウ
酸塩ガラスからなることを特徴とするエタロンフィルタ
ー基板。 - 【請求項５】 ホウ酸塩ガラスは、質量百分率で、 ＳｉＯ2 ２〜８％、 Ｂ2Ｏ3 ６４〜７５％、 Ａｌ2Ｏ3 ５〜１５％、 Ｌｉ2Ｏ ０〜５％、 ＢａＯ ５〜２０％、 ＺｒＯ2 ０〜４％、 Ｎｂ2Ｏ5 ０〜５％、 Ａｓ2Ｏ3＋Ｓｂ2Ｏ3 ０〜２％、 を含有することを特徴とする請求項４に記載のエタロン
フィルター基板。 - 【請求項６】 ホウ酸塩ガラスにおいて、Ｂ2Ｏ3に対す
るＡｌ2Ｏ3のモル比が０．０４５〜０．１６０の範囲内
であることを特徴とする請求項４または５に記載のエタ
ロンフィルター基板。 - 【請求項７】 ソリッドエタロンフィルター用の基板で
あることを特徴とする請求項４、請求項５または請求項
６に記載のエタロンフィルター基板。 - 【請求項８】Ｂ2Ｏ3、ＳｉＯ2およびＡｌ2Ｏ3を含み、
光路長の温度係数（ｄＳ／ｄＴ、ここでｄＳ／ｄＴ＝ｎ
×ＣＴＥ＋ｄｎ／ｄｔであって、ＣＴＥがガラスの平均
線膨張係数、ｎがガラスの屈折率、ｄｎ／ｄｔがガラス
の屈折率の温度係数である）が８ｐｐｍ以下であるホウ
酸塩ガラスからなるエタロンフィルター基板を基板とす
ることを特徴とするエタロンフィルター。 - 【請求項９】ホウ酸塩ガラスは、質量百分率で、 ＳｉＯ2 ２〜８％、 Ｂ2Ｏ3 ６４〜７５％、 Ａｌ2Ｏ3 ５〜１５％、 Ｌｉ2Ｏ ０〜５％、 ＢａＯ ５〜２０％、 ＺｒＯ2 ０〜４％、 Ｎｂ2Ｏ5 ０〜５％、 Ａｓ2Ｏ3＋Ｓｂ2Ｏ3 ０〜２％、 を含有することを特徴とする請求項８に記載のエタロン
フィルター。 - 【請求項１０】 ホウ酸塩ガラスにおいて、Ｂ2Ｏ3に対
するＡｌ2Ｏ3のモル比が０．０４５〜０．１６０の範囲
内であることを特徴とする請求項８または９に記載のエ
タロンフィルター。 - 【請求項１１】 ソリッドエタロンフィルターであるこ
とを特徴とする請求項８、請求項９または請求項１０に
記載のエタロンフィルター。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001123090A JP2002321937A (ja) | 2001-04-20 | 2001-04-20 | ホウ酸塩ガラス、エタロンフィルター基板、及びエタロンフィルター |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001123090A JP2002321937A (ja) | 2001-04-20 | 2001-04-20 | ホウ酸塩ガラス、エタロンフィルター基板、及びエタロンフィルター |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002321937A true JP2002321937A (ja) | 2002-11-08 |
Family
ID=18972700
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001123090A Pending JP2002321937A (ja) | 2001-04-20 | 2001-04-20 | ホウ酸塩ガラス、エタロンフィルター基板、及びエタロンフィルター |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002321937A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2008028454A1 (de) * | 2006-09-08 | 2008-03-13 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Etalon und optoelektronische halbleitervorrichtung |
| WO2017127994A1 (en) * | 2016-01-25 | 2017-08-03 | Schott Glass Technologies (Suzhou) Co. Ltd. | System for optical detection of parameters |
-
2001
- 2001-04-20 JP JP2001123090A patent/JP2002321937A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2008028454A1 (de) * | 2006-09-08 | 2008-03-13 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Etalon und optoelektronische halbleitervorrichtung |
| WO2017127994A1 (en) * | 2016-01-25 | 2017-08-03 | Schott Glass Technologies (Suzhou) Co. Ltd. | System for optical detection of parameters |
| CN108605101A (zh) * | 2016-01-25 | 2018-09-28 | 肖特玻璃科技(苏州)有限公司 | 用于参数的光学检测的*** |
| US10455167B2 (en) | 2016-01-25 | 2019-10-22 | Schott Glass Technologies (Suzhou) Co. Ltd. | System for optical detection of parameters |
| US10715749B2 (en) | 2016-01-25 | 2020-07-14 | Schott Glass Technologies (Suzhou) Co. Ltd. | Infrared band pass system for optical detection of parameters |
| CN108605101B (zh) * | 2016-01-25 | 2021-07-06 | 肖特玻璃科技(苏州)有限公司 | 用于参数的光学检测的*** |
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