JP2002316972A - 光学活性3−シアノ−2−メチルプロパノール誘導体の製造法 - Google Patents
光学活性3−シアノ−2−メチルプロパノール誘導体の製造法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 医薬、農薬等の中間体として有用な光学活性
3−シアノ−2−メチルプロパノールを安価な原料から
簡便な操作でを製造する方法を提供する。 【解決手段】 光学活性3−ヒドロキシ−2−メチルプ
ロパン酸誘導体をハロゲン化し、必要に応じて加溶媒分
解した後還元して光学活性3−ハロ−2−メチルプロパ
ノール誘導体とし、必要に応じて水酸基を保護した後、
シアン化金属化合物と反応させることにより光学活性な
3−シアノ−2−メチルプロパノールを製造する。
3−シアノ−2−メチルプロパノールを安価な原料から
簡便な操作でを製造する方法を提供する。 【解決手段】 光学活性3−ヒドロキシ−2−メチルプ
ロパン酸誘導体をハロゲン化し、必要に応じて加溶媒分
解した後還元して光学活性3−ハロ−2−メチルプロパ
ノール誘導体とし、必要に応じて水酸基を保護した後、
シアン化金属化合物と反応させることにより光学活性な
3−シアノ−2−メチルプロパノールを製造する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、農薬、医薬品の中
間体として有用な光学活性3−シアノ−2−メチルプロ
パノール誘導体の製造に関するものである。特に(R)
−3−シアノ−2−メチルプロパノール誘導体は、特開
平10−259184等に記載されているサブスタンス
P受容体拮抗作用を有する医薬品の製造に利用できる。
間体として有用な光学活性3−シアノ−2−メチルプロ
パノール誘導体の製造に関するものである。特に(R)
−3−シアノ−2−メチルプロパノール誘導体は、特開
平10−259184等に記載されているサブスタンス
P受容体拮抗作用を有する医薬品の製造に利用できる。
【0002】
【従来の技術】従来、光学活性3−シアノ−2−メチル
プロパノール誘導体の製造法としては、(一)光学活性
3−ヒドロキシ−2−メチルプロパン酸エステルの水酸
基を保護した後、エステル部分を還元することで対応す
る光学活性アルコールを製造し、その化合物の水酸基を
トシル基へと変換し、シアノ化する方法。[Tetra
hedron、39巻、3107(1983)、J.O
rg.Chem. 41巻、3512(1976)、W
O00/32192]、(二)2−メチル−1,3−プ
ロパンジオールのジアセテートをリパーゼ触媒により、
光学活性なモノアセテートとし、水酸基の保護、アセテ
ートの加水分解、メシル化を施し、シアノ化する方法。
[J.Chem.Soc.Chem.Commun.1
638(1988)]、などが知られている。
プロパノール誘導体の製造法としては、(一)光学活性
3−ヒドロキシ−2−メチルプロパン酸エステルの水酸
基を保護した後、エステル部分を還元することで対応す
る光学活性アルコールを製造し、その化合物の水酸基を
トシル基へと変換し、シアノ化する方法。[Tetra
hedron、39巻、3107(1983)、J.O
rg.Chem. 41巻、3512(1976)、W
O00/32192]、(二)2−メチル−1,3−プ
ロパンジオールのジアセテートをリパーゼ触媒により、
光学活性なモノアセテートとし、水酸基の保護、アセテ
ートの加水分解、メシル化を施し、シアノ化する方法。
[J.Chem.Soc.Chem.Commun.1
638(1988)]、などが知られている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、(一)
の方法はトシル基を導入する工程で、ピリジンなどの高
価な塩基を多量に用いる必要があり、また(二)の方法
は多段階の工程であることと、リパーゼによる光学分割
の工程が極めて低収率である。以上の様に、いずれの方
法も経済性の高い光学活性3−シアノ−2−メチルプロ
パノール誘導体の工業的製法としては解決すべき課題を
有している。
の方法はトシル基を導入する工程で、ピリジンなどの高
価な塩基を多量に用いる必要があり、また(二)の方法
は多段階の工程であることと、リパーゼによる光学分割
の工程が極めて低収率である。以上の様に、いずれの方
法も経済性の高い光学活性3−シアノ−2−メチルプロ
パノール誘導体の工業的製法としては解決すべき課題を
有している。
【0004】一方、光学活性3−ヒドロキシ−2−メチ
ルプロパン酸を触媒量の塩基存在下、塩化チオニルと処
理することにより光学活性3−クロロ−2−メチルプロ
パン酸誘導体とし、水素化ホウ素ナトリウムで還元する
ことにより光学活性3−クロロ−2−メチルプロパノー
ルを製造する方法[特開昭60−78029]が知られ
ている。この方法により製造できる光学活性3−クロロ
−2−メチルプロパノールを利用した有用光学活性化合
物の製造法の開発が望まれていた。
ルプロパン酸を触媒量の塩基存在下、塩化チオニルと処
理することにより光学活性3−クロロ−2−メチルプロ
パン酸誘導体とし、水素化ホウ素ナトリウムで還元する
ことにより光学活性3−クロロ−2−メチルプロパノー
ルを製造する方法[特開昭60−78029]が知られ
ている。この方法により製造できる光学活性3−クロロ
−2−メチルプロパノールを利用した有用光学活性化合
物の製造法の開発が望まれていた。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決すべく、鋭意検討を重ねた結果、容易に入手可能
な光学活性3−ヒドロキシ−2−メチルプロパン酸誘導
体又はその塩を原料に用いて、光学活性3−ハロ−2−
メチルプロパノール誘導体を経由することにより、極め
て効果的に、且つ高い光学純度で光学活性3−シアノ−
2−メチルプロパノール誘導体を製造できることを見出
した。
を解決すべく、鋭意検討を重ねた結果、容易に入手可能
な光学活性3−ヒドロキシ−2−メチルプロパン酸誘導
体又はその塩を原料に用いて、光学活性3−ハロ−2−
メチルプロパノール誘導体を経由することにより、極め
て効果的に、且つ高い光学純度で光学活性3−シアノ−
2−メチルプロパノール誘導体を製造できることを見出
した。
【0006】即ち、本発明は、下記式(1);
【0007】
【化11】 (式中、R1は水素原子、または炭素数1〜10の置換
若しくは無置換のアルキル基、又は炭素数7〜20の置
換若しくは無置換のアラルキル基、又は炭素数6〜20
の置換若しくは無置換のアリール基を表し、*は不斉炭
素を表す。)で表される光学活性3−ヒドロキシ−2−
メチルプロパン酸誘導体またはその塩をハロゲン化剤で
処理し、ついで還元することにより下記式(2);
若しくは無置換のアルキル基、又は炭素数7〜20の置
換若しくは無置換のアラルキル基、又は炭素数6〜20
の置換若しくは無置換のアリール基を表し、*は不斉炭
素を表す。)で表される光学活性3−ヒドロキシ−2−
メチルプロパン酸誘導体またはその塩をハロゲン化剤で
処理し、ついで還元することにより下記式(2);
【0008】
【化12】 (式中、X1はハロゲン原子を表し、*は前記に同じ)
で表される光学活性3−ハロ−2−メチルプロパノール
を製造し、必要に応じ水酸基を保護することによって下
記式(3);
で表される光学活性3−ハロ−2−メチルプロパノール
を製造し、必要に応じ水酸基を保護することによって下
記式(3);
【0009】
【化13】 (式中、X1、*は前記に同じ、Pは水素原子、又は水
酸基の保護基を表す。)で表される光学活性3−ハロ−
2−メチルプロパノール誘導体を製造し、これを下記式
(4); M−CN (4) (式中、Mは金属原子を表す。)で表されるシアン化金
属化合物を反応させることを特徴とする下記式(5);
酸基の保護基を表す。)で表される光学活性3−ハロ−
2−メチルプロパノール誘導体を製造し、これを下記式
(4); M−CN (4) (式中、Mは金属原子を表す。)で表されるシアン化金
属化合物を反応させることを特徴とする下記式(5);
【0010】
【化14】 (式中、P、*は前記に同じ)で表される光学活性3−
シアノ−2−メチルプロパノール誘導体の製造法であ
る。
シアノ−2−メチルプロパノール誘導体の製造法であ
る。
【0011】また、本発明は下記式(6)
【0012】
【化15】 (式中、X1はハロゲン原子を表し、 R2は水素原子、
炭素数1〜10の置換若しくは無置換のアルキル基、又
は炭素数7〜20の置換若しくは無置換のアラルキル
基、又は炭素数6〜20の置換若しくは無置換のアリー
ル基を表し、*は不斉炭素を表す。)で表される光学活
性3−ハロ−2−メチルプロパン酸誘導体またはその塩
を還元することにより、上記式(2)で表される光学活
性3−ハロ−2−メチルプロパノールを製造し、必要に
応じ、水酸基を保護することによって上記式(3)で表
される光学活性3−ハロ−2−メチルプロパノール誘導
体を製造し、これを上記式(4)で表されるシアン化金
属化合物を反応させることを特徴とする、上記式(5)
で表される光学活性3−シアノ−2−メチルプロパノー
ル誘導体の製造法でもある。
炭素数1〜10の置換若しくは無置換のアルキル基、又
は炭素数7〜20の置換若しくは無置換のアラルキル
基、又は炭素数6〜20の置換若しくは無置換のアリー
ル基を表し、*は不斉炭素を表す。)で表される光学活
性3−ハロ−2−メチルプロパン酸誘導体またはその塩
を還元することにより、上記式(2)で表される光学活
性3−ハロ−2−メチルプロパノールを製造し、必要に
応じ、水酸基を保護することによって上記式(3)で表
される光学活性3−ハロ−2−メチルプロパノール誘導
体を製造し、これを上記式(4)で表されるシアン化金
属化合物を反応させることを特徴とする、上記式(5)
で表される光学活性3−シアノ−2−メチルプロパノー
ル誘導体の製造法でもある。
【0013】また、本発明は上記式(3)で表される光
学活性3−ハロ−2−メチルプロパノール誘導体に、上
記式(4)で表されるシアン化金属化合物を反応させる
ことを特徴とする、上記式(5)で表される光学活性3
−シアノ−2−メチルプロパノール誘導体の製造法でも
ある。
学活性3−ハロ−2−メチルプロパノール誘導体に、上
記式(4)で表されるシアン化金属化合物を反応させる
ことを特徴とする、上記式(5)で表される光学活性3
−シアノ−2−メチルプロパノール誘導体の製造法でも
ある。
【0014】
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
上記式(1)で表される3−ヒドロキシ−2−メチルプ
ロパン酸誘導体またはその塩において、R1は水素原
子、または炭素数1〜10の置換若しくは無置換のアル
キル基、又は炭素数7〜20の置換若しくは無置換のア
ラルキル基、又は炭素数6〜20の置換若しくは無置換
のアリール基を表す。
上記式(1)で表される3−ヒドロキシ−2−メチルプ
ロパン酸誘導体またはその塩において、R1は水素原
子、または炭素数1〜10の置換若しくは無置換のアル
キル基、又は炭素数7〜20の置換若しくは無置換のア
ラルキル基、又は炭素数6〜20の置換若しくは無置換
のアリール基を表す。
【0015】上記炭素数1〜10の置換若しくは無置換
のアルキル基としては特に限定されず、例えばメチル
基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−
ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル
基などが挙げられる。
のアルキル基としては特に限定されず、例えばメチル
基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−
ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル
基などが挙げられる。
【0016】上記炭素数7〜20の置換若しくは無置換
のアラルキル基としては特に限定されず、例えばベンジ
ル基、p−ヒドロキシベンジル基、p−メトキシベンジ
ル基などが挙げられる。
のアラルキル基としては特に限定されず、例えばベンジ
ル基、p−ヒドロキシベンジル基、p−メトキシベンジ
ル基などが挙げられる。
【0017】上記炭素数6〜20の置換若しくは無置換
のアリール基としては特に限定されず、例えばフェニル
基、p−メチルフェニル基、p−メトキシフェニル基、
p−クロロフェニル基、ナフチル基、アントラセニル基
などが挙げられる。
のアリール基としては特に限定されず、例えばフェニル
基、p−メチルフェニル基、p−メトキシフェニル基、
p−クロロフェニル基、ナフチル基、アントラセニル基
などが挙げられる。
【0018】上記式(2)で表される光学活性3−ハロ
−2−メチルプロパノールにおいてX1はフッ素、塩
素、臭素、ヨウ素などのハロゲン原子を表し、好ましく
は塩素原子である。
−2−メチルプロパノールにおいてX1はフッ素、塩
素、臭素、ヨウ素などのハロゲン原子を表し、好ましく
は塩素原子である。
【0019】上記式(3)で表される光学活性3−ハロ
−2−メチルプロパノール誘導体において、Pは水素原
子、または水酸基の保護基を表す。
−2−メチルプロパノール誘導体において、Pは水素原
子、または水酸基の保護基を表す。
【0020】上記水酸基の保護基としては特には限定さ
れず、Protective Group in Or
ganic Synthesis 第二版 10頁に記
載の基を用いることができ、具体的には、メチル基、メ
トキシメチル基、ベンジロキシメチル基、2−テトラヒ
ドロピラニル基、エトキシエチル基、2−トリメチルシ
リルエチル基、t−ブチル基、アリル基、メトキシフェ
ニル基、ベンジル基、p−メトキシベンジル基、トリメ
チルシリル基、トリイソプロピルシリル基、t−ブチル
ジメチルシリル基、フェニルジメチルシリル基、フォル
ミル基、アセチル基、ピバロイル基、ベンゾイル基、メ
トキシカルボニル基、アリロキシカルボニル基、ベンジ
ロキシカルボニル基などが挙げることができ、好ましく
は2−テトラヒドロピラニル基である。
れず、Protective Group in Or
ganic Synthesis 第二版 10頁に記
載の基を用いることができ、具体的には、メチル基、メ
トキシメチル基、ベンジロキシメチル基、2−テトラヒ
ドロピラニル基、エトキシエチル基、2−トリメチルシ
リルエチル基、t−ブチル基、アリル基、メトキシフェ
ニル基、ベンジル基、p−メトキシベンジル基、トリメ
チルシリル基、トリイソプロピルシリル基、t−ブチル
ジメチルシリル基、フェニルジメチルシリル基、フォル
ミル基、アセチル基、ピバロイル基、ベンゾイル基、メ
トキシカルボニル基、アリロキシカルボニル基、ベンジ
ロキシカルボニル基などが挙げることができ、好ましく
は2−テトラヒドロピラニル基である。
【0021】上記式(4)で表されるシアン化金属化合
物M−CNにおいて、Mは金属原子を表し、特には限定
されないが、例えばリチウム、ナトリウム、カリウムな
どのアルカリ金属原子、トリアルキルシリル基、トリア
ルキルスタニル基などが挙げられる。好ましくはナトリ
ウム、カリウムであり、さらに好ましくはナトリウムで
ある。
物M−CNにおいて、Mは金属原子を表し、特には限定
されないが、例えばリチウム、ナトリウム、カリウムな
どのアルカリ金属原子、トリアルキルシリル基、トリア
ルキルスタニル基などが挙げられる。好ましくはナトリ
ウム、カリウムであり、さらに好ましくはナトリウムで
ある。
【0022】上記式(5)で表される光学活性3−シア
ノ−2−メチルプロパノール誘導体のPは上記で定義し
たものと同様である。
ノ−2−メチルプロパノール誘導体のPは上記で定義し
たものと同様である。
【0023】上記式(6)で表される光学活性3−ハロ
−2−メチルプロパン酸誘導体のR 2としては、水素原
子、又は炭素数1〜10の置換若しくは無置換のアルキ
ル基、又は炭素数7〜20の置換若しくは無置換のアラ
ルキル基、又は炭素数6〜20の置換若しくは無置換の
アリール基であり、さらに好ましくはメチル基、エチル
基である。Pは上記で定義したものと同様である。
−2−メチルプロパン酸誘導体のR 2としては、水素原
子、又は炭素数1〜10の置換若しくは無置換のアルキ
ル基、又は炭素数7〜20の置換若しくは無置換のアラ
ルキル基、又は炭素数6〜20の置換若しくは無置換の
アリール基であり、さらに好ましくはメチル基、エチル
基である。Pは上記で定義したものと同様である。
【0024】本発明の出発原料である上記式(1)で表
される化合物の製造について説明する。上記式(1)で
表される光学活性3−ヒドロキシ−2−メチルプロパン
酸は、イソ酪酸の微生物による立体選択的なヒドロキシ
ル化により容易に取得することが可能である(特開昭5
6−68394)。また、対応するエステルは当業者公
知の方法などに従い、エステル化させることによって取
得可能である。
される化合物の製造について説明する。上記式(1)で
表される光学活性3−ヒドロキシ−2−メチルプロパン
酸は、イソ酪酸の微生物による立体選択的なヒドロキシ
ル化により容易に取得することが可能である(特開昭5
6−68394)。また、対応するエステルは当業者公
知の方法などに従い、エステル化させることによって取
得可能である。
【0025】次に、上記式(1)で表される化合物をハ
ロゲン化した後、還元し、上記式(2)で表される光学
活性3−ハロ−2−メチルプロパノールを製造する工程
について説明する。
ロゲン化した後、還元し、上記式(2)で表される光学
活性3−ハロ−2−メチルプロパノールを製造する工程
について説明する。
【0026】ハロゲン化は、例えば特開昭60−780
29に記載の方法に準じて、上記式(1)で表される化
合物を触媒量の有機塩基存在下、ハロゲン化剤で処理す
ることにより行うことができる。ハロゲン化剤として
は、例えば、塩素化の場合は、塩化チオニル、三塩化リ
ン、五塩化リン、トリフェニルホスフィン−四塩化炭
素、トリフェニルホスフィン−N−クロロスクシンイミ
ド等が挙げられ、臭素化の場合は、臭化水素酸、三臭化
リン、トリフェニルホスフィン−臭素、トリフェニルホ
スフィン−N−ブロモスクシンイミド、トリフェニルホ
スフィン−四臭化炭素、臭化チオニル等が挙げられる。
特に塩化チオニルによる塩素化が好ましい。
29に記載の方法に準じて、上記式(1)で表される化
合物を触媒量の有機塩基存在下、ハロゲン化剤で処理す
ることにより行うことができる。ハロゲン化剤として
は、例えば、塩素化の場合は、塩化チオニル、三塩化リ
ン、五塩化リン、トリフェニルホスフィン−四塩化炭
素、トリフェニルホスフィン−N−クロロスクシンイミ
ド等が挙げられ、臭素化の場合は、臭化水素酸、三臭化
リン、トリフェニルホスフィン−臭素、トリフェニルホ
スフィン−N−ブロモスクシンイミド、トリフェニルホ
スフィン−四臭化炭素、臭化チオニル等が挙げられる。
特に塩化チオニルによる塩素化が好ましい。
【0027】ハロゲン化後は、一旦、ハロゲン化生成物
である3−ハロ−2−メチルプロパン酸誘導体を分離し
てもよいし、分離することなく引き続いて還元を行って
もよい。なお、上記式(1)においてR1が水素原子で
ある化合物、即ち、光学活性3−ヒドロキシ−2−メチ
ルカルボン酸をハロゲン化した場合は、ハロゲン化生成
物として光学活性3−クロロ−2−メチルプロパン酸ハ
ライドを生じるが、該光学活性3−ハロ−2−メチルプ
ロパン酸クロライドはそのまま次の還元工程で使用して
も良いし、加溶媒分解して上記式(6)で表される光学
活性3−ハロ−2−メチルプロパン酸誘導体に導いたの
ち還元に供してもよい。この場合、上記式(6)におけ
る置換基R2としては、特に限定されないが、炭素数1
〜10の置換若しくは無置換のアルキル基、又は炭素数
7〜20の置換若しくは無置換のアラルキル基、又は炭
素数6〜20の置換若しくは無置換のアリール基が好ま
しく、メチル基、エチル基がさらに好ましい。
である3−ハロ−2−メチルプロパン酸誘導体を分離し
てもよいし、分離することなく引き続いて還元を行って
もよい。なお、上記式(1)においてR1が水素原子で
ある化合物、即ち、光学活性3−ヒドロキシ−2−メチ
ルカルボン酸をハロゲン化した場合は、ハロゲン化生成
物として光学活性3−クロロ−2−メチルプロパン酸ハ
ライドを生じるが、該光学活性3−ハロ−2−メチルプ
ロパン酸クロライドはそのまま次の還元工程で使用して
も良いし、加溶媒分解して上記式(6)で表される光学
活性3−ハロ−2−メチルプロパン酸誘導体に導いたの
ち還元に供してもよい。この場合、上記式(6)におけ
る置換基R2としては、特に限定されないが、炭素数1
〜10の置換若しくは無置換のアルキル基、又は炭素数
7〜20の置換若しくは無置換のアラルキル基、又は炭
素数6〜20の置換若しくは無置換のアリール基が好ま
しく、メチル基、エチル基がさらに好ましい。
【0028】還元は、特に限定されないが、例えば、水
素化ほう素ナトリウム、水素化ホウ素リチウム、水素化
ホウ素カリウム、水素化ホウ素亜鉛、水素化ジイソブチ
ルアルミニウム等の金属水素化物を用いた還元方法、P
d、Pt、Rh、又はRu等の金属触媒を用いた接触還
元等の方法で行うことができる。好ましくは金属水素化
物を用いた還元方法であり、例えば特開昭60−780
29に記載の方法に準じて、水素化ホウ素ナトリウム
(NaBH4)とルイス酸の組み合わせ、例えば、Na
BH4−BF3による還元が挙げられる。これらの還元方
法で用いられる反応条件としては、当業者に公知の条件
を適用することができる。
素化ほう素ナトリウム、水素化ホウ素リチウム、水素化
ホウ素カリウム、水素化ホウ素亜鉛、水素化ジイソブチ
ルアルミニウム等の金属水素化物を用いた還元方法、P
d、Pt、Rh、又はRu等の金属触媒を用いた接触還
元等の方法で行うことができる。好ましくは金属水素化
物を用いた還元方法であり、例えば特開昭60−780
29に記載の方法に準じて、水素化ホウ素ナトリウム
(NaBH4)とルイス酸の組み合わせ、例えば、Na
BH4−BF3による還元が挙げられる。これらの還元方
法で用いられる反応条件としては、当業者に公知の条件
を適用することができる。
【0029】反応溶媒としては、テトラヒドロフラン、
t−ブチルメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジイソ
プロピルエーテル、1,2−ジメトキシエタン、1,4
−ジオキサン、トルエン、又はヘキサンなどを挙げるこ
とができ、上記溶媒を混合して使用しても良い。
t−ブチルメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジイソ
プロピルエーテル、1,2−ジメトキシエタン、1,4
−ジオキサン、トルエン、又はヘキサンなどを挙げるこ
とができ、上記溶媒を混合して使用しても良い。
【0030】反応温度としては、溶媒、還元剤の種類に
よっても異なるが、上記溶媒中例えば−50℃〜90℃
の穏和な条件から選択できる。好ましくは10℃〜50
℃である。
よっても異なるが、上記溶媒中例えば−50℃〜90℃
の穏和な条件から選択できる。好ましくは10℃〜50
℃である。
【0031】反応後、必要に応じて溶媒を留去後、水も
しくは希塩酸、塩化アンモニウム水溶液などの酸性水溶
液に加えるか、又は、水もしくは上記酸性水溶液を加え
たのち、トルエン、酢酸エチル、ジエチルエーテル、ジ
クロロメタン、クロロホルムなどの有機溶媒で抽出、洗
浄、濃縮などの操作によって化合物(2)を取得するこ
とができる。取得した化合物(2)はカラムクロマトグ
ラフィーや蒸留などによって分離、精製を行ってもよい
し、そのまま次の工程に用いてもよい。
しくは希塩酸、塩化アンモニウム水溶液などの酸性水溶
液に加えるか、又は、水もしくは上記酸性水溶液を加え
たのち、トルエン、酢酸エチル、ジエチルエーテル、ジ
クロロメタン、クロロホルムなどの有機溶媒で抽出、洗
浄、濃縮などの操作によって化合物(2)を取得するこ
とができる。取得した化合物(2)はカラムクロマトグ
ラフィーや蒸留などによって分離、精製を行ってもよい
し、そのまま次の工程に用いてもよい。
【0032】次に、上記式(2)で表される光学活性3
−ハロ−2−メチルプロパノールに水酸基の保護基を導
入し、上記式(3)で表される光学活性3−ハロ−2−
メチルプロパノール誘導体を製造する工程に関して説明
する。本工程は、水酸基の保護法として当業者公知の方
法で実施できるが、保護基としてテトラヒドロピラニル
基を導入する場合にを例に詳細を説明する。この場合、
酸存在下、上記式(2)で表される化合物と3、4−ジ
ヒドロ−2H−ピランと反応させることにより行うこと
ができる。
−ハロ−2−メチルプロパノールに水酸基の保護基を導
入し、上記式(3)で表される光学活性3−ハロ−2−
メチルプロパノール誘導体を製造する工程に関して説明
する。本工程は、水酸基の保護法として当業者公知の方
法で実施できるが、保護基としてテトラヒドロピラニル
基を導入する場合にを例に詳細を説明する。この場合、
酸存在下、上記式(2)で表される化合物と3、4−ジ
ヒドロ−2H−ピランと反応させることにより行うこと
ができる。
【0033】上記反応に用いる酸としては、例えば塩
酸、硫酸、ベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルホン
酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン
酸、カンファースルホン酸、酢酸、トリフルオロ酢酸等
が挙げられ、これらはそのまま用いてもよいし、これら
のトリエチルアミン塩、ピリジン塩を用いてもよい。ま
た酸として、アンバーリストH15などの酸性イオン交
換樹脂やモンモリロナイトなどの酸性鉱物を用いること
もできる。好ましくはベンゼンスルホン酸、p−トルエ
ンスルホン酸である。
酸、硫酸、ベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルホン
酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン
酸、カンファースルホン酸、酢酸、トリフルオロ酢酸等
が挙げられ、これらはそのまま用いてもよいし、これら
のトリエチルアミン塩、ピリジン塩を用いてもよい。ま
た酸として、アンバーリストH15などの酸性イオン交
換樹脂やモンモリロナイトなどの酸性鉱物を用いること
もできる。好ましくはベンゼンスルホン酸、p−トルエ
ンスルホン酸である。
【0034】上記酸の当量としては、用いる酸や溶媒の
種類、反応条件によって異なるが、例えばp−トルエン
スルホン酸の場合、上記式(3)で表される化合物に対
して、10当量以下、好ましくは1当量以下の触媒量で
ある。
種類、反応条件によって異なるが、例えばp−トルエン
スルホン酸の場合、上記式(3)で表される化合物に対
して、10当量以下、好ましくは1当量以下の触媒量で
ある。
【0035】上記3、4−ジヒドロ−2H−ピランの使
用量は、酸や溶媒の種類、反応条件によって異なるが、
上記式(2)で表される化合物に対して、1〜100当
量、好ましくは1〜2当量である。
用量は、酸や溶媒の種類、反応条件によって異なるが、
上記式(2)で表される化合物に対して、1〜100当
量、好ましくは1〜2当量である。
【0036】反応溶媒としては、無溶媒にて反応を行っ
ても良いし、例えば、ジクロロメタン、クロロホルム、
トルエン、ベンゼン、テトラヒドロフラン、ジエチルエ
ーテル、N,N−ジメチルホルムアミド、アセトン、ア
セトニトリル、ジメチルスルホキシドなどを溶媒として
用いてもよい。好ましくはトルエンである。
ても良いし、例えば、ジクロロメタン、クロロホルム、
トルエン、ベンゼン、テトラヒドロフラン、ジエチルエ
ーテル、N,N−ジメチルホルムアミド、アセトン、ア
セトニトリル、ジメチルスルホキシドなどを溶媒として
用いてもよい。好ましくはトルエンである。
【0037】上記反応は、例えば上記溶媒中、−50℃
〜150℃の穏和な条件から選択でき、反応時間5分〜
24時間程度攪拌することにより行うことができる。
〜150℃の穏和な条件から選択でき、反応時間5分〜
24時間程度攪拌することにより行うことができる。
【0038】上記反応の後処理としては、0℃から25
℃で、例えば、炭酸水素ナトリウム水溶液や水酸化ナト
リウム水溶液を添加することにより、pHを7〜14、
好ましくはpH7〜9に調整した後、必要に応じて、酢
酸エチル、トルエン、ベンゼン、ジエチルエーテル、ジ
クロロメタンなどを抽出溶媒として添加し、抽出、洗
浄、濃縮などの操作によって行うことができる。目的物
はカラムクロマトグラフィーや蒸留などによる分離、精
製を行ってもよいし、そのまま次の工程に用いることが
できる。
℃で、例えば、炭酸水素ナトリウム水溶液や水酸化ナト
リウム水溶液を添加することにより、pHを7〜14、
好ましくはpH7〜9に調整した後、必要に応じて、酢
酸エチル、トルエン、ベンゼン、ジエチルエーテル、ジ
クロロメタンなどを抽出溶媒として添加し、抽出、洗
浄、濃縮などの操作によって行うことができる。目的物
はカラムクロマトグラフィーや蒸留などによる分離、精
製を行ってもよいし、そのまま次の工程に用いることが
できる。
【0039】次に、上記式(3)で表される光学活性3
−ハロ−2−メチルプロパノール誘導体を上記式(4)
で表されるシアン化金属化合物を用いて、シアノ化し上
記式(5)で表される光学活性3−シアノ−2−メチル
プロパノール誘導体を製造する工程に関して説明する。
−ハロ−2−メチルプロパノール誘導体を上記式(4)
で表されるシアン化金属化合物を用いて、シアノ化し上
記式(5)で表される光学活性3−シアノ−2−メチル
プロパノール誘導体を製造する工程に関して説明する。
【0040】上記式(4)で表されるシアン化金属化合
物の使用量としては、金属や溶媒の種類、反応条件によ
って異なるが、上記式(3)で表される化合物に対し
て、1〜100当量、好ましくは1〜10当量、さらに
好ましくは1〜2当量である。
物の使用量としては、金属や溶媒の種類、反応条件によ
って異なるが、上記式(3)で表される化合物に対し
て、1〜100当量、好ましくは1〜10当量、さらに
好ましくは1〜2当量である。
【0041】反応溶媒としては、例えばジクロロメタ
ン、クロロホルム、トルエン、ベンゼン、テトラヒドロ
フラン、ジエチルエーテル、N,N−ジメチルホルムア
ミド、ホルムアミド、アセトン、アセトニトリル、ジメ
チルスルホキシド、N−メチルピロリドン、1,3−ジ
メチルイミダゾリジノン、ブタノール、イソプロパノー
ル、エタノール、メタノール、水などが挙げられる。ま
た、上記溶媒を単独で用いても良いし、混合して使用し
てもよい。さらに4級アンモニウム塩などの相間移動触
媒を添加し反応を行っても良い。好ましくは、シアン化
金属化合物と上記式(3)で表される化合物を両方とも
溶解させる能力をもつ、ジメチルスルホキシド、N,N
−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドンなどの
極性有機溶媒であり、さらに好ましくはジメチルスルホ
キシドである。
ン、クロロホルム、トルエン、ベンゼン、テトラヒドロ
フラン、ジエチルエーテル、N,N−ジメチルホルムア
ミド、ホルムアミド、アセトン、アセトニトリル、ジメ
チルスルホキシド、N−メチルピロリドン、1,3−ジ
メチルイミダゾリジノン、ブタノール、イソプロパノー
ル、エタノール、メタノール、水などが挙げられる。ま
た、上記溶媒を単独で用いても良いし、混合して使用し
てもよい。さらに4級アンモニウム塩などの相間移動触
媒を添加し反応を行っても良い。好ましくは、シアン化
金属化合物と上記式(3)で表される化合物を両方とも
溶解させる能力をもつ、ジメチルスルホキシド、N,N
−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドンなどの
極性有機溶媒であり、さらに好ましくはジメチルスルホ
キシドである。
【0042】上記反応は、例えば上記溶媒中、−50℃
〜150℃の穏和な条件から選択でき、好ましくは50
℃〜90℃である。また、反応時間30分〜24時間程
度処理することにより行うことができる。
〜150℃の穏和な条件から選択でき、好ましくは50
℃〜90℃である。また、反応時間30分〜24時間程
度処理することにより行うことができる。
【0043】生成した光学活性3−シアノ−2−メチル
プロパノール誘導体(5)は、0℃から25℃で、例え
ば、水又は希塩酸、塩化アンモニウム等の酸性水溶液を
加えるか、炭酸水素ナトリウム水溶液、水酸化ナトリウ
ム水溶液などの塩基性水溶液を添加し、酢酸エチル、ト
ルエン、ベンゼン、ジエチルエーテル、ジクロロメタン
などを抽出溶媒として抽出を行い、その後、洗浄、濃縮
などの操作によって取得することができる。抽出溶媒と
しては、分離性、抽出効率の点からトルエンを用いるこ
とが好ましい。化合物(5)はカラムクロマトグラフィ
ーや蒸留などによりさらに分離、精製することができ
る。
プロパノール誘導体(5)は、0℃から25℃で、例え
ば、水又は希塩酸、塩化アンモニウム等の酸性水溶液を
加えるか、炭酸水素ナトリウム水溶液、水酸化ナトリウ
ム水溶液などの塩基性水溶液を添加し、酢酸エチル、ト
ルエン、ベンゼン、ジエチルエーテル、ジクロロメタン
などを抽出溶媒として抽出を行い、その後、洗浄、濃縮
などの操作によって取得することができる。抽出溶媒と
しては、分離性、抽出効率の点からトルエンを用いるこ
とが好ましい。化合物(5)はカラムクロマトグラフィ
ーや蒸留などによりさらに分離、精製することができ
る。
【0044】
【実施例】以下、本発明を実施例により具体的に説明す
るが、本発明はこれら実施例により何ら限定されるもの
ではない。
るが、本発明はこれら実施例により何ら限定されるもの
ではない。
【0045】(実施例1)(S)−3−クロロー2−メ
チルプロパノールの製造 (R)−3−クロロ−2−メチルプロピオン酸エチルエ
ステル(4.50g、29.9mmol)のTHF(3
0mL)溶液に、室温でNaBH4(1.13g、2
9.9mmol)とBF3ジエチルエーテル錯体(5.
10g、36.0mmol)を順次加えた。そのままの
温度で4.5時間攪拌した後、溶媒を減圧留去した。残
査を水中(20mL)に注ぎ、酢酸エチル(20mL)
で2回抽出した。得られた有機相を混合し、飽和食塩水
(20mL)にて洗浄、濃縮後(S)−3−クロロー2
−メチルプロパノール(3.48g)を得た。また、ガ
スクロマトグラフィー分析(カラムCP−chiras
il−DexCP、25m、カラム温度70℃;保持時
間(S)体 20.8分、(R)体 22.4分)によ
り光学純度は99.7%eeであった。1H−NMR
(400MHz、CDCl3)δ 1.03(d、J=
6.8Hz、3H)、1.65(br、1H)、2.0
1−2.12(m、1H)、3.60(d、J=5.4
Hz、2H)、3.62−3.65(m、2H)。
チルプロパノールの製造 (R)−3−クロロ−2−メチルプロピオン酸エチルエ
ステル(4.50g、29.9mmol)のTHF(3
0mL)溶液に、室温でNaBH4(1.13g、2
9.9mmol)とBF3ジエチルエーテル錯体(5.
10g、36.0mmol)を順次加えた。そのままの
温度で4.5時間攪拌した後、溶媒を減圧留去した。残
査を水中(20mL)に注ぎ、酢酸エチル(20mL)
で2回抽出した。得られた有機相を混合し、飽和食塩水
(20mL)にて洗浄、濃縮後(S)−3−クロロー2
−メチルプロパノール(3.48g)を得た。また、ガ
スクロマトグラフィー分析(カラムCP−chiras
il−DexCP、25m、カラム温度70℃;保持時
間(S)体 20.8分、(R)体 22.4分)によ
り光学純度は99.7%eeであった。1H−NMR
(400MHz、CDCl3)δ 1.03(d、J=
6.8Hz、3H)、1.65(br、1H)、2.0
1−2.12(m、1H)、3.60(d、J=5.4
Hz、2H)、3.62−3.65(m、2H)。
【0046】(実施例2)(S)−3−(2−テトラヒ
ドロピラノキシ)−2−メチルクロロプロパンの製造 実施例1で得た(S)−3−クロロー2−メチルプロパ
ノール(1.74g)と3、4−ジヒドロ−2H−ピラ
ン(1.52g、18.1mmol)を混合した溶液
に、室温でp−トルエンスルホン酸1水和物(62.0
mg、0.33mmol)を加えた。30℃で2時間攪
拌した後、放冷し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液(1
0mL)を加え反応を停止させ、酢酸エチル(10m
L)で2回抽出した。得られた有機相を混合し、飽和食
塩水(5mL)にて洗浄、濃縮した。残査をカラムクロ
マトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=20/1)に
て精製し(S)−3−(2−テトラヒドロピラノキシ)
−2−メチルクロロプロパン(2.49g、実施例1か
らの収率86.1%)を得た。1 H−NMR(400MHz、CDCl3)δ 1.04
(d、J=6.8Hz、3Hx1/2)、1.05
(d、J=6.4Hz、3Hx1/2)、1.51−
1.83(m、6H)、2.14−2.18(m、1
H)、3.30−3.86(m、4H)、4.57−
4.61(m、1H)。
ドロピラノキシ)−2−メチルクロロプロパンの製造 実施例1で得た(S)−3−クロロー2−メチルプロパ
ノール(1.74g)と3、4−ジヒドロ−2H−ピラ
ン(1.52g、18.1mmol)を混合した溶液
に、室温でp−トルエンスルホン酸1水和物(62.0
mg、0.33mmol)を加えた。30℃で2時間攪
拌した後、放冷し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液(1
0mL)を加え反応を停止させ、酢酸エチル(10m
L)で2回抽出した。得られた有機相を混合し、飽和食
塩水(5mL)にて洗浄、濃縮した。残査をカラムクロ
マトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=20/1)に
て精製し(S)−3−(2−テトラヒドロピラノキシ)
−2−メチルクロロプロパン(2.49g、実施例1か
らの収率86.1%)を得た。1 H−NMR(400MHz、CDCl3)δ 1.04
(d、J=6.8Hz、3Hx1/2)、1.05
(d、J=6.4Hz、3Hx1/2)、1.51−
1.83(m、6H)、2.14−2.18(m、1
H)、3.30−3.86(m、4H)、4.57−
4.61(m、1H)。
【0047】(実施例3)(R)−4−(2−テトラヒ
ドロピラノキシ)−3−メチルブチロニトリルの製造 (S)−3−(2−テトラヒドロピラノキシ)−2−メ
チルクロロプロパン(395.7mg、2.05mmo
l)のジメチルスルホキシド(5.0g)溶液に、室温
でシアン化ナトリウム(130.2mg、2.66mm
ol)を加えた。70℃で15時間攪拌した後、放冷
し、水(20mL)及びジエチルエーテル(20mL)
を加え、分相した。水層をジエチルエーテル(10m
L)にて再度抽出し、有機相を合わせて、水(10m
L)で2回洗浄した。硫酸ナトリウムで乾燥、濾過後、
濾液を濃縮し(R)−4−(2−テトラヒドロピラノキ
シ)−3−メチルブチロニトリル(321.8mg、収
率85.7%)を得た。1 H−NMR(400MHz、CDCl3)δ 1.09
(d、J=6.8Hz、3Hx1/2)、1.10
(d、J=6.8Hz、3H×1/2)、2.13−
2.21(m、1H)、2.32−2.56(m、2
H)、3.18−3.86(m、4H)、4.56−
4.61(m、1H)。
ドロピラノキシ)−3−メチルブチロニトリルの製造 (S)−3−(2−テトラヒドロピラノキシ)−2−メ
チルクロロプロパン(395.7mg、2.05mmo
l)のジメチルスルホキシド(5.0g)溶液に、室温
でシアン化ナトリウム(130.2mg、2.66mm
ol)を加えた。70℃で15時間攪拌した後、放冷
し、水(20mL)及びジエチルエーテル(20mL)
を加え、分相した。水層をジエチルエーテル(10m
L)にて再度抽出し、有機相を合わせて、水(10m
L)で2回洗浄した。硫酸ナトリウムで乾燥、濾過後、
濾液を濃縮し(R)−4−(2−テトラヒドロピラノキ
シ)−3−メチルブチロニトリル(321.8mg、収
率85.7%)を得た。1 H−NMR(400MHz、CDCl3)δ 1.09
(d、J=6.8Hz、3Hx1/2)、1.10
(d、J=6.8Hz、3H×1/2)、2.13−
2.21(m、1H)、2.32−2.56(m、2
H)、3.18−3.86(m、4H)、4.56−
4.61(m、1H)。
【0048】(実施例4)(R)−3−クロロ−2−メ
チルプロピオン酸メチルエステルの製造 塩化チオニル(50.8g、490mmol)とイミダ
ゾール(180mg、2.6mmol)を室温で混合
し、均一な溶液としたのち、(R)−3−ヒドロキシ−
2−メチルプロピオン酸(17.7g、168mmo
l)を25℃で20分かけて滴下した。70℃で5時間
攪拌した後、放冷し、過剰の塩化チオニルを減圧留去し
た。残さにメタノール(40mL)を加え、12時間反
応させた後、反応溶液を減圧蒸留(25mmHg、63
〜65℃)し(R)−3−クロロ−2−メチルプロピオ
ン酸メチルエステルを得た(12.99g、収率55.
2%)。1 H−NMR(400MHz、CDCl3)δ 1.29
(d、J=6.8Hz、3H)、2.80−2.90
(m、1H)、3.61(dd、J=10.8、5.9
Hz、1H)、3.733(s、3H)、3.736
(dd、J=10.8、6.8Hz、1H)。
チルプロピオン酸メチルエステルの製造 塩化チオニル(50.8g、490mmol)とイミダ
ゾール(180mg、2.6mmol)を室温で混合
し、均一な溶液としたのち、(R)−3−ヒドロキシ−
2−メチルプロピオン酸(17.7g、168mmo
l)を25℃で20分かけて滴下した。70℃で5時間
攪拌した後、放冷し、過剰の塩化チオニルを減圧留去し
た。残さにメタノール(40mL)を加え、12時間反
応させた後、反応溶液を減圧蒸留(25mmHg、63
〜65℃)し(R)−3−クロロ−2−メチルプロピオ
ン酸メチルエステルを得た(12.99g、収率55.
2%)。1 H−NMR(400MHz、CDCl3)δ 1.29
(d、J=6.8Hz、3H)、2.80−2.90
(m、1H)、3.61(dd、J=10.8、5.9
Hz、1H)、3.733(s、3H)、3.736
(dd、J=10.8、6.8Hz、1H)。
【0049】(実施例5)(S)−3−クロロー2−メ
チルプロパノールの製造 (R)−3−クロロ−2−メチルプロピオン酸メチルエ
ステル(12.0g、87.9mmol)のTHF(7
2.0g)溶液に、室温でNaBH4(3.32g、8
7.9mmol)を加えた。この懸濁液に、内温45℃
以下を保つように20分かけてBF3ジエチルエーテル
錯体(15.0g、105.4mmol)を滴下した。
25℃で3.2時間攪拌した後、氷冷し水(120g)
を加えて反応を停止させた。トルエン(72g)で抽出
し、有機相を濃縮した。この濃縮液をガスクロマトグラ
フィー(カラムPEG−20M、3m、カラム温度13
0℃)にて分析したところ(S)−3−クロロー2−メ
チルプロパノールが8.16g(収率85.5%)含ま
れていた。また、ガスクロマトグラフィー分析により光
学純度は99.9%eeであった。生成物は精製せずこ
のまま次の反応に用いた。
チルプロパノールの製造 (R)−3−クロロ−2−メチルプロピオン酸メチルエ
ステル(12.0g、87.9mmol)のTHF(7
2.0g)溶液に、室温でNaBH4(3.32g、8
7.9mmol)を加えた。この懸濁液に、内温45℃
以下を保つように20分かけてBF3ジエチルエーテル
錯体(15.0g、105.4mmol)を滴下した。
25℃で3.2時間攪拌した後、氷冷し水(120g)
を加えて反応を停止させた。トルエン(72g)で抽出
し、有機相を濃縮した。この濃縮液をガスクロマトグラ
フィー(カラムPEG−20M、3m、カラム温度13
0℃)にて分析したところ(S)−3−クロロー2−メ
チルプロパノールが8.16g(収率85.5%)含ま
れていた。また、ガスクロマトグラフィー分析により光
学純度は99.9%eeであった。生成物は精製せずこ
のまま次の反応に用いた。
【0050】(実施例6)(S)−3−(2−テトラヒ
ドロピラノキシ)−2−メチルクロロプロパンの製造 実施例4で得られた(S)−3−クロロー2−メチルプ
ロパノール(7.0g、64.5mmol)が含まれる
濃縮液(36.4g)に、p−トルエンスルホン酸1水
和物(123mg、0.65mmol)を加えた。この
溶液に、内温45℃以下を保つように10分かけて3、
4−ジヒドロ−2H−ピラン(6.82g、77.4m
mol)を滴下した。25℃で12時間攪拌した後、1
wt%水酸化ナトリウム水溶液(17.5g)を加え、
静置後分相した。得られた有機相を濃縮し、この濃縮液
をガスクロマトグラフィー(PEG−20M、3m、カ
ラム温度130℃)にて分析したところ(S)−3−
(2−テトラヒドロピラノキシ)−2−メチルクロロプ
ロパンが10.3g(収率83.1%)含まれていた。
生成物は精製せずこのまま次の反応に用いた。
ドロピラノキシ)−2−メチルクロロプロパンの製造 実施例4で得られた(S)−3−クロロー2−メチルプ
ロパノール(7.0g、64.5mmol)が含まれる
濃縮液(36.4g)に、p−トルエンスルホン酸1水
和物(123mg、0.65mmol)を加えた。この
溶液に、内温45℃以下を保つように10分かけて3、
4−ジヒドロ−2H−ピラン(6.82g、77.4m
mol)を滴下した。25℃で12時間攪拌した後、1
wt%水酸化ナトリウム水溶液(17.5g)を加え、
静置後分相した。得られた有機相を濃縮し、この濃縮液
をガスクロマトグラフィー(PEG−20M、3m、カ
ラム温度130℃)にて分析したところ(S)−3−
(2−テトラヒドロピラノキシ)−2−メチルクロロプ
ロパンが10.3g(収率83.1%)含まれていた。
生成物は精製せずこのまま次の反応に用いた。
【0051】(実施例7)(R)−4−(2−テトラヒ
ドロピラノキシ)−3−メチルブチロニトリルの製造 実施例5で得られた(S)−3−(2−テトラヒドロピ
ラノキシ)−2−メチルクロロプロパン(5.00g、
26.0mmol)が含まれる濃縮液(8.84g)溶
液に、ジメチルスルホキシド(20.0g)とシアン化
ナトリウム(1.71g、34.8mmol)を加え
た。80℃で32時間攪拌した後、放冷し、水(20
g)及びトルエン(20g)を加え、分相した。有機相
を食塩水で洗浄した後、濃縮した。この濃縮液をガスク
ロマトグラフィー(PEG−20M、3m、カラム温度
180℃)にて分析したところ(R)−4−(2−テト
ラヒドロピラノキシ)−3−メチルブチロニトリルが
4.41g(収率92.7%)含まれていた。
ドロピラノキシ)−3−メチルブチロニトリルの製造 実施例5で得られた(S)−3−(2−テトラヒドロピ
ラノキシ)−2−メチルクロロプロパン(5.00g、
26.0mmol)が含まれる濃縮液(8.84g)溶
液に、ジメチルスルホキシド(20.0g)とシアン化
ナトリウム(1.71g、34.8mmol)を加え
た。80℃で32時間攪拌した後、放冷し、水(20
g)及びトルエン(20g)を加え、分相した。有機相
を食塩水で洗浄した後、濃縮した。この濃縮液をガスク
ロマトグラフィー(PEG−20M、3m、カラム温度
180℃)にて分析したところ(R)−4−(2−テト
ラヒドロピラノキシ)−3−メチルブチロニトリルが
4.41g(収率92.7%)含まれていた。
【0052】(実施例8)(S)−3−クロロ−2−メ
チルプロピオン酸メチルエステルの製造 (S)−3−ヒドロキシ−2−メチルプロピオン酸メチ
ルエステル(5.00g、42.3mmol)にピリジ
ン(3.68g、46.5mmol)を加え、氷冷し、
塩化チオニル(3.70mL、50.8mmol)を2
0分かけて滴下した。60℃で4.3時間攪拌した後、
放冷し、1N塩酸(20mL)及び酢酸エチル(20m
L)を加え、分相した。水層を酢酸エチル(20mL)
で再度抽出し、有機相を合わせて1N塩酸で2回洗浄し
た後、飽和NaHCO3水溶液で洗浄した。Na2SO4
により乾燥後、濾過濃縮することで(S)−3−クロロ
−2−メチルプロピオン酸メチルエステルを得た(5.
16g、収率89.3%)。
チルプロピオン酸メチルエステルの製造 (S)−3−ヒドロキシ−2−メチルプロピオン酸メチ
ルエステル(5.00g、42.3mmol)にピリジ
ン(3.68g、46.5mmol)を加え、氷冷し、
塩化チオニル(3.70mL、50.8mmol)を2
0分かけて滴下した。60℃で4.3時間攪拌した後、
放冷し、1N塩酸(20mL)及び酢酸エチル(20m
L)を加え、分相した。水層を酢酸エチル(20mL)
で再度抽出し、有機相を合わせて1N塩酸で2回洗浄し
た後、飽和NaHCO3水溶液で洗浄した。Na2SO4
により乾燥後、濾過濃縮することで(S)−3−クロロ
−2−メチルプロピオン酸メチルエステルを得た(5.
16g、収率89.3%)。
【0053】(実施例9)(R)−3−クロロー2−メ
チルプロパノールの製造 (S)−3−クロロ−2−メチルプロピオン酸メチルエ
ステル(5.0g、36.6mmol)のTHF(3
0.0g)溶液に、室温でNaBH4(1.39g、3
6.6mmol)を加えた。この懸濁液に、内温45℃
以下を保つように20分かけてBF3ジエチルエーテル
錯体(6.24g、43.9mmol)を滴下した。2
5℃で2時間攪拌した後、氷冷し水(50g)を加えて
反応を停止させた。トルエン(30g)で抽出し、有機
相を濃縮した。この濃縮液をガスクロマトグラフィーに
て分析したところ(R)−3−クロロー2−メチルプロ
パノールが3.82g(収率96.1%)含まれてい
た。また、ガスクロマトグラフィー分析により光学純度
は99.9%ee以上であった。生成物は精製せずこの
まま次の反応に用いた。
チルプロパノールの製造 (S)−3−クロロ−2−メチルプロピオン酸メチルエ
ステル(5.0g、36.6mmol)のTHF(3
0.0g)溶液に、室温でNaBH4(1.39g、3
6.6mmol)を加えた。この懸濁液に、内温45℃
以下を保つように20分かけてBF3ジエチルエーテル
錯体(6.24g、43.9mmol)を滴下した。2
5℃で2時間攪拌した後、氷冷し水(50g)を加えて
反応を停止させた。トルエン(30g)で抽出し、有機
相を濃縮した。この濃縮液をガスクロマトグラフィーに
て分析したところ(R)−3−クロロー2−メチルプロ
パノールが3.82g(収率96.1%)含まれてい
た。また、ガスクロマトグラフィー分析により光学純度
は99.9%ee以上であった。生成物は精製せずこの
まま次の反応に用いた。
【0054】(実施例10)(R)−3−(2−テトラ
ヒドロピラノキシ)−2−メチルクロロプロパンの製造 実施例7で得られた(R)−3−クロロー2−メチルプ
ロパノール(2.57g、23.7mmol)が含まれ
る濃縮液(15.0g)に、3、4−ジヒドロ−2H−
ピラン(2.19g、26.0mmol)とパラトルエ
ンスルホン酸1水和物(46mg、0.24mmol)
を加えた。25℃で19時間攪拌した後、飽和炭酸水素
ナトリウム水溶液(10mL)を加え、静置後分相し
た。得られた有機相を再度飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液で洗浄後、濃縮し、この濃縮液をガスクロマトグラフ
ィー(PEG−20M、3m、カラム温度130℃)に
て分析したところ(R)−3−(2−テトラヒドロピラ
ノキシ)−2−メチルクロロプロパンが3.40g(収
率74.5%)含まれていた。生成物は精製せずこのま
ま次の反応に用いた。
ヒドロピラノキシ)−2−メチルクロロプロパンの製造 実施例7で得られた(R)−3−クロロー2−メチルプ
ロパノール(2.57g、23.7mmol)が含まれ
る濃縮液(15.0g)に、3、4−ジヒドロ−2H−
ピラン(2.19g、26.0mmol)とパラトルエ
ンスルホン酸1水和物(46mg、0.24mmol)
を加えた。25℃で19時間攪拌した後、飽和炭酸水素
ナトリウム水溶液(10mL)を加え、静置後分相し
た。得られた有機相を再度飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液で洗浄後、濃縮し、この濃縮液をガスクロマトグラフ
ィー(PEG−20M、3m、カラム温度130℃)に
て分析したところ(R)−3−(2−テトラヒドロピラ
ノキシ)−2−メチルクロロプロパンが3.40g(収
率74.5%)含まれていた。生成物は精製せずこのま
ま次の反応に用いた。
【0055】(実施例11)(S)−4−(2−テトラ
ヒドロピラノキシ)−3−メチルブチロニトリルの製造 実施例8で得られた(R)−3−(2−テトラヒドロピ
ラノキシ)−2−メチルクロロプロパン(2.00g、
10.4mmol)が含まれる濃縮液(3.10g)溶
液に、ジメチルスルホキシド(8.0g)とシアン化ナ
トリウム(715mg、14.5mmol)を加えた。
75℃で15時間攪拌した後、放冷し、水(8g)及び
トルエン(8g)を加え、分相した。有機相を10wt
%食塩水(8.0g)で洗浄した後、濃縮した。この濃
縮液をガスクロマトグラフィー(PEG−20M、3
m、カラム温度180℃)にて分析したところ(S)−
4−(2−テトラヒドロピラノキシ)−3−メチルブチ
ロニトリルが2.43g(収率93.3%)含まれてい
た。
ヒドロピラノキシ)−3−メチルブチロニトリルの製造 実施例8で得られた(R)−3−(2−テトラヒドロピ
ラノキシ)−2−メチルクロロプロパン(2.00g、
10.4mmol)が含まれる濃縮液(3.10g)溶
液に、ジメチルスルホキシド(8.0g)とシアン化ナ
トリウム(715mg、14.5mmol)を加えた。
75℃で15時間攪拌した後、放冷し、水(8g)及び
トルエン(8g)を加え、分相した。有機相を10wt
%食塩水(8.0g)で洗浄した後、濃縮した。この濃
縮液をガスクロマトグラフィー(PEG−20M、3
m、カラム温度180℃)にて分析したところ(S)−
4−(2−テトラヒドロピラノキシ)−3−メチルブチ
ロニトリルが2.43g(収率93.3%)含まれてい
た。
【0056】
【発明の効果】本発明は、上述の構成からなるので、入
手容易で安価な光学活性3−ヒドロキシ−2−メチルプ
ロパン酸誘導体から、医薬品中間体として有用な光学活
性3−シアノ−2−メチルプロパノール誘導体を工業的
に有利に製造することができる。また、出発原料の光学
純度を損なうことなく両光学異性体を製造することがで
きる。
手容易で安価な光学活性3−ヒドロキシ−2−メチルプ
ロパン酸誘導体から、医薬品中間体として有用な光学活
性3−シアノ−2−メチルプロパノール誘導体を工業的
に有利に製造することができる。また、出発原料の光学
純度を損なうことなく両光学異性体を製造することがで
きる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 井上 健二 兵庫県高砂市高砂町宮前町1−8 Fターム(参考) 4H006 AA02 AC30 AC41 AC54 AC81 BD70 BE51 BE90 QN14
Claims (16)
- 【請求項1】 下記式(1); 【化1】 (式中、R1は水素原子、または炭素数1〜10の置換
若しくは無置換のアルキル基、又は炭素数7〜20の置
換若しくは無置換のアラルキル基、又は炭素数6〜20
の置換若しくは無置換のアリール基を表し、*は不斉炭
素を表す。)で表される光学活性3−ヒドロキシ−2−
メチルプロパン酸誘導体またはその塩をハロゲン化剤で
処理し、ついで還元することにより下記式(2); 【化2】 (式中、X1はハロゲン原子を表し、*は前記に同
じ。)で表される光学活性3−ハロ−2−メチルプロパ
ノールを製造し、必要に応じ水酸基を保護することによ
って下記式(3); 【化3】 (式中、X1、*は前記に同じ、Pは水素原子、又は水
酸基の保護基を表す。)で表される光学活性3−ハロ−
2−メチルプロパノール誘導体を製造し、これを下記式
(4); M−CN (4) (式中、Mは金属原子を表す。)で表されるシアン化金
属化合物と反応させることを特徴とする下記式(5); 【化4】 (式中P、*は前記に同じ。)で表される光学活性3−
シアノ−2−メチルプロパノール誘導体の製造法。 - 【請求項2】 X1が塩素原子である請求項1記載の製
造法。 - 【請求項3】 ハロゲン化剤が塩化チオニルである請求
項1又は2記載の製造法。 - 【請求項4】 水酸基の保護基Pが2−テトラヒドロピ
ラニル基である請求項1〜3のいずれかに記載の製造
法。 - 【請求項5】 式(4)で表されるシアン化金属化合物
においてMがアルカリ金属である請求項1〜4のいずれ
かに記載の製造法。 - 【請求項6】 式(4)で表されるシアン化金属化合物
においてMがナトリウムである請求項1〜4のいずれか
に記載の製造法。 - 【請求項7】 下記式(6); 【化5】 (式中、X1はハロゲン原子を表し、 R2は水素原子、
炭素数1〜10の置換若しくは無置換のアルキル基、又
は炭素数7〜20の置換若しくは無置換のアラルキル
基、又は炭素数6〜20の置換若しくは無置換のアリー
ル基を表し、*は不斉炭素を表す。)で表される光学活
性3−ハロ−2−メチルプロパン酸誘導体またはその塩
を還元することにより、下記式(2); 【化6】 (式中、X1、*は前記に同じ。)で表される光学活性
3−ハロ−2−メチルプロパノールを製造し、必要に応
じ、水酸基を保護することによって下記式(3); 【化7】 (式中、X1、*は前記に同じ、Pは水素原子、又は水
酸基の保護基を表す。)で表される光学活性3−ハロ−
2−メチルプロパノール誘導体を製造し、これを下記式
(4); M−CN (4) (式中、Mは金属原子を表す。)で表されるシアン化金
属化合物を反応させることを特徴とする下記式(5); 【化8】 (式中、P、*は前記に同じ。)で表される光学活性3
−シアノ−2−メチルプロパノール誘導体の製造法。 - 【請求項8】 X1が塩素原子である請求項7記載の製
造法。 - 【請求項9】 水酸基の保護基Pが2−テトラヒドロピ
ラニル基である請求項7又は8に記載の製造法。 - 【請求項10】 式(4)で表されるシアン化金属化合
物においてMがアルカリ金属である請求項7〜9のいず
れかに記載の製造法。 - 【請求項11】 式(4)で表されるシアン化金属化合
物においてMがナトリウムである請求項7〜9のいずれ
かに記載の製造法。 - 【請求項12】 下記式(3); 【化9】 (式中、X1はハロゲン原子を表し、Pは水素原子、又
は水酸基の保護基を表し、*は不斉炭素を表す。)で表
される光学活性3−ハロ−2−メチルプロパノール誘導
体に、下記式(4); M−CN (4) (式中、Mは金属原子を表す。)で表されるシアン化金
属化合物を反応させることを特徴とする下記式(5); 【化10】 (式中、P、*は前記に同じ。)で表される光学活性3
−シアノ−2−メチルプロパノール誘導体の製造法。 - 【請求項13】 X1が塩素原子である請求項12記載
の製造法。 - 【請求項14】 水酸基の保護基Pが2−テトラヒドロ
ピラニル基である請求項12又は13記載の製造法。 - 【請求項15】 式(4)で表されるシアン化金属化合
物においてMがアルカリ金属である請求項12〜14の
いずれかに記載の製造法。 - 【請求項16】 式(4)で表されるシアン化金属化合
物においてMがナトリウムである請求項12〜14のい
ずれかに記載の製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001117397A JP2002316972A (ja) | 2001-04-16 | 2001-04-16 | 光学活性3−シアノ−2−メチルプロパノール誘導体の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001117397A JP2002316972A (ja) | 2001-04-16 | 2001-04-16 | 光学活性3−シアノ−2−メチルプロパノール誘導体の製造法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002316972A true JP2002316972A (ja) | 2002-10-31 |
Family
ID=18967959
Family Applications (1)
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---|---|---|---|
JP2001117397A Pending JP2002316972A (ja) | 2001-04-16 | 2001-04-16 | 光学活性3−シアノ−2−メチルプロパノール誘導体の製造法 |
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Country | Link |
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JP (1) | JP2002316972A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007153803A (ja) * | 2005-12-05 | 2007-06-21 | Idemitsu Kosan Co Ltd | 置換アダマンチルエタノールの製造方法 |
JP2007297301A (ja) * | 2006-04-28 | 2007-11-15 | Daiso Co Ltd | 3,4−ジヒドロキシ−3−メチルブチロニトリルの製造法 |
-
2001
- 2001-04-16 JP JP2001117397A patent/JP2002316972A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007153803A (ja) * | 2005-12-05 | 2007-06-21 | Idemitsu Kosan Co Ltd | 置換アダマンチルエタノールの製造方法 |
JP2007297301A (ja) * | 2006-04-28 | 2007-11-15 | Daiso Co Ltd | 3,4−ジヒドロキシ−3−メチルブチロニトリルの製造法 |
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