JP2002309256A

JP2002309256A - 液晶組成物、カラーフィルターおよび液晶表示装置

Info

Publication number: JP2002309256A
Application number: JP2001115902A
Authority: JP
Inventors: Yasunari Kawabata; 耕也川畑
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 2001-04-13
Filing date: 2001-04-13
Publication date: 2002-10-23

Abstract

(57)【要約】【課題】カラーフィルターを作製した際に各種欠陥が
生じない液晶組成物、該液晶組成物を用いて作製される
各種欠陥のないカラーフィルター、および該カラーフィ
ルターを組み込んだ液晶表示装置を提供すること。【解決手段】少なくとも、重合性基を少なくとも１つ
有する液晶性化合物、キラル剤および重合開始剤を含む
液晶組成物であって、前記液晶組成物が、孔径１μｍ以
下のメンブレンフィルターにより濾過されている液晶組
成物、該組成物から作製されるカラーフィルター、該カ
ラーフィルターを組み込んだ液晶表示装置。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶組成物、該液
晶組成物から作製されるカラーフィルターおよび該カラ
ーフィルターを組み込んだ液晶表示装置に関するもので
ある。

【０００２】

【従来の技術】カラーフィルターは、携帯情報端末、パ
ーソナルコンピューター、ワードプロセッサー、アミュ
ーズメント機器、テレビジョン装置などの他、種々の電
子機器や電気機器の表示パネルなど、その用途の拡大が
増々進みつつある。これらの機器には、従来より、液晶
を用いた表示装置が組み込まれているが、この表示装置
は、消費電力が小さく薄型であるという長所を持ってい
る。これらの表示装置は、大きくは、バックライト光源
を有する透過型表示装置と、光源を持たないかあるいは
全面に導光板を用いるフロントライト方式の反射型表示
装置とに分かれ、フルカラー表示においては、通常、カ
ラーフィルタが使用される。例えば、カラー液晶ディス
プレー等に用いられるカラーフィルタは、一般に、赤色
（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の各画素と、その間隙
に表示コントラスト向上を目的とするブラックマトリク
スとが形成されて構成される。

【０００３】このようなカラーフィルーターは、従来、
顔料分散法や染色法を利用して製造されるものが主流で
ある。顔料分散法はフォトレジストに顔料を分散させて
基板ガラスに塗布し、パターン露光・現像工程を行なう
方法であり、パターニングエッジ、解像度および膜均一
性などに優れた方法である。しかし、フォトレジスト工
程が必要であること、顔料を用いるため、染料を用いる
場合ほどには簡便に色調整ができないことなどの問題点
を有している。スピンコート法を用いて、基板上にフォ
トレジストを塗布する場合には、加えて、材料ロスが大
きく、また大面積の基板に塗布する場合の塗布ムラが大
きいといった欠点がある。また、染色法は、ゼラチン等
に感光性を付与した透明樹脂パターンを後から染める方
法であり、染料の透明性に基づき光透過率が高いこと
や、染料の種類の豊富さにより色度調整が容易であると
いう特徴を有する反面、フォトレジスト工程などの工程
数が顔料分散法より多いなどの欠点を要する。

【０００４】この他に、カラーフィルターの作製方法と
しては、印刷法、電着法、インクジェット法などが知ら
れている。前記印刷法は、各色を順次１色づつ印刷する
方法であるので各色のパターンの位置合わせが難しく、
画素の解像度が低くまた膜厚も不均一であり、高精細な
画像パターンの形成には対応が難しいという欠点がある
が、一方材料の利用率が高い。また、電着法によると、
比較的解像度が高く、着色層のムラも少ないカラーフィ
ルタを得ることができる反面、製造工程が煩雑であり液
管理も難しいといった難点を有している。インクジェッ
ト法の場合は、解像度の点や隣接する画素同士の混色の
問題があった。

【０００５】前記カラーフィルターは、いずれも光吸収
型のカラーフィルターであり、原理的に光源からの光の
約１／３しか透過させることができないため、明るさが
十分であるとは言えない。この欠点を補うため、例えば
透過型表示装置の場合においてはバックライトの輝度を
上げる事が考えられるが、消費電力が大きくなり、液晶
表示装置の長所を損なうという問題が発生する。

【０００６】これらの問題に対して、ＵＳ００５６６８
６１４号明細書やＷＯ００／３４８０８号明細書では、
液体現像工程が不要のコレステリック偏光子を用いたカ
ラーフィルターが提案されている。コレステリック偏光
子は特定の波長の円偏光を選択的に反射し、これ以外の
波長の円偏光を透過させる性質を有することから、前記
着色樹脂からならカラーフィルタとは異なり、透過した
光を再利用することにより利用効率を高めることがで
き、実質的に明るいカラーフィルタを形成することがで
きる。そのため、このタイプのカラーフィルターは反射
型液晶ディスプレイに適している。また、現像工程を必
要とせず、同一層内に異なる選択反射波長のパターンを
形成できるのでコスト面でも有利である。

【０００７】また、本出願人は、先に、このようなコレ
ステリック液晶相の選択反射を利用するカラーフィルタ
ーとして、重合性の液晶性化合物を含むインクをインク
ジェット方式で吹き付けてカラーフィルター層を形成す
る方法を出願した（特願平１１−３４３６６６号）。

【０００８】また、本出願人はさらに、重合性の液晶性
化合物に特定の構造を有する光反応型キラル剤を含有す
る層に光照射してカラーフィルターを形成する方法につ
いて出願をした（特願平２０００−１９３１４２号、特
願平２０００−１９３１４３号等）。前記光反応型キラ
ル剤は、キラル部位と光の照射により構造変化を生ずる
部位を有し、たとえば照射光量に応じて液晶の螺旋構造
の捻れ力（ＨＴＰ）を大きく変化させるので、青色
（Ｂ）、緑色（Ｇ）赤色（Ｒ）の３原色を含む広範囲の
波長領域にわたって選択反射をさせることが可能にな
る。

【０００９】前記のごときカラーフィルターの作製にお
いては、まず、重合性の液晶化合物と光反応型キラル剤
を、或いはさらにこれらに重合性モノマー等を加えたも
のを、有機溶媒に溶解させた溶液を、ガラス基板等に塗
布する工程が行われる。ところが、この溶液をそのまま
塗布すると、作製されたカラーフィルターに、種々の微
細な欠陥が生ずることが分かった。これらの欠陥は、突
起、白抜け、白地上の黒点（黒欠陥）、あるいは異物の
付着などであるが、その多くは非常に微細な異物の混入
が原因であり、非常に微細な異物であるといっても、こ
れらの異物が存在すると、カラーフィルターの作製工程
において液晶層を配向させる際、その異物の周辺の広い
領域にわたり、液晶層の配向が妨げられ、前記欠陥を発
生させていることが判明した。カラーフィルターに要求
される品質がますます厳しくなる状況において、このよ
うな欠陥をなくし、高品質のカラーフィルターを作製す
ることが望まれる。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記問題点
に鑑みてなされたものであり、その目的は、カラーフィ
ルターを作製した際に各種欠陥が生じない液晶組成物、
該液晶組成物を用いて作製される各種欠陥のないカラー
フィルター、および該カラーフィルターを組み込んだ液
晶表示装置を提供することにある。

【００１１】

【課題を解決するための手段】前記課題は、以下の液晶
組成物、カラーフィルター、および液晶表示装置を提供
することにより解決される。（１）少なくとも、重合性基を少なくとも１つ有する液
晶性化合物、キラル剤および重合開始剤を含む液晶組成
物であって、前記液晶組成物が、孔径１μｍ以下のフィ
ルターにより濾過されていることを特徴とする液晶組成
物。（２）前記濾過が、液晶組成物を加熱しながら行われる
ことを特徴とする前記（１）に記載の液晶組成物。（３）前記キラル剤が、光反応型キラル剤であることを
特徴とする前記（１）または（２）に記載の液晶組成
物。

【００１２】（４）前記（１）ないし（３）のいずれか
１に記載の液晶組成物を用いて作製される、画素欠陥が
１００個／ｍ²以下のカラーフィルター。（５）前記画素欠陥が、高さ２μｍ以上の突起欠陥であ
ることを特徴とする前記（４）に記載のカラーフィルタ
ー。（６）前記画素欠陥が、３０μｍ角以上の白抜け欠陥で
あることを特徴とする前記（４）に記載のカラーフィル
ター。（７）前記画素欠陥が、３０μｍ角以上の黒欠陥である
ことを特徴とする前記（４）に記載のカラーフィルタ
ー。（８）前記画素欠陥が、３μｍ角以上の異物であること
を特徴とする前記（４）に記載のカラーフィルター。（９）少なくとも１つは光透過性の１対の基板の間に、
カラーフィルター、液晶層、および液晶駆動電極を少な
くとも有する液晶表示装置において、前記カラーフィル
ターが、前記（４）ないし（８）のいずれか１に記載の
カラーフィルターであることを特徴とする液晶表示装
置。

【００１３】

【発明の実施の形態】［液晶組成物］本発明者は、カラ
ーフィルターの突起、白抜け、白地上の黒点（黒欠
陥）、異物等の欠陥が、基板に塗布する液晶組成物に起
因することを突きとめ、液晶組成物をカラーフィルター
基板に塗布する前に、液晶組成物を孔径１ｍ以下のフィ
ルターにより濾過して、極めて微小な不溶部分や微細な
異物を除去することにより、前記のごときカラーフィル
ターの欠陥をなくすことが可能になったものである。こ
のような濾過処理を行った液晶組成物を用いてカラーフ
ィルターを作製することにより、前記のごとき欠陥がな
く、その結果、カラーフィルターの作製工程において液
晶層を配向させる際、液晶の配向が妨げられないので、
色純度や解像度が高い高品質のカラーフィルターが得ら
れる。また、このカラーフィルターを用いる液晶表示装
置は優れた画像表示が可能となる。また、本発明のカラ
ーフィルターは、コレステリック液晶相の選択反射を利
用するので、その作製にフォトリソグラフィー法を用い
る必要がなく、充分なコストダウンも可能である。

【００１４】前記濾過処理は、孔径１ｍ以下のフィルタ
ーを用い、数１０Ｎ／ｃｍ²で加圧しながら実施するの
が好ましいが、濾過圧はフィルターの種類、形状等によ
り適宜選択されるものであり、この限りでない。さら
に、前記の濾過は、濾過すべき液晶組成物を加熱しなが
ら行うことが好ましい。加熱温度は、６０〜１８０℃、
好ましくは、１００〜１６０℃である。加熱を行うこと
により容易に濾過が行えるほか、使用溶剤の量が少なく
てすむという効果が得られる。また、液晶組成物の粘度
は、１００ｃｐ以下であることが濾過の容易性の観点か
ら好ましい。粘度の調節は、溶媒等により行うことがで
きる。なお、本発明における異物の大きさ（〜角）は、
異物の最大長さと最小長さの和の１／２で表す。

【００１５】また、本発明の液晶組成物において、重合
性基を有する低分子液晶化合物としては、重合性基を有
するネマチック液晶性化合物が好ましい。液晶化合物の
重合性基により、十分な硬化性が確保され、層の耐熱性
が向上される。

【００１６】前記重合性基を有する低分子液晶化合物の
具体例としては、下記化合物を挙げることができる。但
し、本発明においては、これらに制限されるものではな
い。

【００１７】

【化１】

【００１８】

【化２】

【００１９】

【化３】

【００２０】前記式中、ｎは、１〜１０００の整数を表
す。前記各例示化合物においては、芳香環の連結基が以
下の構造に変わったものも同様に好適なものとして挙げ
ることができる。

【００２１】

【化４】

【００２２】前記液晶性化合物の含有量としては、液晶
組成物の固形分質量に対して、３０〜９９．９質量％が
好ましく、５０〜９５質量％がより好ましい。前記含有
量が、３０質量％未満であると、配向が不十分となり所
望の選択反射色が得られないことがある。

【００２３】（キラル剤）次にキラル剤について説明す
る。キラル剤は、ネマチック液晶化合物に加えてコレス
テリック液晶相とするためのキラル剤が特に制限なく用
いることができる。中でも、光反応型キラル剤は、照射
光量に応じて螺旋構造の捻れ力を大きく変化させること
ができるので、好ましく用いられる。光反応型キラル剤
は、キラル部位と光の照射により構造変化を生ずる光反
応部位を有し、たとえば照射光量に応じて液晶の螺旋構
造の捻れ力（ＨＴＰ）を大きく変化させる化合物であ
る。光照射による螺旋構造誘起力を大きくするために
は、光照射による構造変化の度合いの大きいものが好ま
しい。さらに光反応型キラル剤としては、溶解度パラメ
ータのＳＰ値が液晶性化合物に近似したものが望まし
い。また、光反応型キラル剤の分子中に、重合性の結合
基を１つ以上導入した構造とすると、液晶相の耐熱性が
向上する。

【００２４】光照射によって構造変化する光反応部位の
例としては、フォトクロミック化合物（内田欣吾、入江
正浩、化学工業、ｖｏｌ．６４、６４０ｐ，１９９９、
内田欣吾、入江正浩、ファインケミカル、ｖｏｌ．２８
（９）、１５ｐ，１９９９）等を挙げることができる。
また、前記構造変化とは、光反応部位への光照射により
生ずる、分解や付加反応、異性化、２量化反応等を意味
し、前記構造変化は不可逆的であってもよい。また、キ
ラル部位としては、例えば、野平博之、化学総説、Ｎ
ｏ．２２液晶の化学、７３ｐ：１９９４に記載の不斉炭
素等が相当する。

【００２５】本発明において用いる光反応型キラル剤と
しては、特願平１１−３４３６６６号の段落［００４
４］ないし［００４７］に記載の光反応型キラル剤、特
願２０００−１９３１４２号の段落［００２１］ないし
［００２９］に記載の光反応型キラル剤の他、特願２０
００−３８０９１９号の段落［００１９］〜［００４
３］に記載の光学活性化合物、特願２０００−３８１０
０１号の段落［００２０］〜［００４４］に記載の光学
活性化合物、特願２０００−３８１００２号の段落［０
０１６］〜［００４０］に記載の光学活性化合物、特願
２０００−３８１００３号の段落［００１５］〜［００
３６］に記載の光学活性化合物、特願２０００−３８１
９６６号の段落［００１７］〜［００５０］に記載の光
学活性化合物、特願２０００−３８１９６７号の段落
［００１８］〜［００４４］に記載の光学活性化合物、
特願２０００−３８２５１５号の段落［００２０］〜
［００４９］に記載の光学活性化合物を光反応型キラル
剤として用いることができる。

【００２６】（溶媒）本発明の液晶組成物には、前記重
合性基を有する液晶化合物、キラル剤を塗布に適した粘
度の溶液とするために、これらの溶媒を加えることが好
ましい。溶媒は、用いる液晶組成物の成分にもよるが、
例えば、２−ブタノン、シクロヘキサノン、塩化メチレ
ン、クロロホルム、Ｎ−メチル−２−ピロリドン等の有
機溶媒が用いられる。

【００２７】本発明の液晶組成物には、前記重合性基を
有する低分子液晶化合物、キラル剤の他に、必要に応じ
て、溶媒、重合性モノマー、重合開始剤や、バインダ樹
脂、界面活性剤、重合禁止剤、増粘剤、色素、顔料、紫
外線吸収剤、ゲル化剤等の他の成分を含ませることがで
きる。本発明の液晶組成物は、特に界面活性剤を併用す
ることが好ましい。例えば、塗布液状の液晶組成物を塗
布し層形成する場合など、層表面の空気界面における配
向状態を立体的に制御でき、特にコレステリック液晶相
の場合には、より色純度の高い選択反射波長を得ること
ができる。（重合性モノマー）本発明の液晶組成物には、重合性モ
ノマーを併用してもよい。該重合性モノマーを併用する
と、光照射による液晶の捻れ力を変化させて選択反射波
長の分布を形成（パターニング）した後、その螺旋構造
（選択反射性）を固定化し、固定化後の液晶組成物の強
度をより向上させることができる。但し、前記液晶化合
物が同一分子内に不飽和結合を有する場合には、必ずし
も添加する必要はない。

【００２８】前記重合性モノマーとしては、例えば、エ
チレン性不飽和結合を持つモノマー等が挙げられ、具体
的には、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジ
ペンタエリスリトールヘキサアクリレート等の多官能モ
ノマーの他、以下に示す化合物を挙げることができる、
但し、本発明においては、これらに限定されるものでは
ない。

【００２９】

【化５】

【００３０】前記重合性モノマーの添加量としては、液
晶組成物の固形分質量に対して、０．５〜５０質量％が
好ましい。前記添加量が、０．５質量％未満であると、
十分な硬化性を得ることができないことがあり、５０質
量％を越えると、液晶分子の配向を阻害し、十分な発色
が得られないことがある。

【００３１】（重合開始剤）光照射による液晶の捻れ力
を変化させた後の螺旋構造を固定化し、固定化後の液晶
組成物の強度をより向上させるために、重合性液晶化合
物による重合反応を利用する場合には、重合開始剤、中
でも、光重合開始剤を添加することが好ましい。また、
光重合開始剤の感光波長領域が、前記光反応型キラル剤
の感光波長領域とは異なることが好ましい。ここで、異
なる感光波長を持つとは、両者の感光中心波長が重なら
ないことを意味する。光反応型キラル剤の感光波長領域
と光重合開始剤の感光波長領域とが異なる場合、ＨＴＰ
を変化させるための光照射と光重合のための光照射が、
互いに影響を及ぼすことがない。したがって、ＨＴＰを
変化させるために画像様に露光する際、光重合が進行し
ないため、設定どおりのＨＴＰ変化率を有するパターニ
ングが可能となる一方、螺旋構造を固定化するために光
重合させる際には、光反応型キラル剤が光に反応せず、
形成されたＨＴＰ変化パターンを確実に固定化すること
ができ、設定どうりの選択反射が達成される。

【００３２】前記光重合開始剤としては、公知のものの
中から適宜選択することができ、例えば、ｐ−メトキシ
フェニル−２，４−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−ト
リアジン、２−（ｐ−ブトキシスチリル）−５−トリク
ロロメチル−１，３，４−オキサジアゾール、９−フェ
ニルアクリジン、９，１０−ジメチルベンズフェナジ
ン、ベンゾフェノン／ミヒラーズケトン、ヘキサアリー
ルビイミダゾール／メルカプトベンズイミダゾール、ベ
ンジルジメチルケタール、チオキサントン／アミン、ト
リアリールスルホニウムヘキサフルオロホスフェート等
が挙げられる。この他に、特開平１０−２９９９７号公
報等に記載のビス−（２，４，６−トリメチルベンゾイ
ル）フェニルホスフィンオキシド等のビスアシルホスフ
ィンオキシド類や、ＬｕｃｉｒｉｎＴＰＯ等のＤＥ４
２３０５５５等に記載のアシルホスフィンオキシド類が
挙げられる。

【００３３】前記光重合開始剤の添加量としては、液晶
組成物の固形分質量に対して、０．１〜２０質量％が好
ましく、０．５〜５質量％がより好ましい。前記添加量
が、０．１質量％未満であると、光照射時の硬化効率が
低いため長時間を要することがあり、２０質量％を越え
ると、紫外線領域から可視光領域での光透過率が劣るこ
とがある。

【００３４】［カラーフィルター］本発明のカラーフィ
ルターは、前記の液晶組成物から作製することができ
る。本発明のカラーフィルターは、カラーフィルター層
が前記液晶組成物のみから構成されたシート形態のもの
であってもよいし、カラーフィルター層が所望の支持体
あるいは基板上に設けられた態様のものであってもよ
く、更に配向膜や保護膜等の他の層が設けられていても
よい。液晶層を二層以上積層することもできる。

【００３５】カラーフィルターを製造する方法として
は、特に制限はなく、少なくとも、カラーフィルター基
板に液晶層を形成する工程、該液晶層の光反応型キラル
剤の感光波長領域にある光を画像様に照射する工程、前
記重合性基を少なくとも１つ有する液晶性化合物を光重
合させる工程とを少なくとも有する。また、本発明のカ
ラーフィルターの製造工程には、前記のごとき工程のほ
か、下記のごとく、液晶層とカラーフィルター基板ある
いは仮支持体との接触面に配向処理を施す工程を含ませ
てもよい。

【００３６】前記液晶層の形成は、カラーフィルター基
板に直接本発明の液晶組成物を塗布する方法や、仮支持
体に一旦形成した液晶層をカラーフィルター基板に密着
させた後仮支持体を剥離する転写法などにより行なわれ
る。

【００３７】本発明で用いるごとき光反応型キラル剤
は、その感光波長領域の光を照射すると、その光量に応
じて光反応（異性化、分解、付加、２量化等）を起こ
し、その結果液晶の螺旋構造のピッチを変化させる。し
たがって、液晶層の所望の領域ごとに光照射強度を変え
て光照射すれば、照射強度に対応して螺旋構造のピッチ
変化が生じ、そのピッチに応じた波長の光の選択反射が
起こるため、複数色を呈する。それぞれ異なる領域に異
なる光量を照射するためには、例えば、画像様に光透過
率を変えて作製された露光用マスクを介して露光する方
法が好ましく用いられる。この方法では一回の光照射に
よって、画像様に光反応の程度が異なる（その結果液晶
相の螺旋ピッチを画像様に異ならせることができる）、
液晶層を形成することができるので好ましい方法であ
る。

【００３８】この後、液晶層に全面に光を照射して光重
合（硬化）させることにより、変化した液晶相の螺旋ピ
ッチを固定化する。この場合、前述したように、光反応
キラル剤に光反応を起こさせる光の波長領域（光反応キ
ラル剤の感光波長領域）と、光重合させる光の波長領域
（重合開始剤を用いる場合、その感光波長領域）が異な
っていることが好ましい。

【００３９】光反応キラル剤に光反応を起こさせる光の
波長としては、光反応型キラル剤の光感応波長域、特に
光感応ピーク波長に近接する波長に設定することが、十
分なパターニング感度が得られる点で好ましい。また、
光重合させる光の波長としては、重合開始剤の光感応波
長域、特に光感応ピーク波長に近接する波長に設定する
ことが、十分な光重合感度が得られる点で好ましい。ま
た、これらの光の照射強度は充分な光感度が得られるよ
うに適宜選択できる。

【００４０】以下に、更に具体的に説明する。〔第１の態様〕第１の態様は、カラーフィルター基板に
液晶層を形成するのに、転写法を用いる方法である。（１）仮支持体上に本発明の液晶組成物の層を設け、液
晶層を少なくとも有する転写材料を形成する工程。液晶層は、本発明の液晶組成物を、バーコーターやスピ
ンコーター等を用いて、仮支持体に塗布することにより
形成される。前記液晶層と仮支持体との間には、被転写
体上に異物等がある場合など、転写時における密着性を
確保する観点から、熱可塑性樹脂（アクリル樹脂、ポリ
エステル、ウレタン樹脂等）よりなるクッション層を設
けることもできる。また、仮支持体あるいはクッション
層の表面には、配向処理（配向膜の形成およびラビング
処理）を施すことが好ましい。さらに、液晶層の上に保
護のためのカバーフィルムを設けることができる。（２）前記転写材料を光透過性の基板上にラミネートす
る工程。前記基板には、受像層を設けてもよい。また、基板ある
いは受像層の上には、前記（１）と同様の配向処理をす
ることが好ましい。（３）光透過性の基板に液晶層を転写するとともに仮支
持体を剥離する工程（転写工程）。該液晶層は、下記（４）を経た後、更に同様に転写材料
を積層して、複数層形成することもできる。（４）液晶層に露光マスクを介して画像様に光照射して
選択反射色を示す画素パターンを形成し、これに更に光
照射して液晶層を硬化させる工程（露光工程）。

【００４１】以下に、図を用いて第１の態様によるカラ
ーフィルターの作製方法を説明する。まず、図１−
（Ａ）で示すように、仮支持体１０の上にクッション層
１２を設け、更にポリビニルアルコール等の配向膜１４
を積層する。次に、図１−（Ｂ）に示すように、配向膜
にラビング処理が施される。このラビング処理は、必ず
しも必要ではないが、ラビング処理した方がより配向性
を向上させることができる。次に、図１−（Ｃ）に示す
ように、前記配向膜１４上に、液晶組成物を塗布、乾燥
し液晶層１６を形成した後、この液晶層１６上にカバー
フィルム１８を設けて、転写材料２０を作製する。

【００４２】一方、図１−（Ｄ）に示すように、別の基
板２２に図１−（Ｂ）と同様にして配向膜２４を形成
し、その表面にラビング処理を施す。以下、これをカラ
ーフィルタ用基板２６と称する。次いで、転写シート材
料２０のカバーフィルム１８を剥がした後、図２−
（Ｅ）に示すように、該転写シート２０の液晶層１６の
表面と、カラーフィルタ用基板２６の配向膜２４の表面
とが接触するように重ね合わせ、図中の矢印方向に回転
するロールを通してラミネートされる。その後、図２−
（Ｆ）に示すように、転写材料２０の配向膜１４とクッ
ション層１２との間で剥離され、カラーフィルタ用基板
２６の上に、液晶層１６が配向膜１４と共に転写され
る。この場合、クッション層１２は、必ずしも仮支持体
１０と共に剥離しなくてもよい。

【００４３】転写後、図３−（Ｇ）に示すように、配向
膜１４の上方に、光の透過率の異なる領域を複数有する
露光マスク２８およびバンドパスフィルタ（図示せず）
を配置し、このマスク２８を介して紫外線照射し、光反
応型キラル剤に光反応を生じさせる。

【００４４】次に、図３−（Ｈ）に示すように、液晶層
１６に対して、上記工程（Ｇ）におけると同様の光源
（ただしバンドパスフィルタを用いず）を用い、前記工
程（Ｇ）の光照射とは異なる照射強度で紫外線を照射し
て、パターンを固定化する。その後、２−ブタノン、ク
ロロホルム等を用いて、液晶層１６上の不要部分（例え
ば、クッション層、中間層等の残存部、未露光部）を除
去することにより、図３−（Ｉ）に示すように、ＢＧＲ
の反射領域を有する液晶層を形成できる。

【００４５】〔第２の態様〕第２の態様は、カラーフィ
ルタを構成する基板上に直接液晶層を形成する方法であ
り、液晶層を形成した後、前記第１の態様の工程の
（４）と同様の露光工程を行なう方法である。

【００４６】カラーフィルターとして機能する液晶層の
厚みとは、１．５〜４μｍが好ましい。

【００４７】これらの工程及び使用する転写材料、支持
体等の材料については、特願平１１−３４２８９６号及
び特願平１１−３４３６６５号の各明細書に詳細に記載
されている。

【００４８】上記のように、光反応型キラル剤を含む液
晶組成物を用いると、光量に対する液晶の螺旋構造の捻
れ力の変化率が大きいので、液晶が呈し得る選択反射色
の色幅が拡がり、色純度に優れた青(Ｂ)、緑(Ｇ)、赤
(Ｒ)の３原色よりなるカラーフィルターを得ることがで
きる。

【００４９】［液晶表示素子］次に、前記のごとき本発
明のカラーフィルターを用いる液晶表示装置について説
明する。本発明の液晶表示装置は、支持基板および対向
基板の間に、カラーフィルター、液晶層、および液晶駆
動電極を少なくとも有し、該カラーフィルターとして、
前記のごとき本発明のカラーフィルターを用いる。本発
明の液晶表示装置は、反射型液晶表示装置が適している
が、これに限定されるものではなく、透過型液晶表示装
置（たとえば特開平２０００−２３１０９７号公報に記
載のごとき透過型液晶表示装置）も可能である。

【００５０】本発明の液晶表示装置の例を図を用いて説
明するが、これらに限定されるものではない。図４は、
アクティブマトリックス型の反射型液晶装置の一例を示
す。図４に示すように、この反射型液晶表示素子は、図
４の上方を観察者側とすると、偏光板４０の下に１／４
波長板４２、透明基板４４、透明な共通電極４６、電気
的に駆動可能な液晶層４８、透明画素電極（表示電極）
５０、コレステリック偏光素子からなるカラーフィルタ
５２、光吸収層５４、ＴＨＦ（薄膜トランジスタ）等の
アクティブ素子５６、アクティブ素子を電気的に接続す
るための金属配線５８、支持基板５９を順次配置した構
成になっている。なお、アクティブ素子としてＭＩＭを
用いる場合には、透明基板４４側に走査線として、スト
ライプ状の透明電極を形成する。なお、液晶表示装置に
は、液晶配向膜、スペーサー、シール剤等が通常用いら
れるが、図４ではこれらは省略されている。

【００５１】透明基板４４および支持基板５９には、ガ
ラス基板が適しているが、軽量で割れにくい液晶表示装
置とするために、ガラス基板の代わりにプラスチック基
板を用いることも可能である。透明電極（共通電極４
６、画素電極５０、走査線等）には、ＩＴＯ膜が好まし
く用いられる。

【００５２】上記偏光板４０と１／４波長板４２とは、
観察者側から入射した光ｈ１を右回りまたは左回りの円
偏光として透明基板４４側に出射するように、偏光板４
０の偏光面と１／４波長板４２の遅相軸がほぼ４５度の
角度を保つように配置される。図４では、右回りの円偏
光となるように配置されている。ここで用いる１／４波
長板は可視光全体の波長に渡って１／４波長の位相変調
を発生させる広帯域のものがより好ましい。

【００５３】液晶層４８は、駆動電圧がＯＦＦ状態では
光学的に等方相であり、ＯＮ状態ではリターデーション
が１／２波長であるものを用いることとする。

【００５４】液晶層４８に電圧を印可するための透明画
素電極５０は、コレステリック偏光素子５２と光吸収層
５４に設けられたスルーホールを介して金属配線５８を
備えたアクティブ素子（ＴＦＴ）５６と接続されてい
る。

【００５５】コレステリック偏光素子５２は、赤色反射
領域、緑色反射領域、青色反射領域に分割されており、
それぞれの領域は対応する反射色を選択反射するような
螺旋ピッチを有している。

【００５６】光吸収層５４はコレステリック偏光素子５
２を透過してくる光を全て吸収するように十分な光学濃
度をもつものを、コレステリック偏光素子５２とアクテ
ィブ素子（ＴＦＴ）５６及び金属配線５８との間に配置
する。このように配置することにより、液晶層に電圧を
印加させない場合、カラーフィルターを透過する円偏光
（たとえば下記のように左回りの円偏光）がアクティブ
素子間を結ぶ配線により再反射されて、その円偏光（左
回りの円偏光）がカラーフィルターを透過し観察者側に
到達することを防ぐことができる。また、アクティブ素
子５６間は電気的に絶縁性を保つことが必要であるが、
光吸収層５４に絶縁性を持たせることにより光吸収層と
絶縁層を兼ねさせることができ、好ましい。また、光吸
収層５４を絶縁性にしない場合には、光吸収層５４とア
クティブ素子５６及び金属配線５８との間に絶縁層を設
けることが必要である。光吸収層は、可視領域の波長の
光を吸収する層が好ましく、たとえば顔料としてカーボ
ンブラック粒子を用いることができる。また、光吸収層
のバインダーポリマーとしては絶縁性樹脂が好ましく用
いられ、たとえばポリアセタール樹脂、ポリアミド樹
脂、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂等が挙げられ
る。

【００５７】次に、上記構成の反射型液晶表示素子によ
る表示動作を図４を用いて説明する。図４では中央の破
線を挟んで、左側が駆動電圧ＯＦＦの状態、右側が駆動
電圧ＯＮの状態とする。

【００５８】図４に示すように、観察者側から入射した
光線ｈ１は偏光板４０と１／４波長板４２により右回り
の円偏光に変換される。この右回りの円偏光は透明基板
４４および透明共通電極４６を通過する際には、何ら変
調されることもなく、右回りの円偏光として電圧が印可
されていない状態の液晶層４８に進入する。液晶層４８
は電圧が印可されていない状態では光学的に等方的な状
態をとっているので、ここでも変調を受けることなく透
過し、次いで透明画素電極５０を通過した光は右円偏光
状態を推持したままコレステリック偏光素子（カラーフ
ィルター）５２に向かう。このとき、コレステリック偏
光素子５２が、例えば右回りの円偏光の内、赤色波長領
域に選択反射を示すように螺旋の向きとピッチが定めら
れているとすると、入射してきた右円偏光ｈ１の内、赤
色以外の色の光ｈ２はコレステリック偏光素子５２を透
過し、光吸収層５４に達し吸収される。一方、入射して
きた右円偏光の内、赤色の光はコレステリック偏光素子
５２を透過することができず、右回りの円偏光ｈ３とし
て反射され、観察者側に向かう。反射された赤色の右円
偏光ｈ３は、前記理由により何ら変調されることなく１
／４波長板４２に到達し、１／４波長板４２と偏光板４
０の作用により偏光軸が偏光板４０の偏光面と平行な直
線偏光として観察されることになる。

【００５９】液晶層４８に対して電圧が印可された状態
では、入射光ｈ４は前記と同様に液晶層４８に右回りの
円偏光として進入する。電圧が印可された状態では液晶
層４８は１／２波長のリターデーションを有するので、
右回りの円偏光は左回りの円偏光に変調されて液晶層４
８から出射されるため、右回りの円偏光に対してのみ選
択反射を示すコレステリック変調素子５２をすべて通過
する。通過した光は光吸収層５４により全て吸収される
ので、結果的に観察者側へは何ら光は反射されないこと
になる。

【００６０】次に、図５を用いて本発明の別な実施の一
形態を説明する。図５は、単純マトリックス型の反射型
液晶表示素子の一例を示す。図５に示すように、この反
射型液晶表示素子は、図の上方を観察者側とすると、偏
光板６０の下に１／４波長板６２、透明基板６４、透明
走査電極６６、電気的に駆動可能な液晶層６８、透明信
号電極７０、コレステリック偏光素子からなるカラーフ
ィルタ７２、透明支持基板７４、光吸収層７６を順次配
置した構成になっている。

【００６１】上記透明基板６４、透明支持基板７４、透
明（走査・信号）電極６６、７０、偏光板６０、１／４
波長板６２、液晶層６８およびカラーフィルター７２
は、前記図１のものと同様のものが用いられ、同様に機
能する。

【００６２】液晶層６８に電圧を印可するための透明信
号電極７０はコレステリック偏光素子からなるカラーフ
ィルター７２と液晶層６８の間に配置される。

【００６３】光吸収層７６コレステリック偏光素子７２
及び透明支持基板７４を透過してくる光を全て吸収する
ように十分な光学濃度を持つものを、透明支持基板７４
のコレステリック偏光素子７２とは反対側の表面に配置
する。

【００６４】図５に示す液晶表示装置も、液晶層に電圧
が印加されていない場合の光線ｈ１、および印加されて
いる場合の光線ｈ４は、図４における液晶表示装置の場
合と同様に反射あるいは吸収され、ｈ１はカラーフィル
ター７２によりｈ３として反射され観察者側に向かい、
一方、ｈ４はカラーフィルターをすべて透過し透明基板
７４を通ってすべて光吸収層７６に吸収され観察者側へ
は光は反射されない。

【００６５】

【実施例】以下に実施例を示し本発明をさらに具体的に
説明するが、本発明はこれらの実施例により限定される
ものではない。実施例１この例では、本発明の液晶組成物を用いて、カラーフィ
ルターを作製する例を示す。（１）液晶組成物の調製以下で示す組成の液晶組成物を調製し、その後、市販の
フィルター（ザルトリウス社製：ミニザルト；ポアサイ
ズ０．２μｍ）を用いて濾過した。このときの濾過圧は
約１９．６Ｎ／ｃｍ²を示した。

【００６６】

【化６】

【００６７】（２）カラーフィルターの作製 1) カラーフィルター基板の準備ガラス基板上にポリイミド配向膜（ＬＸ−１４００，日
立化成デュポン（株）製）塗布液をスピンコーターによ
り塗布し、１００℃のオーブンで５分間乾燥した後、２
５０℃のオーブンで１時間焼成して配向膜を形成した。
更に、該膜の表面をラビング処理により配向処理して配
向膜付ガラス基板を作製した。

【００６８】2) カラーフィルター層の形成上記1)で作製した配向膜付ガラス基板の該配向膜上に、
前記（１）の液晶組成物（温度８０℃）をスピンコータ
ーにより塗布層がおよそ２μｍとなるように塗布し、こ
れを１００℃のオーブンで２分間乾燥して液晶層を形成
した。次いで、これを、１００℃のホットプレート上に
ガラス基板の表面が接触するように載せて５分間保持し
た。更に、該液晶層上に、透過率が三段階に異なり（０
％、４６％、９２％）、それぞれの領域が赤色画素用、
緑色画素用、青色画素用に対応して配列されたフォトマ
スクと３６５ｎｍに中心を持つバンドパスフィルタとを
介して超高圧水銀灯を配置し、このフォトマスク及びバ
ンドパスフィルタを通して超高圧水銀灯により照射しパ
ターニングした。このときの照射エネルギーは青色画素
用に対して６００ｍＪ／ｃｍ²であり、照射強度は３０
ｍＷ／ｃｍ²であった。

【００６９】次に、フォトマスクとバンドパスフィルタ
とを取り除き、窒素ガスを吹き付けながら上記と同様の
超高圧水銀灯により照射エネルギー５００ｍＪ／ｃｍ²
で更に全面を露光し、重合硬化した。更に、カラーフィ
ルター層の硬化を促進するために、２２０℃のオーブン
で２０分間焼成し、赤色画素、緑色画素、青色画素パタ
ーンが形成された、色純度が高いカラーフィルタを得
た。得られたカラーフィルターを光学顕微鏡により観察
したところ、突起、白抜け、白地上の黒点（黒欠陥）、
異物等の欠陥が２個／ｍ²であった。

【００７０】実施例２図５に示すような構造を有する液晶表示装置を作製し
た。 (1) 透明支持基板の準備厚さ１．１ｍｍのホウケイ酸ガラス基板を洗浄・乾燥し
た。 (2) 透明支持基板への光吸収層、カラーフィルター
層、透明信号電極および配向膜の形成前記(1)で準備した透明支持基板に、カーボンブラック
と絶縁性樹脂（ポリビニルブチラール）を含む光吸収層
用溶液（絶縁性樹脂に対しカーボンブラックを３０質量
％添加）を、乾燥厚みが２μｍになるようにスピンコー
ト法で塗布・乾燥して形成した。前記透明支持基板の光
吸収層とは反対の面に、実施例１と同様の方法でカラー
フィルターを形成した。次いで、カラーフィルター層の
上に０．１μｍのＩＴＯ膜をスパッタリング法で形成し
た後、常法のフォトリソグラフィー法によりパターン形
成し、ストライプ状の透明信号電極を形成した。該透明
信号電極にポリイミド配向膜（ＬＸ−１４００，日立化
成デュポン（株）製）塗布液をスピンコーターにより塗
布し、１００℃のオーブンで５分間乾燥した後、２５０
℃のオーブンで１時間焼成して配向膜を形成し、更に、
該膜の表面をラビング処理により配向処理した。 (3) 透明基板（対向基板）の準備厚さ１．１ｍｍの対向ガラス基板に、スパッタリング法
によりＩＴＯ膜を０．１μｍ形成し、その後前記の透明
信号電極の場合と同様にして、ストライプ状の透明走査
電極を形成し、前記配向処理と同様の方法により配向処
理を行った。 (4) 液晶セルの作製前記のカラーフィルター等を設けた透明支持基板の配向
処理面側と対向基板の配向処理面側を２μｍのスペース
を空けて貼り合わせた後、液晶を注入した。液晶として
は電圧ＯＮ時にホメオトロピック配向をとり、ＯＦＦ時
にリターデーションが１／２になるものを使用した。前
記液晶セルの対向基板側に１／４波長版（住友化学
（株）製、スミカライト）および偏光板（住友化学
（株）製、ＳＨ−１８３２ＡＷ）を粘着剤を介して貼っ
た。このようにして作製した液晶表示装置は、カラーフ
ィルターとして実施例１のカラーフィルターを用いてい
るため、色純度が高く高解像度の表示が可能な液晶表示
装置が得られた。

【００７１】比較例１実施例１において、濾過処理を行わない他は、実施例１
と同様にして液晶組成物を調製し、これを用いてカラー
フィルターを作製した。この例では、前記のごとき欠陥
が５００個／ｍ²であった。

【００７２】

【発明の効果】本発明のカラーフィルターは、前記のご
とき濾過処理を行った液晶組成物を用いてカラーフィル
ターを作製したため、前記のごとき微小異物がなく、そ
の結果、カラーフィルターの作製工程において液晶層を
配向させる際、液晶の配向が妨げられないので、色純度
や解像度が高い高品質のカラーフィルターが得られる。
また、このカラーフィルターを用いる液晶表示装置は優
れた画像表示が可能となる。また、本発明のカラーフィ
ルターは、コレステリック液晶相の選択反射を利用する
ので、その作製にフォトリソグラフィー法を用いる必要
がなく、充分なコストダウンも可能である。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の液晶カラーフィルタを製造する工程
の一部を示す概略図である。

【図２】本発明の液晶カラーフィルタを製造する工程
の一部を示す概略図である。

【図３】本発明の液晶カラーフィルタを製造する工程
の一部を示す概略図である。

【図４】本発明のアクティブマトリックス型液晶表示
装置の一例を示す概念図であり、１点鎖線の左側は電圧
ＯＦＦ状態の、右側は電圧ＯＮ状態の、円偏光の反射あ
るいは吸収をそれぞれ示す。

【図５】本発明の単純マトリックス型液晶表示装置の
一例を示す概念図であり、１点鎖線の左側は電圧ＯＦＦ
状態の、右側は電圧ＯＮ状態の、円偏光の反射あるいは
吸収をそれぞれ示す。

【符号の説明】

１０仮支持体１２クッション層１４、２４配向膜１６液晶層１８カバーフィルム２０転写材料２２基板２６カラーフィルタ用基板２８露光マスク４０、６０偏光板４２、６２１／２波長板４４、６４透明基板４６透明共通電極４８、６８液晶層５０透明画素電極５２、７２カラーフィルター５４、７６光吸収層５６ＴＦＴ素子５８金属配線５９、７４支持基板６６透明走査電極７０透明信号電極

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｇ０２Ｆ 1/1335 ５０５Ｇ０２Ｆ 1/1335 ５０５Ｆターム(参考） 2H048 BA04 BA64 BB02 BB42 2H049 BA18 BA43 BA45 BB01 BC01 BC04 BC05 BC22 2H091 FA02Y LA12 LA15 4H027 BA02 BA11 BC03 BC04 BD12 BD20 BE04 CE02 DK02

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】少なくとも、重合性基を少なくとも１つ
有する液晶性化合物、キラル剤および重合開始剤を含む
液晶組成物であって、前記液晶組成物が、孔径１μｍ以
下のフィルターにより濾過されていることを特徴とする
液晶組成物。
【請求項２】前記濾過が、液晶組成物を加熱しながら
行われることを特徴とする請求項１に記載の液晶組成
物。
【請求項３】前記キラル剤が、光反応型キラル剤であ
ることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の液
晶組成物。
【請求項４】請求項１ないし請求項３のいずれか１項
に記載の液晶組成物を用いて作製される、画素欠陥が１
００個／ｍ²以下のカラーフィルター。
【請求項５】前記画素欠陥が、高さ２μｍ以上の突起
欠陥であることを特徴とする請求項４に記載のカラーフ
ィルター。
【請求項６】前記画素欠陥が、３０μｍ角以上の白抜
け欠陥であることを特徴とする請求項４に記載のカラー
フィルター。
【請求項７】前記画素欠陥が、３０μｍ角以上の黒欠
陥であることを特徴とする請求項４に記載のカラーフィ
ルター。
【請求項８】前記画素欠陥が、３μｍ角以上の異物で
あることを特徴とする請求項４に記載のカラーフィルタ
ー。
【請求項９】少なくとも１つは光透過性の１対の基板
の間に、カラーフィルター、液晶層、および液晶駆動電
極を少なくとも有する液晶表示装置において、前記カラ
ーフィルターが、請求項４ないし請求項８のいずれか１
項に記載のカラーフィルターであることを特徴とする液
晶表示装置。