JP2002277606A - 反射防止膜及び光学素子 - Google Patents
反射防止膜及び光学素子Info
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- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
- C03C17/3417—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials all coatings being oxide coatings
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 紫外域から可視域さらには赤外域までの広い
波長帯域で、高い反射防止効果を有した反射防止膜を提
供する。 【解決手段】 屈折率が１．６５〜１．８５の範囲にあ
る基板に設けられる反射防止膜であって、基板側から数
えて第１，３，５層にＨｆＯ２，ＺｒＯ２，Ｔａ
２Ｏ５，Ｙ２Ｏ３のいずれか又はこれらの混合物が、第
２，４層にＳｉＯ２またはＭｇＦ２が、第６層にＭｇＦ
２がそれぞれ成膜されており、基準波長をλとしたとき
の各層の光学的膜厚が、第１層は（０．３６〜０．４
７）×λ／４、第２層は（０．０８〜０．１８）×λ／
４、第３層は（１．１１〜１．２２）×λ／４、第４層
は（０．１７〜０．２３）×λ／４、第５層は（０．４
５〜０．４６）×λ／４、第６層は（０．８０〜１．２
０）×λ／４となっている。
波長帯域で、高い反射防止効果を有した反射防止膜を提
供する。 【解決手段】 屈折率が１．６５〜１．８５の範囲にあ
る基板に設けられる反射防止膜であって、基板側から数
えて第１，３，５層にＨｆＯ２，ＺｒＯ２，Ｔａ
２Ｏ５，Ｙ２Ｏ３のいずれか又はこれらの混合物が、第
２，４層にＳｉＯ２またはＭｇＦ２が、第６層にＭｇＦ
２がそれぞれ成膜されており、基準波長をλとしたとき
の各層の光学的膜厚が、第１層は（０．３６〜０．４
７）×λ／４、第２層は（０．０８〜０．１８）×λ／
４、第３層は（１．１１〜１．２２）×λ／４、第４層
は（０．１７〜０．２３）×λ／４、第５層は（０．４
５〜０．４６）×λ／４、第６層は（０．８０〜１．２
０）×λ／４となっている。
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、紫外、可視、赤外
領域の広い波長域で使用することが可能な反射防止膜及
びこの反射防止膜を備えた光学素子に関する。
領域の広い波長域で使用することが可能な反射防止膜及
びこの反射防止膜を備えた光学素子に関する。
【０００２】
【従来の技術】レンズやプリズムなどの光学素子の表面
には反射防止膜が施される。その主な目的は、光学素子
により横成される光学系全体の透過率を向上すること、
特に可視域の反射を抑えることで見えやすさを向上させ
ることである。これまでの光学機器の多くは、可視域や
それよりも狭い光の波長域で使用されるため、反射防止
膜も可視域やそれよりも狭い光の波長域の反射を抑える
ことができれば十分となっていた。
には反射防止膜が施される。その主な目的は、光学素子
により横成される光学系全体の透過率を向上すること、
特に可視域の反射を抑えることで見えやすさを向上させ
ることである。これまでの光学機器の多くは、可視域や
それよりも狭い光の波長域で使用されるため、反射防止
膜も可視域やそれよりも狭い光の波長域の反射を抑える
ことができれば十分となっていた。
【０００３】しかし近年は、より広い波長域で使用する
光学機器が必要となり、これに用いる光学素子にもそれ
に対応した波長域での反射防止膜を施すことが必要とな
っている。このような広い波長域での従来の反射防止膜
としては、特許第２７１１６９７号に記載されている。
この反射防止膜は、蒸着材料としてＴｉＯ２、Ｓｉ
Ｏ ２，ＭｇＦ２の３種類の材料を用いた８層構成とする
ことにより、可視域から赤外域にわたる広帯域で０．８
％以下の低反射率を可能とするものである。
光学機器が必要となり、これに用いる光学素子にもそれ
に対応した波長域での反射防止膜を施すことが必要とな
っている。このような広い波長域での従来の反射防止膜
としては、特許第２７１１６９７号に記載されている。
この反射防止膜は、蒸着材料としてＴｉＯ２、Ｓｉ
Ｏ ２，ＭｇＦ２の３種類の材料を用いた８層構成とする
ことにより、可視域から赤外域にわたる広帯域で０．８
％以下の低反射率を可能とするものである。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】以上のような可視や赤
外帯域に加え、最近では紫外域においても高い反射防止
性能が必要となってきている。例えば顕微鏡分野におい
ては、より高い解像度を求めるために紫外域まで観察範
囲が広がっており、さらに、蛍光検出等のために赤外域
の光も必要とするものがある。このように、光学機器を
広い波長域で使用するために、光学素子に対しても紫外
域から赤外域にわたる広帯域で高い透過率を有すること
が求められるようになっている。
外帯域に加え、最近では紫外域においても高い反射防止
性能が必要となってきている。例えば顕微鏡分野におい
ては、より高い解像度を求めるために紫外域まで観察範
囲が広がっており、さらに、蛍光検出等のために赤外域
の光も必要とするものがある。このように、光学機器を
広い波長域で使用するために、光学素子に対しても紫外
域から赤外域にわたる広帯域で高い透過率を有すること
が求められるようになっている。
【０００５】しかしながら、上述した従来の反射防止膜
では、４００ｎｍ以下の波長域で強い光吸収のあるＴｉ
Ｏ２を使用しているため、紫外域では使用することがで
きない問題がある。
では、４００ｎｍ以下の波長域で強い光吸収のあるＴｉ
Ｏ２を使用しているため、紫外域では使用することがで
きない問題がある。
【０００６】本発明は、このような従来の問題点を考慮
してなされたものであり、紫外域から可視域、さらには
赤外域にわたる広帯域で高い反射防止性能を有する反射
防止膜およびこの反射防止膜を設けた光学素子を提供す
ることを目的とする。
してなされたものであり、紫外域から可視域、さらには
赤外域にわたる広帯域で高い反射防止性能を有する反射
防止膜およびこの反射防止膜を設けた光学素子を提供す
ることを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項１の発明の反射防止膜は、屈折率が１．６５
〜１．８５の範囲にある基板に設けられる反射防止膜で
あって、基板側から数えて第１，３，５層にＨｆＯ２，
ＺｒＯ２，Ｔａ２Ｏ５，Ｙ２Ｏ３のいずれか又はこれら
の混合物が、第２，４層にＳｉＯ２またはＭｇＦ２が、
第６層にＭｇＦ２がそれぞれ成膜されており、基準波長
をλとしたときの各層の光学的膜厚が、第１層は（０．
３６〜０．４７）×λ／４、第２層は（０．０８〜０．
１８）×λ／４、第３層は（１．１１〜１．２２）×λ
／４、第４層は（０．１７〜０．２３）×λ／４、第５
層は（０．４５〜０．４６）×λ／４、第６層は（０．
８０〜１．２０）×λ／４となっていることを特徴とす
る。
め、請求項１の発明の反射防止膜は、屈折率が１．６５
〜１．８５の範囲にある基板に設けられる反射防止膜で
あって、基板側から数えて第１，３，５層にＨｆＯ２，
ＺｒＯ２，Ｔａ２Ｏ５，Ｙ２Ｏ３のいずれか又はこれら
の混合物が、第２，４層にＳｉＯ２またはＭｇＦ２が、
第６層にＭｇＦ２がそれぞれ成膜されており、基準波長
をλとしたときの各層の光学的膜厚が、第１層は（０．
３６〜０．４７）×λ／４、第２層は（０．０８〜０．
１８）×λ／４、第３層は（１．１１〜１．２２）×λ
／４、第４層は（０．１７〜０．２３）×λ／４、第５
層は（０．４５〜０．４６）×λ／４、第６層は（０．
８０〜１．２０）×λ／４となっていることを特徴とす
る。
【０００８】請求項２の発明の反射防止膜は、屈折率が
１．４２〜１．６５の範囲にある基板に設けられる反射
防止膜であって、基板側から数えて第２，４，６層にＨ
ｆＯ ２，ＺｒＯ２，Ｔａ２Ｏ５，Ｙ２Ｏ３のいずれか又
はこれらの混合物が、第１，３，５層にＳｉＯ２または
ＭｇＦ２が、第７層にＭｇＦ２がそれぞれ成膜されてお
り、基準波長をλとしたときの各層の光学的膜厚が、第
１層は（０．０５〜２．４４）×λ／４、第２層は
（０．３２〜０．４５）×λ／４、第３層は（０．２９
〜０．４３）×λ／４、第４層は（０．７７〜１．７
２）×λ／４、第５層は（０．０７〜０．３８）×λ／
４、第６層は（０．４８〜０．７０）×λ／４、第７層
は（１．００〜１．３６）×λ／４となっていることを
特徴とする。
１．４２〜１．６５の範囲にある基板に設けられる反射
防止膜であって、基板側から数えて第２，４，６層にＨ
ｆＯ ２，ＺｒＯ２，Ｔａ２Ｏ５，Ｙ２Ｏ３のいずれか又
はこれらの混合物が、第１，３，５層にＳｉＯ２または
ＭｇＦ２が、第７層にＭｇＦ２がそれぞれ成膜されてお
り、基準波長をλとしたときの各層の光学的膜厚が、第
１層は（０．０５〜２．４４）×λ／４、第２層は
（０．３２〜０．４５）×λ／４、第３層は（０．２９
〜０．４３）×λ／４、第４層は（０．７７〜１．７
２）×λ／４、第５層は（０．０７〜０．３８）×λ／
４、第６層は（０．４８〜０．７０）×λ／４、第７層
は（１．００〜１．３６）×λ／４となっていることを
特徴とする。
【０００９】請求項３の発明の反射防止膜は、屈折率が
１．４４〜１．７６の範囲にある基板に設けられる反射
防止膜であって、基板側から数えて第２，４，６，８，
１０，１２層にＨｆＯ２，ＺｒＯ２，Ｔａ２Ｏ５，Ｙ２
Ｏ３のいずれか又はこれらの混合物が、第１，３，５，
７，９，１１，１３層にＳｉＯ２またはＭｇＦ２がそれ
ぞれ成膜されており、基準波長をλとしたときの各層の
光学的膜厚が、第１層は（０．０２〜０．５３）×λ／
４、第２層は（０．０６〜０．４４）×λ／４、第３層
は（０．３３〜０．８４）×λ／４、第４層は（０．１
０〜０．５０）×λ／４、第５層は（０．５８〜１．２
０）×λ／４、策６層は（０．０４〜０．２１）×λ／
４、第７層は（０．５５〜１．１４）×λ／４、第８層
は（０．３０〜０．５４）×λ／４、第９層は（０．１
５〜０．４４）×λ／４、第１０層は（０．２９〜１．
２５）×λ／４、第１１層は（０．１４〜０．２９）×
λ／４、第１２層は（０．４５〜０．６２）×λ／４、
第１３層は（０．８０〜１．２０）×λ／４となってい
ることを特徴とする。
１．４４〜１．７６の範囲にある基板に設けられる反射
防止膜であって、基板側から数えて第２，４，６，８，
１０，１２層にＨｆＯ２，ＺｒＯ２，Ｔａ２Ｏ５，Ｙ２
Ｏ３のいずれか又はこれらの混合物が、第１，３，５，
７，９，１１，１３層にＳｉＯ２またはＭｇＦ２がそれ
ぞれ成膜されており、基準波長をλとしたときの各層の
光学的膜厚が、第１層は（０．０２〜０．５３）×λ／
４、第２層は（０．０６〜０．４４）×λ／４、第３層
は（０．３３〜０．８４）×λ／４、第４層は（０．１
０〜０．５０）×λ／４、第５層は（０．５８〜１．２
０）×λ／４、策６層は（０．０４〜０．２１）×λ／
４、第７層は（０．５５〜１．１４）×λ／４、第８層
は（０．３０〜０．５４）×λ／４、第９層は（０．１
５〜０．４４）×λ／４、第１０層は（０．２９〜１．
２５）×λ／４、第１１層は（０．１４〜０．２９）×
λ／４、第１２層は（０．４５〜０．６２）×λ／４、
第１３層は（０．８０〜１．２０）×λ／４となってい
ることを特徴とする。
【００１０】以上の請求項１〜３の発明の成膜材料とし
て用いられるＨｆＯ２，ＺｒＯ２，Ｔａ２Ｏ５，Ｙ２Ｏ
３，ＳｉＯ２，ＭｇＦ２はいずれも紫外域から赤外域の
広い範囲で光吸収が少ないため、これらを成膜した反射
防止膜は、紫外域から赤外域にわたる広い波長域で高い
反射防止効果を有する。また使用状況に応じて、実際に
使用する特定の波長域で選択的に反射率を下げること
も、広い波長域全体で反射率を低くすることも可能とな
る。
て用いられるＨｆＯ２，ＺｒＯ２，Ｔａ２Ｏ５，Ｙ２Ｏ
３，ＳｉＯ２，ＭｇＦ２はいずれも紫外域から赤外域の
広い範囲で光吸収が少ないため、これらを成膜した反射
防止膜は、紫外域から赤外域にわたる広い波長域で高い
反射防止効果を有する。また使用状況に応じて、実際に
使用する特定の波長域で選択的に反射率を下げること
も、広い波長域全体で反射率を低くすることも可能とな
る。
【００１１】なお、請求項１の発明の反射防止膜は、６
層構造であり、従来よりも層数が少なく製造が容易とな
っている。
層構造であり、従来よりも層数が少なく製造が容易とな
っている。
【００１２】請求項１の発明において、その基板は屈折
率が１．６５〜１．８５の範囲であれば良く、請求項２
の発明では、屈折率が１．４２〜１．６５の範囲、請求
項３の発明では、屈折率が１．４４〜１．７６の範囲で
あれば良い。基板の材質としてはガラスの他に、結晶材
料、プラスチック等でも良い。また、基板の形状も平板
形状、レンズ形状、プリズム形状等のあらゆる形状に適
用することができる。反射防止膜の成膜方法としては、
真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング
法等、特に限定されるものではない。
率が１．６５〜１．８５の範囲であれば良く、請求項２
の発明では、屈折率が１．４２〜１．６５の範囲、請求
項３の発明では、屈折率が１．４４〜１．７６の範囲で
あれば良い。基板の材質としてはガラスの他に、結晶材
料、プラスチック等でも良い。また、基板の形状も平板
形状、レンズ形状、プリズム形状等のあらゆる形状に適
用することができる。反射防止膜の成膜方法としては、
真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング
法等、特に限定されるものではない。
【００１３】請求項４の発明の光学素子は、請求項１〜
３のいずれかに記載の反射防止膜を基板に設けたことを
特徴とする。
３のいずれかに記載の反射防止膜を基板に設けたことを
特徴とする。
【００１４】この発明の光学素子によれば、紫外域から
赤外域にわたる広い波長域で高い反射防止効果があり、
その結果、広い波長範囲で高い透過率を有することがで
きる。基板の材質はガラスの他に、結晶材料、プラスチ
ック等でも良い。また、平板状、レンズ状、プリズム状
等のあらゆる形状の基板であっても良い。
赤外域にわたる広い波長域で高い反射防止効果があり、
その結果、広い波長範囲で高い透過率を有することがで
きる。基板の材質はガラスの他に、結晶材料、プラスチ
ック等でも良い。また、平板状、レンズ状、プリズム状
等のあらゆる形状の基板であっても良い。
【００１５】
【発明の実施の形態】以下、本発明を実施の形態によ
り、具体的に説明する。なお、実施の形態１〜４は請求
項１の発明に対応し、実施の形態５〜１１は請求項２の
発明に対応し、実施の形態１２〜１４は請求項３の発明
に対応するものである。
り、具体的に説明する。なお、実施の形態１〜４は請求
項１の発明に対応し、実施の形態５〜１１は請求項２の
発明に対応し、実施の形態１２〜１４は請求項３の発明
に対応するものである。
【００１６】（実施の形態１）この実施の形態では、３
５０ｎｍ〜５００ｎｍの波長範囲および７５０ｎｍから
８００ｎｍの波長範囲で反射率を抑えた反射防止膜を示
す。光学機器によっては実際に使用する波長が離散的な
場合も多く、この実施の形態はこのように使用する波長
域のみで反射率を下げるものである。
５０ｎｍ〜５００ｎｍの波長範囲および７５０ｎｍから
８００ｎｍの波長範囲で反射率を抑えた反射防止膜を示
す。光学機器によっては実際に使用する波長が離散的な
場合も多く、この実施の形態はこのように使用する波長
域のみで反射率を下げるものである。
【００１７】屈折率１．６５のガラス製レンズを基板と
して用い、基準波長λを５３５ｎｍとして、表１のよう
に１，３，５層目にはＨｆＯ２を、２，４，６層目には
ＭｇＦ２を使用した構成の反射防止膜を成膜した。
して用い、基準波長λを５３５ｎｍとして、表１のよう
に１，３，５層目にはＨｆＯ２を、２，４，６層目には
ＭｇＦ２を使用した構成の反射防止膜を成膜した。
【００１８】図１はこの反射防止膜の分光反射率であ
り、目的とする紫外域である３５０ｎｍから可視域であ
る５００ｎｍ範囲および赤外域である７５０ｎｍから８
００ｎｍの範囲で、およそ１％以下の反射率であり、極
めて良好な反射防止性能を有している。また、１，３，
５層目のＨｆＯ２に代えて、Ｙ２Ｏ３を使用してもほぼ
同様な反射防止性能を得ることができた。
り、目的とする紫外域である３５０ｎｍから可視域であ
る５００ｎｍ範囲および赤外域である７５０ｎｍから８
００ｎｍの範囲で、およそ１％以下の反射率であり、極
めて良好な反射防止性能を有している。また、１，３，
５層目のＨｆＯ２に代えて、Ｙ２Ｏ３を使用してもほぼ
同様な反射防止性能を得ることができた。
【００１９】また、反射防止膜が施されていないレンズ
の透過率は８８％であるが、この実施の形態の反射防止
膜を両面に施したレンズの透過率は、紫外域である３５
０ｎｍから可視域である５００ｎｍの範囲および赤外域
である７５０ｎｍから８００ｎｍの範囲で９８％以上と
極めて良好であった。
の透過率は８８％であるが、この実施の形態の反射防止
膜を両面に施したレンズの透過率は、紫外域である３５
０ｎｍから可視域である５００ｎｍの範囲および赤外域
である７５０ｎｍから８００ｎｍの範囲で９８％以上と
極めて良好であった。
【００２０】
【表１】
【００２１】（実施の形態２）実施の形態１では離散し
た２つの波長域で反射率を下げる反射防止膜を示した
が、この実施の形態の反射防止膜は連続した波長域で反
射率を下げるものである。
た２つの波長域で反射率を下げる反射防止膜を示した
が、この実施の形態の反射防止膜は連続した波長域で反
射率を下げるものである。
【００２２】屈折率１．８５のガラス製レンズを基板と
して用い、基準波長λを４９１ｎｍとして、表２のよう
に１，３，５層目にはＨｆＯ２を、２，４，６層目には
ＭｇＦ２を使用した構成の反射防止膜を成膜した。
して用い、基準波長λを４９１ｎｍとして、表２のよう
に１，３，５層目にはＨｆＯ２を、２，４，６層目には
ＭｇＦ２を使用した構成の反射防止膜を成膜した。
【００２３】図２はこの反射防止膜の分光反射率であ
り、紫外域である３７０ｎｍから赤外域である７６０ｎ
ｍまでの広い波長範囲で、およそ１％以下の反射率であ
り、極めて良好な反射防止性能を有している。
り、紫外域である３７０ｎｍから赤外域である７６０ｎ
ｍまでの広い波長範囲で、およそ１％以下の反射率であ
り、極めて良好な反射防止性能を有している。
【００２４】また、反射防止膜が施されていないレンズ
の透過率は約８２％であるが、この実施の形態の反射防
止膜を両面に施したレンズの透過率は、３７０ｎｍから
７６０ｎｍの範囲で９８％以上と極めて良好であった。
の透過率は約８２％であるが、この実施の形態の反射防
止膜を両面に施したレンズの透過率は、３７０ｎｍから
７６０ｎｍの範囲で９８％以上と極めて良好であった。
【００２５】
【表２】
【００２６】（実施の形態３）屈折率１．７４のプラス
チック製レンズを基板として用い、基準波長λを５０８
ｎｍとして、表３のように１，３，５層目にはＴａ２Ｏ
５を、２，４層目にはＳｉＯ２を、６層目にはＭｇＦ２
を使用した構成の反射防止膜を成膜した。
チック製レンズを基板として用い、基準波長λを５０８
ｎｍとして、表３のように１，３，５層目にはＴａ２Ｏ
５を、２，４層目にはＳｉＯ２を、６層目にはＭｇＦ２
を使用した構成の反射防止膜を成膜した。
【００２７】図３はこの反射防止膜の分光反射率であ
り、紫外域である３５０ｎｍから赤外域である７４０ｎ
ｍまでの広い波長範囲でおよそ１％以下の反射率であ
り、極めて良好な反射防止性能を有している。
り、紫外域である３５０ｎｍから赤外域である７４０ｎ
ｍまでの広い波長範囲でおよそ１％以下の反射率であ
り、極めて良好な反射防止性能を有している。
【００２８】なお、１，３，５層目のＴａ２Ｏ５に代え
て、ＺｒＯ２またはＺｒＯ２とＴａ ２Ｏ５との混合物等
を使用して成膜してもほぼ同様な反射防止性能を得るこ
とができた。
て、ＺｒＯ２またはＺｒＯ２とＴａ ２Ｏ５との混合物等
を使用して成膜してもほぼ同様な反射防止性能を得るこ
とができた。
【００２９】
【表３】
【００３０】（実施の形態４）屈折率１．７５のガラス
製プリズムを基板として用い、基準波長λを５４６ｎｍ
として、表４のように実施の形態２とほば同じ構成の反
射防止膜を成膜した。
製プリズムを基板として用い、基準波長λを５４６ｎｍ
として、表４のように実施の形態２とほば同じ構成の反
射防止膜を成膜した。
【００３１】図４はこの反射防止膜の分光反射率であ
り、可視域である４００ｎｍから赤外域である８７０ｎ
ｍの広い波長範囲でおよそ１％以下の反射率であり、極
めて良好な反射防止性能を有している。
り、可視域である４００ｎｍから赤外域である８７０ｎ
ｍの広い波長範囲でおよそ１％以下の反射率であり、極
めて良好な反射防止性能を有している。
【００３２】この実施の形態では、実施の形態２に対し
基準波長を長波長側にシフトしたことにより、高い反射
防止性能を有する波長範囲を赤外域に移行させることが
可能となった。
基準波長を長波長側にシフトしたことにより、高い反射
防止性能を有する波長範囲を赤外域に移行させることが
可能となった。
【００３３】
【表４】
【００３４】（実施の形態５）この実施の形態では、３
５０ｎｍから５００ｎｍの範囲および７５０ｎｍから８
００ｎｍの範囲で反射率を下げた反射防止膜を示す。光
学機器によっては実際に使用する波長が離散的な場合も
多く、この実施の形態はこのように使用する波長域のみ
で反射率を下げた形態である。
５０ｎｍから５００ｎｍの範囲および７５０ｎｍから８
００ｎｍの範囲で反射率を下げた反射防止膜を示す。光
学機器によっては実際に使用する波長が離散的な場合も
多く、この実施の形態はこのように使用する波長域のみ
で反射率を下げた形態である。
【００３５】屈折率１．４３のガラス製レンズを基板と
して用い、基準波長λを４８０ｎｍとして、表５のよう
に２，４，６層目にはＨｆＯ２を、１，３，５，７層目
にはＭｇＦ２を使用した構成の反射防止膜を成膜した。
して用い、基準波長λを４８０ｎｍとして、表５のよう
に２，４，６層目にはＨｆＯ２を、１，３，５，７層目
にはＭｇＦ２を使用した構成の反射防止膜を成膜した。
【００３６】図５はこの反射防止膜の分光反射率であ
り、目的とする紫外域である３５０ｎｍから可視域であ
る５００ｎｍの範囲および赤外域である７５０ｎｍから
８００ｎｍの範囲で、およそ１％以下の反射率であり、
極めて良好な反射防止性能を有している。なお、２，
４，６層目のＨｆＯ２に代えて、Ｙ２Ｏ３を使用しても
ほぼ同様な反射防止性能を得ることができた。
り、目的とする紫外域である３５０ｎｍから可視域であ
る５００ｎｍの範囲および赤外域である７５０ｎｍから
８００ｎｍの範囲で、およそ１％以下の反射率であり、
極めて良好な反射防止性能を有している。なお、２，
４，６層目のＨｆＯ２に代えて、Ｙ２Ｏ３を使用しても
ほぼ同様な反射防止性能を得ることができた。
【００３７】また、反射防止膜の施されていないレンズ
の透過率は８８％であるが、この実施の形態の反射防止
膜を両面に施したレンズの透過率は、紫外域である３５
０ｎｍから可視域である５００ｎｍの範囲および赤外域
である７５０ｎｍから８００ｎｍの範囲で９８％以上と
極めて良好であった。
の透過率は８８％であるが、この実施の形態の反射防止
膜を両面に施したレンズの透過率は、紫外域である３５
０ｎｍから可視域である５００ｎｍの範囲および赤外域
である７５０ｎｍから８００ｎｍの範囲で９８％以上と
極めて良好であった。
【００３８】
【表５】
【００３９】（実施の形態６）実施の形態５では離散し
た２つの波長域で反射率を下げるような反射防止膜を示
したが、この実施の形態では連続した波長域で反射率を
下げるものである。
た２つの波長域で反射率を下げるような反射防止膜を示
したが、この実施の形態では連続した波長域で反射率を
下げるものである。
【００４０】屈折率１．６２のガラス製レンズを基板と
して用い、基準波長λを４８０ｎｍとして、表６のよう
に２，４，６層目にはＨｆＯ２を、１，３，５，７層目
にはＭｇＦ２を使用した構成の反射防止膜を成膜した。
して用い、基準波長λを４８０ｎｍとして、表６のよう
に２，４，６層目にはＨｆＯ２を、１，３，５，７層目
にはＭｇＦ２を使用した構成の反射防止膜を成膜した。
【００４１】図６はこの反射防止膜の分光反射率であ
り、紫外域である３７０ｎｍから赤外域である８３０ｎ
ｍまでの広い波長範囲でおよそ１％以下の反射率であ
り、極めて良好な反射防止性能を有している。
り、紫外域である３７０ｎｍから赤外域である８３０ｎ
ｍまでの広い波長範囲でおよそ１％以下の反射率であ
り、極めて良好な反射防止性能を有している。
【００４２】また、反射防止膜の施されていないレンズ
の透過率は約８２％であるが、この実施の形態の反射防
止膜を両面に施したレンズの透過率は、３７０ｎｍから
７６０ｎｍの範囲で９８％以上と極めて良好であった。
の透過率は約８２％であるが、この実施の形態の反射防
止膜を両面に施したレンズの透過率は、３７０ｎｍから
７６０ｎｍの範囲で９８％以上と極めて良好であった。
【００４３】
【表６】
【００４４】（実施の形態７）実施の形態６では連続し
た波長域で反射率を下げた反射防止膜を示したが、この
実施の形態はこの波長域で最大反射率をさらに下げたも
のである。
た波長域で反射率を下げた反射防止膜を示したが、この
実施の形態はこの波長域で最大反射率をさらに下げたも
のである。
【００４５】屈折率１．６２のガラス製レンズを基板と
して用い、基準波長λを５００ｎｍとして、表７のよう
に２，４，６層目にはＨｆＯ２を、１，３，５，７層目
にはＭｇＦ２を使用した構成の反射防止膜を成膜した。
して用い、基準波長λを５００ｎｍとして、表７のよう
に２，４，６層目にはＨｆＯ２を、１，３，５，７層目
にはＭｇＦ２を使用した構成の反射防止膜を成膜した。
【００４６】図７はこの反射防止膜の分光反射率であ
り、紫外域である３７０ｎｍから赤外域である８３０ｎ
ｍまでの広い波長転囲でおよそ１％以下の反射率であ
り、極めて良好な反射防止性能を有している。
り、紫外域である３７０ｎｍから赤外域である８３０ｎ
ｍまでの広い波長転囲でおよそ１％以下の反射率であ
り、極めて良好な反射防止性能を有している。
【００４７】また、反射防止膜が施されていないレンズ
の透過率は約８２％であるが、この実施の形態の反射防
止膜を両面に施したレンズの透過率は、３７０ｎｍから
７６０ｎｍの範囲で９８％以上と極めて良好であった。
の透過率は約８２％であるが、この実施の形態の反射防
止膜を両面に施したレンズの透過率は、３７０ｎｍから
７６０ｎｍの範囲で９８％以上と極めて良好であった。
【００４８】
【表７】
【００４９】（実施の形態８）屈折率１．５２のプラス
チック製レンズを基板として用い、基準波長λを５２０
ｎｍとして、表８のように２，４，６層目にはＴａ２Ｏ
５を、１，３，５層目にはＳｉＯ２を、７層目にはＭｇ
Ｆ２を使用した構成の反射防止膜を成膜した。
チック製レンズを基板として用い、基準波長λを５２０
ｎｍとして、表８のように２，４，６層目にはＴａ２Ｏ
５を、１，３，５層目にはＳｉＯ２を、７層目にはＭｇ
Ｆ２を使用した構成の反射防止膜を成膜した。
【００５０】図８はこの反射防止膜の分光反射率であ
り、紫外域である３５０ｎｍから赤外域である８００ｎ
ｍまでの広い波長範囲でおよそ１％以下の反射率であ
り、極めて良好な反射防止性能を有している。
り、紫外域である３５０ｎｍから赤外域である８００ｎ
ｍまでの広い波長範囲でおよそ１％以下の反射率であ
り、極めて良好な反射防止性能を有している。
【００５１】なお、２，４，６層目のＴａ２Ｏ５に代え
て、ＺｒＯ２、またはＺｒＯ２とＴａ２Ｏ５との混合物
等を使用してもほぼ同様な反射防止性能を得ることがで
きた。
て、ＺｒＯ２、またはＺｒＯ２とＴａ２Ｏ５との混合物
等を使用してもほぼ同様な反射防止性能を得ることがで
きた。
【００５２】
【表８】
【００５３】（実施の形態９）屈折率１．６２のガラス
製プリズムを基板として用い、基準波長λを５５０ｎｍ
として、表９のように実施の形態７とほば同じ構成の反
射防止膜を成膜した。
製プリズムを基板として用い、基準波長λを５５０ｎｍ
として、表９のように実施の形態７とほば同じ構成の反
射防止膜を成膜した。
【００５４】図９はこの反射防止膜の分光反射率であ
り、可視域である４００ｎｍから赤外域である８７０ｎ
ｍの広い波長範囲でおよそ１％以下の反射率であり、極
めて良好な反射防止性能を有している。
り、可視域である４００ｎｍから赤外域である８７０ｎ
ｍの広い波長範囲でおよそ１％以下の反射率であり、極
めて良好な反射防止性能を有している。
【００５５】この実施の形態では、実施の形態７に対し
基準波長を長波長側にシフトしたことにより、高い反射
防止性能を有する波長範囲を赤外域に移行させることが
できている。
基準波長を長波長側にシフトしたことにより、高い反射
防止性能を有する波長範囲を赤外域に移行させることが
できている。
【００５６】
【表９】
【００５７】（実施の形態１０）この実施の形態は、実
施の形態６と同様に、連続した波長域で反射率を下げた
ものである。
施の形態６と同様に、連続した波長域で反射率を下げた
ものである。
【００５８】屈折率１．４３のガラス製レンズを基板と
して用い、基準波長λを４７５ｎｍとして、表１０のよ
うに２，４，６層目にはＨｆＯ２を、１，３，５，７層
目にはＭｇＦ２を使用した構成の反射防止膜を成膜し
た。
して用い、基準波長λを４７５ｎｍとして、表１０のよ
うに２，４，６層目にはＨｆＯ２を、１，３，５，７層
目にはＭｇＦ２を使用した構成の反射防止膜を成膜し
た。
【００５９】図１０はこの反射防止膜の分光反射率であ
り、可視域である４００ｎｍから赤外域である８３０ｎ
ｍまでの広い波長範囲でおよそ１％以下の反射率であ
り、極めて良好な反射防止性能を有している。
り、可視域である４００ｎｍから赤外域である８３０ｎ
ｍまでの広い波長範囲でおよそ１％以下の反射率であ
り、極めて良好な反射防止性能を有している。
【００６０】また、反射防止膜が施されていないレンズ
の透過率は８８％であるが、この実施の形態の反射防止
膜を両面に施したレンズの透過率は、４００ｎｍから７
６０ｎｍの範囲で９８％以上と極めて良好であった。
の透過率は８８％であるが、この実施の形態の反射防止
膜を両面に施したレンズの透過率は、４００ｎｍから７
６０ｎｍの範囲で９８％以上と極めて良好であった。
【００６１】
【表１０】
【００６２】（実施の形態１１）この実施の形態では、
実施の形態５と同様に、３５０ｎｍから５００ｎｍの範
囲および７５０ｎｍから８００ｎｍの範囲で反射率を下
げた反射防止膜を示す。
実施の形態５と同様に、３５０ｎｍから５００ｎｍの範
囲および７５０ｎｍから８００ｎｍの範囲で反射率を下
げた反射防止膜を示す。
【００６３】屈折率１．５７のガラス製レンズを基板と
して用い、基準波長λを４８０ｎｍとして、表１１のよ
うに２，４，６層目にはＨｆＯ２を、１，３，５，７層
目にはＭｇＦ２を使用した構成の反射防止膜を成膜し
た。
して用い、基準波長λを４８０ｎｍとして、表１１のよ
うに２，４，６層目にはＨｆＯ２を、１，３，５，７層
目にはＭｇＦ２を使用した構成の反射防止膜を成膜し
た。
【００６４】図１１はこの反射防止膜の分光反射率であ
り、目的とする紫外域である３５０ｎｍから可視域であ
る５００ｎｍの範囲および赤外域である７５０ｎｍから
８００ｎｍの範囲でおよそ１％以下の反射率であり、極
めて良好な反射防止性能を有している。
り、目的とする紫外域である３５０ｎｍから可視域であ
る５００ｎｍの範囲および赤外域である７５０ｎｍから
８００ｎｍの範囲でおよそ１％以下の反射率であり、極
めて良好な反射防止性能を有している。
【００６５】また、反射防止膜が施されていないレンズ
の透過率は約８２％であるが、この実施の形態の反射防
止膜を両面に施したレンズの透過率は、紫外域である３
５０ｎｍから可視域である５００ｎｍの範囲および赤外
域である７５０ｎｍから８００ｎｍの範囲で９８％以上
と極めて良好であった。
の透過率は約８２％であるが、この実施の形態の反射防
止膜を両面に施したレンズの透過率は、紫外域である３
５０ｎｍから可視域である５００ｎｍの範囲および赤外
域である７５０ｎｍから８００ｎｍの範囲で９８％以上
と極めて良好であった。
【００６６】
【表１１】
【００６７】（実施の形態１２）この実施の形態では、
３７０ｎｍから５７０ｎｍの範囲および７５０ｎｍから
８３０ｎｍの範囲で反射率を下げた反射防止膜を示す。
光学機器によっては実際に使用する波長が離散的な場合
も多く、この実施の形態はこのように使用する波長域の
みで反射率を下げた形態である。
３７０ｎｍから５７０ｎｍの範囲および７５０ｎｍから
８３０ｎｍの範囲で反射率を下げた反射防止膜を示す。
光学機器によっては実際に使用する波長が離散的な場合
も多く、この実施の形態はこのように使用する波長域の
みで反射率を下げた形態である。
【００６８】屈折率１．４４のガラス製レンズを基板と
して用い、基準波長λを５２０ｎｍとして、表１２のよ
うに１，３，５，７，９，１１，１３層目にはＭｇＦ２
を、２，４，６，８，１０，１２層目にはＨｆＯ２を使
用した構成の反射防止膜を成膜した。
して用い、基準波長λを５２０ｎｍとして、表１２のよ
うに１，３，５，７，９，１１，１３層目にはＭｇＦ２
を、２，４，６，８，１０，１２層目にはＨｆＯ２を使
用した構成の反射防止膜を成膜した。
【００６９】図１２はこの反射防止膜の分光反射率であ
り、目的とする紫外域である３７０ｎｍから可視域であ
る５７０ｎｍの範囲および赤外域である７５０ｎｍから
８３０ｎｍの範囲で、およそ０．５％以下の反射率であ
り、極めて良好な反射防止性能を有している。
り、目的とする紫外域である３７０ｎｍから可視域であ
る５７０ｎｍの範囲および赤外域である７５０ｎｍから
８３０ｎｍの範囲で、およそ０．５％以下の反射率であ
り、極めて良好な反射防止性能を有している。
【００７０】この実施の形態では、１，３，５，７，
９，１１，１３層目のＭｇＦ２に代えてＳｉＯ２を、
２，４，６，８，１０，１２層目のＨｆＯ２に代えてＴ
ａ２Ｏ５を使用して成膜してもほぼ同様な反射防止性能
を得ることができた。
９，１１，１３層目のＭｇＦ２に代えてＳｉＯ２を、
２，４，６，８，１０，１２層目のＨｆＯ２に代えてＴ
ａ２Ｏ５を使用して成膜してもほぼ同様な反射防止性能
を得ることができた。
【００７１】また、空気との接触面を１６面有する複数
のレンズ群の各面に対して、この実施の形態の反射防止
膜を施したレンズ群トータルの透過率は、紫外域である
３７０ｎｍから可視域である５７０ｎｍの範囲および赤
外域である７５０ｎｍから８３０ｎｍの範囲で９２％以
上と極めて良好であった。
のレンズ群の各面に対して、この実施の形態の反射防止
膜を施したレンズ群トータルの透過率は、紫外域である
３７０ｎｍから可視域である５７０ｎｍの範囲および赤
外域である７５０ｎｍから８３０ｎｍの範囲で９２％以
上と極めて良好であった。
【００７２】
【表１２】
【００７３】（実施の形態１３）屈折率１．５２のガラ
ス製レンズを基板として用い、基準波長λを５７０ｎｍ
として、表１３のように１，３，５，７，９，１１，１
３層目にはＭｇＦ２を、２，４，６，８，１０，１２層
目にはＨｆＯ２を使用した構成の反射防止膜を成膜し
た。
ス製レンズを基板として用い、基準波長λを５７０ｎｍ
として、表１３のように１，３，５，７，９，１１，１
３層目にはＭｇＦ２を、２，４，６，８，１０，１２層
目にはＨｆＯ２を使用した構成の反射防止膜を成膜し
た。
【００７４】図１３はこの反射防止膜の分光反射率であ
り、紫外域である３６０ｎｍから可視域である５５０ｎ
ｍの範囲および赤外域である７３０ｎｍから８１０ｎｍ
の範囲で、およそ０．５％以下の反射率であり、極めて
良好な反射防止性能を有している。
り、紫外域である３６０ｎｍから可視域である５５０ｎ
ｍの範囲および赤外域である７３０ｎｍから８１０ｎｍ
の範囲で、およそ０．５％以下の反射率であり、極めて
良好な反射防止性能を有している。
【００７５】また、空気との接触面を１６面有する複数
のレンズ群の各面に対して、この実施の形態の反射防止
膜を施したレンズ群トータルの透過率は、紫外域である
３６０ｎｍから可視域である５５０ｎｍの範囲および赤
外域である７３０ｎｍから８１０ｎｍの範囲で９２％以
上と極めて良好であった。
のレンズ群の各面に対して、この実施の形態の反射防止
膜を施したレンズ群トータルの透過率は、紫外域である
３６０ｎｍから可視域である５５０ｎｍの範囲および赤
外域である７３０ｎｍから８１０ｎｍの範囲で９２％以
上と極めて良好であった。
【００７６】
【表１３】
【００７７】（実施の形態１４）屈折率１．７６のガラ
ス製レンズを基板として用い、基準波長λを５８０ｎｍ
として、表１４のように１，３，５，７，９，１１，１
３層目にはＭｇＦ２を、２，４，６，８，１０，１２層
目にはＨｆＯ２を使用した構成の反射防止膜を成膜し
た。
ス製レンズを基板として用い、基準波長λを５８０ｎｍ
として、表１４のように１，３，５，７，９，１１，１
３層目にはＭｇＦ２を、２，４，６，８，１０，１２層
目にはＨｆＯ２を使用した構成の反射防止膜を成膜し
た。
【００７８】図１４はこの反射防止膜の分光反射率であ
り、紫外域である３６０ｎｍから可視域である５６０ｎ
ｍの範囲および赤外域である７４０ｎｍから８３０ｎｍ
の範囲でおよそ０．５％以下の反射率であり、極めて良
好な反射防止性能を有している。
り、紫外域である３６０ｎｍから可視域である５６０ｎ
ｍの範囲および赤外域である７４０ｎｍから８３０ｎｍ
の範囲でおよそ０．５％以下の反射率であり、極めて良
好な反射防止性能を有している。
【００７９】また、空気との接触面を１６面有する複数
のレンズ群の各面に対して、この実施の形態の反射防止
膜を施したレンズ群トータルの透過率は、紫外域である
３６０ｎｍから可視域である５６０ｎｍの範囲および赤
外域である７４０ｎｍから８３０ｎｍの範囲で９２％以
上と極めて良好であった。
のレンズ群の各面に対して、この実施の形態の反射防止
膜を施したレンズ群トータルの透過率は、紫外域である
３６０ｎｍから可視域である５６０ｎｍの範囲および赤
外域である７４０ｎｍから８３０ｎｍの範囲で９２％以
上と極めて良好であった。
【００８０】
【表１４】
【００８１】
【発明の効果】以上説明したように、請求項１〜３の発
明の反射防止膜によれば、紫外域から赤外域にわたる広
い波長域で高い反射防止性能を有することができる。ま
た使用状況に応じて、実際に使用する特定の波長域で選
択的に反射率を下げた反射防止膜や、広い波長域全体で
反射率を下げた反射防止膜とすることができる。
明の反射防止膜によれば、紫外域から赤外域にわたる広
い波長域で高い反射防止性能を有することができる。ま
た使用状況に応じて、実際に使用する特定の波長域で選
択的に反射率を下げた反射防止膜や、広い波長域全体で
反射率を下げた反射防止膜とすることができる。
【００８２】請求項４の発明の光学素子によれば、紫外
域から赤外域にわたる広い波長域で高い反射防止効果が
あり、その結果、広い波長範囲で高い透過率を有したも
のとすることができる
域から赤外域にわたる広い波長域で高い反射防止効果が
あり、その結果、広い波長範囲で高い透過率を有したも
のとすることができる
【図面の簡単な説明】
【図１】実施の形態１の反射防止膜の分光反射率の特性
図である。
図である。
【図２】実施の形態２の反射防止膜の分光反射率の特性
図である。
図である。
【図３】実施の形態３の反射防止膜の分光反射率の特性
図である。
図である。
【図４】実施の形態４の反射防止膜の分光反射率の特性
図である。
図である。
【図５】実施の形態５の反射防止膜の分光反射率の特性
図である。
図である。
【図６】実施の形態６の反射防止膜の分光反射率の特性
図である。
図である。
【図７】実施の形態７の反射防止膜の分光反射率の特性
図である。
図である。
【図８】実施の形態８の反射防止膜の分光反射率の特性
図である。
図である。
【図９】実施の形態９の反射防止膜の分光反射率の特性
図である。
図である。
【図１０】実施の形態１０の反射防止膜の分光反射率の
特性図である。
特性図である。
【図１１】実施の形態１１の反射防止膜の分光反射率の
特性図である。
特性図である。
【図１２】実施の形態１２の反射防止膜の分光反射率の
特性図である。
特性図である。
【図１３】実施の形態１３の反射防止膜の分光反射率の
特性図である。
特性図である。
【図１４】実施の形態１４の反射防止膜の分光反射率の
特性図である。
特性図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 渡邊 正 東京都渋谷区幡ヶ谷２丁目43番２号 オリ ンパス光学工業株式会社内 (72)発明者 出口 武司 東京都渋谷区幡ヶ谷２丁目43番２号 オリ ンパス光学工業株式会社内 (72)発明者 豊原 延好 東京都渋谷区幡ヶ谷２丁目43番２号 オリ ンパス光学工業株式会社内 (72)発明者 鵜澤 邦彦 東京都渋谷区幡ヶ谷２丁目43番２号 オリ ンパス光学工業株式会社内 Ｆターム(参考） 2K009 AA09 BB02 BB11 CC03 CC06 4G059 AA11 AB11 AC04 EA01 EB03 GA02 GA04 GA12
Claims (4)
- 【請求項１】 屈折率が１．６５〜１．８５の範囲にあ
る基板に設けられる反射防止膜であって、基板側から数
えて第１，３，５層にＨｆＯ２，ＺｒＯ２，Ｔａ
２Ｏ５，Ｙ２Ｏ３のいずれか又はこれらの混合物が、第
２，４層にＳｉＯ２またはＭｇＦ２が、第６層にＭｇＦ
２がそれぞれ成膜されており、基準波長をλとしたとき
の各層の光学的膜厚が、第１層は（０．３６〜０．４
７）×λ／４、第２層は（０．０８〜０．１８）×λ／
４、第３層は（１．１１〜１．２２）×λ／４、第４層
は（０．１７〜０．２３）×λ／４、第５層は（０．４
５〜０．４６）×λ／４、第６層は（０．８０〜１．２
０）×λ／４となっていることを特徴とする反射防止
膜。 - 【請求項２】 屈折率が１．４２〜１．６５の範囲にあ
る基板に設けられる反射防止膜であって、基板側から数
えて第２，４，６層にＨｆＯ２，ＺｒＯ２，Ｔａ
２Ｏ５，Ｙ２Ｏ３のいずれか又はこれらの混合物が、第
１，３，５層にＳｉＯ２またはＭｇＦ２が、第７層にＭ
ｇＦ２がそれぞれ成膜されており、基準波長をλとした
ときの各層の光学的膜厚が、第１層は（０．０５〜２．
４４）×λ／４、第２層は（０．３２〜０．４５）×λ
／４、第３層は（０．２９〜０．４３）×λ／４、第４
層は（０．７７〜１．７２）×λ／４、第５層は（０．
０７〜０．３８）×λ／４、第６層は（０．４８〜０．
７０）×λ／４、第７層は（１．００〜１．３６）×λ
／４となっていることを特徴とする反射防止膜。 - 【請求項３】 屈折率が１．４４〜１．７６の範囲にあ
る基板に設けられる反射防止膜であって、基板側から数
えて第２，４，６，８，１０，１２層にＨｆＯ２，Ｚｒ
Ｏ２，Ｔａ２Ｏ５，Ｙ２Ｏ３のいずれか又はこれらの混
合物が、第１，３，５，７，９，１１，１３層にＳｉＯ
２またはＭｇＦ２がそれぞれ成膜されており、基準波長
をλとしたときの各層の光学的膜厚が、第１層は（０．
０２〜０．５３）×λ／４、第２層は（０．０６〜０．
４４）×λ／４、第３層は（０．３３〜０．８４）×λ
／４、第４層は（０．１０〜０．５０）×λ／４、第５
層は（０．５８〜１．２０）×λ／４、策６層は（０．
０４〜０．２１）×λ／４、第７層は（０．５５〜１．
１４）×λ／４、第８層は（０．３０〜０．５４）×λ
／４、第９層は（０．１５〜０．４４）×λ／４、第１
０層は（０．２９〜１．２５）×λ／４、第１１層は
（０．１４〜０．２９）×λ／４、第１２層は（０．４
５〜０．６２）×λ／４、第１３層は（０．８０〜１．
２０）×λ／４となっていることを特徴とする反射防止
膜。 - 【請求項４】 請求項１〜３のいずれかに記載の反射防
止膜が基板に設けられていることを特徴とする光学素
子。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001080185A JP2002277606A (ja) | 2001-03-21 | 2001-03-21 | 反射防止膜及び光学素子 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001080185A JP2002277606A (ja) | 2001-03-21 | 2001-03-21 | 反射防止膜及び光学素子 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002277606A true JP2002277606A (ja) | 2002-09-25 |
Family
ID=18936508
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001080185A Withdrawn JP2002277606A (ja) | 2001-03-21 | 2001-03-21 | 反射防止膜及び光学素子 |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002277606A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005274527A (ja) * | 2004-03-26 | 2005-10-06 | Cimeo Precision Co Ltd | 時計用カバーガラス |
| JP2008233403A (ja) * | 2007-03-19 | 2008-10-02 | Hoya Corp | 反射防止膜及びこれを有する光学部品 |
| JP2010079013A (ja) * | 2008-09-26 | 2010-04-08 | Nittoh Kogaku Kk | 光学部材の製造法および光学部材 |
| CN103226216A (zh) * | 2013-04-08 | 2013-07-31 | 长春理工大学 | 一种日盲***中紫外诱导滤光片的设计 |
| JP2014115541A (ja) * | 2012-12-11 | 2014-06-26 | Ricoh Imaging Co Ltd | 反射防止膜、それを用いた光学部材、及び光学機器 |
| CN110007374A (zh) * | 2019-03-26 | 2019-07-12 | 上海域申光电科技有限公司 | 一种高功率激光焊接窗口片膜系镀制工艺 |
-
2001
- 2001-03-21 JP JP2001080185A patent/JP2002277606A/ja not_active Withdrawn
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|---|---|---|---|---|
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| CN110007374A (zh) * | 2019-03-26 | 2019-07-12 | 上海域申光电科技有限公司 | 一种高功率激光焊接窗口片膜系镀制工艺 |
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