JP2002275605A - 貴金属装飾部品とその製造方法および貴金属装飾部品の製造装置 - Google Patents
貴金属装飾部品とその製造方法および貴金属装飾部品の製造装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 高硬度でキズのつきにくいＰｔを含む貴金属
装飾部品とその製造方法および貴金属装飾部品の製造装
置を提供すること。 【解決手段】 Ｐｔを含む貴金属装飾部品の表面にアモ
ルファス合金を主体とする硬化層を形成させることによ
り、耐衝撃によるキズが発生しない高硬度の貴金属装飾
部品が達成される。
装飾部品とその製造方法および貴金属装飾部品の製造装
置を提供すること。 【解決手段】 Ｐｔを含む貴金属装飾部品の表面にアモ
ルファス合金を主体とする硬化層を形成させることによ
り、耐衝撃によるキズが発生しない高硬度の貴金属装飾
部品が達成される。
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、表面に硬化層を有
しＰｔを含有する貴金属装飾部品とその製造方法および
貴金属装飾部品の製造装置に関するものである。
しＰｔを含有する貴金属装飾部品とその製造方法および
貴金属装飾部品の製造装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】時計ケ−ス、時計バンド、時計ベゼル、
ピアス、イヤリング、指輪、メガネフ−ム、ペンダン
ト、ネックレス、ブレスレット、ブロ−チなどの装飾部
品にはＡｕ、Ａｇ、Ｐｄ、Ｐｔなどの軟質貴金属材料が
使用されているが、使用中のキズ発生などによる外観品
質の低下が大きな問題として指摘されている。これは主
に、軟質貴金属材料自身の表面硬度がビッカ−ス硬度で
Ｈｖ＝２００程度の低硬度であることに起因するもので
あり、解決を目指して種々の硬化処理が試みられてい
る。
ピアス、イヤリング、指輪、メガネフ−ム、ペンダン
ト、ネックレス、ブレスレット、ブロ−チなどの装飾部
品にはＡｕ、Ａｇ、Ｐｄ、Ｐｔなどの軟質貴金属材料が
使用されているが、使用中のキズ発生などによる外観品
質の低下が大きな問題として指摘されている。これは主
に、軟質貴金属材料自身の表面硬度がビッカ−ス硬度で
Ｈｖ＝２００程度の低硬度であることに起因するもので
あり、解決を目指して種々の硬化処理が試みられてい
る。
【０００３】軟質貴金属材料の硬化方法には、軟質貴金
属材料表面に被膜を被履形成する方法と軟質貴金属材料
自身を硬化する方法がある。
属材料表面に被膜を被履形成する方法と軟質貴金属材料
自身を硬化する方法がある。
【０００４】軟質貴金属材料表面に被膜を被覆形成する
方法には、湿式メッキ、イオンプレ−ティングなどの手
法があげられる。特に時計外装部品では、貴金属元素で
あるＲｈメッキ、Ｐｄメッキ、Ａｕメッキなどが広く行
われているが、いずれのメッキ被膜も軟らかく使用中の
キズが解消するまでには至っていない。またイオンプレ
−ティングではＰｔ膜、Ｒｈ膜などを被覆形成する手法
があげられるが、これらＰｔ膜、Ｒｈ膜などのイオンプ
レ−ティング被膜もメッキ被膜と同様に軟らかく、また
密着性に難点があり剥離が発生しやすいという欠点があ
り、いずれも膜剥離問題に対しては完全に解決するまで
には至っていない。
方法には、湿式メッキ、イオンプレ−ティングなどの手
法があげられる。特に時計外装部品では、貴金属元素で
あるＲｈメッキ、Ｐｄメッキ、Ａｕメッキなどが広く行
われているが、いずれのメッキ被膜も軟らかく使用中の
キズが解消するまでには至っていない。またイオンプレ
−ティングではＰｔ膜、Ｒｈ膜などを被覆形成する手法
があげられるが、これらＰｔ膜、Ｒｈ膜などのイオンプ
レ−ティング被膜もメッキ被膜と同様に軟らかく、また
密着性に難点があり剥離が発生しやすいという欠点があ
り、いずれも膜剥離問題に対しては完全に解決するまで
には至っていない。
【０００５】軟質基材自身を硬化する方法としては貴金
属元素に、他の金属元素を添加し合金化させ貴金属材料
自身を硬化させる方法があるが、Ａｕの場合ではＣｕ、
Ａｇを添加した１８Ｋ、２４Ｋなどの合金でもビッカ−
ス硬度はさほど上昇せず、また、Ｐｄ、ＰｔなどにＣ
ｕ、Ｎｉ、Ｐなどを添加し合金化させた場合でも同様に
ビッカ−ス硬度はさほど上昇しない。従って、使用中に
発生するキズが解消するまでには至っていない。
属元素に、他の金属元素を添加し合金化させ貴金属材料
自身を硬化させる方法があるが、Ａｕの場合ではＣｕ、
Ａｇを添加した１８Ｋ、２４Ｋなどの合金でもビッカ−
ス硬度はさほど上昇せず、また、Ｐｄ、ＰｔなどにＣ
ｕ、Ｎｉ、Ｐなどを添加し合金化させた場合でも同様に
ビッカ−ス硬度はさほど上昇しない。従って、使用中に
発生するキズが解消するまでには至っていない。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、使用
中に傷が発生しない高硬度の装飾部品、特にＰｔを含む
貴金属装飾部品とその製造方法および貴金属装飾部品の
製造装置を提供することにある。
中に傷が発生しない高硬度の装飾部品、特にＰｔを含む
貴金属装飾部品とその製造方法および貴金属装飾部品の
製造装置を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明の貴金属装飾部品
は、貴金属合金材料の表面に硬化層を有する貴金属装飾
部品であって、その硬化層がアモルファス合金を主体と
する硬化層であることを特徴とする。貴金属合金材料は
Ｐｔを含有することが好ましい。また硬化層はＰｔを含
有することを好ましく、さらに硬化層はＰｔ−Ｃｕ−Ｎ
ｉ−Ｐ系合金、Ｐｔ−Ｐｄ−Ｃｕ−Ｎｉ−Ｐ系合金、Ｐ
ｔ−Ｎｉ−Ｐ系合金またはＰｔ−Ｐｄ−Ｎｉ−Ｐ系合金
のいずれかであることが好ましい。貴金属装飾部品は、
時計ケ−ス、時計バンド、時計ベゼル、ピアス、イヤリ
ング、指輪、メガネフレ−ム、ペンダント、ネックレ
ス、ブレスレット、ブロ−チであることが好ましい。
は、貴金属合金材料の表面に硬化層を有する貴金属装飾
部品であって、その硬化層がアモルファス合金を主体と
する硬化層であることを特徴とする。貴金属合金材料は
Ｐｔを含有することが好ましい。また硬化層はＰｔを含
有することを好ましく、さらに硬化層はＰｔ−Ｃｕ−Ｎ
ｉ−Ｐ系合金、Ｐｔ−Ｐｄ−Ｃｕ−Ｎｉ−Ｐ系合金、Ｐ
ｔ−Ｎｉ−Ｐ系合金またはＰｔ−Ｐｄ−Ｎｉ−Ｐ系合金
のいずれかであることが好ましい。貴金属装飾部品は、
時計ケ−ス、時計バンド、時計ベゼル、ピアス、イヤリ
ング、指輪、メガネフレ−ム、ペンダント、ネックレ
ス、ブレスレット、ブロ−チであることが好ましい。
【０００８】本発明の貴金属装飾部品の製造方法は、真
空装置内に貴金属合金材料を配置する工程と、真空装置
内を真空排気した後に不活性ガスを導入した雰囲気中で
貴金属合金材料の表面を加熱手段により加熱し表面のみ
を溶融させる工程と、表面のみが前記加熱手段により溶
融させられた貴金属合金材料の表面を冷却媒体により急
冷させる工程とを有することを特徴とする。加熱手段
は、高周波誘導加熱または電子ビ−ム、レ−ザ−光など
の光線照射であることが好ましい。また冷却媒体は、
水、液体窒素またはエチレングリコ−ルのいずれかであ
ることが好ましい。
空装置内に貴金属合金材料を配置する工程と、真空装置
内を真空排気した後に不活性ガスを導入した雰囲気中で
貴金属合金材料の表面を加熱手段により加熱し表面のみ
を溶融させる工程と、表面のみが前記加熱手段により溶
融させられた貴金属合金材料の表面を冷却媒体により急
冷させる工程とを有することを特徴とする。加熱手段
は、高周波誘導加熱または電子ビ−ム、レ−ザ−光など
の光線照射であることが好ましい。また冷却媒体は、
水、液体窒素またはエチレングリコ−ルのいずれかであ
ることが好ましい。
【０００９】本発明の貴金属装飾部品の製造装置は、ガ
ス導入口とガス排気口を備え内部が真空排気される真空
装置と、前記真空装置とゲ−トバルブで接続されてガス
導入口とガス排気口と冷却媒体導入口と冷却媒体排出口
を備えた冷却室と、前記装置内部に設けられて貴金属合
金材料を載置させる支持台と、前記支持台の近傍あるい
は外部に設けられて前記支持台上に載置された前記貴金
属合金材料を加熱させる加熱手段と、前記冷却室内部に
設けられて前記真空装置とゲ−トバルブを挟んで前記支
持台の鉛直下方部に設けられて冷却媒体により前記貴金
属合金材料を急冷させる冷却容器とを備えたことを特徴
とする。加熱手段は、高周波誘導加熱または電子ビ−
ム、レ−ザ−光などの光線照射であることが好ましい。
また冷却媒体は、水、液体窒素またはエチレングリコ−
ルのいずれかであることが好ましい。
ス導入口とガス排気口を備え内部が真空排気される真空
装置と、前記真空装置とゲ−トバルブで接続されてガス
導入口とガス排気口と冷却媒体導入口と冷却媒体排出口
を備えた冷却室と、前記装置内部に設けられて貴金属合
金材料を載置させる支持台と、前記支持台の近傍あるい
は外部に設けられて前記支持台上に載置された前記貴金
属合金材料を加熱させる加熱手段と、前記冷却室内部に
設けられて前記真空装置とゲ−トバルブを挟んで前記支
持台の鉛直下方部に設けられて冷却媒体により前記貴金
属合金材料を急冷させる冷却容器とを備えたことを特徴
とする。加熱手段は、高周波誘導加熱または電子ビ−
ム、レ−ザ−光などの光線照射であることが好ましい。
また冷却媒体は、水、液体窒素またはエチレングリコ−
ルのいずれかであることが好ましい。
【００１０】具体的には、Ｐｔを含有するＰｔ−Ｃｕ−
Ｎｉ−Ｐ系合金、Ｐｔ−Ｐｄ−Ｃｕ−Ｎｉ−Ｐ系合金、
Ｐｔ−Ｎｉ−Ｐ系合金またはＰｔ−Ｐｄ−Ｎｉ−Ｐ系合
金のいずれか、からなる時計ケ−ス、時計バンド、時計
ベゼル、ピアス、イヤリング、指輪、メガネフレ−ム、
ペンダント、ネックレス、ブレスレット、ブロ−チなど
の貴金属合金材料の表面にアモルファス合金を主体とす
る硬化層を形成させることである。
Ｎｉ−Ｐ系合金、Ｐｔ−Ｐｄ−Ｃｕ−Ｎｉ−Ｐ系合金、
Ｐｔ−Ｎｉ−Ｐ系合金またはＰｔ−Ｐｄ−Ｎｉ−Ｐ系合
金のいずれか、からなる時計ケ−ス、時計バンド、時計
ベゼル、ピアス、イヤリング、指輪、メガネフレ−ム、
ペンダント、ネックレス、ブレスレット、ブロ−チなど
の貴金属合金材料の表面にアモルファス合金を主体とす
る硬化層を形成させることである。
【００１１】上記目的を達成するために、本発明の貴金
属合金材料の表面にアモルファス合金を主体とする硬化
層を形成させる製造方法は、真空装置内に貴金属装飾部
品を配置する工程と、真空排気した後に不活性ガスを導
入した雰囲気中で貴金属装飾部品の表面のみを加熱手段
により溶融させる工程と、冷却媒体により貴金属装飾部
品の表面を急冷させる工程とからなる工程を経ることに
よりアモルファス合金を主体とする硬化層を形成させる
ことを特徴とするものである。
属合金材料の表面にアモルファス合金を主体とする硬化
層を形成させる製造方法は、真空装置内に貴金属装飾部
品を配置する工程と、真空排気した後に不活性ガスを導
入した雰囲気中で貴金属装飾部品の表面のみを加熱手段
により溶融させる工程と、冷却媒体により貴金属装飾部
品の表面を急冷させる工程とからなる工程を経ることに
よりアモルファス合金を主体とする硬化層を形成させる
ことを特徴とするものである。
【００１２】具体的には、Ｐｔを含有するＰｔ−Ｃｕ−
Ｎｉ−Ｐ系合金、Ｐｔ−Ｐｄ−Ｃｕ−Ｎｉ−Ｐ系合金、
Ｐｔ−Ｎｉ−Ｐ系合金またはＰｔ−Ｐｄ−Ｎｉ−Ｐ系合
金のいずれか、からなる時計ケ−ス、時計バンド、時計
ベゼル、ピアス、イヤリング、指輪、メガネフレ−ム、
ペンダント、ネックレス、ブレスレット、ブロ−チなど
の貴金属合金材料の表面のみを不活性ガス雰囲気中で高
周波誘導加熱またはレ−ザ−光、電子ビ−ムなどの光線
照射により加熱した後、水、液体窒素、エチレングリコ
−ル中に浸漬させて急冷させることで、貴金属合金材料
の表面に高硬度のアモルファス合金を主体とする硬化層
を形成させることが可能となる。
Ｎｉ−Ｐ系合金、Ｐｔ−Ｐｄ−Ｃｕ−Ｎｉ−Ｐ系合金、
Ｐｔ−Ｎｉ−Ｐ系合金またはＰｔ−Ｐｄ−Ｎｉ−Ｐ系合
金のいずれか、からなる時計ケ−ス、時計バンド、時計
ベゼル、ピアス、イヤリング、指輪、メガネフレ−ム、
ペンダント、ネックレス、ブレスレット、ブロ−チなど
の貴金属合金材料の表面のみを不活性ガス雰囲気中で高
周波誘導加熱またはレ−ザ−光、電子ビ−ムなどの光線
照射により加熱した後、水、液体窒素、エチレングリコ
−ル中に浸漬させて急冷させることで、貴金属合金材料
の表面に高硬度のアモルファス合金を主体とする硬化層
を形成させることが可能となる。
【００１３】また、本発明の貴金属合金材料の表面にア
モルファス合金を主体とする硬化層を形成させる貴金属
装飾部品の製造装置は、ガス導入口とガス排気口を備え
内部が真空排気される装置と、前記装置内部に設けられ
て貴金属合金材料を載置させる支持台と、前記支持台の
近傍または外部に設けられて前記支持台上に載置された
前記貴金属合金材料を高周波誘導加熱または光線照射な
どにより加熱させる加熱手段と、前記装置内部の前記支
持台の鉛直下方部に設けられて水、液体窒素、エチレン
グリコ−ルなどの冷却媒体により前記貴金属合金材料を
急冷させる容器とを備えたことを特徴とするものであ
る。
モルファス合金を主体とする硬化層を形成させる貴金属
装飾部品の製造装置は、ガス導入口とガス排気口を備え
内部が真空排気される装置と、前記装置内部に設けられ
て貴金属合金材料を載置させる支持台と、前記支持台の
近傍または外部に設けられて前記支持台上に載置された
前記貴金属合金材料を高周波誘導加熱または光線照射な
どにより加熱させる加熱手段と、前記装置内部の前記支
持台の鉛直下方部に設けられて水、液体窒素、エチレン
グリコ−ルなどの冷却媒体により前記貴金属合金材料を
急冷させる容器とを備えたことを特徴とするものであ
る。
【００１４】（作用）アモルファス合金を主体とする硬
化層は各種あるが、その特徴はいずれも酸やアルカリに
対して長時間の浸漬でも腐蝕が全く発生せず、機械的強
度が高いことである。さらにアモルファス合金の持つ特
徴として高鏡面性が挙げられる。そこで、Ｐｔを含有す
るＰｔ−Ｃｕ−Ｎｉ−Ｐ系合金、Ｐｔ−Ｐｄ−Ｃｕ−Ｎ
ｉ−Ｐ系合金、Ｐｔ−Ｎｉ−Ｐ系合金またはＰｔ−Ｐｄ
−Ｎｉ−Ｐ系合金のいずれか、からなる貴金属合金材料
を使用し、あらかじめ、時計ケ−ス、時計バンド、時計
ベゼル、ピアス、イヤリング、指輪、メガネフレ−ム、
ペンダント、ネックレス、ブレスレット、ブロ−チなど
の所望の形状に作製後、不活性ガス雰囲気中で高周波誘
導加熱またはレ−ザ−光、電子ビ−ムなどの光線照射に
より加熱した後、水、液体窒素、エチレングリコ−ル中
に浸漬させて急冷させることで、Ｐｔを含む貴金属合金
材料の表面に高硬度のアモルファス合金を主体とする硬
化層が形成され、耐衝撃によるキズが発生しない高硬度
の貴金属装飾部品が達成されるのである。
化層は各種あるが、その特徴はいずれも酸やアルカリに
対して長時間の浸漬でも腐蝕が全く発生せず、機械的強
度が高いことである。さらにアモルファス合金の持つ特
徴として高鏡面性が挙げられる。そこで、Ｐｔを含有す
るＰｔ−Ｃｕ−Ｎｉ−Ｐ系合金、Ｐｔ−Ｐｄ−Ｃｕ−Ｎ
ｉ−Ｐ系合金、Ｐｔ−Ｎｉ−Ｐ系合金またはＰｔ−Ｐｄ
−Ｎｉ−Ｐ系合金のいずれか、からなる貴金属合金材料
を使用し、あらかじめ、時計ケ−ス、時計バンド、時計
ベゼル、ピアス、イヤリング、指輪、メガネフレ−ム、
ペンダント、ネックレス、ブレスレット、ブロ−チなど
の所望の形状に作製後、不活性ガス雰囲気中で高周波誘
導加熱またはレ−ザ−光、電子ビ−ムなどの光線照射に
より加熱した後、水、液体窒素、エチレングリコ−ル中
に浸漬させて急冷させることで、Ｐｔを含む貴金属合金
材料の表面に高硬度のアモルファス合金を主体とする硬
化層が形成され、耐衝撃によるキズが発生しない高硬度
の貴金属装飾部品が達成されるのである。
【００１５】
【発明の実施の形態】本発明の貴金属装飾部品は、Ｐｔ
を含有するＰｔ−Ｃｕ−Ｎｉ−Ｐ系合金、Ｐｔ−Ｐｄ−
Ｃｕ−Ｎｉ−Ｐ系合金、Ｐｔ−Ｎｉ−Ｐ系合金またはＰ
ｔ−Ｐｄ−Ｎｉ−Ｐ系合金のいずれか、からなる時計ケ
−ス、時計バンド、時計ベゼル、ピアス、イヤリング、
指輪、メガネフレ−ム、ペンダント、ネックレス、ブレ
スレット、ブロ−チなどの貴金属合金材料の表面に硬化
層を有する貴金属装飾部品であって、その硬化層がアモ
ルファス合金を主体とする硬化層であることを特徴とす
るものである。
を含有するＰｔ−Ｃｕ−Ｎｉ−Ｐ系合金、Ｐｔ−Ｐｄ−
Ｃｕ−Ｎｉ−Ｐ系合金、Ｐｔ−Ｎｉ−Ｐ系合金またはＰ
ｔ−Ｐｄ−Ｎｉ−Ｐ系合金のいずれか、からなる時計ケ
−ス、時計バンド、時計ベゼル、ピアス、イヤリング、
指輪、メガネフレ−ム、ペンダント、ネックレス、ブレ
スレット、ブロ−チなどの貴金属合金材料の表面に硬化
層を有する貴金属装飾部品であって、その硬化層がアモ
ルファス合金を主体とする硬化層であることを特徴とす
るものである。
【００１６】本発明の貴金属装飾部品の製造方法は、真
空装置内に貴金属合金材料を配置し、真空装置内を真空
排気した後に不活性ガスを導入した雰囲気中で貴金属合
金材料の表面を高周波誘導加熱または電子ビ−ム、レ−
ザ−光などの光線照射により加熱し表面のみを溶融させ
た後、貴金属合金材料を水、液体窒素またはエチレング
リコ−ルなどの冷却媒中に浸漬させて急冷させることで
貴金属合金材料の表面にアモルファス合金を主体とする
硬化層が形成された貴金属装飾部品が達成されることを
特徴とする。
空装置内に貴金属合金材料を配置し、真空装置内を真空
排気した後に不活性ガスを導入した雰囲気中で貴金属合
金材料の表面を高周波誘導加熱または電子ビ−ム、レ−
ザ−光などの光線照射により加熱し表面のみを溶融させ
た後、貴金属合金材料を水、液体窒素またはエチレング
リコ−ルなどの冷却媒中に浸漬させて急冷させることで
貴金属合金材料の表面にアモルファス合金を主体とする
硬化層が形成された貴金属装飾部品が達成されることを
特徴とする。
【００１７】本発明の貴金属装飾部品の製造装置は、ガ
ス導入口とガス排気口を備え内部が真空排気可能となっ
ている真空装置とゲ−トバルブで接続されてガス導入口
とガス排気口と冷却媒体導入口と冷却媒体排出口を備え
た冷却室から構成され、真空装置内部には貴金属合金材
料を載置させる支持台が設けられてあり、貴金属合金材
料を加熱するための加熱手段は高周波コイルの場合には
支持台の近傍に配置され、電子ビ−ム、レ−ザ−光など
の光線照射の場合には真空装置の外部にそれぞれの加熱
手段が設けられている。冷却室の内部には、貴金属合金
材料を急冷させるための水、液体窒素またはエチレング
リコ−ルなどの冷却媒体が入れられた冷却容器が設けら
れていることを特徴とする。
ス導入口とガス排気口を備え内部が真空排気可能となっ
ている真空装置とゲ−トバルブで接続されてガス導入口
とガス排気口と冷却媒体導入口と冷却媒体排出口を備え
た冷却室から構成され、真空装置内部には貴金属合金材
料を載置させる支持台が設けられてあり、貴金属合金材
料を加熱するための加熱手段は高周波コイルの場合には
支持台の近傍に配置され、電子ビ−ム、レ−ザ−光など
の光線照射の場合には真空装置の外部にそれぞれの加熱
手段が設けられている。冷却室の内部には、貴金属合金
材料を急冷させるための水、液体窒素またはエチレング
リコ−ルなどの冷却媒体が入れられた冷却容器が設けら
れていることを特徴とする。
【００１８】（実施例１）本発明の第１の実施例を図１
および図２を用いて説明する。図１は貴金属合金材料２
の表面にアモルファス合金を主体とする硬化層４を形成
させた構造を示す断面模式図である。図２は貴金属合金
材料６を、表面にアモルファス合金を主体とする硬化層
が形成された貴金属装飾部品８にするための製造装置を
示す模式図である。ガス導入口１４とガス排気口１６を
備えた真空装置１０の内部に部品支持台１８を配置し、
この部品支持台１８上に貴金属合金材料６を載置し、貴
金属合金材料６の外側に加熱手段として外部の高周波電
源と接続された高周波コイル２０が配置されている。部
品支持台１８は、中央部分で２分割されていて鉛直下方
に９０°開閉することが可能な構造となっている。また
ゲ−トバルブ１２を挟んで真空装置１０の鉛直下方に
は、冷却媒体導入口２６と冷却媒体排出口２８とガス導
入口３２とガス排気口３４を備えた冷却室２２が接続さ
れていて、冷却室２２の内部には冷却容器２４が配置さ
れ、その内部には冷却媒体導入口２６を通じて冷却媒体
３０が入れられている。
および図２を用いて説明する。図１は貴金属合金材料２
の表面にアモルファス合金を主体とする硬化層４を形成
させた構造を示す断面模式図である。図２は貴金属合金
材料６を、表面にアモルファス合金を主体とする硬化層
が形成された貴金属装飾部品８にするための製造装置を
示す模式図である。ガス導入口１４とガス排気口１６を
備えた真空装置１０の内部に部品支持台１８を配置し、
この部品支持台１８上に貴金属合金材料６を載置し、貴
金属合金材料６の外側に加熱手段として外部の高周波電
源と接続された高周波コイル２０が配置されている。部
品支持台１８は、中央部分で２分割されていて鉛直下方
に９０°開閉することが可能な構造となっている。また
ゲ−トバルブ１２を挟んで真空装置１０の鉛直下方に
は、冷却媒体導入口２６と冷却媒体排出口２８とガス導
入口３２とガス排気口３４を備えた冷却室２２が接続さ
れていて、冷却室２２の内部には冷却容器２４が配置さ
れ、その内部には冷却媒体導入口２６を通じて冷却媒体
３０が入れられている。
【００１９】以下に、表面にアモルファス合金を主体と
する硬化層を形成した貴金属装飾部品８の具体的な製造
方法を説明する。冷却室２２内部の冷却容器２４中に冷
却媒体導入口２６を通じて冷却媒体３０である水が導入
されている。またガス導入口３２よりアルゴンガスが導
入され、ガス排気口３４を調整することにより冷却室２
２の内部の圧力が常圧（大気圧）に保たれている。まず
真空装置１０の内部の部品支持台１８上に貴金属合金材
料６を載置した。次に真空装置１０の内部をガス排気口
１６を通じて残留ガス雰囲気の影響が排除される１×１
０- 5 Ｔｏｒｒまで高真空排気した後、ガス導入口１
４よりアルゴンガスを導入し圧力を１０Ｔｏｒｒに調整
した雰囲気中で部品支持台１８上に載置された貴金属合
金材料６の表面のみを高周波コイル２０により加熱し表
面のみを溶融させた後、高周波コイル２０による加熱を
停止し、すばやくガス排気口１６を開けて真空装置１０
内部の雰囲気を常圧のアルゴンガス雰囲気とする。次い
で真空装置１０と冷却室２２を接続させているゲ−トバ
ルブ１２を開き、２分割されている部品支持台１８を鉛
直下方に９０°開けて表面のみが溶融された貴金属合金
材料６を鉛直下方に落とす。鉛直下方に落とされた表面
のみが溶融された貴金属合金材料６は冷却媒体３０であ
る水が導入された冷却室２２中へ落下し、水中でその表
面が急冷される。冷却が完了した後、冷却媒体排出口２
８より冷却媒体３０である水を排出させ、貴金属装飾部
品８を取り出した。
する硬化層を形成した貴金属装飾部品８の具体的な製造
方法を説明する。冷却室２２内部の冷却容器２４中に冷
却媒体導入口２６を通じて冷却媒体３０である水が導入
されている。またガス導入口３２よりアルゴンガスが導
入され、ガス排気口３４を調整することにより冷却室２
２の内部の圧力が常圧（大気圧）に保たれている。まず
真空装置１０の内部の部品支持台１８上に貴金属合金材
料６を載置した。次に真空装置１０の内部をガス排気口
１６を通じて残留ガス雰囲気の影響が排除される１×１
０- 5 Ｔｏｒｒまで高真空排気した後、ガス導入口１
４よりアルゴンガスを導入し圧力を１０Ｔｏｒｒに調整
した雰囲気中で部品支持台１８上に載置された貴金属合
金材料６の表面のみを高周波コイル２０により加熱し表
面のみを溶融させた後、高周波コイル２０による加熱を
停止し、すばやくガス排気口１６を開けて真空装置１０
内部の雰囲気を常圧のアルゴンガス雰囲気とする。次い
で真空装置１０と冷却室２２を接続させているゲ−トバ
ルブ１２を開き、２分割されている部品支持台１８を鉛
直下方に９０°開けて表面のみが溶融された貴金属合金
材料６を鉛直下方に落とす。鉛直下方に落とされた表面
のみが溶融された貴金属合金材料６は冷却媒体３０であ
る水が導入された冷却室２２中へ落下し、水中でその表
面が急冷される。冷却が完了した後、冷却媒体排出口２
８より冷却媒体３０である水を排出させ、貴金属装飾部
品８を取り出した。
【００２０】貴金属合金材料６には、Ｐｄ−Ｐｔ−Ｎｉ
−Ｐ系合金とＰｄ−Ｐｔ−Ｃｕ−Ｎｉ−Ｐ系合金からな
る時計ケ−ス、時計バンド、時計ベゼル、指輪およびメ
ガネフレ−ムを使用した。
−Ｐ系合金とＰｄ−Ｐｔ−Ｃｕ−Ｎｉ−Ｐ系合金からな
る時計ケ−ス、時計バンド、時計ベゼル、指輪およびメ
ガネフレ−ムを使用した。
【００２１】（比較例）本発明の比較例として、実施例
１と全く同じＰｄ−Ｐｔ−Ｎｉ−Ｐ系合金とＰｄ−Ｐｔ
−Ｃｕ−Ｎｉ−Ｐ系合金からなる時計ケ−ス、時計バン
ド、時計ベゼル、指輪およびメガネフレ−ムの表面に湿
式メッキ法によりＰｄメッキ膜とイオンプレ−ティング
法によりＰｔ膜を形成させた。
１と全く同じＰｄ−Ｐｔ−Ｎｉ−Ｐ系合金とＰｄ−Ｐｔ
−Ｃｕ−Ｎｉ−Ｐ系合金からなる時計ケ−ス、時計バン
ド、時計ベゼル、指輪およびメガネフレ−ムの表面に湿
式メッキ法によりＰｄメッキ膜とイオンプレ−ティング
法によりＰｔ膜を形成させた。
【００２２】実施例１で得られた貴金属装飾部品である
時計ケ−ス、時計バンド、時計ベゼル、指輪およびメガ
ネフレ−ムの結晶性、密着性、硬度の評価を行った。ま
た同様に、比較例で得られた貴金属装飾部品である時計
ケ−ス、時計バンド、時計ベゼル、指輪およびメガネフ
レ−ムの結晶性、密着性、硬度の評価を行った。貴金属
合金材料は予めＩＣＰ発光分析を行い組成を特定してお
いたものを使用した。結晶性はＸ線回折（θ−２θ法）
により測定を行いアモルファス合金特有のブロ−ドなピ
−クを示したものをアモルファス合金として合格とし、
結晶ピ−クが観察されたものは結晶質と判定し不合格と
した。密着性は引っかき試験を行い剥離開始荷重を測定
し剥離開始荷重４００ｇｆ以上を合格とした。硬度はビ
ッカ−ス硬度計により測定し負荷荷重１００ｇｆでビッ
カ−ス硬度Ｈｖ＝５００以上を合格とした。これら３項
目を全て合格したものを総合評価で合格とした。これら
貴金属合金の組成と評価試験結果を表１に示す。試料番
号１から１０までが実施例、試料番号１１から３０まで
が実施例である。
時計ケ−ス、時計バンド、時計ベゼル、指輪およびメガ
ネフレ−ムの結晶性、密着性、硬度の評価を行った。ま
た同様に、比較例で得られた貴金属装飾部品である時計
ケ−ス、時計バンド、時計ベゼル、指輪およびメガネフ
レ−ムの結晶性、密着性、硬度の評価を行った。貴金属
合金材料は予めＩＣＰ発光分析を行い組成を特定してお
いたものを使用した。結晶性はＸ線回折（θ−２θ法）
により測定を行いアモルファス合金特有のブロ−ドなピ
−クを示したものをアモルファス合金として合格とし、
結晶ピ−クが観察されたものは結晶質と判定し不合格と
した。密着性は引っかき試験を行い剥離開始荷重を測定
し剥離開始荷重４００ｇｆ以上を合格とした。硬度はビ
ッカ−ス硬度計により測定し負荷荷重１００ｇｆでビッ
カ−ス硬度Ｈｖ＝５００以上を合格とした。これら３項
目を全て合格したものを総合評価で合格とした。これら
貴金属合金の組成と評価試験結果を表１に示す。試料番
号１から１０までが実施例、試料番号１１から３０まで
が実施例である。
【００２３】
【表１】
【００２４】表１から明らかなように、実施例であるＰ
ｄ５原子％−Ｐｔ７０原子％−Ｃｕ５原子％−Ｎｉ５原
子％−Ｐ１５原子％組成、Ｐｄ５原子％−Ｐｔ６５原子
％−Ｃｕ５原子％−Ｎｉ１０原子％−Ｐ１５原子％組
成、Ｐｄ５原子％−Ｐｔ６５原子％−Ｃｕ５原子％−Ｎ
ｉ５原子％−Ｐ２０原子％組成、Ｐｄ５原子％−Ｐｔ６
０原子％−Ｃｕ５原子％−Ｎｉ１０原子％−Ｐ２０原子
％組成、Ｐｄ５原子％−Ｐｔ７５原子％−Ｎｉ５原子％
−Ｐ１５原子％組成、Ｐｄ５原子％−Ｐｔ７０原子％−
Ｎｉ１０原子％−Ｐ１５原子％組成、Ｐｄ５原子％−Ｐ
ｔ６５原子％−Ｎｉ１５原子％−Ｐ１５原子％組成、Ｐ
ｄ５原子％−Ｐｔ７０原子％−Ｎｉ５原子％−Ｐ２０原
子％組成、Ｐｄ５原子％−Ｐｔ６５原子％−Ｎｉ１０原
子％−Ｐ２０原子％組成、Ｐｄ５原子％−Ｐｔ６０原子
％−Ｎｉ１５原子％−Ｐ２０原子％組成の１０組成から
なる時計ケ−ス、時計バンド、時計ベゼル、指輪および
メガネフレ−ムなどの貴金属装飾部品の表面にアモルフ
ァス合金を主体とする硬化層が形成されていることが確
認された。これらの全てがＸ線回折の結果から結晶性は
アモルファス特有のブロ−ドなピ−クを示し（Ｘ線回折
のピ−クは図示しない）アモルファスであった。密着性
の評価ではいずれの組成とも引っかき試験後に剥離は発
生しなかった。また硬度の評価ではビッカ−ス硬度がＨ
ｖ＝５９０以上であった。従って、総合評価は合格であ
った。
ｄ５原子％−Ｐｔ７０原子％−Ｃｕ５原子％−Ｎｉ５原
子％−Ｐ１５原子％組成、Ｐｄ５原子％−Ｐｔ６５原子
％−Ｃｕ５原子％−Ｎｉ１０原子％−Ｐ１５原子％組
成、Ｐｄ５原子％−Ｐｔ６５原子％−Ｃｕ５原子％−Ｎ
ｉ５原子％−Ｐ２０原子％組成、Ｐｄ５原子％−Ｐｔ６
０原子％−Ｃｕ５原子％−Ｎｉ１０原子％−Ｐ２０原子
％組成、Ｐｄ５原子％−Ｐｔ７５原子％−Ｎｉ５原子％
−Ｐ１５原子％組成、Ｐｄ５原子％−Ｐｔ７０原子％−
Ｎｉ１０原子％−Ｐ１５原子％組成、Ｐｄ５原子％−Ｐ
ｔ６５原子％−Ｎｉ１５原子％−Ｐ１５原子％組成、Ｐ
ｄ５原子％−Ｐｔ７０原子％−Ｎｉ５原子％−Ｐ２０原
子％組成、Ｐｄ５原子％−Ｐｔ６５原子％−Ｎｉ１０原
子％−Ｐ２０原子％組成、Ｐｄ５原子％−Ｐｔ６０原子
％−Ｎｉ１５原子％−Ｐ２０原子％組成の１０組成から
なる時計ケ−ス、時計バンド、時計ベゼル、指輪および
メガネフレ−ムなどの貴金属装飾部品の表面にアモルフ
ァス合金を主体とする硬化層が形成されていることが確
認された。これらの全てがＸ線回折の結果から結晶性は
アモルファス特有のブロ−ドなピ−クを示し（Ｘ線回折
のピ−クは図示しない）アモルファスであった。密着性
の評価ではいずれの組成とも引っかき試験後に剥離は発
生しなかった。また硬度の評価ではビッカ−ス硬度がＨ
ｖ＝５９０以上であった。従って、総合評価は合格であ
った。
【００２５】これらに対し、実施例１と全く同じ組成、
同じ貴金属装飾部品の表面にＰｄメッキ膜とＰｔ膜を形
成させた比較例では、結晶性の評価では全ての組成でア
モルファスであったが、密着性の評価では引っかき試験
による剥離開始荷重が３５０ｇｆ以下と低く、硬度の評
価でもビッカ−ス硬度がＨｖ＝３８０以下と低い値とな
っている。従って、比較例では全て総合評価は不合格で
あった。
同じ貴金属装飾部品の表面にＰｄメッキ膜とＰｔ膜を形
成させた比較例では、結晶性の評価では全ての組成でア
モルファスであったが、密着性の評価では引っかき試験
による剥離開始荷重が３５０ｇｆ以下と低く、硬度の評
価でもビッカ−ス硬度がＨｖ＝３８０以下と低い値とな
っている。従って、比較例では全て総合評価は不合格で
あった。
【００２６】（実施例２）本発明の第２の実施例を図３
を用いて説明する。図３は実施例１とは異なった方法に
より貴金属合金材料６の表面にアモルファス合金を主体
とする硬化層が形成された貴金属装飾部品８にするため
の製造装置を示す模式図である。ガス導入口４２とガス
排気口４４を備えた真空装置３６の内部に部品支持台４
６を配置し、この部品支持台４６上に貴金属合金材料６
を載置してあり、部品支持台４６は、中央部分で２分割
されていて鉛直下方に９０°開閉することが可能な構造
となっている。貴金属合金材料６を加熱するための手段
として、真空装置３６の外部に電子ビ−ム発生装置４８
が配置され、電子ビ−ム発生装置４８により生成された
電子ビ−ムを石英からなる窓４０を通じて真空装置３６
の内部に導入し、貴金属合金材料６を加熱させる構成と
なっている。またゲ−トバルブ３８を挟んで真空装置３
６の鉛直下方には、冷却媒体導入口５４と冷却媒体排出
口５６とガス導入口６０とガス排気口６２を備えた冷却
室５０が接続されていて、冷却室５０の内部には冷却容
器５２が配置され、その内部には冷却媒体導入口５４を
通じて冷却媒体５８が入れられている。
を用いて説明する。図３は実施例１とは異なった方法に
より貴金属合金材料６の表面にアモルファス合金を主体
とする硬化層が形成された貴金属装飾部品８にするため
の製造装置を示す模式図である。ガス導入口４２とガス
排気口４４を備えた真空装置３６の内部に部品支持台４
６を配置し、この部品支持台４６上に貴金属合金材料６
を載置してあり、部品支持台４６は、中央部分で２分割
されていて鉛直下方に９０°開閉することが可能な構造
となっている。貴金属合金材料６を加熱するための手段
として、真空装置３６の外部に電子ビ−ム発生装置４８
が配置され、電子ビ−ム発生装置４８により生成された
電子ビ−ムを石英からなる窓４０を通じて真空装置３６
の内部に導入し、貴金属合金材料６を加熱させる構成と
なっている。またゲ−トバルブ３８を挟んで真空装置３
６の鉛直下方には、冷却媒体導入口５４と冷却媒体排出
口５６とガス導入口６０とガス排気口６２を備えた冷却
室５０が接続されていて、冷却室５０の内部には冷却容
器５２が配置され、その内部には冷却媒体導入口５４を
通じて冷却媒体５８が入れられている。
【００２７】以下に、表面にアモルファス合金を主体と
する硬化層を形成した貴金属装飾部品８の具体的な製造
方法を説明する。冷却室５０内部の冷却容器５２中に冷
却媒体導入口５４を通じて冷却媒体５８である液体窒素
が導入されている。またガス導入口６０よりヘリウムガ
スが導入され、ガス排気口６２を調整することにより冷
却室５０の内部の圧力が常圧に保たれている。まず真空
装置３６の内部の部品支持台４６上に貴金属合金材料６
を載置した。次に真空装置３６の内部をガス排気口４４
を通じて残留ガス雰囲気の影響が排除される１×１０
- 5 Ｔｏｒｒまで高真空排気した後、ガス導入口４２
よりヘリウムガスを導入し圧力を１Ｔｏｒｒに調整した
雰囲気中に電子ビ−ム発生装置４８により生成された電
子ビ−ムを石英からなる窓４０を通じて真空装置３６の
内部に導入し、部品支持台４６上に載置された貴金属合
金材料６の表面のみを加熱し表面のみを溶融させた後、
電子ビ−ムによる加熱を停止し、すばやくガス排気口４
４を開けて真空装置３６内部の雰囲気を常圧のヘリウム
ガス雰囲気とする。次いで真空装置３６と冷却室５０を
接続させているゲ−トバルブ３８を開き、２分割されて
いる部品支持台４６を鉛直下方に９０°開けて表面のみ
が溶融された貴金属合金材料６を鉛直下方に落とす。鉛
直下方に落とされた表面のみが溶融された貴金属合金材
料６は冷却媒体５８である液体窒素が導入された冷却室
５０中へ落下し、液体窒素中でその表面が急冷される。
冷却が完了した後、冷却媒体排出口５６より冷却媒体５
８である液体窒素を排出させ、貴金属装飾部品８を取り
出した。
する硬化層を形成した貴金属装飾部品８の具体的な製造
方法を説明する。冷却室５０内部の冷却容器５２中に冷
却媒体導入口５４を通じて冷却媒体５８である液体窒素
が導入されている。またガス導入口６０よりヘリウムガ
スが導入され、ガス排気口６２を調整することにより冷
却室５０の内部の圧力が常圧に保たれている。まず真空
装置３６の内部の部品支持台４６上に貴金属合金材料６
を載置した。次に真空装置３６の内部をガス排気口４４
を通じて残留ガス雰囲気の影響が排除される１×１０
- 5 Ｔｏｒｒまで高真空排気した後、ガス導入口４２
よりヘリウムガスを導入し圧力を１Ｔｏｒｒに調整した
雰囲気中に電子ビ−ム発生装置４８により生成された電
子ビ−ムを石英からなる窓４０を通じて真空装置３６の
内部に導入し、部品支持台４６上に載置された貴金属合
金材料６の表面のみを加熱し表面のみを溶融させた後、
電子ビ−ムによる加熱を停止し、すばやくガス排気口４
４を開けて真空装置３６内部の雰囲気を常圧のヘリウム
ガス雰囲気とする。次いで真空装置３６と冷却室５０を
接続させているゲ−トバルブ３８を開き、２分割されて
いる部品支持台４６を鉛直下方に９０°開けて表面のみ
が溶融された貴金属合金材料６を鉛直下方に落とす。鉛
直下方に落とされた表面のみが溶融された貴金属合金材
料６は冷却媒体５８である液体窒素が導入された冷却室
５０中へ落下し、液体窒素中でその表面が急冷される。
冷却が完了した後、冷却媒体排出口５６より冷却媒体５
８である液体窒素を排出させ、貴金属装飾部品８を取り
出した。
【００２８】本実施例では貴金属合金材料６には、Ｐｔ
−Ｎｉ−Ｐ系合金からなるペンダント、ピアス、イヤリ
ングを使用した。電子ビ−ムの照射条件はエネルギ−２
０〜１００ｋｅＶ、パルス幅１０〜２００ｎｓの範囲内
で任意に調整した。
−Ｎｉ−Ｐ系合金からなるペンダント、ピアス、イヤリ
ングを使用した。電子ビ−ムの照射条件はエネルギ−２
０〜１００ｋｅＶ、パルス幅１０〜２００ｎｓの範囲内
で任意に調整した。
【００２９】本実施例では、ペンダント、ピアス、イヤ
リングからなる貴金属合金材料に到達した電子ビ−ムエ
ネルギ−を直ちに熱エネルギ−に変換して貴金属合金材
料の表面のみを加熱活性化し表面のみを溶融させるた
め、ビ−ムエネルギ−、パルス幅を任意の値に調整した
ので、加熱され溶融する領域は表面近傍に限られ、さら
にパルス照射のために貴金属合金材料の内部の温度はほ
とんど上昇せず貴金属合金材料としての特性はほとんど
影響を受けずに表面に硬化層を形成させる処理が可能で
あった。
リングからなる貴金属合金材料に到達した電子ビ−ムエ
ネルギ−を直ちに熱エネルギ−に変換して貴金属合金材
料の表面のみを加熱活性化し表面のみを溶融させるた
め、ビ−ムエネルギ−、パルス幅を任意の値に調整した
ので、加熱され溶融する領域は表面近傍に限られ、さら
にパルス照射のために貴金属合金材料の内部の温度はほ
とんど上昇せず貴金属合金材料としての特性はほとんど
影響を受けずに表面に硬化層を形成させる処理が可能で
あった。
【００３０】実施例２で得られた貴金属装飾部品である
ペンダント、ピアス、イヤリングの結晶性、密着性、硬
度の評価を行った。貴金属合金材料は予めＩＣＰ発光分
析を行い組成を特定しておいたものを使用した。結晶性
はＸ線回折（θ−２θ法）により測定を行いアモルファ
ス合金特有のブロ−ドなピ−クを示したものをアモルフ
ァス合金として合格とし、結晶ピ−クが観察されたもの
は結晶質と判定し不合格とした。密着性は引っかき試験
を行い剥離開始荷重を測定し剥離開始荷重４００ｇｆ以
上を合格とした。硬度はビッカ−ス硬度計により測定し
負荷荷重１００ｇｆでビッカ−ス硬度Ｈｖ＝５００以上
を合格とした。これら３項目を全て合格したものを総合
評価で合格とした。これら貴金属合金の組成と評価試験
結果を表２に示す。
ペンダント、ピアス、イヤリングの結晶性、密着性、硬
度の評価を行った。貴金属合金材料は予めＩＣＰ発光分
析を行い組成を特定しておいたものを使用した。結晶性
はＸ線回折（θ−２θ法）により測定を行いアモルファ
ス合金特有のブロ−ドなピ−クを示したものをアモルフ
ァス合金として合格とし、結晶ピ−クが観察されたもの
は結晶質と判定し不合格とした。密着性は引っかき試験
を行い剥離開始荷重を測定し剥離開始荷重４００ｇｆ以
上を合格とした。硬度はビッカ−ス硬度計により測定し
負荷荷重１００ｇｆでビッカ−ス硬度Ｈｖ＝５００以上
を合格とした。これら３項目を全て合格したものを総合
評価で合格とした。これら貴金属合金の組成と評価試験
結果を表２に示す。
【００３１】
【表２】
【００３２】表２から明らかなように、実施例であるＰ
ｔ８０原子％−Ｎｉ５原子％−Ｐ１５原子％組成、Ｐｔ
７５原子％−Ｎｉ１０原子％−Ｐ１５原子％組成、Ｐｔ
７０原子％−Ｎｉ１５原子％−Ｐ１５原子％組成、Ｐｔ
７５原子％−Ｎｉ５原子％−Ｐ２０原子％組成、Ｐｔ７
０原子％−Ｎｉ１０原子％−Ｐ２０原子％組成、Ｐｔ６
５原子％−Ｎｉ１５原子％−Ｐ２０原子％組成、Ｐｔ７
０原子％−Ｎｉ５原子％−Ｐ２５原子％組成、Ｐｔ６５
原子％−Ｎｉ１０原子％−Ｐ２５原子％組成、Ｐｔ６０
原子％−Ｎｉ１５原子％−Ｐ２５原子％組成の９組成か
らなるペンダント、ピアス、イヤリングなどの貴金属装
飾部品の表面にアモルファス合金を主体とする硬化層が
形成されていることが確認された。これらの全てがＸ線
回折の結果から結晶性はアモルファス特有のブロ−ドな
ピ−クを示し（Ｘ線回折のピ−クは図示しない）アモル
ファスであった。密着性の評価ではいずれの組成とも引
っかき試験後に剥離は発生しなかった。また硬度の評価
ではビッカ−ス硬度がＨｖ＝６６０以上であった。従っ
て、総合評価は合格であった。
ｔ８０原子％−Ｎｉ５原子％−Ｐ１５原子％組成、Ｐｔ
７５原子％−Ｎｉ１０原子％−Ｐ１５原子％組成、Ｐｔ
７０原子％−Ｎｉ１５原子％−Ｐ１５原子％組成、Ｐｔ
７５原子％−Ｎｉ５原子％−Ｐ２０原子％組成、Ｐｔ７
０原子％−Ｎｉ１０原子％−Ｐ２０原子％組成、Ｐｔ６
５原子％−Ｎｉ１５原子％−Ｐ２０原子％組成、Ｐｔ７
０原子％−Ｎｉ５原子％−Ｐ２５原子％組成、Ｐｔ６５
原子％−Ｎｉ１０原子％−Ｐ２５原子％組成、Ｐｔ６０
原子％−Ｎｉ１５原子％−Ｐ２５原子％組成の９組成か
らなるペンダント、ピアス、イヤリングなどの貴金属装
飾部品の表面にアモルファス合金を主体とする硬化層が
形成されていることが確認された。これらの全てがＸ線
回折の結果から結晶性はアモルファス特有のブロ−ドな
ピ−クを示し（Ｘ線回折のピ−クは図示しない）アモル
ファスであった。密着性の評価ではいずれの組成とも引
っかき試験後に剥離は発生しなかった。また硬度の評価
ではビッカ−ス硬度がＨｖ＝６６０以上であった。従っ
て、総合評価は合格であった。
【００３３】（実施例３）本発明の第３の実施例を図４
を用いて説明する。図４は実施例１とは異なった方法に
より貴金属合金材料６の表面にアモルファス合金を主体
とする硬化層が形成された貴金属装飾部品８にするため
の製造装置を示す模式図である。ガス導入口７０とガス
排気口７２を備えた真空装置６４の内部に部品支持台７
４を配置し、この部品支持台７４上に貴金属装飾部品６
を載置してあり、部品支持台７４は、中央部分で２分割
されていて鉛直下方に９０°開閉することが可能な構造
となっている。貴金属合金材料６を加熱するための手段
として、真空装置６４の外部にレ−ザ−光源７６が配置
され、レ−ザ−光源７６からレ−ザ−光を発生させ、光
学系を使用して石英からなる窓６８を通じて真空装置６
４の内部に導入し、貴金属合金材料６を加熱させる構成
となっている。またゲ−トバルブ６６を挟んで真空装置
６４の鉛直下方には、冷却媒体導入口８２と冷却媒体排
出口８４とガス導入口８８とガス排気口９０を備えた冷
却室７８が接続されていて、冷却室７８の内部には冷却
容器８０が配置され、その内部には冷却媒体導入口８２
を通じて冷却媒体８６が入れられている。
を用いて説明する。図４は実施例１とは異なった方法に
より貴金属合金材料６の表面にアモルファス合金を主体
とする硬化層が形成された貴金属装飾部品８にするため
の製造装置を示す模式図である。ガス導入口７０とガス
排気口７２を備えた真空装置６４の内部に部品支持台７
４を配置し、この部品支持台７４上に貴金属装飾部品６
を載置してあり、部品支持台７４は、中央部分で２分割
されていて鉛直下方に９０°開閉することが可能な構造
となっている。貴金属合金材料６を加熱するための手段
として、真空装置６４の外部にレ−ザ−光源７６が配置
され、レ−ザ−光源７６からレ−ザ−光を発生させ、光
学系を使用して石英からなる窓６８を通じて真空装置６
４の内部に導入し、貴金属合金材料６を加熱させる構成
となっている。またゲ−トバルブ６６を挟んで真空装置
６４の鉛直下方には、冷却媒体導入口８２と冷却媒体排
出口８４とガス導入口８８とガス排気口９０を備えた冷
却室７８が接続されていて、冷却室７８の内部には冷却
容器８０が配置され、その内部には冷却媒体導入口８２
を通じて冷却媒体８６が入れられている。
【００３４】以下に、表面にアモルファス合金を主体と
する硬化層を形成した貴金属装飾部品８の具体的な製造
方法を説明する。冷却室７８内部の冷却容器８０中に冷
却媒体導入口８２を通じて冷却媒体８６であるエチレン
グリコ−ルが導入されている。またガス導入口８８より
アルゴンガスが導入され、ガス排気口９０を調整するこ
とにより冷却室７８の内部の圧力が常圧に保たれてい
る。まず真空装置６４の内部の部品支持台７４上に貴金
属合金材料６を載置した。次に真空装置６４の内部をガ
ス排気口７２を通じて残留ガス雰囲気の影響が排除され
る１×１０- 5Ｔｏｒｒまで高真空排気した後、ガス導
入口７０よりアルゴンガスを導入し圧力を５Ｔｏｒｒに
調整した雰囲気中にレ−ザ−光源７６からレ−ザ−光を
発生させ、光学系を使用して石英からなる窓６８を通じ
て真空装置６４の内部に導入し、部品支持台７４上に載
置された貴金属合金材料６の表面のみを加熱し表面のみ
を溶融させた後、レ−ザ−光による加熱を停止し、すば
やくガス排気口７２を開けて真空装置６４内部の雰囲気
を常圧のアルゴンガス雰囲気とする。次いで真空装置６
４と冷却室７８を接続させているゲ−トバルブ６６を開
き、２分割されている部品支持台７４を鉛直下方に９０
°開けて表面のみが溶融された貴金属合金材料６を鉛直
下方に落とす。鉛直下方に落とされた表面のみが溶融さ
れた貴金属合金材料６は冷却媒体８６である水が導入さ
れた冷却室７８中へ落下し、エチレングリコ−ル中でそ
の表面が急冷される。冷却が完了した後、冷却媒体排出
口８４より冷却媒体８６であるエチレングリコ−ルを排
出させ、貴金属装飾部品８を取り出した。
する硬化層を形成した貴金属装飾部品８の具体的な製造
方法を説明する。冷却室７８内部の冷却容器８０中に冷
却媒体導入口８２を通じて冷却媒体８６であるエチレン
グリコ−ルが導入されている。またガス導入口８８より
アルゴンガスが導入され、ガス排気口９０を調整するこ
とにより冷却室７８の内部の圧力が常圧に保たれてい
る。まず真空装置６４の内部の部品支持台７４上に貴金
属合金材料６を載置した。次に真空装置６４の内部をガ
ス排気口７２を通じて残留ガス雰囲気の影響が排除され
る１×１０- 5Ｔｏｒｒまで高真空排気した後、ガス導
入口７０よりアルゴンガスを導入し圧力を５Ｔｏｒｒに
調整した雰囲気中にレ−ザ−光源７６からレ−ザ−光を
発生させ、光学系を使用して石英からなる窓６８を通じ
て真空装置６４の内部に導入し、部品支持台７４上に載
置された貴金属合金材料６の表面のみを加熱し表面のみ
を溶融させた後、レ−ザ−光による加熱を停止し、すば
やくガス排気口７２を開けて真空装置６４内部の雰囲気
を常圧のアルゴンガス雰囲気とする。次いで真空装置６
４と冷却室７８を接続させているゲ−トバルブ６６を開
き、２分割されている部品支持台７４を鉛直下方に９０
°開けて表面のみが溶融された貴金属合金材料６を鉛直
下方に落とす。鉛直下方に落とされた表面のみが溶融さ
れた貴金属合金材料６は冷却媒体８６である水が導入さ
れた冷却室７８中へ落下し、エチレングリコ−ル中でそ
の表面が急冷される。冷却が完了した後、冷却媒体排出
口８４より冷却媒体８６であるエチレングリコ−ルを排
出させ、貴金属装飾部品８を取り出した。
【００３５】本実施例では貴金属合金材料６には、Ｐｔ
−Ｃｕ−Ｎｉ−Ｐ系合金からなるブロ−チ、ブレスレッ
ト、ネックレスを使用した。また貴金属装飾部品材料に
はＰｔ−Ｃｕ−Ｎｉ−Ｐ系合金を使用した。レ−ザ−光
源には波長１９３ｎｍのＡｒＦエキシマレ−ザ−を使用
した。ＡｒＦエキシマレ−ザ−の照射条件は平均出力２
０〜１００Ｗ、パルス幅１０〜２０ｎｓ、パルス繰り返
し数１０〜２００ｐｐｓの範囲内で任意に調整した。
−Ｃｕ−Ｎｉ−Ｐ系合金からなるブロ−チ、ブレスレッ
ト、ネックレスを使用した。また貴金属装飾部品材料に
はＰｔ−Ｃｕ−Ｎｉ−Ｐ系合金を使用した。レ−ザ−光
源には波長１９３ｎｍのＡｒＦエキシマレ−ザ−を使用
した。ＡｒＦエキシマレ−ザ−の照射条件は平均出力２
０〜１００Ｗ、パルス幅１０〜２０ｎｓ、パルス繰り返
し数１０〜２００ｐｐｓの範囲内で任意に調整した。
【００３６】本実施例では、ブロ−チ、ブレスレット、
ネックレスからなる貴金属装飾部品に到達したレ−ザ−
エネルギ−を直ちに熱エネルギ−に変換して部品表面を
加熱活性化し表面だけを溶融させるが、このときにレ−
ザ−出力、パルス幅、パルス繰り返し数を任意の値に調
整したので、加熱され溶融する領域は表面近傍に限ら
れ、さらにパルス照射のために貴金属装飾部品の温度は
ほとんど上昇せず貴金属合金材料としての特性はほとん
ど影響を受けずに表面に硬化層を形成させる処理が可能
であった。
ネックレスからなる貴金属装飾部品に到達したレ−ザ−
エネルギ−を直ちに熱エネルギ−に変換して部品表面を
加熱活性化し表面だけを溶融させるが、このときにレ−
ザ−出力、パルス幅、パルス繰り返し数を任意の値に調
整したので、加熱され溶融する領域は表面近傍に限ら
れ、さらにパルス照射のために貴金属装飾部品の温度は
ほとんど上昇せず貴金属合金材料としての特性はほとん
ど影響を受けずに表面に硬化層を形成させる処理が可能
であった。
【００３７】実施例３で得られた貴金属装飾部品である
ブロ−チ、ブレスレット、ネックレスの結晶性、密着
性、硬度の評価を行った。貴金属合金材料は予めＩＣＰ
発光分析を行い組成を特定しておいたものを使用した。
結晶性はＸ線回折（θ−２θ法）により測定を行いアモ
ルファス合金特有のブロ−ドなピ−クを示したものをア
モルファス合金として合格とし、結晶ピ−クが観察され
たものは結晶質と判定し不合格とした。密着性は引っか
き試験を行い剥離開始荷重を測定し剥離開始荷重４００
ｇｆ以上を合格とした。硬度はビッカ−ス硬度計により
測定し負荷荷重１００ｇｆでビッカ−ス硬度Ｈｖ＝５０
０以上を合格とした。これら３項目を全て合格したもの
を総合評価で合格とした。これら貴金属合金の組成と評
価試験結果を表３に示す。
ブロ−チ、ブレスレット、ネックレスの結晶性、密着
性、硬度の評価を行った。貴金属合金材料は予めＩＣＰ
発光分析を行い組成を特定しておいたものを使用した。
結晶性はＸ線回折（θ−２θ法）により測定を行いアモ
ルファス合金特有のブロ−ドなピ−クを示したものをア
モルファス合金として合格とし、結晶ピ−クが観察され
たものは結晶質と判定し不合格とした。密着性は引っか
き試験を行い剥離開始荷重を測定し剥離開始荷重４００
ｇｆ以上を合格とした。硬度はビッカ−ス硬度計により
測定し負荷荷重１００ｇｆでビッカ−ス硬度Ｈｖ＝５０
０以上を合格とした。これら３項目を全て合格したもの
を総合評価で合格とした。これら貴金属合金の組成と評
価試験結果を表３に示す。
【００３８】
【表３】
【００３９】表３から明らかなように、実施例であるＰ
ｔ７５原子％−Ｃｕ５原子％−Ｎｉ５原子％−Ｐ１５原
子％組成、Ｐｔ７０原子％−Ｃｕ５原子％−Ｎｉ１０原
子％−Ｐ１５原子％組成、Ｐｔ６５原子％−Ｃｕ５原子
％−Ｎｉ１５原子％−Ｐ１５原子％組成、Ｐｔ７０原子
％−Ｃｕ５原子％−Ｎｉ５原子％−Ｐ２０原子％組成、
Ｐｔ６５原子％−Ｃｕ５原子％−Ｎｉ１０原子％−Ｐ２
０原子％組成、Ｐｔ６０原子％−Ｃｕ５原子％−Ｎｉ１
５原子％−Ｐ２０原子％組成、Ｐｔ６５原子％−Ｃｕ５
原子％−Ｎｉ５原子％−Ｐ２５原子％組成、Ｐｔ６０原
子％−Ｃｕ５原子％−Ｎｉ１０原子％−Ｐ２５原子％組
成の８組成からなるブロ−チ、ブレスレット、ネックレ
スなどの貴金属装飾部品の表面にアモルファス合金を主
体とする硬化層が形成されていることが確認された。こ
れらの全てがＸ線回折の結果から結晶性はアモルファス
特有のブロ−ドなピ−クを示し（Ｘ線回折のピ−クは図
示しない）アモルファスであった。密着性の評価ではい
ずれの組成とも引っかき試験後に剥離は発生しなかっ
た。また硬度の評価ではビッカ−ス硬度がＨｖ＝５８０
以上であった。従って、総合評価は合格であった。
ｔ７５原子％−Ｃｕ５原子％−Ｎｉ５原子％−Ｐ１５原
子％組成、Ｐｔ７０原子％−Ｃｕ５原子％−Ｎｉ１０原
子％−Ｐ１５原子％組成、Ｐｔ６５原子％−Ｃｕ５原子
％−Ｎｉ１５原子％−Ｐ１５原子％組成、Ｐｔ７０原子
％−Ｃｕ５原子％−Ｎｉ５原子％−Ｐ２０原子％組成、
Ｐｔ６５原子％−Ｃｕ５原子％−Ｎｉ１０原子％−Ｐ２
０原子％組成、Ｐｔ６０原子％−Ｃｕ５原子％−Ｎｉ１
５原子％−Ｐ２０原子％組成、Ｐｔ６５原子％−Ｃｕ５
原子％−Ｎｉ５原子％−Ｐ２５原子％組成、Ｐｔ６０原
子％−Ｃｕ５原子％−Ｎｉ１０原子％−Ｐ２５原子％組
成の８組成からなるブロ−チ、ブレスレット、ネックレ
スなどの貴金属装飾部品の表面にアモルファス合金を主
体とする硬化層が形成されていることが確認された。こ
れらの全てがＸ線回折の結果から結晶性はアモルファス
特有のブロ−ドなピ−クを示し（Ｘ線回折のピ−クは図
示しない）アモルファスであった。密着性の評価ではい
ずれの組成とも引っかき試験後に剥離は発生しなかっ
た。また硬度の評価ではビッカ−ス硬度がＨｖ＝５８０
以上であった。従って、総合評価は合格であった。
【００４０】貴金属合金材料６の表面を加熱し表面のみ
を溶融させる工程の雰囲気として実施例１と実施例３で
はＡｒ雰囲気、実施例３ではＨｅ雰囲気を用いたが、Ｎ
ｅ、Ｋｒなどでもよく、重要なことは貴金属合金材料を
構成する元素が酸化、窒化、炭化することを防止するこ
とであり、不活性ガス雰囲気に限らず真空雰囲気でもよ
い。またいずれの実施例とも減圧不活性ガス雰囲気であ
るが、真空装置内を残留ガス雰囲気の影響が排除される
１×１０- 5 Ｔｏｒｒまで高真空排気した後であれ
ば、Ａｒ、Ｈｅ、Ｎｅ、Ｋｒの常圧雰囲気でもよい。
を溶融させる工程の雰囲気として実施例１と実施例３で
はＡｒ雰囲気、実施例３ではＨｅ雰囲気を用いたが、Ｎ
ｅ、Ｋｒなどでもよく、重要なことは貴金属合金材料を
構成する元素が酸化、窒化、炭化することを防止するこ
とであり、不活性ガス雰囲気に限らず真空雰囲気でもよ
い。またいずれの実施例とも減圧不活性ガス雰囲気であ
るが、真空装置内を残留ガス雰囲気の影響が排除される
１×１０- 5 Ｔｏｒｒまで高真空排気した後であれ
ば、Ａｒ、Ｈｅ、Ｎｅ、Ｋｒの常圧雰囲気でもよい。
【００４１】実施例３では貴金属合金材料の加熱手段と
してエキシマレ−ザ−を用いたが、エキシマレ−ザ−は
ＡｒＦに限らず、ＫｒＦエキシマレ−ザ−でもよく、レ
−ザ−光にはエキシマレ−ザ−に限らず、ＹＡＧレ−ザ
−など他のレ−ザ−光を用いてもよい。
してエキシマレ−ザ−を用いたが、エキシマレ−ザ−は
ＡｒＦに限らず、ＫｒＦエキシマレ−ザ−でもよく、レ
−ザ−光にはエキシマレ−ザ−に限らず、ＹＡＧレ−ザ
−など他のレ−ザ−光を用いてもよい。
【００４２】貴金属合金材料の表面を加熱し表面のみを
溶融させる加熱手段として、実施例２では電子ビ−ムを
使用し、電子ビ−ムの照射条件はエネルギ−２０〜１０
０ｋｅＶ、パルス幅１０〜２００ｎｓの範囲内で任意に
調整したが、この範囲の条件であればいずれの電子ビ−
ム照射条件でよい。実施例３では波長１９３ｎｍのＡｒ
Ｆエキシマレ−ザ−を使用し、ＡｒＦエキシマレ−ザ−
の照射条件は平均出力２０〜１００Ｗ、パルス幅１０〜
２０ｎｓ、パルス繰り返し数１０〜２００ｐｐｓの範囲
内で任意に調整したが、この範囲の条件であればいずれ
のレ−ザ−照射条件でよい。重要なことは表面温度が上
がりすぎて全体が溶融しないように、加熱し溶融する領
域を表面近傍に限定することである。このためレ−ザ−
出力、電子ビ−ムエネルギ−、パルス幅、パルス繰り返
し数を上記範囲内で任意に調整する必要がある。
溶融させる加熱手段として、実施例２では電子ビ−ムを
使用し、電子ビ−ムの照射条件はエネルギ−２０〜１０
０ｋｅＶ、パルス幅１０〜２００ｎｓの範囲内で任意に
調整したが、この範囲の条件であればいずれの電子ビ−
ム照射条件でよい。実施例３では波長１９３ｎｍのＡｒ
Ｆエキシマレ−ザ−を使用し、ＡｒＦエキシマレ−ザ−
の照射条件は平均出力２０〜１００Ｗ、パルス幅１０〜
２０ｎｓ、パルス繰り返し数１０〜２００ｐｐｓの範囲
内で任意に調整したが、この範囲の条件であればいずれ
のレ−ザ−照射条件でよい。重要なことは表面温度が上
がりすぎて全体が溶融しないように、加熱し溶融する領
域を表面近傍に限定することである。このためレ−ザ−
出力、電子ビ−ムエネルギ−、パルス幅、パルス繰り返
し数を上記範囲内で任意に調整する必要がある。
【００４３】貴金属装飾部品として実施例１では時計ケ
−ス、時計バンド、時計べゼル、指輪、メガネフレ−ム
を、実施例２ではペンダント、ピアス、イヤリングを実
施例３ではブロ−チ、ブレスレット、ネックレスを具体
例にあげて説明したが、貴金属装飾部品はこれらに限ら
ず、タイピン、ボタン、カフスボタン、アンクレットな
ど、どのような貴金属装飾部品を使用しても実施例と同
様な効果が得られる。
−ス、時計バンド、時計べゼル、指輪、メガネフレ−ム
を、実施例２ではペンダント、ピアス、イヤリングを実
施例３ではブロ−チ、ブレスレット、ネックレスを具体
例にあげて説明したが、貴金属装飾部品はこれらに限ら
ず、タイピン、ボタン、カフスボタン、アンクレットな
ど、どのような貴金属装飾部品を使用しても実施例と同
様な効果が得られる。
【００４４】
【発明の効果】以上述べてきたように本発明によれば、
Ｐｔを含有する貴金属合金材料で時計ケ−ス、時計バン
ド、時計ベゼル、ピアス、イヤリング、指輪、メガネフ
レ−ム、ペンダント、ネックレス、ブレスレット、ブロ
−チなどの所望の形状に作製後、貴金属合金材料の表面
を不活性ガス雰囲気中で高周波誘導加熱またはレ−ザ−
光、電子ビ−ムなどの光線照射により加熱した後、水、
液体窒素、エチレングリコ−ル中に浸漬させて急冷させ
ることで、Ｐｔを含む貴金属合金材料の表面に高硬度の
アモルファス合金を主体とする硬化層が形成される。ま
た本発明によって得られた貴金属装飾部品は予め鏡面研
磨加工処理を施してあればアモルファス合金を主体とす
る硬化層形成後も鏡面が維持されるため、装飾性能の高
い貴金属装飾部品の提供が可能となった。
Ｐｔを含有する貴金属合金材料で時計ケ−ス、時計バン
ド、時計ベゼル、ピアス、イヤリング、指輪、メガネフ
レ−ム、ペンダント、ネックレス、ブレスレット、ブロ
−チなどの所望の形状に作製後、貴金属合金材料の表面
を不活性ガス雰囲気中で高周波誘導加熱またはレ−ザ−
光、電子ビ−ムなどの光線照射により加熱した後、水、
液体窒素、エチレングリコ−ル中に浸漬させて急冷させ
ることで、Ｐｔを含む貴金属合金材料の表面に高硬度の
アモルファス合金を主体とする硬化層が形成される。ま
た本発明によって得られた貴金属装飾部品は予め鏡面研
磨加工処理を施してあればアモルファス合金を主体とす
る硬化層形成後も鏡面が維持されるため、装飾性能の高
い貴金属装飾部品の提供が可能となった。
【図１】本発明の貴金属装飾部品の実施形態を示す断面
図である。
図である。
【図２】本発明の貴金属装飾部品の製造装置の実施形態
を示す模式図である。
を示す模式図である。
【図３】本発明の貴金属装飾部品の製造装置の実施形態
を示す模式図である。
を示す模式図である。
【図４】本発明の貴金属装飾部品の製造装置の実施形態
を示す模式図である。
を示す模式図である。
２ 貴金属合金材料 ４ アモルファス合金を主体とする硬化層 ６ 貴金属合金材料 ８ 貴金属装飾部品 １０ 真空装置 １２ ゲ−トバルブ １４ ガス導入口 １６ ガス排気口 １８ 部品支持台 ２０ 高周波コイル ２２ 冷却室 ２４ 冷却容器 ２６ 冷却媒体導入口 ２８ 冷却媒体排出口 ３０ 冷却媒体 ３２ ガス導入口 ３４ ガス排気口 ３６ 真空装置 ３８ ゲ−トバルブ ４０ 窓 ４２ ガス導入口 ４４ ガス排気口 ４６ 部品支持台 ４８ 電子ビ−ム発生装置 ５０ 冷却室 ５２ 冷却容器 ５４ 冷却媒体導入口 ５６ 冷却媒体排出口 ５８ 冷却媒体 ６０ ガス導入口 ６２ ガス排気口 ６４ 真空装置 ６６ ゲ−トバルブ ６８ 窓 ７０ ガス導入口 ７２ ガス排気口 ７４ 部品支持台 ７６ レ−ザ−光源 ７８ 冷却室 ８０ 冷却容器 ８２ 冷却媒体導入口 ８４ 冷却媒体排出口 ８６ 冷却媒体 ８８ ガス導入口 ９０ ガス排気口
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） // Ｃ２２Ｆ 1/00 Ｃ２２Ｆ 1/00 Ｂ ６０８ ６０８ ６１３ ６１３ ６３０ ６３０Ｃ ６７３ ６７３ ６８２ ６８２ ６９２ ６９２Ａ (72)発明者 佐藤 雅浩 東京都西東京市田無町六丁目１番12号 シ チズン時計株式会社内 Ｆターム(参考） 3B114 AA01 HH00 JA00 JB00 4K044 AA01 AB05 AB06 BA06 BA08 BB01 BB17 BC06 BC09 CA44 CA48 CA57 CA71
Claims (12)
- 【請求項１】 貴金属合金材料の表面に硬化層を有する
貴金属装飾部品であって、前記硬化層がアモルファス合
金を主体とする硬化層である貴金属装飾部品。 - 【請求項２】 前記貴金属合金材料がＰｔを含有するこ
とを特徴とする請求項１に記載の貴金属装飾部品 - 【請求項３】 前記硬化層がＰｔを含有することを特徴
とする請求項1に記載の貴金属装飾部品 - 【請求項４】 前記硬化層がＰｔ−Ｃｕ−Ｎｉ−Ｐ系合
金、Ｐｔ−Ｐｄ−Ｃｕ−Ｎｉ−Ｐ系合金、Ｐｔ−Ｎｉ−
Ｐ系合金またはＰｔ−Ｐｄ−Ｎｉ−Ｐ系合金のうちのい
ずれかであることを特徴とする請求項１に記載の貴金属
装飾部品。 - 【請求項５】 真空装置内に貴金属合金材料を配置する
工程と、真空装置内を真空排気した後に不活性ガスを導
入した雰囲気中で貴金属合金材料の表面を加熱手段によ
り加熱し、表面のみを溶融させる工程と、表面のみが前
記加熱手段により溶融させられた貴金属合金材料の表面
を冷却媒体により急冷させる工程とを有する貴金属装飾
部品の製造方法。 - 【請求項６】 前記加熱手段が、高周波誘導加熱法であ
ることを特徴とする請求項５に記載の貴金属装飾部品の
製造方法。 - 【請求項７】 前記加熱手段が、電子ビ−ム、レ−ザ−
光などの光線照射法であることを特徴とする請求項５に
記載の貴金属装飾部品の製造方法。 - 【請求項８】 前記冷却媒体が、水、液体窒素またはエ
チレングリコ−ルのうちのいずれかであることを特徴と
する請求項５に記載の貴金属装飾部品の製造方法。 - 【請求項９】 ガス導入口とガス排気口を備え、内部が
真空排気される真空装置と、前記真空装置とゲ−トバル
ブで接続されてガス導入口とガス排気口と冷却媒体導入
口と冷却媒体排出口とを備えた冷却室と、前記真空装置
内部に有し、貴金属合金材料を載置させる支持台と、前
記支持台の近傍あるいは外部に有し、前記支持台上に載
置された前記貴金属合金材料を加熱させる加熱手段と、
前記冷却室内部に有し、前記真空装置とゲ−トバルブを
挟んで前記支持台の鉛直下方部に有する冷却媒体により
前記貴金属合金材料を急冷させる冷却容器とを有する貴
金属装飾部品の製造装置。 - 【請求項１０】 前記加熱手段が、高周波誘導加熱法で
あることを特徴とする請求項９に記載の貴金属装飾部品
の製造装置。 - 【請求項１１】 前記加熱手段が、電子ビ−ム、レ−ザ
−光などの光線照射法であることを特徴とする請求項９
に記載の貴金属装飾部品の製造装置。 - 【請求項１２】 前記冷却媒体が、水、液体窒素または
エチレングリコ−ルのうちのいずれかであることを特徴
とする請求項９に記載の貴金属装飾部品の製造装置。
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001081989A JP2002275605A (ja) | 2001-03-22 | 2001-03-22 | 貴金属装飾部品とその製造方法および貴金属装飾部品の製造装置 |
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|---|---|---|---|
| JP2001081989A JP2002275605A (ja) | 2001-03-22 | 2001-03-22 | 貴金属装飾部品とその製造方法および貴金属装飾部品の製造装置 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
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|---|---|---|---|
| JP2001081989A Pending JP2002275605A (ja) | 2001-03-22 | 2001-03-22 | 貴金属装飾部品とその製造方法および貴金属装飾部品の製造装置 |
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| Country | Link |
|---|---|
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Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005270479A (ja) * | 2004-03-26 | 2005-10-06 | Citizen Watch Co Ltd | 金色被膜を有する装飾品およびその製造方法 |
| US7582172B2 (en) * | 2002-12-20 | 2009-09-01 | Jan Schroers | Pt-base bulk solidifying amorphous alloys |
| US7896982B2 (en) | 2002-12-20 | 2011-03-01 | Crucible Intellectual Property, Llc | Bulk solidifying amorphous alloys with improved mechanical properties |
| US8828155B2 (en) | 2002-12-20 | 2014-09-09 | Crucible Intellectual Property, Llc | Bulk solidifying amorphous alloys with improved mechanical properties |
| JP2021145942A (ja) * | 2020-03-19 | 2021-09-27 | 京セラ株式会社 | 環状装飾具およびその製造方法 |
| US11371108B2 (en) | 2019-02-14 | 2022-06-28 | Glassimetal Technology, Inc. | Tough iron-based glasses with high glass forming ability and high thermal stability |
-
2001
- 2001-03-22 JP JP2001081989A patent/JP2002275605A/ja active Pending
Cited By (10)
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