JP2002270673A - 移動案内装置及びそれを用いた露光装置 - Google Patents
移動案内装置及びそれを用いた露光装置Info
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- Electron Beam Exposure (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 移動体の移動案内を高精度で行うことを可能
にする。 【解決手段】 互いに直交する方向に案内されて移動し
上下に異なる位置に配置されていて、上下方向の拘束を
それぞれ受けているＸ方向移動体４１及びＹ方向移動体
４２と、Ｘ方向移動体４１の移動方向及びＹ方向移動体
４２の移動方向に定盤１１上で案内されて移動可能なＸ
Ｙ移動体３とを有し、移動体３，４１，４２を内部に収
納する真空容器を設け、Ｘ方向移動体４１及びＹ方向移
動体４２を互いに交差する方向に駆動するそれぞれのア
クチュエータ５１１，５１２，５２１，５２２を前記真
空容器の外に設置し、移動体３は、移動体４１，４２の
横方向の案内面から力を受けて、互いに直交する２方向
に駆動される。
にする。 【解決手段】 互いに直交する方向に案内されて移動し
上下に異なる位置に配置されていて、上下方向の拘束を
それぞれ受けているＸ方向移動体４１及びＹ方向移動体
４２と、Ｘ方向移動体４１の移動方向及びＹ方向移動体
４２の移動方向に定盤１１上で案内されて移動可能なＸ
Ｙ移動体３とを有し、移動体３，４１，４２を内部に収
納する真空容器を設け、Ｘ方向移動体４１及びＹ方向移
動体４２を互いに交差する方向に駆動するそれぞれのア
クチュエータ５１１，５１２，５２１，５２２を前記真
空容器の外に設置し、移動体３は、移動体４１，４２の
横方向の案内面から力を受けて、互いに直交する２方向
に駆動される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、電子線描画装置、
精密計測器等の如く、非大気雰囲気中で高速移動、精密
位置決めを繰り返す、あるいは高精度にスキャン移動す
る移動体を案内する移動案内装置及び該装置を用いた露
光装置等に関するものである。
精密計測器等の如く、非大気雰囲気中で高速移動、精密
位置決めを繰り返す、あるいは高精度にスキャン移動す
る移動体を案内する移動案内装置及び該装置を用いた露
光装置等に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来の移動案内装置は、特公昭５７−４
１８１４号公報や特開昭５７−６１４３６号公報等に開
示されているように、ステージがＸ，Ｙ平面内を移動す
るために、１軸はモータ（＋ネジ等の伝達機構）を直結
し、もう１軸はモータを固定し、カップリングを介して
力を伝達している。このような従来例では、２軸とも駆
動伝達軸（ネジ等）及びモータが固定されており（移動
しない）真空容器の外から力を伝達するには適してい
る。しかしながら、このような構成では、次のような欠
点があった。
１８１４号公報や特開昭５７−６１４３６号公報等に開
示されているように、ステージがＸ，Ｙ平面内を移動す
るために、１軸はモータ（＋ネジ等の伝達機構）を直結
し、もう１軸はモータを固定し、カップリングを介して
力を伝達している。このような従来例では、２軸とも駆
動伝達軸（ネジ等）及びモータが固定されており（移動
しない）真空容器の外から力を伝達するには適してい
る。しかしながら、このような構成では、次のような欠
点があった。
【０００３】（１）カップリングの剛性が駆動系に直列
に加わっており、剛性の劣化を招く。 （２）また、ステージの位置によりカップリング剛性が
変化するため制御特性が変化し、十分な精度、移動速度
が得られない。 （３）ステージが移動すると、Ｙステージに偏荷重が発
生して、Ｙステージが変形する。従って、Ｘステージの
静的な姿勢精度（ピッチング）が劣化する。 （４）ステージが移動することにより系の平面内の重心
位置が変化するため、ステージ駆動することにより、ピ
ッチング、ヨーイング等の振動を励起し、動的な姿勢精
度も劣化する。
に加わっており、剛性の劣化を招く。 （２）また、ステージの位置によりカップリング剛性が
変化するため制御特性が変化し、十分な精度、移動速度
が得られない。 （３）ステージが移動すると、Ｙステージに偏荷重が発
生して、Ｙステージが変形する。従って、Ｘステージの
静的な姿勢精度（ピッチング）が劣化する。 （４）ステージが移動することにより系の平面内の重心
位置が変化するため、ステージ駆動することにより、ピ
ッチング、ヨーイング等の振動を励起し、動的な姿勢精
度も劣化する。
【０００４】また、上記従来例の欠点をカバーするた
め、特開昭６０−２３９４１号公報等に開示のステージ
構成が提案されている。しかし、このステージ構成で
も、上記の（３）及び（４）の項目の改善にはなってい
ないのみならず、駆動用リニアモータのコイルの推力に
寄与する部分が少ないので、該リニアモータの効率が悪
く、発熱等の影響が大きい等の欠点があった。
め、特開昭６０−２３９４１号公報等に開示のステージ
構成が提案されている。しかし、このステージ構成で
も、上記の（３）及び（４）の項目の改善にはなってい
ないのみならず、駆動用リニアモータのコイルの推力に
寄与する部分が少ないので、該リニアモータの効率が悪
く、発熱等の影響が大きい等の欠点があった。
【０００５】本発明は上記欠点をカバーするために案出
されたものであり、本発明の第１の目的は、ＸＹ平面内
を移動する高精度な移動体の案内及び駆動が可能な移動
案内装置、及び移動案内方法を提供することである。本
発明の第２の目的は、上記移動体を収納する真空容器の
シール構造を改良することである。本発明の第３の目的
は、上記移動案内装置、または移動案内方法を用いて製
造された半導体、液晶パネルを提供することである。
されたものであり、本発明の第１の目的は、ＸＹ平面内
を移動する高精度な移動体の案内及び駆動が可能な移動
案内装置、及び移動案内方法を提供することである。本
発明の第２の目的は、上記移動体を収納する真空容器の
シール構造を改良することである。本発明の第３の目的
は、上記移動案内装置、または移動案内方法を用いて製
造された半導体、液晶パネルを提供することである。
【０００６】そして、本発明は、電子線描画装置や、精
密計測器等の如く、非大気雰囲気中で、高速移動、精密
位置決めを繰り返す、あるいは高精度にスキャン移動す
る移動体を移動案内する移動案内装置等を提供すること
を主目的とする。
密計測器等の如く、非大気雰囲気中で、高速移動、精密
位置決めを繰り返す、あるいは高精度にスキャン移動す
る移動体を移動案内する移動案内装置等を提供すること
を主目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段及び作用】上記目的を達成
するために、本発明は、互いに交差する方向に案内され
て移動し上下に異なる位置に配置されていて、上下方向
の拘束をそれぞれ受けている第１の移動体及び第２の移
動体と、前記第１の移動体の移動方向及び前記第２の移
動体の移動方向に定盤上で案内されて移動可能な第３の
移動体とを有する移動案内装置において、前記第１、第
２及び第３の移動体を内部に収納する真空容器を設け、
前記第１及び第２の移動体を互いに交差する方向に駆動
するそれぞれのアクチュエータを前記真空容器の外に設
置し、前記第３の移動体は、前記第１及び第２の移動体
の横方向の案内面から力を受けて、互いに交差する２方
向に駆動されることを特徴とする。
するために、本発明は、互いに交差する方向に案内され
て移動し上下に異なる位置に配置されていて、上下方向
の拘束をそれぞれ受けている第１の移動体及び第２の移
動体と、前記第１の移動体の移動方向及び前記第２の移
動体の移動方向に定盤上で案内されて移動可能な第３の
移動体とを有する移動案内装置において、前記第１、第
２及び第３の移動体を内部に収納する真空容器を設け、
前記第１及び第２の移動体を互いに交差する方向に駆動
するそれぞれのアクチュエータを前記真空容器の外に設
置し、前記第３の移動体は、前記第１及び第２の移動体
の横方向の案内面から力を受けて、互いに交差する２方
向に駆動されることを特徴とする。
【０００８】本発明では、前記第１及び第２の移動体の
それぞれの一方側を案内するそれぞれのラジアル軸受
と、それぞれのもう一方側を案内するそれぞれの上下拘
束の軸受を有し、前記第３の移動体は、上下方向の案内
を、定盤面、前記第１及び第２の移動体の少なくともい
ずれかで行うとともに、前記第１及び第２の移動体の側
面を横方向のガイドにして移動してもよく、前記第１、
第２及び第３の移動体を案内する静圧軸受を有し、前記
アクチュエータはリニアタイプの超音波モータであるこ
とが望ましく、前記アクチュエータからの力を前記第１
及び第２の移動体に伝達する剛体を備え、前記真空容器
はラビリンスを介して排気され、非接触にて大気に対し
シールされることが好ましい。
それぞれの一方側を案内するそれぞれのラジアル軸受
と、それぞれのもう一方側を案内するそれぞれの上下拘
束の軸受を有し、前記第３の移動体は、上下方向の案内
を、定盤面、前記第１及び第２の移動体の少なくともい
ずれかで行うとともに、前記第１及び第２の移動体の側
面を横方向のガイドにして移動してもよく、前記第１、
第２及び第３の移動体を案内する静圧軸受を有し、前記
アクチュエータはリニアタイプの超音波モータであるこ
とが望ましく、前記アクチュエータからの力を前記第１
及び第２の移動体に伝達する剛体を備え、前記真空容器
はラビリンスを介して排気され、非接触にて大気に対し
シールされることが好ましい。
【０００９】また、本発明は、互いに交差する方向に案
内されて移動し上下に異なる位置に配置されていて、上
下方向の拘束をそれぞれ受けている第１の移動体及び第
２の移動体と、前記第１の移動体の移動方向及び前記第
２の移動体の移動方向とに定盤上で案内されて移動可能
な第３の移動体とを移動案内する移動案内方法におい
て、前記第１、第２及び第３の移動体を真空容器の中に
収納し、前記第１及び第２の移動体を、前記真空容器の
外に互いに交差する方向に設置されたそれぞれのアクチ
ュエータにより駆動し、前記第３の移動体を、前記第１
及び第２の移動体の横方向の案内面からの力で互いに交
差する２方向に駆動することを特徴としてもよい。
内されて移動し上下に異なる位置に配置されていて、上
下方向の拘束をそれぞれ受けている第１の移動体及び第
２の移動体と、前記第１の移動体の移動方向及び前記第
２の移動体の移動方向とに定盤上で案内されて移動可能
な第３の移動体とを移動案内する移動案内方法におい
て、前記第１、第２及び第３の移動体を真空容器の中に
収納し、前記第１及び第２の移動体を、前記真空容器の
外に互いに交差する方向に設置されたそれぞれのアクチ
ュエータにより駆動し、前記第３の移動体を、前記第１
及び第２の移動体の横方向の案内面からの力で互いに交
差する２方向に駆動することを特徴としてもよい。
【００１０】また、この場合、前記第１及び第２の移動
体の案内は、それぞれの一方側をそれぞれのラジアル軸
受により行い、それぞれのもう一方側をそれぞれの上下
拘束の軸受により行い、前記第３の移動体の上下方向の
案内を、定盤面、前記第１及び第２の移動体の少なくと
もいずれかで行い、前記第１及び第２の移動体の側面を
横方向のガイドにして、前記第３の移動体を移動させて
もよく、前記第１、第２及び第３の移動体の案内は静圧
軸受により行い、前記アクチュエータとしてリニアタイ
プの超音波モータを用いることが望ましく、前記アクチ
ュエータから前記第１及び第２の移動体への力の伝達は
剛体により行われ、前記真空容器はラビリンスを介して
排気され、非接触にて大気に対しシールされることが好
ましい。
体の案内は、それぞれの一方側をそれぞれのラジアル軸
受により行い、それぞれのもう一方側をそれぞれの上下
拘束の軸受により行い、前記第３の移動体の上下方向の
案内を、定盤面、前記第１及び第２の移動体の少なくと
もいずれかで行い、前記第１及び第２の移動体の側面を
横方向のガイドにして、前記第３の移動体を移動させて
もよく、前記第１、第２及び第３の移動体の案内は静圧
軸受により行い、前記アクチュエータとしてリニアタイ
プの超音波モータを用いることが望ましく、前記アクチ
ュエータから前記第１及び第２の移動体への力の伝達は
剛体により行われ、前記真空容器はラビリンスを介して
排気され、非接触にて大気に対しシールされることが好
ましい。
【００１１】本発明は、例えば、第１の移動体の案内は
定盤或いは移動体の一方に固定された１本のラジアル静
圧軸受及び定盤或いは移動体のもう一方に固定された上
下拘束の静圧軸受により行い、第２の移動体の案内は定
盤或いは移動体の一方に固定された１本のラジアル静圧
軸受及び定盤或いは移動体のもう一方に固定された上下
拘束の静圧軸受により行う。また、第３の移動体の垂直
方向の案内を定盤面で行い、横方向の案内をそれぞれ第
１及び第２の移動体の側面で行う。第１〜第３の移動体
については真空容器の中に収納され、第１の移動体の駆
動は真空容器の外に固定された少なくとも１本のリニア
モータで行い、第２の移動体の駆動について真空容器の
外に固定された少なくとも１本のリニアモータで行う。
また、第３の移動体の垂直方向の案内を定盤面で行い、
横方向の案内をそれぞれ第１及び第２の移動体の側面で
行う。また、第３の移動体の駆動は、第１及び第２の移
動体の横方向の案内を介して伝達する。これにより、本
発明の作用は次のとおりである。
定盤或いは移動体の一方に固定された１本のラジアル静
圧軸受及び定盤或いは移動体のもう一方に固定された上
下拘束の静圧軸受により行い、第２の移動体の案内は定
盤或いは移動体の一方に固定された１本のラジアル静圧
軸受及び定盤或いは移動体のもう一方に固定された上下
拘束の静圧軸受により行う。また、第３の移動体の垂直
方向の案内を定盤面で行い、横方向の案内をそれぞれ第
１及び第２の移動体の側面で行う。第１〜第３の移動体
については真空容器の中に収納され、第１の移動体の駆
動は真空容器の外に固定された少なくとも１本のリニア
モータで行い、第２の移動体の駆動について真空容器の
外に固定された少なくとも１本のリニアモータで行う。
また、第３の移動体の垂直方向の案内を定盤面で行い、
横方向の案内をそれぞれ第１及び第２の移動体の側面で
行う。また、第３の移動体の駆動は、第１及び第２の移
動体の横方向の案内を介して伝達する。これにより、本
発明の作用は次のとおりである。
【００１２】（１）第１及び第２の移動体とも直接駆動
されているのでステージの位置による剛性（特性）変化
を抑制することが可能になる。 （２）第３の移動体の上下方向の案内は定盤面であり、
第１及び第２の移動体が移動しても偏荷重が発生せず、
ピッチング、ローリングを高精度に保つことが可能にな
る。 （３）第１及び第２の移動体の位置により２本のアクチ
ュエータの駆動トルクを適正に分配することによりヨー
イング方向の振動を減少させ、動的な姿勢精度も向上す
る。 （４）また、ピッチング、ローリングについても軸受の
隙間を介してしか伝わらないので微少であり、この面か
らも動的な姿勢精度が向上する。 （５）第３の移動体を平面移動させるアクチュエータが
不要になる。 （６）第１及び第２の移動体の横方向の案内は定盤上の
１本の固定ガイドの側面であるので、温度変化が発生し
ても軸受の隙間は変化せず、運搬、使用中に温度変化が
発生しても破損のおそれが解消する。
されているのでステージの位置による剛性（特性）変化
を抑制することが可能になる。 （２）第３の移動体の上下方向の案内は定盤面であり、
第１及び第２の移動体が移動しても偏荷重が発生せず、
ピッチング、ローリングを高精度に保つことが可能にな
る。 （３）第１及び第２の移動体の位置により２本のアクチ
ュエータの駆動トルクを適正に分配することによりヨー
イング方向の振動を減少させ、動的な姿勢精度も向上す
る。 （４）また、ピッチング、ローリングについても軸受の
隙間を介してしか伝わらないので微少であり、この面か
らも動的な姿勢精度が向上する。 （５）第３の移動体を平面移動させるアクチュエータが
不要になる。 （６）第１及び第２の移動体の横方向の案内は定盤上の
１本の固定ガイドの側面であるので、温度変化が発生し
ても軸受の隙間は変化せず、運搬、使用中に温度変化が
発生しても破損のおそれが解消する。
【００１３】また、本発明は、第１〜第３の移動体の案
内は、例えば特開昭６３−１９２８６４号（特許第２５
８７２２７号）公報等に記載されているラビリンスシー
ル構造付の静圧軸受で行い、第１及び第２の移動体の駆
動はリニアモータで行うことにより、次のような作用が
ある。
内は、例えば特開昭６３−１９２８６４号（特許第２５
８７２２７号）公報等に記載されているラビリンスシー
ル構造付の静圧軸受で行い、第１及び第２の移動体の駆
動はリニアモータで行うことにより、次のような作用が
ある。
【００１４】（１）摩擦が存在しないのでヒス等がな
く、高精度な位置決めが可能になる。 （２）接触部からの発熱がないので熱変形等が発生せ
ず、この面からも高精度な位置決めが可能になる。 （３）また、発塵もなくゴミ回収等の機構が不要で構成
が容易になり、かつコストダウンが可能になる。 （４）グリスアップ等のメンテナンスが不要になる。
く、高精度な位置決めが可能になる。 （２）接触部からの発熱がないので熱変形等が発生せ
ず、この面からも高精度な位置決めが可能になる。 （３）また、発塵もなくゴミ回収等の機構が不要で構成
が容易になり、かつコストダウンが可能になる。 （４）グリスアップ等のメンテナンスが不要になる。
【００１５】本発明は、真空容器外に設置されたリニア
モータから移動体への力の伝達を充分剛性が大きい伝達
棒で行い、伝達棒と真空容器との間のシールをラビリン
スからの排気により行うことにより、次のような作用が
ある。
モータから移動体への力の伝達を充分剛性が大きい伝達
棒で行い、伝達棒と真空容器との間のシールをラビリン
スからの排気により行うことにより、次のような作用が
ある。
【００１６】（１）真空度に影響することなく真空容器
外からの駆動が可能になる。 （２）リニアモータによるダイレクトドライブとほぼ同
様の制御性能を得ることが可能になる。 （３）シール部が非接触であり、発塵が無い。 （４）摩擦抵抗が存在しないので高精度な位置決めが可
能になる。
外からの駆動が可能になる。 （２）リニアモータによるダイレクトドライブとほぼ同
様の制御性能を得ることが可能になる。 （３）シール部が非接触であり、発塵が無い。 （４）摩擦抵抗が存在しないので高精度な位置決めが可
能になる。
【００１７】また、駆動部を真空容器外に設置すること
により、 （５）真空容器のサイズの小型化が可能になる。 （６）リニアモータの磁気の影響を少なくできるので、
電子線描画装置等の磁気を嫌う装置に適する。
により、 （５）真空容器のサイズの小型化が可能になる。 （６）リニアモータの磁気の影響を少なくできるので、
電子線描画装置等の磁気を嫌う装置に適する。
【００１８】また、本発明は、上記露光装置を含む各種
プロセス用の製造装置群を半導体製造工場に設置する工
程と、該製造装置群を用いて複数のプロセスによって半
導体デバイスを製造する工程とを有する半導体デバイス
製造方法にも適用可能である。前記製造装置群をローカ
ルエリアネットワークで接続する工程と、前記ローカル
エリアネットワークと前記半導体製造工場外の外部ネッ
トワークとの間で、前記製造装置群の少なくとも１台に
関する情報をデータ通信する工程とをさらに有すること
が望ましく、前記露光装置のベンダもしくはユーザが提
供するデータベースに前記外部ネットワークを介してア
クセスしてデータ通信によって前記製造装置の保守情報
を得る、もしくは前記半導体製造工場とは別の半導体製
造工場との間で前記外部ネットワークを介してデータ通
信して生産管理を行うことが好ましい。
プロセス用の製造装置群を半導体製造工場に設置する工
程と、該製造装置群を用いて複数のプロセスによって半
導体デバイスを製造する工程とを有する半導体デバイス
製造方法にも適用可能である。前記製造装置群をローカ
ルエリアネットワークで接続する工程と、前記ローカル
エリアネットワークと前記半導体製造工場外の外部ネッ
トワークとの間で、前記製造装置群の少なくとも１台に
関する情報をデータ通信する工程とをさらに有すること
が望ましく、前記露光装置のベンダもしくはユーザが提
供するデータベースに前記外部ネットワークを介してア
クセスしてデータ通信によって前記製造装置の保守情報
を得る、もしくは前記半導体製造工場とは別の半導体製
造工場との間で前記外部ネットワークを介してデータ通
信して生産管理を行うことが好ましい。
【００１９】また、本発明は、上記露光装置を含む各種
プロセス用の製造装置群と、該製造装置群を接続するロ
ーカルエリアネットワークと、該ローカルエリアネット
ワークから工場外の外部ネットワークにアクセス可能に
するゲートウェイを有し、前記製造装置群の少なくとも
１台に関する情報をデータ通信することを可能にした半
導体製造工場にも適用可能である。
プロセス用の製造装置群と、該製造装置群を接続するロ
ーカルエリアネットワークと、該ローカルエリアネット
ワークから工場外の外部ネットワークにアクセス可能に
するゲートウェイを有し、前記製造装置群の少なくとも
１台に関する情報をデータ通信することを可能にした半
導体製造工場にも適用可能である。
【００２０】また、本発明は、半導体製造工場に設置さ
れた前記露光装置の保守方法であって、前記露光装置の
ベンダもしくはユーザが、半導体製造工場の外部ネット
ワークに接続された保守データベースを提供する工程
と、前記半導体製造工場内から前記外部ネットワークを
介して前記保守データベースへのアクセスを許可する工
程と、前記保守データベースに蓄積される保守情報を前
記外部ネットワークを介して半導体製造工場側に送信す
る工程とを有する露光装置の保守方法にも適用可能であ
る。
れた前記露光装置の保守方法であって、前記露光装置の
ベンダもしくはユーザが、半導体製造工場の外部ネット
ワークに接続された保守データベースを提供する工程
と、前記半導体製造工場内から前記外部ネットワークを
介して前記保守データベースへのアクセスを許可する工
程と、前記保守データベースに蓄積される保守情報を前
記外部ネットワークを介して半導体製造工場側に送信す
る工程とを有する露光装置の保守方法にも適用可能であ
る。
【００２１】また、本発明は、上記露光装置において、
ディスプレイと、ネットワークインタフェースと、ネッ
トワーク用ソフトウェアを実行するコンピュータとをさ
らに有し、露光装置の保守情報をコンピュータネットワ
ークを介してデータ通信することを可能にしたことを特
徴としてもよく、前記ネットワーク用ソフトウェアは、
前記露光装置が設置された工場の外部ネットワークに接
続され前記露光装置のベンダもしくはユーザが提供する
保守データベースにアクセスするためのユーザインタフ
ェースを前記ディスプレイ上に提供し、前記外部ネット
ワークを介して該データベースから情報を得ることを可
能にすることが好ましい。
ディスプレイと、ネットワークインタフェースと、ネッ
トワーク用ソフトウェアを実行するコンピュータとをさ
らに有し、露光装置の保守情報をコンピュータネットワ
ークを介してデータ通信することを可能にしたことを特
徴としてもよく、前記ネットワーク用ソフトウェアは、
前記露光装置が設置された工場の外部ネットワークに接
続され前記露光装置のベンダもしくはユーザが提供する
保守データベースにアクセスするためのユーザインタフ
ェースを前記ディスプレイ上に提供し、前記外部ネット
ワークを介して該データベースから情報を得ることを可
能にすることが好ましい。
【００２２】
【発明の実施の形態】（第１の実施形態）図１〜図４は
本発明の第１の実施形態に係わる移動案内装置の例を示
す概略図である。図１は斜視図、図２は図１の本体定盤
を取り除いて示した移動案内装置の裏面図、図３は図１
のＡ−Ａ断面図、図４は図１のＢ−Ｂ断面図であり、本
実施形態のＢ−Ｂ断面図では予圧機構を使用しない例で
ある。なお、真空容器は、図２にのみ示し、他の図にお
いては、図形の錯綜を避けるため省略してある。
本発明の第１の実施形態に係わる移動案内装置の例を示
す概略図である。図１は斜視図、図２は図１の本体定盤
を取り除いて示した移動案内装置の裏面図、図３は図１
のＡ−Ａ断面図、図４は図１のＢ−Ｂ断面図であり、本
実施形態のＢ−Ｂ断面図では予圧機構を使用しない例で
ある。なお、真空容器は、図２にのみ示し、他の図にお
いては、図形の錯綜を避けるため省略してある。
【００２３】図１〜図４において、１は定盤であり、１
１はステージ定盤、１２は本体定盤である。２１はＸ方
向固定ガイド、２２はＹ方向固定ガイド、３はＸＹ移動
体であってＸ方向及びＹ方向に平面移動可能である。４
１はＸ方向移動体であってＸＹ移動体３をＸ方向に移動
させることが可能であり、４２はＹ方向移動体であって
ＸＹ移動体３をＹ方向に移動させることが可能であり、
５１１，５１２はＸ方向駆動用リニアモータ、５２１，
５２２はＹ方向駆動用リニアモータである。
１はステージ定盤、１２は本体定盤である。２１はＸ方
向固定ガイド、２２はＹ方向固定ガイド、３はＸＹ移動
体であってＸ方向及びＹ方向に平面移動可能である。４
１はＸ方向移動体であってＸＹ移動体３をＸ方向に移動
させることが可能であり、４２はＹ方向移動体であって
ＸＹ移動体３をＹ方向に移動させることが可能であり、
５１１，５１２はＸ方向駆動用リニアモータ、５２１，
５２２はＹ方向駆動用リニアモータである。
【００２４】６１１はＸ方向移動体４１をＸ方向へ案内
をするとともにＸ方向以外の全方向に対し拘束する静圧
軸受、６１２はＸ方向移動体４１を横方向へ案内すると
ともに上下方向に対し拘束する静圧軸受、６２１はＹ方
向移動体４２をＹ方向へ案内をするとともにＹ方向以外
の全方向に対し拘束する静圧軸受、６２２はＹ方向移動
体４２を横方向へ案内するとともに上下方向に対し拘束
する静圧軸受、６３１はＸＹ移動体３と定盤１１間の垂
直方向拘束の静圧軸受、６３２はＸＹ移動体３とＸ方向
移動体４１間の横方向（Ｘ方向）の動きを拘束しながら
ＸＹ移動体３をＹ方向へ案内する静圧軸受、６４１はＸ
Ｙ移動体３とＹ方向移動体４２間の横方向（Ｙ方向）の
動きを拘束しながらＸＹ移動体３をＸ方向へ案内する静
圧軸受であり、これらはいずれも空気を使用した静圧軸
受である。
をするとともにＸ方向以外の全方向に対し拘束する静圧
軸受、６１２はＸ方向移動体４１を横方向へ案内すると
ともに上下方向に対し拘束する静圧軸受、６２１はＹ方
向移動体４２をＹ方向へ案内をするとともにＹ方向以外
の全方向に対し拘束する静圧軸受、６２２はＹ方向移動
体４２を横方向へ案内するとともに上下方向に対し拘束
する静圧軸受、６３１はＸＹ移動体３と定盤１１間の垂
直方向拘束の静圧軸受、６３２はＸＹ移動体３とＸ方向
移動体４１間の横方向（Ｘ方向）の動きを拘束しながら
ＸＹ移動体３をＹ方向へ案内する静圧軸受、６４１はＸ
Ｙ移動体３とＹ方向移動体４２間の横方向（Ｙ方向）の
動きを拘束しながらＸＹ移動体３をＸ方向へ案内する静
圧軸受であり、これらはいずれも空気を使用した静圧軸
受である。
【００２５】８は真空容器である。９１１はリニアモー
タ５１１の駆動力伝達棒であり、９１２はリニアモータ
５１２の駆動力伝達棒であって、これらはＸ方向伝達用
剛体としてＸ方向移動体４１に駆動力を伝達する。９２
１，９２２はリニアモータ５２１，５２２の駆動力伝達
棒であって、これらはＹ方向伝達用剛体としてＹ方向移
動体４２に駆動力を伝達する。
タ５１１の駆動力伝達棒であり、９１２はリニアモータ
５１２の駆動力伝達棒であって、これらはＸ方向伝達用
剛体としてＸ方向移動体４１に駆動力を伝達する。９２
１，９２２はリニアモータ５２１，５２２の駆動力伝達
棒であって、これらはＹ方向伝達用剛体としてＹ方向移
動体４２に駆動力を伝達する。
【００２６】上記構成において、Ｘ方向移動体４１は、
静圧軸受６１１に給気することにより、一方側部分４１
１がＸ方向固定ガイド２１から浮上し、静圧軸受６１２
に給気することにより、もう一方側部分４１２がステー
ジ定盤１１上のＸ方向ガイド２１１に対し浮上する。Ｙ
方向移動体４２は、静圧軸受６２１に給気することによ
り一方側部分４２１がＹ方向固定ガイド２２より浮上
し、静圧軸受６２２に給気することによりもう一方側部
分４２２がステージ定盤１１上のＹ方向ガイド２２１に
対し浮上する。
静圧軸受６１１に給気することにより、一方側部分４１
１がＸ方向固定ガイド２１から浮上し、静圧軸受６１２
に給気することにより、もう一方側部分４１２がステー
ジ定盤１１上のＸ方向ガイド２１１に対し浮上する。Ｙ
方向移動体４２は、静圧軸受６２１に給気することによ
り一方側部分４２１がＹ方向固定ガイド２２より浮上
し、静圧軸受６２２に給気することによりもう一方側部
分４２２がステージ定盤１１上のＹ方向ガイド２２１に
対し浮上する。
【００２７】また、ＸＹ移動体３は、静圧軸受６３１に
給気することによりステージ定盤１１より浮上し、静圧
軸受６３２に給気することによりＸ方向移動体４１よ
り、また静圧軸受６４１に給気することによりＹ方向移
動体４２より浮上する。
給気することによりステージ定盤１１より浮上し、静圧
軸受６３２に給気することによりＸ方向移動体４１よ
り、また静圧軸受６４１に給気することによりＹ方向移
動体４２より浮上する。
【００２８】以上の機構は、図２に示す真空容器８の内
部に収納される。真空容器８は、本体定盤１２上に設置
されており、ステージ定盤１１、Ｘ方向ガイド２１，２
１１、Ｙ方向ガイド２２，２２１、ＸＹ移動体３、Ｘ方
向移動体４１、Ｙ方向移動体４２、静圧軸受６１１，６
１２，６２１，６２２，６３１，６３２，６４１等の全
体を内部に収納し、駆動力伝達棒９１１，９１２，９２
１，９２２の部分が出入り可能である。
部に収納される。真空容器８は、本体定盤１２上に設置
されており、ステージ定盤１１、Ｘ方向ガイド２１，２
１１、Ｙ方向ガイド２２，２２１、ＸＹ移動体３、Ｘ方
向移動体４１、Ｙ方向移動体４２、静圧軸受６１１，６
１２，６２１，６２２，６３１，６３２，６４１等の全
体を内部に収納し、駆動力伝達棒９１１，９１２，９２
１，９２２の部分が出入り可能である。
【００２９】そして、真空容器８は、図５に示すよう
に、駆動力伝達棒９１１，９１２，９２１，９２２が出
入りする内部と外部との境界部分に、ラビリンスシール
構造８０を備えている。ラビリンスシール構造８０は、
駆動力伝達棒９１１，９１２，９２１，９２２が通って
いる真空容器８の開口部に同心的に筒体８１を突設し、
この筒体８１の内周に該駆動力伝達棒を取り巻く環状の
溝を設けて凹凸を付け、駆動力伝達棒が出入りする部分
を迷路状にしたものである。真空容器８内の気体は、筒
体８１の周壁に開けられた複数の小孔８２を通って排出
される。
に、駆動力伝達棒９１１，９１２，９２１，９２２が出
入りする内部と外部との境界部分に、ラビリンスシール
構造８０を備えている。ラビリンスシール構造８０は、
駆動力伝達棒９１１，９１２，９２１，９２２が通って
いる真空容器８の開口部に同心的に筒体８１を突設し、
この筒体８１の内周に該駆動力伝達棒を取り巻く環状の
溝を設けて凹凸を付け、駆動力伝達棒が出入りする部分
を迷路状にしたものである。真空容器８内の気体は、筒
体８１の周壁に開けられた複数の小孔８２を通って排出
される。
【００３０】また、この移動案内装置は、本体定盤１２
上に固定されたリニアモータ５１１，５１２を駆動する
ことにより伝達棒９１１，９１２を介してＸ方向移動体
４１がＸ方向に移動し、静圧軸受６３２を介してＸＹ移
動体３をＸ方向に移動させる。また、リニアモータ５２
１，５２２を駆動することにより伝達棒９２１，９２２
を介してＹ方向移動体４２がＹ方向に移動し、静圧軸受
６４１を介してＸＹ移動体３をＹ方向に移動させる。伝
達棒９１１，９１２，９２１，９２２は真空容器８との
境界でラビリンスシール構造８０により真空シールされ
る。
上に固定されたリニアモータ５１１，５１２を駆動する
ことにより伝達棒９１１，９１２を介してＸ方向移動体
４１がＸ方向に移動し、静圧軸受６３２を介してＸＹ移
動体３をＸ方向に移動させる。また、リニアモータ５２
１，５２２を駆動することにより伝達棒９２１，９２２
を介してＹ方向移動体４２がＹ方向に移動し、静圧軸受
６４１を介してＸＹ移動体３をＹ方向に移動させる。伝
達棒９１１，９１２，９２１，９２２は真空容器８との
境界でラビリンスシール構造８０により真空シールされ
る。
【００３１】本実施形態に係わる移動案内装置は次のよ
うな効果を奏する。 （１）ＸＹ移動体の位置が変化しても定盤には偏荷重が
発生しないので、静的な姿勢精度を高精度に保つことが
できる。 （２）Ｘ方向移動体、及びＹ方向移動体とも定盤面上の
２本のリニアモータで駆動しているのでＸＹ移動体の位
置により適当に駆動力を調整することによりＸＹ移動体
のヨーイング振動の発生を抑制することができる。 （３）すべて非接触のためゴミ、熱の発生がなく高精
度、かつメンテナンスが容易である。 （４）振動の伝達について、静圧軸受の隙間を介しての
微小量のみしか伝わらないので動的な姿勢精度を良好に
保つことができる。 （５）第１及び第２の移動体の横方向の案内は定盤上の
１本の固定ガイドの側面であるので、温度変化が発生し
ても軸受の隙間は変化せず、運搬等で破損のおそれがな
い。 （６）リニアモータは真空容器の外から真空シール（不
図示）を介して駆動するので真空への影響は少ない。 （７）ステージの位置が変化してもカップリング等が存
在せず、動的な特性がほとんど変化しないので、制御の
面からも有利である。
うな効果を奏する。 （１）ＸＹ移動体の位置が変化しても定盤には偏荷重が
発生しないので、静的な姿勢精度を高精度に保つことが
できる。 （２）Ｘ方向移動体、及びＹ方向移動体とも定盤面上の
２本のリニアモータで駆動しているのでＸＹ移動体の位
置により適当に駆動力を調整することによりＸＹ移動体
のヨーイング振動の発生を抑制することができる。 （３）すべて非接触のためゴミ、熱の発生がなく高精
度、かつメンテナンスが容易である。 （４）振動の伝達について、静圧軸受の隙間を介しての
微小量のみしか伝わらないので動的な姿勢精度を良好に
保つことができる。 （５）第１及び第２の移動体の横方向の案内は定盤上の
１本の固定ガイドの側面であるので、温度変化が発生し
ても軸受の隙間は変化せず、運搬等で破損のおそれがな
い。 （６）リニアモータは真空容器の外から真空シール（不
図示）を介して駆動するので真空への影響は少ない。 （７）ステージの位置が変化してもカップリング等が存
在せず、動的な特性がほとんど変化しないので、制御の
面からも有利である。
【００３２】（第２の実施形態）本発明の第２の実施形
態は第１の実施形態において説明した移動案内装置を用
いた露光装置である。該露光装置は、原版としてのレチ
クル及び基板としてのウエハをそれぞれ載せて移動させ
るレチクルステージ及びウエハステージとして、本発明
に係わる移動案内装置を用いるものである。本実施形態
に係わる露光装置を用いて、高い歩留で、優れた品質の
半導体、液晶パネルなどのデバイスを製造することがで
きる。
態は第１の実施形態において説明した移動案内装置を用
いた露光装置である。該露光装置は、原版としてのレチ
クル及び基板としてのウエハをそれぞれ載せて移動させ
るレチクルステージ及びウエハステージとして、本発明
に係わる移動案内装置を用いるものである。本実施形態
に係わる露光装置を用いて、高い歩留で、優れた品質の
半導体、液晶パネルなどのデバイスを製造することがで
きる。
【００３３】（半導体生産システムの実施形態）次に、
本発明に係る装置を用いた半導体デバイス（ＩＣやＬＳ
Ｉ等の半導体チップ、液晶パネル、ＣＣＤ、薄膜磁気ヘ
ッド、マイクロマシン等）の生産システムの例を説明す
る。これは半導体製造工場に設置された製造装置のトラ
ブル対応や定期メンテナンス、あるいはソフトウェア提
供などの保守サービスを、製造工場外のコンピュータネ
ットワークを利用して行うものである。
本発明に係る装置を用いた半導体デバイス（ＩＣやＬＳ
Ｉ等の半導体チップ、液晶パネル、ＣＣＤ、薄膜磁気ヘ
ッド、マイクロマシン等）の生産システムの例を説明す
る。これは半導体製造工場に設置された製造装置のトラ
ブル対応や定期メンテナンス、あるいはソフトウェア提
供などの保守サービスを、製造工場外のコンピュータネ
ットワークを利用して行うものである。
【００３４】図６は全体システムをある角度から切り出
して表現したものである。図中、１１０１は半導体デバ
イスの製造装置を提供するベンダ（装置供給メーカ）の
事業所である。製造装置の実例としては、半導体製造工
場で使用する各種プロセス用の半導体製造装置、例え
ば、前工程用機器（露光装置、レジスト処理装置、エッ
チング装置等のリソグラフィ装置、熱処理装置、成膜装
置、平坦化装置等）や後工程用機器（組立て装置、検査
装置等）を想定している。事業所１１０１内には、製造
装置の保守データベースを提供するホスト管理システム
１１０８、複数の操作端末コンピュータ１１１０、これ
らを結んでイントラネット等を構築するローカルエリア
ネットワーク（ＬＡＮ）１１０９を備える。ホスト管理
システム１１０８は、ＬＡＮ１１０９を事業所の外部ネ
ットワークであるインターネット１１０５に接続するた
めのゲートウェイと、外部からのアクセスを制限するセ
キュリティ機能を備える。
して表現したものである。図中、１１０１は半導体デバ
イスの製造装置を提供するベンダ（装置供給メーカ）の
事業所である。製造装置の実例としては、半導体製造工
場で使用する各種プロセス用の半導体製造装置、例え
ば、前工程用機器（露光装置、レジスト処理装置、エッ
チング装置等のリソグラフィ装置、熱処理装置、成膜装
置、平坦化装置等）や後工程用機器（組立て装置、検査
装置等）を想定している。事業所１１０１内には、製造
装置の保守データベースを提供するホスト管理システム
１１０８、複数の操作端末コンピュータ１１１０、これ
らを結んでイントラネット等を構築するローカルエリア
ネットワーク（ＬＡＮ）１１０９を備える。ホスト管理
システム１１０８は、ＬＡＮ１１０９を事業所の外部ネ
ットワークであるインターネット１１０５に接続するた
めのゲートウェイと、外部からのアクセスを制限するセ
キュリティ機能を備える。
【００３５】一方、１１０２〜１１０４は、製造装置の
ユーザとしての半導体製造メーカの製造工場である。製
造工場１１０２〜１１０４は、互いに異なるメーカに属
する工場であっても良いし、同一のメーカに属する工場
（例えば、前工程用の工場、後工程用の工場等）であっ
ても良い。各工場１１０２〜１１０４内には、夫々、複
数の製造装置１１０６と、それらを結んでイントラネッ
ト等を構築するローカルエリアネットワーク（ＬＡＮ）
１１１１と、各製造装置１１０６の稼動状況を監視する
監視装置としてホスト管理システム１１０７とが設けら
れている。各工場１１０２〜１１０４に設けられたホス
ト管理システム１１０７は、各工場内のＬＡＮ１１１１
を工場の外部ネットワークであるインターネット１１０
５に接続するためのゲートウェイを備える。これにより
各工場のＬＡＮ１１１１からインターネット１１０５を
介してベンダ１１０１側のホスト管理システム１１０８
にアクセスが可能となり、ホスト管理システム１１０８
のセキュリティ機能によって限られたユーザだけにアク
セスが許可となっている。具体的には、インターネット
１１０５を介して、各製造装置１１０６の稼動状況を示
すステータス情報（例えば、トラブルが発生した製造装
置の症状）を工場側からベンダ側に通知する他、その通
知に対応する応答情報（例えば、トラブルに対する対処
方法を指示する情報、対処用のソフトウェアやデータ）
や、最新のソフトウェア、ヘルプ情報などの保守情報を
ベンダ側から受け取ることができる。各工場１１０２〜
１１０４とベンダ１１０１との間のデータ通信および各
工場内のＬＡＮ１１１１でのデータ通信には、インター
ネットで一般的に使用されている通信プロトコル（ＴＣ
Ｐ／ＩＰ）が使用される。なお、工場外の外部ネットワ
ークとしてインターネットを利用する代わりに、第三者
からのアクセスができずにセキュリティの高い専用線ネ
ットワーク（ＩＳＤＮなど）を利用することもできる。
また、ホスト管理システムはベンダが提供するものに限
らずユーザがデータベースを構築して外部ネットワーク
上に置き、ユーザの複数の工場から該データベースへの
アクセスを許可するようにしてもよい。
ユーザとしての半導体製造メーカの製造工場である。製
造工場１１０２〜１１０４は、互いに異なるメーカに属
する工場であっても良いし、同一のメーカに属する工場
（例えば、前工程用の工場、後工程用の工場等）であっ
ても良い。各工場１１０２〜１１０４内には、夫々、複
数の製造装置１１０６と、それらを結んでイントラネッ
ト等を構築するローカルエリアネットワーク（ＬＡＮ）
１１１１と、各製造装置１１０６の稼動状況を監視する
監視装置としてホスト管理システム１１０７とが設けら
れている。各工場１１０２〜１１０４に設けられたホス
ト管理システム１１０７は、各工場内のＬＡＮ１１１１
を工場の外部ネットワークであるインターネット１１０
５に接続するためのゲートウェイを備える。これにより
各工場のＬＡＮ１１１１からインターネット１１０５を
介してベンダ１１０１側のホスト管理システム１１０８
にアクセスが可能となり、ホスト管理システム１１０８
のセキュリティ機能によって限られたユーザだけにアク
セスが許可となっている。具体的には、インターネット
１１０５を介して、各製造装置１１０６の稼動状況を示
すステータス情報（例えば、トラブルが発生した製造装
置の症状）を工場側からベンダ側に通知する他、その通
知に対応する応答情報（例えば、トラブルに対する対処
方法を指示する情報、対処用のソフトウェアやデータ）
や、最新のソフトウェア、ヘルプ情報などの保守情報を
ベンダ側から受け取ることができる。各工場１１０２〜
１１０４とベンダ１１０１との間のデータ通信および各
工場内のＬＡＮ１１１１でのデータ通信には、インター
ネットで一般的に使用されている通信プロトコル（ＴＣ
Ｐ／ＩＰ）が使用される。なお、工場外の外部ネットワ
ークとしてインターネットを利用する代わりに、第三者
からのアクセスができずにセキュリティの高い専用線ネ
ットワーク（ＩＳＤＮなど）を利用することもできる。
また、ホスト管理システムはベンダが提供するものに限
らずユーザがデータベースを構築して外部ネットワーク
上に置き、ユーザの複数の工場から該データベースへの
アクセスを許可するようにしてもよい。
【００３６】さて、図７は本実施形態の全体システムを
図６とは別の角度から切り出して表現した概念図であ
る。先の例ではそれぞれが製造装置を備えた複数のユー
ザ工場と、該製造装置のベンダの管理システムとを外部
ネットワークで接続して、該外部ネットワークを介して
各工場の生産管理や少なくとも１台の製造装置の情報を
データ通信するものであった。これに対し本例は、複数
のベンダの製造装置を備えた工場と、該複数の製造装置
のそれぞれのベンダの管理システムとを工場外の外部ネ
ットワークで接続して、各製造装置の保守情報をデータ
通信するものである。図中、１２０１は製造装置ユーザ
（半導体デバイス製造メーカ）の製造工場であり、工場
の製造ラインには各種プロセスを行う製造装置、ここで
は例として露光装置１２０２、レジスト処理装置１２０
３、成膜処理装置１２０４が導入されている。なお図７
では製造工場１２０１は１つだけ描いているが、実際は
複数の工場が同様にネットワーク化されている。工場内
の各装置はＬＡＮ１２０６で接続されてイントラネット
を構成し、ホスト管理システム１２０５で製造ラインの
稼動管理がされている。
図６とは別の角度から切り出して表現した概念図であ
る。先の例ではそれぞれが製造装置を備えた複数のユー
ザ工場と、該製造装置のベンダの管理システムとを外部
ネットワークで接続して、該外部ネットワークを介して
各工場の生産管理や少なくとも１台の製造装置の情報を
データ通信するものであった。これに対し本例は、複数
のベンダの製造装置を備えた工場と、該複数の製造装置
のそれぞれのベンダの管理システムとを工場外の外部ネ
ットワークで接続して、各製造装置の保守情報をデータ
通信するものである。図中、１２０１は製造装置ユーザ
（半導体デバイス製造メーカ）の製造工場であり、工場
の製造ラインには各種プロセスを行う製造装置、ここで
は例として露光装置１２０２、レジスト処理装置１２０
３、成膜処理装置１２０４が導入されている。なお図７
では製造工場１２０１は１つだけ描いているが、実際は
複数の工場が同様にネットワーク化されている。工場内
の各装置はＬＡＮ１２０６で接続されてイントラネット
を構成し、ホスト管理システム１２０５で製造ラインの
稼動管理がされている。
【００３７】一方、露光装置メーカ１２１０、レジスト
処理装置メーカ１２２０、成膜装置メーカ１２３０など
ベンダ（装置供給メーカ）の各事業所には、それぞれ供
給した機器の遠隔保守を行うためのホスト管理システム
１２１１，１２２１，１２３１を備え、これらは上述し
たように保守データベースと外部ネットワークのゲート
ウェイを備える。ユーザの製造工場内の各装置を管理す
るホスト管理システム１２０５と、各装置のベンダの管
理システム１２１１，１２２１，１２３１とは、外部ネ
ットワーク１２００であるインターネットもしくは専用
線ネットワークによって接続されている。このシステム
において、製造ラインの一連の製造機器の中のどれかに
トラブルが起きると、製造ラインの稼動が休止してしま
うが、トラブルが起きた機器のベンダからインターネッ
ト１２００を介した遠隔保守を受けることで迅速な対応
が可能であり、製造ラインの休止を最小限に抑えること
ができる。
処理装置メーカ１２２０、成膜装置メーカ１２３０など
ベンダ（装置供給メーカ）の各事業所には、それぞれ供
給した機器の遠隔保守を行うためのホスト管理システム
１２１１，１２２１，１２３１を備え、これらは上述し
たように保守データベースと外部ネットワークのゲート
ウェイを備える。ユーザの製造工場内の各装置を管理す
るホスト管理システム１２０５と、各装置のベンダの管
理システム１２１１，１２２１，１２３１とは、外部ネ
ットワーク１２００であるインターネットもしくは専用
線ネットワークによって接続されている。このシステム
において、製造ラインの一連の製造機器の中のどれかに
トラブルが起きると、製造ラインの稼動が休止してしま
うが、トラブルが起きた機器のベンダからインターネッ
ト１２００を介した遠隔保守を受けることで迅速な対応
が可能であり、製造ラインの休止を最小限に抑えること
ができる。
【００３８】半導体製造工場に設置された各製造装置は
それぞれ、ディスプレイと、ネットワークインタフェー
スと、記憶装置にストアされたネットワークアクセス用
ソフトウェアならびに装置動作用のソフトウェアを実行
するコンピュータを備える。記憶装置としては内蔵メモ
リやハードディスク、あるいはネットワークファイルサ
ーバーなどである。上記ネットワークアクセス用ソフト
ウェアは、専用又は汎用のウェブブラウザを含み、例え
ば図８に一例を示す様な画面のユーザインタフェースを
ディスプレイ上に提供する。各工場で製造装置を管理す
るオペレータは、画面を参照しながら、製造装置の機種
１４０１、シリアルナンバー１４０２、トラブルの件名
１４０３、発生日１４０４、緊急度１４０５、症状１４
０６、対処法１４０７、経過１４０８等の情報を画面上
の入力項目に入力する。入力された情報はインターネッ
トを介して保守データベースに送信され、その結果の適
切な保守情報が保守データベースから返信されディスプ
レイ上に提示される。またウェブブラウザが提供するユ
ーザインタフェースはさらに図示のごとくハイパーリン
ク機能１４１０〜１４１２を実現し、オペレータは各項
目の更に詳細な情報にアクセスしたり、ベンダが提供す
るソフトウェアライブラリから製造装置に使用する最新
バージョンのソフトウェアを引出したり、工場のオペレ
ータの参考に供する操作ガイド（ヘルプ情報）を引出し
たりすることができる。ここで、保守データベースが提
供する保守情報には、上記説明した本発明に関する情報
も含まれ、また前記ソフトウェアライブラリは本発明を
実現するための最新のソフトウェアも提供する。
それぞれ、ディスプレイと、ネットワークインタフェー
スと、記憶装置にストアされたネットワークアクセス用
ソフトウェアならびに装置動作用のソフトウェアを実行
するコンピュータを備える。記憶装置としては内蔵メモ
リやハードディスク、あるいはネットワークファイルサ
ーバーなどである。上記ネットワークアクセス用ソフト
ウェアは、専用又は汎用のウェブブラウザを含み、例え
ば図８に一例を示す様な画面のユーザインタフェースを
ディスプレイ上に提供する。各工場で製造装置を管理す
るオペレータは、画面を参照しながら、製造装置の機種
１４０１、シリアルナンバー１４０２、トラブルの件名
１４０３、発生日１４０４、緊急度１４０５、症状１４
０６、対処法１４０７、経過１４０８等の情報を画面上
の入力項目に入力する。入力された情報はインターネッ
トを介して保守データベースに送信され、その結果の適
切な保守情報が保守データベースから返信されディスプ
レイ上に提示される。またウェブブラウザが提供するユ
ーザインタフェースはさらに図示のごとくハイパーリン
ク機能１４１０〜１４１２を実現し、オペレータは各項
目の更に詳細な情報にアクセスしたり、ベンダが提供す
るソフトウェアライブラリから製造装置に使用する最新
バージョンのソフトウェアを引出したり、工場のオペレ
ータの参考に供する操作ガイド（ヘルプ情報）を引出し
たりすることができる。ここで、保守データベースが提
供する保守情報には、上記説明した本発明に関する情報
も含まれ、また前記ソフトウェアライブラリは本発明を
実現するための最新のソフトウェアも提供する。
【００３９】次に上記説明した生産システムを利用した
半導体デバイスの製造プロセスを説明する。図９は半導
体デバイスの全体的な製造プロセスのフローを示す。ス
テップ１（回路設計）では半導体デバイスの回路設計を
行う。ステップ２（マスク製作）では設計した回路パタ
ーンを形成したマスクを製作する。一方、ステップ３
（ウエハ製造）ではシリコン等の材料を用いてウエハを
製造する。ステップ４（ウエハプロセス）は前工程と呼
ばれ、上記用意したマスクとウエハを用いて、リソグラ
フィ技術によってウエハ上に実際の回路を形成する。次
のステップ５（組み立て）は後工程と呼ばれ、ステップ
４によって作製されたウエハを用いて半導体チップ化す
る工程であり、アッセンブリ工程（ダイシング、ボンデ
ィング）、パッケージング工程（チップ封入）等の組立
て工程を含む。ステップ６（検査）ではステップ５で作
製された半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テス
ト等の検査を行う。こうした工程を経て半導体デバイス
が完成し、これを出荷（ステップ７）する。前工程と後
工程はそれぞれ専用の別の工場で行い、これらの工場毎
に上記説明した遠隔保守システムによって保守がなされ
る。また前工程工場と後工程工場との間でも、インター
ネットまたは専用線ネットワークを介して生産管理や装
置保守のための情報がデータ通信される。
半導体デバイスの製造プロセスを説明する。図９は半導
体デバイスの全体的な製造プロセスのフローを示す。ス
テップ１（回路設計）では半導体デバイスの回路設計を
行う。ステップ２（マスク製作）では設計した回路パタ
ーンを形成したマスクを製作する。一方、ステップ３
（ウエハ製造）ではシリコン等の材料を用いてウエハを
製造する。ステップ４（ウエハプロセス）は前工程と呼
ばれ、上記用意したマスクとウエハを用いて、リソグラ
フィ技術によってウエハ上に実際の回路を形成する。次
のステップ５（組み立て）は後工程と呼ばれ、ステップ
４によって作製されたウエハを用いて半導体チップ化す
る工程であり、アッセンブリ工程（ダイシング、ボンデ
ィング）、パッケージング工程（チップ封入）等の組立
て工程を含む。ステップ６（検査）ではステップ５で作
製された半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テス
ト等の検査を行う。こうした工程を経て半導体デバイス
が完成し、これを出荷（ステップ７）する。前工程と後
工程はそれぞれ専用の別の工場で行い、これらの工場毎
に上記説明した遠隔保守システムによって保守がなされ
る。また前工程工場と後工程工場との間でも、インター
ネットまたは専用線ネットワークを介して生産管理や装
置保守のための情報がデータ通信される。
【００４０】図１０は上記ウエハプロセスの詳細なフロ
ーを示す。ステップ１１（酸化）ではウエハの表面を酸
化させる。ステップ１２（ＣＶＤ）ではウエハ表面に絶
縁膜を成膜する。ステップ１３（電極形成）ではウエハ
上に電極を蒸着によって形成する。ステップ１４（イオ
ン打込み）ではウエハにイオンを打ち込む。ステップ１
５（レジスト処理）ではウエハに感光剤を塗布する。ス
テップ１６（露光）では上記説明した露光装置によって
マスクの回路パターンをウエハに焼付露光する。ステッ
プ１７（現像）では露光したウエハを現像する。ステッ
プ１８（エッチング）では現像したレジスト像以外の部
分を削り取る。ステップ１９（レジスト剥離）ではエッ
チングが済んで不要となったレジストを取り除く。これ
らのステップを繰り返し行うことによって、ウエハ上に
多重に回路パターンを形成する。各工程で使用する製造
機器は上記説明した遠隔保守システムによって保守がな
されているので、トラブルを未然に防ぐと共に、もしト
ラブルが発生しても迅速な復旧が可能であり、従来に比
べて半導体デバイスの生産性を向上させることができ
る。
ーを示す。ステップ１１（酸化）ではウエハの表面を酸
化させる。ステップ１２（ＣＶＤ）ではウエハ表面に絶
縁膜を成膜する。ステップ１３（電極形成）ではウエハ
上に電極を蒸着によって形成する。ステップ１４（イオ
ン打込み）ではウエハにイオンを打ち込む。ステップ１
５（レジスト処理）ではウエハに感光剤を塗布する。ス
テップ１６（露光）では上記説明した露光装置によって
マスクの回路パターンをウエハに焼付露光する。ステッ
プ１７（現像）では露光したウエハを現像する。ステッ
プ１８（エッチング）では現像したレジスト像以外の部
分を削り取る。ステップ１９（レジスト剥離）ではエッ
チングが済んで不要となったレジストを取り除く。これ
らのステップを繰り返し行うことによって、ウエハ上に
多重に回路パターンを形成する。各工程で使用する製造
機器は上記説明した遠隔保守システムによって保守がな
されているので、トラブルを未然に防ぐと共に、もしト
ラブルが発生しても迅速な復旧が可能であり、従来に比
べて半導体デバイスの生産性を向上させることができ
る。
【００４１】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
第１の移動体の横方向の案内は定盤上に固定されたガイ
ドにより行い、第１の移動体の垂直方向の案内は定盤で
行い、第２の移動体の横方向の案内は定盤上に固定され
たガイドにより行い、第２の移動体の垂直方向の案内は
定盤面で行う。また、第３の移動体の垂直方向の案内を
定盤面で行い、横方向の案内をそれぞれ第１及び第２の
移動体の側面で行う。第１〜第３の移動体については真
空容器の中に収納され、第１の移動体の駆動は真空容器
の外に固定されたアクチュエータで行い、第２の移動体
の駆動について真空容器の外に固定されたアクチュエー
タで行う。また、第３の移動体の垂直方向の案内を定盤
面で行い、横方向の案内をそれぞれ第１及び第２の移動
体の側面で行う。また、第３の移動体の駆動は、第１及
び第２の移動体の横方向の案内を介して伝達する。
第１の移動体の横方向の案内は定盤上に固定されたガイ
ドにより行い、第１の移動体の垂直方向の案内は定盤で
行い、第２の移動体の横方向の案内は定盤上に固定され
たガイドにより行い、第２の移動体の垂直方向の案内は
定盤面で行う。また、第３の移動体の垂直方向の案内を
定盤面で行い、横方向の案内をそれぞれ第１及び第２の
移動体の側面で行う。第１〜第３の移動体については真
空容器の中に収納され、第１の移動体の駆動は真空容器
の外に固定されたアクチュエータで行い、第２の移動体
の駆動について真空容器の外に固定されたアクチュエー
タで行う。また、第３の移動体の垂直方向の案内を定盤
面で行い、横方向の案内をそれぞれ第１及び第２の移動
体の側面で行う。また、第３の移動体の駆動は、第１及
び第２の移動体の横方向の案内を介して伝達する。
【００４２】また、第１の移動体の一方向の案内は定盤
上に固定された上下、左右全て拘束したガイドにより行
い、もう一方は、上下拘束のみを行う固定ガイドにより
行い、第２の移動体の横方向の案内は定盤上に固定され
たガイドにより行い、第２の移動体一方向の案内は定盤
上に固定された上下、左右全て拘束したガイドにより行
い、もう一方は、上下拘束のみを行う固定ガイドにより
行う。また、第３の移動体の上下方向の案内を定盤面で
行い、横方向の案内をそれぞれ第１及び第２の移動体の
側面で行う。これらのことにより、本発明は、以下のよ
うな効果を奏する。
上に固定された上下、左右全て拘束したガイドにより行
い、もう一方は、上下拘束のみを行う固定ガイドにより
行い、第２の移動体の横方向の案内は定盤上に固定され
たガイドにより行い、第２の移動体一方向の案内は定盤
上に固定された上下、左右全て拘束したガイドにより行
い、もう一方は、上下拘束のみを行う固定ガイドにより
行う。また、第３の移動体の上下方向の案内を定盤面で
行い、横方向の案内をそれぞれ第１及び第２の移動体の
側面で行う。これらのことにより、本発明は、以下のよ
うな効果を奏する。
【００４３】（１）Ｘステージ、Ｙステージを積み重ね
ていないので高さを低くすることができる。また、Ｘ、
Ｙステージをオーバーハングさせることにより専有面積
は従来とほぼ同一にできる。 （２）カップリング等の機構を使用していないので、第
３の移動体の位置が変化しても動的な特性は変化せず、
高い制御性を有する。 （３）第３の移動体が移動しても偏荷重が発生せず静的
な姿勢精度を高精度に保つことができる。 （４）振動については、静圧軸受の隙間を介してのみし
か伝わらないので、伝わる量は微小であり動的にも姿勢
精度を高精度に保つことができる。 （５）第１及び第２の移動体は定盤上の２本のリニアモ
ータにより駆動することでヨーイング振動を制振でき、
動的な姿勢精度も高精度に保つことができる。 （６）摩擦が存在しないのでヒス等がなく高精度な位置
決めが可能である。 （７）接触部からの発熱がないので熱変形等が発生せ
ず、この面からも高精度な位置決めが可能である。 （８）また、発塵もなくゴミ回収等の機構が不要で構成
が容易、かつコストダウンになる。 （９）グリスアップ等のメンテナンスが不要である。 （10）第１及び第２の移動体の横方向の案内は定盤上の
固定ガイドの側面であるので、温度変化が発生しても軸
受の隙間は変化せず、周波数特性の変化がない。また、
運搬等で破損のおそれがない。 （11）真空容器外から駆動しているので真空容器の小型
化が可能である。 （12）真空シール部も非接触であり、この面からも高精
度な位置決めが可能である。
ていないので高さを低くすることができる。また、Ｘ、
Ｙステージをオーバーハングさせることにより専有面積
は従来とほぼ同一にできる。 （２）カップリング等の機構を使用していないので、第
３の移動体の位置が変化しても動的な特性は変化せず、
高い制御性を有する。 （３）第３の移動体が移動しても偏荷重が発生せず静的
な姿勢精度を高精度に保つことができる。 （４）振動については、静圧軸受の隙間を介してのみし
か伝わらないので、伝わる量は微小であり動的にも姿勢
精度を高精度に保つことができる。 （５）第１及び第２の移動体は定盤上の２本のリニアモ
ータにより駆動することでヨーイング振動を制振でき、
動的な姿勢精度も高精度に保つことができる。 （６）摩擦が存在しないのでヒス等がなく高精度な位置
決めが可能である。 （７）接触部からの発熱がないので熱変形等が発生せ
ず、この面からも高精度な位置決めが可能である。 （８）また、発塵もなくゴミ回収等の機構が不要で構成
が容易、かつコストダウンになる。 （９）グリスアップ等のメンテナンスが不要である。 （10）第１及び第２の移動体の横方向の案内は定盤上の
固定ガイドの側面であるので、温度変化が発生しても軸
受の隙間は変化せず、周波数特性の変化がない。また、
運搬等で破損のおそれがない。 （11）真空容器外から駆動しているので真空容器の小型
化が可能である。 （12）真空シール部も非接触であり、この面からも高精
度な位置決めが可能である。
【図１】 本発明の第１の実施形態に係わる移動案内装
置の概略構成を示す斜視図である。
置の概略構成を示す斜視図である。
【図２】 図１の定盤を除外して示した移動案内装置の
裏面図である。
裏面図である。
【図３】 図１のＡ−Ａ断面図である。
【図４】 図１のＢ−Ｂ断面図である。
【図５】 図２に示した真空容器の真空シール機構の詳
細断面図である。
細断面図である。
【図６】 本発明に係る装置を用いた半導体デバイスの
生産システムをある角度から見た概念図である。
生産システムをある角度から見た概念図である。
【図７】 本発明に係る装置を用いた半導体デバイスの
生産システムを別の角度から見た概念図である。
生産システムを別の角度から見た概念図である。
【図８】 ユーザインタフェースの具体例である。
【図９】 デバイスの製造プロセスのフローを説明する
図である。
図である。
【図１０】 ウエハプロセスを説明する図である。
１：定盤、１１：ステージ定盤、１２：本体定盤、２
１，２１１：Ｘ方向固定ガイド、２２，２２１：Ｙ方向
固定ガイド、３：ＸＹ移動体、４１：Ｘ方向移動体、４
２：Ｙ方向移動体、５１１，５１２：Ｘ方向駆動用リニ
アモータ、５２１，５２２：Ｙ方向駆動用リニアモー
タ、６１１：Ｘ方向移動体のＸ方向以外全拘束静圧軸
受、６１２：Ｘ方向移動体の垂直方向拘束静圧軸受、６
２１：Ｙ方向移動体のＹ方向以外全拘束静圧軸受、６２
２：Ｙ方向移動体の垂直方向拘束、６３１：ＸＹ移動体
と定盤間の垂直方向拘束、６３２：ＸＹ移動体とＸ方向
移動体の横方向拘束静圧軸受、６４１：ＸＹ移動体とＹ
方向移動体の横方向拘束静圧軸受、８：真空容器、９１
１，９１２：Ｘ方向移動体４１の駆動用駆動力伝達棒、
９２１，９２２：Ｙ方向移動体４２の駆動用駆動力伝達
棒、１１０１：ベンダの事業所、１１０２，１１０３，
１１０４：製造工場、１１０５：インターネット、１１
０６：製造装置、１１０７：工場のホスト管理システ
ム、１１０８：ベンダ側のホスト管理システム、１１０
９：ベンダ側のローカルエリアネットワーク（ＬＡ
Ｎ）、１１１０：操作端末コンピュータ、１１１１：工
場のローカルエリアネットワーク（ＬＡＮ）、１２０
０：外部ネットワーク、１２０１：製造装置ユーザの製
造工場、１２０２：露光装置、１２０３：レジスト処理
装置、１２０４：成膜処理装置、１２０５：工場のホス
ト管理システム、１２０６：工場のローカルエリアネッ
トワーク（ＬＡＮ）、１２１０：露光装置メーカ、１２
１１：露光装置メーカの事業所のホスト管理システム、
１２２０：レジスト処理装置メーカ、１２２１：レジス
ト処理装置メーカの事業所のホスト管理システム、１２
３０：成膜装置メーカ、１２３１：成膜装置メーカの事
業所のホスト管理システム、１４０１：製造装置の機
種、１４０２：シリアルナンバー、１４０３：トラブル
の件名、１４０４：発生日、１４０５：緊急度、１４０
６：症状、１４０７：対処法、１４０８：経過、１４１
０，１４１１，１４１２：ハイパーリンク機能。
１，２１１：Ｘ方向固定ガイド、２２，２２１：Ｙ方向
固定ガイド、３：ＸＹ移動体、４１：Ｘ方向移動体、４
２：Ｙ方向移動体、５１１，５１２：Ｘ方向駆動用リニ
アモータ、５２１，５２２：Ｙ方向駆動用リニアモー
タ、６１１：Ｘ方向移動体のＸ方向以外全拘束静圧軸
受、６１２：Ｘ方向移動体の垂直方向拘束静圧軸受、６
２１：Ｙ方向移動体のＹ方向以外全拘束静圧軸受、６２
２：Ｙ方向移動体の垂直方向拘束、６３１：ＸＹ移動体
と定盤間の垂直方向拘束、６３２：ＸＹ移動体とＸ方向
移動体の横方向拘束静圧軸受、６４１：ＸＹ移動体とＹ
方向移動体の横方向拘束静圧軸受、８：真空容器、９１
１，９１２：Ｘ方向移動体４１の駆動用駆動力伝達棒、
９２１，９２２：Ｙ方向移動体４２の駆動用駆動力伝達
棒、１１０１：ベンダの事業所、１１０２，１１０３，
１１０４：製造工場、１１０５：インターネット、１１
０６：製造装置、１１０７：工場のホスト管理システ
ム、１１０８：ベンダ側のホスト管理システム、１１０
９：ベンダ側のローカルエリアネットワーク（ＬＡ
Ｎ）、１１１０：操作端末コンピュータ、１１１１：工
場のローカルエリアネットワーク（ＬＡＮ）、１２０
０：外部ネットワーク、１２０１：製造装置ユーザの製
造工場、１２０２：露光装置、１２０３：レジスト処理
装置、１２０４：成膜処理装置、１２０５：工場のホス
ト管理システム、１２０６：工場のローカルエリアネッ
トワーク（ＬＡＮ）、１２１０：露光装置メーカ、１２
１１：露光装置メーカの事業所のホスト管理システム、
１２２０：レジスト処理装置メーカ、１２２１：レジス
ト処理装置メーカの事業所のホスト管理システム、１２
３０：成膜装置メーカ、１２３１：成膜装置メーカの事
業所のホスト管理システム、１４０１：製造装置の機
種、１４０２：シリアルナンバー、１４０３：トラブル
の件名、１４０４：発生日、１４０５：緊急度、１４０
６：症状、１４０７：対処法、１４０８：経過、１４１
０，１４１１，１４１２：ハイパーリンク機能。
Claims (18)
- 【請求項１】 互いに交差する方向に案内されて移動し
上下に異なる位置に配置されていて、上下方向の拘束を
それぞれ受けている第１の移動体及び第２の移動体と、 前記第１の移動体の移動方向及び前記第２の移動体の移
動方向に定盤上で案内されて移動可能な第３の移動体と
を有する移動案内装置において、 前記第１、第２及び第３の移動体を内部に収納する真空
容器を設け、 前記第１及び第２の移動体を互いに交差する方向に駆動
するそれぞれのアクチュエータを前記真空容器の外に設
置し、 前記第３の移動体は、前記第１及び第２の移動体の横方
向の案内面から力を受けて、互いに交差する２方向に駆
動されることを特徴とする移動案内装置。 - 【請求項２】 前記第１及び第２の移動体のそれぞれの
一方側を案内するそれぞれのラジアル軸受と、それぞれ
のもう一方側を案内するそれぞれの上下拘束の軸受とを
有し、前記第３の移動体は、上下方向の案内を、定盤
面、前記第１及び第２の移動体の少なくともいずれかで
行うとともに、前記第１及び第２の移動体の側面を横方
向のガイドにして移動することを特徴とする請求項１に
記載の移動案内装置。 - 【請求項３】 前記第１、第２及び第３の移動体を案内
する静圧軸受を有し、前記アクチュエータはリニアタイ
プの超音波モータであることを特徴とする請求項１また
は２に記載の移動案内装置。 - 【請求項４】 前記アクチュエータからの力を前記第１
及び第２の移動体に伝達する剛体を備え、前記真空容器
はラビリンスを介して排気され、非接触にて大気に対し
シールされることを特徴とする請求項１〜３のいずれか
に記載の移動案内装置。 - 【請求項５】 互いに交差する方向に案内されて移動し
上下に異なる位置に配置されていて、上下方向の拘束を
それぞれ受けている第１の移動体及び第２の移動体と、 前記第１の移動体の移動方向及び前記第２の移動体の移
動方向に定盤上で案内されて移動可能な第３の移動体と
を移動案内する移動案内方法において、 前記第１、第２及び第３の移動体を真空容器の中に収納
し、前記第１及び第２の移動体を、前記真空容器の外に
互いに交差する方向に設置されたそれぞれのアクチュエ
ータにより駆動し、 前記第３の移動体を、前記第１及び第２の移動体の横方
向の案内面からの力で互いに交差する２方向に駆動する
ことを特徴とする移動案内方法。 - 【請求項６】 前記第１及び第２の移動体の案内は、そ
れぞれの一方側をそれぞれのラジアル軸受により行い、
それぞれのもう一方側をそれぞれの上下拘束の軸受によ
り行い、前記第３の移動体の上下方向の案内を、定盤
面、前記第１及び第２の移動体の少なくともいずれかで
行い、前記第１及び第２の移動体の側面を横方向のガイ
ドにして、前記第３の移動体を移動させることを特徴と
する請求項５に記載の移動案内装置。 - 【請求項７】 前記第１、第２及び第３の移動体の案内
は静圧軸受で行い、 前記アクチュエータとしてリニアタイプの超音波モータ
を用いることを特徴とする請求項５または６に記載の移
動案内方法。 - 【請求項８】 前記アクチュエータから前記第１及び第
２の移動体への力の伝達は剛体により行われ、前記真空
容器は、ラビリンスを介して排気され、非接触にて大気
に対しシールされることを特徴とする請求項５〜７のい
ずれかに記載の移動案内方法。 - 【請求項９】 請求項１〜４のいずれかに記載の移動案
内装置を用いて製造した半導体及び液晶パネルのいずれ
かのデバイス。 - 【請求項１０】 請求項５〜８のいずれかに記載の移動
案内方法により製造した半導体及び液晶パネルのいずれ
かのデバイス。 - 【請求項１１】 請求項１〜４のいずれかに記載の移動
案内装置を用いたことを特徴とする露光装置。 - 【請求項１２】 請求項１１に記載の露光装置を含む各
種プロセス用の製造装置群を半導体製造工場に設置する
工程と、該製造装置群を用いて複数のプロセスによって
半導体デバイスを製造する工程とを有することを特徴と
する半導体デバイス製造方法。 - 【請求項１３】 前記製造装置群をローカルエリアネッ
トワークで接続する工程と、前記ローカルエリアネット
ワークと前記半導体製造工場外の外部ネットワークとの
間で、前記製造装置群の少なくとも１台に関する情報を
データ通信する工程とをさらに有することを特徴とする
請求項１２に記載の半導体デバイス製造方法。 - 【請求項１４】 前記露光装置のベンダもしくはユーザ
が提供するデータベースに前記外部ネットワークを介し
てアクセスしてデータ通信によって前記製造装置の保守
情報を得る、もしくは前記半導体製造工場とは別の半導
体製造工場との間で前記外部ネットワークを介してデー
タ通信して生産管理を行うことを特徴とする請求項１３
に記載の半導体デバイス製造方法。 - 【請求項１５】 請求項１１に記載の露光装置を含む各
種プロセス用の製造装置群と、該製造装置群を接続する
ローカルエリアネットワークと、該ローカルエリアネッ
トワークから工場外の外部ネットワークにアクセス可能
にするゲートウェイを有し、前記製造装置群の少なくと
も１台に関する情報をデータ通信することを可能にした
ことを特徴とする半導体製造工場。 - 【請求項１６】 半導体製造工場に設置された請求項１
１に記載の露光装置の保守方法であって、前記露光装置
のベンダもしくはユーザが、半導体製造工場の外部ネッ
トワークに接続された保守データベースを提供する工程
と、前記半導体製造工場内から前記外部ネットワークを
介して前記保守データベースへのアクセスを許可する工
程と、前記保守データベースに蓄積される保守情報を前
記外部ネットワークを介して半導体製造工場側に送信す
る工程とを有することを特徴とする露光装置の保守方
法。 - 【請求項１７】 請求項１１に記載の露光装置におい
て、ディスプレイと、ネットワークインタフェースと、
ネットワーク用ソフトウェアを実行するコンピュータと
をさらに有し、露光装置の保守情報をコンピュータネッ
トワークを介してデータ通信することを可能にしたこと
を特徴とする露光装置。 - 【請求項１８】 前記ネットワーク用ソフトウェアは、
前記露光装置が設置された工場の外部ネットワークに接
続され前記露光装置のベンダもしくはユーザが提供する
保守データベースにアクセスするためのユーザインタフ
ェースを前記ディスプレイ上に提供し、前記外部ネット
ワークを介して該データベースから情報を得ることを可
能にすることを特徴とする請求項１７に記載の露光装
置。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001066531A JP4612777B2 (ja) | 2001-03-09 | 2001-03-09 | 移動案内装置、それを用いた露光装置及び半導体デバイス製造方法 |
| US10/090,163 US7535552B2 (en) | 2001-03-09 | 2002-03-05 | Moving/guiding apparatus and exposure apparatus using the same |
| EP02251570A EP1248152B1 (en) | 2001-03-09 | 2002-03-06 | X/Y stage and exposure apparatus using the same |
| EP11170274A EP2375289A3 (en) | 2001-03-09 | 2002-03-06 | Moving/guiding apparatus and exposure apparatus using the same |
| KR10-2002-0012468A KR100492242B1 (ko) | 2001-03-09 | 2002-03-08 | 이동/안내장치 및 이것을 사용한 노광장치 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001066531A JP4612777B2 (ja) | 2001-03-09 | 2001-03-09 | 移動案内装置、それを用いた露光装置及び半導体デバイス製造方法 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002270673A true JP2002270673A (ja) | 2002-09-20 |
| JP2002270673A5 JP2002270673A5 (ja) | 2008-04-24 |
| JP4612777B2 JP4612777B2 (ja) | 2011-01-12 |
Family
ID=18925003
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001066531A Expired - Fee Related JP4612777B2 (ja) | 2001-03-09 | 2001-03-09 | 移動案内装置、それを用いた露光装置及び半導体デバイス製造方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US7535552B2 (ja) |
| EP (2) | EP2375289A3 (ja) |
| JP (1) | JP4612777B2 (ja) |
| KR (1) | KR100492242B1 (ja) |
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- 2002-03-06 EP EP02251570A patent/EP1248152B1/en not_active Expired - Lifetime
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| KR100492242B1 (ko) | 2005-05-31 |
| US20020128733A1 (en) | 2002-09-12 |
| JP4612777B2 (ja) | 2011-01-12 |
| KR20020072234A (ko) | 2002-09-14 |
| EP1248152B1 (en) | 2012-07-11 |
| EP2375289A3 (en) | 2012-07-04 |
| EP1248152A3 (en) | 2003-12-17 |
| EP2375289A2 (en) | 2011-10-12 |
| EP1248152A2 (en) | 2002-10-09 |
| US7535552B2 (en) | 2009-05-19 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080307 |
|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080307 |
|
| RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20080307 |
|
| RD01 | Notification of change of attorney |
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|
| RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20100201 |
|
| A977 | Report on retrieval |
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|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100216 |
|
| A521 | Written amendment |
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|
| RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20100630 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20101005 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20101016 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131022 Year of fee payment: 3 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |