JP2002270673A - 移動案内装置及びそれを用いた露光装置 - Google Patents
移動案内装置及びそれを用いた露光装置Info
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Abstract
にする。 【解決手段】 互いに直交する方向に案内されて移動し
上下に異なる位置に配置されていて、上下方向の拘束を
それぞれ受けているX方向移動体41及びY方向移動体
42と、X方向移動体41の移動方向及びY方向移動体
42の移動方向に定盤11上で案内されて移動可能なX
Y移動体3とを有し、移動体3,41,42を内部に収
納する真空容器を設け、X方向移動体41及びY方向移
動体42を互いに交差する方向に駆動するそれぞれのア
クチュエータ511,512,521,522を前記真
空容器の外に設置し、移動体3は、移動体41,42の
横方向の案内面から力を受けて、互いに直交する2方向
に駆動される。
Description
精密計測器等の如く、非大気雰囲気中で高速移動、精密
位置決めを繰り返す、あるいは高精度にスキャン移動す
る移動体を案内する移動案内装置及び該装置を用いた露
光装置等に関するものである。
1814号公報や特開昭57−61436号公報等に開
示されているように、ステージがX,Y平面内を移動す
るために、1軸はモータ(+ネジ等の伝達機構)を直結
し、もう1軸はモータを固定し、カップリングを介して
力を伝達している。このような従来例では、2軸とも駆
動伝達軸(ネジ等)及びモータが固定されており(移動
しない)真空容器の外から力を伝達するには適してい
る。しかしながら、このような構成では、次のような欠
点があった。
に加わっており、剛性の劣化を招く。 (2)また、ステージの位置によりカップリング剛性が
変化するため制御特性が変化し、十分な精度、移動速度
が得られない。 (3)ステージが移動すると、Yステージに偏荷重が発
生して、Yステージが変形する。従って、Xステージの
静的な姿勢精度(ピッチング)が劣化する。 (4)ステージが移動することにより系の平面内の重心
位置が変化するため、ステージ駆動することにより、ピ
ッチング、ヨーイング等の振動を励起し、動的な姿勢精
度も劣化する。
め、特開昭60−23941号公報等に開示のステージ
構成が提案されている。しかし、このステージ構成で
も、上記の(3)及び(4)の項目の改善にはなってい
ないのみならず、駆動用リニアモータのコイルの推力に
寄与する部分が少ないので、該リニアモータの効率が悪
く、発熱等の影響が大きい等の欠点があった。
されたものであり、本発明の第1の目的は、XY平面内
を移動する高精度な移動体の案内及び駆動が可能な移動
案内装置、及び移動案内方法を提供することである。本
発明の第2の目的は、上記移動体を収納する真空容器の
シール構造を改良することである。本発明の第3の目的
は、上記移動案内装置、または移動案内方法を用いて製
造された半導体、液晶パネルを提供することである。
密計測器等の如く、非大気雰囲気中で、高速移動、精密
位置決めを繰り返す、あるいは高精度にスキャン移動す
る移動体を移動案内する移動案内装置等を提供すること
を主目的とする。
するために、本発明は、互いに交差する方向に案内され
て移動し上下に異なる位置に配置されていて、上下方向
の拘束をそれぞれ受けている第1の移動体及び第2の移
動体と、前記第1の移動体の移動方向及び前記第2の移
動体の移動方向に定盤上で案内されて移動可能な第3の
移動体とを有する移動案内装置において、前記第1、第
2及び第3の移動体を内部に収納する真空容器を設け、
前記第1及び第2の移動体を互いに交差する方向に駆動
するそれぞれのアクチュエータを前記真空容器の外に設
置し、前記第3の移動体は、前記第1及び第2の移動体
の横方向の案内面から力を受けて、互いに交差する2方
向に駆動されることを特徴とする。
それぞれの一方側を案内するそれぞれのラジアル軸受
と、それぞれのもう一方側を案内するそれぞれの上下拘
束の軸受を有し、前記第3の移動体は、上下方向の案内
を、定盤面、前記第1及び第2の移動体の少なくともい
ずれかで行うとともに、前記第1及び第2の移動体の側
面を横方向のガイドにして移動してもよく、前記第1、
第2及び第3の移動体を案内する静圧軸受を有し、前記
アクチュエータはリニアタイプの超音波モータであるこ
とが望ましく、前記アクチュエータからの力を前記第1
及び第2の移動体に伝達する剛体を備え、前記真空容器
はラビリンスを介して排気され、非接触にて大気に対し
シールされることが好ましい。
内されて移動し上下に異なる位置に配置されていて、上
下方向の拘束をそれぞれ受けている第1の移動体及び第
2の移動体と、前記第1の移動体の移動方向及び前記第
2の移動体の移動方向とに定盤上で案内されて移動可能
な第3の移動体とを移動案内する移動案内方法におい
て、前記第1、第2及び第3の移動体を真空容器の中に
収納し、前記第1及び第2の移動体を、前記真空容器の
外に互いに交差する方向に設置されたそれぞれのアクチ
ュエータにより駆動し、前記第3の移動体を、前記第1
及び第2の移動体の横方向の案内面からの力で互いに交
差する2方向に駆動することを特徴としてもよい。
体の案内は、それぞれの一方側をそれぞれのラジアル軸
受により行い、それぞれのもう一方側をそれぞれの上下
拘束の軸受により行い、前記第3の移動体の上下方向の
案内を、定盤面、前記第1及び第2の移動体の少なくと
もいずれかで行い、前記第1及び第2の移動体の側面を
横方向のガイドにして、前記第3の移動体を移動させて
もよく、前記第1、第2及び第3の移動体の案内は静圧
軸受により行い、前記アクチュエータとしてリニアタイ
プの超音波モータを用いることが望ましく、前記アクチ
ュエータから前記第1及び第2の移動体への力の伝達は
剛体により行われ、前記真空容器はラビリンスを介して
排気され、非接触にて大気に対しシールされることが好
ましい。
定盤或いは移動体の一方に固定された1本のラジアル静
圧軸受及び定盤或いは移動体のもう一方に固定された上
下拘束の静圧軸受により行い、第2の移動体の案内は定
盤或いは移動体の一方に固定された1本のラジアル静圧
軸受及び定盤或いは移動体のもう一方に固定された上下
拘束の静圧軸受により行う。また、第3の移動体の垂直
方向の案内を定盤面で行い、横方向の案内をそれぞれ第
1及び第2の移動体の側面で行う。第1〜第3の移動体
については真空容器の中に収納され、第1の移動体の駆
動は真空容器の外に固定された少なくとも1本のリニア
モータで行い、第2の移動体の駆動について真空容器の
外に固定された少なくとも1本のリニアモータで行う。
また、第3の移動体の垂直方向の案内を定盤面で行い、
横方向の案内をそれぞれ第1及び第2の移動体の側面で
行う。また、第3の移動体の駆動は、第1及び第2の移
動体の横方向の案内を介して伝達する。これにより、本
発明の作用は次のとおりである。
されているのでステージの位置による剛性(特性)変化
を抑制することが可能になる。 (2)第3の移動体の上下方向の案内は定盤面であり、
第1及び第2の移動体が移動しても偏荷重が発生せず、
ピッチング、ローリングを高精度に保つことが可能にな
る。 (3)第1及び第2の移動体の位置により2本のアクチ
ュエータの駆動トルクを適正に分配することによりヨー
イング方向の振動を減少させ、動的な姿勢精度も向上す
る。 (4)また、ピッチング、ローリングについても軸受の
隙間を介してしか伝わらないので微少であり、この面か
らも動的な姿勢精度が向上する。 (5)第3の移動体を平面移動させるアクチュエータが
不要になる。 (6)第1及び第2の移動体の横方向の案内は定盤上の
1本の固定ガイドの側面であるので、温度変化が発生し
ても軸受の隙間は変化せず、運搬、使用中に温度変化が
発生しても破損のおそれが解消する。
内は、例えば特開昭63−192864号(特許第25
87227号)公報等に記載されているラビリンスシー
ル構造付の静圧軸受で行い、第1及び第2の移動体の駆
動はリニアモータで行うことにより、次のような作用が
ある。
く、高精度な位置決めが可能になる。 (2)接触部からの発熱がないので熱変形等が発生せ
ず、この面からも高精度な位置決めが可能になる。 (3)また、発塵もなくゴミ回収等の機構が不要で構成
が容易になり、かつコストダウンが可能になる。 (4)グリスアップ等のメンテナンスが不要になる。
モータから移動体への力の伝達を充分剛性が大きい伝達
棒で行い、伝達棒と真空容器との間のシールをラビリン
スからの排気により行うことにより、次のような作用が
ある。
外からの駆動が可能になる。 (2)リニアモータによるダイレクトドライブとほぼ同
様の制御性能を得ることが可能になる。 (3)シール部が非接触であり、発塵が無い。 (4)摩擦抵抗が存在しないので高精度な位置決めが可
能になる。
により、 (5)真空容器のサイズの小型化が可能になる。 (6)リニアモータの磁気の影響を少なくできるので、
電子線描画装置等の磁気を嫌う装置に適する。
プロセス用の製造装置群を半導体製造工場に設置する工
程と、該製造装置群を用いて複数のプロセスによって半
導体デバイスを製造する工程とを有する半導体デバイス
製造方法にも適用可能である。前記製造装置群をローカ
ルエリアネットワークで接続する工程と、前記ローカル
エリアネットワークと前記半導体製造工場外の外部ネッ
トワークとの間で、前記製造装置群の少なくとも1台に
関する情報をデータ通信する工程とをさらに有すること
が望ましく、前記露光装置のベンダもしくはユーザが提
供するデータベースに前記外部ネットワークを介してア
クセスしてデータ通信によって前記製造装置の保守情報
を得る、もしくは前記半導体製造工場とは別の半導体製
造工場との間で前記外部ネットワークを介してデータ通
信して生産管理を行うことが好ましい。
プロセス用の製造装置群と、該製造装置群を接続するロ
ーカルエリアネットワークと、該ローカルエリアネット
ワークから工場外の外部ネットワークにアクセス可能に
するゲートウェイを有し、前記製造装置群の少なくとも
1台に関する情報をデータ通信することを可能にした半
導体製造工場にも適用可能である。
れた前記露光装置の保守方法であって、前記露光装置の
ベンダもしくはユーザが、半導体製造工場の外部ネット
ワークに接続された保守データベースを提供する工程
と、前記半導体製造工場内から前記外部ネットワークを
介して前記保守データベースへのアクセスを許可する工
程と、前記保守データベースに蓄積される保守情報を前
記外部ネットワークを介して半導体製造工場側に送信す
る工程とを有する露光装置の保守方法にも適用可能であ
る。
ディスプレイと、ネットワークインタフェースと、ネッ
トワーク用ソフトウェアを実行するコンピュータとをさ
らに有し、露光装置の保守情報をコンピュータネットワ
ークを介してデータ通信することを可能にしたことを特
徴としてもよく、前記ネットワーク用ソフトウェアは、
前記露光装置が設置された工場の外部ネットワークに接
続され前記露光装置のベンダもしくはユーザが提供する
保守データベースにアクセスするためのユーザインタフ
ェースを前記ディスプレイ上に提供し、前記外部ネット
ワークを介して該データベースから情報を得ることを可
能にすることが好ましい。
本発明の第1の実施形態に係わる移動案内装置の例を示
す概略図である。図1は斜視図、図2は図1の本体定盤
を取り除いて示した移動案内装置の裏面図、図3は図1
のA−A断面図、図4は図1のB−B断面図であり、本
実施形態のB−B断面図では予圧機構を使用しない例で
ある。なお、真空容器は、図2にのみ示し、他の図にお
いては、図形の錯綜を避けるため省略してある。
1はステージ定盤、12は本体定盤である。21はX方
向固定ガイド、22はY方向固定ガイド、3はXY移動
体であってX方向及びY方向に平面移動可能である。4
1はX方向移動体であってXY移動体3をX方向に移動
させることが可能であり、42はY方向移動体であって
XY移動体3をY方向に移動させることが可能であり、
511,512はX方向駆動用リニアモータ、521,
522はY方向駆動用リニアモータである。
をするとともにX方向以外の全方向に対し拘束する静圧
軸受、612はX方向移動体41を横方向へ案内すると
ともに上下方向に対し拘束する静圧軸受、621はY方
向移動体42をY方向へ案内をするとともにY方向以外
の全方向に対し拘束する静圧軸受、622はY方向移動
体42を横方向へ案内するとともに上下方向に対し拘束
する静圧軸受、631はXY移動体3と定盤11間の垂
直方向拘束の静圧軸受、632はXY移動体3とX方向
移動体41間の横方向(X方向)の動きを拘束しながら
XY移動体3をY方向へ案内する静圧軸受、641はX
Y移動体3とY方向移動体42間の横方向(Y方向)の
動きを拘束しながらXY移動体3をX方向へ案内する静
圧軸受であり、これらはいずれも空気を使用した静圧軸
受である。
タ511の駆動力伝達棒であり、912はリニアモータ
512の駆動力伝達棒であって、これらはX方向伝達用
剛体としてX方向移動体41に駆動力を伝達する。92
1,922はリニアモータ521,522の駆動力伝達
棒であって、これらはY方向伝達用剛体としてY方向移
動体42に駆動力を伝達する。
静圧軸受611に給気することにより、一方側部分41
1がX方向固定ガイド21から浮上し、静圧軸受612
に給気することにより、もう一方側部分412がステー
ジ定盤11上のX方向ガイド211に対し浮上する。Y
方向移動体42は、静圧軸受621に給気することによ
り一方側部分421がY方向固定ガイド22より浮上
し、静圧軸受622に給気することによりもう一方側部
分422がステージ定盤11上のY方向ガイド221に
対し浮上する。
給気することによりステージ定盤11より浮上し、静圧
軸受632に給気することによりX方向移動体41よ
り、また静圧軸受641に給気することによりY方向移
動体42より浮上する。
部に収納される。真空容器8は、本体定盤12上に設置
されており、ステージ定盤11、X方向ガイド21,2
11、Y方向ガイド22,221、XY移動体3、X方
向移動体41、Y方向移動体42、静圧軸受611,6
12,621,622,631,632,641等の全
体を内部に収納し、駆動力伝達棒911,912,92
1,922の部分が出入り可能である。
に、駆動力伝達棒911,912,921,922が出
入りする内部と外部との境界部分に、ラビリンスシール
構造80を備えている。ラビリンスシール構造80は、
駆動力伝達棒911,912,921,922が通って
いる真空容器8の開口部に同心的に筒体81を突設し、
この筒体81の内周に該駆動力伝達棒を取り巻く環状の
溝を設けて凹凸を付け、駆動力伝達棒が出入りする部分
を迷路状にしたものである。真空容器8内の気体は、筒
体81の周壁に開けられた複数の小孔82を通って排出
される。
上に固定されたリニアモータ511,512を駆動する
ことにより伝達棒911,912を介してX方向移動体
41がX方向に移動し、静圧軸受632を介してXY移
動体3をX方向に移動させる。また、リニアモータ52
1,522を駆動することにより伝達棒921,922
を介してY方向移動体42がY方向に移動し、静圧軸受
641を介してXY移動体3をY方向に移動させる。伝
達棒911,912,921,922は真空容器8との
境界でラビリンスシール構造80により真空シールされ
る。
うな効果を奏する。 (1)XY移動体の位置が変化しても定盤には偏荷重が
発生しないので、静的な姿勢精度を高精度に保つことが
できる。 (2)X方向移動体、及びY方向移動体とも定盤面上の
2本のリニアモータで駆動しているのでXY移動体の位
置により適当に駆動力を調整することによりXY移動体
のヨーイング振動の発生を抑制することができる。 (3)すべて非接触のためゴミ、熱の発生がなく高精
度、かつメンテナンスが容易である。 (4)振動の伝達について、静圧軸受の隙間を介しての
微小量のみしか伝わらないので動的な姿勢精度を良好に
保つことができる。 (5)第1及び第2の移動体の横方向の案内は定盤上の
1本の固定ガイドの側面であるので、温度変化が発生し
ても軸受の隙間は変化せず、運搬等で破損のおそれがな
い。 (6)リニアモータは真空容器の外から真空シール(不
図示)を介して駆動するので真空への影響は少ない。 (7)ステージの位置が変化してもカップリング等が存
在せず、動的な特性がほとんど変化しないので、制御の
面からも有利である。
態は第1の実施形態において説明した移動案内装置を用
いた露光装置である。該露光装置は、原版としてのレチ
クル及び基板としてのウエハをそれぞれ載せて移動させ
るレチクルステージ及びウエハステージとして、本発明
に係わる移動案内装置を用いるものである。本実施形態
に係わる露光装置を用いて、高い歩留で、優れた品質の
半導体、液晶パネルなどのデバイスを製造することがで
きる。
本発明に係る装置を用いた半導体デバイス(ICやLS
I等の半導体チップ、液晶パネル、CCD、薄膜磁気ヘ
ッド、マイクロマシン等)の生産システムの例を説明す
る。これは半導体製造工場に設置された製造装置のトラ
ブル対応や定期メンテナンス、あるいはソフトウェア提
供などの保守サービスを、製造工場外のコンピュータネ
ットワークを利用して行うものである。
して表現したものである。図中、1101は半導体デバ
イスの製造装置を提供するベンダ(装置供給メーカ)の
事業所である。製造装置の実例としては、半導体製造工
場で使用する各種プロセス用の半導体製造装置、例え
ば、前工程用機器(露光装置、レジスト処理装置、エッ
チング装置等のリソグラフィ装置、熱処理装置、成膜装
置、平坦化装置等)や後工程用機器(組立て装置、検査
装置等)を想定している。事業所1101内には、製造
装置の保守データベースを提供するホスト管理システム
1108、複数の操作端末コンピュータ1110、これ
らを結んでイントラネット等を構築するローカルエリア
ネットワーク(LAN)1109を備える。ホスト管理
システム1108は、LAN1109を事業所の外部ネ
ットワークであるインターネット1105に接続するた
めのゲートウェイと、外部からのアクセスを制限するセ
キュリティ機能を備える。
ユーザとしての半導体製造メーカの製造工場である。製
造工場1102〜1104は、互いに異なるメーカに属
する工場であっても良いし、同一のメーカに属する工場
(例えば、前工程用の工場、後工程用の工場等)であっ
ても良い。各工場1102〜1104内には、夫々、複
数の製造装置1106と、それらを結んでイントラネッ
ト等を構築するローカルエリアネットワーク(LAN)
1111と、各製造装置1106の稼動状況を監視する
監視装置としてホスト管理システム1107とが設けら
れている。各工場1102〜1104に設けられたホス
ト管理システム1107は、各工場内のLAN1111
を工場の外部ネットワークであるインターネット110
5に接続するためのゲートウェイを備える。これにより
各工場のLAN1111からインターネット1105を
介してベンダ1101側のホスト管理システム1108
にアクセスが可能となり、ホスト管理システム1108
のセキュリティ機能によって限られたユーザだけにアク
セスが許可となっている。具体的には、インターネット
1105を介して、各製造装置1106の稼動状況を示
すステータス情報(例えば、トラブルが発生した製造装
置の症状)を工場側からベンダ側に通知する他、その通
知に対応する応答情報(例えば、トラブルに対する対処
方法を指示する情報、対処用のソフトウェアやデータ)
や、最新のソフトウェア、ヘルプ情報などの保守情報を
ベンダ側から受け取ることができる。各工場1102〜
1104とベンダ1101との間のデータ通信および各
工場内のLAN1111でのデータ通信には、インター
ネットで一般的に使用されている通信プロトコル(TC
P/IP)が使用される。なお、工場外の外部ネットワ
ークとしてインターネットを利用する代わりに、第三者
からのアクセスができずにセキュリティの高い専用線ネ
ットワーク(ISDNなど)を利用することもできる。
また、ホスト管理システムはベンダが提供するものに限
らずユーザがデータベースを構築して外部ネットワーク
上に置き、ユーザの複数の工場から該データベースへの
アクセスを許可するようにしてもよい。
図6とは別の角度から切り出して表現した概念図であ
る。先の例ではそれぞれが製造装置を備えた複数のユー
ザ工場と、該製造装置のベンダの管理システムとを外部
ネットワークで接続して、該外部ネットワークを介して
各工場の生産管理や少なくとも1台の製造装置の情報を
データ通信するものであった。これに対し本例は、複数
のベンダの製造装置を備えた工場と、該複数の製造装置
のそれぞれのベンダの管理システムとを工場外の外部ネ
ットワークで接続して、各製造装置の保守情報をデータ
通信するものである。図中、1201は製造装置ユーザ
(半導体デバイス製造メーカ)の製造工場であり、工場
の製造ラインには各種プロセスを行う製造装置、ここで
は例として露光装置1202、レジスト処理装置120
3、成膜処理装置1204が導入されている。なお図7
では製造工場1201は1つだけ描いているが、実際は
複数の工場が同様にネットワーク化されている。工場内
の各装置はLAN1206で接続されてイントラネット
を構成し、ホスト管理システム1205で製造ラインの
稼動管理がされている。
処理装置メーカ1220、成膜装置メーカ1230など
ベンダ(装置供給メーカ)の各事業所には、それぞれ供
給した機器の遠隔保守を行うためのホスト管理システム
1211,1221,1231を備え、これらは上述し
たように保守データベースと外部ネットワークのゲート
ウェイを備える。ユーザの製造工場内の各装置を管理す
るホスト管理システム1205と、各装置のベンダの管
理システム1211,1221,1231とは、外部ネ
ットワーク1200であるインターネットもしくは専用
線ネットワークによって接続されている。このシステム
において、製造ラインの一連の製造機器の中のどれかに
トラブルが起きると、製造ラインの稼動が休止してしま
うが、トラブルが起きた機器のベンダからインターネッ
ト1200を介した遠隔保守を受けることで迅速な対応
が可能であり、製造ラインの休止を最小限に抑えること
ができる。
それぞれ、ディスプレイと、ネットワークインタフェー
スと、記憶装置にストアされたネットワークアクセス用
ソフトウェアならびに装置動作用のソフトウェアを実行
するコンピュータを備える。記憶装置としては内蔵メモ
リやハードディスク、あるいはネットワークファイルサ
ーバーなどである。上記ネットワークアクセス用ソフト
ウェアは、専用又は汎用のウェブブラウザを含み、例え
ば図8に一例を示す様な画面のユーザインタフェースを
ディスプレイ上に提供する。各工場で製造装置を管理す
るオペレータは、画面を参照しながら、製造装置の機種
1401、シリアルナンバー1402、トラブルの件名
1403、発生日1404、緊急度1405、症状14
06、対処法1407、経過1408等の情報を画面上
の入力項目に入力する。入力された情報はインターネッ
トを介して保守データベースに送信され、その結果の適
切な保守情報が保守データベースから返信されディスプ
レイ上に提示される。またウェブブラウザが提供するユ
ーザインタフェースはさらに図示のごとくハイパーリン
ク機能1410〜1412を実現し、オペレータは各項
目の更に詳細な情報にアクセスしたり、ベンダが提供す
るソフトウェアライブラリから製造装置に使用する最新
バージョンのソフトウェアを引出したり、工場のオペレ
ータの参考に供する操作ガイド(ヘルプ情報)を引出し
たりすることができる。ここで、保守データベースが提
供する保守情報には、上記説明した本発明に関する情報
も含まれ、また前記ソフトウェアライブラリは本発明を
実現するための最新のソフトウェアも提供する。
半導体デバイスの製造プロセスを説明する。図9は半導
体デバイスの全体的な製造プロセスのフローを示す。ス
テップ1(回路設計)では半導体デバイスの回路設計を
行う。ステップ2(マスク製作)では設計した回路パタ
ーンを形成したマスクを製作する。一方、ステップ3
(ウエハ製造)ではシリコン等の材料を用いてウエハを
製造する。ステップ4(ウエハプロセス)は前工程と呼
ばれ、上記用意したマスクとウエハを用いて、リソグラ
フィ技術によってウエハ上に実際の回路を形成する。次
のステップ5(組み立て)は後工程と呼ばれ、ステップ
4によって作製されたウエハを用いて半導体チップ化す
る工程であり、アッセンブリ工程(ダイシング、ボンデ
ィング)、パッケージング工程(チップ封入)等の組立
て工程を含む。ステップ6(検査)ではステップ5で作
製された半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テス
ト等の検査を行う。こうした工程を経て半導体デバイス
が完成し、これを出荷(ステップ7)する。前工程と後
工程はそれぞれ専用の別の工場で行い、これらの工場毎
に上記説明した遠隔保守システムによって保守がなされ
る。また前工程工場と後工程工場との間でも、インター
ネットまたは専用線ネットワークを介して生産管理や装
置保守のための情報がデータ通信される。
ーを示す。ステップ11(酸化)ではウエハの表面を酸
化させる。ステップ12(CVD)ではウエハ表面に絶
縁膜を成膜する。ステップ13(電極形成)ではウエハ
上に電極を蒸着によって形成する。ステップ14(イオ
ン打込み)ではウエハにイオンを打ち込む。ステップ1
5(レジスト処理)ではウエハに感光剤を塗布する。ス
テップ16(露光)では上記説明した露光装置によって
マスクの回路パターンをウエハに焼付露光する。ステッ
プ17(現像)では露光したウエハを現像する。ステッ
プ18(エッチング)では現像したレジスト像以外の部
分を削り取る。ステップ19(レジスト剥離)ではエッ
チングが済んで不要となったレジストを取り除く。これ
らのステップを繰り返し行うことによって、ウエハ上に
多重に回路パターンを形成する。各工程で使用する製造
機器は上記説明した遠隔保守システムによって保守がな
されているので、トラブルを未然に防ぐと共に、もしト
ラブルが発生しても迅速な復旧が可能であり、従来に比
べて半導体デバイスの生産性を向上させることができ
る。
第1の移動体の横方向の案内は定盤上に固定されたガイ
ドにより行い、第1の移動体の垂直方向の案内は定盤で
行い、第2の移動体の横方向の案内は定盤上に固定され
たガイドにより行い、第2の移動体の垂直方向の案内は
定盤面で行う。また、第3の移動体の垂直方向の案内を
定盤面で行い、横方向の案内をそれぞれ第1及び第2の
移動体の側面で行う。第1〜第3の移動体については真
空容器の中に収納され、第1の移動体の駆動は真空容器
の外に固定されたアクチュエータで行い、第2の移動体
の駆動について真空容器の外に固定されたアクチュエー
タで行う。また、第3の移動体の垂直方向の案内を定盤
面で行い、横方向の案内をそれぞれ第1及び第2の移動
体の側面で行う。また、第3の移動体の駆動は、第1及
び第2の移動体の横方向の案内を介して伝達する。
上に固定された上下、左右全て拘束したガイドにより行
い、もう一方は、上下拘束のみを行う固定ガイドにより
行い、第2の移動体の横方向の案内は定盤上に固定され
たガイドにより行い、第2の移動体一方向の案内は定盤
上に固定された上下、左右全て拘束したガイドにより行
い、もう一方は、上下拘束のみを行う固定ガイドにより
行う。また、第3の移動体の上下方向の案内を定盤面で
行い、横方向の案内をそれぞれ第1及び第2の移動体の
側面で行う。これらのことにより、本発明は、以下のよ
うな効果を奏する。
ていないので高さを低くすることができる。また、X、
Yステージをオーバーハングさせることにより専有面積
は従来とほぼ同一にできる。 (2)カップリング等の機構を使用していないので、第
3の移動体の位置が変化しても動的な特性は変化せず、
高い制御性を有する。 (3)第3の移動体が移動しても偏荷重が発生せず静的
な姿勢精度を高精度に保つことができる。 (4)振動については、静圧軸受の隙間を介してのみし
か伝わらないので、伝わる量は微小であり動的にも姿勢
精度を高精度に保つことができる。 (5)第1及び第2の移動体は定盤上の2本のリニアモ
ータにより駆動することでヨーイング振動を制振でき、
動的な姿勢精度も高精度に保つことができる。 (6)摩擦が存在しないのでヒス等がなく高精度な位置
決めが可能である。 (7)接触部からの発熱がないので熱変形等が発生せ
ず、この面からも高精度な位置決めが可能である。 (8)また、発塵もなくゴミ回収等の機構が不要で構成
が容易、かつコストダウンになる。 (9)グリスアップ等のメンテナンスが不要である。 (10)第1及び第2の移動体の横方向の案内は定盤上の
固定ガイドの側面であるので、温度変化が発生しても軸
受の隙間は変化せず、周波数特性の変化がない。また、
運搬等で破損のおそれがない。 (11)真空容器外から駆動しているので真空容器の小型
化が可能である。 (12)真空シール部も非接触であり、この面からも高精
度な位置決めが可能である。
置の概略構成を示す斜視図である。
裏面図である。
細断面図である。
生産システムをある角度から見た概念図である。
生産システムを別の角度から見た概念図である。
図である。
1,211:X方向固定ガイド、22,221:Y方向
固定ガイド、3:XY移動体、41:X方向移動体、4
2:Y方向移動体、511,512:X方向駆動用リニ
アモータ、521,522:Y方向駆動用リニアモー
タ、611:X方向移動体のX方向以外全拘束静圧軸
受、612:X方向移動体の垂直方向拘束静圧軸受、6
21:Y方向移動体のY方向以外全拘束静圧軸受、62
2:Y方向移動体の垂直方向拘束、631:XY移動体
と定盤間の垂直方向拘束、632:XY移動体とX方向
移動体の横方向拘束静圧軸受、641:XY移動体とY
方向移動体の横方向拘束静圧軸受、8:真空容器、91
1,912:X方向移動体41の駆動用駆動力伝達棒、
921,922:Y方向移動体42の駆動用駆動力伝達
棒、1101:ベンダの事業所、1102,1103,
1104:製造工場、1105:インターネット、11
06:製造装置、1107:工場のホスト管理システ
ム、1108:ベンダ側のホスト管理システム、110
9:ベンダ側のローカルエリアネットワーク(LA
N)、1110:操作端末コンピュータ、1111:工
場のローカルエリアネットワーク(LAN)、120
0:外部ネットワーク、1201:製造装置ユーザの製
造工場、1202:露光装置、1203:レジスト処理
装置、1204:成膜処理装置、1205:工場のホス
ト管理システム、1206:工場のローカルエリアネッ
トワーク(LAN)、1210:露光装置メーカ、12
11:露光装置メーカの事業所のホスト管理システム、
1220:レジスト処理装置メーカ、1221:レジス
ト処理装置メーカの事業所のホスト管理システム、12
30:成膜装置メーカ、1231:成膜装置メーカの事
業所のホスト管理システム、1401:製造装置の機
種、1402:シリアルナンバー、1403:トラブル
の件名、1404:発生日、1405:緊急度、140
6:症状、1407:対処法、1408:経過、141
0,1411,1412:ハイパーリンク機能。
Claims (18)
- 【請求項1】 互いに交差する方向に案内されて移動し
上下に異なる位置に配置されていて、上下方向の拘束を
それぞれ受けている第1の移動体及び第2の移動体と、 前記第1の移動体の移動方向及び前記第2の移動体の移
動方向に定盤上で案内されて移動可能な第3の移動体と
を有する移動案内装置において、 前記第1、第2及び第3の移動体を内部に収納する真空
容器を設け、 前記第1及び第2の移動体を互いに交差する方向に駆動
するそれぞれのアクチュエータを前記真空容器の外に設
置し、 前記第3の移動体は、前記第1及び第2の移動体の横方
向の案内面から力を受けて、互いに交差する2方向に駆
動されることを特徴とする移動案内装置。 - 【請求項2】 前記第1及び第2の移動体のそれぞれの
一方側を案内するそれぞれのラジアル軸受と、それぞれ
のもう一方側を案内するそれぞれの上下拘束の軸受とを
有し、前記第3の移動体は、上下方向の案内を、定盤
面、前記第1及び第2の移動体の少なくともいずれかで
行うとともに、前記第1及び第2の移動体の側面を横方
向のガイドにして移動することを特徴とする請求項1に
記載の移動案内装置。 - 【請求項3】 前記第1、第2及び第3の移動体を案内
する静圧軸受を有し、前記アクチュエータはリニアタイ
プの超音波モータであることを特徴とする請求項1また
は2に記載の移動案内装置。 - 【請求項4】 前記アクチュエータからの力を前記第1
及び第2の移動体に伝達する剛体を備え、前記真空容器
はラビリンスを介して排気され、非接触にて大気に対し
シールされることを特徴とする請求項1〜3のいずれか
に記載の移動案内装置。 - 【請求項5】 互いに交差する方向に案内されて移動し
上下に異なる位置に配置されていて、上下方向の拘束を
それぞれ受けている第1の移動体及び第2の移動体と、 前記第1の移動体の移動方向及び前記第2の移動体の移
動方向に定盤上で案内されて移動可能な第3の移動体と
を移動案内する移動案内方法において、 前記第1、第2及び第3の移動体を真空容器の中に収納
し、前記第1及び第2の移動体を、前記真空容器の外に
互いに交差する方向に設置されたそれぞれのアクチュエ
ータにより駆動し、 前記第3の移動体を、前記第1及び第2の移動体の横方
向の案内面からの力で互いに交差する2方向に駆動する
ことを特徴とする移動案内方法。 - 【請求項6】 前記第1及び第2の移動体の案内は、そ
れぞれの一方側をそれぞれのラジアル軸受により行い、
それぞれのもう一方側をそれぞれの上下拘束の軸受によ
り行い、前記第3の移動体の上下方向の案内を、定盤
面、前記第1及び第2の移動体の少なくともいずれかで
行い、前記第1及び第2の移動体の側面を横方向のガイ
ドにして、前記第3の移動体を移動させることを特徴と
する請求項5に記載の移動案内装置。 - 【請求項7】 前記第1、第2及び第3の移動体の案内
は静圧軸受で行い、 前記アクチュエータとしてリニアタイプの超音波モータ
を用いることを特徴とする請求項5または6に記載の移
動案内方法。 - 【請求項8】 前記アクチュエータから前記第1及び第
2の移動体への力の伝達は剛体により行われ、前記真空
容器は、ラビリンスを介して排気され、非接触にて大気
に対しシールされることを特徴とする請求項5〜7のい
ずれかに記載の移動案内方法。 - 【請求項9】 請求項1〜4のいずれかに記載の移動案
内装置を用いて製造した半導体及び液晶パネルのいずれ
かのデバイス。 - 【請求項10】 請求項5〜8のいずれかに記載の移動
案内方法により製造した半導体及び液晶パネルのいずれ
かのデバイス。 - 【請求項11】 請求項1〜4のいずれかに記載の移動
案内装置を用いたことを特徴とする露光装置。 - 【請求項12】 請求項11に記載の露光装置を含む各
種プロセス用の製造装置群を半導体製造工場に設置する
工程と、該製造装置群を用いて複数のプロセスによって
半導体デバイスを製造する工程とを有することを特徴と
する半導体デバイス製造方法。 - 【請求項13】 前記製造装置群をローカルエリアネッ
トワークで接続する工程と、前記ローカルエリアネット
ワークと前記半導体製造工場外の外部ネットワークとの
間で、前記製造装置群の少なくとも1台に関する情報を
データ通信する工程とをさらに有することを特徴とする
請求項12に記載の半導体デバイス製造方法。 - 【請求項14】 前記露光装置のベンダもしくはユーザ
が提供するデータベースに前記外部ネットワークを介し
てアクセスしてデータ通信によって前記製造装置の保守
情報を得る、もしくは前記半導体製造工場とは別の半導
体製造工場との間で前記外部ネットワークを介してデー
タ通信して生産管理を行うことを特徴とする請求項13
に記載の半導体デバイス製造方法。 - 【請求項15】 請求項11に記載の露光装置を含む各
種プロセス用の製造装置群と、該製造装置群を接続する
ローカルエリアネットワークと、該ローカルエリアネッ
トワークから工場外の外部ネットワークにアクセス可能
にするゲートウェイを有し、前記製造装置群の少なくと
も1台に関する情報をデータ通信することを可能にした
ことを特徴とする半導体製造工場。 - 【請求項16】 半導体製造工場に設置された請求項1
1に記載の露光装置の保守方法であって、前記露光装置
のベンダもしくはユーザが、半導体製造工場の外部ネッ
トワークに接続された保守データベースを提供する工程
と、前記半導体製造工場内から前記外部ネットワークを
介して前記保守データベースへのアクセスを許可する工
程と、前記保守データベースに蓄積される保守情報を前
記外部ネットワークを介して半導体製造工場側に送信す
る工程とを有することを特徴とする露光装置の保守方
法。 - 【請求項17】 請求項11に記載の露光装置におい
て、ディスプレイと、ネットワークインタフェースと、
ネットワーク用ソフトウェアを実行するコンピュータと
をさらに有し、露光装置の保守情報をコンピュータネッ
トワークを介してデータ通信することを可能にしたこと
を特徴とする露光装置。 - 【請求項18】 前記ネットワーク用ソフトウェアは、
前記露光装置が設置された工場の外部ネットワークに接
続され前記露光装置のベンダもしくはユーザが提供する
保守データベースにアクセスするためのユーザインタフ
ェースを前記ディスプレイ上に提供し、前記外部ネット
ワークを介して該データベースから情報を得ることを可
能にすることを特徴とする請求項17に記載の露光装
置。
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