JP2002269724A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】 長期にわたり潤滑効果が持続する潤滑剤を用
いるとともに、保護膜と潤滑剤との密着安定性を高める
ことにより、優れた走行性及び耐久性を実現する。 【解決手段】 非磁性支持体と、上記非磁性支持体上に
形成された磁性層と、上記磁性層上に形成され、その表
面が不活性ガスのプラズマ雰囲気下で処理されてなる保
護膜とを備え、下記式１で示される末端に水酸基を有す
るパーフルオロポリエーテルと長鎖カルボン酸とのエス
テル化合物及び下記式２で示される長鎖飽和脂肪酸を含
有する潤滑剤が最外層に保持されてなる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、非磁性支持体上
に、真空薄膜形成技術により強磁性金属薄膜が磁性層と
して形成されてなる磁気記録媒体に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、磁気記録媒体としては、酸化物磁
性粉末や合金磁性粉末等の強磁性粉末と結合剤と、有機
溶剤等よりなる磁性塗料を非磁性支持体上に塗布するこ
とで磁性層が形成される、いわゆる塗布型の磁気記録媒
体が広く使用されている。

【０００３】これに対し、高密度記録、長時間記録への
要求の高まりとともに、Ｃｏ、Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｃｏ−
Ｃｒ合金、Ｃｏ−Ｏ等の強磁性金属磁性材料をめっきや
真空薄膜形成技術（真空蒸着法、スパッタリング法、イ
オンプレーティング法等）によってポリエステルフィル
ムやポリイミドフィルム等の非磁性支持体上に直接被着
させることで磁性層が形成される、いわゆる強磁性金属
薄膜型の磁気記録媒体が使用されてきている。そして、
このような強磁性金属薄膜型の磁気記録媒体は、民生用
コンスーマービデオフォーマット（８ミリＨｉ−８方
式、ＤＶ方式）あるいは業務用ビデオフォーマット（Ｄ
ＶＣＡＭ）等において幅広く実用化されている。

【０００４】この強磁性金属薄膜型の磁気記録媒体は、
塗布型の磁気記録媒体に比べて抗磁力、角形比等の磁気
特性に優れ、短波長領域での電磁変換特性に優れるばか
りでなく、磁性層の厚みを極めて薄くすることが可能で
あるため、記録減磁や再生時の厚み損失が著しく小さい
こと、磁性層中に非磁性材料である結合剤等を混入する
必要がないことから、磁性材料の充填密度を高めること
が可能である等、数々の利点を有している。

【０００５】一般に、磁気記録媒体は、磁気信号の記録
・再生の過程で磁気ヘッドとの高速相対運動のもとにお
かれ、その際走行が円滑に、且つ安定な状態で行われな
ければならない。また、磁気ヘッドとの接触による磨耗
や損傷はなるべく少ないほうがよい。

【０００６】しかしながら、上述の強磁性金属薄膜型の
磁気記録媒体では、磁性層表面の平滑性が極めて良好で
あるために、実質的な磁気ヘッドとの接触面積が大きく
なることから、凝着現象、いわゆるハリツキが起こり易
くなったり、摩擦係数が大きくなり、耐久性や走行性等
に欠点が多く、それらの改善が大きな課題となってい
る。

【０００７】そこで、例えば、上記磁気記録媒体の磁性
層、すなわち強磁性金属薄膜表面に潤滑剤を塗布して、
耐久性や走行性を改善することが試みられている。この
ような用途に使用される潤滑剤としては、例えば、有機
フッ素化合物が有効であることが知られている。

【０００８】特に、特開平０５−９３０５９号公報等に
は、末端にカルボキシル基を有するエステル化合物等を
潤滑剤に用いることにより、如何なる使用条件下でも良
好な潤滑効果を発揮する磁気記録媒体が開示されてい
る。また、特開平０５−１９４９７０号公報等には、末
端に水酸基を有するエステル化合物等を潤滑剤に用いる
ことにより、如何なる使用条件下でも良好な潤滑効果を
発揮する磁気記録媒体が開示されている。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】ところで、上記強磁性
金属薄膜型の磁気記録媒体においては、より優れた耐久
性を確保するために、強磁性金属薄膜上にカーボン保護
膜を形成する技術が確立されている。そして、前述のコ
ンスーマービデオフォーマットであるＤＶＣ用テープ、
あるいは業務用ビデオフォーマットであるＤＶＣＡＭ用
テープ、更にはテープストリーマ用途であるＡＩＴ用テ
ープ等に用いられる強磁性金属薄膜型の磁気記録媒体と
しては、強磁性金属薄膜の上にカーボン保護膜が形成さ
れた磁気記録媒体が実用化されている。このようなカー
ボン保護膜の実用化により、耐久性の確保は十分とな
り、今後の強磁性金属薄膜型の磁気記録媒体において
は、このカーボン保護膜の存在が不可欠になると思われ
る。

【００１０】上記カーボン保護膜はＤＬＣ（diamond li
ke carbon）膜とも呼ばれ、マグネトロンスパッタ法、
イオンビームスパッタ法等のＰＶＤ（Physical Vapor D
eposition）法や、ＣＶＤ（Chemical Vapor Depositio
n）法等によって形成される。

【００１１】ここで、ＣＶＤ法によりカーボン保護膜を
形成する場合、ＰＶＤ法によりカーボン保護膜を形成す
る場合に比較して、高速成膜が可能であること、被覆率
が高いこと、及び省電力、省エネルギーであるといった
利点を有している。すなわち、ＣＶＤ法によりカーボン
保護膜を形成することにより、高速成膜が可能となり生
産性が向上する。また、カーボン保護膜の高い被覆率に
より、磁性薄膜層の耐食性や耐錆性が改善される。さら
に、省電力、省エネルギーにより地球環境に与える影響
を少なくすることができる。

【００１２】しかしながら、ＣＶＤ法によるカーボン保
護膜は、ＰＶＤ法によるカーボン保護膜と比較して、表
面のエネルギーが小さい。そのため、上述したように、
磁気記録媒体の耐久性や走行性を改善するべく、潤滑剤
を使用しようとすると、潤滑剤とカーボン保護膜との吸
着性が弱く、安定且つ良好な潤滑効果が発揮されない。
そのため、カーボン保護膜の存在を考慮した潤滑剤の設
計が必要となる。

【００１３】そこで、本発明は、このような実情に鑑み
て提案されたものであり、長期にわたり潤滑効果が持続
する潤滑剤を用いるとともに、保護膜と潤滑剤との密着
安定性を高めることにより、優れた走行性及び耐久性を
実現した磁気記録媒体を提供することを目的とする。

【００１４】

【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに、本発明に係る磁気記録媒体は、非磁性支持体と、
上記非磁性支持体上に形成された磁性層と、上記磁性層
上に形成され、その表面が不活性ガスのプラズマ雰囲気
下で処理されてなる保護膜とを備え、下記化５で示され
る末端に水酸基を有するパーフルオロポリエーテルと長
鎖カルボン酸とのエステル化合物及び下記化６で示され
る長鎖飽和脂肪酸を含有する潤滑剤が最外層に保持され
てなることを特徴とする。

【００１５】

【化５】

【００１６】

【化６】

【００１７】以上のように構成された磁気記録媒体で
は、上記保護膜の表面が不活性ガスのプラズマ雰囲気下
で処理されているので、保護膜と潤滑剤との密着性が向
上する。さらに、以上のように構成された磁気記録媒体
では、上記化５で示される化合物と上記化６で示される
化合物とを含有する潤滑剤が最外層に保持されているの
で、如何なる使用条件下においても密着性や潤滑性が好
適に保たれ、長期にわたって良好な走行性及び耐久性が
確保される。

【００１８】また、本発明に係る磁気記録媒体は、非磁
性支持体と、上記非磁性支持体上に形成された磁性層
と、上記磁性層上に形成され、その表面が不活性ガスの
プラズマ雰囲気下で処理されてなる保護膜とを備え、下
記化７で示される末端にカルボキシル基を有するパーフ
ルオロポリエーテルと長鎖アルコールとのエステル化合
物及び下記化８で示される長鎖飽和脂肪酸を含有する潤
滑剤が最外層に保持されてなることを特徴とする

【００１９】

【化７】

【００２０】

【化８】

【００２１】以上のように構成された磁気記録媒体で
は、上記保護膜の表面が不活性ガスのプラズマ雰囲気下
で処理されているので、保護膜と潤滑剤との密着性が向
上する。さらに、以上のように構成された磁気記録媒体
では、上記化７で示される化合物と上記化８で示される
化合物とを含有する潤滑剤が最外層に保持されているの
で、如何なる使用条件下においても密着性や潤滑性が好
適に保たれ、長期にわたって良好な走行性及び耐久性が
確保される。

【００２２】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て詳細に説明する。

【００２３】〈第１の実施の形態〉図１に、本実施の形
態に係る磁気記録媒体の一例の断面図を示す。この磁気
記録媒体１は、図１に示すように、非磁性支持体２上に
磁性層３として強磁性金属薄膜が形成され、この磁性層
３上に最外層として保護膜４が形成されてなる。

【００２４】非磁性支持体２としては、例えば、ポリエ
チレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等の
ポリエステル類、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポ
リオレフィン類、セルローストリアセテート、セルロー
スダイアセテート等のセルロース誘導体、ポリ塩化ビニ
ル、ポリ塩化ビニリデン等のビニル系樹脂、ポリカーボ
ネート、ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミド等
のプラスチック、アルミニウム合金、チタン合金等の軽
金属、ガラス等のセラミックス等が挙げられる。さら
に、この非磁性支持体２の形態としては、フィルム、シ
ート、ディスク、カード、ドラム等の何れの形態でもよ
い。

【００２５】また、非磁性支持体２は、その表面に山状
突起やしわ状突起、粒状突起等の突起が１種以上形成さ
れ、表面粗さがコントロールされたものでも良い。

【００２６】具体的には、上記山状突起は、例えば、高
分子フィルム製膜時に粒径５０ｎｍ〜３００ｎｍ程度の
無機微粒子を内添させることにより形成され、高分子フ
ィルム表面からの高さが１０ｎｍ〜１００ｎｍ、密度が
約１×１０^４個／ｍｍ^２〜１×１０^５個／ｍｍ^２とす
る。この山状突起を形成するための無機微粒子として
は、例えば、炭酸カルシウム、シリカ、アルミナ等が好
適である。

【００２７】上記しわ状突起は、例えば、特定の混合溶
媒を用いた樹脂の希薄溶液を塗布乾燥させることにより
形成される突起であって、その高さが０．０１μｍ〜１
０μｍ、好ましくは０．０３μｍ〜０．５μｍ、突起間
の最短間隔が０．１μｍ〜２０μｍとする。

【００２８】このしわ状突起を形成するための樹脂とし
ては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチ
レンナフタレート等のポリエステル、ポリアミド、ポリ
スチロール、ポリカーボネート、ポリアクリレート、ポ
リスルホン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポ
リビニルブチラール、ポリフェニレンオキサイド、フェ
ノキシ樹脂等の単体、混合体または共重合体であり、可
溶性溶剤を有するものが適している。そして、これらの
樹脂をその良溶媒に樹脂濃度１ｐｐｍ〜１０００ｐｐｍ
で溶解させた溶液に、その樹脂の貧溶媒であって前記良
溶媒より高い沸点を有する溶媒を樹脂に対して１０倍量
〜１００倍量添加した溶液を、高分子フィルムの表面に
塗布・乾燥させることにより、非常に微細なしわ状突起
を有する薄膜を形成することができる。

【００２９】上記粒状突起は、アクリル樹脂等の有機超
微粒子またはシリカ、金属粉等の無機微粒子を球状ある
いは半球状に付着させることにより形成される。この粒
状突起の高さは、５ｎｍ〜５０ｎｍ、密度は１×１０^６
個／ｍｍ^２〜５×１０^７個／ｍｍ^２程度とする。

【００３０】これらの突起の少なくとも１種以上を形成
することにより、磁性層３である強磁性金属薄膜の表面
性を制御することが可能であるが、２種以上を組み合わ
せることにより効果が増し、特に、山状突起を設けた非
磁性支持体２上にしわ状突起と粒状突起を形成すると、
耐久性や走行性が著しく改善される。この場合、突起全
体としての高さは、１０ｎｍ〜２００ｎｍの範囲内であ
ることが好ましく、その密度は１×１０^５個／ｍｍ^２〜
１×１０^７個／ｍｍ^２であることが好ましい。

【００３１】また、上記磁性層３となる強磁性金属薄膜
としては、例えば、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ等の金属の他に、
Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｃｏ−Ｐｔ合金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐｔ合
金、Ｆｅ−Ｃｏ合金、Ｆｅ−Ｎｉ合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎ
ｉ合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｂ合金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｆｅ−Ｂ合
金、Ｃｏ−Ｃｒ合金あるいはこれらにＣｒ、Ａｌ等の金
属が含有された強磁性金属材料よりなるものが挙げられ
る。特に、Ｃｏ−Ｃｒ合金を使用した場合には、垂直磁
化膜が形成される。

【００３２】そして、上記磁性層３である強磁性金属薄
膜は、真空蒸着法やイオンプレーティング法、スパッタ
リング法等の真空薄膜形成技術により連続膜として形成
される。

【００３３】上記真空蒸着法は、１×１０^−２Ｐａ〜１
×１０^−６Ｐａの真空下で強磁性金属材料を抵抗加熱、
高周波加熱、電子ビーム加熱等により蒸発させ、非磁性
支持体２上に蒸発金属（強磁性金属材料）を沈着させる
ものであり、一般に高い抗磁力を得るために非磁性支持
体２に対して上記強磁性金属材料を斜めに蒸着する斜方
蒸着が用いられる。さらに、より高い抗磁力を得るため
に酸素雰囲気中で上記蒸着を行うものも含まれる。

【００３４】上記イオンプレーティング法も真空蒸着法
の１種であり、１×１０^−２Ｐａ〜１×１０^−１Ｐａの
不活性ガス雰囲気中でＤＣグロー放電、ＲＦグロー放電
を起こして、放電中で上記磁性金属材料を蒸発させると
いうものである。

【００３５】上記スパッタリング法は、１×１０^−１Ｐ
ａ〜１×１０Ｐａのアルゴンガスを主成分とする雰囲気
中でグロー放電を起こし、生じたアルゴンガスイオンで
ターゲット表面の原子をたたき出すというものであり、
グロー放電の方法により直流２極、３極スパッタ法や、
高周波スパッタ法、またはマグネトロン放電を利用した
マグネトロンスパッタ法等がある。このスパッタリング
法による場合には、ＣｒやＷ、Ｖ等の下地膜を形成して
おいてもよい。

【００３６】なお、上記何れの方法においても、非磁性
支持体２上に予めＢｉ，Ｓｂ，Ｐｂ，Ｓｎ，Ｇａ，Ｉ
ｎ，Ｃｄ，Ｇｅ，Ｓｉ，Ｔｌ等の下地金属層を被着形成
しておき、その非磁性支持体２の表面に対して垂直方向
から成膜することにより、磁気異方性の配向がなく、面
内等方性に優れた磁性層３を形成することができ、磁気
記録媒体１を、例えば磁気ディスクとする場合には好適
である。また、このような手法により形成される強磁性
金属薄膜の膜厚は、０．０１μｍ〜１μｍであることが
好ましい。

【００３７】保護膜４は、カーボンからなり、磁性層３
となる強磁性金属薄膜上に形成される。特に、保護膜４
として、比較的硬度の高いダイヤモンドライクカーボン
よりなるものが好ましく例示される。

【００３８】この保護膜４は、ＣＶＤ法等により形成さ
れる。ＣＶＤ法によって保護膜４を形成する場合には、
例えば、真空容器中に炭化水素ガス、あるいは炭化水素
と不活性ガスとの混合ガスを導入し、１０Ｐａ〜１００
Ｐａ程度の圧力に保持した状態で、真空容器内に放電さ
せて、炭化水素ガスのプラズマを発生させ、強磁性金属
薄膜上に保護膜４を形成する。

【００３９】放電形式としては、外部電極方式、内部電
極方式の何れでもよく、放電周波数については、実験的
に決めることができる。また、強磁性金属薄膜が形成さ
れた非磁性支持体２側に配された電極に０〜−３ｋＶの
電圧を印加することにより、保護膜４の硬度の増大及び
密着性を向上させることができる。

【００４０】保護膜４の材料となる上記炭化水素として
は、例えば、メタン、エタン、プロパン、ブタン、ペン
タン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、エチレン、アセ
チレン、プロペン、ブテン、ペンテン、ベンゼンなどを
用いることができる。

【００４１】この保護膜は、スペーシングロスを少なく
かつ、強磁性金属薄膜の磨耗防止の効果を得られるよ
う、その厚さが３ｎｍ〜１５ｎｍ程度、特に５ｎｍ〜１
０ｎｍ程度であることが好ましい。

【００４２】そして、この保護膜４は、その表面が、不
活性ガスのプラズマ雰囲気下にさらされることによりプ
ラズマ処理されている。保護膜４の表面をプラズマ処理
することにより、保護膜４と、保護膜４上に保持される
潤滑剤との間の密着性が向上し、潤滑剤の潤滑効果を長
期間にわたって持続させることができる。

【００４３】保護膜４の表面をプラズマ処理する方法と
しては、例えば、保護膜４が形成された磁気記録媒体を
真空室中に入れ、所定の真空度になるまでロータリーポ
ンプ等で排気した後に、不活性ガスを上記磁気記録媒体
の表面上に均等に供給し、上記真空室内の真空度を１５
０Ｐａ程度の圧力にする。その後、数十ワットの電力を
印加して例えば１３．５６ＭＨｚ程度の高周波を加えて
プラズマを発生させること等により処理することができ
る。

【００４４】この処理の際に注意すべき点は、プラズマ
処理による金属薄膜型の磁気記録媒体の劣化をできるだ
け小さく抑えることである。この点から、プラズマ発生
にはＮｅ，Ａｒ，Ｋｒ等の不活性ガスを用いるが、磁気
記録媒体の劣化を伴う反応を起こしにくい窒素ガスなど
も使用できる。

【００４５】このプラズマ処理時の不活性ガスのガス圧
は１Ｐａ〜３０００Ｐａが好ましく、さらに好ましく
は、１０Ｐａ〜３００Ｐａである。また、このときのガ
スの流量は前記のガス圧に到達するような流量であれば
問題なく、その値は使用する装置によって異なるが、真
空室の容積が２００００ｃｍ^３程度の場合には５０ｃｍ
^３／分ＳＴＰ〜１００ｃｍ^３／分ＳＴＰ程度が好まし
い。

【００４６】プラズマ発生源としては、高周波放電、マ
イクロ波放電、直流放電、交流放電、コロナ放電等、プ
ラズマ発生源として通常用いられているものが使用でき
る。また、プラズマ重合時の真空度は１Ｐａ〜３００Ｐ
ａとするのが好ましい。

【００４７】また、プラズマ処理で印加される電力は放
電可能領域であればよいが、２０ワット〜１５０ワット
が好ましく、さらに好ましくは５０ワット〜１００ワッ
トである。

【００４８】そして、特に、本発明を適用した磁気記録
媒体１においては、最外層となる保護膜４に下記化９で
示される末端に水酸基を有するパーフルオロポリエーテ
ルと長鎖カルボン酸とのエステル化合物と、下記化１０
で示される長鎖飽和脂肪酸を含有する潤滑剤が保持され
ている。

【００４９】

【化９】

【００５０】

【化１０】

【００５１】このような化９で示される化合物及び化１
０で示される化合物を有する潤滑剤は、如何なる使用条
件下においても密着性や潤滑性が好適に保たれ、且つ長
期にわたり潤滑効果を持続する特性を有するものであ
る。

【００５２】上記化９で示される末端に水酸基を有する
パーフルオロポリエーテルと長鎖カルボン酸とのエステ
ル化合物は、例えば、末端に水酸基を有するパーフルオ
ロポリエーテルと長鎖カルボン酸クロリドとを、トルエ
ン中で塩基を触媒として反応させることによって得られ
る。

【００５３】ここで、上記末端に水酸基を有するパーフ
ルオロポリエーテルとしては、水酸基を両末端に有する
ものが好ましく、例えば、ＨＯ−ＣＨ_２ＣＦ_２（ＯＣ_２
Ｆ_４）_ｐ（ＯＣＦ_２）_ｑＯＣＦ_２ＣＨ_２−ＯＨ（但し、
化学式中のｐ，ｑは何れも１以上の整数を表す。）等が
挙げられる。上記の末端に水酸基を有するパーフルオロ
ポリエーテルは、勿論、これらに限定されるわけではな
い。

【００５４】また、上記末端に水酸基を有するパーフル
オロポリエーテルの分子量は、特に制約されるものでは
ないが、実用的には６００〜５０００程度が好ましい。
分子量が大きすぎると、末端基の吸着基としての効果が
薄れると同時に、パーフルオロポリエーテル鎖が大きく
なる分、既存の炭化水素系溶媒に溶解しにくくなる。逆
に、分子量が小さすぎると、パーフルオロポリエーテル
鎖による潤滑効果が失われてしまう。

【００５５】なお、この末端に水酸基を有するパーフル
オロポリエーテルにおいては、パーフルオロポリエーテ
ル鎖が部分水素化されてもよい。すなわち、パーフルオ
ロポリエーテル鎖のフッ素原子の一部（５０％以下）を
水素原子で置換してもよい。この場合には、パーフルオ
ロポリエーテルとして部分水素化したパーフルオロポリ
エーテルを使用すればよい。

【００５６】一方、上記長鎖カルボン酸クロリドとして
は、市販品、あるいは合成品何れも使用可能である。こ
のように、末端に水酸基を有するパーフルオロポリエー
テルと長鎖カルボン酸クロリドとを反応させて合成され
る、末端に水酸基を有するパーフルオロポリエーテルと
長鎖カルボン酸とのエステル化合物が、上記化９で示さ
れる化合物である。

【００５７】ここで、上記長鎖カルボン酸、つまり合成
材料の長鎖カルボン酸クロリドのカルボン酸部分は、カ
ルボン酸基を有する任意の構造で良く、例えば、分岐構
造、異性体構造、脂環構造、不飽和結合の有無によらず
選択することができる。また、この長鎖カルボン酸は、
分子量に関しても任意であるが、分子量が小さくなるに
伴って通常の炭化水素系の有機溶媒に溶解し難くなるこ
とから、少なくともアルキル基の炭素数が１０以上であ
ることが好ましい。

【００５８】また、上述したように、本発明に用いられ
る潤滑剤には、上記化９で示されるエステル化合物の他
に、上記化１０で示される長鎖飽和脂肪酸が含有され
る。

【００５９】ここで、上記化１０で示される長鎖飽和脂
肪酸としては、式中Ｒ^２の炭素数が１１〜１９であるこ
とが好ましい。具体的には、ラウリン酸、トリデシル
酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘ
プタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン
酸等が挙げられる。

【００６０】上記１０で示される長鎖飽和脂肪酸におけ
るＲ^２の炭素数は、１１〜１９であることが好ましい。
Ｒ^２の炭素数が１０以下である場合、潤滑効果が乏しく
スチル耐久性に効果がなく、Ｒ^２の炭素数が１９を上回
る場合、有機溶媒への溶解性が小さくなり均一な潤滑剤
塗布層を形成することが困難となる虞がある。

【００６１】また、上記脂肪酸が、飽和脂肪酸から選ば
れることが重要である。潤滑剤中に飽和脂肪酸を含有さ
せることにより、長期間の保存においても、初期の優れ
た潤滑特性を維持することができる。

【００６２】そして、磁気記録媒体１に使用される潤滑
剤においては、化９で示される末端に水酸基を有するパ
ーフルオロポリエーテルと長鎖カルボン酸とのエステル
化合物と、化１０で示される長鎖飽和脂肪酸との混合比
は、重量比で１０：９０〜９０：１０であることが好ま
しい。上記範囲を超えると、本発明による効果を得るこ
とが難しい。

【００６３】また、磁気記録媒体１において潤滑剤を最
外層に保持させる方法としては、保護膜４の表面に潤滑
剤をトップコートする方法が挙げられる。ここで、その
塗布量は、０．０５ｍｇ／ｍ^２〜１００ｍｇ／ｍ^２であ
ることが好ましく、０．１ｍｇ／ｍ^２〜５０ｍｇ／ｍ^２
であることがより好ましい。この塗布量があまり少なす
ぎると、摩擦係数の低下、耐磨耗性及び耐久性の向上と
いう効果が表れず、また、この塗布量があまり多すぎる
と、摺動部材と強磁性金属薄膜との間でハリツキ現象が
起こり、却って走行性が悪くなる。

【００６４】以上のように、本実施の形態に係る磁気記
録媒体１は、上述したような、密着性や潤滑性の点で非
常に優れた特性の潤滑剤の組み合わせを特定して用いて
いるので、良好な走行性及び耐久性が確保されたものと
なる。

【００６５】また、この磁気記録媒体１においては、最
外層として、カーボンよりなる保護膜４が形成されてい
るとともに、その表面がプラズマ処理されているので、
用いられる潤滑剤と、保護膜４との密着性が向上し、さ
らに良好な耐久性を実現することができる。

【００６６】また、この磁気記録媒体１においては、磁
性層３を強磁性金属薄膜としていることから、高密度記
録、長時間記録にも十分対応可能である。

【００６７】なお、本実施の形態に係る磁気記録媒体１
においては、必要に応じて、防錆剤を併用してもよい。
防錆剤としては、通常この種の磁気記録媒体の防錆剤と
して使用されるものであれば何れも使用でき、例えばフ
ェノール類、ナフトール類、キノン類、窒素原子を含む
複素環化合物、酸素原子を含む複素環化合物、硫黄原子
を含む複素環化合物等が挙げられる。

【００６８】また、本発明の磁気記録媒体１において
は、非磁性支持体２上の上記磁性層３が形成される面と
は反対側の面に、いわゆるバックコート層を形成しても
良い。このバックコート層は、結合剤樹脂と粉末成分と
を有機溶媒に混合分散させたバックコート用塗料を非磁
性支持体２に塗布することにより形成される。

【００６９】ここで、バックコート用塗料に使用される
結合剤樹脂としては、例えば、塩化ビニル−酢酸ビニル
系共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、塩
化ビニル−アクリロニトリル共重合体、アクリル酸エス
テル−アクリロニトリル共重合体、熱可塑性ポリウレタ
ンエラストマー、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共
重合体、ブタジエン−アクリロニトリル共重合体、ポリ
アミド樹脂、ポリビニルブチラール、セルロース誘導
体、ポリエステル樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹
脂、ポリウレタン硬化型樹脂、メラミン樹脂、アルキッ
ド樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ−ポリアミド樹脂、
ニトロセルロース−メラミン樹脂、高分子量ポリエステ
ル樹脂とイソシアネートプレポリマーの混合物、メタク
リル酸塩共重合体とジイソシアネートプレポリマーの混
合物、ポリエステルポリオールとポリイソシアネートと
の混合物、尿素ホルムアルデヒド樹脂、低分子量グリコ
ール／高分子量ジオール／トリフェニルメタントリイソ
シアネートとの混合物、ポリアミン樹脂及びこれらの混
合物等が挙げられる。

【００７０】あるいは、粉末成分の分散性の改善を図る
ために、親水性極性基を有する結合剤樹脂を使用しても
よい。

【００７１】一方、上記粉末成分としては、導電性を付
与するためのカーボン系微粉末や表面粗度のコントロー
ル及び耐久性向上のために添加される無機顔料が挙げら
れる。上記カーボン系微粒子としては、例えば、ファー
ネスカーボン、チャネルカーボン、アセチレンカーボ
ン、サーマルカーボン、ランプカーボン等が例示され、
上記無機顔料としては、α−ＦｅＯＯＨ、α−Ｆｅ_２Ｏ
_３、Ｃｒ_２Ｏ_３、ＴｉＯ _２、ＺｎＯ、ＳｉＯ、Ｓｉ
Ｏ_２、ＳｉＯ_２・２Ｈ_２Ｏ、Ａｌ_２Ｏ_３、ＣａＣＯ_３、
ＭｇＣＯ_３、Ｓｂ_２Ｏ_３等が挙げられる。

【００７２】さらに、上記バックコート用塗料の有機溶
剤としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、
メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン
系溶剤、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エ
チル、酢酸グリコールモノエチルエーテル等のエステル
系溶剤、グリコールジメチルエーテル、グリコールモノ
エチルエーテル、ジオキサン等のグリコールエーテル系
溶剤、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水
素系溶剤、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素溶
媒、メチレンクロライド、エチレンクロライド、四塩化
炭素、クロロホルム、エチレンクロロヒドリン、ジクロ
ルベンゼン等の塩素化炭化水素系溶媒等、汎用の溶剤を
用いることができる。

【００７３】さらに、上記のバックコート層には潤滑剤
を併用してもよい。この場合、上記バックコート層中に
潤滑剤を内添する方法、あるいはバックコート層上に潤
滑剤を被着する方法がある。いずれにしても、上記潤滑
剤としては、脂肪酸、脂肪酸エステル、脂肪酸アミド、
金属石鹸、脂肪族アルコール、シリコーン系潤滑剤等、
従来周知の潤滑剤が使用できる。

【００７４】以上のような本実施の形態に係る磁気記録
媒体１は、つぎのようにして作製される。

【００７５】先ず、非磁性支持体２上に、例えば真空蒸
着法により磁性層３となる強磁性金属薄膜を形成する。
その後、この磁性層３上に、例えばプラズマＣＶＤ法に
より保護膜４を形成する。さらに、この保護膜４の表面
に対してプラズマ処理を行う。そして、この保護膜４上
に、上述の潤滑剤をトップコートして保護膜に潤滑剤を
保持させて、磁気記録媒体１が得られる。なお、必要に
応じてバックコート層等を形成しても勿論構わない。

【００７６】詳しくは、上記磁性層を形成する真空蒸着
装置としては、図２に示すような連続巻き取り式の真空
蒸着装置が挙げられる。

【００７７】この真空蒸着装置は、いわゆる斜方蒸着用
として構成され、内部が例えば１×１０^−３Ｐａ程度の
真空にされた真空室１１内に、例えば−２０℃程度に冷
却され、図中矢印Ａで示すように反時計回り方向に回転
する冷却キャン１２と、これに対向するように強磁性金
属薄膜用の蒸着源１３が配置されてなるものである。

【００７８】また、この真空蒸着装置においては、真空
室１１内に、図中の反時計回り方向に回転する供給軸１
４と図中の反時計回り方向に回転する巻き取り軸１５も
配設されており、供給軸１４に装着された非磁性支持体
ロール１６から図中矢印Ｂで示す方向に繰り出された非
磁性支持体１７は、冷却キャン１２の周面に沿って走行
した後、巻き取り軸１５に装着された磁気テープロール
１８に巻き取られる。

【００７９】なお、供給軸１４と冷却キャン１２との
間、及び冷却キャン１２と巻き取り軸１５との間にはそ
れぞれガイドローラー１９、２０が配置され、供給軸１
４から冷却キャン１２、及びこの冷却キャン１２から巻
き取り軸１５に従って走行する非磁性支持体１７に所定
のテンションをかけ、非磁性支持体１７が円滑に走行す
るようになされている。

【００８０】上記蒸着源１３は坩堝等の容器にＣｏ等の
強磁性金属材料が収容されたものであり、この真空蒸着
装置においては、この蒸着源１３の強磁性金属材料を加
熱、蒸発させるための電子ビーム発生源２１も配設され
ている。すなわち、上記電子ビーム発生源２１から電子
ビーム２２を蒸着源１３の強磁性金属材料に加速照射し
てこれを図中矢印Ｃで示すように加熱、蒸発させる。す
ると、強磁性金属材料は蒸着源１３と対向する冷却キャ
ン１２の周面に沿って走行する非磁性支持体１７上に被
着し、非磁性支持体１７上に強磁性金属薄膜が形成され
ることとなる。

【００８１】なお、上記真空蒸着装置においては、蒸着
源１３と冷却キャン１２との間に防着板２３を設け、こ
の防着板２３にシャッタ２４を位置調整可能に設けて、
非磁性支持体１７に対して所定の角度で入射する蒸着粒
子のみを通過させる。こうして斜め蒸着法によって強磁
性金属薄膜が形成されるようになされている。

【００８２】さらに、このような強磁性金属薄膜の蒸着
に際し、図示しない酸素ガス導入口を介して非磁性支持
体１７の表面近傍に酸素ガスを供給し、これによって強
磁性金属薄膜の磁性特性、耐久性及び耐候性の向上が図
られるようにすることが好ましい。また、蒸着源を加熱
するためには、上述のような電子ビームによる加熱手段
の他、例えば抵抗加熱手段、高周波加熱手段、レーザ加
熱手段等の公知の手段を使用できる。

【００８３】ここでは、斜め蒸着法によりＣｏからなる
強磁性金属薄膜を形成する例について説明したが、強磁
性金属薄膜を形成する方法としては、この方法の他に、
垂直蒸着法やスパッタリング法等の従来公知の薄膜形成
法が適用可能であり、また、この強磁性金属薄膜の材料
としては、Ｃｏの他にＮｉ、Ｆｅ等やこれらの合金が使
用可能である。また、このときの強磁性金属薄膜の厚さ
は、０．０１μｍ〜１μｍ程度が良い。

【００８４】つぎに、保護膜４の形成方法について説明
する。保護膜４は、ＣＶＤ法等により形成される。

【００８５】ＣＶＤ法によって保護膜４を形成する場合
には、まず、真空容器中に炭化水素ガス、あるいは炭化
水素と不活性ガスとの混合ガスを導入し、１０Ｐａ〜１
００Ｐａ程度の圧力に保持した状態で、真空容器内に放
電させて、炭化水素ガスのプラズマを発生させ、強磁性
金属薄膜上に保護膜４を形成する。放電形式としては、
外部電極方式、内部電極方式の何れでもよく、放電周波
数については、実験的に決めることができる。また、強
磁性金属薄膜が形成された非磁性支持体２側に配された
電極に０〜−３ｋＶの電圧を印加することにより、保護
膜４の硬度の増大及び密着性を向上させることができ
る。

【００８６】保護膜４の材料となる上記炭化水素として
は、例えば、メタン、エタン、プロパン、ブタン、ペン
タン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、エチレン、アセ
チレン、プロペン、ブテン、ペンテン、ベンゼンなどを
用いることができる。

【００８７】この保護膜４は、スペーシングロスを少な
く、且つ、強磁性金属薄膜の磨耗防止の効果を得られる
よう、その厚さを３ｎｍ〜１５ｎｍ程度、特に５ｎｍ〜
１０ｎｍ程度とすることが好ましい。

【００８８】ここでは、ＣＶＤ法により保護膜を形成す
る例について説明したが、保護膜４を形成する方法とし
ては、この方法の他に、マグネトロンスパッタ法、イオ
ンビームスパッタ法、イオンビームプレーティング法等
の従来公知の薄膜形成方法を用いることができる。

【００８９】そして、この保護膜４の表面に対して、不
活性ガスのプラズマ雰囲気下にさらすことによるプラズ
マ処理を行う。保護膜４の表面をプラズマ処理すること
により、保護膜４と、保護膜４上に塗布される潤滑剤と
の間の密着性を向上することができる。

【００９０】保護膜４の表面をプラズマ処理するには、
例えば、まず、保護膜４が形成された磁気記録媒体を真
空室中に入れ、所定の真空度になるまでロータリーポン
プ等で排気する。その後に、不活性ガスを上記磁気記録
媒体の表面上に均一に供給し、上記真空室内の真空度を
１５０Ｐａ程度の圧力にしてから、数十ワットの電力を
印加して１３．５６ＭＨｚの高周波を加えることにより
プラズマが発生する。そして、この不活性ガスのプラズ
マ雰囲気下に保護膜４をさらすことにより、当該保護膜
４の表面に対してプラズマ処理を行う。

【００９１】ここで、この処理の際に注意すべき点は、
プラズマ処理による金属薄膜型磁気記録媒体の劣化をで
きるだけ小さく抑えることである。この点から、プラズ
マ発生にはＮｅ，Ａｒ，Ｋｒ等の不活性ガスを用いる
が、磁気記録媒体の劣化を伴う反応を起こしにくい窒素
ガスなども使用できる。

【００９２】このプラズマ処理時の不活性ガスのガス圧
は１Ｐａ〜３０００Ｐａが好ましく、さらに好ましく
は、１０Ｐａ〜３００Ｐａである。また、このときのガ
スの流量は前記のガス圧に到達するような流量であれば
問題なく、その値は使用する装置によって異なるが、真
空室の容積が２００００ｃｍ^３程度の場合には５０ｃｍ
^３／分ＳＴＰ〜１００ｃｍ^３／分ＳＴＰ程度が好まし
い。

【００９３】プラズマ発生源としては、高周波放電、マ
イクロ波放電、直流放電、交流放電、コロナ放電等、プ
ラズマ発生源として通常用いられているものが使用でき
る。

【００９４】また、プラズマ処理で印加される電力は放
電可能領域であればよいが、２０ワット〜１５０ワット
が好ましく、さらに好ましくは５０ワット〜１００ワッ
トである。

【００９５】〈第２の実施の形態〉つぎに、本発明の第
２の実施の形態について説明する。本実施の形態に係る
磁気記録媒体は、図１に示された第１の実施の形態の磁
気記録媒体１と同様に、非磁性支持体上に磁性層として
強磁性金属薄膜、最外層として保護膜が順次形成されて
なる。そして、本実施の形態に係る磁気記録媒体は、特
に、最外層となる保護膜に、下記化１１で示される末端
にカルボキシル基を有するパーフルオロポリエーテルと
長鎖アルコールとのエステル化合物と、下記化１２で示
される長鎖飽和脂肪酸とを含有する潤滑剤が保持されて
いる。

【００９６】

【化１１】

【００９７】

【化１２】

【００９８】このような化１１で示される化合物及び化
１２で示される化合物を有する潤滑剤は、如何なる使用
条件下においても密着性や潤滑性が好適に保たれ、且つ
長期にわたり潤滑効果を持続する特性を有するものであ
る。

【００９９】なお、上記化１１及び化１２で示される潤
滑剤が用いられた磁気記録媒体は、図１に示した磁気記
録媒体１と略同様の構成を有するものであり、最外層に
保持される潤滑剤のみが異なる例であり、その他の磁性
層や保護膜等は同じ構成である。そこで、以下の説明で
は、潤滑剤についてのみ説明する。

【０１００】上記化１１で示される末端にカルボキシル
基を有するパーフルオロポリエーテルと長鎖アルコール
とのエステル化合物は、例えば、末端にカルボキシル基
を有するパーフルオロポリエーテルと長鎖アルコールと
を、無水トルエン中でｐ−トルエンスルホン酸や濃硫酸
等を触媒として反応させることによって得られるもので
ある。

【０１０１】ここで、上記末端にカルボキシル基を有す
るパーフルオロポリエーテルとしては、カルボキシル基
を両末端に有するものが好ましく、具体的には、ＨＯＯ
Ｃ−ＣＦ_２（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｍ（ＯＣＦ_２）_ｊＯＣＦ_２−
ＣＯＯＨ（但し、上記化学式中のｍ，ｊは何れも１以上
の整数を表す。）等が挙げられる。上記の末端にカルボ
キシル基を有するパーフルオロポリエーテルは、勿論、
これらに限定されるわけではない。

【０１０２】また、上記末端にカルボキシル基を有する
パーフルオロポリエーテルの分子量は、特に制約される
ものではないが、実用的には６００〜５０００程度が好
ましい。分子量が大きすぎると、末端基の吸着基として
の効果が薄れるとともに、パーフルオロポリエーテル鎖
が大きくなる分、既存の炭化水素系溶媒に溶解しにくく
なる。一方、分子量が小さすぎると、パーフルオロポリ
エーテル鎖による潤滑効果が失われてしまう。

【０１０３】なお、上記末端にカルボキシル基を有する
パーフルオロポリエーテルにおいては、パーフルオロポ
リエーテル鎖が部分水素化されてもよい。すなわち、パ
ーフルオロポリエーテル鎖のフッ素原子の一部（５０％
以下）を水素原子で置換しても良い。この場合には、パ
ーフルオロポリエーテルとして部分水素化したパーフル
オロポリエーテルを使用すればよい。

【０１０４】一方、上記長鎖アルコールとしては、市販
品、あるいは合成品何れも使用可能である。また、その
分子量が小さくなるに従って通常の有機溶媒に溶解し難
くなることから、少なくともその１個のアルキル基の炭
素数が６以上であることが好ましい。

【０１０５】また、上述したように、本実施の形態で用
いられる上記潤滑剤には、上記化１１で示される化合物
の他に、上記化１２で示される長鎖飽和脂肪酸が含有さ
れる。この化１２で示される長鎖飽和脂肪酸は、第１の
実施の形態において上述した長鎖飽和脂肪酸と同様なも
のを使用することができる。

【０１０６】ここで、本発明の磁気記録媒体に使用され
る潤滑剤においては、化１１で示される末端にカルボキ
シル基を有するパーフルオロポリエーテルと長鎖アルコ
ールとのエステル化合物と、化１２で示される長鎖飽和
脂肪酸との混合比は、重量比で１０：９０〜９０：１０
であることが好ましい。上記範囲を超えると本発明によ
る効果を得ることが難しい。

【０１０７】なお、潤滑剤を最外層に保持させる方法と
しても、上述した磁気記録媒体１における潤滑剤の場合
と同様であり、保護膜の表面に潤滑剤をトップコートす
る方法が挙げられる。ここで、その塗布量は、０．０５
ｍｇ／ｍ^２〜１００ｍｇ／ｍ ^２であることが好ましく、
０．１ｍｇ／ｍ^２〜５０ｍｇ／ｍ^２であることがより好
ましい。この塗布量があまり少なすぎると、摩擦係数の
低下、耐磨耗性・耐久性の向上という効果が表れず、ま
た、塗布量があまり多すぎると、摺動部材と強磁性金属
薄膜との間でハリツキ現象が起こり、却って走行性が悪
くなる。

【０１０８】以上のように、本実施の形態に係る磁気記
録媒体は、上述したような、密着性や潤滑性の点で非常
に優れた特性の潤滑剤の組み合わせを特定して用いてい
るので、良好な走行性及び耐久性が確保されたものとな
る。

【０１０９】また、この磁気記録媒体においては、最外
層として形成され、カーボンよりなる保護膜の表面がプ
ラズマ処理されているので、用いられる潤滑剤と、保護
膜との密着性が向上し、さらに良好な耐久性を実現する
ことができる。

【０１１０】また、この磁気記録媒体においては、磁性
層を強磁性金属薄膜としていることから、高密度記録、
長時間記録にも十分対応可能である。

【０１１１】なお、本発明は上述の記載に限定されるこ
とはなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において適宜
変更可能である。

【０１１２】

【実施例】以下、本発明の実施例について具体的な実験
結果に基づいて説明する。

【０１１３】次に、本発明の効果を確認するべく、実際
に磁気記録媒体を製造し、その特性の評価を行った。

【０１１４】実験例１ 本実施例では、末端に水酸基を有するパーフルオロポリ
エーテルと長鎖カルボン酸とのエステル化合物と、長鎖
飽和脂肪酸を含有する潤滑剤を使用した場合の効果を以
下のようにして確認した。

【０１１５】（サンプルの作製） １．化９で示される末端に水酸基を有するパーフルオロ
ポリエーテルと長鎖カルボン酸とのエステル化合物の合
成 先ず、末端に水酸基を有するパーフルオロポリエーテル
として、分子量２０００のＨＯＣＨ_２ＣＦ_２（ＯＣ_２Ｆ
_４）_ｐ（ＯＣＦ_２）_ｑＯＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨ（但し、化学
式中ｐ、ｑはそれぞれ１以上の整数を表す。）を用い、
このパーフルオロポリエーテルとモル比で２倍等量とな
るトリエチルアミンを有機溶媒中に溶解させ、この溶液
中にさらにモル比で２倍等量のステアリン酸クロリドを
３０分かけて滴下した。

【０１１６】滴下終了後、１時間撹拌し、続いて３０分
間加熱還流を行った。そして、冷却した後、蒸留水、希
塩酸水溶液の順で洗浄し、再度蒸留水により洗浄液が中
性になるまで洗浄した。続いて、有機溶媒を除去し、得
られた化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーを
用いて精製してエステル化合物を得た。ここで、このエ
ステル化合物を化合物１とする。

【０１１７】次に、上記化合物１と同様な合成方法によ
って、表１に示すような末端に水酸基を有するパーフル
オロポリエーテルと長鎖カルボン酸とのエステル化合物
である４種類の化合物２〜５を合成した。なお、表１中
ｐ、ｑ、ｎは、１以上の整数をそれぞれ表す。

【０１１８】

【表１】

【０１１９】２．サンプルテープの作製 次に、磁気テープを以下のようにして作製した。先ず、
非磁性支持体である７．０μｍ厚のポリエチレンテレフ
タレートフィルムに、上述の真空蒸着装置を使用して斜
め蒸着法によりＣｏを被着させ、磁性層となる強磁性金
属薄膜を１８０ｎｍの厚さに形成した。

【０１２０】次に、上記強磁性金属薄膜上に、エチレン
とアルゴンの混合ガスの高周波プラズマにより、電極
と、磁気記録媒体原反自身を対向電極として、原反に−
１．５ｋＶの直流電圧を印加し、放電を行い、上記強磁
性金属薄膜上に約８ｎｍの厚さのカーボン保護膜を形成
した。

【０１２１】次に、ポリエチレンテレフタレートフィル
ムの強磁性金属薄膜が形成された面とは反対側の面に、
カーボン及びポリウレタン樹脂よりなる膜厚０．５μｍ
のバックコート層を形成した。

【０１２２】次に、上記保護膜の表面を、アルゴンガス
圧が１５０Ｐａ、印加電圧が１００Ｗ、周波数が１３．
５６ＭＨｚの条件で発生させた高周波プラズマに１０秒
間さらした。

【０１２３】次に、下記表２に示される化合物をそれぞ
れヘキサン溶媒に溶解したものを、上記カーボン保護膜
上に塗布量が５ｍｇ／ｍ^２となるように塗布して、２１
種類の磁気記録媒体を得た。

【０１２４】そして、これら２１種類の磁気記録媒体を
それぞれ６．３５ｍｍ幅に裁断して、実施例１〜実施例
８及び比較例１〜比較例１３の２１種類のサンプルテー
プとした。

【０１２５】但し、比較例３〜比較例１０のサンプルテ
ープについては、保護膜の表面を高周波プラズマにさら
さなかった。さらに、比較例８〜比較例１０のサンプル
テープについては、保護膜を、上述したようなプラズマ
ＣＶＤ法によらず、マグネトロンスパッタ法により形成
した。また、比較例１１〜比較例１３において用いた脂
肪酸は、アルキル基中に二重結合を有している。

【０１２６】

【表２】

【０１２７】３．特性の評価 次に、上記実施例１〜実施例８と比較例１〜比較例１３
の２１種類のサンプルテープの特性を評価した。ここで
は、耐久性と走行性を評価することとし、具体的には摩
擦係数、スチル耐久性及びシャトル耐久性を評価した。
これらを評価する際の環境条件としては、本発明者等が
検討した上で、最も厳しい条件と思われる条件を採用し
た。

【０１２８】（１）摩擦係数の測定方法 摩擦係数の測定は、恒温槽中の環境条件を温度４０℃、
湿度８０％ＲＨに制御して、この恒温槽中で各サンプル
テープを１００パス走行させて測定した。なお、摩擦走
行１００パス目の数値を摩擦係数とした。

【０１２９】（２）スチル耐久性の測定方法 スチル耐久性の評価は、−５℃の恒温槽中で行い、市販
のデジタルビデオカムコーダー（ソニー社製、機種名：
ＤＶＣ−ＶＸ１０００）を用いて、各サンプルテープの
再生出力が３ｄＢ落ちるまでの時間を測定して行った。

【０１３０】（３）シャトル耐久性の測定方法 シャトル耐久性は、恒温槽中の環境条件を温度４０℃、
湿度２０％ＲＨに制御して、この恒温槽中で市販のデジ
タルビデオカムコーダー（ソニー社製、機種名：ＤＶＣ
−ＶＸ１０００）を用い、各サンプルテープを１００パ
スシャトル走行させ、１００パス走行後にその再生出力
が初期出力から何ｄＢ落ちるかを測定して評価した。

【０１３１】なお、これらの評価は、潤滑剤を塗布した
直後と、各サンプルテープを温度４５℃、湿度８０％Ｒ
Ｈの環境下で３０日間保存した後に行った。潤滑剤を塗
布した直後の初期の耐久性及び走行性の測定結果を表
３、３０日間保存した後の保存後の耐久性及び走行性の
測定結果を表４に示す。

【０１３２】

【表３】

【０１３３】

【表４】

【０１３４】表３及び表４の結果から、ＣＶＤ法により
形成された保護膜表面を不活性ガスのプラズマ雰囲気下
で処理し、さらに潤滑剤として、末端に水酸基を有する
パーフルオロポリエーテルと長鎖カルボン酸とのエステ
ル化合物と長鎖飽和脂肪酸とを組み合わせた潤滑剤を使
用した実施例１〜実施例８においては、何れも高温多
湿、高温低湿あるいは低温等の様々な使用条件下におい
て摩擦係数、スチル耐久性及びシャトル耐久性の劣化が
極めて少なく、非常に良好な結果が得られていることが
わかった。

【０１３５】一方、末端に水酸基を有するパーフルオロ
ポリエーテルと長鎖カルボン酸とのエステル化合物のみ
を含有する潤滑剤を用いた比較例１及び比較例２では、
様々な使用条件下において摩擦係数やスチル耐久性、シ
ャトル耐久性の劣化が非常に大きかった。また、保護膜
の表面に対してプラズマ処理を行わなかった比較例３〜
比較例１０では、様々な使用条件下において摩擦係数や
スチル耐久性、シャトル耐久性の劣化が大きく、良好な
結果が得られなかった。さらに、保護膜をＣＶＤ法では
なく、ＰＶＤ法であるマグネトロンスパッタ法により形
成した場合にも、十分な耐久性は得られなかった。さら
に、実施例１と比較例１１〜比較例１３との比較結果か
ら、不飽和結合を有しない長鎖飽和脂肪酸を用いること
により、長期保存後も初期の特性を維持させることがで
きることがわかった。

【０１３６】以上の結果より、ＣＶＤ法により形成され
た保護膜表面を不活性ガスのプラズマ雰囲気下で処理
し、さらに潤滑剤として、末端に水酸基を有するパーフ
ルオロポリエーテルと長鎖カルボン酸とのエステル化合
物と、長鎖飽和脂肪酸とを組み合わせることにより、潤
滑剤が如何なる使用条件下においても密着性や潤滑性が
保たれ、且つ長期にわたり潤滑効果が持続するため、磁
気記録媒体の良好な走行性及び耐久性が得られることが
わかった。

【０１３７】実験例２ 本実験例においては、化１１で示される末端にカルボキ
シル基を有するパーフルオロポリエーテルと長鎖アルコ
ールとのエステル化合物と、長鎖飽和脂肪酸を含有する
潤滑剤を使用した場合の効果を以下のようにして確認し
た。

【０１３８】（サンプルの作製） １．末端にカルボキシル基を有するパーフルオロポリエ
ーテルと長鎖アルコールとのエステル化合物の合成 先ず、末端にカルボキシル基を有するパーフルオロポリ
エーテルとして、分子量２０００のＨＯＯＣＣＦ_２（Ｏ
Ｃ_２Ｆ_４）_ｍ（ＯＣＦ_２）_ｊＯＣＦ_２ＣＯＯＨ（但し、
化学式中ｍ、ｊはそれぞれ１以上の整数を表す。）を用
い、このパーフルオロポリエーテルとモル比で２倍等量
となるステアリルアルコールを無水トルエン中で少量の
ｐ−トルエンスルホン酸と濃硫酸を触媒として加熱還流
させた。このとき、生成される水分を除去しながら行っ
た。

【０１３９】反応終了後、トルエンを除去した後、得ら
れた化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーを用
いて精製して、その後溶媒を除去し、エステル化合物を
得た。なお、ここで、このエステル化合物を化合物６と
する。

【０１４０】次に、上記化合物６と同様な合成方法によ
って、表５に示すような末端にカルボキシル基を有する
パーフルオロポリエーテルと長鎖アルコールとのエステ
ル化合物である４種類の化合物７〜１０を合成した。な
お、表５中ｊ、ｋ、ｍは、１以上の整数をそれぞれ表
す。

【０１４１】

【表５】

【０１４２】２．サンプルテープの作製 まず、前述の実験例１と同様にして、非磁性支持体上に
磁性層となる強磁性金属薄膜、カーボンからなる保護膜
をプラズマＣＶＤ法により形成し、バックコート層も形
成した。さらに、上記保護膜の表面を不活性ガスのプラ
ズマにより処理した。

【０１４３】次に、前述の実験例１と同様にして、保護
膜表面に、下記表６に示されるような潤滑剤をヘキサン
溶媒に溶解したものを、塗布量が５ｍｇ／ｍ^２となるよ
うにそれぞれ塗布して２１種類の磁気記録媒体を得た。

【０１４４】そして、これら２１種類の磁気記録媒体を
それぞれ６．３５ｍｍ幅に裁断し、実施例９〜実施例１
６及び比較例１４〜比較例２６の２１種類のサンプルテ
ープを作製した。

【０１４５】但し、比較例１６〜比較例２３のサンプル
テープについては、保護膜の表面を高周波プラズマにさ
らさなかった。さらに、比較例２１〜比較例２３のサン
プルテープについては、保護膜を、上述したようなプラ
ズマＣＶＤ法によらず、マグネトロンスパッタ法により
形成した。また、比較例２４〜比較例２６において用い
た脂肪酸は、アルキル基中に二重結合を有している。

【０１４６】

【表６】

【０１４７】３．特性の評価 次に、上記実施例９〜実施例１６と比較例１４〜２６の
２１種類のサンプルテープの特性を評価した。ここで
は、耐久性と走行性を評価することとし、具体的には摩
擦係数、スチル耐久性及びシャトル耐久性を前述の実験
例１と同様にして評価した。

【０１４８】なお、これらの評価は、前述の実験例１と
同様に潤滑剤を塗布した直後と、各サンプルテープを温
度４５℃、湿度８０％ＲＨの環境下で３０日間保存した
後に行った。潤滑剤を塗布した直後の初期の耐久性及び
走行性の結果を表７、３０日間保存した後の保存後の耐
久性及び走行性の結果を表８に示す。

【０１４９】

【表７】

【０１５０】

【表８】

【０１５１】表７及び表８の結果から、ＣＶＤ法により
形成された保護膜表面を不活性ガスのプラズマ雰囲気下
で処理し、さらに潤滑剤として、末端にカルボキシル基
を有するパーフルオロポリエーテルと長鎖アルコールと
のエステル化合物と長鎖飽和脂肪酸とを組み合わせた潤
滑剤を使用した実施例９〜実施例１６においては、何れ
も高温多湿、高温低湿あるいは低温等の様々な使用条件
下において摩擦係数、スチル耐久性及びシャトル耐久性
の劣化が極めて少なく、非常に良好な結果が得られてい
ることがわかった。

【０１５２】一方、末端にカルボキシル基を有するパー
フルオロポリエーテルと長鎖アルコールとのエステル化
合物のみを含有する潤滑剤を用いた比較例１４及び比較
例１５では、様々な使用条件下において摩擦係数やスチ
ル耐久性、シャトル耐久性の劣化が非常に大きかった。
また、保護膜の表面に対してプラズマ処理を行わなかっ
た比較例１６〜比較例２３では、様々な使用条件下にお
いて摩擦係数やスチル耐久性、シャトル耐久性の劣化が
大きく、良好な結果が得られなかった。さらに、保護膜
をＣＶＤ法ではなく、ＰＶＤ法であるマグネトロンスパ
ッタ法により形成した場合にも、十分な耐久性は得られ
なかった。さらに、実施例９と比較例２４〜比較例２６
との比較結果から、不飽和結合を有しない長鎖飽和脂肪
酸を用いることにより、長期保存後も初期の特性を維持
させることができることがわかった。

【０１５３】以上の結果より、ＣＶＤ法により形成され
た保護膜表面を不活性ガスのプラズマ雰囲気下で処理
し、さらに潤滑剤として、末端にカルボキシル基を有す
るパーフルオロポリエーテルと長鎖アルコールとのエス
テル化合物と、長鎖飽和脂肪酸とを組み合わせることに
より、潤滑剤が如何なる使用条件下においても密着性や
潤滑性が保たれ、且つ長期にわたり潤滑効果が持続する
ため、磁気記録媒体の良好な走行性及び耐久性が得られ
ることがわかった。

【０１５４】

【発明の効果】以上のように、本発明に係る磁気記録媒
体は、上述したような、密着性や潤滑性の点で非常に優
れた特性の潤滑剤の組み合わせを特定して用いているの
で、走行性及び耐久性を向上することができる。

【０１５５】また、本発明に係る磁気記録媒体は、最外
層として形成され、カーボンよりなる保護膜の表面がプ
ラズマ処理されているので、当該保護膜上に保持される
潤滑剤と、保護膜との密着性が向上し、さらに良好な耐
久性を実現することができる。

【０１５６】また、本発明に係る磁気記録媒体において
は、磁性層を強磁性金属薄膜としていることから、高密
度記録、長時間記録にも十分対応可能である。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る磁気記録媒体の一例を示す断面図
である。

【図２】磁性層を形成する際に用いる真空蒸着装置の一
例を示す断面図である。

【符号の説明】

１ 磁気記録媒体、 ２ 非磁性支持体、 ３ 磁性
層、 ４ 保護膜

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 4J002 CH051 EF056 GS01 4J005 BD02 BD04 5D006 AA01 AA06 BB01 EA03 FA02 FA05

Claims (12)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 非磁性支持体と、 上記非磁性支持体上に形成された磁性層と、 上記磁性層上に形成され、その表面が不活性ガスのプラ
   ズマ雰囲気下で処理されてなる保護膜とを備え、 下記化１で示される末端に水酸基を有するパーフルオロ
   ポリエーテルと長鎖カルボン酸とのエステル化合物及び
   下記化２で示される長鎖飽和脂肪酸を含有する潤滑剤が
   最外層に保持されてなることを特徴とする磁気記録媒
   体。 【化１】 【化２】
2. 【請求項２】 上記末端に水酸基を有するパーフルオロ
   ポリエーテルと長鎖カルボン酸とのエステル化合物と、
   上記長鎖飽和脂肪酸との混合比が、重量比で１０：９０
   〜９０：１０であることを特徴とする請求項１記載の磁
   気記録媒体。
3. 【請求項３】 化２中のＲ^２の炭素数は１１〜１９であ
   ることを特徴とする請求項１記載の磁気記録媒体。
4. 【請求項４】 上記磁性層が、強磁性金属薄膜よりなる
   ことを特徴とする請求項１記載の磁気記録媒体。
5. 【請求項５】 上記保護膜がカーボンよりなることを特
   徴とする請求項１記載の磁気記録媒体。
6. 【請求項６】 上記保護膜は、化学的気相成長法により
   形成されることを特徴とする請求項１記載の磁気記録媒
   体。
7. 【請求項７】 非磁性支持体と、 上記非磁性支持体上に形成された磁性層と、 上記磁性層上に形成され、その表面が不活性ガスのプラ
   ズマ雰囲気下で処理されてなる保護膜とを備え、 下記化３で示される末端にカルボキシル基を有するパー
   フルオロポリエーテルと長鎖アルコールとのエステル化
   合物及び下記化４で示される長鎖飽和脂肪酸を含有する
   潤滑剤が最外層に保持されてなることを特徴とする磁気
   記録媒体。 【化３】 【化４】
8. 【請求項８】 上記末端にカルボキシル基を有するパー
   フルオロポリエーテルと長鎖アルコールとのエステル化
   合物と、上記長鎖飽和脂肪酸との混合比が、重量比で１
   ０：９０〜９０：１０であることを特徴とする請求項７
   記載の磁気記録媒体。
9. 【請求項９】 化４中のＲ^２の炭素数は１１〜１９であ
   ることを特徴とする請求項７記載の磁気記録媒体。
10. 【請求項１０】 上記磁性層が、強磁性金属薄膜よりな
    ることを特徴とする請求項７記載の磁気記録媒体。
11. 【請求項１１】 上記保護膜がカーボンよりなることを
    特徴とする請求項７記載の磁気記録媒体。
12. 【請求項１２】 上記保護膜は、化学的気相成長法によ
    り形成されることを特徴とする請求項７記載の磁気記録
    媒体。