JP2002258276A - 液晶ディスプレイパネルの反射板 - Google Patents
液晶ディスプレイパネルの反射板Info
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 液晶ディスプレイパネルのケーシングに使用
されるステンレス鋼に反射層を直接形成することによ
り、薄く安価な液晶ディスプレイパネルを提供する。 【構成】 この反射板は、ステンレス鋼板を基材１と
し、基材１の上にＡｇ層３及び透明皮膜４を積層してい
る。Ａｇ層３を電気めっきで形成する場合、Ｎｉストラ
イクめっき層２を介在させることが好ましい。Ａｇ層３
を積層した後で圧延することにより、更に薄肉化した反
射板が得られる。
されるステンレス鋼に反射層を直接形成することによ
り、薄く安価な液晶ディスプレイパネルを提供する。 【構成】 この反射板は、ステンレス鋼板を基材１と
し、基材１の上にＡｇ層３及び透明皮膜４を積層してい
る。Ａｇ層３を電気めっきで形成する場合、Ｎｉストラ
イクめっき層２を介在させることが好ましい。Ａｇ層３
を積層した後で圧延することにより、更に薄肉化した反
射板が得られる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、バックライトの光を反
射させて液晶を透過させることによって表示イメージを
見やすくした液晶ディスプレイパネル用反射板に関す
る。
射させて液晶を透過させることによって表示イメージを
見やすくした液晶ディスプレイパネル用反射板に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】液晶ディスプレイパネルは、電圧印加に
よって光学特性が変わるネマチック液晶をストライプ状
の陽極（透明電極）と陰極（金属箔膜）との間に挟んで
Ｘ−Ｙマトリックスを構成している。Ｘ−Ｙマトリック
ス上の所定位置に電圧を印加すると、電圧印加部分でネ
マチック液晶の光学特性が変わり、バックライトの光が
透過又は遮断される。ピクセルごとに光の透過又は遮断
が行われるため、必要な画像が表示される。
よって光学特性が変わるネマチック液晶をストライプ状
の陽極（透明電極）と陰極（金属箔膜）との間に挟んで
Ｘ−Ｙマトリックスを構成している。Ｘ−Ｙマトリック
ス上の所定位置に電圧を印加すると、電圧印加部分でネ
マチック液晶の光学特性が変わり、バックライトの光が
透過又は遮断される。ピクセルごとに光の透過又は遮断
が行われるため、必要な画像が表示される。
【０００３】鮮明な液晶表示画像を得る上では、バック
ライトの光を効率よく液晶に向けて反射させることが要
求される。従来の反射体としては、Ａｇ含有高反射層を
積層した合成樹脂フィルム等の透明な可撓性シートを接
着剤で支持体に貼り付けた構造（特開平５−１７７７５
８号公報），プラズマ処理面にＡｇ薄膜を形成した合成
樹脂シートを支持体に貼り付けた構造（特開平９−１５
０４８２号公報）等が知られている。
ライトの光を効率よく液晶に向けて反射させることが要
求される。従来の反射体としては、Ａｇ含有高反射層を
積層した合成樹脂フィルム等の透明な可撓性シートを接
着剤で支持体に貼り付けた構造（特開平５−１７７７５
８号公報），プラズマ処理面にＡｇ薄膜を形成した合成
樹脂シートを支持体に貼り付けた構造（特開平９−１５
０４８２号公報）等が知られている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】従来の反射板では、何
れも光反射性の高いＡｇ薄膜を積層した合成樹脂シート
を接着剤で支持体に貼り付けている。そのため、支持体
に対する合成樹脂シートの耐剥離性を改善する必要があ
り、接着剤のガラス転移温度以上で養生することも提案
されている（特開平１０−２０６６１４号公報）。しか
し、接着剤を用いた積層構造であることから、接着剤の
経時劣化等により耐剥離性が低下することが避けられな
い。また、Ａｇ薄膜の強い化学触媒作用のために、Ａｇ
薄膜と合成樹脂シート又は接着剤層との間で層間剥離す
ることもある。更には、Ａｇ薄膜を積層した合成樹脂シ
ートを支持体に接着する工程を採ることから、反射板製
造プロセスが複雑化すると共に、高価な合成樹脂シート
の使用によって反射板のコストも高くなる。
れも光反射性の高いＡｇ薄膜を積層した合成樹脂シート
を接着剤で支持体に貼り付けている。そのため、支持体
に対する合成樹脂シートの耐剥離性を改善する必要があ
り、接着剤のガラス転移温度以上で養生することも提案
されている（特開平１０−２０６６１４号公報）。しか
し、接着剤を用いた積層構造であることから、接着剤の
経時劣化等により耐剥離性が低下することが避けられな
い。また、Ａｇ薄膜の強い化学触媒作用のために、Ａｇ
薄膜と合成樹脂シート又は接着剤層との間で層間剥離す
ることもある。更には、Ａｇ薄膜を積層した合成樹脂シ
ートを支持体に接着する工程を採ることから、反射板製
造プロセスが複雑化すると共に、高価な合成樹脂シート
の使用によって反射板のコストも高くなる。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、このような問
題を解消すべく案出されたものであり、支持体自体に光
反射性の高いＡｇ層を形成することにより、Ａｇ薄膜を
積層した合成樹脂シートの使用に替え、簡便な方法で作
製できる液晶ディスプレイパネル用反射板を提供するこ
とを目的とする。本発明の液晶ディスプレイパネル用反
射板は、その目的を達成するため、ステンレス鋼板を基
材とし、基材表面に膜厚０．０５μｍ以上のＡｇ層が形
成されていることを特徴とする。
題を解消すべく案出されたものであり、支持体自体に光
反射性の高いＡｇ層を形成することにより、Ａｇ薄膜を
積層した合成樹脂シートの使用に替え、簡便な方法で作
製できる液晶ディスプレイパネル用反射板を提供するこ
とを目的とする。本発明の液晶ディスプレイパネル用反
射板は、その目的を達成するため、ステンレス鋼板を基
材とし、基材表面に膜厚０．０５μｍ以上のＡｇ層が形
成されていることを特徴とする。
【０００６】スパッタリング，イオンプレーティング等
によるときステンレス鋼基材の表面にＡｇ層を直接形成
できる。電気めっき法でＡｇ層を形成する場合、ステン
レス鋼基材に対するＡｇ層の密着性を向上させるため、
Ａｇ層の形成に先立ってステンレス鋼板をＮｉストライ
クめっきすることが好ましい。ステンレス鋼製基材は、
液晶ディスプレイパネルのケーシングとしても兼用でき
る。Ａｇ層の上に、Ａｇ層の表層酸化や褪色を防止する
透明皮膜を更に積層することが好ましい。有機透明皮膜
は、ポリエチレンテレフタレート，アクリル樹脂，シリ
コーン樹脂等の有機塗料を塗布し、焼き付けることによ
って形成される。或いは、ゾル−ゲル法で形成した無機
又は有機皮膜を焼付け・乾燥することや、蒸着法によっ
て透明皮膜を形成することも可能である。
によるときステンレス鋼基材の表面にＡｇ層を直接形成
できる。電気めっき法でＡｇ層を形成する場合、ステン
レス鋼基材に対するＡｇ層の密着性を向上させるため、
Ａｇ層の形成に先立ってステンレス鋼板をＮｉストライ
クめっきすることが好ましい。ステンレス鋼製基材は、
液晶ディスプレイパネルのケーシングとしても兼用でき
る。Ａｇ層の上に、Ａｇ層の表層酸化や褪色を防止する
透明皮膜を更に積層することが好ましい。有機透明皮膜
は、ポリエチレンテレフタレート，アクリル樹脂，シリ
コーン樹脂等の有機塗料を塗布し、焼き付けることによ
って形成される。或いは、ゾル−ゲル法で形成した無機
又は有機皮膜を焼付け・乾燥することや、蒸着法によっ
て透明皮膜を形成することも可能である。
【０００７】
【実施の形態】本発明に従った液晶ディスプレイパネル
用反射板は、基材１の表面にＮｉストライクめっき層
２，電気めっき法によるＡｇ層３が順次積層され、必要
に応じて透明皮膜４がＡｇ層３の上に設けられている
（図１）。スパッタリングや蒸着でＡｇ層３を形成する
場合、Ｎｉストライクめっき層２を省略できる。基材１
には、液晶ディスプレイパネルのケーシングを兼用し、
耐食性，加工性，強度に優れたＳＵＳ３０４を初めとす
るステンレス鋼が使用される。また、平滑度の良好な基
材１とするため、ＪＩＳ Ｇ４３０５に規定されている
２Ｄ，２Ｂ，ＢＡ等のダル仕上げやブライト仕上げをス
テンレス鋼板に施すことが好ましい。
用反射板は、基材１の表面にＮｉストライクめっき層
２，電気めっき法によるＡｇ層３が順次積層され、必要
に応じて透明皮膜４がＡｇ層３の上に設けられている
（図１）。スパッタリングや蒸着でＡｇ層３を形成する
場合、Ｎｉストライクめっき層２を省略できる。基材１
には、液晶ディスプレイパネルのケーシングを兼用し、
耐食性，加工性，強度に優れたＳＵＳ３０４を初めとす
るステンレス鋼が使用される。また、平滑度の良好な基
材１とするため、ＪＩＳ Ｇ４３０５に規定されている
２Ｄ，２Ｂ，ＢＡ等のダル仕上げやブライト仕上げをス
テンレス鋼板に施すことが好ましい。
【０００８】電気めっき法でＡｇ層３を形成する場合、
基材１とＡｇ層３との間にＮｉストライクめっき層２を
設け、基材１に対するＡｇ層３の密着性を向上させる。
基材１の表面がＮｉストライクめっき層２で均一に被覆
されることから、ピンホール，不めっき等の欠陥のない
Ａｇ層３がＮｉストライクめっき層２の上に形成され
る。Ｎｉストライクめっき層２の形成には、ウッド浴等
の従来から使用されているストライクめっき浴が使用さ
れる。
基材１とＡｇ層３との間にＮｉストライクめっき層２を
設け、基材１に対するＡｇ層３の密着性を向上させる。
基材１の表面がＮｉストライクめっき層２で均一に被覆
されることから、ピンホール，不めっき等の欠陥のない
Ａｇ層３がＮｉストライクめっき層２の上に形成され
る。Ｎｉストライクめっき層２の形成には、ウッド浴等
の従来から使用されているストライクめっき浴が使用さ
れる。
【０００９】Ｎｉストライクめっき層２の膜厚は、基材
１に対するＡｇ層３の密着性が確保される限り特に制約
されるものではないが、通常０．０５〜０．２μｍ程度
の膜厚で十分な密着性が得られる。ただし、厚すぎると
Ｎｉストライクめっき層２の表層に生じる凹凸がＡｇ層
３に反映され、Ａｇ層３の反射率が低下する傾向がみら
れることから０．３μｍ以下の膜厚が好ましい。ウッド
浴を使用する場合、たとえば浴温３５℃，電流密度１５
Ａ／ｄｍ2とすることにより、必要とするＮｉストライ
クめっき層２が形成される。
１に対するＡｇ層３の密着性が確保される限り特に制約
されるものではないが、通常０．０５〜０．２μｍ程度
の膜厚で十分な密着性が得られる。ただし、厚すぎると
Ｎｉストライクめっき層２の表層に生じる凹凸がＡｇ層
３に反映され、Ａｇ層３の反射率が低下する傾向がみら
れることから０．３μｍ以下の膜厚が好ましい。ウッド
浴を使用する場合、たとえば浴温３５℃，電流密度１５
Ａ／ｄｍ2とすることにより、必要とするＮｉストライ
クめっき層２が形成される。
【００１０】Ａｇ層３は、基材１表面を被覆した均一な
Ｎｉストライクめっき層２を介し形成されるため、ピン
ホール等の欠陥がなく、表面凹凸の少ないめっき層とな
る。また、Ａｇ層３の膜厚を０．０５μｍ以上とするこ
とによって液晶ディスプレイパネル用反射板用として要
求される反射率を満足する表面状態が得られる。Ａｇ層
３の膜厚が０．０５μｍ以下では、基材１の全域にわた
って均一な厚みのＡｇ層３が形成されず、微視的にみる
と不めっき部分が存在し、必要な反射率が得られない。
Ｎｉストライクめっき層２を介し形成されるため、ピン
ホール等の欠陥がなく、表面凹凸の少ないめっき層とな
る。また、Ａｇ層３の膜厚を０．０５μｍ以上とするこ
とによって液晶ディスプレイパネル用反射板用として要
求される反射率を満足する表面状態が得られる。Ａｇ層
３の膜厚が０．０５μｍ以下では、基材１の全域にわた
って均一な厚みのＡｇ層３が形成されず、微視的にみる
と不めっき部分が存在し、必要な反射率が得られない。
【００１１】膜厚０．０５μｍ以上のＡｇ層３で必要な
反射率が得られ、膜厚の上限は特に制約されるものでは
ない。しかし、Ａｇ層３の膜厚増加は製造コストの上昇
に直結することから薄膜ほど好ましい。ＪＩＳ Ｈ８６
２１の工業用ＡｇめっきやＪＩＳ Ｈ８６２３の装飾用
Ａｇめっきではめっき厚さとして０．５μｍ以上が分類
されているが、液晶ディスプレイパネル用反射板として
の要求特性を経済的に満足させる上では０．５μｍがＡ
ｇ層３の膜厚上限である。好ましいＡｇ層３の膜厚は、
０．１〜０．３μｍの範囲である。
反射率が得られ、膜厚の上限は特に制約されるものでは
ない。しかし、Ａｇ層３の膜厚増加は製造コストの上昇
に直結することから薄膜ほど好ましい。ＪＩＳ Ｈ８６
２１の工業用ＡｇめっきやＪＩＳ Ｈ８６２３の装飾用
Ａｇめっきではめっき厚さとして０．５μｍ以上が分類
されているが、液晶ディスプレイパネル用反射板として
の要求特性を経済的に満足させる上では０．５μｍがＡ
ｇ層３の膜厚上限である。好ましいＡｇ層３の膜厚は、
０．１〜０．３μｍの範囲である。
【００１２】Ａｇ層３は、電気めっき法で形成される。
電気Ａｇめっき浴としては、シアン系めっき浴が多用さ
れているが、非シアン系のめっき浴（たとえば、特開平
２−２９０９９３号公報）も使用可能である。また、光
沢めっき，無光沢めっきの何れによってもＡｇ層３が形
成される。
電気Ａｇめっき浴としては、シアン系めっき浴が多用さ
れているが、非シアン系のめっき浴（たとえば、特開平
２−２９０９９３号公報）も使用可能である。また、光
沢めっき，無光沢めっきの何れによってもＡｇ層３が形
成される。
【００１３】電気めっき法に代えて、スパッタリング，
イオンプレーティング等によってもＡｇ層３を形成する
ことができ、この場合にはＮｉストライクめっき層２が
省略される。スパッタリングでは、逆スパッタによって
基板洗浄した後、正スパッタにより成膜することが好ま
しい。たとえば、Ａｒ分圧１×１０-3トール，電圧１．
０ｋＶ，電流１００ｍＡ，処理時間５分の条件下の逆ス
パッタで基板を洗浄した後、Ａｒ分圧１×１０-3トー
ル，電圧２．６ｋＶ，電流１４０ｍＡの正スパッタを目
標膜厚に応じた処理時間継続させる。イオンプレーティ
ングでも、基板洗浄後、たとえば電子ビーム出力１０
Ｖ，電流４０ｍＡで目標膜厚に応じて処理時間を調整す
る。
イオンプレーティング等によってもＡｇ層３を形成する
ことができ、この場合にはＮｉストライクめっき層２が
省略される。スパッタリングでは、逆スパッタによって
基板洗浄した後、正スパッタにより成膜することが好ま
しい。たとえば、Ａｒ分圧１×１０-3トール，電圧１．
０ｋＶ，電流１００ｍＡ，処理時間５分の条件下の逆ス
パッタで基板を洗浄した後、Ａｒ分圧１×１０-3トー
ル，電圧２．６ｋＶ，電流１４０ｍＡの正スパッタを目
標膜厚に応じた処理時間継続させる。イオンプレーティ
ングでも、基板洗浄後、たとえば電子ビーム出力１０
Ｖ，電流４０ｍＡで目標膜厚に応じて処理時間を調整す
る。
【００１４】Ａｇ層３が形成された反射板用素材全体を
圧延してもよい。圧延は、反射板用素材を薄肉化するば
かりでなく、Ａｇ層３の表面平滑度及び緻密度を向上さ
せる上でも有効である。Ａｇ層３の上には、透明皮膜４
を設けることが好ましい。一般に、Ａｇは大気中で酸化
することはないが、亜硫酸ガス，硫黄，オゾン等と反応
して黒変する。そこで、大気にＡｇ層３が直接曝されな
いように透明皮膜４で被覆するとき、Ａｇ層３の黒変が
防止される。透明皮膜４は、可視光の透過率が高い限り
材質に制約を受けるものではないが、透明度の高い樹脂
塗料から作製された塗膜やゾル−ゲル法で作成された無
機塗膜等がある。有機樹脂系の透明皮膜４でＡｇ層３を
被覆する場合、紫外線吸収剤を樹脂塗料に含ませると皮
膜劣化が防止され、より一層の長期間にわたってＡｇ層
３の保護層としての機能が維持される。
圧延してもよい。圧延は、反射板用素材を薄肉化するば
かりでなく、Ａｇ層３の表面平滑度及び緻密度を向上さ
せる上でも有効である。Ａｇ層３の上には、透明皮膜４
を設けることが好ましい。一般に、Ａｇは大気中で酸化
することはないが、亜硫酸ガス，硫黄，オゾン等と反応
して黒変する。そこで、大気にＡｇ層３が直接曝されな
いように透明皮膜４で被覆するとき、Ａｇ層３の黒変が
防止される。透明皮膜４は、可視光の透過率が高い限り
材質に制約を受けるものではないが、透明度の高い樹脂
塗料から作製された塗膜やゾル−ゲル法で作成された無
機塗膜等がある。有機樹脂系の透明皮膜４でＡｇ層３を
被覆する場合、紫外線吸収剤を樹脂塗料に含ませると皮
膜劣化が防止され、より一層の長期間にわたってＡｇ層
３の保護層としての機能が維持される。
【００１５】有機樹脂系の透明皮膜４としては、波長４
００〜７００ｎｍの可視光域で光吸収性の少ないもので
あればよく、ポリエチレンテレフタレート，アクリル樹
脂，シリコーン樹脂等が使用される。透明皮膜４は好ま
しくは１〜１０μｍ（より好ましくは３〜５μｍ）の膜
厚で形成される。透明皮膜４の膜厚が１μｍ以上になる
と、Ａｇ層３が透明皮膜４で均一に覆われ、透明皮膜４
によるＡｇ層３の変色防止効果が顕著になる。Ａｇ層３
の変色防止に関する限り透明皮膜４の膜厚に上限はない
が、過度に厚い膜厚ではコスト的に不利となることから
１０μｍ以下の膜厚で透明皮膜４を形成することが好ま
しい。ゾル−ゲル法で透明皮膜４を形成する場合、各種
金属アルコキシドの溶液にＡｇ層３を形成した基材１を
浸漬法，スプレー法等で接触させ、溶媒を乾燥除去した
後、電気炉等の加熱炉に装入して４００℃程度で焼成す
ることにより透明な無機皮膜が形成される。
００〜７００ｎｍの可視光域で光吸収性の少ないもので
あればよく、ポリエチレンテレフタレート，アクリル樹
脂，シリコーン樹脂等が使用される。透明皮膜４は好ま
しくは１〜１０μｍ（より好ましくは３〜５μｍ）の膜
厚で形成される。透明皮膜４の膜厚が１μｍ以上になる
と、Ａｇ層３が透明皮膜４で均一に覆われ、透明皮膜４
によるＡｇ層３の変色防止効果が顕著になる。Ａｇ層３
の変色防止に関する限り透明皮膜４の膜厚に上限はない
が、過度に厚い膜厚ではコスト的に不利となることから
１０μｍ以下の膜厚で透明皮膜４を形成することが好ま
しい。ゾル−ゲル法で透明皮膜４を形成する場合、各種
金属アルコキシドの溶液にＡｇ層３を形成した基材１を
浸漬法，スプレー法等で接触させ、溶媒を乾燥除去した
後、電気炉等の加熱炉に装入して４００℃程度で焼成す
ることにより透明な無機皮膜が形成される。
【００１６】
【実施例１】板厚０．２ｍｍのＳＵＳ３０４ステンレス
鋼板ＢＡ仕上げ材を基材１として使用した。基材１を脱
脂酸洗した後、ウッドＮｉストライクめっき浴（塩化ニ
ッケル：２４０ｇ／ｌ，ｐＨ１．５）に浸漬し、浴温３
５℃，電流密度１５Ａ／ｄｍ 2で１２秒間通電すること
により、膜厚０．１μｍのＮｉストライクめっき層２を
形成した。Ｎｉストライクめっき層２が設けられた基材
１を市販の非シアン電気Ａｇめっき浴（ダインシルバー
AG−PL30：株式会社大和化成研究所製）に浸漬し、浴温
５０℃，ｐＨ４，電流密度１Ａ／ｄｍ2で１０秒間通電
することにより、膜厚０．１μｍのＡｇ層３を形成し
た。
鋼板ＢＡ仕上げ材を基材１として使用した。基材１を脱
脂酸洗した後、ウッドＮｉストライクめっき浴（塩化ニ
ッケル：２４０ｇ／ｌ，ｐＨ１．５）に浸漬し、浴温３
５℃，電流密度１５Ａ／ｄｍ 2で１２秒間通電すること
により、膜厚０．１μｍのＮｉストライクめっき層２を
形成した。Ｎｉストライクめっき層２が設けられた基材
１を市販の非シアン電気Ａｇめっき浴（ダインシルバー
AG−PL30：株式会社大和化成研究所製）に浸漬し、浴温
５０℃，ｐＨ４，電流密度１Ａ／ｄｍ2で１０秒間通電
することにより、膜厚０．１μｍのＡｇ層３を形成し
た。
【００１７】Ａｇ層３形成後の表面を電子顕微鏡観察し
たところ、Ａｇ層３は下地のＮｉストライクめっき層２
を完全に覆っており、Ｎｉストライクめっき層２の露出
が検出されなかった。また、密着曲げ／粘着テープ剥離
によってＡｇ層３の密着性を評価したところ、Ａｇ層３
に剥離がなく優れた密着性を示した。比較のため、Ｎｉ
ストライクめっき層２を形成することなく基材１のＡｇ
層３を直接形成したところ、得られたＡｇ層３は僅かな
外力で基材１から剥離・脱落した。
たところ、Ａｇ層３は下地のＮｉストライクめっき層２
を完全に覆っており、Ｎｉストライクめっき層２の露出
が検出されなかった。また、密着曲げ／粘着テープ剥離
によってＡｇ層３の密着性を評価したところ、Ａｇ層３
に剥離がなく優れた密着性を示した。比較のため、Ｎｉ
ストライクめっき層２を形成することなく基材１のＡｇ
層３を直接形成したところ、得られたＡｇ層３は僅かな
外力で基材１から剥離・脱落した。
【００１８】Ｎｉストライクめっき層２を介してＡｇ層
３が形成された反射板用素材（本発明例）について、波
長４００〜７００ｎｍの可視光領域の全反射率を分光光
度計で測定した。比較のため、膜厚０．１μｍのＡｇ層
を積層した合成樹脂フィルムを貼り付けた反射体（比較
例）についても、同様に全反射率を測定した。波長５５
０ｎｍの全反射率は、本発明例が９５％，比較例が９６
％とほぼ等しい値を示した。
３が形成された反射板用素材（本発明例）について、波
長４００〜７００ｎｍの可視光領域の全反射率を分光光
度計で測定した。比較のため、膜厚０．１μｍのＡｇ層
を積層した合成樹脂フィルムを貼り付けた反射体（比較
例）についても、同様に全反射率を測定した。波長５５
０ｎｍの全反射率は、本発明例が９５％，比較例が９６
％とほぼ等しい値を示した。
【００１９】更に、アクリル系透明樹脂塗料を反射板用
素材に塗布し、２３０℃で１分焼き付けることによって
膜厚５μｍの透明皮膜４をＡｇ層３の上に形成した。透
明皮膜４が形成された反射板用素材を相対湿度９５％，
温度６０℃の恒温恒湿槽に３０日間放置した後、恒温恒
湿槽から反射板用素材を取り出して表面観察した。反射
板用素材の表面は、Ａｇ層３の形成直後と同等な銀白色
を呈し、透明皮膜４の剥離も検出されなかった。反射率
も９５％と高い値に維持されていた。
素材に塗布し、２３０℃で１分焼き付けることによって
膜厚５μｍの透明皮膜４をＡｇ層３の上に形成した。透
明皮膜４が形成された反射板用素材を相対湿度９５％，
温度６０℃の恒温恒湿槽に３０日間放置した後、恒温恒
湿槽から反射板用素材を取り出して表面観察した。反射
板用素材の表面は、Ａｇ層３の形成直後と同等な銀白色
を呈し、透明皮膜４の剥離も検出されなかった。反射率
も９５％と高い値に維持されていた。
【００２０】
【実施例２】板厚０．４ｍｍのＳＵＳ３０４ステンレス
鋼板ＢＡ仕上げ材を基材１として使用した。基材１を脱
脂酸洗した後、実施例１と同様にＮｉストライクめっき
層２及びＡｇ層３を形成した。ただし、Ａｇめっき時の
通電時間を２０秒に設定することにより、Ａｇ層３の膜
厚を０．２μｍとした。このＡｇ層３も、基材１に対す
る密着性に優れ、密着曲げ／粘着テープ剥離試験によっ
ても剥離・脱落が生じなかった。
鋼板ＢＡ仕上げ材を基材１として使用した。基材１を脱
脂酸洗した後、実施例１と同様にＮｉストライクめっき
層２及びＡｇ層３を形成した。ただし、Ａｇめっき時の
通電時間を２０秒に設定することにより、Ａｇ層３の膜
厚を０．２μｍとした。このＡｇ層３も、基材１に対す
る密着性に優れ、密着曲げ／粘着テープ剥離試験によっ
ても剥離・脱落が生じなかった。
【００２１】Ａｇ層３が形成された反射板用素材を圧延
機に通し、圧延率７５％で冷間圧延した。圧延後の膜厚
変化は基材１が０．１ｍｍ，Ａｇ層３が０．０５μｍで
あったが、圧延前に比較してＡｇ層３の平滑度が向上し
ていた。圧延された反射板用素材について、波長４００
〜７００ｎｍの可視光域における全反射率を分光光度計
で測定したところ、膜厚０．１μｍのＡｇ層を積層した
合成樹脂フィルムを貼り付けた反射板と同じ反射率９６
％を呈した。
機に通し、圧延率７５％で冷間圧延した。圧延後の膜厚
変化は基材１が０．１ｍｍ，Ａｇ層３が０．０５μｍで
あったが、圧延前に比較してＡｇ層３の平滑度が向上し
ていた。圧延された反射板用素材について、波長４００
〜７００ｎｍの可視光域における全反射率を分光光度計
で測定したところ、膜厚０．１μｍのＡｇ層を積層した
合成樹脂フィルムを貼り付けた反射板と同じ反射率９６
％を呈した。
【００２２】更に、実施例１と同様に膜厚５μｍの透明
皮膜４をＡｇ層３の上に形成し、相対湿度９５％，温度
６０℃の恒温恒湿槽に３０日間放置した後、恒温恒湿槽
から反射板用素材を取り出して表面観察した。反射板用
素材の表面は、Ａｇ層３の形成直後と同等な銀白色を呈
し、透明皮膜４の剥離も検出されなかった。反射率も、
９５％と高い値に維持されていた。
皮膜４をＡｇ層３の上に形成し、相対湿度９５％，温度
６０℃の恒温恒湿槽に３０日間放置した後、恒温恒湿槽
から反射板用素材を取り出して表面観察した。反射板用
素材の表面は、Ａｇ層３の形成直後と同等な銀白色を呈
し、透明皮膜４の剥離も検出されなかった。反射率も、
９５％と高い値に維持されていた。
【００２３】表１は、種々の膜厚でＡｇ層３を形成した
反射板用素材について、Ａｇ層３，圧延が密着性，反射
率に及ぼす影響を示す。また、反射板の反射率とＡｇ層
３の膜厚との関係を図２に示す。表１，図２から明らか
なように、本発明に従った反射板用素材は、膜厚０．１
μｍのＡｇ層を積層した合成樹脂フィルムを貼り付けた
従来の反射板に比較して反射率に何ら遜色なく、薄型化
の要求が強い液晶ディスプレイパネルに適していること
が判る。
反射板用素材について、Ａｇ層３，圧延が密着性，反射
率に及ぼす影響を示す。また、反射板の反射率とＡｇ層
３の膜厚との関係を図２に示す。表１，図２から明らか
なように、本発明に従った反射板用素材は、膜厚０．１
μｍのＡｇ層を積層した合成樹脂フィルムを貼り付けた
従来の反射板に比較して反射率に何ら遜色なく、薄型化
の要求が強い液晶ディスプレイパネルに適していること
が判る。
【００２４】
【００２５】
【実施例３】板厚０．２ｍｍのＳＵＳ３０４ステンレス
鋼板のＢＡ仕上げ材を基材１に使用した。基材１を有機
溶剤で脱脂，洗浄した後、高周波スパッタリング装置を
用い、到達真空度６×１０-6トールとし、Ａｒ分圧１×
１０-3トール，電圧１．０ｋＶ，電流１００ｍＡ，処理
時間５分の逆スパッタによって基材１を洗浄した。次い
で、Ａｒ分圧１×１０-3トール，電圧２．６ｋＶ，電流
１４０ｍＡ，処理時間２分の逆スパッタにより膜厚０．
２μｍのＡｇ層３を基材１の上に形成した。
鋼板のＢＡ仕上げ材を基材１に使用した。基材１を有機
溶剤で脱脂，洗浄した後、高周波スパッタリング装置を
用い、到達真空度６×１０-6トールとし、Ａｒ分圧１×
１０-3トール，電圧１．０ｋＶ，電流１００ｍＡ，処理
時間５分の逆スパッタによって基材１を洗浄した。次い
で、Ａｒ分圧１×１０-3トール，電圧２．６ｋＶ，電流
１４０ｍＡ，処理時間２分の逆スパッタにより膜厚０．
２μｍのＡｇ層３を基材１の上に形成した。
【００２６】Ａｇ層３が形成された反射板用素材につい
て、波長４００〜７００ｎｍの可視光域における全反射
率を分光光度計で測定したところ、膜厚０．１μｍのＡ
ｇ層を積層した合成樹脂フィルムを貼り付けた反射板と
同じ反射率９６％を示した。更に、実施例１と同様に膜
厚５μｍの透明皮膜４をＡｇ層３の上に形成し、相対湿
度９５％，温度６０℃の恒温恒湿槽に３０日間放置した
後、恒温恒湿槽から反射板用素材を取り出して表面観察
した。反射板用素材の表面は、Ａｇ層３の形成直後と同
等な銀白色を呈し、透明皮膜４の剥離も検出されなかっ
た。反射率も、９５％と高い値に維持されていた。
て、波長４００〜７００ｎｍの可視光域における全反射
率を分光光度計で測定したところ、膜厚０．１μｍのＡ
ｇ層を積層した合成樹脂フィルムを貼り付けた反射板と
同じ反射率９６％を示した。更に、実施例１と同様に膜
厚５μｍの透明皮膜４をＡｇ層３の上に形成し、相対湿
度９５％，温度６０℃の恒温恒湿槽に３０日間放置した
後、恒温恒湿槽から反射板用素材を取り出して表面観察
した。反射板用素材の表面は、Ａｇ層３の形成直後と同
等な銀白色を呈し、透明皮膜４の剥離も検出されなかっ
た。反射率も、９５％と高い値に維持されていた。
【００２７】
【実施例４】板厚０．２ｍｍのＳＵＳ３０４ステンレス
鋼板のＢＡ仕上げ材を基材１に使用した。基材１を有機
溶剤で脱脂，洗浄した後、イオンプレーティング装置を
用い真空度４×１０-5トール，Ａｒ分圧１×１０-3トー
ル，電圧１．０ｋＶ，電流１００ｍＡ，処理時間５分で
基材１を洗浄した。次いで、電子ビーム出力１０Ｖ，電
流４０ｍＡで３０秒処理することにより膜厚０．１４μ
ｍのＡｇ層３を基材１の上に形成した。
鋼板のＢＡ仕上げ材を基材１に使用した。基材１を有機
溶剤で脱脂，洗浄した後、イオンプレーティング装置を
用い真空度４×１０-5トール，Ａｒ分圧１×１０-3トー
ル，電圧１．０ｋＶ，電流１００ｍＡ，処理時間５分で
基材１を洗浄した。次いで、電子ビーム出力１０Ｖ，電
流４０ｍＡで３０秒処理することにより膜厚０．１４μ
ｍのＡｇ層３を基材１の上に形成した。
【００２８】Ａｇ層３が形成された反射板用素材につい
て、波長４００〜７００ｎｍの可視光域における全反射
率を分光光度計で測定したところ、膜厚０．１μｍのＡ
ｇ層を積層した合成樹脂フィルムを貼り付けた反射板と
同じ反射率９６％を示した。更に、実施例１と同様に膜
厚５μｍの透明皮膜４をＡｇ層３の上に形成し、相対湿
度９５％，温度６０℃の恒温恒湿槽に３０日間放置した
後、恒温恒湿槽から反射板用素材を取り出して表面観察
した。反射板用素材の表面は、Ａｇ層３の形成直後と同
等な銀白色を呈し、透明皮膜４の剥離も検出されなかっ
た。反射率も、９５％と高い値に維持されていた。
て、波長４００〜７００ｎｍの可視光域における全反射
率を分光光度計で測定したところ、膜厚０．１μｍのＡ
ｇ層を積層した合成樹脂フィルムを貼り付けた反射板と
同じ反射率９６％を示した。更に、実施例１と同様に膜
厚５μｍの透明皮膜４をＡｇ層３の上に形成し、相対湿
度９５％，温度６０℃の恒温恒湿槽に３０日間放置した
後、恒温恒湿槽から反射板用素材を取り出して表面観察
した。反射板用素材の表面は、Ａｇ層３の形成直後と同
等な銀白色を呈し、透明皮膜４の剥離も検出されなかっ
た。反射率も、９５％と高い値に維持されていた。
【００２９】
【発明の効果】以上に説明したように、本発明の液晶デ
ィスプレイパネル用反射板は、ステンレス鋼基材の表面
にＡｇ層を設けているため、従来のＡｇ薄膜積層合成樹
脂シートに比較して取扱いも容易で、大幅に薄くでき
る。そのため、薄肉化の要求が過酷な液晶ディスプレイ
パネル用部材として好適に使用される。また、耐食性に
優れたステンレス鋼を基材とすることから、液晶ディス
プレイパネル自体の耐久性も向上する。
ィスプレイパネル用反射板は、ステンレス鋼基材の表面
にＡｇ層を設けているため、従来のＡｇ薄膜積層合成樹
脂シートに比較して取扱いも容易で、大幅に薄くでき
る。そのため、薄肉化の要求が過酷な液晶ディスプレイ
パネル用部材として好適に使用される。また、耐食性に
優れたステンレス鋼を基材とすることから、液晶ディス
プレイパネル自体の耐久性も向上する。
【図１】 本発明に従って基材１にＮｉストライクめっ
き層２，Ａｇ層３及び透明皮膜４を積層した反射板の層
構成を示す断面図
き層２，Ａｇ層３及び透明皮膜４を積層した反射板の層
構成を示す断面図
【図２】 反射板の反射率にＡｇ層３の膜厚が及ぼす影
響を示したグラフ
響を示したグラフ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 和泉 圭二 大阪府堺市石津西町５番地 日新製鋼株式 会社技術研究所内 Ｆターム(参考） 2H042 DA04 DA10 DA15 DA17 DC01 DC02 DE00 2H091 FA14Z FA41Z FB08 FC02 LA30
Claims (3)
- 【請求項１】 ステンレス鋼板を基材とし、基材表面に
膜厚０．０５μｍ以上のＡｇ層が形成されていることを
特徴とする液晶ディスプレイパネルの反射板。 - 【請求項２】 ステンレス鋼板を基材とし、基材表面に
Ｎｉストライクめっき層を介して膜厚０．０５μｍ以上
の電気Ａｇめっき層がＡｇ層として形成されていること
を特徴とする液晶ディスプレイパネルの反射板。 - 【請求項３】 Ａｇ層の上に透明皮膜が更に積層されて
いる請求項１又は２記載の反射板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001061517A JP2002258276A (ja) | 2001-03-06 | 2001-03-06 | 液晶ディスプレイパネルの反射板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001061517A JP2002258276A (ja) | 2001-03-06 | 2001-03-06 | 液晶ディスプレイパネルの反射板 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002258276A true JP2002258276A (ja) | 2002-09-11 |
Family
ID=18920802
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001061517A Withdrawn JP2002258276A (ja) | 2001-03-06 | 2001-03-06 | 液晶ディスプレイパネルの反射板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002258276A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005019880A1 (ja) * | 2003-08-22 | 2005-03-03 | Tsujiden Co., Ltd. | バックライト用の反射フイルム |
| KR100963735B1 (ko) | 2006-07-06 | 2010-06-14 | 파나소닉 전공 주식회사 | 하지(下地)재료에 전기은도금처리를 실시함으로써 형성되는은막 |
| JP2014232157A (ja) * | 2013-05-28 | 2014-12-11 | コニカミノルタ株式会社 | 反射部材、その製造方法、および面発光ユニット |
-
2001
- 2001-03-06 JP JP2001061517A patent/JP2002258276A/ja not_active Withdrawn
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005019880A1 (ja) * | 2003-08-22 | 2005-03-03 | Tsujiden Co., Ltd. | バックライト用の反射フイルム |
| KR100963735B1 (ko) | 2006-07-06 | 2010-06-14 | 파나소닉 전공 주식회사 | 하지(下地)재료에 전기은도금처리를 실시함으로써 형성되는은막 |
| JP2014232157A (ja) * | 2013-05-28 | 2014-12-11 | コニカミノルタ株式会社 | 反射部材、その製造方法、および面発光ユニット |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20070313 |
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| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20080513 |