JP2002255585A

JP2002255585A - 情報記録ディスク用ガラス基板及びそのガラス基板を用いた情報記録ディスク

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Publication number: JP2002255585A
Application number: JP2001056748A
Authority: JP
Inventors: Hirotaka Yamamoto; 浩貴山本; Takashi Namekawa; 滑川　　孝; Takashi Naito; 内藤　　孝; Mitsutoshi Honda; 光利本田
Original assignee: Hitachi Ltd
Current assignee: Hitachi Ltd
Priority date: 2001-03-01
Filing date: 2001-03-01
Publication date: 2002-09-11
Anticipated expiration: 2021-03-01
Also published as: JP3994371B2

Abstract

(57)【要約】【課題】熱膨張係数を適正化した情報記録ディスク用
ガラス基板を提供する。【解決手段】重量百分率で、５０％以上７０％以下の
ＳｉＯ₂と、１０％以上２５％以下のＡｌ₂Ｏ₃と、０％
以上５％未満のＢ₂Ｏ₃と、１３％を超え１８％未満のＲ
₂Ｏ（Ｒはアルカリ金属元素を表す）と、１％以上８％
以下のＬｎ₂Ｏ₃（ＬｎはＰｒ、Ｎｄ、Ｓｍ、またはＥｕ
を表す）とを含む構成とする。これにより、ガラス基板
の熱膨張係数と貫通穴３に嵌合して情報記録ディスクを
支持するスピンドルの熱膨張係数との差を低減し、ガラ
ス基板の熱膨張係数をトラックずれなどの問題が生じ難
い適正な範囲にすることができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、情報記録ディスク
用のガラス基板に係り、特に、磁性ディスクなどに好適
なガラス基板に関する。

【０００２】

【従来の技術】現在、汎用大型コンピュータやパーソナ
ルコンピュータ用の情報記録媒体として、さらにはデジ
タル信号で配信される映像を一時的に保管する家庭用の
サーバーとして磁気ディスク装置や、携帯性のある情報
記録媒体として光磁気ディスクや光ディスクなどが用い
られている。

【０００３】例えば、磁気ディスク装置では、従来、基
板として汎用向けやデスクトップ型のパーソナルコンピ
ューター用途には３.５インチサイズのアルミニウム基
板が、また持ち運び可能なノート型のパーソナルコンピ
ューター用には主に２.５インチサイズのガラス基板が
用いられてきた。このガラス基板は、アルミニウム基板
に比べ硬くて変形し難く、かつ表面平滑度が優れてい
る。このため、汎用型の３.５インチサイズや３インチ
サイズの基板にもアルミニウム基板に代えてガラス基板
が適用されるようになってきている。また、１.８イン
チサイズや１インチサイズといった小型携帯端末用の情
報記録装置にもガラス基板が適用されようとしている。

【０００４】さらに、情報記録装置や情報記録媒体に対
する大容量化の要請が強まっており、近年では年率１０
０％の割合でその記憶容量が増大している。このような
記憶容量の増大に対応するには、ディスクに記録する情
報の高密度化に伴い記録部のヘッドの浮上量をより低く
する必要がある。したがって、ディスクの記録面がより
平滑な情報記録ディスクの開発が必要であることから
も、情報記録ディスクの基板へのガラス基板の適用が拡
大している。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかし、従来のガラス
基板では、熱膨張係数の適正化が考慮されているとは言
い難い。そのため、従来のガラス基板を用いる情報記録
ディスクとこの情報記録ディスクを支えるスピンドルな
どとの間の熱膨張係数の不整合から、情報記録ディスク
への情報の記録や読み出しなどにおいてトラックずれが
生じることが懸念される。これは今後の大容量化に伴う
トラックの高密度化から、より重大な課題になると考え
られる。したがって、ガラス基板やスピンドルが熱膨張
したときにトラックずれなどを生じないように、ガラス
基板の熱膨張係数を適正化することが望まれている。

【０００６】本発明の課題は、情報記録ディスク用ガラ
ス基板の熱膨張係数を適正化することにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明の情報記録ディス
ク用ガラス基板は、重量百分率で、５０％以上７０％以
下のＳｉＯ₂と、１０％以上２５％以下のＡｌ₂Ｏ₃と、
０％以上５％未満のＢ₂Ｏ₃と、１３％を超え１８％未満
のＲ₂Ｏ（Ｒはアルカリ金属元素を表す）とを含む構成
とすることにより上記課題を解決する。

【０００８】このような構成とすれば、０％以上５％未
満のＢ₂Ｏ₃と、１３％を超え１８％未満のＲ₂Ｏ（Ｒは
アルカリ金属元素を表す）とすることにより、ガラス基
板やスピンドルが熱膨張したときにトラックずれなどを
生じないように、情報記録ディスク用ガラス基板の熱膨
張係数を適正化できる。

【０００９】さらに、重量百分率で１０％以下のＺｎＯ
を含む構成、重量百分率で１２％以下のＲeＯ（Ｒeはア
ルカリ土類金属元素を表す）を含む構成、そして重量百
分率で７％以下のＬａ₂Ｏ₃を含む構成とすれば、情報記
録ディスク用ガラス基板の熱膨張係数を上昇させること
により情報記録ディスク用ガラス基板の熱膨張係数を適
正化できるので好ましい。

【００１０】ところで、ガラス基板は、ガラス本来の性
質である割れ易さ、かけ易さ、そしてクラックの入り易
さなどの問題を有している。このようなガラスの割れ易
さなどの問題を解決するため、ガラス基板に化学強化
や、結晶化などを行っている。しかし、化学強化された
非晶質のガラス基板では、化学強化の工程におけるアル
カリイオンの置換によってガラス基板の表面が荒れてし
まうため、平滑性が失われ、将来のヘッド浮上量の低化
に対応することが難しい。さらに、化学強化されたガラ
ス基板の表面は、置換されたイオン半径の大きいアルカ
リイオンが化学的に不安定であるため、生産工程中のガ
ラス基板の洗浄工程や、ガラス基板表面への成膜工程な
どにおける加熱処理などにおいてアルカリイオンが基板
表面に移動して析出し、ガラス基板表面などに形成され
た膜または層の剥がれや粘着などの不良や、ガラス基板
表面などに形成された磁性膜などの磁気特性の劣化など
を生ずることが懸念される。加えて、情報記録ディスク
の長期間の使用や、高温多湿環境のもとでの保存などに
おいても、膜または層の剥がれや粘着などの不良を生ず
ることや、アルカリイオンがガラス基板表面に移動して
析出し、磁性膜などの磁気特性が劣化することが懸念さ
れる。

【００１１】一方、結晶化ガラス基板は、非晶質なガラ
スの中に結晶質の微粒子が生成している状態になってお
り、この非晶質部分と結晶部分との硬度差により研磨速
度が異なるため、情報記録ディスクに求められている高
密度化に対応できるような十分な平滑性を持った記録面
を作り難いという問題があった。

【００１２】このような化学強化や結晶化したガラス基
板の問題を解決するため、発明者らは、特開平１０−０
８３５３１号公報などに、ガラス基板に希土類イオンを
含有させることにより機械的強度を向上することを提案
している。これにより、化学強化や結晶化しなくても十
分な強度のガラス基板が得られるため、ガラス基板や、
このガラス基板を用いた情報記録ディスクの製造または
加工工程におけるガラス基板表面の荒れや、情報記録デ
ィスクの長時間の使用や保存などによるガラス基板表面
の荒れなどが起こらず、ガラス基板表面の十分な平滑性
を保つことができる。すなわち、情報記録ディスクに求
められている高密度化に対応できるような十分な平滑性
を持った記録面を有するガラス基板を作ることができ
る。

【００１３】しかし、特開平１０−０８３５３１号公報
などに提案した希土類イオンを含むガラス基板では、ガ
ラス基板や情報記録ディスクの生産時における不良品発
生の抑制、不良品の発見、さらに、化学的耐久性や、磁
気ディスク装置や光磁気ディスクなどに加工した場合に
必要な磁気特性などが十分に考慮されているとは言い難
く、これらの観点からの情報記録ディスク用ガラス基板
としての品質の向上が求められている。

【００１４】これに対し、重量百分率で、５０％以上７
０％以下のＳｉＯ₂と、１０％以上２５％以下のＡｌ₂Ｏ
₃と、０％以上５％未満のＢ₂Ｏ₃と、１３％を超え１８
％未満のＲ₂Ｏ（Ｒはアルカリ金属元素を表す）と、１
％以上８％以下のＬｎ₂Ｏ₃（ＬｎはＰｒ、Ｎｄ、Ｓｍ、
またはＥｕを表す）とを含む構成とする。

【００１５】このような構成にすれば、１％以上８％以
下のＬｎ₂Ｏ₃（ＬｎはＰｒ、Ｎｄ、Ｓｍ、またはＥｕを
表す）により、ガラス基板を適度に着色し、かつ適度な
透過率にできるため、ガラス基板中の気泡やその他の混
入物を目視により発見し易くなる。さらに、ガラス基板
の加工や洗浄工程、そして情報記録ディスクの加工工程
などにおいてガラス基板が視認し易いため、ガラス基板
に傷をつけるなどの加工不良などを抑制できる。加え
て、ガラス基板を磁気ディスク装置や光磁気ディスクな
どに用いる場合には、ガラス基板の磁化量を低減し、磁
気特性のばらつきを低減することができる。したがっ
て、ガラス基板や情報記録ディスクの生産時における不
良の発生などを抑制でき、さらに磁気特性のばらつきを
低減することができるため、情報記録ディスク用ガラス
基板の品質を向上できる。すなわち、情報記録ディスク
用ガラス基板の熱膨張係数を適正化でき、かつ情報記録
ディスク用ガラス基板の品質を向上できる。

【００１６】また、Ｌｎ₂Ｏ₃を構成するＬｎがＰｒであ
る構成とすれば、情報記録ディスク用ガラス基板の品質
をさらに向上できるので好ましい。

【００１７】さらに、３０℃〜１００℃の温度範囲で測
定される熱膨張係数が７３×１０⁻ ^７／℃以上８６×１
０^−７／℃以下であり、波長３００ｎｍ〜７００ｎｍの
可視光における透過率が５０％以上８５％以下であり、
１ｋＯｅの磁界を印加したときの磁化が３×１０^−３ｅ
ｍｕ／ｃｃ以下である情報記録ディスク用ガラス基板と
する。このような情報記録ディスク用ガラス基板とすれ
ば、ガラス基板の熱膨張係数を適正化でき、かつガラス
基板の品質を向上できる。

【００１８】また、上記のいずれかに記載の情報記録デ
ィスク用ガラス基板と、このガラス基板の表面上に直接
または他の層を介して形成される情報記録層とを有する
情報記録ディスクとすれば、ガラス基板の熱膨張係数を
適正化できることにより、情報記録ディスクとしての信
頼性を向上できる。

【００１９】

【発明の実施の形態】以下、本発明を適用してなる情報
記録ディスク用ガラス基板の一実施形態について図１乃
至図３を参照して説明する。図１は、本発明を適用して
なる情報記録ディスク用ガラス基板の概略構成を示す平
面図である。図２は、本発明を適用してなるガラス基板
を用いた磁気ディスクの概略構成を示す断面図である。
図３は、本発明を適用してなるガラス基板を用いた磁気
ディスクを備えた磁気ディスク装置の概略構成を示す斜
視図である。

【００２０】本実施形態の情報記録ディスク用ガラス基
板１は、図１に示すように、直径６５ｍｍφ、厚さ０.
６３５ｍｍの２.５インチ型の円板状のディスクであ
り、中央部には、情報記録ディスクとして用いるときに
記録や、読み出しまたは再生などを行う装置のモーター
などに連結されたスピンドルなどにディスクを内周チャ
ックなどにより固定するための直径２０ｍｍφの円形の
貫通穴３が形成されている。また、この内周面及び外周
面の両縁角部は、削り取られて４５度の面取りがなされ
ており、チャンファー部５となっている。

【００２１】このようなガラス基板１の作製は、以下の
ように行う。目的のガラス組成になるように定められた
量の原料粉末を秤量して混合し、白金製の坩堝に入れ
て、電気炉中で１６００℃で溶解する。原料が十分に溶
解した後、攪拌羽を坩堝内のガラス融液に挿入し、約４
時間攪拌する。その後、攪拌羽を取り出し、３０分間静
置した後、鋳型にガラス融液を流し込むことによって直
径約７０ｍｍφ、厚さ約１ｍｍのガラスブロックを得
た。得られたガラスブロックは、このガラスのガラス転
移点付近まで再加熱され、徐冷されることで歪み取りが
行われる。

【００２２】歪み取りされたガラスブロックを内周と外
周とが同心円となるようにコアドリルを用いて切り出
す。さらに、内周面と外周面の両縁角部をダイヤモンド
砥石により面取り加工し、チャンファー部５を形成す
る。これにより、穴３を有するディスク状のガラス基板
１の概形が形成される。その後、ガラス基板１の両面
は、粗研磨され、次いでポリッシングが行われる。ポリ
ッシング後、ガラス基板１は、洗浄剤、純水で洗浄さ
れ、情報記録ディスク用ガラス基板１となる。以上のよ
うに本発明の情報記録ディスク用ガラス基板１では、化
学強化や結晶化処理のような強化処理を施していない。

【００２３】このような情報記録用ディスク用ガラス基
板１を用いて形成される情報記録ディスクの１例とし
て、磁気ディスクの作成について説明する。磁気ディス
ク７は、図２に示すように、本実施形態のガラス基板１
の表面つまり記録面上に順次形成された粒径制御層９、
配向制御層１１、磁性膜１３、保護膜１５、そして潤滑
膜１７などで構成されている。粒径制御層９は、磁性膜
１３の粒径を制御し、配向制御層１１は、磁性膜１３の
配向を制御する。本例では、粒径制御層９は、ＮｉＡｌ
系の合金膜を２０nmの膜厚で成膜している。配向制御層
１１は、ＣｒＭｏ系の合金膜を１０nmの膜厚で成膜して
いる。情報記録層となる磁性膜１３は、ＣｏＣｒＰｒＢ
系の磁性膜を２０nmの膜厚で成膜している。保護膜１５
は、Ｃを４nmの膜厚で成膜している。これらの層または
膜は、すべてスパッタリング法を用いて成膜した。また
潤滑膜１７は、スパッタ終了後、塗布法によって形成し
た。

【００２４】このような方法により作製した様々な組成
の情報記録ディスク用ガラス基板１と、ガラス基板１に
磁性膜１３などを形成した磁気ディスク７の特性、生産
性などを評価し、ガラス基板１の品質を向上するための
ガラス組成の検討を行った。

【００２５】まず、添加する希土類元素の種類に着目
し、色々な組成のガラスを作製した。表１に、ガラスの
組成と、それらのガラスの組成に対するガラス基板及び
磁気ディスクの特性を示す。

【００２６】

【表１】表１において、希土類元素の種類以外は、同一組成で同
一量のアルミノホウケイ酸ガラスとした。含有させる希
土類酸化物の量はいずれも２.８重量％と一定にした。
ガラス基板の特性として、マイクロビッカース硬さ、可
視光の透過率、着色性、及びガラス基板の歩留まりを評
価した。マイクロビッカース硬さは、荷重５００ｇ、荷
重印加時間１５秒の条件でガラス基板に荷重を印加し、
１０点の平均値として求めた。可視光の透過率は、分光
光度計を用いて３００ｎｍから７００ｎｍまでの波長の
分光透過率曲線より透過率スペクトルを測定し、この波
長範囲の光の全透過率の積分値として求めた。着色性は
目視により着色の程度を評価し、無色のものは×、着色
しているものは○とした。歩留まりの評価は、ガラス基
板をレーザー光照射による散乱光により異物数を検査す
る装置により評価し、気泡、研磨傷、かけ、表面異物な
どの不良がディスク片面当たり２０個以上のものを不良
としてカウントし、不良でないものの割合で評価した。

【００２７】また、磁気ディスクの特性として磁化、磁
化の標準偏差、記録再生特性、及び磁気ディスクの歩留
まりを評価した。さらに、ガラス基板への加工前のガラ
スブロックの作製から磁気ディスクの作製に至るまでの
総合歩留まりを評価した。磁化及び磁化の標準偏差は、
Ｂ−Ｈ曲線を振動試料型磁力計(ＶＳＭ)によって測定
し、磁性膜のヒステリシスループのバックグラウンド成
分をガラス基板からの磁性とし、そのバックグラウンド
成分の大きさを評価した。なお、磁化及び磁化の標準偏
差は、磁界として１ｋＯｅ印加したときの磁化の大きさ
である。

【００２８】加えて、磁気ディスクの記録再生特性を評
価した。記録再生特性評価に用いた磁気ディスク装置１
８は、図３に示すように、磁気ディスク７、スピンドル
１９、図示していないスピンドルモーター、磁気ヘッド
２１、磁気ヘッドのアーム２３、ヘッドを駆動するため
のボイスコイルモーター２５、筐体２７などで構成され
ている。筐体２７には、図示していないスピンドルモー
ターとボイスコイルモーター２５などが固定されてい
る。図示していないスピンドルモーターには、スピンド
ル１９が連結されており、スピンドル１９には磁気ディ
スク７が固定されている。磁気ディスク７は、図示して
いないスピンドルモーターの駆動によるスピンドル１９
の回転によって、全体が回転する。一方、ボイスコイル
モーター２５には、アーム２３が取りつけられており、
アーム２３の先端部には、磁気ヘッド２１が取りつけら
れている。磁気ヘッド２１は、ボイスコイルモーター２
５の駆動によるアーム２３の移動によって、所定の浮上
量で磁気ディスク７の記録面上を移動する。

【００２９】このような磁気ディスク装置１８に、様々
な組成のガラス基板を用いて形成した磁気ディスクを搭
載し、２０Ｇｂ／ｉｎ²に相当する磁気信号を記録して
磁気記録再生特性を評価した。この評価を１５０枚の磁
気ディスクに対して行い、十分な記録再生特性が得られ
たものの割合を磁気ディスク歩留まりとした。さらに、
ガラス基板の歩留まりと磁気ディスクの歩留まりとから
総合歩留まりを評価した。総合での歩留まりが８０％未
満のものを×、８０％以上９０％未満のものを○、９０
％以上のものを◎とした。

【００３０】表１に示すように、ガラス基板の特性にお
いて、マイクロビッカース硬さは、いずれの希土類元素
を含むガラス基板でも約６５０以上が得られており、良
好であることが分かった。また、可視光の透過率は、い
ずれの希土類元素を含むガラス基板でも８０％以上であ
った。希土類元素のうちＮｄ、Ｐｒ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｈ
ｏ、Ｅｒのいずれか１つを含むガラス基板は、可視光域
に希土類のｆ−ｆ遷移に起因するシャープな吸収が見ら
れた。このため、他の希土類元素を含むガラス基板に比
べて透過率は、若干低い。しかし、Ｎｄ、Ｐｒ、Ｓｍ、
Ｅｕ、Ｈｏ、Ｅｒの鋭い吸収のため、希土類元素のうち
Ｎｄ、Ｐｒ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｈｏ、Ｅｒのいずれか１つを
含むガラス基板では、明確な着色が見られた。白熱灯下
での目視観察による評価では、Ｐｒは黄緑、Ｎｄは紫
色、Ｓｍ、Ｅｕは非常に淡いがそれぞれ黄色と桃色に着
色しているのが見られた。また、Ｅｒ、Ｈｏも桃色に着
色していた。他の希土類元素を含むガラス基板は、無色
であり、着色は見られなかった。

【００３１】これらの基板に対するガラス基板の歩留ま
りを評価すると、明瞭な着色の見られたＰｒ、Ｎｄ、Ｈ
ｏ、Ｅｒでは加工や洗浄時などに起こる不良、つまり傷
などの損傷による不良が着色していないものに比べて少
なく、歩留まりが９５％以上となった。これは、着色し
たガラス基板は、加工工程や洗浄工程などにおいて透明
なガラス基板よりも目視確認し易いため、取扱いが容易
なことからガラス基板に処理作業中に誤って傷をつける
などガラス基板の損傷の発生を抑制できることにより、
歩留まりが向上したと考えられる。

【００３２】また、表には示していないが比較例として
Ｎｉを含有する着色性の高いガラス基板について評価し
たところ、このＮｉを含有する基板は、透過率が４７％
と低く、ガラス中に存在する気泡、またはガラス基板の
原料の熔融時に坩堝を構成する成分つまり炉材のガラス
中への溶損などを発見することが難しく、ガラス基板の
表面に気泡や炉材などが残存することにより歩留まりが
低かった。

【００３３】このように、透過率とガラス基板及び磁気
ディスクの歩留まりとの間に明瞭な相関関係が見られ
る。透過率が５０％未満となると、ガラス基板中に残存
する気泡や炉材の混入が発見し難く、歩留まり低下の要
因となる。また、ガラス基板の透過率が８５％を越える
と、ガラス基板が視認し難くなるため、加工や洗浄作業
においてガラス基板の取扱いが難しくなり、誤って傷を
付けてしまうなどの加工不良が増加する。したがって、
ガラス基板の透過率は、視認するのに十分に着色され、
かつガラス基板中に残存する気泡や炉材の混入を発見し
易い、つまり不良を発見しやすいガラス基板を得る上
で、５０％以上８５％以下とする必要がある。さらに、
このような光学的な特性を達成するためにガラス基板に
添加する希土類元素は、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｅ
ｒ、またはＨｏが好ましいことが分かった。このうち、
Ｐｒ、Ｎｄ、Ｅｒ、またはＨｏであれば着色が顕著であ
るためより好ましい。

【００３４】一方、表１に示すように、磁気ディスクの
特性において、磁化の特性は、希土類元素のうちＳｃ、
Ｙ、Ｌａのいずれか１つを含むガラス基板を用いて形成
した磁気ディスクでは、ガラス基板の磁化の大きさが１
０^−４ｅｍｕ／ｃｃのオーダーであり、他の希土類元素
を含むガラス基板を用いて形成した磁気ディスクに比べ
て、極めて小さい磁化量であった。希土類元素としてＳ
ｍを含むガラス基板を用いて形成した磁気ディスクで
は、磁化は反磁性的な挙動を示しており、−４×１０
^−４ｅｍｕ／ｃｃとなった。希土類元素としてＰｒ、Ｎ
ｄ、Ｅｕのいずれか１つを含むガラス基板を用いて形成
した磁気ディスクでは、１.０〜３.０×１０ ^−３ｅｍｕ
／ｃｃのオーダーであった。

【００３５】希土類元素としてＧｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈ
ｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂのいずれか１つを含むガラス基板
を用いて形成した磁気ディスクでは、５×１０^−３〜２
×１０ ^−２ｅｍｕ／ｃｃと、磁化の値が他の希土類元素
を含む場合に比べて大きくなっていた。磁化の固体差を
示す磁化の標準偏差を評価したところ、磁化の大きさの
大きいものほど磁化の標準偏差が大きくなっていた。こ
れは、磁化の大きさの大きいものほどガラス基板による
磁化のばらつきが大きくなっていることを示す。特に、
磁化の大きさが３×１０^−３ｅｍｕ／ｃｃを超えるＧ
ｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂのいずれか１
つを希土類元素として含むガラス基板を用いた磁気ディ
スクでは、磁化の標準偏差が１×１０^−３ｅｍｕ／ｃｃ
以上となり、ガラス基板による磁気特性のばらつきが大
きくなった。

【００３６】磁気記録再生特性による磁気ディスクの歩
留まりを見ると、磁化が３×１０⁻ ^３ｅｍｕ／ｃｃ以下
で、磁化の標準偏差が１×１０^−３ｅｍｕ／ｃｃ未満の
磁気ディスクでは、十分な磁気特性の得られる磁気ディ
スクが９０％以上と良好であった。しかし、磁化が３×
１０^−３ｅｍｕ／ｃｃを超え、かつ磁化の標準偏差が１
×１０^−３ｅｍｕ／ｃｃ以上となる磁気ディスクでは、
歩留まりが８０％以下と低下していることが分かった。
これは、ガラス基板に含有される希土類元素の僅かな固
体差によってガラス基板の磁気特性が変化し、これによ
り標準偏差が大きくなったため、一定の磁界で記録した
際の記録にばらつきが生じたものと考えられる。

【００３７】このように、磁化の大きさが３×１０^−３
ｅｍｕ／ｃｃ以下であれば磁気記録再生のばらつきが比
較的小さい磁気ディスクが得られた。磁化の大きさが３
×１０^−３ｅｍｕ／ｃｃを超えると磁気記録再生特性の
ガラス基板毎のばらつきが大きくなるため、好ましくな
い。したがって、ガラス基板が磁気ディスクの磁化に与
える影響を低減する上で、磁化の大きさが３×１０^−３
ｅｍｕ／ｃｃ以下にすることが必要である。さらに、こ
のような磁気特性を得る上で、希土類元素としてＳｃ、
Ｙ、Ｌａ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｅｕのいずれか１つをガ
ラス基板に含有させることが好ましい。

【００３８】ガラス基板の歩留まりに与える影響、及び
磁気特性が磁気ディスク装置の記録再生特性に及ぼす影
響を考慮して総合歩留まりを評価した。その結果、ガラ
ス基板の歩留まりに与える影響、及び磁気特性が記録再
生特性に及ぼす影響ともに十分な結果を示し、総合歩留
まりが８０％以上となったＰｒ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｅｕのう
ちのいずれか１つを希土類元素として含むガラス基板と
すれば、ガラス基板の品質を向上できる。さらに、総合
歩留まりが９０％となるＰｒを希土類元素として含むガ
ラス基板とすれば、ガラス基板の品質をより向上するこ
とができる。

【００３９】さらに、希土類酸化物の種類と希土類酸化
物の添加量の関係について調べた。着色に関して、表１
で透明であった希土類元素を含むガラス基板では、希土
類元素の含有量を増減させてもガラス基板の透過率に変
化は見られなかった。このため、ガラス基板を着色させ
た希土類元素のうち、Ｐｒ、Ｅｒ、Ｓｍについて、その
含有量を変化させたガラス基板を作製し、表１と同様の
検討を行った。表２に、その検討した結果を示す。

【００４０】

【表２】Ｐｒの含有量を変化させていったところ、試料Ｎｏ．１
７のＰｒ_２Ｏ_３を０.７重量％含有するガラス基板で
は、マイクロビッカース硬さが低く、ガラスの機械的強
度が低いため、研磨傷やかけなどの不良が多く、ガラス
基板の歩留まりが８２％と低かった。Ｐｒ_２Ｏ_３を１重
量％含有する試料Ｎｏ．１６、及びＰｒ_２Ｏ_３を１.５
〜７重量％含有する試料Ｎｏ．１８〜２１では、マイク
ロビッカース硬さは高い値を示しており、着色、磁気特
性ともに十分であった。この事から、試料Ｎｏ．１６、
及び試料Ｎｏ．１８〜２１のガラス基板は、総合歩留ま
りも９０％を超えており、良好な結果となった。

【００４１】一方、試料Ｎｏ.２２のようにＰｒ_２Ｏ_３
含有量が７重量％を超えるものでは、着色に関しては問
題無いものの、磁気ディスクの磁化が３×１０^−３ｅｍ
ｕ／ｃｃを超える値となった。このため、磁化のばらつ
きが大きくなり、磁気ディスクの歩留まりが８０％を下
回り十分な結果が得られなかった。さらに、試料Ｎｏ.
２３のようにＰｒ_２Ｏ_３含有量が１０.５重量％のガラ
ス基板では、ガラス中の希土類元素が均一にガラス中に
溶解せず、不良品数が増大し、歩留まりが１５％と低い
ため、ガラス基板としては好ましくなかった。

【００４２】希土類元素としてＥｒを含有させたガラス
基板では、Ｅｒ_２Ｏ_３含有量が０.５重量％の試料Ｎ
ｏ．２５では、マイクロビッカース硬さが小さいため、
十分な強度のガラス基板が得られず、ガラス基板の歩留
まりが悪かった。このとき、磁気ディスクの磁化の値が
３.１×１０^−３ｅｍｕ／ｃｃと高く、磁気ディスクと
しての歩留まりも低下していた。Ｅｒ_２Ｏ_３含有量を１
重量％から増加させていくと、マイクロビッカース硬さ
も高くなると共に、透過率が低くなるため、ガラス基板
の歩留まりは上昇するものの、磁化が依然として３×１
０^−３ｅｍｕ／ｃｃを超えるため、磁気ディスクの歩留
まりが悪かった。このように、希土類元素としてＥｒを
用いた場合では、ガラス基板としての硬さや光学特性、
磁気ディスクとしての磁気特性の両方を同時に満たす組
成範囲が存在しないことが分かった。

【００４３】希土類元素としてＳｍを含有させたガラス
基板では、ガラス基板の光学的特性については、Ｓｍ_２
Ｏ_３含有量が２.５重量％以上であると透過率が８５％
以下で適正な範囲となった。磁気ディスクとしての磁気
特性は、Ｓｍ_２Ｏ_３を１０重量％含有させても適正であ
ったが、Ｓｍ_２Ｏ_３の含有量が１０重量％を超えるとＰ
ｒの場合と同様にガラス中に残存原料が残るため好まし
くなかった。

【００４４】同様に、希土類元素としてＮｄ，Ｅｕ，Ｈ
ｏを含有させたガラス基板について検討を行ったとこ
ろ、Ｎｄ、Ｅｕについては、Ｓｍと同様の結果が得られ
たが、ＮｄまたはＥｕの含有量が８重量％を越えると磁
気ディスクとしての磁気特性が低下し好ましくなかっ
た。Ｈｏについては、希土類元素としてＥｒを含むガラ
ス基板と同じく、ガラス基板の光学的特性と磁気ディス
クとしての磁気特性の両者を同時に満たす組成範囲が存
在しなかったたため、好ましい結果が得られなかった。

【００４５】このように、希土類元素としてＰｒ、Ｎ
ｄ、Ｓｍ、Ｅｕを含有させ、含有させる希土類酸化物の
濃度を１重量％以上８重量％以下にすることにより、ガ
ラス基板の光学的特性において、ガラス基板の視認性を
向上してガラス基板の加工時などに生じる傷やかけなど
の不良の発生を低減し、また、品質検査などにおけるガ
ラス基板中の気泡、脈理、異物、傷、かけなどの不良の
発見を容易にできる。さらに、磁気ディスクや光磁気デ
ィスクとした場合の磁気特性において、ガラス基板の磁
化を低減できるため、磁気ディスクや光磁気ディスクに
加工された場合の磁化特性に与えるガラス基板の影響を
低減できる。したがって、ガラス基板の品質を向上でき
る。

【００４６】さらに、希土類元素としてＰｒを含ませ、
その希土類酸化物の濃度を１.５重量％以上５.２重量％
以下とすれば、総合歩留まりが９０％以上となり、ガラ
ス基板の品質を一層向上できる。

【００４７】また、希土類元素としてＰｒ、Ｎｄのいず
れか１つを含ませる場合以外の場合で、希土類元素とし
てＳｍを含ませる場合には、その希土類酸化物の濃度が
２.５重量％以上９重量％以下、希土類元素としてＥｕ
を含ませる場合には、その希土類酸化物の濃度が２.５
重量％以上８重量％以下とすることもできる。

【００４８】なお、希土類元素であるＰｒ、Ｎｄ、Ｓ
ｍ、Ｅｕの含有量が１重量％よりも少ないと、ガラス基
板のマイクロビッカース硬さなどで示される機械的強度
が低下したり、透過率が高くなり過ぎ、ガラス基板の歩
留まりが低下する。すなわち、ガラス基板の傷やかけな
どによる不良が増大することとなり、ガラス基板の品質
の低下を招く結果となった。一方、希土類元素の含有量
が８重量％よりも多いと、ガラス基板の磁化の値が増大
し、磁気ディスクや光磁気ディスクに加工された場合に
磁気ディスクや光磁気ディスクの磁化特性のばらつきを
増大させてしまい、ガラス基板とこのガラス基板を用い
た磁気ディスクや光磁気ディスクの品質を低下させてし
まうため好ましくない。さらに、希土類元素の含有量が
８重量％よりも多いと、ガラス中に原料が残存するばあ
いがあるため、ガラス基板の品質が低下し好ましくな
い。

【００４９】次に、情報記録ディスク用ガラス基板とし
て適切なガラス組成について検討するため、ガラスの安
定性、熱膨張係数、ガラス基板表面のマイクロビッカー
ス硬度、円環強度、熱サイクル試験について検討した結
果を表３に示す。表３に示す各試料において、添加する
希土類元素としてＰｒを用いた。なお、表３のガラス組
成の中で、Ｒ_２ＯとはＬｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ、そしてＫ_２
Ｏを合わせた全アルカリ金属酸化物の含有量を示す。

【００５０】

【表３】ここで、ガラスの安定性では、ガラス溶解後に気泡、脈
理、異物などが顕著に見られたものは×とし、気泡、脈
理、異物などが見られず、清澄で均質なガラスが得られ
た場合は○とした。熱膨張係数は、各試料の組成に対応
するガラスブロックを作製し、４ｍｍ×４ｍｍ×１５ｍ
ｍの熱膨張測定用試験片を切り出し、熱膨張測定装置を
用いて測定した。このとき、測定温度範囲は、３０℃〜
１００℃とした。円環強度は、試料となる２.５″のガ
ラス基板の上面側に、外径２２ｍｍφの円環状の部材を
載せ、ガラス基板の下面側に内径６３ｍｍφ、外径６５
ｍｍφの円環状の部材を設置した後、これらの円環状の
部材に荷重をかけてガラス基板の破壊強度を測定した。

【００５１】熱サイクル試験では、得られたガラス基板
を用いて前述と同様に磁気ディスクを作製し、作製した
磁気ディスクを図３に示すような磁気ディスク装置に搭
載して実施した。熱サイクル試験の結果は、トラックず
れによる読み取りエラーなどの問題が生じる割合が１％
以下の場合は○を、１％以上の場合は×として示した。
このとき、熱サイクルは、０℃で４時間保持した後、昇
温して６５℃で４時間保持した。さらにこの後、０℃に
降温して４時間保持した。このサイクルを１０回繰り返
し、その間でエラーが生じるか否かを判定した。

【００５２】ＳｉＯ₂の含有量について表３に示す試料
Ｎｏ．５０〜５５などのガラス基板により検討した。Ｓ
ｉＯ₂の含有量が４９.５重量％のＮｏ．５２ガラス基板
では、マイクロビッカース硬度、円環強度が十分でな
く、情報記録ディスク用ガラス基板として十分な品質で
はなかった。しかし、試料Ｎｏ．５１に示すようにＳｉ
Ｏ₂の含有量がが５０重量％であれば、マイクロビッカ
ース硬さが６５０を超えるため、ガラス基板として適切
であった。また、試料Ｎｏ．５５のようにＳｉＯ ₂の含
有量が７０重量％を超えると、ガラス溶解時に気泡など
の発生が顕著になるので好ましくなかった。一方、試料
Ｎｏ．５４のようにＳｉＯ₂の含有量が７０重量％で
は、気泡、脈理などの発生がなく、十分な耐水性と機械
的強度を有するガラス基板が得られた。

【００５３】このように、ＳｉＯ₂の含有量は５０重量
％以上７０重量％以下とすれば、情報記録ディスク用ガ
ラス基板として十分な耐水性と機械的強度を有するガラ
ス基板を得ることができる。なお、ＳｉＯ₂の含有量が
５０重量％未満では、マイクロビッカース強度などの機
械的強度が低下するため好ましくない。また、ＳｉＯ ₂
の含有量が７０重量％を超えると気泡、脈理などが発生
し、清澄で均質なガラスを得難いので好ましくない。

【００５４】Ａｌ₂Ｏ_３の含有量について試料Ｎｏ．５
６〜５９などのガラス基板により検討した。試料Ｎｏ．
５７のＡｌ₂Ｏ_３の含有量が２６重量％であるガラス基
板では、ガラスの熔融温度が高くなりすぎ、１６００℃
の熔融ではガラスの原料が残存したため好ましくなかっ
た。しかし、試料Ｎｏ．５６のＡｌ₂Ｏ_３の含有量が２
５重量％のガラスでは、清澄なガラスを得ることができ
た。このとき、マイクロビッカース硬度、円環強度とも
ガラス基板として十分な値を示した。一方、Ａｌ₂Ｏ_３
の含有量が１０重量％の試料Ｎｏ．５８のガラス基板で
も、マイクロビッカース硬度、円環強度共にガラス基板
として十分な値を示し、かつ清澄なガラス基板が得られ
た。しかし、Ａｌ₂Ｏ_３の含有量が９.５重量％のＮｏ．
５９のガラス基板では、ガラス中に脈理などの不均質が
生じ、清澄なガラスを得ることができなかった。

【００５５】このように、Ａｌ₂Ｏ_３の含有量が１０重
量％以上２５重量％以下とすれば、情報記録ディスク用
ガラス基板として十分な機械的強度を有し、かつ十分な
安定性を有するガラス基板、つまり清澄で均質なガラス
基板が得られた。なお、Ａｌ ₂Ｏ_３の含有量が１０重量
％未満であると、清澄で均質なガラス基板が得られなか
った。一方、Ａｌ₂Ｏ_３の含有量が２５重量％を超えた
ときも、ガラス中に原料成分が残存し、清澄なガラスを
得ることができなかった。

【００５６】Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ、Ｋ_２Ｏを合わせた全
アルカリ酸化物の含有量（表中のＲ _２Ｏ）とガラス基板
の熱膨張係数の変化について試料Ｎｏ．４２〜４９など
により検討した。試料Ｎｏ．４４、４５のガラス基板よ
うにアルカリ金属酸化物の含有量が少ないガラスでは、
熱サイクル試験においてトラックずれによるエラーが確
認された。試料Ｎｏ．４８、４９のようにアルカリ金属
酸化物の含有量が多い場合にも同様にトラックずれによ
るエラーが生じる磁気ディスク装置が確認された。

【００５７】これらのガラス基板の熱膨張係数を見る
と、試料Ｎｏ．４４、４５のガラス基板では、各々７
１.０×１０^−７／℃、５８.３×１０^−７／℃となって
おり、一般的にスピンドルの材料として用いられるステ
ンレス鋼などの熱膨張係数である８０×１０^−７／℃に
比較して小さくなっている。また試料Ｎｏ．４８、４９
のガラス基板では、各々８７.４×１０^−７／℃、９５.
１×１０^−７／℃となっており、スピンドルを形成する
材料の熱膨張係数に比べて大きくなっていた。したがっ
て、このようなガラス基板の熱膨張係数とスピンドルの
熱膨張係数との差が、熱サイクルによるガラス基板の熱
膨張とスピンドルの熱膨張との差となり、図１に示すよ
うな情報記録ディスク１の貫通穴３の熱膨張が図３に示
すような磁気ディスク装置１８のスピンドル１９の熱膨
張よりも大きくなって、貫通穴３とスピンドル１９との
間の嵌合状態に不具合が生じ、トラックずれが生じたも
のと考えられる。

【００５８】このようにガラス基板の熱膨張係数は、含
有するアルカリ金属酸化物に大きく依存するが、表３に
示す結果から、アルカリ金属酸化物の含有量が１３.０
重量％以下となると、ガラス基板の熱膨張係数がスピン
ドルを形成する材料の熱膨張係数より小さくなり過ぎ、
熱サイクル試験においてトラックずれが生じるため好ま
しくなかった。また、１８.０重量％以上になると、ガ
ラス基板の熱膨張係数がスピンドルを形成する材料の熱
膨張係数より大きくなり過ぎ、やはり熱サイクル試験に
おいてトラックずれが生じるため好ましくなかった。一
方、アルカリ金属酸化物の含有量が１３.０重量％を超
え１８.０重量％未満であれば、熱サイクル試験におい
てトラックずれなどの問題はほとんど生じなかった。ま
た、試料Ｎｏ．４３のガラス基板のように熱膨張係数が
７３.０×１０^−７／℃以上であり、試料Ｎｏ．４７の
ガラス基板のように熱膨張係数が８６.０×１０^−７／
℃以下であれば、熱サイクル試験でトラックずれなどの
問題はほとんど生じない磁気ディスク装置が得られた。

【００５９】したがって、アルカリ金属酸化物の含有量
が１３.０重量％を超え１８.０重量％未満であれば、ガ
ラス基板の熱膨張係数がトラックずれなどの問題を生じ
ない適正範囲、すなわち７３.０×１０^−７／℃以上８
６.０×１０^−７／℃以下となり、ガラス基板の熱膨張
係数を適正化できる。

【００６０】Ｂ_２Ｏ_３の含有量について試料Ｎｏ．６０
〜６３などのガラス基板より検討した。Ｂ_２Ｏ_３を含有
していないか、Ｂ_２Ｏ_３の含有量が３重量％以下である
試料Ｎｏ．６０〜６２のガラス基板は、気泡や脈理など
が少なく十分に均質であり、かつ熱膨張係数、ビッカー
ス硬度や円環強度などの機械的強度も適正な値を示し
た。一方、Ｂ_２Ｏ_３の含有量が５重量％である試料Ｎ
ｏ．６３のガラス基板は、熱膨張係数が小さくなって適
正範囲からはずれ、熱サイクル試験においてトラックず
れを生じる磁気ディスク装置が見られた。

【００６１】このように、Ｂ_２Ｏ_３の含有量は、０重量
％以上５重量％未満であればガラス基板の熱膨張係数を
適正化でき、熱サイクル試験においてトラックずれが生
じない。なお、表３には示していないが、Ｂ_２Ｏ_３の含
有量が５重量％以上であると、熱膨張係数が適正範囲外
となるため好ましくなかった。

【００６２】ここで、試料Ｎｏ.６３〜７２のガラス基
板などのように、これまでに述べたガラス基板の組成に
ＭｇＯ、ＣａＯなどのアルカリ土類金属、またはＺｎＯ
を含有させると、いずれもガラス基板の熱膨張係数を上
昇させる効果があり、ガラス基板の熱膨張係数を適正化
する上で好ましい。ＭｇＯ、ＣａＯなどのアルカリ土類
金属では、表３には示していないが、ガラス基板への含
有量が１２重量％を超えるとクラックが発生することに
より、マイクロビッカース硬度が適正な範囲にあるにも
かかわらず円環強度が低減した。したがって、アルカリ
土類金属酸化物は、含有させるとガラス基板の熱膨張係
数を上昇させる効果があるが、１２重量％を超えるとガ
ラス基板の機械的強度が低下してしまう。このため、ア
ルカリ土類金属酸化物であるＭｇＯとＣａＯの含有量
は、０重量％以上１２重量％以下であれば、十分なビッ
カース硬度や円環強度、つまり機械的強度を有し、ガラ
ス基板の熱膨張係数を適正化したガラス基板を得ること
ができる。

【００６３】試料Ｎｏ．７３、７４のガラス基板は、ア
ルカリ土類金属酸化物としてＭｇＯ、ＣａＯ、そしてＢ
ａＯを２種類同時に含有させたものである。表３には示
していないが、この例のように２種類以上のアルカリ土
類金属を同時にガラス基板に含有させることにより、ア
ルカリ金属元素やアルカリ土類元素のガラス基板からの
析出または溶出が抑制できる。これにより、ガラス基板
の表面に形成した磁性膜などの情報記録層の剥離などを
抑制でき、化学的な安定性を向上することができる。な
お、２種類のアルカリ土類金属をガラス基板に含有させ
る場合でも、クラックの発生を抑制する上で、含有量は
１２重量％以下とする必要がある。

【００６４】一方、ＺｎＯでは、試料Ｎｏ．７２のガラ
ス基板などに示されるように、含有量が１０重量％を超
えるとガラス基板中に結晶の析出が著しくなるため好ま
しくない。ＺｎＯの含有量が１０重量％では、このよう
な結晶の析出は認められなかった。したがって、ＺｎＯ
の含有量は、０重量％以上１０重量％以下であることが
好ましかった。

【００６５】これまでに述べたガラス基板の組成に希土
類元素であるＬａを含有させることでも、ガラス基板の
熱膨張係数を上昇させる効果があり、ガラス基板の熱膨
張係数を適正化する上で好ましい。試料Ｎｏ．７５〜７
７のガラス基板ようにＬａ_２Ｏ_３の含有量が７重量％以
下の場合にはガラスの脈理や気泡の発生が見られず、良
好なガラスが得られた。一方、試料Ｎｏ．７８のガラス
基板では、熱膨張係数、マイクロビッカース硬さなどで
は十分な特性が得られたものの、ガラス基板中に脈理の
発生が見られ、十分なガラスの安定性が得られ難かっ
た。

【００６６】このように、７重量％以下のＬａ_２Ｏ_３を
ガラス基板に含有させると機械的強度を損なうことなく
ガラス基板の熱膨張係数を上昇させて、ガラス基板の熱
膨張係数を適正化できる。しかし、７重量％を超えてＬ
ａ_２Ｏ_３をガラス基板に含有させると十分なガラスの安
定性が得られ難いため好ましくない。

【００６７】以上説明したように、５０重量％以上７０
重量％以下のＳｉＯ₂と、１０重量％以上２５重量％以
下のＡｌ₂Ｏ₃と、０重量％以上５重量％未満のＢ₂Ｏ
₃と、１３重量％を超え１８重量％未満のＲ₂Ｏ（Ｒはア
ルカリ金属元素を表す）とを含む構成の情報記録ディス
ク用ガラス基板とする。これにより、情報記録ディスク
用ガラス基板の熱膨張係数と情報記録ディスクの貫通穴
に嵌合されて情報記録ディスクを支持するスピンドルの
熱膨張係数との間の差が低減し、情報記録ディスク用ガ
ラス基板の熱膨張係数がトラックずれなどの問題を生じ
ない適正範囲、すなわち７３.０×１０^−７／℃以上８
６.０×１０^−７／℃以下となるため、ガラス基板の熱
膨張係数を適正化できる。

【００６８】さらに、１０重量％以下のＺｎＯを含む構
成や、１２重量％以下のＲeＯ（Ｒeはアルカリ土類金属
元素を表す）を含む構成、そして重量百分率で７％以下
のＬａ₂Ｏ₃を含む構成とすることによっても、ガラス基
板の熱膨張係数を上昇させることができるため、ガラス
基板の熱膨張係数を適正化できる。また、合計で重量百
分率で１２％以下の２種類以上のＲeＯ（Ｒeはアルカリ
土類金属元素を表す）を含む構成とすれば、ガラス基板
の化学的な安定性を向上し、かつガラス基板の熱膨張係
数を適正化できる。

【００６９】さらに、１重量％以上８重量％以下のＬｎ
₂Ｏ₃（ＬｎはＰｒ、Ｎｄ、Ｓｍ、またはＥｕを表す）と
を含む構成とすれば、ガラス基板の視認性を向上してガ
ラス基板の加工時などに生じる傷やかけなどの不良の発
生を低減し、また、品質検査などにおけるガラス基板中
の気泡、脈理、異物、傷、かけなどの不良の発見を容易
にできる。さらに、磁気ディスクや光磁気ディスクに用
いる場合には、ガラス基板の磁化を低減できるため、磁
気ディスクや光磁気ディスクに加工された場合の磁化特
性に与えるガラス基板の影響を低減できる。したがっ
て、ガラス基板の品質を向上でき、かつガラス基板の熱
膨張係数を適正化できる。

【００７０】また、Ｌｎ₂Ｏ₃を構成するＬｎがＰｒであ
れば、不良の発生をより低減でき、不良発見をより容易
化でき、さらに、磁気ディスクや光磁気ディスクに加工
された場合の磁化特性に与える影響をより低減できるこ
とから、ガラス基板の品質をより向上することができ
る。

【００７１】ただし、Ｌａ以外の希土類元素、すなわち
Ｐｒ、Ｎｄ、Ｓｍ、またはＥｕは、ガラス基板の熱膨張
係数の変化にあまり影響しないため、不良の発生の低
減、不良発見の容易化、さらに、磁気ディスクや光磁気
ディスクに加工された場合の磁化特性に与える影響の低
減の面におけるガラス基板の品質の向上が必要ない場合
には、希土類元素としてＰｒ、Ｎｄ、Ｓｍ、またはＥｕ
を含有させない構成にできる。さらに、ガラス基板の機
械的強度を化学強化や結晶化によって得る場合には、希
土類元素をガラス基板に含有させない構成にできる。

【００７２】さらに、３０℃〜１００℃の温度範囲で測
定される熱膨張係数が７３×１０⁻ ^７／℃以上８６×１
０^−７／℃以下であり、波長３００ｎｍ〜７００ｎｍの
可視光における透過率が５０％以上８５％以下であり、
１ｋＯｅの磁界を印加したときの磁化が３×１０^−３ｅ
ｍｕ／ｃｃ以下である情報記録ディスク用ガラス基板と
する。このようなガラス基板とすることでも、ガラス基
板の品質を向上でき、かつガラス基板の熱膨張係数を適
正化できる。

【００７３】さらに、本発明を適用してなる情報記録デ
ィスク用ガラス基板を用いた情報記録ディスクでは、ガ
ラス基板の熱膨張係数が適正化されてトラックずれなど
が生じ難いため、情報記録ディスクとしての信頼性を向
上できる。

【００７４】

【発明の効果】本発明によれば、情報記録ディスク用ガ
ラス基板の熱膨張係数を適正化することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明を適用してなる情報記録ディスク用ガラ
ス基板の一実施形態の平面図である。

【図２】本発明を適用してなる情報記録ディスク用ガラ
ス基板の一実施形態の断面図である。

【図３】本発明を適用してなる情報記録ディスク用ガラ
ス基板を用いた磁気ディスクを備えた磁気ディスク装置
の概略構成を示す斜視図である。

【符号の説明】

１情報記録ディスク用ガラス基板３貫通穴５チャンファー部

フロントページの続き (72)発明者内藤孝茨城県日立市大みか町七丁目１番１号株式会社日立製作所日立研究所内 (72)発明者本田光利茨城県日立市大みか町七丁目１番１号株式会社日立製作所日立研究所内Ｆターム(参考） 4G059 AA09 AC30 DA05 DA07 DB02 EA11 EB04 GA02 GA04 4G062 AA18 BB01 CC01 DA06 DB04 DC01 DC02 DC03 DE01 DE02 DE03 DF01 EA04 EB04 EC04 ED01 ED02 ED03 ED04 EE01 EE02 EE03 EE04 EF01 EF02 EF03 EF04 EG01 EG02 EG03 EG04 FA01 FB01 FC01 FD01 FE01 FF01 FG01 FH01 FJ01 FK01 FK02 FK03 FL01 GA01 GB01 GC01 GD01 GE01 HH01 HH03 HH05 HH07 HH09 HH11 HH13 HH15 HH17 JJ01 JJ03 JJ05 JJ07 KK02 KK04 KK05 KK07 MM27 NN29 NN40 5D006 CB04 CB07

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】重量百分率で、５０％以上７０％以下のＳｉＯ₂と、１０％以上２５％以下のＡｌ₂Ｏ₃と、０％以上５％未満のＢ₂Ｏ₃と、１３％を超え１８％未満のＲ₂Ｏ（Ｒはアルカリ金属元
素を表す）とを含む情報記録ディスク用ガラス基板。
【請求項２】重量百分率で、５０％以上７０％以下のＳｉＯ₂と、１０％以上２５％以下のＡｌ₂Ｏ₃と、０％以上５％未満のＢ₂Ｏ₃と、１３％を超え１８％未満のＲ₂Ｏ（Ｒはアルカリ金属元
素を表す）と、１％以上８％以下のＬｎ₂Ｏ₃（ＬｎはＰｒ、Ｎｄ、Ｓ
ｍ、またはＥｕを表す）とを含む情報記録ディスク用ガ
ラス基板。
【請求項３】重量百分率で１０％以下のＺｎＯを含む
ことを特徴とする請求項１または２に記載の情報記録デ
ィスク用ガラス基板。
【請求項４】重量百分率で１２％以下のＲeＯ（Ｒeは
アルカリ土類金属元素を表す）を含むことを特徴とする
請求項１乃至３のいずれか１項に記載の情報記録ディス
ク用ガラス基板。
【請求項５】重量百分率で７％以下のＬａ₂Ｏ₃を含む
ことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載
の情報記録ディスク用ガラス基板。
【請求項６】前記Ｌｎ₂Ｏ₃を構成するＬｎがＰｒであ
ることを特徴とする請求項２乃至５のいずれか１項に記
載の情報記録ディスク用ガラス基板。
【請求項７】３０℃〜１００℃の温度範囲で測定され
る熱膨張係数が７３×１０^−７／℃以上８６×１０^−７
／℃以下であり、波長３００ｎｍ〜７００ｎｍの可視光
における透過率が５０％以上８５％以下であり、１ｋＯ
ｅの磁界を印加したときの磁化が３×１０^−３ｅｍｕ／
ｃｃ以下である情報記録ディスク用ガラス基板。
【請求項８】請求項１乃至７のいずれか１項に記載の
情報記録ディスク用ガラス基板と、該ガラス基板の表面
上に直接または他の層を介して形成される情報記録層と
を有する情報記録ディスク。