JP2002255585A - 情報記録ディスク用ガラス基板及びそのガラス基板を用いた情報記録ディスク - Google Patents
情報記録ディスク用ガラス基板及びそのガラス基板を用いた情報記録ディスクInfo
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Abstract
ガラス基板を提供する。 【解決手段】 重量百分率で、50%以上70%以下の
SiO2と、10%以上25%以下のAl2O3と、0%
以上5%未満のB2O3と、13%を超え18%未満のR
2O(Rはアルカリ金属元素を表す)と、1%以上8%
以下のLn2O3(LnはPr、Nd、Sm、またはEu
を表す)とを含む構成とする。これにより、ガラス基板
の熱膨張係数と貫通穴3に嵌合して情報記録ディスクを
支持するスピンドルの熱膨張係数との差を低減し、ガラ
ス基板の熱膨張係数をトラックずれなどの問題が生じ難
い適正な範囲にすることができる。
Description
用のガラス基板に係り、特に、磁性ディスクなどに好適
なガラス基板に関する。
ルコンピュータ用の情報記録媒体として、さらにはデジ
タル信号で配信される映像を一時的に保管する家庭用の
サーバーとして磁気ディスク装置や、携帯性のある情報
記録媒体として光磁気ディスクや光ディスクなどが用い
られている。
板として汎用向けやデスクトップ型のパーソナルコンピ
ューター用途には3.5インチサイズのアルミニウム基
板が、また持ち運び可能なノート型のパーソナルコンピ
ューター用には主に2.5インチサイズのガラス基板が
用いられてきた。このガラス基板は、アルミニウム基板
に比べ硬くて変形し難く、かつ表面平滑度が優れてい
る。このため、汎用型の3.5インチサイズや3インチ
サイズの基板にもアルミニウム基板に代えてガラス基板
が適用されるようになってきている。また、1.8イン
チサイズや1インチサイズといった小型携帯端末用の情
報記録装置にもガラス基板が適用されようとしている。
する大容量化の要請が強まっており、近年では年率10
0%の割合でその記憶容量が増大している。このような
記憶容量の増大に対応するには、ディスクに記録する情
報の高密度化に伴い記録部のヘッドの浮上量をより低く
する必要がある。したがって、ディスクの記録面がより
平滑な情報記録ディスクの開発が必要であることから
も、情報記録ディスクの基板へのガラス基板の適用が拡
大している。
基板では、熱膨張係数の適正化が考慮されているとは言
い難い。そのため、従来のガラス基板を用いる情報記録
ディスクとこの情報記録ディスクを支えるスピンドルな
どとの間の熱膨張係数の不整合から、情報記録ディスク
への情報の記録や読み出しなどにおいてトラックずれが
生じることが懸念される。これは今後の大容量化に伴う
トラックの高密度化から、より重大な課題になると考え
られる。したがって、ガラス基板やスピンドルが熱膨張
したときにトラックずれなどを生じないように、ガラス
基板の熱膨張係数を適正化することが望まれている。
ス基板の熱膨張係数を適正化することにある。
ク用ガラス基板は、重量百分率で、50%以上70%以
下のSiO2と、10%以上25%以下のAl2O3と、
0%以上5%未満のB2O3と、13%を超え18%未満
のR2O(Rはアルカリ金属元素を表す)とを含む構成
とすることにより上記課題を解決する。
満のB2O3と、13%を超え18%未満のR2O(Rは
アルカリ金属元素を表す)とすることにより、ガラス基
板やスピンドルが熱膨張したときにトラックずれなどを
生じないように、情報記録ディスク用ガラス基板の熱膨
張係数を適正化できる。
を含む構成、重量百分率で12%以下のReO(Reはア
ルカリ土類金属元素を表す)を含む構成、そして重量百
分率で7%以下のLa2O3を含む構成とすれば、情報記
録ディスク用ガラス基板の熱膨張係数を上昇させること
により情報記録ディスク用ガラス基板の熱膨張係数を適
正化できるので好ましい。
質である割れ易さ、かけ易さ、そしてクラックの入り易
さなどの問題を有している。このようなガラスの割れ易
さなどの問題を解決するため、ガラス基板に化学強化
や、結晶化などを行っている。しかし、化学強化された
非晶質のガラス基板では、化学強化の工程におけるアル
カリイオンの置換によってガラス基板の表面が荒れてし
まうため、平滑性が失われ、将来のヘッド浮上量の低化
に対応することが難しい。さらに、化学強化されたガラ
ス基板の表面は、置換されたイオン半径の大きいアルカ
リイオンが化学的に不安定であるため、生産工程中のガ
ラス基板の洗浄工程や、ガラス基板表面への成膜工程な
どにおける加熱処理などにおいてアルカリイオンが基板
表面に移動して析出し、ガラス基板表面などに形成され
た膜または層の剥がれや粘着などの不良や、ガラス基板
表面などに形成された磁性膜などの磁気特性の劣化など
を生ずることが懸念される。加えて、情報記録ディスク
の長期間の使用や、高温多湿環境のもとでの保存などに
おいても、膜または層の剥がれや粘着などの不良を生ず
ることや、アルカリイオンがガラス基板表面に移動して
析出し、磁性膜などの磁気特性が劣化することが懸念さ
れる。
スの中に結晶質の微粒子が生成している状態になってお
り、この非晶質部分と結晶部分との硬度差により研磨速
度が異なるため、情報記録ディスクに求められている高
密度化に対応できるような十分な平滑性を持った記録面
を作り難いという問題があった。
板の問題を解決するため、発明者らは、特開平10−0
83531号公報などに、ガラス基板に希土類イオンを
含有させることにより機械的強度を向上することを提案
している。これにより、化学強化や結晶化しなくても十
分な強度のガラス基板が得られるため、ガラス基板や、
このガラス基板を用いた情報記録ディスクの製造または
加工工程におけるガラス基板表面の荒れや、情報記録デ
ィスクの長時間の使用や保存などによるガラス基板表面
の荒れなどが起こらず、ガラス基板表面の十分な平滑性
を保つことができる。すなわち、情報記録ディスクに求
められている高密度化に対応できるような十分な平滑性
を持った記録面を有するガラス基板を作ることができ
る。
などに提案した希土類イオンを含むガラス基板では、ガ
ラス基板や情報記録ディスクの生産時における不良品発
生の抑制、不良品の発見、さらに、化学的耐久性や、磁
気ディスク装置や光磁気ディスクなどに加工した場合に
必要な磁気特性などが十分に考慮されているとは言い難
く、これらの観点からの情報記録ディスク用ガラス基板
としての品質の向上が求められている。
0%以下のSiO2と、10%以上25%以下のAl2O
3と、0%以上5%未満のB2O3と、 13%を超え18
%未満のR2O(Rはアルカリ金属元素を表す)と、1
%以上8%以下のLn2O3(LnはPr、Nd、Sm、
またはEuを表す)とを含む構成とする。
下のLn2O3(LnはPr、Nd、Sm、またはEuを
表す)により、ガラス基板を適度に着色し、かつ適度な
透過率にできるため、ガラス基板中の気泡やその他の混
入物を目視により発見し易くなる。さらに、ガラス基板
の加工や洗浄工程、そして情報記録ディスクの加工工程
などにおいてガラス基板が視認し易いため、ガラス基板
に傷をつけるなどの加工不良などを抑制できる。加え
て、ガラス基板を磁気ディスク装置や光磁気ディスクな
どに用いる場合には、ガラス基板の磁化量を低減し、磁
気特性のばらつきを低減することができる。したがっ
て、ガラス基板や情報記録ディスクの生産時における不
良の発生などを抑制でき、さらに磁気特性のばらつきを
低減することができるため、情報記録ディスク用ガラス
基板の品質を向上できる。すなわち、情報記録ディスク
用ガラス基板の熱膨張係数を適正化でき、かつ情報記録
ディスク用ガラス基板の品質を向上できる。
る構成とすれば、情報記録ディスク用ガラス基板の品質
をさらに向上できるので好ましい。
定される熱膨張係数が73×10− 7/℃以上86×1
0−7/℃以下であり、波長300nm〜700nmの
可視光における透過率が50%以上85%以下であり、
1kOeの磁界を印加したときの磁化が3×10−3e
mu/cc以下である情報記録ディスク用ガラス基板と
する。このような情報記録ディスク用ガラス基板とすれ
ば、ガラス基板の熱膨張係数を適正化でき、かつガラス
基板の品質を向上できる。
ィスク用ガラス基板と、このガラス基板の表面上に直接
または他の層を介して形成される情報記録層とを有する
情報記録ディスクとすれば、ガラス基板の熱膨張係数を
適正化できることにより、情報記録ディスクとしての信
頼性を向上できる。
記録ディスク用ガラス基板の一実施形態について図1乃
至図3を参照して説明する。図1は、本発明を適用して
なる情報記録ディスク用ガラス基板の概略構成を示す平
面図である。図2は、本発明を適用してなるガラス基板
を用いた磁気ディスクの概略構成を示す断面図である。
図3は、本発明を適用してなるガラス基板を用いた磁気
ディスクを備えた磁気ディスク装置の概略構成を示す斜
視図である。
板1は、図1に示すように、直径65mmφ、厚さ0.
635mmの2.5インチ型の円板状のディスクであ
り、中央部には、情報記録ディスクとして用いるときに
記録や、読み出しまたは再生などを行う装置のモーター
などに連結されたスピンドルなどにディスクを内周チャ
ックなどにより固定するための直径20mmφの円形の
貫通穴3が形成されている。また、この内周面及び外周
面の両縁角部は、削り取られて45度の面取りがなされ
ており、チャンファー部5となっている。
ように行う。目的のガラス組成になるように定められた
量の原料粉末を秤量して混合し、白金製の坩堝に入れ
て、電気炉中で1600℃で溶解する。原料が十分に溶
解した後、攪拌羽を坩堝内のガラス融液に挿入し、約4
時間攪拌する。その後、攪拌羽を取り出し、30分間静
置した後、鋳型にガラス融液を流し込むことによって直
径約70mmφ、厚さ約1mmのガラスブロックを得
た。得られたガラスブロックは、このガラスのガラス転
移点付近まで再加熱され、徐冷されることで歪み取りが
行われる。
周とが同心円となるようにコアドリルを用いて切り出
す。さらに、内周面と外周面の両縁角部をダイヤモンド
砥石により面取り加工し、チャンファー部5を形成す
る。これにより、穴3を有するディスク状のガラス基板
1の概形が形成される。その後、ガラス基板1の両面
は、粗研磨され、次いでポリッシングが行われる。ポリ
ッシング後、ガラス基板1は、洗浄剤、純水で洗浄さ
れ、情報記録ディスク用ガラス基板1となる。以上のよ
うに本発明の情報記録ディスク用ガラス基板1では、化
学強化や結晶化処理のような強化処理を施していない。
板1を用いて形成される情報記録ディスクの1例とし
て、磁気ディスクの作成について説明する。磁気ディス
ク7は、図2に示すように、本実施形態のガラス基板1
の表面つまり記録面上に順次形成された粒径制御層9、
配向制御層11、磁性膜13、保護膜15、そして潤滑
膜17などで構成されている。粒径制御層9は、磁性膜
13の粒径を制御し、配向制御層11は、磁性膜13の
配向を制御する。本例では、粒径制御層9は、NiAl
系の合金膜を20nmの膜厚で成膜している。配向制御層
11は、CrMo系の合金膜を10nmの膜厚で成膜して
いる。情報記録層となる磁性膜13は、CoCrPrB
系の磁性膜を20nmの膜厚で成膜している。保護膜15
は、Cを4nmの膜厚で成膜している。これらの層または
膜は、すべてスパッタリング法を用いて成膜した。また
潤滑膜17は、スパッタ終了後、塗布法によって形成し
た。
の情報記録ディスク用ガラス基板1と、ガラス基板1に
磁性膜13などを形成した磁気ディスク7の特性、生産
性などを評価し、ガラス基板1の品質を向上するための
ガラス組成の検討を行った。
し、色々な組成のガラスを作製した。表1に、ガラスの
組成と、それらのガラスの組成に対するガラス基板及び
磁気ディスクの特性を示す。
一量のアルミノホウケイ酸ガラスとした。含有させる希
土類酸化物の量はいずれも2.8重量%と一定にした。
ガラス基板の特性として、マイクロビッカース硬さ、可
視光の透過率、着色性、及びガラス基板の歩留まりを評
価した。マイクロビッカース硬さは、荷重500g、荷
重印加時間15秒の条件でガラス基板に荷重を印加し、
10点の平均値として求めた。可視光の透過率は、分光
光度計を用いて300nmから700nmまでの波長の
分光透過率曲線より透過率スペクトルを測定し、この波
長範囲の光の全透過率の積分値として求めた。着色性は
目視により着色の程度を評価し、無色のものは×、着色
しているものは○とした。歩留まりの評価は、ガラス基
板をレーザー光照射による散乱光により異物数を検査す
る装置により評価し、気泡、研磨傷、かけ、表面異物な
どの不良がディスク片面当たり20個以上のものを不良
としてカウントし、不良でないものの割合で評価した。
化の標準偏差、記録再生特性、及び磁気ディスクの歩留
まりを評価した。さらに、ガラス基板への加工前のガラ
スブロックの作製から磁気ディスクの作製に至るまでの
総合歩留まりを評価した。磁化及び磁化の標準偏差は、
B−H曲線を振動試料型磁力計(VSM)によって測定
し、磁性膜のヒステリシスループのバックグラウンド成
分をガラス基板からの磁性とし、そのバックグラウンド
成分の大きさを評価した。なお、磁化及び磁化の標準偏
差は、磁界として1kOe印加したときの磁化の大きさ
である。
価した。記録再生特性評価に用いた磁気ディスク装置1
8は、図3に示すように、磁気ディスク7、スピンドル
19、図示していないスピンドルモーター、磁気ヘッド
21、磁気ヘッドのアーム23、ヘッドを駆動するため
のボイスコイルモーター25、筐体27などで構成され
ている。筐体27には、図示していないスピンドルモー
ターとボイスコイルモーター25などが固定されてい
る。図示していないスピンドルモーターには、スピンド
ル19が連結されており、スピンドル19には磁気ディ
スク7が固定されている。磁気ディスク7は、図示して
いないスピンドルモーターの駆動によるスピンドル19
の回転によって、全体が回転する。一方、ボイスコイル
モーター25には、アーム23が取りつけられており、
アーム23の先端部には、磁気ヘッド21が取りつけら
れている。磁気ヘッド21は、ボイスコイルモーター2
5の駆動によるアーム23の移動によって、所定の浮上
量で磁気ディスク7の記録面上を移動する。
な組成のガラス基板を用いて形成した磁気ディスクを搭
載し、20Gb/in2に相当する磁気信号を記録して
磁気記録再生特性を評価した。この評価を150枚の磁
気ディスクに対して行い、十分な記録再生特性が得られ
たものの割合を磁気ディスク歩留まりとした。さらに、
ガラス基板の歩留まりと磁気ディスクの歩留まりとから
総合歩留まりを評価した。総合での歩留まりが80%未
満のものを×、80%以上90%未満のものを○、90
%以上のものを◎とした。
いて、マイクロビッカース硬さは、いずれの希土類元素
を含むガラス基板でも約650以上が得られており、良
好であることが分かった。また、可視光の透過率は、い
ずれの希土類元素を含むガラス基板でも80%以上であ
った。希土類元素のうちNd、Pr、Sm、Eu、H
o、Erのいずれか1つを含むガラス基板は、可視光域
に希土類のf−f遷移に起因するシャープな吸収が見ら
れた。このため、他の希土類元素を含むガラス基板に比
べて透過率は、若干低い。しかし、Nd、Pr、Sm、
Eu、Ho、Erの鋭い吸収のため、希土類元素のうち
Nd、Pr、Sm、Eu、Ho、Erのいずれか1つを
含むガラス基板では、明確な着色が見られた。白熱灯下
での目視観察による評価では、Prは黄緑、Ndは紫
色、Sm、Euは非常に淡いがそれぞれ黄色と桃色に着
色しているのが見られた。また、Er、Hoも桃色に着
色していた。他の希土類元素を含むガラス基板は、無色
であり、着色は見られなかった。
りを評価すると、明瞭な着色の見られたPr、Nd、H
o、Erでは加工や洗浄時などに起こる不良、つまり傷
などの損傷による不良が着色していないものに比べて少
なく、歩留まりが95%以上となった。これは、着色し
たガラス基板は、加工工程や洗浄工程などにおいて透明
なガラス基板よりも目視確認し易いため、取扱いが容易
なことからガラス基板に処理作業中に誤って傷をつける
などガラス基板の損傷の発生を抑制できることにより、
歩留まりが向上したと考えられる。
Niを含有する着色性の高いガラス基板について評価し
たところ、このNiを含有する基板は、透過率が47%
と低く、ガラス中に存在する気泡、またはガラス基板の
原料の熔融時に坩堝を構成する成分つまり炉材のガラス
中への溶損などを発見することが難しく、ガラス基板の
表面に気泡や炉材などが残存することにより歩留まりが
低かった。
ディスクの歩留まりとの間に明瞭な相関関係が見られ
る。透過率が50%未満となると、ガラス基板中に残存
する気泡や炉材の混入が発見し難く、歩留まり低下の要
因となる。また、ガラス基板の透過率が85%を越える
と、ガラス基板が視認し難くなるため、加工や洗浄作業
においてガラス基板の取扱いが難しくなり、誤って傷を
付けてしまうなどの加工不良が増加する。したがって、
ガラス基板の透過率は、視認するのに十分に着色され、
かつガラス基板中に残存する気泡や炉材の混入を発見し
易い、つまり不良を発見しやすいガラス基板を得る上
で、50%以上85%以下とする必要がある。さらに、
このような光学的な特性を達成するためにガラス基板に
添加する希土類元素は、Pr、Nd、Sm、Eu、E
r、またはHoが好ましいことが分かった。このうち、
Pr、Nd、Er、またはHoであれば着色が顕著であ
るためより好ましい。
特性において、磁化の特性は、希土類元素のうちSc、
Y、Laのいずれか1つを含むガラス基板を用いて形成
した磁気ディスクでは、ガラス基板の磁化の大きさが1
0−4emu/ccのオーダーであり、他の希土類元素
を含むガラス基板を用いて形成した磁気ディスクに比べ
て、極めて小さい磁化量であった。希土類元素としてS
mを含むガラス基板を用いて形成した磁気ディスクで
は、磁化は反磁性的な挙動を示しており、−4×10
−4emu/ccとなった。希土類元素としてPr、N
d、Euのいずれか1つを含むガラス基板を用いて形成
した磁気ディスクでは、1.0〜3.0×10 −3emu
/ccのオーダーであった。
o、Er、Tm、Ybのいずれか1つを含むガラス基板
を用いて形成した磁気ディスクでは、5×10−3〜2
×10 −2emu/ccと、磁化の値が他の希土類元素
を含む場合に比べて大きくなっていた。磁化の固体差を
示す磁化の標準偏差を評価したところ、磁化の大きさの
大きいものほど磁化の標準偏差が大きくなっていた。こ
れは、磁化の大きさの大きいものほどガラス基板による
磁化のばらつきが大きくなっていることを示す。特に、
磁化の大きさが3×10−3emu/ccを超えるG
d、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Ybのいずれか1
つを希土類元素として含むガラス基板を用いた磁気ディ
スクでは、磁化の標準偏差が1×10−3emu/cc
以上となり、ガラス基板による磁気特性のばらつきが大
きくなった。
留まりを見ると、磁化が3×10− 3emu/cc以下
で、磁化の標準偏差が1×10−3emu/cc未満の
磁気ディスクでは、十分な磁気特性の得られる磁気ディ
スクが90%以上と良好であった。しかし、磁化が3×
10−3emu/ccを超え、かつ磁化の標準偏差が1
×10−3emu/cc以上となる磁気ディスクでは、
歩留まりが80%以下と低下していることが分かった。
これは、ガラス基板に含有される希土類元素の僅かな固
体差によってガラス基板の磁気特性が変化し、これによ
り標準偏差が大きくなったため、一定の磁界で記録した
際の記録にばらつきが生じたものと考えられる。
emu/cc以下であれば磁気記録再生のばらつきが比
較的小さい磁気ディスクが得られた。磁化の大きさが3
×10−3emu/ccを超えると磁気記録再生特性の
ガラス基板毎のばらつきが大きくなるため、好ましくな
い。したがって、ガラス基板が磁気ディスクの磁化に与
える影響を低減する上で、磁化の大きさが3×10−3
emu/cc以下にすることが必要である。さらに、こ
のような磁気特性を得る上で、希土類元素としてSc、
Y、La、Pr、Nd、Sm、Euのいずれか1つをガ
ラス基板に含有させることが好ましい。
磁気特性が磁気ディスク装置の記録再生特性に及ぼす影
響を考慮して総合歩留まりを評価した。その結果、ガラ
ス基板の歩留まりに与える影響、及び磁気特性が記録再
生特性に及ぼす影響ともに十分な結果を示し、総合歩留
まりが80%以上となったPr、Nd、Sm、Euのう
ちのいずれか1つを希土類元素として含むガラス基板と
すれば、ガラス基板の品質を向上できる。さらに、総合
歩留まりが90%となるPrを希土類元素として含むガ
ラス基板とすれば、ガラス基板の品質をより向上するこ
とができる。
物の添加量の関係について調べた。着色に関して、表1
で透明であった希土類元素を含むガラス基板では、希土
類元素の含有量を増減させてもガラス基板の透過率に変
化は見られなかった。このため、ガラス基板を着色させ
た希土類元素のうち、Pr、Er、Smについて、その
含有量を変化させたガラス基板を作製し、表1と同様の
検討を行った。表2に、その検討した結果を示す。
7のPr2O3を0.7重量%含有するガラス基板で
は、マイクロビッカース硬さが低く、ガラスの機械的強
度が低いため、研磨傷やかけなどの不良が多く、ガラス
基板の歩留まりが82%と低かった。Pr2O3を1重
量%含有する試料No.16、及びPr2O3を1.5
〜7重量%含有する試料No.18〜21では、マイク
ロビッカース硬さは高い値を示しており、着色、磁気特
性ともに十分であった。この事から、試料No.16、
及び試料No.18〜21のガラス基板は、総合歩留ま
りも90%を超えており、良好な結果となった。
含有量が7重量%を超えるものでは、着色に関しては問
題無いものの、磁気ディスクの磁化が3×10−3em
u/ccを超える値となった。このため、磁化のばらつ
きが大きくなり、磁気ディスクの歩留まりが80%を下
回り十分な結果が得られなかった。さらに、試料No.
23のようにPr2O3含有量が10.5重量%のガラ
ス基板では、ガラス中の希土類元素が均一にガラス中に
溶解せず、不良品数が増大し、歩留まりが15%と低い
ため、ガラス基板としては好ましくなかった。
基板では、Er2O3含有量が0.5重量%の試料N
o.25では、マイクロビッカース硬さが小さいため、
十分な強度のガラス基板が得られず、ガラス基板の歩留
まりが悪かった。このとき、磁気ディスクの磁化の値が
3.1×10−3emu/ccと高く、磁気ディスクと
しての歩留まりも低下していた。Er2O3含有量を1
重量%から増加させていくと、マイクロビッカース硬さ
も高くなると共に、透過率が低くなるため、ガラス基板
の歩留まりは上昇するものの、磁化が依然として3×1
0−3emu/ccを超えるため、磁気ディスクの歩留
まりが悪かった。このように、希土類元素としてErを
用いた場合では、ガラス基板としての硬さや光学特性、
磁気ディスクとしての磁気特性の両方を同時に満たす組
成範囲が存在しないことが分かった。
基板では、ガラス基板の光学的特性については、Sm2
O3含有量が2.5重量%以上であると透過率が85%
以下で適正な範囲となった。磁気ディスクとしての磁気
特性は、Sm2O3を10重量%含有させても適正であ
ったが、Sm2O3の含有量が10重量%を超えるとP
rの場合と同様にガラス中に残存原料が残るため好まし
くなかった。
oを含有させたガラス基板について検討を行ったとこ
ろ、Nd、Euについては、Smと同様の結果が得られ
たが、NdまたはEuの含有量が8重量%を越えると磁
気ディスクとしての磁気特性が低下し好ましくなかっ
た。Hoについては、希土類元素としてErを含むガラ
ス基板と同じく、ガラス基板の光学的特性と磁気ディス
クとしての磁気特性の両者を同時に満たす組成範囲が存
在しなかったたため、好ましい結果が得られなかった。
d、Sm、Euを含有させ、含有させる希土類酸化物の
濃度を1重量%以上8重量%以下にすることにより、ガ
ラス基板の光学的特性において、ガラス基板の視認性を
向上してガラス基板の加工時などに生じる傷やかけなど
の不良の発生を低減し、また、品質検査などにおけるガ
ラス基板中の気泡、脈理、異物、傷、かけなどの不良の
発見を容易にできる。さらに、磁気ディスクや光磁気デ
ィスクとした場合の磁気特性において、ガラス基板の磁
化を低減できるため、磁気ディスクや光磁気ディスクに
加工された場合の磁化特性に与えるガラス基板の影響を
低減できる。したがって、ガラス基板の品質を向上でき
る。
その希土類酸化物の濃度を1.5重量%以上5.2重量%
以下とすれば、総合歩留まりが90%以上となり、ガラ
ス基板の品質を一層向上できる。
れか1つを含ませる場合以外の場合で、希土類元素とし
てSmを含ませる場合には、その希土類酸化物の濃度が
2.5重量%以上9重量%以下、希土類元素としてEu
を含ませる場合には、その希土類酸化物の濃度が2.5
重量%以上8重量%以下とすることもできる。
m、Euの含有量が1重量%よりも少ないと、ガラス基
板のマイクロビッカース硬さなどで示される機械的強度
が低下したり、透過率が高くなり過ぎ、ガラス基板の歩
留まりが低下する。すなわち、ガラス基板の傷やかけな
どによる不良が増大することとなり、ガラス基板の品質
の低下を招く結果となった。一方、希土類元素の含有量
が8重量%よりも多いと、ガラス基板の磁化の値が増大
し、磁気ディスクや光磁気ディスクに加工された場合に
磁気ディスクや光磁気ディスクの磁化特性のばらつきを
増大させてしまい、ガラス基板とこのガラス基板を用い
た磁気ディスクや光磁気ディスクの品質を低下させてし
まうため好ましくない。さらに、希土類元素の含有量が
8重量%よりも多いと、ガラス中に原料が残存するばあ
いがあるため、ガラス基板の品質が低下し好ましくな
い。
て適切なガラス組成について検討するため、ガラスの安
定性、熱膨張係数、ガラス基板表面のマイクロビッカー
ス硬度、円環強度、熱サイクル試験について検討した結
果を表3に示す。表3に示す各試料において、添加する
希土類元素としてPrを用いた。なお、表3のガラス組
成の中で、R2OとはLi2O、Na2O、そしてK2
Oを合わせた全アルカリ金属酸化物の含有量を示す。
理、異物などが顕著に見られたものは×とし、気泡、脈
理、異物などが見られず、清澄で均質なガラスが得られ
た場合は○とした。熱膨張係数は、各試料の組成に対応
するガラスブロックを作製し、4mm×4mm×15m
mの熱膨張測定用試験片を切り出し、熱膨張測定装置を
用いて測定した。このとき、測定温度範囲は、30℃〜
100℃とした。円環強度は、試料となる2.5″のガ
ラス基板の上面側に、外径22mmφの円環状の部材を
載せ、ガラス基板の下面側に内径63mmφ、外径65
mmφの円環状の部材を設置した後、これらの円環状の
部材に荷重をかけてガラス基板の破壊強度を測定した。
を用いて前述と同様に磁気ディスクを作製し、作製した
磁気ディスクを図3に示すような磁気ディスク装置に搭
載して実施した。熱サイクル試験の結果は、トラックず
れによる読み取りエラーなどの問題が生じる割合が1%
以下の場合は○を、1%以上の場合は×として示した。
このとき、熱サイクルは、0℃で4時間保持した後、昇
温して65℃で4時間保持した。さらにこの後、0℃に
降温して4時間保持した。このサイクルを10回繰り返
し、その間でエラーが生じるか否かを判定した。
No.50〜55などのガラス基板により検討した。S
iO2の含有量が49.5重量%のNo.52ガラス基板
では、マイクロビッカース硬度、円環強度が十分でな
く、情報記録ディスク用ガラス基板として十分な品質で
はなかった。しかし、試料No.51に示すようにSi
O2の含有量がが50重量%であれば、マイクロビッカ
ース硬さが650を超えるため、ガラス基板として適切
であった。また、試料No.55のようにSiO 2の含
有量が70重量%を超えると、ガラス溶解時に気泡など
の発生が顕著になるので好ましくなかった。一方、試料
No.54のようにSiO2の含有量が70重量%で
は、気泡、脈理などの発生がなく、十分な耐水性と機械
的強度を有するガラス基板が得られた。
%以上70重量%以下とすれば、情報記録ディスク用ガ
ラス基板として十分な耐水性と機械的強度を有するガラ
ス基板を得ることができる。なお、SiO2の含有量が
50重量%未満では、マイクロビッカース強度などの機
械的強度が低下するため好ましくない。また、SiO 2
の含有量が70重量%を超えると気泡、脈理などが発生
し、清澄で均質なガラスを得難いので好ましくない。
6〜59などのガラス基板により検討した。試料No.
57のAl2O3の含有量が26重量%であるガラス基
板では、ガラスの熔融温度が高くなりすぎ、1600℃
の熔融ではガラスの原料が残存したため好ましくなかっ
た。しかし、試料No.56のAl2O3の含有量が2
5重量%のガラスでは、清澄なガラスを得ることができ
た。このとき、マイクロビッカース硬度、円環強度とも
ガラス基板として十分な値を示した。一方、Al2O3
の含有量が10重量%の試料No.58のガラス基板で
も、マイクロビッカース硬度、円環強度共にガラス基板
として十分な値を示し、かつ清澄なガラス基板が得られ
た。しかし、Al2O3の含有量が9.5重量%のNo.
59のガラス基板では、ガラス中に脈理などの不均質が
生じ、清澄なガラスを得ることができなかった。
量%以上25重量%以下とすれば、情報記録ディスク用
ガラス基板として十分な機械的強度を有し、かつ十分な
安定性を有するガラス基板、つまり清澄で均質なガラス
基板が得られた。なお、Al 2O3の含有量が10重量
%未満であると、清澄で均質なガラス基板が得られなか
った。一方、Al2O3の含有量が25重量%を超えた
ときも、ガラス中に原料成分が残存し、清澄なガラスを
得ることができなかった。
アルカリ酸化物の含有量(表中のR 2O)とガラス基板
の熱膨張係数の変化について試料No.42〜49など
により検討した。試料No.44、45のガラス基板よ
うにアルカリ金属酸化物の含有量が少ないガラスでは、
熱サイクル試験においてトラックずれによるエラーが確
認された。試料No.48、49のようにアルカリ金属
酸化物の含有量が多い場合にも同様にトラックずれによ
るエラーが生じる磁気ディスク装置が確認された。
と、試料No.44、45のガラス基板では、各々7
1.0×10−7/℃、58.3×10−7/℃となって
おり、一般的にスピンドルの材料として用いられるステ
ンレス鋼などの熱膨張係数である80×10−7/℃に
比較して小さくなっている。また試料No.48、49
のガラス基板では、各々87.4×10−7/℃、95.
1×10−7/℃となっており、スピンドルを形成する
材料の熱膨張係数に比べて大きくなっていた。したがっ
て、このようなガラス基板の熱膨張係数とスピンドルの
熱膨張係数との差が、熱サイクルによるガラス基板の熱
膨張とスピンドルの熱膨張との差となり、図1に示すよ
うな情報記録ディスク1の貫通穴3の熱膨張が図3に示
すような磁気ディスク装置18のスピンドル19の熱膨
張よりも大きくなって、貫通穴3とスピンドル19との
間の嵌合状態に不具合が生じ、トラックずれが生じたも
のと考えられる。
有するアルカリ金属酸化物に大きく依存するが、表3に
示す結果から、アルカリ金属酸化物の含有量が13.0
重量%以下となると、ガラス基板の熱膨張係数がスピン
ドルを形成する材料の熱膨張係数より小さくなり過ぎ、
熱サイクル試験においてトラックずれが生じるため好ま
しくなかった。また、18.0重量%以上になると、ガ
ラス基板の熱膨張係数がスピンドルを形成する材料の熱
膨張係数より大きくなり過ぎ、やはり熱サイクル試験に
おいてトラックずれが生じるため好ましくなかった。一
方、アルカリ金属酸化物の含有量が13.0重量%を超
え18.0重量%未満であれば、熱サイクル試験におい
てトラックずれなどの問題はほとんど生じなかった。ま
た、試料No.43のガラス基板のように熱膨張係数が
73.0×10−7/℃以上であり、試料No.47の
ガラス基板のように熱膨張係数が86.0×10−7/
℃以下であれば、熱サイクル試験でトラックずれなどの
問題はほとんど生じない磁気ディスク装置が得られた。
が13.0重量%を超え18.0重量%未満であれば、ガ
ラス基板の熱膨張係数がトラックずれなどの問題を生じ
ない適正範囲、すなわち73.0×10−7/℃以上8
6.0×10−7/℃以下となり、ガラス基板の熱膨張
係数を適正化できる。
〜63などのガラス基板より検討した。B2O3を含有
していないか、B2O3の含有量が3重量%以下である
試料No.60〜62のガラス基板は、気泡や脈理など
が少なく十分に均質であり、かつ熱膨張係数、ビッカー
ス硬度や円環強度などの機械的強度も適正な値を示し
た。一方、B2O3の含有量が5重量%である試料N
o.63のガラス基板は、熱膨張係数が小さくなって適
正範囲からはずれ、熱サイクル試験においてトラックず
れを生じる磁気ディスク装置が見られた。
%以上5重量%未満であればガラス基板の熱膨張係数を
適正化でき、熱サイクル試験においてトラックずれが生
じない。なお、表3には示していないが、B2O3の含
有量が5重量%以上であると、熱膨張係数が適正範囲外
となるため好ましくなかった。
板などのように、これまでに述べたガラス基板の組成に
MgO、CaOなどのアルカリ土類金属、またはZnO
を含有させると、いずれもガラス基板の熱膨張係数を上
昇させる効果があり、ガラス基板の熱膨張係数を適正化
する上で好ましい。MgO、CaOなどのアルカリ土類
金属では、表3には示していないが、ガラス基板への含
有量が12重量%を超えるとクラックが発生することに
より、マイクロビッカース硬度が適正な範囲にあるにも
かかわらず円環強度が低減した。したがって、アルカリ
土類金属酸化物は、含有させるとガラス基板の熱膨張係
数を上昇させる効果があるが、12重量%を超えるとガ
ラス基板の機械的強度が低下してしまう。このため、ア
ルカリ土類金属酸化物であるMgOとCaOの含有量
は、0重量%以上12重量%以下であれば、十分なビッ
カース硬度や円環強度、つまり機械的強度を有し、ガラ
ス基板の熱膨張係数を適正化したガラス基板を得ること
ができる。
ルカリ土類金属酸化物としてMgO、CaO、そしてB
aOを2種類同時に含有させたものである。表3には示
していないが、この例のように2種類以上のアルカリ土
類金属を同時にガラス基板に含有させることにより、ア
ルカリ金属元素やアルカリ土類元素のガラス基板からの
析出または溶出が抑制できる。これにより、ガラス基板
の表面に形成した磁性膜などの情報記録層の剥離などを
抑制でき、化学的な安定性を向上することができる。な
お、2種類のアルカリ土類金属をガラス基板に含有させ
る場合でも、クラックの発生を抑制する上で、含有量は
12重量%以下とする必要がある。
ス基板などに示されるように、含有量が10重量%を超
えるとガラス基板中に結晶の析出が著しくなるため好ま
しくない。ZnOの含有量が10重量%では、このよう
な結晶の析出は認められなかった。したがって、ZnO
の含有量は、0重量%以上10重量%以下であることが
好ましかった。
類元素であるLaを含有させることでも、ガラス基板の
熱膨張係数を上昇させる効果があり、ガラス基板の熱膨
張係数を適正化する上で好ましい。試料No.75〜7
7のガラス基板ようにLa2O3の含有量が7重量%以
下の場合にはガラスの脈理や気泡の発生が見られず、良
好なガラスが得られた。一方、試料No.78のガラス
基板では、熱膨張係数、マイクロビッカース硬さなどで
は十分な特性が得られたものの、ガラス基板中に脈理の
発生が見られ、十分なガラスの安定性が得られ難かっ
た。
ガラス基板に含有させると機械的強度を損なうことなく
ガラス基板の熱膨張係数を上昇させて、ガラス基板の熱
膨張係数を適正化できる。しかし、7重量%を超えてL
a2O3をガラス基板に含有させると十分なガラスの安
定性が得られ難いため好ましくない。
重量%以下のSiO2と、10重量%以上25重量%以
下のAl2O3と、0重量%以上5重量%未満のB2O
3と、13重量%を超え18重量%未満のR2O(Rはア
ルカリ金属元素を表す)とを含む構成の情報記録ディス
ク用ガラス基板とする。これにより、情報記録ディスク
用ガラス基板の熱膨張係数と情報記録ディスクの貫通穴
に嵌合されて情報記録ディスクを支持するスピンドルの
熱膨張係数との間の差が低減し、情報記録ディスク用ガ
ラス基板の熱膨張係数がトラックずれなどの問題を生じ
ない適正範囲、すなわち73.0×10−7/℃以上8
6.0×10−7/℃以下となるため、ガラス基板の熱
膨張係数を適正化できる。
成や、12重量%以下のReO(Reはアルカリ土類金属
元素を表す)を含む構成、そして重量百分率で7%以下
のLa2O3を含む構成とすることによっても、ガラス基
板の熱膨張係数を上昇させることができるため、ガラス
基板の熱膨張係数を適正化できる。また、合計で重量百
分率で12%以下の2種類以上のReO(Reはアルカリ
土類金属元素を表す)を含む構成とすれば、ガラス基板
の化学的な安定性を向上し、かつガラス基板の熱膨張係
数を適正化できる。
2O3(LnはPr、Nd、Sm、またはEuを表す)と
を含む構成とすれば、ガラス基板の視認性を向上してガ
ラス基板の加工時などに生じる傷やかけなどの不良の発
生を低減し、また、品質検査などにおけるガラス基板中
の気泡、脈理、異物、傷、かけなどの不良の発見を容易
にできる。さらに、磁気ディスクや光磁気ディスクに用
いる場合には、ガラス基板の磁化を低減できるため、磁
気ディスクや光磁気ディスクに加工された場合の磁化特
性に与えるガラス基板の影響を低減できる。したがっ
て、ガラス基板の品質を向上でき、かつガラス基板の熱
膨張係数を適正化できる。
れば、不良の発生をより低減でき、不良発見をより容易
化でき、さらに、磁気ディスクや光磁気ディスクに加工
された場合の磁化特性に与える影響をより低減できるこ
とから、ガラス基板の品質をより向上することができ
る。
Pr、Nd、Sm、またはEuは、ガラス基板の熱膨張
係数の変化にあまり影響しないため、不良の発生の低
減、不良発見の容易化、さらに、磁気ディスクや光磁気
ディスクに加工された場合の磁化特性に与える影響の低
減の面におけるガラス基板の品質の向上が必要ない場合
には、希土類元素としてPr、Nd、Sm、またはEu
を含有させない構成にできる。さらに、ガラス基板の機
械的強度を化学強化や結晶化によって得る場合には、希
土類元素をガラス基板に含有させない構成にできる。
定される熱膨張係数が73×10− 7/℃以上86×1
0−7/℃以下であり、波長300nm〜700nmの
可視光における透過率が50%以上85%以下であり、
1kOeの磁界を印加したときの磁化が3×10−3e
mu/cc以下である情報記録ディスク用ガラス基板と
する。このようなガラス基板とすることでも、ガラス基
板の品質を向上でき、かつガラス基板の熱膨張係数を適
正化できる。
ィスク用ガラス基板を用いた情報記録ディスクでは、ガ
ラス基板の熱膨張係数が適正化されてトラックずれなど
が生じ難いため、情報記録ディスクとしての信頼性を向
上できる。
ラス基板の熱膨張係数を適正化することができる。
ス基板の一実施形態の平面図である。
ス基板の一実施形態の断面図である。
ス基板を用いた磁気ディスクを備えた磁気ディスク装置
の概略構成を示す斜視図である。
Claims (8)
- 【請求項1】 重量百分率で、 50%以上70%以下のSiO2と、 10%以上25%以下のAl2O3と、 0%以上5%未満のB2O3と、 13%を超え18%未満のR2O(Rはアルカリ金属元
素を表す)とを含む情報記録ディスク用ガラス基板。 - 【請求項2】 重量百分率で、 50%以上70%以下のSiO2と、 10%以上25%以下のAl2O3と、 0%以上5%未満のB2O3と、 13%を超え18%未満のR2O(Rはアルカリ金属元
素を表す)と、 1%以上8%以下のLn2O3(LnはPr、Nd、S
m、またはEuを表す)とを含む情報記録ディスク用ガ
ラス基板。 - 【請求項3】 重量百分率で10%以下のZnOを含む
ことを特徴とする請求項1または2に記載の情報記録デ
ィスク用ガラス基板。 - 【請求項4】 重量百分率で12%以下のReO(Reは
アルカリ土類金属元素を表す)を含むことを特徴とする
請求項1乃至3のいずれか1項に記載の情報記録ディス
ク用ガラス基板。 - 【請求項5】 重量百分率で7%以下のLa2O3を含む
ことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載
の情報記録ディスク用ガラス基板。 - 【請求項6】 前記Ln2O3を構成するLnがPrであ
ることを特徴とする請求項2乃至5のいずれか1項に記
載の情報記録ディスク用ガラス基板。 - 【請求項7】 30℃〜100℃の温度範囲で測定され
る熱膨張係数が73×10−7/℃以上86×10−7
/℃以下であり、波長300nm〜700nmの可視光
における透過率が50%以上85%以下であり、1kO
eの磁界を印加したときの磁化が3×10−3emu/
cc以下である情報記録ディスク用ガラス基板。 - 【請求項8】 請求項1乃至7のいずれか1項に記載の
情報記録ディスク用ガラス基板と、該ガラス基板の表面
上に直接または他の層を介して形成される情報記録層と
を有する情報記録ディスク。
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---|---|---|---|
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---|---|
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Country Status (1)
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---|---|
JP (1) | JP3994371B2 (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006290704A (ja) * | 2005-04-14 | 2006-10-26 | Hitachi Ltd | ガラス |
WO2007021503A1 (en) * | 2005-08-17 | 2007-02-22 | Corning Incorporated | High strain point glasses |
US7192898B2 (en) | 2003-05-29 | 2007-03-20 | Minolta Co., Ltd. | Glass composition and glass substrate |
US7396788B2 (en) | 2002-09-27 | 2008-07-08 | Minolta Co., Ltd. | Glass composition and glass substrate |
US10131567B2 (en) | 2016-01-08 | 2018-11-20 | Corning Incorporated | Chemically strengthenable lithium aluminosilicate glasses with inherent damage resistance |
US10150691B2 (en) | 2012-07-17 | 2018-12-11 | Corning Incorporated | Ion exchangeable Li-containing glass compositions for 3-D forming |
EP3696150A1 (de) * | 2019-02-14 | 2020-08-19 | Ivoclar Vivadent AG | Fluoreszierende glaskeramiken und gläser mit gehalt an europium |
Citations (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08169724A (ja) * | 1994-12-15 | 1996-07-02 | Ohara Inc | 高膨張耐熱ガラス |
JPH1029832A (ja) * | 1996-05-17 | 1998-02-03 | Ishizuka Glass Co Ltd | レーザーテクスチャ加工に適したガラス材料及びそれを用いた磁気ディスク用ガラス基板 |
JPH1083531A (ja) * | 1996-07-18 | 1998-03-31 | Hitachi Ltd | 情報記録ディスク用ガラス基板 |
JPH1179785A (ja) * | 1997-09-03 | 1999-03-23 | Tdk Corp | 薄膜磁気ヘッド |
JPH1192168A (ja) * | 1997-09-19 | 1999-04-06 | Nippon Yamamura Glass Kk | 感光性ガラスペースト用ガラス組成物 |
JPH11195216A (ja) * | 1997-12-27 | 1999-07-21 | Ishizuka Glass Co Ltd | 磁気ディスク用ガラス組成物及び磁気記録媒体用ガラスディスク基板 |
JPH11232628A (ja) * | 1997-12-12 | 1999-08-27 | Ishizuka Glass Co Ltd | 磁気ディスク用ガラス基板 |
JP2000159540A (ja) * | 1998-11-19 | 2000-06-13 | Asahi Glass Co Ltd | 情報記録媒体基板用ガラス |
JP2000322731A (ja) * | 1999-05-07 | 2000-11-24 | Ishizuka Glass Co Ltd | 情報記録媒体用ガラス基板 |
JP2001058843A (ja) * | 1999-06-08 | 2001-03-06 | Asahi Glass Co Ltd | 基板用ガラスおよびガラス基板 |
JP2001348246A (ja) * | 2000-06-01 | 2001-12-18 | Asahi Glass Co Ltd | 基板用ガラスおよびガラス基板 |
JP2002167230A (ja) * | 2000-11-28 | 2002-06-11 | Nippon Electric Glass Co Ltd | プレス成形用ガラス及び情報記録媒体用基板ガラス |
JP2002260216A (ja) * | 2001-03-01 | 2002-09-13 | Hitachi Ltd | 情報記録ディスク用ガラス基板及びそのガラス基板を用いた情報記録ディスク |
-
2001
- 2001-03-01 JP JP2001056748A patent/JP3994371B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08169724A (ja) * | 1994-12-15 | 1996-07-02 | Ohara Inc | 高膨張耐熱ガラス |
JPH1029832A (ja) * | 1996-05-17 | 1998-02-03 | Ishizuka Glass Co Ltd | レーザーテクスチャ加工に適したガラス材料及びそれを用いた磁気ディスク用ガラス基板 |
JPH1083531A (ja) * | 1996-07-18 | 1998-03-31 | Hitachi Ltd | 情報記録ディスク用ガラス基板 |
JPH1179785A (ja) * | 1997-09-03 | 1999-03-23 | Tdk Corp | 薄膜磁気ヘッド |
JPH1192168A (ja) * | 1997-09-19 | 1999-04-06 | Nippon Yamamura Glass Kk | 感光性ガラスペースト用ガラス組成物 |
JPH11232628A (ja) * | 1997-12-12 | 1999-08-27 | Ishizuka Glass Co Ltd | 磁気ディスク用ガラス基板 |
JPH11195216A (ja) * | 1997-12-27 | 1999-07-21 | Ishizuka Glass Co Ltd | 磁気ディスク用ガラス組成物及び磁気記録媒体用ガラスディスク基板 |
JP2000159540A (ja) * | 1998-11-19 | 2000-06-13 | Asahi Glass Co Ltd | 情報記録媒体基板用ガラス |
JP2000322731A (ja) * | 1999-05-07 | 2000-11-24 | Ishizuka Glass Co Ltd | 情報記録媒体用ガラス基板 |
JP2001058843A (ja) * | 1999-06-08 | 2001-03-06 | Asahi Glass Co Ltd | 基板用ガラスおよびガラス基板 |
JP2001348246A (ja) * | 2000-06-01 | 2001-12-18 | Asahi Glass Co Ltd | 基板用ガラスおよびガラス基板 |
JP2002167230A (ja) * | 2000-11-28 | 2002-06-11 | Nippon Electric Glass Co Ltd | プレス成形用ガラス及び情報記録媒体用基板ガラス |
JP2002260216A (ja) * | 2001-03-01 | 2002-09-13 | Hitachi Ltd | 情報記録ディスク用ガラス基板及びそのガラス基板を用いた情報記録ディスク |
Cited By (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7396788B2 (en) | 2002-09-27 | 2008-07-08 | Minolta Co., Ltd. | Glass composition and glass substrate |
US7192898B2 (en) | 2003-05-29 | 2007-03-20 | Minolta Co., Ltd. | Glass composition and glass substrate |
JP2006290704A (ja) * | 2005-04-14 | 2006-10-26 | Hitachi Ltd | ガラス |
WO2007021503A1 (en) * | 2005-08-17 | 2007-02-22 | Corning Incorporated | High strain point glasses |
US7612004B2 (en) | 2005-08-17 | 2009-11-03 | Corning Incorporated | High strain point glasses |
CN101243018B (zh) * | 2005-08-17 | 2013-01-23 | 康宁股份有限公司 | 高应变点玻璃 |
US10183887B2 (en) | 2012-07-17 | 2019-01-22 | Corning Incorporated | Ion exchangeable Li-containing glass compositions for 3-D forming |
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