JP2002250922A - 液晶表示装置及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 容易に液晶分子をベンド配向状態とすること
ができ、視角特性や高速応答性に優れた表示特性を有す
る液晶表示装置及びその製造方法を提供する。 【解決手段】 所定形状の溝部が形成され、溝部の長手
方向である第１のラビング方向にラビング処理が施され
た後、第１のラビング方向とは異なる第２のラビング方
向にラビング処理が施された第１の基板と、第２のラビ
ング方向と同じ方向にラビング処理が施された第２の基
板との間に液晶が充填されたパネルを含む液晶表示装置
であって、溝部が第２のラビング方向に施されるラビン
グ処理によりラビングされることがなく、第１のラビン
グ方向と第２のラビング方向のなす角が４５°よりも大
きく１３５°よりも小さい。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、画像表示を行う液
晶表示装置、特に応答特性の優れた液晶表示装置及びそ
の製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】液晶表示装置において、特に表示品位の
高い画像表示を行うために、近年薄膜トランジスタをス
イッチング素子として用いたアクティブマトリクス駆動
方式の表示装置の開発が活発に行われている。これは、
スイッチング素子を用いない単純マトリクス駆動方式の
表示装置に比べて、走査電極数に関係なく高いコントラ
スト比が得ることができ、高い解像度が要求される大容
量表示においても、鮮明な画像を得ることができるから
である。

【０００３】このようなアクティブマトリクス型の液晶
表示パネルにおいて、広く用いられている液晶表示モー
ドに、ＴＮ（Twisted Nematic）方式がある。ＴＮ方式
は、液晶層を挟持する電極基板間において、液晶分子が
９０゜捻れた構造を有して配置されているパネルを、２
枚の偏光板により挟んだ構成となっている。そして、２
枚の偏光板は互いの偏光軸方向が直交しており、一方の
偏光板はその偏光軸が一方の基板に接している液晶分子
の長軸方向と平行あるいは垂直になるように配置されて
いる。

【０００４】かかる構造を有する液晶表示パネルは、電
圧が印加されていない場合は白表示であるが、２枚の基
板間に、すなわち液晶表示パネルに対して垂直方向に電
圧を印加していくと、次第に光透過率が低下していき、
最後には黒表示となる。このような表示特性が得られる
のは、液晶表示パネルに電圧を印加すると液晶分子が捻
れ構造を解きながら電界の向きに配列しようとするから
であり、かかる液晶分子の配列状態に応じて、液晶表示
パネルを透過してくる光の偏光状態が変動し、光の透過
率が変調されることになるからである。

【０００５】しかし、同じ分子配列状態であっても、液
晶表示パネルに入射してくる光の入射方向によって透過
光の偏光状態は変化する。したがって、入射方向に応じ
て光の透過率は異なってくることになる。すなわち、液
晶表示パネルの表示特性は視角依存性を有することにな
る。

【０００６】かかる視角依存性が存在するために、主視
角方向（液晶層の中間層における液晶分子の長軸方向）
に対して視点を斜めに傾けることにより輝度の逆転現象
を引き起こすおそれも残されており、液晶表示パネルの
表示品質を高品質に維持する必要上、いかに視覚依存性
を克服するかが重要な課題の１つとなっている。

【０００７】近年、このような視角特性を改善する工夫
が盛んに行われている。かかる改善方法としては、例え
ば液晶の配向としては上述したようなＴＮ方式を用いな
がら、位相補償板を積層する方式や、一つの画素にその
液晶のＴＮ配向の向きを２つ以上持たせる配向分割方式
等が考えられている。また、液晶の配向そのものを変え
て視角特性を改善する方式として、電圧印加状態でベン
ド配向させた液晶表示パネルに光学補償フィルムを設け
たＯＣＢ（Optical Compensated Bend）方式や、ＩＰ
Ｓ（In-Plane-Switching）方式、ＶＡ(Vertical Aligne
d)方式等が考えられている。これらの中でも、ＯＣＢ方
式は、視角特性による輝度の逆転現象や、コントラスト
低下の生じない高品位な画質を維持する上で優れた方式
であると同時に、応答速度が速いというメリットを合わ
せ持った非常に効果的な方式であると考えられている。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ＯＣＢ
方式では、図４（ａ）に示すように、液晶層中心部にお
ける液晶分子が基板に垂直に配向するベンド配向状態で
画像表示をする必要があるものの、一般的に使用される
配向膜をラビング処理しただけでは、図４（ｂ）に示す
ように、液晶層中心部における液晶分子が基板に水平に
配向するスプレイ配向にしかならず、ベンド配向状態を
実現することが困難であるという問題点があった。

【０００９】これは、一般的な配向膜を用いる場合、プ
レチルト角はせいぜい１０°程度にしかならないので、
電圧が印加されない場合には、液晶層中心部における液
晶分子は基板に水平な方向に配向する方がより安定する
ことになる。したがって、スプレイ配向となってしまう
ものである。

【００１０】このようなスプレイ配向状態となっている
液晶表示パネルの両基板間に電圧を印加すると、液晶層
中心部における液晶分子は基板に垂直な方向に配向する
が、必ずしもベンド配向になるとは限らない。すなわ
ち、図４（ｃ）又は図４（ｄ）に示すように、どちらか
の基板界面付近にスプレイ歪が残留するような配向状態
となってしまうおそれが残されている。

【００１１】つまり、ベンド配向を得ようとしても、条
件によってはスプレイ歪の大きい配向状態となってしま
い、ベンド配向が有する対称な視角特性や高速応答性を
発揮することができない表示特性を有する液晶表示パネ
ルとなってしまうおそれがあるのである。

【００１２】本発明は、上記問題点を解決するために、
容易に液晶分子をベンド配向状態とすることができ、視
角特性や高速応答性に優れた表示特性を有する液晶表示
装置及びその製造方法を提供することを目的とする。

【００１３】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明にかかる液晶表示装置は、所定形状の溝部が形
成され、溝部の長手方向である第１のラビング方向にラ
ビング処理が施された後、第１のラビング方向とは異な
る第２のラビング方向にラビング処理が施された第１の
基板と、第２のラビング方向と同じ方向にラビング処理
が施された第２の基板との間に液晶が充填されたパネル
を含む液晶表示装置であって、溝部が第２のラビング方
向に施されるラビング処理によりラビングされることが
なく、第１のラビング方向と第２のラビング方向のなす
角が４５°よりも大きく１３５°よりも小さいことを特
徴とする。

【００１４】かかる構成により、所定の電圧を印加する
ことによって、溝部が形成されていない領域においても
液晶分子をベンド配向へと容易に転移させることがで
き、視角特性と高速応答性に優れたＯＣＢ方式を採用し
た液晶表示装置を提供することが可能となる。なお、当
該溝部は、表示画素ごとに形成されていることが好まし
い。

【００１５】また、上記目的を達成するために本発明に
かかる液晶表示装置は、所定の大きさを有する複数の凸
状形成物が所定の間隔で表示画素上に形成され、凸状形
成物で挟まれた隙間の長手方向である第１のラビング方
向にラビング処理が施された後、第１のラビング方向と
は異なる第２のラビング方向にラビング処理が施された
第１の基板と、第２のラビング方向と同じ方向にラビン
グ処理が施された第２の基板との間に液晶が充填された
パネルを含む液晶表示装置であって、凸状形成物で挟ま
れた隙間が第２のラビング方向に施されるラビング処理
によりラビングされることがなく、第１のラビング方向
と第２のラビング方向のなす角が４５°よりも大きく１
３５°よりも小さいことを特徴とする。

【００１６】かかる構成によっても、所定の電圧を印加
することによって、凸状形成物が形成されている領域に
おいても液晶分子をベンド配向へと容易に転移させるこ
とができ、視角特性と高速応答性に優れたＯＣＢ方式を
採用した液晶表示装置を提供することが可能となる。な
お、２つの凸状形成物が表示画素ごとに配置されること
が好ましい。

【００１７】また、上記目的を達成するために本発明に
かかる液晶表示装置は、表示画素上において、電圧を印
加しない時に液晶分子の配向状態がスプレイ配向である
第１の液晶層と、液晶分子の配向状態がツイスト配向で
ある第２の液晶層とが接する領域を有することを特徴と
する。

【００１８】かかる領域を有することで、所定の電圧を
印加することによって、表示画素上の全領域において液
晶分子をベンド配向へと容易に転移させることができ、
視角特性と高速応答性に優れたＯＣＢ方式を採用した液
晶表示装置を提供することが可能となる。

【００１９】また、本発明にかかる液晶表示装置は、第
１の基板又は第２の基板にアクティブマトリクス素子が
形成されていることが好ましい。

【００２０】次に、上記目的を達成するために本発明に
かかる液晶表示装置の製造方法は、第１の基板の一主面
上に所定形状の溝部を形成する工程と、一主面上に配向
膜を形成する工程と、第１の基板の一主面に、第１のラ
ビング方向にラビング処理を施す工程と、第１のラビン
グ方向と異なる第２のラビング方向にラビング処理を施
す工程と、第２の基板の一主面に第２のラビング方向と
同じ方向にラビング処理を施す工程と、第１の基板と第
２の基板とを、ラビング処理を施した面同士を対向さ
せ、かつ第１の基板における第２のラビング方向と第２
の基板におけるラビング方向とが同じになるように貼り
合わせる工程とを含み、溝部が第２のラビング方向に施
されるラビング処理によりラビングされることがなく、
第１のラビング方向と第２のラビング方向のなす角が４
５°よりも大きく１３５°よりも小さいことを特徴とす
る。

【００２１】かかる構成により、所定の電圧を印加する
ことによって、溝部が形成されていない領域においても
液晶分子をベンド配向へと容易に転移させることがで
き、視角特性と高速応答性に優れたＯＣＢ方式を採用し
た液晶表示装置を提供することが可能となる。

【００２２】また、上記目的を達成するために本発明に
かかる液晶表示装置の製造方法は、第１の基板の一主面
上における表示画素ごとに複数の凸状形成物を所定の間
隙をもって形成する工程と、一主面上に配向膜を形成す
る工程と、第１の基板の一主面に第１のラビング方向に
ラビング処理を施す工程と、第１のラビング方向と異な
る第２のラビング方向にラビング処理を施す工程と、第
２の基板の一主面に、第２のラビング方向と同じ方向に
ラビング処理を施す工程と、第１の基板と第２の基板と
を、ラビング処理を施した面同士を対向させ、かつ第１
の基板における第２のラビング方向と第２の基板におけ
るラビング方向とが同じになるように貼り合わせる工程
とを含み、凸状形成物で挟まれた隙間が第２のラビング
方向に施されるラビング処理によりラビングされること
がなく、第１のラビング方向と第２のラビング方向のな
す角が４５°よりも大きく１３５°よりも小さいことを
特徴とする。

【００２３】かかる構成により、所定の電圧を印加する
ことによって、凸状形成物が形成されている領域におい
ても液晶分子をベンド配向へと容易に転移させることが
でき、視角特性と高速応答性に優れたＯＣＢ方式を採用
した液晶表示装置を提供することが可能となる。

【００２４】

【発明の実施の形態】本発明の実施の形態にかかる液晶
表示装置においては、第１の基板において凹凸を有する
部分を設けることで、第２の基板におけるラビング方向
と異なる方向にラビング処理が施されている部分と、第
２の基板におけるラビング方向と同じ方向にラビング処
理が施されている部分とが存在することを特徴としてい
る。

【００２５】すなわち、第１の基板における第１のラビ
ング方向にラビング処理が施されている部分における液
晶分子の配向方向が、当該部分の真上にある第２の基板
におけるラビング方向にラビング処理が施されている部
分における液晶分子の配向方向と異なることから、かか
る部分においては、両基板間において液晶分子が捻れた
配向方向を有するツイスト配向となる。

【００２６】一方、第１の基板における第２のラビング
方向にラビング処理が施されている部分における液晶分
子の配向方向は、その部分の真上にある第２の基板にお
けるラビング方向にラビング処理が施されている部分に
おける液晶分子の配向方向と同一となることから、かか
る部分においては、両基板間において液晶分子が捻れた
配向方向を有さないスプレイ配向となる。

【００２７】したがって、これら２つの配向を有する部
分が、互いに隣接して存在し、その境界においては、デ
ィスクリネーションと呼ばれる配向の不連続線が生じる
ことになる。

【００２８】このようにツイスト配向とスプレイ配向が
隣接している状態で、液晶表示パネルに電圧を印加する
と、所定の電圧を超えるとツイスト配向を有する部分と
接しているスプレイ配向を有する部分において、ベンド
配向へと転移していくことが確認されている。

【００２９】かかるベンド配向へと転移する電圧は、液
晶材料や配向膜のプレチルト角、あるいはパネルギャッ
プに依存しているが、おおよそ液晶表示パネルの有する
配向エネルギが、スプレイ配向となる配向エネルギより
もベンド配向となる配向エネルギが低くなる電圧に等し
くなり、実際にはそれほど高い電圧を必要とすることは
なく、約５Ｖ以下で十分である。

【００３０】また、ツイスト角が小さければベンド配向
への転移が生じることがなく、少なくとも４５度以上の
角度を必要とすることが確認されている。これは、ツイ
スト角が小さすぎると、スプレイ配向と区別できず、当
該ツイスト配向をベンド配向へと転移することを促進す
ることに寄与しないためと考えられる。

【００３１】通常、電圧を印加することのみで、スプレ
イ配向をベンド配向へ転移させようとすると、たとえ配
向エネルギがベンド配向の方が低くなる電圧以上であっ
ても転移は容易には生じることなく、スプレイ歪の残留
した配向のままとなってしまう。これは、スプレイ歪の
残留した配向からベンド配向へ転移するときに、所定の
エネルギ障壁が存在することを意味している。本実施の
形態のように、スプレイ配向とツイスト配向を隣接させ
ることによって、この転移におけるエネルギ障壁を低く
する作用があるものと考えられる。

【００３２】スプレイ配向部分に電圧を印加したときの
配向状態は、図４（ｃ）及び図４（ｄ）のいずれかのよ
うに基板界面付近にスプレイ配向歪が残った状態とな
る。しかし、スプレイ歪の残っている部分の液晶分子
は、ベンド配向と１８０度反対方向となるチルトを有し
ていることがわかる。

【００３３】そして、当該反対方向の配向をしている液
晶分子をベンド配向へ再配列させる場合、図４の紙面法
線方向を軸として回転させるような、チルト角方向に回
転させる場合と、上下方向の直線を軸として回転させる
ような、ツイスト方向に回転させる場合の２つが考えら
れる。

【００３４】チルト角方向に回転させる場合、スプレイ
歪の力が働いている向きであると同時に、液晶分子の弾
性定数もスプレイ弾性定数Ｋ１１となることから比較的
大きく、ベンド配向への転移を引き起こすことは容易で
はない。

【００３５】一方、ツイスト方向に回転させる場合は、
液晶分子の弾性定数もツイスト弾性定数Ｋ２２となるこ
とからスプレイ弾性定数Ｋ１１と比べて小さく、かつス
プレイ歪の働いている方向と直交していることから、ベ
ンド配向への転移は比較的容易であることがわかる。

【００３６】以上説明したような特性を利用して、以下
の実施の形態においてベンド配向を容易に実現すること
が可能となる。

【００３７】（実施の形態１）以下、本発明の実施の形
態１にかかる液晶表示装置について、図面を参照しなが
ら説明する。図１は本発明の実施の形態１にかかる液晶
表示装置の構成図であり、図１（ａ）は本発明の実施の
形態１にかかる液晶表示装置の断面図を、図１（ｂ）及
び図１（ｃ）は、それぞれ第１の基板１０１と第２の基
板１０２の平面図を示している。なお、図１（ｂ）及び
図１（ｃ）においては、各々の基板へ施したラビング処
理の方向を矢印で示している。

【００３８】また、図２はラビング布の毛９によって基
板を擦っている概念を示した図である。本実施の形態１
では、第１の基板１０１及び第２の基板１０２として、
ガラス基板を用いた場合について説明する。

【００３９】まず、第１の基板１０１にポジ型のフォト
レジストを塗布し、幅２０μｍで線状の開口部ができる
ようなパターンをフォトリソグラフィ法により形成す
る。次に、フッ酸を用いてガラス基板を２μｍの深さに
なるまでエッチングを行い、幅２０μｍで深さ２μｍの
溝部５を形成する。その後、全面に透明電極膜であるＩ
ＴＯ２をスパッタにより形成する。なお、かかる溝部５
の形成方法としては特に上述した方法に限定されるもの
ではなく、例えばガラス基板上に光感光性のアクリル樹
脂を２μｍ形成し、この樹脂をフォトリソグラフィ法で
部分的に除去することにより同様の溝部５を形成するも
のであっても良い。

【００４０】さらに、このような溝部５は、通常の液晶
表示素子として用いられるアクティブマトリクス素子の
製造工程において得ることも可能である。この場合、ア
クティブマトリクス素子は、マトリクス状の表示画素に
各々１個ずつ形成されているが、溝部５についても各表
示画素ごとに１本ずつ形成されていることが望ましい。

【００４１】このように溝部５の形成された第１の基板
１０１の全面に、日産化学（株）製の配向膜３ＳＥ７９
９２を印刷塗布する。

【００４２】次に、線状に形成した溝部５の線方向に沿
って、第１のラビング方向６の方向にラビング処理を施
す。ラビング処理には、ラビング布における各々１本の
毛９の長さが平均１．４ｍｍで、平均直径が１８μｍで
あるレーヨン布を用いている。また、ラビング処理時に
おけるラビング布の押し込み量は０．３ｍｍ以上とし、
図２に示すように毛９の側面で基板を擦るようなラビン
グ条件としている。

【００４３】さらに第１の基板１０１には、同じラビン
グ布、同じラビング条件で、第１のラビング方向６とは
９０度の角度をなす第２のラビング方向７にラビング処
理を施す。

【００４４】上記のような条件で第１の基板１０１をラ
ビングすると、毛９の直径は溝部５の幅より小さく、ま
た溝部５の線方向に沿って毛９が進むことから、溝部５
の内部は第１のラビング方向６に擦られる。一方、第２
のラビング処理を施したときには、溝部５以外の部分
は、第１のラビング処理６が施されていても、その後に
擦られる第２のラビング方向７に液晶の配向方向は決定
されることは周知である。しかしながら溝部５の内部
は、第２のラビング処理では溝部５の線方向に直交する
方向で擦ることになることから、２０μｍの幅では毛９
が溝部５の内部に入り込むことができず、結果として第
２のラビング方向７には擦られないまま第１のラビング
方向６に擦られた状態で保持されることになる。

【００４５】ここで、本発明において重要な点は、第１
のラビング方向６におけるラビング処理で溝部５の内部
を擦り、第２のラビング方向７におけるラビング処理で
は溝部５の内部にラビング布の毛９を入り込ませないよ
うにする点にある。これを満たす条件は、溝部５の幅、
溝部５の深さ、溝部５の形状、第１のラビング方向６、
第２のラビング方向７、ラビング布の毛９の長さ、毛９
の直径、ラビング布の押し込み量等のパラメタの相関関
係に依存する。

【００４６】従って、第１のラビング方向６におけるラ
ビング処理で溝部５の内部を擦り、第２のラビング方向
７におけるラビング処理で溝部５の内部にラビング布の
毛９が入り込むことができないという条件を満たすパラ
メタであれば、上述した実施例に示すパラメタの数値で
ある必要はない。

【００４７】定性的には、溝部５は可能な限り深くし、
溝部５の幅より細い毛９を用いて溝部５の線方向に第１
のラビング処理を行い、可能な限り押し込み量を多くし
て、毛９の側面で第２のラビング処理を行うことが望ま
しい。

【００４８】さらに、ＩＴＯ２が形成されている第２の
基板１０２にも、第１の基板１０１と同じ配向膜３を印
刷して形成した後、第１の基板１０１と同じラビング布
を用いて、同じラビング条件で第２の基板におけるラビ
ング方向８、すなわち第１の基板１０１における第２の
ラビング方向７と同じ方向にラビング処理を施す。

【００４９】この第１の基板１０１と第２の基板１０２
とを、ラビング処理を施した面同士を対向させ、かつ第
１の基板１０１における第２のラビング方向７と第２の
基板１０２におけるラビング方向８とが同じになるよう
な向きでギャップが５μｍとなるように貼り合わせた
後、基板間にチッソファインケミカル（株）製の液晶Ｍ
Ｔ５５８３を注入する。

【００５０】このようにして得られた液晶表示パネルの
配向は、溝部５の部分では第１のラビング方向６が保持
されている結果、９０度のツイスト配向となっており、
溝部５以外の部分においては第２のラビング方向７が保
持されており、ツイストのないスプレイ配向となってい
ることが、偏光顕微鏡観察で確認できている。

【００５１】かかる液晶表示パネルの基板間に次第に電
圧を印加していったところ、電圧が３Ｖ付近で溝部５に
おけるツイスト配向とスプレイ配向との境界部分からベ
ンド配向へと転移が生じ、さらに電圧が５Ｖ以上となる
と急速にベンド配向がスプレイ配向領域に広がってい
き、ついには電圧を印加しない状態ではスプレイ配向領
域だった部分の全ての領域がベンド配向へと転移してい
った。したがって、本実施の形態１の手順によって、確
実かつ容易にベンド配向へと転移できることが確認でき
た。

【００５２】以上のように本実施の形態１によれば、所
定の電圧を印加することによって、溝部が形成されてい
ない領域においても液晶分子をベンド配向へと容易に転
移させることができ、視角特性と高速応答性に優れたＯ
ＣＢ方式を採用した液晶表示装置を提供することが可能
となる。

【００５３】（実施の形態２）以下、本発明の実施の形
態２にかかる液晶表示装置について、図３を用いて説明
する。図３は本発明の実施の形態２にかかる液晶表示装
置の構成図であり、図３（ａ）は本発明の実施の形態１
にかかる液晶表示装置の断面図を、図３（ｂ）及び図３
（ｃ）は、それぞれ第１の基板１０１と第２の基板１０
２の平面図を示している。なお、図３（ｂ）及び図３
（ｃ）においては、各々の基板へ施したラビング処理の
方向を矢印で示している。

【００５４】まず、第１の基板１０１には製膜、フォト
リソグラフィ法を用いてアクティブマトリクス素子を形
成する。同時にこのプロセスを用いて、マトリクス状に
形成された各々の表示画素の一部に成膜した部分を残し
た凸部１１を形成する。

【００５５】かかる凸部１１の形状は、長さ５０μｍ、
幅３０μｍ、高さ１．５μｍであり、平面形状としては
平行四辺形をしており、この平行四辺形の鋭角側の角度
は８０度となるようにしている。このような形状の凸部
１１を２０μｍの間隙をもって２個形成している。

【００５６】このように作成された第１の基板１０１に
おいて、配向膜３ＳＥ７９９２を印刷塗布した後、第１
のラビング方向６の方向、すなわち凸部１１の平行四辺
形における一辺の長さ方向に沿って、実施の形態１と同
じラビング布、ラビング条件でラビング処理を施す。続
けて、同じラビング布、ラビング条件で、第１のラビン
グ方向６と１００度の角度をなすようにして、第２のラ
ビング方向７の方向にラビング処理を施す。

【００５７】ここで、本発明において重要な点は、第１
のラビング処理において２つの凸部１１の間隙部を擦
り、第２のラビング処理で毛９を間隙部に入り込ませな
いようにする点にある。かかる条件を具備するパラメタ
であれば、上記以外のラビング条件であっても良い。

【００５８】次に、ＩＴＯ２の形成された第２の基板１
０２にも、第１の基板１０１と同じ配向膜３を印刷して
形成した後、第１の基板１０１と同じラビング布を用い
て、同じラビング条件で第２の基板におけるラビング方
向８に、すなわち第１の基板における第２のラビング方
向７と同じ方向にラビング処理を施す。

【００５９】この第１の基板１０１と第２の基板１０２
とを、ラビング処理を施した面同士を対向させ、かつ第
１の基板１０１における第２のラビング方向７と第２の
基板１０２におけるラビング方向とが同じになるような
向きでギャップが５μｍとなるように貼り合わせた後、
基板間にチッソファインケミカル（株）製の液晶ＭＴ５
５８３を注入する。

【００６０】このようにして得られた液晶表示パネルの
配向は、２つの凸部１１の間隙部分では第１のラビング
方向６が保持されている結果、８０度のツイスト配向と
なっており、それ以外のところでは第２のラビング方向
７が保持されている結果、ツイストのないスプレイ配向
となっていることが、偏光顕微鏡観察で確認されてい
る。

【００６１】この液晶表示パネルの基板間に次第に電圧
を印加していったところ、電圧が３．５Ｖ付近で凸部１
１の間隙部分におけるツイスト配向とスプレイ配向との
境界部分からベンド配向への転移が生じ、さらに電圧が
６Ｖ以上で急速にベンド配向がスプレイ配向領域に広が
っていき、ついには電圧が印加されていない状態ではス
プレイ配向領域だった部分がすべてベンド配向へと転移
する結果となった。以上のことから、本実施の形態２に
よっても確実かつ容易にベンド配向を実現することがで
きることが確認できた。

【００６２】以上のように本実施の形態２によれば、所
定の電圧を印加することによって、凸状形成物が形成さ
れている領域においても液晶分子をベンド配向へと容易
に転移させることができ、視角特性と高速応答性に優れ
たＯＣＢ方式を採用した液晶表示装置を提供することが
可能となる。

【００６３】

【発明の効果】以上のように本発明にかかる液晶表示装
置によれば、部分的にツイスト配向とスプレイ配向が隣
接する状態を設けることで、比較的低い電圧で容易にベ
ンド配向へと転移させることができ、視角特性と高速応
答性に優れたＯＣＢ方式を採用した液晶表示装置を提供
することが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の実施の形態１にかかる液晶表示装置
の構成断面図と平面図

【図２】 本発明の実施の形態１にかかる液晶表示装置
におけるラビング布の毛で基板を擦っている概念を示し
た図

【図３】 本発明の実施の形態２にかかる液晶表示装置
の構成断面図と平面図

【図４】 液晶分子の配向状態を示した図

【符号の説明】

１ 基板 ２ ＩＴＯ ３ 配向膜 ４ 液晶分子 ５ 溝部 ６ 第１のラビング方向 ７ 第２のラビング方向 ８ 第２の基板のラビング方向 ９ ラビング布の毛 １０ ラビング方向 １１ 凸部 １０１ 第１の基板 １０２ 第２の基板

フロントページの続き (72)発明者 沖田 光隆 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 小林 淳一 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Ｆターム(参考） 2H088 HA18 JA04 JA05 JA09 KA08 LA08 MA07 MA10 2H090 KA04 KA05 KA07 MA02 MA04 MA11 MA15 MB02 MB03

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 所定形状の溝部が形成され、前記溝部の
   長手方向である第１のラビング方向にラビング処理が施
   された後、前記第１のラビング方向とは異なる第２のラ
   ビング方向にラビング処理が施された第１の基板と、前
   記第２のラビング方向と同じ方向にラビング処理が施さ
   れた第２の基板との間に液晶が充填されたパネルを含む
   液晶表示装置であって、 前記溝部が前記第２のラビング方向に施されるラビング
   処理によりラビングされることがなく、前記第１のラビ
   ング方向と前記第２のラビング方向のなす角が４５°よ
   りも大きく１３５°よりも小さいことを特徴とする液晶
   表示装置。
2. 【請求項２】 前記溝部が表示画素ごとに形成されてい
   る請求項１記載の液晶表示装置。
3. 【請求項３】 所定の大きさを有する複数の凸状形成物
   が所定の間隔で表示画素上に形成され、前記凸状形成物
   で挟まれた隙間の長手方向である第１のラビング方向に
   ラビング処理が施された後、前記第１のラビング方向と
   は異なる第２のラビング方向にラビング処理が施された
   第１の基板と、前記第２のラビング方向と同じ方向にラ
   ビング処理が施された第２の基板との間に液晶が充填さ
   れたパネルを含む液晶表示装置であって、 前記凸状形成物で挟まれた隙間が前記第２のラビング方
   向に施されるラビング処理によりラビングされることが
   なく、前記第１のラビング方向と前記第２のラビング方
   向のなす角が４５°よりも大きく１３５°よりも小さい
   ことを特徴とする液晶表示装置。
4. 【請求項４】 ２つの前記凸状形成物が表示画素ごとに
   配置される請求項３記載の液晶表示装置。
5. 【請求項５】 表示画素上において、電圧を印加しない
   時に液晶分子の配向状態がスプレイ配向である第１の液
   晶層と、液晶分子の配向状態がツイスト配向である第２
   の液晶層とが接する領域を有することを特徴とする液晶
   表示装置。
6. 【請求項６】 前記第１の基板又は前記第２の基板にア
   クティブマトリクス素子が形成されている請求項１から
   ５のいずれか一項に記載の液晶表示装置。
7. 【請求項７】 第１の基板の一主面上に所定形状の溝部
   を形成する工程と、 前記一主面上に配向膜を形成する工程と、 前記第１の基板の前記一主面に、第１のラビング方向に
   ラビング処理を施す工程と、 前記第１のラビング方向と異なる第２のラビング方向に
   ラビング処理を施す工程と、 第２の基板の一主面に前記第２のラビング方向と同じ方
   向にラビング処理を施す工程と、 前記第１の基板と前記第２の基板とを、前記ラビング処
   理を施した面同士を対向させ、かつ前記第１の基板にお
   ける前記第２のラビング方向と前記第２の基板における
   ラビング方向とが同じになるように貼り合わせる工程と
   を含み、 前記溝部が前記第２のラビング方向に施されるラビング
   処理によりラビングされることがなく、前記第１のラビ
   ング方向と前記第２のラビング方向のなす角が４５°よ
   りも大きく１３５°よりも小さいことを特徴とする液晶
   表示装置の製造方法。
8. 【請求項８】 第１の基板の一主面上における表示画素
   ごとに複数の凸状形成物を所定の間隙をもって形成する
   工程と、 前記一主面上に配向膜を形成する工程と、 前記第１の基板の前記一主面に第１のラビング方向にラ
   ビング処理を施す工程と、 前記第１のラビング方向と異なる第２のラビング方向に
   ラビング処理を施す工程と、 第２の基板の一主面に、前記第２のラビング方向と同じ
   方向にラビング処理を施す工程と、 前記第１の基板と前記第２の基板とを、前記ラビング処
   理を施した面同士を対向させ、かつ前記第１の基板にお
   ける前記第２のラビング方向と前記第２の基板における
   ラビング方向とが同じになるように貼り合わせる工程と
   を含み、 前記凸状形成物で挟まれた隙間が前記第２のラビング方
   向に施されるラビング処理によりラビングされることが
   なく、前記第１のラビング方向と前記第２のラビング方
   向のなす角が４５°よりも大きく１３５°よりも小さい
   ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。