JP2002244123A - 液晶表示装置用基板及びその製造方法 - Google Patents
液晶表示装置用基板及びその製造方法Info
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Abstract
フォトレジストPRを用いる写真エッチング程の削減、
排除が課題である。 【解決手段】 透明な基板上に溝を有する色フィルター
30を形成する。色フィルター30上に透明導電層を蒸
着して共通電極40を形成する。共通電極40上にクロ
ムと酸化クロムとを連続して蒸着してブラックマトリッ
クス層20を形成し、ブラックマトリックス層20上に
有機膜50を形成する。有機膜50をアッシングして溝
部分を除いた残りの部分の有機膜50を除去してブラッ
クマトリックス層20を露出させる。露出されたブラッ
クマトリックス層20をエッチングして除去する。この
ようにすると、写真エッチング工程を削減することがで
き、色フィルター基板の製造工程を単純化できる。
Description
わり、特に、液晶表示装置用色フィルター基板の製造方
法に関するものである。
色フィルター(color filter)などが形成
されている色フィルター基板と薄膜トランジスタ及び画
素電極などが複数個形成されている薄膜トランジスタ基
板との間に液晶物質を注入し、画素電極と共通電極に互
いに異なる電位を印加することによって電界を形成して
液晶分子の配列を変更させ、これにより光の透過率を調
節することにより画像を表現する装置である。
て、製造工程を単純化することは製造費用節減及び製造
時間短縮のためには切実に要求される。特に、写真エッ
チング工程は非常に複雑な工程であり、液晶表示装置の
製造工程においては写真エッチング工程の回数によって
製造工程全体の複雑度が決定されるともいえる。
ー基板を製造する方法を図面を参考として説明する。
液晶表示装置用色フィルター基板を製造する方法を工程
の順序によって示した断面図である。
からなる透明基板10上に酸化クロム膜21とクロム膜
22を順次に蒸着し、更に感光性エッチング阻止材(フ
ォトレジスト:PR)を塗布してPRの感光及び現象、
クロム膜22及び酸化クロム膜21のエッチングを行っ
た後にPRを除去する写真エッチング工程(photo
lithography)によりブラックマトリックス
パターン20を形成する。即ち、現象後の残留感光剤
(PR)自身がフィルターになる。
れた感光剤を塗布し、露光及び現像する過程(以下、
“写真工程”という)を3回反復して赤色、緑色、青色
の色フィルター30を形成する。
ー30上にITO(indiumtin oxide)
などの透明導電物質を蒸着することにより共通電極40
を形成する。
atic)モードの液晶表示装置では以上の工程を経れ
ば色フィルター基板が完成される。つまり、1回の写真
エッチング工程と3回の写真工程を通じて色フィルター
基板を製造する。
するために特開平11−242225/258606な
どのような共通電極と画素電極の切除部を形成する場合
(以下、“PVA(patterned vertic
ally aligned)モード”という)では、写
真エッチング工程をもう一回経るようになる。つまり、
図1dに示したように、写真エッチング工程を通じて共
通電極40に切除部41を形成することである。
合には、単純に写真エッチング工程が1回追加されるこ
と以外に、色フィルター30がエッチング過程で損傷さ
れ、切除部41を介して色フィルター30が露出されて
しまうことにより、液晶の物性が変質するなどの追加的
な問題が発生する。
部41の代わりに共通電極40上に有機物突起を形成す
る方法、共通電極40はそのまま置いて画素電極にのみ
切除部と突起を形成する方法などが提案されているが、
これも写真エッチング工程の数においてPVAモードと
の差がなく、製造工程の単純化の妨げとなっている。ま
た、さらに広視野角化の要求もある。
術的課題は、液晶表示装置用色フィルター基板の製造工
程を単純化することである。
晶表示装置の特性を改善することである。
るために本発明では、透明な基板と、基板上に形成され
ており、溝を有する色フィルター層と、色フィルター層
を覆っている第1透明電極層と、透明電極層上に形成さ
れており、溝内部に形成されているブラックマトリック
スとを含む液晶表示装置用基板を提供する。
満たされるのが好ましい。また、感光物質は第2透明電
極層によって覆われることができる。ここで、ブラック
マトリックスはクロムと酸化クロムの二重層で形成する
のが好ましい。または、ブラックマトリックスを有機物
質で形成することもできる。ブラックマトリックスは、
色フィルターと色フィルターの境界部に沿って形成され
ている第1部分と、一つの色フィルターを多数の部分に
実質的に分割する形態として形成されている第2部分と
を有することができる。
基板と、基板上に形成されており、溝を有する色フィル
ター層と、色フィルター層の溝内部に形成されているブ
ラックマトリックスと、ブラックマトリックス上に形成
されている透明電極層とを含む液晶表示装置用基板を提
供する。この時、溝は有機物質で満たされることができ
る。また、ブラックマトリックスは、色フィルターと色
フィルターの境界部に沿って形成されている第1部分
と、一つの色フィルターを多数の部分に実質的に分割す
る形態として形成されている第2部分とを有することが
できる。
板上に溝を有する色フィルター層を形成する段階と、色
フィルター層上に第1透明導電層を形成する段階と、第
1透明導電層上にブラックマトリックス層を積層する段
階と、ブラックマトリックス層上に溝を満たしている有
機物などのギャップフィラーを形成する段階、及び露出
されているブラックマトリックス層をエッチングして除
去する段階とを含む過程を通じて製造することができ
る。
リックス層上に有機膜を塗布しアッシングする過程を経
たり、ブラックマトリックス層上に感光膜を塗布し、露
光及び現像する過程を通じて形成することができる。こ
こでブラックマトリックス層はクロム層と酸化クロム層
を連続して蒸着して形成するのが好ましい。また、ギャ
ップフィラー上に第2透明電極層を形成することもでき
る。
ー層を形成する段階と、色フィルター層上に第1透明導
電層を形成する段階と、第1透明導電層上に溝を満たし
ているブラックマトリックスを形成する段階とを含む製
造方法も用いることができる。この時、ブラックマトリ
ックス上に第2透明導電層を形成することもできる。
は、透明基板上に溝を有する色フィルター層を形成する
段階と、色フィルター層上にブラックマトリックス層を
積層する段階と、ブラックマトリックス層上に溝を満た
しているギャップフィラーを形成する段階と、露出され
ているブラックマトリックス層をエッチングして除去す
る段階、ギャップフィラー上に透明電極層を形成する段
階とを含む製造方法を用いて液晶表示装置用基板を製造
することもできる。
実施例による液晶表示装置用色フィルター基板の製造方
法について説明する。
によって液晶表示装置用色フィルター基板を製造する方
法を工程順序によって示した断面図である。
基板10上に3回の写真工程を通じて赤色、緑色、青色
の色フィルター30を形成する。つまり、顔料が含まれ
た感光剤を塗布し、マスクを通じて露光し現像する過程
を赤、緑、青色の色フィルター30に対して各々1回ず
つ行って3色の色フィルターを形成する。この時、各色
フィルター30の間と、各色フィルター30内の一定の
部分(ドメイン分割のための電界調整用パターンが形成
される部分)とには溝を形成する。溝は透明基板10が
露出される程に深く形成するのが好ましい。溝の幅は5
〜15μmの間が適当であるが、最適は8μm程度であ
る。
ー30上にITOまたはIZO(indium zin
c oxide)などの透明な導電物質を蒸着して共通
電極40を形成する。
40上に酸化クロム膜21及びクロム膜22を連続して
蒸着して、ブラックマトリックス層20を形成する。
トリックス層20上に有機膜50を塗布する。この時、
有機膜50はアクリル系列、BCB(Benzocyc
lobutane)系列などが可能であるが、誘電率の
低いBCB系列が広視野角具現のために有利である。有
機膜50は溝部分を満たすと同時に可能なかぎり薄く形
成するのが好ましい。つまり、0.5〜3.5μmの間が
好ましい。
を乾式エッチングでアッシング(ashing)して、
溝部分にのみ有機膜50が残り他の部分では全て除去さ
れてブラックマトリックス層20が露出されるようにす
る。乾式エッチングは設備と条件によってエッチング率
が変わるが、一般に150Å/秒程度のエッチング率を
有するので有機膜50が1.5μm程度の厚さを有する
とすれば約100秒程度のエッチング時間がかかる。こ
の時、充分なマージン(margin)を確保するため
に5〜50%程度超過してエッチングするのが好まし
い。
ているブラックマトリックス層20をエッチングして除
去する。この時、溝部分に形成されているブラックマト
リックス層20は有機膜50によって保護されるので、
エッチングされずにそのまま残るようになる。
れるが、ここでブラックマトリックスは光がもれること
を防止し、ブラックマトリックスと同一な位置に形成さ
れる溝とこの溝を満たす有機膜とは、液晶が傾く方向を
制御するドメイン規制手段としての役割を果たす。
るのみであり、写真エッチング工程は全く含まれない。
従って、従来のTNモード用色フィルター製造工程に比
べて1回の写真エッチング工程が節減される。さらに、
PVAモード用色フィルター製造工程に比べては2回の
写真エッチング工程が節減される。このように本発明に
よれば色フィルター基板の製造工程が単純化される。ま
た、自己整列によってブラックマトリックスを形成する
ためブラックマトリックス形成過程でのマスク誤整列に
よる開口率減少を防止することができる。
によって液晶表示装置用色フィルター基板を製造する方
法を工程順序によって示した断面図である。
機物質で形成する。
基板10上に3回の写真工程を通じて赤色、緑色、青色
の色フィルター30を形成する。つまり、顔料が含まれ
た感光剤を塗布し、マスクを介して露光し現像する過程
を赤、緑、青色の色フィルター30に対して各々1回ず
つ行って3色の色フィルターを形成する。この時、各色
フィルター30の間と、各色フィルター30内の一定の
部分(ドメイン分割のためのパターンが形成される部
分)とには溝を形成する。溝は透明基板10が露出され
る程に深く形成するのが好ましい。
ー30上にITOまたはIZOなどの透明な導電物質を
蒸着して第1共通電極43を形成する。
極43上に有機ブラックマトリックス60を塗布する。
クマトリックス60を乾式エッチングでアッシングし
て、溝部分を満たす有機ブラックマトリックス60のみ
を残して他の部分の有機ブラックマトリックス60を除
去する。
される。第2実施例によれば、第1実施例よりもさらに
簡単な工程で色フィルター基板を製造することができ
る。さらに、図3eに示したように、透明導電物質をも
う一回蒸着して第2共通電極42を形成することもでき
る。有機ブラックマトリックス60などが液晶と接触す
るようになれば液晶物質が顔料などによって汚染され、
液晶の物性が劣化して残像を誘発するなどの問題を防止
することができる。また、電極42は平坦性が高く、凹
凸が少ないため、ドメイン分割はTFT基板側で完成さ
せる必要があるが、従来PVAモード用色フィルター製
造工程に比べて2回の写真エッチング工程が節減され、
製造工程が単純化される。
によって液晶表示装置用色フィルター基板を製造する方
法を工程順序によって示した断面図である。
基板10上に3回の写真工程を通じて赤色、緑色、青色
の色フィルター30を形成する。この時、各色フィルタ
ー30の間と、各色フィルター30内の一定の部分(ド
メイン分割のためのパターンが形成される部分)とには
溝を形成する。溝は透明基板10が露出される程に深く
形成するのが好ましい。溝の幅は5〜15μmの間が適
当であるが、最適は8μm程度である。
ー30上にITOまたはIZOなどの透明な導電物質を
蒸着して共通電極40を形成する。
40上に酸化クロム膜21及びクロム膜22を連続して
蒸着して、ブラックマトリックス層20を形成する。
トリックス層20上に感光剤を塗布して感光膜70を形
成し、光遮断パターン2が形成されている光マスク1を
介して感光膜70を露光する。この時、感光膜70は溝
部分を満たすと同時に可能なかぎり薄く形成するのが好
ましい。つまり、0.5〜3.5μmの間が好ましい。
(溝の部分と、溝以外の部分の厚さ)また、露光時に用
いる光マスク1は、図4dに示したように溝部分のみを
覆って残りの部分には光が通過するようにしたり(陽性
感光膜の場合)、反対に溝部分にのみ光が照射できるよ
うにし、残りの部分は覆われるようにする(陰性感光膜
の場合)。必要に応じては、スリットパターンや半透過
膜を用いて光マスクを製造することもできる。つまり、
微細な溝部分にスリットパターンや半透過膜部分を位置
させて他の部分に比べて露光量を少なくすることによ
り、感光膜70を現像する時に溝部分を満たす程度の感
光膜70のみが残るように調節することができる。また
は、光マスクを使用せずに露光時間を調節して、現象後
に残る感光膜の厚さを調節することもできる。
現像して、溝部分にのみ感光膜70が残り他の部分では
全て除去されてブラックマトリックス層20が露出され
るようにする。
ているブラックマトリックス層20をエッチングして除
去する。この時、溝部分に形成されているブラックマト
リックス層20は感光膜70によって保護されるので、
エッチングされずにそのまま残るようになる。
色フィルター基板を製造する過程でも写真工程が3回用
いられるのみであり、写真エッチング工程は全く含まれ
ない。
によって液晶表示装置用色フィルター基板を製造する方
法を工程順序によって示した断面図である。
基板10上に3回の写真工程を通じて赤色、緑色、青色
の色フィルター30を形成する。この時、各色フィルタ
ー30の間と、各色フィルター30内の一定の部分(ド
メイン分割のためのパターンが形成される部分)とには
溝を形成する。溝は透明基板10が露出される程に深く
形成するのが好ましい。溝の幅は5〜15μmの間が適
当であるが、最適は8μm程度である。
ー30上に酸化クロム膜21及びクロム膜22を連続し
て蒸着して、ブラックマトリックス層20を形成する。
トリックス層20上に有機膜50を塗布する。この時、
有機膜50はアクリル系列、BCB系列などが可能であ
るが、誘電率が低いBCB系列が広視野角具現により有
利である。有機膜50は溝部分を満たすと同時に可能な
かぎり薄く形成するのが好ましい。つまり、0.5〜3.
5μmの間が好ましい。
を乾式エッチングでアッシング(ashing)して、
溝部分にのみ有機膜50が残り、他の部分では全て除去
されてブラックマトリックス層20が露出されるように
する。この時、充分なマージン(margin)を確保
するために5〜50%程度超過してエッチングするのが
好ましい。
いるブラックマトリックス層20をエッチングして除去
する。この時、溝部分に形成されているブラックマトリ
ックス層20は有機膜50によって保護されるので、エ
ッチングされずにそのまま残るようになる。
ター30及び有機膜50上にITOまたはIZOなどの
透明な導電物質を蒸着して、共通電極40を形成する。
晶が傾く方向を制御するドメイン規制手段としての役割
はできないが、上記実施例と同様に、写真エッチング工
程を省略し、製造工程を単純化することができる。
をクロムと酸化クロムの二重層に形成することを例に上
げているが、これとは異なって有機ブラックマトリック
スを用いることもできる。この場合には色フィルターの
形成、有機ブラックマトリックスの塗布、有機ブラック
マトリックスのアッシング、共通電極の形成といった過
程を経るようになる。
るのみであり、写真エッチング工程は全く含まれない。
従って、従来のTNモード用色フィルター製造工程に比
べて1回の写真エッチング工程が節減される。
って製造された液晶表示装置用色フィルター基板を適用
した液晶表示装置において、共通電極と画素電極との間
に電圧が印加された状態で電圧印加開始時と20mse
c後との液晶の配向状態を示した断面図である。
の溝を満たしている有機膜または感光膜によって等電位
線が曲がるようになり、等電位線に対して垂直に形成さ
れる電気場もまた曲がるようになる。これにより、液晶
が傾く方向が一定の方向性を有するようになる。つま
り、溝を中心にして両側の液晶が傾く方向が反対にな
る。これはPVAモードでの切除部による効果と同一な
ものである。
模様について説明する。先に見てみたように、本発明に
おける溝はブラックマトリックスと同一な模様に形成さ
れるので、ブラックマトリックスの模様をもって説明す
る。
表示装置用色フィルター基板のブラックマトリックスの
配置図である。
クマトリックス20のパターンを示したものである。ブ
ラックマトリックス20は、画素領域と画素領域との間
を区分する広い幅のブラックマトリックス23と、一つ
の画素領域をいろいろの少領域に分割する狭い幅のブラ
ックマトリックス24、25とがある。狭い幅のブラッ
クマトリックス24、25は、さらに縦方向のブラック
マトリックス24と、横方向のブラックマトリックス2
5とに分類される。これらのブラックマトリックス20
により、一つの画素領域は4個の少領域に分割される。
表示装置用薄膜トランジスタ基板の画素電極の配置図で
ある。
横方向切除部102とを各々2個ずつ有している。
7bの薄膜トランジスタ基板を整列した状態の配置図で
ある。
は、ブラックマトリックス20の間に配置される。一つ
の画素領域は、切除部101、102とブラックマトリ
ックス20とによって8個の少領域に分割される。この
8個の少領域のうち4個は縦方向に細長い模様を有し、
残りの4個は横方向に細長い模様を有する。縦方向に細
長い4個の領域のうちの2個の領域では液晶が紙面右に
傾いており、残りの2個の領域では液晶が紙面左に傾
く。また、横方向に細長い4個の領域のうちの2個の領
域では液晶が紙面下に傾き、残りの2個の領域では液晶
が紙面上に傾く。このように液晶の傾く方向が4方向に
均等に分散されるので、いかなる方向から見ても質のよ
い画像を見ることができる。
ックスと切除部の模様の配置はいろいろで多様な変形が
可能である。以下ではこのような変形の中の一つを説明
する。
表示装置用色フィルター基板のブラックマトリックスの
配置図である。
画素領域との間を区分する広い幅のブラックマトリック
ス23と、一つの画素領域をいろいろな少領域に分割す
る狭い幅のブラックマトリックス25とがある。これら
のブラックマトリックス20により、一つの画素領域は
3個の少領域に分割される。この時、3個の少領域のう
ちで狭い幅のブラックマトリックス25によって両分さ
れる2個は、横幅は互いに同一であるが残りの一つは横
幅が他の2個に比べて狭い。
表示装置用薄膜トランジスタ基板の配置図である。
部分とを有しており、狭い部分には縦方向に長く第1切
除部101が形成されており、広い部分には横方向に長
く2個の第2切除部102が形成されている。この時、
画素電極100の狭い部分は第1切除部101によって
左右に両分され、広い部分は第2切除部102によって
上下に3個に分離される。3個に分離された広い部分の
うち、真中にある部分は残りの2個の部分に比べて2倍
程度の広い幅を有する。
8bの薄膜トランジスタ基板を整列した状態の配置図で
ある。
0と切除部101、102とによって6個の領域に分割
される。画素領域を分割する効果は図7a乃至図7cに
て説明したことと同一である。つまり、広視野角を確保
することができるということである。
造工程を単純化することができる。また、自己整列によ
ってブラックマトリックスを形成するために、ブラック
マトリックス形成過程でのマスクの誤整列による開口率
の減少を防止することができる。
ター基板を製造する方法を工程順序によって示した断面
図(その1)。
ター基板を製造する方法を工程順序によって示した断面
図(その2)。
ター基板を製造する方法を工程順序によって示した断面
図(その3)。
ター基板を製造する方法を工程順序によって示した断面
図(その4)。
色フィルター基板を製造する方法を工程順序によって示
した断面図(その1)。
色フィルター基板を製造する方法を工程順序によって示
した断面図(その2)。
色フィルター基板を製造する方法を工程順序によって示
した断面図(その3)。
色フィルター基板を製造する方法を工程順序によって示
した断面図(その4)。
色フィルター基板を製造する方法を工程順序によって示
した断面図(その5)。
色フィルター基板を製造する方法を工程順序によって示
した断面図(その6)。
色フィルター基板を製造する方法を工程順序によって示
した断面図(その1)。
色フィルター基板を製造する方法を工程順序によって示
した断面図(その2)。
色フィルター基板を製造する方法を工程順序によって示
した断面図(その3)。
色フィルター基板を製造する方法を工程順序によって示
した断面図(その4)。
色フィルター基板を製造する方法を工程順序によって示
した断面図(その5)。
色フィルター基板を製造する方法を工程順序によって示
した断面図(その1)。
色フィルター基板を製造する方法を工程順序によって示
した断面図(その2)。
色フィルター基板を製造する方法を工程順序によって示
した断面図(その3)。
色フィルター基板を製造する方法を工程順序によって示
した断面図(その4)。
色フィルター基板を製造する方法を工程順序によって示
した断面図(その5)。
色フィルター基板を製造する方法を工程順序によって示
した断面図(その6)。
色フィルター基板を製造する方法を工程順序によって示
した断面図(その1)。
色フィルター基板を製造する方法を工程順序によって示
した断面図(その2)。
色フィルター基板を製造する方法を工程順序によって示
した断面図(その3)。
色フィルター基板を製造する方法を工程順序によって示
した断面図(その4)。
色フィルター基板を製造する方法を工程順序によって示
した断面図(その5)。
色フィルター基板を製造する方法を工程順序によって示
した断面図(その6)。
表示装置用色フィルター基板を適用した液晶表示装置に
おいて、共通電極と画素電極との間に電圧が印加された
状態での電圧印加開始時における液晶の配向状態を示し
た断面図。
表示装置用色フィルター基板を適用した液晶表示装置に
おいて、共通電極と画素電極との間に電圧が印加された
状態での電圧印加開始時から20msec後におけるの
液晶の配向状態を示した断面図。
フィルター基板のブラックマトリックスの配置図。
膜トランジスタ基板の配置図。
ランジスタ基板を整列した状態の配置図。
フィルター基板のブラックマトリックスの配置図。
膜トランジスタ基板の配置図。
ランジスタ基板を整列した状態の配置図。
ン(層) 21 酸化クロム膜 22 クロム膜 30 色フィルター 40、42、43 共通電極 41 電極切除パターン 50 有機膜 60 有機ブラックマトリックス 70 感光膜 100 画素電極 101、102 切除部
Claims (18)
- 【請求項1】透明な基板と、 前記基板上に形成されており、溝を有する色フィルター
層と、 前記色フィルター層を覆っている第1透明導電層と、 前記第1透明導電層上に形成されており、前記溝内部に
形成されているブラックマトリックスと、を含む液晶表
示装置用基板。 - 【請求項2】前記ブラックマトリックス上に形成されて
おり、前記溝を満たす有機物質をさらに含む、請求項1
に記載の液晶表示装置用基板。 - 【請求項3】前記ブラックマトリックス上に形成されて
おり、前記溝を満たす感光物質をさらに含む、請求項1
に記載の液晶表示装置用基板。 - 【請求項4】前記ブラックマトリックスはクロムと酸化
クロムの二重層からなっている、請求項2又は3に記載
の液晶表示装置用基板。 - 【請求項5】前記ブラックマトリックスは有機物質から
なっており、前記溝を満たしている、請求項1に記載の
液晶表示装置用基板。 - 【請求項6】前記感光物質を覆っている第2透明導電層
をさらに含む、請求項5に記載の液晶表示装置用基板。 - 【請求項7】前記ブラックマトリックスは、 色フィルターと色フィルターとの境界部に沿って形成さ
れている第1部分と、 一つの色フィルターを多数の部分に分割する形態として
形成されている第2部分と、を含む請求項1に記載の液
晶表示装置用基板。 - 【請求項8】透明な基板と、 前記基板上に形成されており、溝を有する色フィルター
層と、 前記色フィルター層の前記溝内部に形成されているブラ
ックマトリックスと、 前記ブラックマトリックス上に形成されている透明導電
層と、を含む液晶表示装置用基板。 - 【請求項9】前記ブラックマトリックス上に形成されて
おり、前記溝を満たし、前記透明導電層に覆われている
有機物質をさらに含む、請求項8に記載の液晶表示装置
用基板。 - 【請求項10】前記ブラックマトリックスは、 色フィルターと色フィルターとの境界部に沿って形成さ
れている第1部分と、 一つの色フィルターを多数の部分に分割する形態として
形成されている第2部分と、を含む請求項8に記載の液
晶表示装置用基板。 - 【請求項11】透明基板上に溝を有する色フィルター層
を形成する段階と、 前記色フィルター層上に第1透明導電層を形成する段階
と、 前記第1透明導電層上にブラックマトリックス層を積層
する段階と、 前記ブラックマトリックス層上に前記溝を満すようにギ
ャップフィラーを形成する段階と、 露出されている前記ブラックマトリックス層をエッチン
グして除去する段階と、を含む液晶表示装置用基板の製
造方法。 - 【請求項12】前記ギャップフィラーを形成する段階
は、前記ブラックマトリックス層上に有機膜を塗布しア
ッシングする過程を含む、 請求項10に記載の液晶表示装置用基板の製造方法。 - 【請求項13】前記ギャップフィラーを形成する段階
は、前記ブラックマトリックス層上に感光膜を塗布し露
光及び現像する過程を含む、請求項10に記載の液晶表
示装置用基板の製造方法。 - 【請求項14】前記ブラックマトリックス層を形成する
段階は、クロム層と酸化クロム層を連続して蒸着して形
成する過程を含む、請求項10に記載の液晶表示装置用
基板の製造方法。 - 【請求項15】前記ギャップフィラーを覆う第2透明導
電層を形成する段階をさらに含む、請求項10に記載の
液晶表示装置用基板の製造方法。 - 【請求項16】透明基板上に溝を有する色フィルター層
を形成する段階と、 前記色フィルター層上に第1透明導電層を形成する段階
と、 前記第1透明導電層上に前記溝を満たすようにブラック
マトリックスを形成する段階と、を含む液晶表示装置用
基板の製造方法。 - 【請求項17】前記ブラックマトリックス上に第2透明
導電層を形成する段階をさらに含む、請求項15に記載
の液晶表示装置用基板の製造方法。 - 【請求項18】透明基板上に溝を有する色フィルター層
を形成する段階と、 前記色フィルター層上にブラックマトリックス層を積層
する段階と、 前記ブラックマトリックス層上に前記溝を満たすように
ギャップフィラーを形成する段階と、 露出されている前記ブラックマトリックス層をエッチン
グして除去する段階と、 前記ギャップフィラー上に透明導電層を形成する段階
と、 を含む液晶表示装置用基板の製造方法。
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KR100817125B1 (ko) * | 2001-10-19 | 2008-03-27 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 액정표시소자의 컬러필터기판 |
KR100652052B1 (ko) * | 2003-05-23 | 2006-11-30 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 액정표시장치용 어레이 기판의 제조방법 |
KR100617038B1 (ko) * | 2003-12-29 | 2006-08-30 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 액정표시장치 |
KR101080349B1 (ko) * | 2004-05-24 | 2011-11-04 | 삼성전자주식회사 | 액정 표시 장치 및 그 제조 방법 |
US7563490B2 (en) | 2004-12-06 | 2009-07-21 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Liquid crystal display device |
JP4806197B2 (ja) * | 2005-01-17 | 2011-11-02 | パナソニック株式会社 | 固体撮像装置 |
TWI268370B (en) * | 2005-07-01 | 2006-12-11 | Chunghwa Picture Tubes Ltd | Color filter substrate and fabricating method thereof |
EP2270583B1 (en) | 2005-12-05 | 2017-05-10 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Transflective Liquid Crystal Display with a Horizontal Electric Field Configuration |
KR20070075854A (ko) * | 2006-01-16 | 2007-07-24 | 삼성전자주식회사 | 표시장치와 그 제조방법 |
JP2007220832A (ja) * | 2006-02-15 | 2007-08-30 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 固体撮像装置及びカメラ |
JP4936515B2 (ja) * | 2006-05-18 | 2012-05-23 | Hoya株式会社 | フォトマスクの製造方法、およびハーフトーン型位相シフトマスクの製造方法 |
TWI383226B (zh) * | 2008-09-15 | 2013-01-21 | Chimei Innolux Corp | 液晶顯示面板及應用其之液晶顯示裝置 |
KR101722466B1 (ko) * | 2010-10-25 | 2017-04-04 | 삼성디스플레이 주식회사 | 컬러 필터 기판, 그 제조 방법 및 이를 이용한 표시 패널 |
CN103257476B (zh) * | 2013-05-24 | 2015-11-25 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 一种彩色滤光基板和液晶面板 |
KR102020812B1 (ko) * | 2013-06-17 | 2019-09-11 | 도레이 카부시키가이샤 | 적층 수지 블랙 매트릭스 기판의 제조 방법 |
KR20150037105A (ko) * | 2013-09-30 | 2015-04-08 | 삼성디스플레이 주식회사 | 액정 표시 장치 및 이의 제조 방법 |
CN105652526B (zh) * | 2014-11-12 | 2018-12-14 | 群创光电股份有限公司 | 显示面板 |
US20190278097A1 (en) * | 2016-01-21 | 2019-09-12 | Sun Innovations, Inc. | Light emitting displays that supplement objects |
KR102658367B1 (ko) * | 2016-09-28 | 2024-04-18 | 삼성디스플레이 주식회사 | 컬러 필터 및 이를 포함하는 표시 장치 |
CN110346960A (zh) * | 2019-07-02 | 2019-10-18 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 一种玻璃基板上的黑色矩阵的制备方法及其应用 |
CN113867025B (zh) * | 2021-09-23 | 2024-01-23 | 武汉华星光电技术有限公司 | 显示面板及移动终端 |
KR20240022027A (ko) * | 2022-08-10 | 2024-02-20 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시 장치 및 이의 제조 방법 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07287114A (ja) * | 1994-02-28 | 1995-10-31 | Toppan Printing Co Ltd | カラーフィルタ及びカラーフィルタの製造方法 |
JPH08136910A (ja) * | 1994-11-07 | 1996-05-31 | Hitachi Ltd | カラー液晶表示装置およびその製造方法 |
JPH08248406A (ja) * | 1995-03-14 | 1996-09-27 | Hitachi Ltd | カラー液晶表示装置の製造方法 |
JPH08286178A (ja) * | 1995-04-14 | 1996-11-01 | Citizen Watch Co Ltd | 液晶表示装置 |
JPH10282331A (ja) * | 1997-04-11 | 1998-10-23 | Sanyo Shinku Kogyo Kk | カラーフィルターおよびその製造方法 |
JPH1144881A (ja) * | 1997-05-30 | 1999-02-16 | Sharp Corp | 液晶表示装置およびその製造方法 |
JP2000137238A (ja) * | 1998-10-30 | 2000-05-16 | Samsung Electronics Co Ltd | 広視野角液晶表示装置およびその基板並びにそれらの製造方法 |
US6099993A (en) * | 1997-07-14 | 2000-08-08 | Lg Electronics Inc. | Color filter panel of a liquid crystal display and method of manufacturing the same |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6333730A (ja) * | 1986-07-29 | 1988-02-13 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 液晶表示体用カラ−フイルタ |
JPH05241014A (ja) * | 1992-02-27 | 1993-09-21 | Stanley Electric Co Ltd | カラーフィルタの製造方法 |
FR2697922B1 (fr) * | 1992-11-12 | 1995-09-22 | Gold Star Co | Procede de fabrication d'un filtre de couleurs pour un ecran a cristaux liquides. |
JPH0815727A (ja) * | 1994-06-29 | 1996-01-19 | Toppan Printing Co Ltd | 液晶表示装置用電極基板の製造方法 |
KR970028714A (ko) * | 1995-11-24 | 1997-06-24 | 윤종용 | 액정표시패널 및 그 제조방법 |
KR100237672B1 (ko) * | 1995-12-05 | 2000-01-15 | 윤종용 | 공통 전극 기판 및 그 제조 방법 |
US6208394B1 (en) * | 1997-11-27 | 2001-03-27 | Sharp Kabushiki Kaisha | LCD device and method for fabricating the same having color filters and a resinous insulating black matrix on opposite sides of a counter electrode on the same substrate |
KR20020055785A (ko) * | 2000-12-29 | 2002-07-10 | 구본준, 론 위라하디락사 | 횡전계 방식의 액정표시장치 |
KR100415611B1 (ko) * | 2001-05-24 | 2004-01-24 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 액정표시소자 및 그 제조방법과 이를 이용한 배향막재생방법 |
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Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07287114A (ja) * | 1994-02-28 | 1995-10-31 | Toppan Printing Co Ltd | カラーフィルタ及びカラーフィルタの製造方法 |
JPH08136910A (ja) * | 1994-11-07 | 1996-05-31 | Hitachi Ltd | カラー液晶表示装置およびその製造方法 |
JPH08248406A (ja) * | 1995-03-14 | 1996-09-27 | Hitachi Ltd | カラー液晶表示装置の製造方法 |
JPH08286178A (ja) * | 1995-04-14 | 1996-11-01 | Citizen Watch Co Ltd | 液晶表示装置 |
JPH10282331A (ja) * | 1997-04-11 | 1998-10-23 | Sanyo Shinku Kogyo Kk | カラーフィルターおよびその製造方法 |
JPH1144881A (ja) * | 1997-05-30 | 1999-02-16 | Sharp Corp | 液晶表示装置およびその製造方法 |
US6099993A (en) * | 1997-07-14 | 2000-08-08 | Lg Electronics Inc. | Color filter panel of a liquid crystal display and method of manufacturing the same |
JP2000137238A (ja) * | 1998-10-30 | 2000-05-16 | Samsung Electronics Co Ltd | 広視野角液晶表示装置およびその基板並びにそれらの製造方法 |
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