JP2002239301A - フッ素蒸留装置と、その洗浄装置 - Google Patents

フッ素蒸留装置と、その洗浄装置

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JP2002239301A
JP2002239301A JP2001044755A JP2001044755A JP2002239301A JP 2002239301 A JP2002239301 A JP 2002239301A JP 2001044755 A JP2001044755 A JP 2001044755A JP 2001044755 A JP2001044755 A JP 2001044755A JP 2002239301 A JP2002239301 A JP 2002239301A
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temperature
fluorine
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Munetoshi Tomooka
宗俊 友岡
Seiichi Oka
誠一 岡
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Nippon Steel Nisshin Co Ltd
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Nisshin Steel Co Ltd
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  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
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Abstract

(57)【要約】 【課 題】JIS K 0102で規定するフッ素蒸留
分析を行う際のフッ素蒸留作業を行う装置を提供する。 【解決手段】水が入れられる水蒸気フラスコ12と、水
蒸気フラスコ12を加熱するヒータ11と、試料と試薬
が入れられる蒸留フラスコ14と、蒸留フラスコ14を
加熱するヒータ13と、水蒸気フラスコ12で発生する
水蒸気を蒸留フラスコ14に送るライン23に設けた電
磁弁24と、蒸留フラスコ12内の液温を検出する温度
センサー18と、蒸留フラスコ14より留出する留出液
を溜めるビーカ17と、ビーカ17の液面レベルを検出
するレベルセンサー19と、温度センサー18で検出し
た温度が設定値に達したとき、電磁弁24を開いて水蒸
気フラスコ12の水蒸気を蒸留フラスコ14に送り、か
つヒータ13を制御して設定値に維持されるように温度
コントロールを行い、レベルセンサー19の検出値によ
って作業を停止する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明が属する技術分野】本発明は、JIS K 01
02で規定する、フッ素化合物中のフッ化物イオンの濃
度を求めるためのフッ素蒸留分析で用いられるフッ素蒸
留装置及び蒸留後、該装置の洗浄を自動的に行う洗浄装
置に関する。
【0002】
【従来技術】JIS K 0102に基づくフッ素の蒸
留操作は従来次のようにして行われている。すなわち、
フッ素を30μg以上含む試料の適量を蒸発皿又はビー
カに取り、フェノールフタレイン5gをエタノール50
0mlと水1lで希釈したフェノールフタレイン溶液を
2、3滴加え、水酸化ナトリウム100gに水1lを加
えた水酸化ナトリウム溶液を添加して微アルカリとした
のち、加熱して約30mlに濃縮する。
【0003】次にこの蒸発皿又はビーカ中の濃縮液を図
1に示す蒸留フラスコ1中に水約10mlで洗い移したの
ち、二酸化珪素約1g、リン酸1ml及び過塩素酸約40
ml又はJIS K 8951に規定する硫酸30mlの試
薬を加える。そして冷却管2から留出する留出液を受け
る受器の全量フラスコ(図示しない)には水20mlを加
えておき、冷却管下端の図示しない逆流止めの下端を水
面下に位置させておく。ついで水蒸気フラスコ4に水を
入れ、ヒータ5で加熱する。
【0004】次に蒸留フラスコ1をヒータ6で加熱し、
蒸留フラスコ内の液温が約140℃に達してからコック
7を開け、水蒸気フラスコ4から水蒸気を蒸留フラスコ
内の液中に通し、バブリングしながら蒸留する。蒸留さ
れた蒸留ガスは冷却管2を通って冷却され、全量フラス
コ内の水中に留出される。蒸留は蒸留温度を145±5
℃、留出速度を3〜5ml/minに調節して行われ、全量フ
ラスコ内の液量が220mlになるまで続けられる。
【0005】以上のようにしてフッ化物イオンの濃度測
定を行う留出液を得るための蒸留操作が行われ、蒸留操
作後、器具が冷却したのを確認して冷却管2及び逆流止
めを取外し、冷却管2の内部及び逆流止めの内外を少量
の洗浄水で洗浄し、洗液も全量フラスコに加え、更に水
を加えて洗浄する。その後、再び冷却管及び逆流止めを
組み立て、上述の蒸留操作を繰り返していた。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】上述するように従来の
蒸留作業では、蒸留中は温度計の温度や全量フラスコ内
の液量を監視しながらヒータ6の温度調節やコック7の
操作を行う必要があるが、ヒータを調節して蒸留温度を
145±5℃に維持する温度管理は難しく、フラスコや
ヒータに接触すると、火傷の危険性もあり、コック操作
を誤ると、危険でもある。その上、作業中は常に温度計
の温度や全量フラスコ内の液量を監視せねばならず、作
業には熟練を要する。また蒸留操作後の洗浄も、手作業
によって行われ、しかも器具が冷却したのを確認してか
ら行われるため、手間と時間がかゝっていた。
【0007】本発明の第1の目的は、上述のフッ素蒸留
作業を自動化することにより、上記の問題を解消するこ
とができるフッ素蒸留装置を提供しようとするものであ
り、第2の目的は、蒸留後の上記フッ素蒸留装置の洗浄
を自動的に行うことができるようにした洗浄装置を提供
しようとするものである。
【0008】
【課題の解決手段】請求項1に係わる発明は、第1の目
的を達成するフッ素蒸留装置に関するもので、水が入れ
られる水蒸気フラスコと、水蒸気フラスコを加熱する第
1の加熱手段と、フッ素化合物よりなる試料と試薬が入
れられる蒸留フラスコと、蒸留フラスコを加熱する第2
の加熱手段と、水蒸気フラスコで発生した水蒸気を蒸留
フラスコに送るラインに設けられる電磁弁と、蒸留フラ
スコの液温を検出する温度センサーと、蒸留フラスコで
発生し、蒸留フラスコより留出する蒸留ガスを冷却する
冷却管と、冷却管より留出する留出液を受ける容器と、
容器内の留出液の液面レベルを検出するレベルセンサー
と、温度センサーによって検出された温度により第2の
加熱手段を制御して温度コントロールを行うと共に、電
磁弁を制御して水蒸気フラスコより蒸留フラスコへ水蒸
気を供給し、またレベルセンサーで検出した留出液の液
面レベルが設定値に達したときの検出信号によって、電
磁弁と第1の加熱手段と第2の加熱手段のうち、少なく
とも第2の加熱手段を制御し、加熱を停止させるシーケ
ンサーとからなることを特徴とする。
【0009】本発明におけるフッ素蒸留は次のようにし
て行われる。水蒸気フラスコに水を入れ、かつ蒸留フラ
スコにフッ素化合物よりなる試料と試薬を入れた状態
で、シーケンサーにより第1及び第2の加熱手段を制御
し、水蒸気フラスコと蒸留フラスコを加熱する。蒸留フ
ラスコ内の液温は温度センサーによって検出され、蒸留
フラスコの加熱により液温が設定温度に達すると、シー
ケンサーは電磁弁を開けて水蒸気フラスコの水蒸気を蒸
留フラスコに送り込み、これにより蒸留フラスコから排
出された蒸留ガスが冷却管で冷却され、容器内に留出す
る。蒸留フラスコの液温は設定温度に維持されるように
温度コントロールされ、また容器内の留出液の液面レベ
ルが設定レベルに達すると、蒸留フラスコの加熱が停止
される。
【0010】本発明によると、以上のようにJIS K
0102 で規定するフッ素蒸留分析を行う際のフッ
素蒸留作業を自動的に行うことができるため、蒸留フラ
スコの液温や容器内の留出液の液面レベルを監視して、
蒸留フラスコの液温が設定レベルに維持されるように温
度管理したり、液温が設定レベルに達したとき、水蒸気
フラスコより水蒸気を蒸留フラスコに送るコックの切替
作業を行ったり、或いは留出液の液面レベルが設定レベ
ルに達したとき蒸留作業を停止する必要がなく、また作
業中、装置に手を触れなくてもよいため、火傷の危険性
をなくすことができる。本発明で用いられる第1及び第
2の加熱手段としては、例えばヒータ、ガスバーナ等を
例示することができる。
【0011】請求項2に係わる発明は、第2の目的を達
成する、上記フッ素蒸留装置の洗浄装置に関するもの
で、請求項1に係わる発明において、蒸留フラスコ内に
配置されたシャワーと、該シャワーに洗浄水を供給する
と共に、蒸留フラスコ内の残液を排出するポンプと、上
記シャワー及びポンプと、シーケンサーによって制御さ
れる電磁弁を備えた配管よりなることを特徴とする。本
発明によると、シャワーより洗浄水を散布することによ
り、蒸留フラスコの洗浄が行われる。
【0012】
【発明の実施の形態】図2は、フッ素蒸留装置の概略図
を示すものであり、図3は、洗浄装置の概略図を示すも
ので、以下、各装置について順に詳述する。
【0013】フッ素蒸留装置は図2に示すように、第1
の加熱手段であるヒータ11により加熱される水蒸気フ
ラスコ12と、第2の加熱手段であるヒータ13により
加熱される蒸留フラスコ14と、蒸留フラスコ14に取
付けた蒸留管15に着脱可能に取着される冷却管16
と、蒸留液を受ける容器としてのビーカ17とからな
り、蒸留フラスコ14には液温を検出する温度センサー
18が、ビーカ17には該ビーカ内に溜まる留出液の液
面レベルを検出するレベルセンサー19がそれぞれ設け
られ、また水蒸気フラスコ12に水を供給するライン2
1には電磁弁22が、水蒸気フラスコ12より蒸留フラ
スコ14に水蒸気を送るライン23には電磁弁24が、
更にはライン23より分岐し、かつ蒸留フラスコ14内
の蒸留ガスを大気に放出するライン25には電磁弁26
がそれぞれ取付けられている。
【0014】蒸留操作に当たっては先ず、前述したよう
にJIS K 0102に基づき、試料の適量を調整し
て蒸留フラスコ14に入れ、これに試薬を加え、図2に
示すような装置を組み立てる。その後、蒸留が次のよう
にして行われる。
【0015】図4は、シーケンサーの制御回路を示すも
ので、同回路において、電源スイッチ31をONにする
と、パイロットランプ32が点灯する。この状態でスタ
ートボタン33を押す。すると、リレーR1 34及びR
2 35が励磁されると共に、予め時間設定しておいたタ
イマーT1 36がカウントを開始し、かつ電磁弁26が
閉じる。このとき電磁弁22は開、電磁弁24が閉とな
っている。
【0016】リレーR1 34が励磁されると、該リレー
1 34の接点37が閉じて自己励磁が行われ、またリ
レーR2 35の励磁により接点38が閉じてヒータ11
が水蒸気フラスコ12の加熱を開始する。設定時間経過
してタイマーT1 36がタイムアウトすると、接点39
が閉じてリレーR3 41が励磁され、これにより接点4
2が閉じてヒータ13が蒸留フラスコ14の加熱を開始
すると共に、ヒータ13のパイロットランプ43が点灯
し、ヒータ13が加熱状態にあることを表示する。
【0017】ヒータ13によって加熱される蒸留フラス
コ14の液温は、温度センサー18により計測され、設
定温度に近付くと、温度調節計45が接点46を開閉制
御してリレーR3 41を励磁または消磁し、これにより
接点42を開閉し、ヒータ13による加熱又は加熱停止
を行う。これと共にパイロットランプ43も点灯或いは
消灯する。
【0018】フラスコ14の液温が設定温度に達する
と、温度調節計45は、接点47を閉じる。接点47が
閉じると、リレーR50が励磁され、これにより接点
40が閉じて自己励磁されると共に、電磁弁22が閉、
電磁弁24が開となり、電磁弁22の閉により水蒸気フ
ラスコ12への水の供給が停止され、また電磁弁24の
開により水蒸気フラスコ12から蒸留フラスコ14へ水
蒸気が送り込まれ、これを液中に放出してバブリングを
行いながら蒸留を開始する。蒸留された蒸留ガスは、冷
却管16を通って冷却され、水を規定量入れたビーカ中
に留出する。蒸留開始後も温度調節計45により蒸留フ
ラスコ14内の液温をコントロールしながら蒸留を続
け、ビーカ17内に溜まる留出液のレベルが設定値に達
して、これをレベルセンサー19が検出すると、その検
出信号によりレベル検出器48が接点49を閉じ、リレ
ーR51を励磁する。これによりスイッチ52が切り
換わってリレーR51が自己励磁されると共に、接点
53が開いてリレーR1 34、リレーR235及びリレ
ーR341が消磁され、接点38、42を開いてヒータ
11及び13の加熱を停止する。そして電磁弁26が開
き、蒸留フラスコ14内の蒸留ガスが大気中に放出され
る。
【0019】リレーR51の励磁によりスイッチ52
が切り換わるとまた、電磁弁22が開いて水蒸気フラス
コ12への水の供給が行われ、かつ電磁弁24が閉じて
水蒸気フラスコ12から蒸留フラスコ14への蒸気の供
給が停止される。リレーR51が励磁されるとまた、
接点54が閉じ、ブザー55が鳴って蒸留の終了を知ら
せる。ブザー55の停止はスイッチ56をOFF操作す
ることにより行われる。
【0020】洗浄装置は図3に示すように、蒸留フラス
コ14内に配置された洗浄ノズル58と、洗浄水が入れ
られるタンク59と、タンク59内の洗浄水を吸い上
げ、ライン61を通して洗浄ノズル58に供給するポン
プ62とよりなり、蒸留フラスコ14内の残液は、ポン
プ62によりライン23、ライン63、ライン61及び
ライン64を経て排出されるようになっており、ライン
63、該ライン63との接続点よりタンク側のライン7
0、ライン64及び該ライン64との接続点より洗浄ノ
ズル58側のライン69にはそれぞれ電磁弁65、電磁
弁66、電磁弁67及び電磁弁68が設けられている。
本装置は以上のように構成され、蒸留フラスコ14の洗
浄が次のようにして行われる。
【0021】図5に示すシーケンサーの制御回路におい
て、前述のリレーR51の励磁によってまた、接点7
1、72及び80が閉じてリレーR6 73、リレーR7
74及びリレーR8 86が励磁され、これにより接点7
5、76及び87がそれぞれ閉じて自己励磁されると共
に、予め時間設定しておいたタイマーT2 77がカウン
トを開始する。同時にまた、電磁弁66及び67が開く
と共に(電磁弁65及び68は閉じている)、リレーR
73の励磁により接点78が閉じてポンプ62が起動
し、タンク59より吸い上げた洗浄水をライン61及び
64に通して排出し、電磁弁66、67、ライン61、
64、70及びポンプ62の洗浄を行う。
【0022】設定時間経過してタイマーT2 77がタイ
ムアウトすると、接点79が開いて電磁弁67が閉じる
と共に、電磁弁68が開き、これによりポンプ62によ
りタンク59より吸い上げられた洗浄水がライン70、
ライン61及びライン69を経て洗浄ノズル58に供給
されて蒸留フラスコ内の残液を薄め、温度を下げる。タ
イマーT2 77のタイムアウトによってまた、接点81
が閉じて予め設定されたタイマーT3 82が、カウント
を開始する。そして設定時間経過し、タイマーT3 82
がタイムアウトすると、接点83、85が閉じると共
に、接点84が開き、電磁弁65及び67が開、電磁弁
66及び68が閉となって蒸留フラスコ14内の残液が
ポンプ62により吸い上げられ、ライン63、61及び
64を通って排出される。
【0023】蒸留フラスコ14内の残液がなくなり、排
出が終了すると、作業者はボタン88を押す。すると、
リレーR9 89が励磁されると共に、予め時間設定して
おいたタイマーT4 94がカウントを開始する。そして
リレーR89の励磁により、接点91が閉じて自己励
磁され、かつ接点92が開くと共に、接点93が閉じこ
れにより電磁弁65が閉じると電磁弁66が開き、ポン
プ62がタンク59より洗浄水を吸い上げてライン6
1、ポンプ62及びライン64の洗浄を行う。
【0024】設定時間洗浄を行ってタイマーT4 94が
タイムアウトすると、接点95が開き、リレーR5 73
が消磁されて接点78が開き、ポンプ62が停止する。
以上のようにして蒸留フラスコ14の洗浄が終了する。
なお、冷却管16と蒸留管15は蒸留フラスコ14より
取外したのち、更に分離され、内外が別途洗浄される。
ビーカも同様である。
【0025】
【発明の効果】請求項1に係わる発明によると、JIS
K 0102で規定するフッ素蒸留分析を行う際のフ
ッ素蒸留作業が自動化されるため、蒸留フラスコの液温
や容器内の留出液の液量を監視する監視作業が不要とな
ること、蒸留フラスコの液温が設定レベルに維持される
ように第2の加熱手段を調節する作業が不要になるこ
と、蒸留フラスコの液温が設定レベルに達したとき、水
蒸気フラスコの水蒸気が蒸留フラスコに送られるように
するコック操作が不要になること、容器内に留出する留
出液の液量が設定量に達したとき蒸留作業を停止するた
めの作業が不要になることなどにより省力化が可能とな
り、また蒸留作業中、装置に手を触れる必要がないた
め、火傷の危険をなくすことができる。
【0026】請求項2に係わる発明によると、フッ素蒸
留作業終了後、蒸留フラスコを取り外すことなく、その
洗浄を自動的に行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】従来のフッ素蒸留装置を示す図。
【図2】本発明に係るフッ素蒸留装置の概略図。
【図3】蒸留フラスコの洗浄装置の配管図。
【図4】シーケンサーのフッ素蒸留装置に関する制御回
路図。
【図5】シーケンサーの洗浄装置に関する制御回路図。
【符号の説明】
11、13・・ヒータ 12・・水蒸気フラスコ 14・・蒸留フラスコ 16・・冷却管 17・・ビーカ 18・・温度センサー 19・・レベルセンサー 22、24、26、65、66、67、68・・電磁弁 31・・電源スイッチ 33・・スタートボタン 34、35、41、50、51、73、74、86、8
9・・リレー 36、77、82、94・・タイマー 45・・温度調節器 48・・レベル検出器 58・・洗浄ノズル 59・・タンク 62・・ポンプ

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】水が入れられる水蒸気フラスコと、水蒸気
    フラスコを加熱する第1の加熱手段と、フッ素化合物よ
    りなる試料と試薬が入れられる蒸留フラスコと、蒸留フ
    ラスコを加熱する第2の加熱手段と、水蒸気フラスコで
    発生した水蒸気を蒸留フラスコに送るラインに設けられ
    る電磁弁と、蒸留フラスコの液温を検出する温度センサ
    ーと、蒸留フラスコで発生し、蒸留フラスコより留出す
    る蒸留ガスを冷却する冷却管と、冷却管より留出する留
    出液を受ける容器と、容器内の留出液の液面レベルを検
    出するレベルセンサーと、温度センサーによって検出さ
    れた温度により第2の加熱手段を制御して温度コントロ
    ールを行うと共に、電磁弁を制御して水蒸気フラスコよ
    り蒸留フラスコへ水蒸気を供給し、またレベルセンサー
    で検出した留出液の液面レベルが設定値に達したときの
    検出信号によって、電磁弁と第1の加熱手段と第2の加
    熱手段のうち、少なくとも第2の加熱手段を制御し、加
    熱を停止させるシーケンサーとからなることを特徴とす
    るフッ素蒸留装置。
  2. 【請求項2】蒸留フラスコ内に配置されたシャワーと、
    該シャワーに洗浄水を供給すると共に、蒸留フラスコ内
    の残液を排出するポンプと、上記シャワー及びポンプ
    と、シーケンサーによって制御される電磁弁を備えた配
    管よりなることを特徴とする請求項1記載のフッ素蒸留
    装置の洗浄装置。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008504952A (ja) * 2004-07-02 2008-02-21 ピュリティ アーベー 液体洗浄デバイス

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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