JP2002234097A - Method for manufacturing polymeric sheet, and polymeric sheet using the same - Google Patents

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method capable of inexpensively manufacturing an optical polymeric sheet having high-degree gas/steam barrier properties, a substrate for a liquid crystal display element using the optical polymeric sheet thus obtained and a liquid crystal display device. SOLUTION: The optical polymeric sheet, which has at least a base material (a) and a gas/steam barrier layer, is manufactured by laminating a transfer film, which is obtained by forming a protective layer and the gas/steam barrier layer or only the gas/steam barrier layer on a releasable base material (b) with a thickness of 0.1 mm or less, on the base material (a). An adhesion layer for enhancing the adhesion with the gas/steam barrier layer is also applied to the base material (a).

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【０００１】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、主として液晶表示
装置に用いられるプラスチック基板に使用可能な光学用
高分子シートに関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical polymer sheet which can be mainly used for a plastic substrate used for a liquid crystal display device.

【０００２】[0002]

【従来の技術】液晶表示装置用プラスチック基板では、
枚葉シートに蒸着やスパッタリング等の真空成膜プロセ
スで、ガス・水蒸気バリア層となる酸化珪素膜や酸化ア
ルミニウム膜を成膜する方法がよく用いられている。こ
れに対し、シート厚が０．３ｍｍ程度より薄い場合には
ロール・ツー・ロールで蒸着やスパッタリングで同様の
成膜を行う方法も可能であり、特に厚みが０．１ｍｍ以
下の場合にはこのロール・ツー・ロールによる方法が一
般的である。一般にロール・ツー・ロールによる方法は
枚葉シートに成膜する方法より生産性が高いが、シート
の厚さが厚くなるに従い長さに対するロール径が大きく
なるので１回に真空装置内に投入できるシート長さが短
くなり、生産性や成膜コストの点でロール・ツー・ロー
ル法の優位性を十分に発揮できなくなる。しかし、液晶
表示装置の組立工程上、シート厚は少なくとも０．１ｍ
ｍ以上の厚さが要求されるため、成膜コスト低下のため
には、より生産性を上げることが重要である。2. Description of the Related Art In a plastic substrate for a liquid crystal display device,
A method of forming a silicon oxide film or an aluminum oxide film serving as a gas / water vapor barrier layer on a single sheet by a vacuum film forming process such as vapor deposition or sputtering is often used. On the other hand, when the sheet thickness is less than about 0.3 mm, a method of performing similar film formation by vapor deposition or sputtering with a roll-to-roll method is also possible. A roll-to-roll method is common. In general, the roll-to-roll method has higher productivity than the method of forming a film on a single sheet, but the roll diameter increases with respect to the length as the sheet thickness increases, so that the sheet can be put into a vacuum device at one time. The sheet length becomes short, and the superiority of the roll-to-roll method cannot be sufficiently exhibited in terms of productivity and film formation cost. However, due to the assembly process of the liquid crystal display device, the sheet thickness is at least 0.1 m.
Since a thickness of m or more is required, it is important to further increase the productivity in order to reduce the film formation cost.

【０００３】特開平８−２３４１８１号公報には、ガス
バリア層と接着層をフィルム上に形成し、これを基材で
あるシートに転写する方法が提案されている。前記公報
に記載の方法を利用し、転写フィルムの厚さを薄くした
場合には、ガス・水蒸気バリア層を薄い転写フィルム上
に成形できるので、ガス・水蒸気バリア層の生産性を向
上することができ、結果として、プラスチック表示素子
用基板の製造コストを下げることが可能となる。しか
し、前記公報に記載されているような転写フィルム側に
接着層を形成する場合、接着層に基材との密着性を考慮
して熱硬化樹脂または光硬化性樹脂を適用すると、その
可使用時間が限られ、例えばコスト低減のために前記公
報に示される転写フィルムを大量に在庫した場合に、接
着層の劣化による密着性の低下、ひいてはガス・水蒸気
バリア性の低下をきたすことがあった。また、薄いフィ
ルム上に形成されたガス・水蒸気バリア層の上に接着層
をコーティングするため、塗工方法によっては皺が寄
り、ガス・水蒸気バリア層を損傷させる事もあった。更
に、酸化珪素や酸化アルミニウムをガスバリア層に用い
る場合、一般に成膜後に上層にコーティングをする前に
空気中で放置することによりガスバリア性が向上するた
め１日から２週間程度の時間放置することを行うので、
コーティングまでを行った状態で在庫する場合にはこの
時間が余分に必要になるという生産性上の無駄があっ
た。Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 8-234181 proposes a method in which a gas barrier layer and an adhesive layer are formed on a film and transferred to a sheet as a base material. When the thickness of the transfer film is reduced using the method described in the above publication, the gas / steam barrier layer can be formed on a thin transfer film, so that the productivity of the gas / steam barrier layer can be improved. As a result, the manufacturing cost of the plastic display element substrate can be reduced. However, when the adhesive layer is formed on the transfer film side as described in the above-mentioned publication, when a thermosetting resin or a photocurable resin is applied to the adhesive layer in consideration of the adhesion to the base material, the usable For a limited time, for example, when a large number of transfer films disclosed in the above-mentioned publication are stocked for cost reduction, the adhesion may deteriorate due to the deterioration of the adhesive layer, and the gas / water vapor barrier properties may decrease. . Further, since the adhesive layer is coated on the gas / water vapor barrier layer formed on the thin film, wrinkles may be formed depending on the coating method, and the gas / water vapor barrier layer may be damaged. Further, when silicon oxide or aluminum oxide is used for the gas barrier layer, the gas barrier property is generally improved by leaving the film in the air after forming the film and before coating the upper layer. So do
In the case of stocking in a state where the coating has been performed, this time is unnecessary, and there is a waste in productivity that extra time is required.

【０００４】[0004]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、高度なガス
・水蒸気バリア性を持つ光学用高分子シートを安価に製
造できる方法を提供するものであり、こうして得られた
光学用高分子シートを用いた液晶表示素子用基板および
液晶表示装置を提供するものである。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention provides a method for inexpensively producing an optical polymer sheet having a high gas / water vapor barrier property. It is intended to provide a liquid crystal display element substrate and a liquid crystal display device used.

【０００５】[0005]

【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、少な
くとも基材（ａ）とガス・水蒸気バリア層を有する光学
用高分子シートにおいて、厚さ０．１ｍｍ以下の剥離用
基材（ｂ）上に保護層とガス・水蒸気バリア層またはガ
ス・水蒸気バリア層のみを形成した転写フィルムを基材
（ａ）にラミネートすることによって成形されることを
特徴とする光学用高分子シートであり、基材（ａ）にガ
ス・水蒸気バリア層との密着性を高めるための密着層を
塗工する事をも含むものである。That is, the present invention relates to an optical polymer sheet having at least a substrate (a) and a gas / water vapor barrier layer, which is provided on a release substrate (b) having a thickness of 0.1 mm or less. A polymer film for optical use, wherein the polymer film is formed by laminating a transfer film on which a protective layer and a gas / steam barrier layer or only a gas / steam barrier layer are formed on a substrate (a). (A) includes applying an adhesion layer for improving the adhesion to the gas / steam barrier layer.

【０００６】[0006]

【発明の実施の形態】本発明の基材（ａ）に使用される
高分子材料としては、配向膜焼成工程において、約１５
０℃加熱が行われ、また、外部回路との接続のために異
方性導電フィルムと熱圧着させるときも、１５０℃程度
の加熱が必要であるため、その材料に関しては、ガラス
転移温度が１６０℃以上であることが必要である。ガラ
ス転移温度が１６０℃以上の耐熱性熱可塑性樹脂として
は、芳香族ポリエーテルスルホン、熱可塑性芳香族ポリ
エーテルケトン、ポリエーテルイミド、ポリフェニレン
スルフィド、ポリアリレート、環状ポリオレフィン及び
そのコポリマー等が挙げられるが、中でも液晶表示素子
製造上、透明性、耐熱性、加工性、耐衝撃性のバランス
の良いポリエーテルスルホンが特に好ましい。また、ガ
ラス転移温度が１６０℃を下回らなければ、熱可塑性ポ
リエステル、ポリアミド、ポリカーボネイトなどの樹脂
や、滑剤、耐熱安定剤、耐候安定剤、顔料、染料、無機
質充填剤などを適宜ブレンドしても良い。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION As the polymer material used for the substrate (a) of the present invention, about 15
Heating is performed at 0 ° C., and when thermocompression bonding is performed with an anisotropic conductive film for connection to an external circuit, heating at about 150 ° C. is necessary. It is necessary to be higher than or equal to ° C. Examples of the heat-resistant thermoplastic resin having a glass transition temperature of 160 ° C. or higher include aromatic polyether sulfone, thermoplastic aromatic polyether ketone, polyetherimide, polyphenylene sulfide, polyarylate, cyclic polyolefin and copolymers thereof. Among them, polyether sulfone having a good balance of transparency, heat resistance, workability, and impact resistance is particularly preferable in the production of liquid crystal display elements. If the glass transition temperature is not lower than 160 ° C., resins such as thermoplastic polyesters, polyamides and polycarbonates, lubricants, heat stabilizers, weather stabilizers, pigments, dyes, inorganic fillers and the like may be appropriately blended. .

【０００７】これらの基材（ａ）の中には、ガス・水蒸
気バリア層との密着性が良いものもあるが、より高い信
頼性を得るためには、基材に密着層を塗工した後に、転
写フィルムをラミネートしても良い。前記密着層は、熱
硬化樹脂又は光硬化樹脂を主成分とする樹脂組成物が好
ましく、熱硬化樹脂の例としては、オルトクレゾールノ
ボラック型エポキシ，ビスフェノールＡ型エポキシ，ビ
スフェノールＦ型エポキシ，ビスフェノールＳ型エポキ
シ，ビフェニル型エポキシ，ジシクロペンタジエン型エ
ポキシ等のエポキシ樹脂や、フェノール樹脂，ビスマレ
イミド，不飽和ポリエステル等を挙げることができ、ま
た、光硬化樹脂としては、エポキシアクリレート，ウレ
タンアクリレート，ポリエチレングリコールアクリレー
ト，グリセロールメタクリレート等のアクリル樹脂や脂
環式エポキシ樹脂を挙げることができるが、特に限定は
しない。また、これらを同時に用いることも構わない。Some of these substrates (a) have good adhesion to the gas / water vapor barrier layer, but in order to obtain higher reliability, an adhesion layer was applied to the substrate. Later, a transfer film may be laminated. The adhesive layer is preferably a resin composition containing a thermosetting resin or a photocurable resin as a main component. Examples of the thermosetting resin include orthocresol novolac epoxy, bisphenol A epoxy, bisphenol F epoxy, and bisphenol S epoxy. Epoxy resins such as epoxy, biphenyl type epoxy and dicyclopentadiene type epoxy, phenol resin, bismaleimide, unsaturated polyester and the like can be mentioned, and as the photocurable resin, epoxy acrylate, urethane acrylate, polyethylene glycol acrylate And an alicyclic epoxy resin such as glycerol methacrylate and the like, but are not particularly limited. These may be used at the same time.

【０００８】本発明の転写フィルムは、剥離用基材
（ｂ）上に保護層とまたはガス・水蒸気バリア層のみを
形成したものである。即ち、接着層を有しないので可使
用時間が限られることが無く、この状態で保管すること
で十分にガスバリア性が発揮されるだけの放置処理を行
うこともできるものである。前記剥離用基材（ｂ）は、
生産性や成膜コストを高めるために、できるだけ薄い方
が望ましく、その厚さは、０．１ｍｍ以下が望ましい。
ただし、厚さが０．０１ｍｍ未満と著しく薄くなると、
剥離する際に切れてしまう等の取り扱いの困難さを生じ
るので０．０１ｍｍ以上であることが好ましい。また、
密着層に光硬化樹脂を使用する場合には、硬化に必要な
波長の光を通過させることが可能な材質であることが望
ましく、例えばポリエチレン，ポリプロピレン，脂肪族
ポリアミド，ポリエチレンテレフタレート，ポリブチレ
ンテレフタレート，ポリスルホン，ポリエーテルスルホ
ン，ポリカーボネート等を挙げることができる。さら
に、前記剥離用基材（ｂ）は、ラミネートした後に剥離
することが可能であることが望ましく、隣接するガス・
水蒸気バリア層又は保護層との密着性は低い方が好まし
い。場合によっては隣接層との間に離型剤等の離型層を
形成しても良い。The transfer film of the present invention is obtained by forming only a protective layer or a gas / water vapor barrier layer on a release substrate (b). That is, since there is no adhesive layer, the usable time is not limited, and by keeping in this state, it is also possible to perform a leaving treatment for sufficiently exhibiting the gas barrier property. The peeling substrate (b) comprises:
In order to increase productivity and film formation cost, it is desirable to be as thin as possible, and the thickness is desirably 0.1 mm or less.
However, if the thickness is significantly reduced to less than 0.01 mm,
It is preferable that the thickness be 0.01 mm or more, because handling becomes difficult such as breakage during peeling. Also,
When a photo-curing resin is used for the adhesive layer, it is preferable that the material be capable of transmitting light having a wavelength necessary for curing. For example, polyethylene, polypropylene, aliphatic polyamide, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, Examples thereof include polysulfone, polyether sulfone, and polycarbonate. Further, it is preferable that the peeling substrate (b) is capable of being peeled after laminating.
The lower the adhesion to the water vapor barrier layer or the protective layer, the better. In some cases, a release layer such as a release agent may be formed between adjacent layers.

【０００９】本発明の保護層は、ガス・水蒸気バリア層
を保護するもので、ガス・水蒸気バリア層との密着性が
良く、ある程度の表面高度を持つ材質であることが好ま
しい。一例としては、熱硬化樹脂又は光硬化樹脂を主成
分とする樹脂組成物が好ましく、熱硬化樹脂の例として
は、オルソクレゾールノボラック型エポキシ，ビスフェ
ノールＡ型エポキシ，ビスフェノールＦ型エポキシ，ビ
スフェノールＳ型エポキシ，ビフェニル型エポキシ，ジ
シクロペンタジエン型エポキシ等のエポキシ樹脂や、フ
ェノール樹脂，ビスマレイミド，不飽和ポリエステル等
およびこれらにシリカ等の無機フィラーを含有させたも
のを挙げることができ、また、光硬化樹脂としては、エ
ポキシアクリレート，ウレタンアクリレート，ポリエチ
レングリコールアクリレート，グリセロールメタクリレ
ート等のアクリル樹脂や脂環式エポキシ樹脂等およびこ
れらにシリカ等の無機フィラーを含有させたものを挙げ
ることができるが、特に限定はしない。The protective layer of the present invention protects the gas / water vapor barrier layer, and is preferably a material having good adhesion to the gas / water vapor barrier layer and having a certain surface height. As an example, a resin composition containing a thermosetting resin or a photocurable resin as a main component is preferable. Examples of the thermosetting resin include orthocresol novolak epoxy, bisphenol A epoxy, bisphenol F epoxy, and bisphenol S epoxy. , Epoxy resins such as biphenyl type epoxy and dicyclopentadiene type epoxy, phenol resins, bismaleimides, unsaturated polyesters and the like, and those containing inorganic fillers such as silica in these. Examples of the resin include acrylic resins such as epoxy acrylate, urethane acrylate, polyethylene glycol acrylate, and glycerol methacrylate, alicyclic epoxy resins, and the like, and those containing inorganic fillers such as silica in these. Constant are not.

【００１０】本発明のガス・水蒸気バリア層は、液晶保
護のため又は基板自体の寸歩変化を防ぐためのもので、
ポリビニルアルコールやポリ（エチレンビニルアルコー
ル）のような有機材料や酸化珪素，酸化アルミニウム，
酸化錫，酸化インジウム錫等の無機材料が挙げられる
が、これらの中でもガスバリア性の湿度依存性を有しな
い無機材料の薄膜を成膜する事によって得られるものが
望ましく、成膜方法の例としては、ゾル−ゲル法，真空
蒸着，イオンプレーティング，スパッタリング，ＣＶＤ
等を挙げることができるが、緻密でガスバリア性に優れ
る膜が得られやすいとこから真空蒸着，イオンプレーテ
ィング，スパッタリング，ＣＶＤ等の真空成膜法が好ま
しい。The gas / water vapor barrier layer of the present invention is for protecting the liquid crystal or for preventing dimensional change of the substrate itself.
Organic materials such as polyvinyl alcohol and poly (ethylene vinyl alcohol), silicon oxide, aluminum oxide,
Inorganic materials such as tin oxide and indium tin oxide may be mentioned, and among these, those obtained by forming a thin film of an inorganic material having no humidity dependence on gas barrier properties are desirable. , Sol-gel method, vacuum deposition, ion plating, sputtering, CVD
However, a vacuum deposition method such as vacuum deposition, ion plating, sputtering, and CVD is preferable because a dense film having excellent gas barrier properties is easily obtained.

【００１１】本発明の転写フィルムは、基材（ａ）の片
面もしくは両面にラミネートすることができ、片面にラ
ミネートした場合はその裏面に、両面にラミネートした
場合は一面に、場合によってはアンダーコート層を介し
て透明導電層を形成して表示素子用基板が完成する。The transfer film of the present invention can be laminated on one side or both sides of the substrate (a). When laminated on one side, it is on the back side, when laminated on both sides, it is on one side, and in some cases, undercoat. The display element substrate is completed by forming a transparent conductive layer through the layer.

【００１２】[0012]

【実施例】以下実施例に基づき説明するが、本発明はこ
れらにより何ら制限されるものではない。 （実施例１） （１）転写フィルムの作成 厚さ０．０３ｍｍの延伸ポリプロピレンフィルム上に、
巻出装置、コーター部、加熱乾燥ゾーン、ラミネートロ
ール、巻取装置を有する製造装置を用いて次の加工を行
った。コーター部にキスコーターを用いてジシクロペン
タジエン型エポキシ１０重量部、オルソクレゾールノボ
ラック型エポキシ５重量部、メルカプトプロピオン酸１
０重量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルア
セテート４５重量部の混合液を乾燥後膜厚１μｍとなる
ように塗布し、加熱乾燥ゾーン中１００℃で５分間加熱
して溶媒を除去するとともに硬化を行った。この上に、
スパッタリング法により５００Å厚のＳｉＯ_xを得た。
ｘの値はスパッタリング時の酸素ガス流量を制御するこ
とにより１．６〜１．８とした。このようにしてガスバ
リア層を有する転写フィルムを作成した。作成後、温度
３０℃湿度６０％の環境で１ヶ月間保存した。 （２）光学用高分子シートの作成 厚さ０．２ｍｍのポリエーテルスルホンを基材として用
い、巻出装置、コーター部、加熱乾燥ゾーン、ラミネー
トロール、高圧水銀灯、巻取装置を有する製造装置を用
いて次の加工を行った。まず、紫外線硬化性樹脂組成物
として融点７０℃のエポキシアクリレートプレポリマー
１００重量部、酢酸ブチル３００重量部，プロピレング
リコールモノメチルエーテルアセテート１００重量部，
ベンゾインエチルエーテル２重量部を５０℃にて撹拌、
溶解して均一な溶液としたものをコーター部のグラビヤ
ロールコーターで乾燥後膜厚５μｍとなるように塗布
し、加熱乾燥ゾーン中１００℃で５分間加熱して溶媒を
除去した。続いて温度を８０℃に設定したラミネートロ
ールを用いて、前記の転写フィルムをガスバリア層と塗
布面をあわせてラミネートし、転写フィルム面側から高
圧水銀灯を用いて紫外線を５００ｍＪ／ｃｍ²照射し、
紫外線硬化性樹脂組成物を硬化した。ラミネート後、延
伸ポリプロピレンフィルムを剥離し、光学用高分子シー
トを得た。このシートの温度２３℃湿度９０％における
酸素透過率をＪＩＳ Ｋ７１２６のＢ法（等圧法）を用
いて測定したところ、０．１ｃｍ³／ｍ²・２４ｈ・ａｔ
ｍであった。また、このシートの温度４０℃湿度９０％
における酸素透過率をＪＩＳ Ｋ７１２９のＢ法（赤外
センサー法）を用いて測定したところ、０．２ｇ／ｍ²
・ｄａｙであった。さらにこのシートの全光線透過率を
ＪＩＳ Ｋ７１０５の方法で測定したところ、８８％で
あった。一般に、表示素子用基板としての全光線透過率
は、８０％以上が要求されており、本発明の光学用高分
子シートは、表示素子用基板として十分使用できるもの
であることがわかった。続いて、以下のような手順で液
晶表示用素子を作製した。まず、上記光学用高分子シー
トに透明導電膜として、ＤＣマグネトロン法により初期
真空度３×１０^-4Ｐａの状態から酸素／アルゴンガス４
％の混合ガスを導入して１×１０^-1Ｐａの条件下におい
てスパッタリングを行いＩｎ／(Ｉｎ＋Ｓｎ)の原子比が
０．９８である酸化インジウム錫（ＩＴＯ）からなる透
明導電膜を得た。測定の結果、膜厚は１６００Å、比抵
抗は４×１０^-4Ω−ｃｍであった。ＩＴＯを成膜後、レ
ジストを塗布して現像し、エッチング液として１０ｖｏ
ｌ％ＨＣｌ、液温４０℃中でパターンエッチングし、対
角長さ３インチ、Ｌ／Ｓ＝１５０／５０μｍの表示パタ
ーンを形成した。パターン形成後、ＳＴＮ用配向膜を塗
布し、１５０℃２ｈｒの焼成処理を行った後、２４０度
ツイストの配向となるようラビング処理を行った。ラビ
ング処理後、スペーサーを散布し、シール剤を塗布し、
１３０℃でシール硬化させてセル化し、ＳＴＮ用液晶組
成物を注入した。偏光板をコントラストの最大となる位
置に貼り合わせて液晶表示素子を作製した。この液晶表
示素子はガスバリア性不足による気泡の発生がなく表示
欠点は観察されなかった。EXAMPLES The present invention will be described below with reference to examples, but the present invention is not limited thereto. (Example 1) (1) Preparation of transfer film On a stretched polypropylene film having a thickness of 0.03 mm,
The following processing was performed using a manufacturing apparatus having an unwinding device, a coater section, a heating and drying zone, a laminating roll, and a winding device. Using a kiss coater in the coater part, 10 parts by weight of dicyclopentadiene type epoxy, 5 parts by weight of ortho-cresol novolak type epoxy, mercaptopropionic acid 1
A mixed solution of 0 parts by weight and 45 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether acetate was dried and applied so as to have a film thickness of 1 μm, and heated in a heating and drying zone at 100 ° C. for 5 minutes to remove the solvent and cure. On top of this,
A 500 ° thick SiO _x was obtained by sputtering.
The value of x was set to 1.6 to 1.8 by controlling the flow rate of oxygen gas during sputtering. Thus, a transfer film having a gas barrier layer was prepared. After the preparation, it was stored for one month in an environment at a temperature of 30 ° C. and a humidity of 60%. (2) Preparation of a polymer sheet for optics A manufacturing apparatus using an unwinder, a coater, a heating and drying zone, a laminating roll, a high-pressure mercury lamp, and a winding device using a polyether sulfone having a thickness of 0.2 mm as a base material. The following processing was performed using it. First, as an ultraviolet curable resin composition, 100 parts by weight of an epoxy acrylate prepolymer having a melting point of 70 ° C., 300 parts by weight of butyl acetate, 100 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether acetate,
2 parts by weight of benzoin ethyl ether was stirred at 50 ° C.
The solution obtained by dissolving the solution into a uniform one was dried with a gravure roll coater in a coater part, applied to a film thickness of 5 μm, and heated in a heating and drying zone at 100 ° C. for 5 minutes to remove the solvent. Subsequently, using a laminating roll set at a temperature of 80 ° C., the transfer film was laminated with the gas barrier layer and the coated surface together, and irradiated with 500 mJ / cm ² ultraviolet rays from the transfer film surface side using a high-pressure mercury lamp,
The ultraviolet curable resin composition was cured. After lamination, the stretched polypropylene film was peeled off to obtain an optical polymer sheet. The oxygen transmission rate of this sheet at a temperature of 23 ° C. and a humidity of 90% was measured by the method B (constant pressure method) of JIS K7126, and was 0.1 cm ³ / m ² · 24 h · at.
m. The temperature of this sheet is 40 ° C. and the humidity is 90%.
Was measured using the method B (infrared sensor method) of JIS K7129 at 0.2 g / m ^2.
-It was day. Further, when the total light transmittance of this sheet was measured by the method of JIS K7105, it was 88%. In general, the total light transmittance as a display element substrate is required to be 80% or more, and it has been found that the optical polymer sheet of the present invention can be sufficiently used as a display element substrate. Subsequently, a liquid crystal display element was manufactured in the following procedure. First, a transparent conductive film was formed on the above-mentioned optical polymer sheet from an initial vacuum degree of 3 × 10 ⁻⁴ Pa oxygen / argon gas 4 by a DC magnetron method.
% Of a mixed gas, and sputtering was performed under the condition of 1 × 10 ⁻¹ Pa to obtain a transparent conductive film made of indium tin oxide (ITO) having an atomic ratio of In / (In + Sn) of 0.98. As a result of the measurement, the film thickness was 1600 ° and the specific resistance was 4 × 10 ⁻⁴ Ω-cm. After forming the ITO film, apply a resist and develop it.
Pattern etching was performed in 1% HCl at a liquid temperature of 40 ° C. to form a display pattern having a diagonal length of 3 inches and L / S = 150/50 μm. After pattern formation, an alignment film for STN was applied, baked at 150 ° C. for 2 hours, and rubbed to 240 ° twist alignment. After rubbing, spray spacers, apply sealant,
The cell was cured by sealing at 130 ° C., and the liquid crystal composition for STN was injected. A polarizing plate was attached to a position where the contrast was maximized to produce a liquid crystal display device. In this liquid crystal display element, no bubbles were generated due to insufficient gas barrier properties, and no display defects were observed.

【００１３】（実施例２） （１）転写フィルムの作成 厚さ０．０１２ｍｍの耐熱ポリエステルフィルム上に、
スパッタリング法により１０００Å厚のＳｉＯ_xを得
た。ｘの値はスパッタリング時の酸素ガス流量を制御す
ることにより１．６〜１．８とした。このようにしてガ
スバリア層を有する転写フィルムを作成した。作成後、
温度３０℃湿度６０％の環境で１ヶ月間保存した。 （２）光学用高分子シートの作成 厚さ０．１５ｍｍのポリカーボネートを基材として用
い、巻出装置、ラミネートロール、巻取装置を有する製
造装置を用いてラミネートロール温度を１４０℃に設定
し、ラミネートを行った。ラミネート後、耐熱ポリエス
テルフィルムを剥離し、巻出装置、コーター部、加熱乾
燥ゾーン、高圧水銀灯、巻取装置を有する製造装置を用
いて次の加工を行った。まず、紫外線硬化性樹脂組成物
として融点７０℃のエポキシアクリレートプレポリマー
１００重量部、酢酸ブチル３００重量部，プロピレング
リコールモノメチルエーテルアセテート１００重量部，
ベンゾインエチルエーテル２重量部を５０℃にて撹拌、
溶解して均一な溶液としたものをコーター部のグラビヤ
ロールコーターで乾燥後膜厚２μｍとなるように塗布
し、加熱乾燥ゾーン中１００℃で５分間加熱して溶媒を
除去した。続いて塗布面側から高圧水銀灯を用いて紫外
線を５００ｍＪ／ｃｍ²照射し、紫外線硬化性樹脂組成
物を硬化して光学用高分子シートを得た。このシートの
温度２３℃湿度９０％における酸素透過率をＪＩＳＫ７
１２６のＢ法（等圧法）を用いて測定したところ、０．
１ｃｍ³／ｍ²・２４ｈ・ａｔｍであった。また、このシ
ートの温度４０℃湿度９０％における酸素透過率をＪＩ
Ｓ Ｋ７１２９のＢ法（赤外センサー法）を用いて測定
したところ、０．２ｇ／ｍ²・ｄａｙであった。さらに
このシートの全光線透過率をＪＩＳＫ７１０５の方法で
測定したところ、８７％であった。続いて実施例１と同
様に液晶表示素子を作製した。この液晶表示素子はガス
バリア性不足による気泡の発生がなく表示欠点は観察さ
れなかった。(Example 2) (1) Preparation of transfer film On a heat-resistant polyester film having a thickness of 0.012 mm,
1000 _x thick SiO _x was obtained by sputtering. The value of x was set to 1.6 to 1.8 by controlling the flow rate of oxygen gas during sputtering. Thus, a transfer film having a gas barrier layer was prepared. After creation,
It was stored for one month in an environment of a temperature of 30 ° C. and a humidity of 60%. (2) Preparation of polymer sheet for optics Using a polycarbonate having a thickness of 0.15 mm as a base material, the laminating roll temperature was set to 140 ° C. using a manufacturing apparatus having an unwinding device, a laminating roll, and a winding device. Lamination was performed. After lamination, the heat-resistant polyester film was peeled off, and the following processing was performed using a manufacturing apparatus having an unwinding device, a coater, a heating and drying zone, a high-pressure mercury lamp, and a winding device. First, as an ultraviolet curable resin composition, 100 parts by weight of an epoxy acrylate prepolymer having a melting point of 70 ° C., 300 parts by weight of butyl acetate, 100 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether acetate,
2 parts by weight of benzoin ethyl ether was stirred at 50 ° C.
The resulting solution was dried by a gravure roll coater in a coater portion, applied to a thickness of 2 μm, and heated in a heating and drying zone at 100 ° C. for 5 minutes to remove the solvent. Subsequently, ultraviolet rays were irradiated from the application side using a high-pressure mercury lamp at 500 mJ / cm ² to cure the ultraviolet curable resin composition to obtain an optical polymer sheet. The oxygen permeability of this sheet at a temperature of 23 ° C. and a humidity of 90% was measured according to JIS K7.
126 was measured using the B method (isobaric method).
It was 1 cm ³ / m ² · 24 h · atm. The oxygen permeability of this sheet at a temperature of 40 ° C. and a humidity of 90% was determined by JI.
It was 0.2 g / m ² · day when measured using the B method (infrared sensor method) of SK7129. Further, when the total light transmittance of this sheet was measured by the method of JIS K7105, it was 87%. Subsequently, a liquid crystal display device was manufactured in the same manner as in Example 1. In this liquid crystal display element, no bubbles were generated due to insufficient gas barrier properties, and no display defect was observed.

【００１４】（実施例３） （１）転写フィルムの作成 厚さ０．０３ｍｍの延伸ポリエステル上に、巻出装置、
コーター部、加熱乾燥ゾーン、ラミネートロール、高圧
水銀灯、巻取装置を有する製造装置を用いて次の加工を
行った。コーター部にキスコーターを用いて、紫外線硬
化性樹脂組成物として融点７０℃のエポキシアクリレー
トプレポリマー１００重量部、酢酸ブチル３００重量
部，プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテー
ト１００重量部，ベンゾインエチルエーテル２重量部を
５０℃にて撹拌、溶解して均一な溶液としたものを乾燥
後膜厚２μｍとなるように塗布し、加熱乾燥ゾーン中１
００℃で５分間加熱して溶媒を除去した。続いて塗布面
側から高圧水銀灯を用いて紫外線を５００ｍＪ／ｃｍ²
照射し、紫外線硬化性樹脂組成物を硬化した。この上
に、スパッタリング法により５００Å厚のＳｉＯ_xを得
た。ｘの値はスパッタリング時の酸素ガス流量を制御す
ることにより１．６〜１．８とした。このようにしてガ
スバリア層を有する転写フィルムを作成した。作成後、
温度３０℃湿度６０％の環境で１ヶ月間保存した。 （２）光学用高分子シートの作成 厚さ０．２ｍｍのポリエーテルスルホンを基材として用
い、巻出装置、コーター部、加熱乾燥ゾーン、ラミネー
トロール、第２加熱ゾーン、巻取装置を有する製造装置
を用いて次の加工を行った。まず、ジシクロペンタジエ
ン型エポキシ１０重量部、オルソクレゾールノボラック
型エポキシ５重量部、メルカプトプロピオン酸１０重量
部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテー
ト４５重量部の混合液を乾燥後膜厚１μｍとなるようコ
ーター部にキスコーターを用いて塗布し、加熱乾燥ゾー
ン中８０℃で３分間加熱して溶媒を除去した。続いて温
度を１２０℃に設定したラミネートロールを用いて、前
記の転写フィルムをガスバリア層と塗布面をあわせてラ
ミネートし、第２加熱ゾーンで１２０℃３分間加熱し、
エポキシ脂組成物を熱硬化した。その後、延伸ポリプロ
ピレンフィルムを剥離し、光学用高分子シートを得た。
このシートの温度２３℃湿度９０％における酸素透過率
をＪＩＳ Ｋ７１２６のＢ法（等圧法）を用いて測定し
たところ、０．１ｃｍ³／ｍ²・２４ｈ・ａｔｍであっ
た。また、このシートの温度４０℃湿度９０％における
酸素透過率をＪＩＳ Ｋ７１２９のＢ法（赤外センサー
法）を用いて測定したところ、０．２ｇ／ｍ²・ｄａｙ
であった。さらにこのシートの全光線透過率をＪＩＳ
Ｋ７１０５の方法で測定したところ、８９％であった。
続いて実施例１と同様に液晶表示素子を作製した。この
液晶表示素子はガスバリア性不足による気泡の発生がな
く表示欠点は観察されなかった。Example 3 (1) Preparation of Transfer Film An unwinding device was placed on a 0.03 mm-thick stretched polyester.
The following processing was performed using the manufacturing apparatus which has a coater part, a heating drying zone, a laminating roll, a high-pressure mercury lamp, and a winding device. Using a kiss coater in the coater part, 100 parts by weight of an epoxy acrylate prepolymer having a melting point of 70 ° C., 300 parts by weight of butyl acetate, 100 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether acetate, and 2 parts by weight of benzoin ethyl ether were used as an ultraviolet curable resin composition. After stirring and dissolving at a temperature of 0 ° C. to form a uniform solution, the solution was dried and applied so as to have a thickness of 2 μm.
The solvent was removed by heating at 00 ° C. for 5 minutes. Subsequently, ultraviolet rays were applied from the application side using a high-pressure mercury lamp at 500 mJ / cm ^2.
Irradiation was performed to cure the ultraviolet curable resin composition. On top of this, a 500 ° thick SiO _x was obtained by sputtering. The value of x was set to 1.6 to 1.8 by controlling the flow rate of oxygen gas during sputtering. Thus, a transfer film having a gas barrier layer was prepared. After creation,
It was stored for one month in an environment of a temperature of 30 ° C. and a humidity of 60%. (2) Preparation of polymer sheet for optics Using polyether sulfone having a thickness of 0.2 mm as a base material and having an unwinder, a coater, a heating and drying zone, a laminating roll, a second heating zone, and a winding device The following processing was performed using the apparatus. First, a mixed solution of 10 parts by weight of dicyclopentadiene type epoxy, 5 parts by weight of orthocresol novolac type epoxy, 10 parts by weight of mercaptopropionic acid, and 45 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether acetate is dried to a coater portion so as to have a film thickness of 1 μm. The composition was applied using a kiss coater and heated at 80 ° C. for 3 minutes in a heating and drying zone to remove the solvent. Subsequently, using a laminating roll set at a temperature of 120 ° C., the transfer film was laminated with the gas barrier layer and the coated surface together, and heated at 120 ° C. for 3 minutes in a second heating zone,
The epoxy resin composition was thermally cured. Thereafter, the stretched polypropylene film was peeled off to obtain an optical polymer sheet.
The oxygen permeability of this sheet at a temperature of 23 ° C. and a humidity of 90% was measured by the method B (constant pressure method) of JIS K7126, and it was 0.1 cm ³ / m ² · 24 h · atm. The oxygen permeability of this sheet at a temperature of 40 ° C. and a humidity of 90% was measured by the method B (infrared sensor method) of JIS K7129, and was 0.2 g / m ² · day.
Met. Further, the total light transmittance of this sheet was measured according to JIS.
It was 89% when measured by the method of K7105.
Subsequently, a liquid crystal display device was manufactured in the same manner as in Example 1. In this liquid crystal display element, no bubbles were generated due to insufficient gas barrier properties, and no display defects were observed.

【００１５】（実施例４） （１）転写フィルムの作成 厚さ０．０２ｍｍの延伸ナイロンフィルム上に、巻出装
置、コーター部、加熱乾燥ゾーン、ラミネートロール、
巻取装置を有する製造装置を用いて次の加工を行った。
コーター部にキスコーターを用いてジシクロペンタジエ
ン型エポキシ１０重量部、オルソクレゾールノボラック
型エポキシ５重量部、メルカプトプロピオン酸１０重量
部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテー
ト４５重量部の混合液を乾燥後膜厚１μｍとなるように
塗布し、加熱乾燥ゾーン中１００℃で５分間加熱して溶
媒を除去するとともに硬化を行った。この上に、スパッ
タリング法により５００Å厚のＳｉＯ_xを得た。ｘの値
はスパッタリング時の酸素ガス流量を制御することによ
り１．６〜１．８とした。このようにしてガスバリア層
を有する転写フィルムを作成した。作成後、温度３０℃
湿度６０％の環境で１ヶ月間保存した。 （２）光学用高分子シートの作成 厚さ０．２ｍｍのポリシクロオレフィンフィルムを基材
として用い、巻出装置、コーター部、加熱乾燥ゾーン、
ラミネートロール、高圧水銀灯、巻取装置を有する製造
装置を用いて次の加工を行った。まず、紫外線硬化性樹
脂組成物として融点７０℃のエポキシアクリレートプレ
ポリマー１００重量部、酢酸ブチル３００重量部，プロ
ピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１００
重量部，ベンゾインエチルエーテル２重量部を５０℃に
て撹拌、溶解して均一な溶液としたものをコーター部の
グラビヤロールコーターで乾燥後膜厚５μｍとなるよう
に塗布し、加熱乾燥ゾーン中１００℃で５分間加熱して
溶媒を除去した。続いて温度を８０℃に設定したラミネ
ートロールを用いて、前記の転写フィルムをガスバリア
層と塗布面をあわせてラミネートし、基材の裏面側から
高圧水銀灯を用いて紫外線を７００ｍＪ／ｃｍ²照射
し、紫外線硬化性樹脂組成物を硬化した。ラミネート
後、延伸ポリプロピレンフィルムを剥離し、光学用高分
子シートを得た。このシートの温度２３℃湿度９０％に
おける酸素透過率をＪＩＳ Ｋ７１２６のＢ法（等圧
法）を用いて測定したところ、０．１ｃｍ³／ｍ²・２４
ｈ・ａｔｍであった。また、このシートの温度４０℃湿
度９０％における酸素透過率をＪＩＳ Ｋ７１２９のＢ
法（赤外センサー法）を用いて測定したところ、０．２
ｇ／ｍ²・ｄａｙであった。さらにこのシートの全光線
透過率をＪＩＳ Ｋ７１０５の方法で測定したところ、
８９％であった。続いて実施例１と同様に液晶表示素子
を作製した。この液晶表示素子はガスバリア性不足によ
る気泡の発生がなく表示欠点は観察されなかった。Example 4 (1) Preparation of Transfer Film On a stretched nylon film having a thickness of 0.02 mm, an unwinder, a coater, a heating and drying zone, a laminating roll,
The following processing was performed using a manufacturing apparatus having a winding device.
Using a kiss coater in the coater part, a mixed solution of 10 parts by weight of dicyclopentadiene type epoxy, 5 parts by weight of orthocresol novolak type epoxy, 10 parts by weight of mercaptopropionic acid, and 45 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether acetate was dried to have a film thickness of 1 μm. It was then applied and heated in a heating and drying zone at 100 ° C. for 5 minutes to remove the solvent and cure. On top of this, a 500 ° thick SiO _x was obtained by sputtering. The value of x was set to 1.6 to 1.8 by controlling the flow rate of oxygen gas during sputtering. Thus, a transfer film having a gas barrier layer was prepared. After making, temperature 30 ℃
It was stored for one month in an environment with a humidity of 60%. (2) Preparation of polymer sheet for optics Using a 0.2 mm thick polycycloolefin film as a base material, an unwinder, a coater, a heating and drying zone,
The following processing was performed using a manufacturing apparatus having a laminating roll, a high-pressure mercury lamp, and a winding device. First, as an ultraviolet curable resin composition, 100 parts by weight of an epoxy acrylate prepolymer having a melting point of 70 ° C., 300 parts by weight of butyl acetate, and 100 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether acetate
Parts by weight and 2 parts by weight of benzoin ethyl ether were stirred at 50 ° C. and dissolved to form a uniform solution. The solution was dried with a gravure roll coater in a coater part so as to have a thickness of 5 μm. Heat at 5 ° C. for 5 minutes to remove solvent. Subsequently, using a laminating roll set at a temperature of 80 ° C., the transfer film was laminated with the gas barrier layer and the coated surface together, and irradiated with 700 mJ / cm ² ultraviolet rays from the back side of the substrate using a high-pressure mercury lamp. Then, the ultraviolet curable resin composition was cured. After lamination, the stretched polypropylene film was peeled off to obtain an optical polymer sheet. The oxygen permeability of this sheet at a temperature of 23 ° C. and a humidity of 90% was measured by the method B (isobaric method) of JIS K7126 to be 0.1 cm ³ / m ² · 24.
h · atm. Further, the oxygen permeability of the sheet at a temperature of 40 ° C. and a humidity of 90% was measured according to JIS K7129 B
When measured using the infrared sensor method,
g / m ² · day. Further, when the total light transmittance of this sheet was measured by the method of JIS K7105,
89%. Subsequently, a liquid crystal display device was manufactured in the same manner as in Example 1. In this liquid crystal display element, no bubbles were generated due to insufficient gas barrier properties, and no display defect was observed.

【００１６】（実施例５） （１）転写フィルムの作成 厚さ０．０２５ｍｍの延伸ナイロンフィルム上に、巻出
装置、コーター部、加熱乾燥ゾーン、ラミネートロー
ル、巻取装置を有する製造装置を用いて次の加工を行っ
た。コーター部にキスコーターを用いてジシクロペンタ
ジエン型エポキシ１０重量部、オルソクレゾールノボラ
ック型エポキシ５重量部、メルカプトプロピオン酸１０
重量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセ
テート４５重量部の混合液を乾燥後膜厚１μｍとなるよ
うに塗布し、加熱乾燥ゾーン中１００℃で５分間加熱し
て溶媒を除去するとともに硬化を行った。この上に、ス
パッタリング法により５００Å厚のＳｉＯ_xを得た。ｘ
の値はスパッタリング時の酸素ガス流量を制御すること
により１．６〜１．８とした。このようにしてガスバリ
ア層を有する転写フィルムを作成した。作成後、温度３
０℃湿度６０％の環境で１ヶ月間保存した。 （２）光学用高分子シートの作成 厚さ０．３ｍｍのポリエーテルスルホンを基材として用
い、巻出装置、コーター部、加熱乾燥ゾーン、ラミネー
トロール、巻取装置を有する製造装置を用いて次の加工
を行った。まず、熱硬化性樹脂組成物としてポリエステ
ル−ウレタンジオール７０重量部、ポリイソシアネート
１０重量部、酢酸エチル１００重量部を２５℃にて撹
拌、溶解して均一な溶液としたものをコーター部のグラ
ビヤロールコーターで乾燥後膜厚５μｍとなるように塗
布し、加熱乾燥ゾーン中６０℃で５分間加熱して溶媒を
除去した。続いて温度を８０℃に設定したラミネートロ
ールを用いて、前記の転写フィルムをガスバリア層と塗
布面をあわせてラミネートし、４０℃、１２０時間で熱
硬化性樹脂組成物を硬化した。ラミネート後、延伸ナイ
ロンフィルムを剥離し、光学用高分子シートを得た。こ
のシートの温度２３℃湿度９０％における酸素透過率を
ＪＩＳ Ｋ７１２６のＢ法（等圧法）を用いて測定した
ところ、０．１ｃｍ³／ｍ²・２４ｈ・ａｔｍであった。
また、このシートの温度４０℃湿度９０％における酸素
透過率をＪＩＳＫ７１２９のＢ法（赤外センサー法）を
用いて測定したところ、０．１ｇ／ｍ²・ｄａｙであっ
た。さらにこのシートの全光線透過率をＪＩＳ Ｋ７１
０５の方法で測定したところ、８８％であった。続いて
実施例１と同様に液晶表示素子を作製した。この液晶表
示素子はガスバリア性不足による気泡の発生がなく表示
欠点は観察されなかった。Example 5 (1) Preparation of Transfer Film A manufacturing apparatus having an unwinding device, a coater, a heating and drying zone, a laminating roll, and a winding device was used on a stretched nylon film having a thickness of 0.025 mm. The following processing was performed. Using a kiss coater in the coater part, 10 parts by weight of dicyclopentadiene type epoxy, 5 parts by weight of orthocresol novolac type epoxy, 10 parts by weight of mercaptopropionic acid
After drying, a mixed solution of 45 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether acetate was applied so as to have a film thickness of 1 μm, and heated in a heating and drying zone at 100 ° C. for 5 minutes to remove the solvent and cure. On top of this, a 500 ° thick SiO _x was obtained by sputtering. x
Was set to 1.6 to 1.8 by controlling the flow rate of oxygen gas during sputtering. Thus, a transfer film having a gas barrier layer was prepared. After creation, temperature 3
It was stored for 1 month in an environment of 0 ° C. and 60% humidity. (2) Preparation of polymer sheet for optics Using polyethersulfone having a thickness of 0.3 mm as a base material, using a manufacturing apparatus having an unwinding device, a coater section, a heating and drying zone, a laminating roll, and a winding device, Was processed. First, as a thermosetting resin composition, 70 parts by weight of polyester-urethanediol, 10 parts by weight of polyisocyanate, and 100 parts by weight of ethyl acetate were stirred and dissolved at 25 ° C. to form a uniform solution, and a gravure roll in a coater part was used. After drying with a coater, the film was coated so as to have a film thickness of 5 μm, and heated at 60 ° C. for 5 minutes in a heating drying zone to remove the solvent. Subsequently, using a laminating roll set at a temperature of 80 ° C., the transfer film was laminated with the gas barrier layer and the coated surface together, and the thermosetting resin composition was cured at 40 ° C. for 120 hours. After lamination, the stretched nylon film was peeled off to obtain an optical polymer sheet. The oxygen permeability of this sheet at a temperature of 23 ° C. and a humidity of 90% was measured by the method B (constant pressure method) of JIS K7126, and it was 0.1 cm ³ / m ² · 24 h · atm.
The oxygen permeability of this sheet at a temperature of 40 ° C. and a humidity of 90% was measured by the method B (infrared sensor method) of JIS K7129, and was 0.1 g / m ² · day. Further, the total light transmittance of this sheet was measured according to JIS K71.
It was 88% as measured by the method of Example 05. Subsequently, a liquid crystal display device was manufactured in the same manner as in Example 1. In this liquid crystal display element, no bubbles were generated due to insufficient gas barrier properties, and no display defect was observed.

【００１７】《比較例》 （１）転写フィルムの作成 厚さ０．０３ｍｍの延伸ポリエステル上に、巻出装置、
コーター部、加熱乾燥ゾーン、ラミネートロール、高圧
水銀灯、巻取装置を有する製造装置を用いて次の加工を
行った。コーター部にキスコーターを用いて、紫外線硬
化性樹脂組成物として融点７０℃のエポキシアクリレー
トプレポリマー１００重量部、酢酸ブチル３００重量
部，プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテー
ト１００重量部，ベンゾインエチルエーテル２重量部を
５０℃にて撹拌、溶解して均一な溶液としたものを乾燥
後膜厚２μｍとなるように塗布し、加熱乾燥ゾーン中１
００℃で５分間加熱して溶媒を除去した。続いて塗布面
側から高圧水銀灯を用いて紫外線を５００ｍＪ／ｃｍ²
照射し、紫外線硬化性樹脂組成物を硬化した。この上
に、スパッタリング法により５００Å厚のＳｉＯ_xを得
た。ｘの値はスパッタリング時の酸素ガス流量を制御す
ることにより１．６〜１．８とした。続いて巻出装置、
コーター部、加熱乾燥ゾーン、ラミネートロール、巻取
装置を有する製造装置を用いてＳｉＯ_x上にジシクロペ
ンタジエン型エポキシ１０重量部、オルソクレゾールノ
ボラック型エポキシ５重量部、メルカプトプロピオン酸
１０重量部、プロピレングリコールモノメチルエーテル
アセテート４５重量部の混合液を乾燥後膜厚１μｍとな
るようコーター部にキスコーターを用いて塗布し、加熱
乾燥ゾーン中８０℃で３分間加熱して溶媒を除去した。
このようにしてガスバリア層と接着層を有する転写フィ
ルムを作成した。作成後、温度３０℃湿度６０％の環境
で１ヶ月間保存した。 （２）光学用高分子シートの作成 厚さ０．２ｍｍのポリエーテルスルホンを基材として用
い、巻出装置、ラミネートロール、加熱ゾーン、巻取装
置を有する製造装置を用いて次の加工を行った。温度を
１２０℃に設定したラミネートロールを用いて、基材と
前記の転写フィルムを接着面をあわせてラミネートし、
第２加熱ゾーンで１２０℃３分間加熱し、エポキシ脂組
成物を熱硬化した。その後、延伸ポリプロピレンフィル
ムを剥離したところ、十分な接着性が得られずガスバリ
ア層を基材側に部分的にしか転写することができなかっ
た。このシートの温度２３℃湿度９０％における酸素透
過率をＪＩＳ Ｋ７１２６のＢ法（等圧法）を用いて測
定したところ、１．８ｃｍ³／ｍ²・２４ｈ・ａｔｍであ
った。また、このシートの温度４０℃湿度９０％におけ
る酸素透過率をＪＩＳ Ｋ７１２９のＢ法（赤外センサ
ー法）を用いて測定したところ、２．１ｇ／ｍ²・ｄａ
ｙであった。さらにこのシートの全光線透過率をＪＩＳ
Ｋ７１０５の方法で測定したところ、７６％であっ
た。続いて実施例１と同様に液晶表示素子を作製した。
この液晶表示素子はガスバリア性不良による気泡の発生
があり表示欠点が観察された。<< Comparative Example >> (1) Preparation of Transfer Film An unwinding device was placed on a stretched polyester having a thickness of 0.03 mm.
The following processing was performed using the manufacturing apparatus which has a coater part, a heating drying zone, a laminating roll, a high-pressure mercury lamp, and a winding device. Using a kiss coater in the coater part, 100 parts by weight of an epoxy acrylate prepolymer having a melting point of 70 ° C., 300 parts by weight of butyl acetate, 100 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether acetate, and 2 parts by weight of benzoin ethyl ether were used as an ultraviolet curable resin composition. After stirring and dissolving at a temperature of 0 ° C. to form a uniform solution, the solution was dried and applied so as to have a thickness of 2 μm.
The solvent was removed by heating at 00 ° C. for 5 minutes. Subsequently, ultraviolet rays were applied from the application side using a high-pressure mercury lamp at 500 mJ / cm ^2.
Irradiation was performed to cure the ultraviolet curable resin composition. On top of this, a 500 ° thick SiO _x was obtained by sputtering. The value of x was set to 1.6 to 1.8 by controlling the flow rate of oxygen gas during sputtering. Then unwinding device,
10 parts by weight of dicyclopentadiene type epoxy, 5 parts by weight of ortho-cresol novolak type epoxy, 10 parts by weight of mercaptopropionic acid, propylene on SiO _x using a manufacturing apparatus having a coater part, a heating drying zone, a laminating roll, and a winding device. After drying, a mixture of 45 parts by weight of glycol monomethyl ether acetate was applied to a coater using a kiss coater so as to have a film thickness of 1 μm, and the solvent was removed by heating at 80 ° C. for 3 minutes in a heating and drying zone.
Thus, a transfer film having a gas barrier layer and an adhesive layer was prepared. After the preparation, it was stored for one month in an environment at a temperature of 30 ° C. and a humidity of 60%. (2) Preparation of polymer sheet for optics The following processing was performed using a manufacturing apparatus having an unwinding device, a laminating roll, a heating zone, and a winding device using a polyether sulfone having a thickness of 0.2 mm as a base material. Was. Using a laminating roll with the temperature set to 120 ° C., the base material and the transfer film were laminated with their adhesive surfaces aligned,
Heating was performed at 120 ° C. for 3 minutes in the second heating zone to thermally cure the epoxy resin composition. Thereafter, when the stretched polypropylene film was peeled off, sufficient adhesiveness was not obtained, and the gas barrier layer could only be partially transferred to the substrate side. The oxygen permeability of this sheet at a temperature of 23 ° C. and a humidity of 90% was measured by the method B (constant pressure method) of JIS K7126 to be 1.8 cm ³ / m ² · 24 h · atm. The oxygen permeability of this sheet at a temperature of 40 ° C. and a humidity of 90% was measured by the method B (infrared sensor method) of JIS K7129, and it was 2.1 g / m ² · da.
y. Further, the total light transmittance of this sheet was measured according to JIS.
It was 76% when measured by the method of K7105. Subsequently, a liquid crystal display device was manufactured in the same manner as in Example 1.
In this liquid crystal display element, bubbles were generated due to poor gas barrier properties, and display defects were observed.

【００１８】[0018]

【発明の効果】本発明は、ガス・水蒸気バリア性の良好
なプラスチック表示素子用基板に最適な光学用高分子シ
ートを安価に生産性良く製造できるものであり、この方
法により製造されたプラスチック表示素子用基板を用い
た表示素子は、ガラス基板を用いた表示素子に劣らない
良好な表示性能を示した。本発明は、ガラス基板に比べ
て軽く割れにくい特徴を持つプラスチック表示素子用基
板のコストダウンに極めて有効である。According to the present invention, an optical polymer sheet optimal for a substrate for a plastic display element having good gas / water vapor barrier properties can be produced at low cost and with good productivity, and the plastic display produced by this method can be produced. The display element using the element substrate showed good display performance not inferior to the display element using the glass substrate. INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention is extremely effective for reducing the cost of a substrate for a plastic display element, which is lighter and harder to break than a glass substrate.

フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H090 JA06 JA07 JB03 JC07 JD11 JD12 KA08 4F100 AA20 AK01C AK25 AK53 AK54A AK55A AR00C AT00A AT00D BA04 BA07 BA10C CB02G CB04G EA021 EC04 EC042 EH461 EH66 EH661 EJ54 EJ542 GB41 JB13C JB14C JD02 JD02B JD03 JD03B JL14D JN01 JN01DContinued on the front page F-term (reference) 2H090 JA06 JA07 JB03 JC07 JD11 JD12 KA08 4F100 AA20 AK01C AK25 AK53 AK54A AK55A AR00C AT00A AT00D BA04 BA07 BA10C CB02G CB04G EA021 EC04 EC04J EJBD12 EH461 EHD EB02C

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】 少なくとも基材（ａ）とガス・水蒸気バ
リア層を有する高分子シートにおいて、厚さ０．１ｍｍ
以下の剥離用基材（ｂ）上に保護層とガス・水蒸気バリ
ア層またはガス・水蒸気バリア層のみを形成した転写フ
ィルムを基材（ａ）にラミネートすることによって成形
することを特徴とする高分子シートの製造方法および高
分子シート。1. A polymer sheet having at least a substrate (a) and a gas / water vapor barrier layer, having a thickness of 0.1 mm
The method is characterized in that a transfer film in which a protective layer and a gas / water vapor barrier layer or only a gas / water vapor barrier layer are formed on the following peeling substrate (b) is laminated on the substrate (a) to form a sheet. Method for producing molecular sheet and polymer sheet. 【請求項２】 全光線透過率が８０％以上である請求項
１記載の光学用高分子シート。2. The optical polymer sheet according to claim 1, wherein the total light transmittance is 80% or more. 【請求項３】 基材（ａ）がポリエーテルスルホンを含
む透明高分子フィルムから成ることを特徴とした請求項
２記載の光学用高分子シート。3. The optical polymer sheet according to claim 2, wherein the substrate (a) is made of a transparent polymer film containing polyether sulfone. 【請求項４】 基材（ａ）にガス・水蒸気バリア層との
密着性を高めるための密着層を塗工した後に前記転写フ
ィルムをラミネートすることによって成形されることを
特徴とする請求項２又は３記載の光学用高分子シート。4. The method according to claim 2, wherein the transfer film is laminated after applying an adhesion layer for improving adhesion to the gas / water vapor barrier layer on the substrate (a). Or the polymer sheet for optical use according to 3. 【請求項５】 密着層が熱硬化樹脂または光硬化性樹脂
を主成分とする樹脂組成物である請求項４記載の光学用
高分子シート。5. The optical polymer sheet according to claim 4, wherein the adhesion layer is a resin composition containing a thermosetting resin or a photocurable resin as a main component. 【請求項６】 保護層が熱硬化樹脂または光硬化性樹脂
を主成分とする樹脂組成物である請求項１〜５のいずれ
か１項に記載の光学用高分子シート。6. The optical polymer sheet according to claim 1, wherein the protective layer is a resin composition containing a thermosetting resin or a photocurable resin as a main component. 【請求項７】 剥離用基材（ｂ）がラミネート後に、剥
離することが可能であることを特徴とする請求項１〜６
のいずれか１項に記載の光学用高分子シート。7. The peelable substrate (b) can be peeled after lamination.
The polymer sheet for optics according to any one of the above. 【請求項８】 剥離用基材（ｂ）が特定波長の光を透過
し、通過した光が光硬化樹脂を硬化させることが可能で
ある請求項１〜７のいずれか１項に記載の光学用高分子
シート。8. The optical device according to claim 1, wherein the release substrate (b) transmits light of a specific wavelength, and the transmitted light can cure the photocurable resin. For polymer sheet.