JP2002220371A - Ｎ−ビニルカルバゾール類の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】カルバゾール類からＮ−ビニルカルバゾール類
を製造する場合に特殊条件や特殊設備を必要とせず、簡
便かつ安価な工業的方法を提供することができる。 【解決手段】カルバゾール類と炭酸エチレンとをジアザ
ビシクロ系塩基存在下反応させてＮ−（２−ヒドロキシ
エチル）カルバゾール類を得る工程、及び／又はＮ−
（２−ヒドロキシエチル）カルバゾール類のヒドロキシ
エチル基の水酸基をスルホネート体に誘導する工程を含
むＮ−ビニルカルバゾール類の製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は染料などの合成中間
体や液晶素材の合成中間体、または熱可塑性樹脂の合成
中間体などに有用なＮ−ビニルカルバゾール類の製造方
法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】Ｎ−ビニルカルバゾール類の製造方法に
ついては、現在までに多くの研究がなされている。主な
方法としては、（１）カルバゾールとアセチレンの直接
液相反応（特開昭４８−６８５６４号）、（２）カルバ
ゾールとアセチレンの直接常圧気相反応（Ｃｈｅｍ．Ｉ
ｎｄ．（Ｌｏｎｄｏｎ），１９７７，１２，２１、Ｈｕ
ａ Ｈｓｕｅｈ Ｔｕｎｇ Ｐａｏ．，１９７７，１，
２１）、（３）カルバゾールとビニルエーテルとの反応
（特公昭４９−９４６６号、Ｚｈ．Ｏｒｇ．Ｋｈｉ
ｍ．，１９７９，１５（１），１７４−１７７）、
（４）カルバゾールのカリウム塩とエチレンオキシドか
らＮ−（２−ヒドロキシエチル）カルバゾールへ誘導
し、その後塩基存在下で脱水反応する方法（特公昭４９
−９４６８号）、等が知られている。

【０００３】しかし上記の（１）および（２）の場合、
アセチレンを用いるため十分な保護設備を施さなければ
ならず、操作も複雑であり、耐圧装置を必要とする場合
もある。（３）の場合は反応に高価な触媒を用いるため
工業的には不向きであり、かつ反応後の触媒処理が困難
である。（４）の方法ではカルバゾールのカリウム塩を
合成する際に金属カリウムや水素化カリウムを使用する
か、または水酸化カリウムとの溶融反応を行うため特殊
設備を使用しなければならず、毒性が高い上に爆発性の
エチレンオキシドを使用するという欠点がある。また、
反応後減圧蒸留による精製を行わなければならず、操作
が煩雑である。

【０００４】一方、上記（４）に類似した方法として、
カルバゾールと炭酸エチレンとを炭酸カリウム存在下で
反応させてＮ−（２−ヒドロキシエチル）カルバゾール
を得る方法（ソ連特許第４６６２２７号）がある。しか
しこの方法は高温条件下で行うため、使用できる設備が
制限されていた。

【０００５】

【本発明が解決しようとする課題】本発明は、高温・高
圧条件や爆発性物質、また目的物の分離精製においても
減圧蒸留等の手法、更には特殊な設備および装置を用い
なくとも、目的とするＮ−ビニルカルバゾール類の簡便
かつ安価な工業的製造方法を提供する。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者は上記の目的を
達成すべく検討を行った結果、下記の製造方法により本
発明の上記目的が達成される。 （１）カルバゾール類と炭酸エチレンとをジアザビシク
ロ系塩基存在下反応させてＮ−（２−ヒドロキシエチ
ル）カルバゾール類を得る工程を含むことを特徴とする
Ｎ−ビニルカルバゾール類の製造方法。 （２）Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）カルバゾール類の
ヒドロキシエチル基の水酸基をスルホネート体に誘導す
る工程と、前記工程で得られたスルホネート体からＮ−
ビニルカルバゾール類を得る工程を含むことを特徴とす
るＮ−ビニルカルバゾール類の製造方法。 （３）カルバゾール類と炭酸エチレンとをジアザビシク
ロ系塩基存在下反応させてＮ−（２−ヒドロキシエチ
ル）カルバゾール類を得る工程と、前記工程で得られた
Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）カルバゾール類のヒドロ
キシエチル基の水酸基をスルホネート体に誘導する工程
と、前記工程で得られたスルホネート体からＮ−ビニル
カルバゾール類を得る工程とを含むことを特徴とするＮ
−ビニルカルバゾール類の製造方法。

【０００７】本発明は、カルバゾール類と炭酸エチレン
とをジアザビシクロ系塩基存在下で反応させることによ
り、工業的に特殊な設備を必要とせずにＮ−（２−ヒド
ロキシエチル）カルバゾール類を効率良く得ることがで
き、更にこれを経由してＮ−ビニルカルバゾール類を効
率良く得ることができる。また、Ｎ−（２−ヒドロキシ
エチル）カルバゾール類をスルホニル化反応によりヒド
ロキシエチル基の水酸基をスルホネート体へ誘導し、そ
の後スルホン酸誘導体を脱離させることにより、Ｎ−ビ
ニルカルバゾール類を効率良く得ることができる。これ
らの方法によれば、何ら特殊な条件や装置を使用するこ
となく、Ｎ−ビニルカルバゾール類を高収率で得ること
ができ、工業的に著しく有利である。

【０００８】

【発明の実施の形態】次に本発明について詳細に説明す
る。本発明において原料として使用するカルバゾール類
は、下記一般式（Ｉ）で表される。

【０００９】

【化１】

【００１０】式中、ＹおよびＺは同一でも異なっても良
く、４〜８員環を形成するのに必要な非金属原子群を表
す。

【００１１】上記一般式（Ｉ）におけるＹおよびＺの好
ましい非金属原子群としては、炭素、窒素、酸素および
硫黄が挙げられる。ＹおよびＺで形成される環は飽和環
でも不飽和環でもよく、例えばベンゼン等の芳香環、シ
クロヘキサン、シクロペンタン、シクロブタン、シクロ
ヘプタン、シクロオクタン等の飽和環、シクロヘキセ
ン、シクロペンテン等の不飽和環、ピリジン、ピラジ
ン、ピリミジン、チアゾール、チオフェン、フラン、イ
ソキサゾール等の非プロトン性ヘテロ環が挙げられ、特
にYおよびZは炭素原子が好ましく、ベンゼン環であるの
が特に好ましい。またこれらの環は反応に不活性な置換
基を有していてもよく、例えば水素原子、ハロゲン、ア
ルキル基、アルコキシ基、ニトロ基等が挙げられる。ハ
ロゲンとは、ここではフッ素、塩素、臭素及びヨウ素を
意味する。アルキルとは、炭素数１〜６個の低級アルキ
ルで、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、
シクロプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｎ−ペンチ
ル、イソペンチル、ｎ−ヘキシル及びイソヘキシル等が
挙げられる。アルコキシとは、メトキシ、エトキシおよ
びプロポキシ等が挙げられる。好ましい置換基として
は、水素、臭素、塩素、メチル、エチル、イソプロピ
ル、メトキシ、エトキシおよびニトロ基で、更に好まし
い置換基としては、水素、メチル及びエチルが挙げられ
る。

【００１２】以下に一般式（Ｉ）で表される化合物の具
体例を挙げるが、本発明はこれに限定されるものではな
い。

【００１３】

【化２】

【００１４】次に製法について詳しく説明する。一般式
（Ｉ）で表されるカルバゾール類は、市販されているも
のがあり容易に入手可能である。また、市販されていな
い化合物の場合、カルバゾールを原料として公知の方法
で合成可能であり、その合成方法は大有機化学第１４巻
（朝倉書店）等に詳しく記載されている。

【００１５】本発明のＮ−ビニルカルバゾール類の製造
方法の１つの態様は、ジアザビシクロ系塩基存在下、カ
ルバゾール類と炭酸エチレンとを反応させてＮ−（２−
ヒドロキシエチル）カルバゾール類を得る工程（以下、
第１工程ともいう）を含む方法である。用いるジアザビ
シクロ系塩基としては、１，８−ジアザビシクロ[５．
４．０]−７−ウンデセン、１，５−ジアザビシクロ
[４．３．０]−５−ノネン、１，４−ジアザビシクロ
[２．２．２]オクタン等が挙げられ、好ましくは１，８
−ジアザビシクロ[５．４．０]−７−ウンデセンであ
る。塩基の使用量は０．２〜３．０当量が適当であり、
好ましくは０．８〜１．５当量であり、更に好ましくは
１．０〜１．３当量である。

【００１６】第１工程で用いる炭酸エチレンの使用量は
カルバゾール類に対し１．０〜１０．０当量が適当であ
り、好ましくは２．０〜７．０当量であり、更に好まし
くは３．０〜５．０当量である。

【００１７】第１工程で反応溶媒は使用しなくてもよい
が、必要に応じて溶媒を使用しても良い。溶媒は反応原
料や試薬と反応しないものなら何でも良いが、好ましく
は極性溶媒であり、更に好ましくはＮ，Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−
ジメチルイミダゾリジノンである。溶媒の使用量はカル
バゾール類１ｍｏｌに対し通常５０〜１０００ｍｌが適
当であり、好ましくは１００〜２００ｍｌである。

【００１８】本発明において、第１工程における反応の
際の温度は通常３０〜１８０℃であり、好ましくは５０
〜１２０℃であり、更に好ましくは８０〜１００℃であ
る。反応時間は通常１０分〜５時間であり、好ましくは
３０分〜２時間である。なお、反応終了は原料のカルバ
ゾール類の消失で確認でき、この確認は薄層クロマトグ
ラフィー（ＴＬＣ）または高速液体クロマトグラフィー
（ＨＰＬＣ）で行うことができる。

【００１９】本発明のＮ−ビニルカルバゾール類の製造
方法の別の態様は、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）カル
バゾール類を、一般的に公知なスルホニル化剤を用いて
ヒドロキシエチル基の水酸基をスルホネート体に誘導す
る工程（以下、第２工程ともいう）と、該スルホネート
体からスルホン酸誘導体を脱離させることにより、目的
のＮ−ビニルカルバゾール類を得る工程（以下、第３工
程ともいう）を含む。ここで、Ｎ−（２−ヒドロキシエ
チル）カルバゾール類は、上記第１工程で得られたもの
でもよいし、市販されているものも用いることができ
る。また、市販されていない化合物の場合は公知の方法
（例えばソ連特許４６６２２７号に記載の方法）で合成
可能であるが、好ましくは、Ｎ−（２−ヒドロキシエチ
ル）カルバゾール類は、上記第１工程で得られたもので
ある。第２工程としては、Ｎ−（２−ヒドロキシエチ
ル）カルバゾール類を、一般的に公知なスルホニル化剤
を用いてヒドロキシエチル基の水酸基をスルホネート体
に誘導する。第１工程を用いた場合、中間体であるＮ−
（２−ヒドロキシエチル）カルバゾール類は単離せず
に、そのまま一浴法でスルホネート体へ誘導することも
可能であり、工業的に有用である。

【００２０】第２工程で用いるスルホニル化剤は一般的
なものでよいが、好ましくは工業的に有用なメタンスル
ホニルクロリド、ｐ−トルエンスルホニルクロリドであ
る。スルホニル化剤の使用量はＮ−（２−ヒドロキシエ
チル）カルバゾール類に対し１．０〜２．０当量が適当
であり、好ましくは１．０５〜１．２当量である。

【００２１】第２工程で反応溶媒は使用しなくてもよい
が、必要に応じて使用しても良い。溶媒は反応原料や試
薬と反応しないものなら何でも良いが、好ましくはアセ
トニトリル、アセトン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル
イミダゾリジノン、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルホキシド等が
挙げられ、さらに好ましくはアセトニトリル、アセトン
である。溶媒の使用量はＮ−（２−ヒドロキシエチル）
カルバゾール類１ｍｏｌに対し通常５０〜２０００ｍｌ
が適当であり、好ましくは３００〜１５００ｍｌであ
る。

【００２２】第２工程では、通常塩基を添加する。用い
られる塩基は通常使用されるもの、例えばピリジン、ト
リエチルアミン、アニリン、水酸化ナトリウム等の無機
塩基、等が挙げられるが、好ましくはピリジンである。
塩基の使用量は、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）カルバ
ゾール類１ｍｏｌに対し通常０．５〜５．０ｍｏｌが適
当であり、好ましくは１．０〜２．０ｍｏｌである。第
２工程における反応の際の温度は通常０〜８０℃であ
り、好ましくは１０〜４０℃である。反応時間は通常１
０分〜５時間であり、好ましくは３０分〜２時間であ
る。

【００２３】次に、第３工程としては、前述のスルホネ
ート体からスルホン酸誘導体を脱離させることにより、
目的のＮ−ビニルカルバゾール類を得る工程である。こ
の第３工程としては、好ましくは、前述のスルホネート
体から塩基を用いてスルホン酸誘導体を脱離させること
により、目的のＮ−ビニルカルバゾール類を得る工程で
ある。用いられる塩基としては、通常用いられるもの、
例えば金属アルコキシド、トリエチルアミン、ピリジ
ン、水酸化ナトリウム等が挙げられ、好ましくは金属ア
ルコキシドである。金属アルコキシドとしては、具体的
にはナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カ
リウムｔ-ブトキシド、ナトリウムｔ−ブトキシドなど
の金属アルコキシドが挙げられ、好ましくはナトリウム
エトキシド、カリウムｔ-ブトキシドである。塩基の使
用量はスルホネート体に対して０．２〜１．５当量が適
当であり、好ましくは１．１〜１．２当量である。

【００２４】この第３工程における反応では溶媒を用い
ることが好ましい。用いる溶媒は極性溶媒が好ましく、
更に好ましくはジメチルスルホキシド、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，
Ｎ−ジメチルイミダゾリジノンである。溶媒の使用量は
スルホネート体１ｍｏｌに対して通常５０〜５０００ｍ
ｌが適当であり、好ましくは５００〜２０００ｍｌであ
る。

【００２５】第３工程における反応温度は通常−５〜１
２０℃であり、好ましくは０〜３０℃であり、更に好ま
しくは１０〜１５℃である。また、反応系にはハイドロ
キノンやメタジニトロベンゼン等の公知の重合禁止剤を
加えるのが好ましい。重合禁止剤の使用量はスルホネー
ト体１ｍｏｌに対して０．１〜５ｇであり、好ましくは
１〜３ｇであリ、更に好ましくは、１．５〜２ｇであ
る。

【００２６】目的物であるＮ−ビニルカルバゾール類は
反応終了後に水を加えることにより簡単に結晶として取
り出すことができ、高純度のものが得られるが、必要に
応じて再結晶等の精製を行う。

【００２７】

【実施例】次に本発明を実施例に基づき更に詳細に説明
するが、本発明はこれに限定されるものではない。な
お、純度の評価は高速液体クロマトグラフィー（以下
「ＨＰＬＣ」と略記する）によった。 実施例１ ９−ビニルカルバゾール（ＩＶ−１）の合成

【００２８】

【化３】

【００２９】カルバゾール（Ｉ−１）１００．３ｇ
（０．６ｍｏｌ）と炭酸エチレン（Ａ）２６４．２ｇ
（３．０ｍｏｌ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１２
０ｍｌに懸濁し、攪拌した。これに１，８−ジアザビシ
クロ［５．４．０］−７−ウンデセン（Ｂ）１０９．６
ｇ（０．７２ｍｏｌ）を加え、この溶液の内温を１００
℃に保ちながら２時間攪拌した。その後冷却し、酢酸エ
チルおよび水を加え有機層へ抽出した。分液操作後、有
機層中の酢酸エチルを濃縮しアセトニトリル７５０ｍｌ
を加え攪拌した。これに、ピリジン９４．９ｇ（１．２
ｍｏｌ）を加え、この溶液の内温を２０℃〜２５℃に保
ちながらメタンスルホニルクロリド１１６．８ｇ（１．
０２ｍｏｌ）を２０分かけて滴下し、続いて、この温度
範囲で２時間攪拌した。反応後水を７５０ｍｌ加え、生
じた沈殿物を吸引濾過し、２−（９−カルバゾリル）エ
チルメタンスルホネート（ＩＩＩ−１）１５１．１ｇ
（収率８７％、ＨＰＬＣ含量９８．５％）を得た。次
に、この２−（９−カルバゾリル）エチル メタンスル
ホネート９２．６ｇ（０．３２ｍｏｌ）とハイドロキノ
ン０．６４ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３２０ｍ
ｌに懸濁し、攪拌した。これにナトリウムエトキシド２
６．１ｇ（０．３８４ｍｏｌ）を加え、この溶液の内温
を１０℃に保ちながら３０分攪拌した。その後水３２０
ｍｌを加え、生じた沈殿物を吸引濾過して目的物５８．
７ｇ（収率９５％、ＨＰＬＣ含量９９．５％）を得た。

【００３０】実施例２ ３，６−ジブロモ−９−ビニル
カルバゾール（IV−２）の合成

【００３１】

【化４】

【００３２】３，６−ジブロモカルバゾール（Ｉ−２）
６５．０ｇ（０．２ｍｏｌ）と炭酸エチレン（Ａ）８
８．１ｇ（１．０ｍｏｌ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムア
ミド４０ｍｌに懸濁し、攪拌した。これに１，８−ジア
ザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（Ｂ）３
３．１ｇ（０．２５ｍｏｌ）を加え、この溶液の内温を
１００℃に保ちながら3時間攪拌した。その後冷却し、
酢酸エチルおよび水を加え有機層へ抽出した。分液操作
後、有機層中の酢酸エチルを濃縮しメタノール２００ｍ
ｌを加え１０℃〜２０℃の温度範囲で1時間攪拌した。
生じた沈殿物を吸引濾過し、２−（３，６−ジブロモ−
９−カルバゾリル）−１−エタノール（ＩＩ−２）５
９．６ｇ（収率８０．７％、ＨＰＬＣ含量９８．９％）
を得た。次に、この２−（３，６−ジブロモ−９−カル
バゾリル）−１−エタノール３６．９ｇ（０．１ｍｏ
ｌ）をアセトニトリル５０ｍｌに懸濁し、攪拌した。こ
れにピリジン９．５ｇ（０．１２ｍｏｌ）を加え、この
溶液の内温を１０℃〜２０℃に保ちながら、メタンスル
ホニルクロリド１２．６ｇ（０．１１ｍｏｌ）を１５分
かけて滴下し、続いてこの温度範囲で２時間攪拌した。
反応後水を５０ｍｌ加え、生じた沈殿物を吸引濾過して
２−（３，６−ジブロモ−９−カルバゾリル）エチル
メタンスルホネート（III-２）４２．０ｇ（収率９４
％、ＨＰＬＣ含量９８．２％）を得た。２−（３，６−
ジブロモ−９−カルバゾリル）エチル メタンスルホネ
ート４４．７ｇ（０．１ｍｏｌ）とハイドロキノン
（０．２ｇ）をジメチルスルホキシド１００ｍｌに懸濁
し、この溶液の内温を５〜１０℃に保ちながら、攪拌し
た。これにｔ−ブトキシカリウム１３．５ｇ（０．１２
ｍｏｌ）を加え、この温度範囲で３０分攪拌した。その
後水１５０ｍｌを加え、生じた沈殿を吸引濾過して目的
物３３．７ｇ（収率９６％、ＨＰＬＣ含量９９．３％）
を得た。

【００３３】実施例３ ５，６，７，８−テトラヒドロ
−９−ビニルカルバゾール（IV−３）の合成

【００３４】

【化５】

【００３５】５，６，７，８−テトラヒドロカルバゾー
ル（Ｉ―３）８５．６ｇ（０．５ｍｏｌ）と炭酸エチレ
ン（Ａ）１３２．１ｇ（１．５ｍｏｌ）をＮ，Ｎ−ジメ
チルホルムアミド４０ｍｌに懸濁し、攪拌した。これに
１，５−ジアザビシクロ[４．３．０]−５−ノネン
（Ｃ）６８．３ｇ（０．５５ｍｏｌ）を加え、この溶液
の内温を８０℃に保ちながら３０分攪拌した。その後冷
却し、酢酸エチルおよび水を加え有機層へ抽出した。分
液操作後、有機層中の酢酸エチルを濃縮しメタノール２
００ｍｌを加え攪拌した。これに、水１５０ｍｌを滴下
し、続いて１０℃〜２０℃の温度範囲で1時間攪拌し
た。生じた沈殿物を吸引濾過し、２−（５，６，７，８
−テトラヒドロ−９−カルバゾリル）−１−エタノール
（II−３）６５．７ｇ(収率６１．０％、ＨＰＬＣ含量
９７．７％)を得た。次に、この２−（５，６，７，８
−テトラヒドロ−９−カルバゾリル）−１−エタノール
２１．７ｇ（０．１ｍｏｌ）をアセトニトリル５０ｍｌ
に懸濁し、攪拌した。これにピリジン９．５ｇ（０．１
２ｍｏｌ）を加え、この溶液の内温を２０℃〜３０℃に
保ちながら、ｐ−トルエンスルホニルクロリド２１．０
ｇ（０．１１ｍｏｌ）を１５分かけて滴下し、続いてこ
の温度範囲で１時間攪拌した。反応後水を５０ｍｌ加
え、生じた沈殿を吸引濾過し、２−（５，６，７，８−
テトラヒドロ−９−カルバゾリル）エチル ４−メチル
ベンゼンスルホネート（III-３）を３３．８ｇ（収率９
１％、ＨＰＬＣ含量９９．０％）を得た。得られた２−
（５，６，７，８−テトラヒドロ−９−カルバゾリル）
エチル４−メチルベンゼンスルホネート（III-３）３
７．２ｇ（０．１ｍｏｌ）とハイドロキノン（０．２
ｇ）をジメチルスルホキシド１００ｍｌに懸濁し、この
溶液の内温を１０℃に保ちながら、攪拌した。これにナ
トリウムエトキシド８．２ｇ（０．１２ｍｏｌ）を加
え、この温度範囲で３０分攪拌した。その後水１５０ｍ
ｌを加え、生じた沈殿を吸引濾過して目的物１８．１ｇ
（収率９１％、ＨＰＬＣ含量９９．６％）を得た。

【００３６】比較例 出発原料にカルバゾール（Ｉ−１）を用い、特公昭４９
−９４６８号に記載の方法でＮ−ビニルカルバゾール
（ＩＶ−１）を合成した。これは、カルバゾールをカル
バゾールカリウム塩に導いた後、エチレンオキシドを反
応させて更にＮ−（２−ヒドロキシエチル）カルバゾー
ルへ誘導し、その後塩基存在下で脱水反応する方法であ
る。この比較例と本発明の方法（実施例１）の結果を表
１に示す。

【００３７】

【表１】

【００３８】表1に示された結果より以下のことが明ら
かである。本発明の方法は２つの工程共に低温かつ短時
間で目的物を得ることができ、精製方法も簡便である。
これに対し、比較例１ではＮ−（２−ヒドロキシエチ
ル）カルバゾール工程で出発原料のカルバゾールを一旦
カリウム塩へ誘導しなければならず、反応も高温で行わ
なければならない。また、毒性の強いエチレンオキシド
を用いる必要がある。Ｎ−ビニルカルバゾール工程も高
温反応であり、更に減圧蒸留による精製を行わなければ
ならない。

【００３９】

【発明の効果】本発明によれば、カルバゾール類からＮ
−ビニルカルバゾール類を製造する場合に特殊条件や特
殊設備を必要とせず、簡便かつ安価な工業的方法を提供
することができる。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】カルバゾール類と炭酸エチレンとをジアザ
   ビシクロ系塩基存在下反応させてＮ−（２−ヒドロキシ
   エチル）カルバゾール類を得る工程を含むことを特徴と
   するＮ−ビニルカルバゾール類の製造方法。
2. 【請求項２】Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）カルバゾー
   ル類のヒドロキシエチル基の水酸基をスルホネート体に
   誘導する工程と、前記工程で得られたスルホネート体か
   らＮ−ビニルカルバゾール類を得る工程を含むことを特
   徴とするＮ−ビニルカルバゾール類の製造方法。
3. 【請求項３】カルバゾール類と炭酸エチレンとをジアザ
   ビシクロ系塩基存在下反応させてＮ−（２−ヒドロキシ
   エチル）カルバゾール類を得る工程と、前記工程で得ら
   れたＮ−（２−ヒドロキシエチル）カルバゾール類のヒ
   ドロキシエチル基の水酸基をスルホネート体に誘導する
   工程と、前記工程で得られたスルホネート体からＮ−ビ
   ニルカルバゾール類を得る工程とを含むことを特徴とす
   るＮ−ビニルカルバゾール類の製造方法。