JP2002214397A - 放射線像変換パネル - Google Patents

放射線像変換パネル

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JP2002214397A JP2001015618A JP2001015618A JP2002214397A JP 2002214397 A JP2002214397 A JP 2002214397A JP 2001015618 A JP2001015618 A JP 2001015618A JP 2001015618 A JP2001015618 A JP 2001015618A JP 2002214397 A JP2002214397 A JP 2002214397A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 優れた感度および鮮鋭度を有する医療診断に
適した放射線像変換パネルを提供する。 【解決手段】 気相堆積法により形成された蛍光体層を
有する放射線像変換パネルにおいて、該蛍光体層の層厚
が300乃至700μmの範囲にあり、かつ相対密度が
85乃至97%の範囲にあることを特徴とする放射線像
変換パネル。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、輝尽性蛍光体の輝
尽発光を利用する放射線画像記録再生方法に用いられる
放射線像変換パネルに関するものである。
【0002】
【従来の技術】X線などの放射線が照射されると、その
放射線エネルギーの一部分を吸収蓄積し、そののち可視
光線や赤外線などの電磁波(励起光)の照射を受ける
と、蓄積した放射線エネルギーに応じて輝尽発光を示す
性質を有する輝尽性蛍光体(蓄積性蛍光体)を利用し
て、この輝尽性蛍光体を含有するシート状の放射線像変
換パネルに、被写体を透過したあるいは被検体から発せ
られた放射線を照射して被写体または被検体の放射線画
像情報を一旦蓄積記録した後、パネルにレーザ光などの
励起光を走査して順次輝尽発光光として放出させ、そし
てこの輝尽発光光を光電的に読み取って画像信号を得る
ことからなる、放射線画像記録再生方法が広く実用に共
されている。読み取りを終えたパネルは、残存する放射
線エネルギーの消去が行われた後、次の撮影のために備
えられて繰り返し使用される。
【0003】放射線画像記録再生方法に用いられる放射
線像変換パネル(蓄積性蛍光体シートともいう)は、基
本構造として、支持体とその上に設けられた輝尽性蛍光
体層とからなるものである。ただし、輝尽性蛍光体層が
自己支持性である場合には必ずしも支持体を必要としな
い。また、輝尽性蛍光体層の上面(支持体に面していな
い側の面)には通常、保護層が設けられていて、蛍光体
層を化学的な変質あるいは物理的な衝撃から保護してい
る。
【0004】輝尽性蛍光体層は、通常は輝尽性蛍光体と
これを分散状態で含有支持する結合剤とからなる。ただ
し、蒸着法や焼結法によって形成される結合剤を含まな
いで輝尽性蛍光体の凝集体のみから構成されるものや、
輝尽性蛍光体の凝集体の間隙に高分子物質が含浸されて
いるものも知られている。
【0005】また、上記放射線画像記録再生方法の別法
として本出願人による特願平11−372978号明細
書には、従来の輝尽性蛍光体における放射線吸収機能と
エネルギー蓄積機能とを分離して、少なくとも輝尽性蛍
光体(エネルギー蓄積用蛍光体)を含有する放射線像変
換パネルと、放射線を吸収して紫外乃至可視領域に発光
を示す蛍光体(放射線吸収用蛍光体)を含有する蛍光ス
クリーンとの組合せを用いる放射線画像形成方法が提案
されている。この方法は、被検体を透過などした放射線
をまず、該スクリーンまたはパネルの放射線吸収用蛍光
体により紫外乃至可視領域の光に変換した後、その光を
パネルのエネルギー蓄積用蛍光体にて放射線画像情報と
して蓄積記録する。次いで、このパネルに励起光を走査
して輝尽発光光を放出させ、この輝尽発光光を光電的に
読み取って画像信号を得るものである。このような放射
線像変換パネルおよび蛍光スクリーンも、本発明に包含
される。
【0006】放射線像記録再生方法(および放射線画像
形成方法)は上述したように数々の優れた利点を有する
方法であるが、この方法に用いられる放射線像変換パネ
ルにあっても、できる限り高感度であってかつ画質(鮮
鋭度、粒状性など)の良好な画像を与えるものであるこ
とが望まれている。
【0007】感度および画質を高めることを目的とし
て、例えば特開平2−58000号公報に記載されてい
るように、輝尽性蛍光体層を気相堆積法により形成した
放射線像変換パネルが提案されている。気相体積法は、
輝尽性蛍光体またはその原料を用いて蒸着またはスパッ
タリングなどにより基板表面に輝尽性蛍光体を堆積させ
て、輝尽性蛍光体の柱状結晶からなる層を形成するもの
である。気相堆積法により形成された蛍光体層は、結合
剤を含有せず、輝尽性蛍光体のみからなり、輝尽性蛍光
体の柱状結晶と柱状結晶の間には空隙(クラック)が形
成される。このため、励起光の進入効率や発光光の取出
し効率を高めることができ、高感度であって、高鮮鋭度
の画像を得ることができる。
【0008】特公平7−18958号公報には、支持体
と結着剤を含有しない輝尽性蛍光体層とを有する放射線
像変換パネルであって、該蛍光体層内部に略層厚方向に
伸びた多数の微細な空隙を有し、かつ空隙の占める空孔
率が3〜30%である放射線像変換パネルが提案されて
いる。しかしながら、具体的には実施例にて、抵抗加熱
蒸着により形成された層厚約250μm、空孔率約20
%(すなわち、相対密度約80%)のRbBr:Tl輝
尽性蛍光体からなる蛍光体層を有するパネルが記載され
ているだけである。
【0009】また、感度の向上を目的として、特公平7
−18957号公報には、支持体と輝尽性蛍光体からな
る蛍光体層とを有する放射線像変換パネルであって、該
蛍光体層が焼結により形成され、相対密度が70%以上
である放射線像変換パネルが提案されている。実施例に
は、焼結により形成された層厚250μm、相対密度約
75〜93%のBaFBr:Eu輝尽性蛍光体からなる
蛍光体層が記載されている。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】放射線像変換パネル
は、上述したように蛍光体層が放射線を吸収してそのエ
ネルギーを蓄積するものであるので、蛍光体層の層厚が
厚いほど感度は高くなり、そして読み取り時に励起光が
蛍光体層内に進入して蓄積されたエネルギーを放出させ
ることができる限度の層厚で感度は飽和する。
【0011】一方、本発明者は、蛍光体層を気相体積法
により形成してその相対密度を高くする(蛍光体の充填
率を高くする)と、感度が向上し、同時に画像鮮鋭度の
低下も少ないものの、相対密度を100%近くまで上げ
ると、空隙の極端な減少と柱状結晶の過度の成長によっ
て励起光および輝尽発光光の柱状結晶内部での反射、散
乱が減少して、急激に鮮鋭度が低下することを見い出し
た(添付の図1および図2参照)。特に、画像情報の読
み取りをラインセンサを用いて行う場合に輝尽発光光の
広がりも画像の鮮鋭度に影響してくるので、鮮鋭度が著
しく低下することになる。
【0012】従って、気相体積法によって形成された蛍
光体層であっても、医療診断に使用するのに適した、優
れた感度と鮮鋭度(MTFが1c/mmで約60%以
上、2c/mmで約30%以上)を有する放射線像変換
パネルを得るためには、蛍光体層の層厚および相対密度
には適正な範囲がある。
【0013】本発明は、優れた感度および鮮鋭度を有す
る医療診断に適した放射線像変換パネルを提供すること
にある。
【0014】
【課題を解決するための手段】本発明は、気相堆積法に
より形成された蛍光体層を有する放射線像変換パネルに
おいて、該蛍光体層の層厚が300乃至700μmの範
囲にあり、かつ相対密度が85乃至97%の範囲にある
ことを特徴とする放射線像変換パネルにある。なお、本
発明において蛍光体層の相対密度とは、蛍光体層の全体
積に対して蛍光体が占める体積の比率を意味する。
【0015】本発明の放射線像変換パネルの好ましい態
様は、以下の通りである。 (1)蛍光体層の層厚が400乃至600μmの範囲に
あり、かつ相対密度が85乃至95%の範囲にある放射
線像変換パネル。 (2)蛍光体層がアルカリ金属ハロゲン化物系輝尽性蛍
光体、特にセシウムハライド系輝尽性蛍光体からなる放
射線像変換パネル。
【0016】
【発明の実施の形態】以下に、本発明の放射線像変換パ
ネルを製造する方法について、蛍光体が輝尽性蛍光体で
ある場合を例にとって詳細に述べる。支持体は、従来の
放射線像変換パネルの支持体として公知の材料から任意
に選ぶことができるが、気相堆積法により蛍光体層を形
成する際の基板となる場合には、石英ガラスシート、ア
ルミニウム、鉄、スズ、クロムなどからなる金属シー
ト、およびアラミドなどからなる樹脂シートであること
が好ましい。公知の放射線像変換パネルにおいて、パネ
ルとしての感度もしくは画質(鮮鋭度、粒状性)を向上
させるために、二酸化チタンなどの光反射性物質からな
る光反射層、もしくはカーボンブラックなどの光吸収性
物質からなる光吸収層などを設けることが知られてい
る。本発明で用いられる支持体についても、これらの各
種の層を設けることができ、それらの構成は所望の放射
線像変換パネルの目的、用途などに応じて任意に選択す
ることができる。さらに特開昭58−200200号公
報に記載されているように、得られる画像の鮮鋭度を向
上させる目的で、支持体の蛍光体層側の表面(支持体の
蛍光体層側の表面に下塗層(接着性付与層)、光反射層
あるいは光吸収層などの補助層が設けられている場合に
は、それらの補助層の表面であってもよい)には微小な
凹凸が形成されていてもよい。蛍光体層が自己支持性で
ある場合には必ずしも支持体を用いる必要はない。
【0017】この支持体上には気相堆積法により蛍光体
層が設けられる。輝尽性蛍光体としては、波長が400
〜900nmの範囲の励起光の照射により、300〜5
00nmの波長範囲に輝尽発光を示す輝尽性蛍光体が好
ましい。そのような輝尽性蛍光体の例は、特公平7−8
4588号、特開平2−193100号および特開平4
−310900号の各公報に詳しく記載されている。
【0018】これらのうちでも、基本組成式(I): MIX・aMIIX’2・bMIIIX”3:zA ‥‥(I) で代表されるアルカリ金属ハロゲン化物系輝尽性蛍光体
は特に好ましい。但し、MIはLi、Na、K、Rb及
びCsからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカ
リ金属を表し、MIIはBe、Mg、Ca、Sr、Ba、
Ni、Cu、Zn及びCdからなる群より選ばれる少な
くとも一種のアルカリ土類金属又は二価金属を表し、M
IIIはSc、Y、La、Ce、Pr、Nd、Pm、S
m、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Y
b、Lu、Al、Ga及びInからなる群より選ばれる
少なくとも一種の希土類元素又は三価金属を表わし、そ
してAはY、Ce、Pr、Nd、Sm、Eu、Gd、T
b、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、Na、M
g、Cu、Ag、Tl及びBiからなる群より選ばれる
少なくとも一種の希土類元素又は金属を表す。X、X’
およびX”はそれぞれ、F、Cl、Br及びIからなる
群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンを表わす。
a、bおよびzはそれぞれ、0≦a<0.5、0≦b<
0.5、0≦z<0.2の範囲内の数値を表す。
【0019】上記基本組成式(I)中のMIとしては少
なくともCsを含んでいることが好ましい。Xとしては
少なくともBrを含んでいることが好ましい。Aとして
は特にEu又はBiであることが好ましい。また、基本
組成式(I)には、必要に応じて、酸化アルミニウム、
二酸化珪素、酸化ジルコニウムなどの金属酸化物を添加
物として、MI1モルに対して、0.5モル以下の量で
加えてもよい。
【0020】ただし、本発明において蛍光体は輝尽性蛍
光体に限定されるものではなく、X線などの放射線を吸
収して紫外乃至可視領域に(瞬時)発光を示す蛍光体で
あってもよい。そのような蛍光体の例としては、LnT
aO4:(Nb,Gd)系、Ln2SiO5:Ce系、L
nOX:Tm系(Lnは希土類元素である)、CsX系
(Xはハロゲンである)、Gd22S:Tb、Gd22
S:Pr,Ce、ZnWO4、LuAlO3:Ce、Gd
3Ga512:Cr,Ce、HfO2等を挙げることがで
きる。
【0021】本発明において蛍光体層は、例えば気相堆
積法の一種である電子線蒸着法により、以下のようにし
て基板上に形成することができる。電子線蒸着法では、
形状が良好で配列の整った柱状結晶が得られると同時
に、蒸着源を局所的に加熱して瞬時に蒸発させるので、
蒸着源のうち蒸気圧の高い物質が優先的に蒸発して(例
えば、付活剤が蛍光体母体よりも先行して蒸発する)、
蒸発源として仕込んだ蛍光体の組成と形成された蛍光体
層中の蛍光体の組成とが不一致となるようなことが殆ど
ない。
【0022】まず、蒸発源である輝尽性蛍光体、および
被蒸着物である基板を蒸着装置内に設置し、装置内を排
気して3×10-10〜3×10-12kg/cm2程度の真
空度とする。このとき、真空度をこの程度に保持しなが
ら、Arガス、Neガスなどの不活性ガスを導入しても
よい。
【0023】輝尽性蛍光体は、加圧圧縮により錠剤(ペ
レット)の形状に加工しておくことが好ましい。加圧圧
縮は、一般に800〜1000kg/cm2の範囲の圧
力を掛けて行う。圧縮の際に、50〜200℃の範囲の
温度に加温してもよく、また圧縮後、得られた錠剤に脱
ガス処理を施してもよい。これにより、蒸発源の相対密
度を高めることができる。蒸発源の相対密度が低いと、
蛍光体が均一に蒸発しないで蒸着膜の膜厚が不均一とな
ったり、突沸物が基板に付着したり、更には蛍光体自体
が不均一に蒸発して蒸着膜中に蛍光体の付活剤や添加物
が偏析したりする。さらに、輝尽性蛍光体の代わりにそ
の原料もしくは原料混合物を用いることも可能である。
【0024】次に、電子銃から電子線を発生させて、蒸
発源に照射する。このとき、電子線の加速電圧を1.5
kV以上で、5.0kV以下に設定することが望まし
い。加速電圧が1.5kVより低いと、電圧が不安定に
なって、電子線のビームポジションが変動してしまった
り、蒸発源の電子線による走査面の形状が変化して蒸発
面を平坦に保つことが困難となる。反対に、加速電圧が
5.0kVより高い場合には、蒸発により気相成長する
蛍光体の柱状結晶が不揃いとなる。
【0025】電子線の照射により、蒸発源である輝尽性
蛍光体は加熱されて蒸発、飛散し、基板表面に堆積す
る。蛍光体の堆積する速度、すなわち蒸着速度は一般に
は0.1〜1000μm/分の範囲にあり、好ましくは
1〜100μm/分の範囲にある。なお、電子線の照射
を複数回に分けて行って二層以上の蛍光体層を形成して
もよいし、あるいは複数の電子銃を用いて異なる蛍光体
を共蒸着させてもよい。また、蛍光体の原料を用いて基
板上で蛍光体を合成すると同時に蛍光体層を形成するこ
とも可能である。さらに、蒸着の際に必要に応じて被蒸
着物(基板)を冷却または加熱してもよいし、あるいは
蒸着終了後に蛍光体層を加熱処理(アニール処理)して
もよい。
【0026】さらに、本発明に用いられる気相堆積法は
上記の電子腺蒸着法に限定されるものではなく、抵抗加
熱法等の他の蒸着法あるいはスパッタ法など公知の各種
の方法を利用することができる。
【0027】このようにして、輝尽性蛍光体の柱状結晶
がほぼ厚み方向に成長した蛍光体層が得られる。蛍光体
層は、結合剤を含有せず、輝尽性蛍光体のみからなり、
輝尽性蛍光体の柱状結晶と柱状結晶の間には空隙(クラ
ック)が存在する。
【0028】本発明においてはパネルを医療診断に適し
た高感度かつ高鮮鋭度とする目的から、蛍光体層の層厚
は、一般には300〜700μmの範囲にあり、好まし
くは400〜600μmの範囲にある。また、相対密度
は、一般には85〜97%の範囲にあり、好ましくは8
5〜95%の範囲にある。
【0029】図1および図2はそれぞれ、支持体と気相
堆積法により形成されたCsBr:Eu輝尽性蛍光体か
らなる蛍光体層とから構成された放射線像変換パネルに
ついて、蛍光体層の相対密度と感度との関係、および相
対密度と鮮鋭度(MTF、1c/mm)との関係を示す
グラフである。図1から、相対密度が高くなるにつれて
パネルの感度も高くなることが分る。図2から、相対密
度が高くなってもMTFはそれほど変化しないが、相対
密度が100%に近づくとMTFが急激に低下すること
が分る。また、蛍光体層の層厚が500μmと厚い場合
には、250μmの場合に比べてMTFはそれほど低下
せずに感度が著しく向上することがわかる。
【0030】従って、蛍光体層の層厚および相対密度を
それぞれ上記本発明の範囲とすることにより、高感度で
あって高鮮鋭度の画像を得ることができ、医療診断に適
したパネルとすることができる。
【0031】なお、蛍光体層は、必ずしも上記のように
支持体上に直接蛍光体を気相成長させて形成する必要は
なく、例えば、別にガラス板、金属板、プラスチックシ
ートなどの基板上に蛍光体を気相成長させて蛍光体層を
形成した後、接着剤を用いるなどして支持体上に蛍光体
層を接合する方法を利用してもよいし、あるいは保護層
上に形成してもよい。
【0032】この蛍光体層の表面には、放射線像変換パ
ネルの搬送および取扱い上の便宜や特性変化の回避のた
めに、保護層を設けることが望ましい。保護層は、励起
光の入射や輝尽発光光の出射に殆ど影響を与えないよう
に、透明であることが望ましく、また外部から与えられ
る物理的衝撃や化学的影響から放射線像変換パネルを充
分に保護することができるように、化学的に安定で防湿
性が高く、かつ高い物理的強度を持つことが望ましい。
【0033】保護層としては、セルロース誘導体、ポリ
メチルメタクリレート、有機溶媒可溶性フッ素系樹脂な
どのような透明な有機高分子物質を適当な溶媒に溶解し
て調製した溶液を蛍光体層の上に塗布することで形成さ
れたもの、あるいはポリエチレンテレフタレートなどの
有機高分子フィルムや透明なガラス板などの保護層形成
用シートを別に形成して蛍光体層の表面に適当な接着剤
を用いて設けたもの、あるいは無機化合物を蒸着などに
よって蛍光体層上に成膜したものなどが用いられる。ま
た、保護層中には酸化マグネシウム、酸化亜鉛、二酸化
チタン、アルミナ等の光散乱性微粒子、パーフルオロオ
レフィン樹脂粉末、シリコーン樹脂粉末等の滑り剤、お
よびポリイソシアネート等の架橋剤など各種の添加剤が
分散含有されていてもよい。保護層の層厚は一般に、高
分子物質からなる場合には約0.1〜20μmの範囲に
あり、ガラス等の無機化合物からなる場合には100〜
1000μmの範囲にある。
【0034】保護層の表面にはさらに、保護層の耐汚染
性を高めるためにフッ素樹脂塗布層を設けてもよい。フ
ッ素樹脂塗布層は、フッ素樹脂を有機溶媒に溶解(また
は分散)させて調製したフッ素樹脂溶液を保護層の表面
に塗布し、乾燥することにより形成することができる。
フッ素樹脂は単独で使用してもよいが、通常はフッ素樹
脂と膜形成性の高い樹脂との混合物として使用する。ま
た、ポリシロキサン骨格を持つオリゴマーあるいはパー
フルオロアルキル基を持つオリゴマーを併用することも
できる。フッ素樹脂塗布層には、干渉むらを低減させて
更に放射線画像の画質を向上させるために、微粒子フィ
ラーを充填することもできる。フッ素樹脂塗布層の層厚
は通常は0.5μm乃至20μmの範囲にある。フッ素
樹脂塗布層の形成に際しては、架橋剤、硬膜剤、黄変防
止剤などのような添加成分を用いることができる。特に
架橋剤の添加は、フッ素樹脂塗布層の耐久性の向上に有
利である。
【0035】上述のようにして本発明の放射線像変換パ
ネルが得られるが、本発明のパネルの構成は、公知の各
種のバリエーションを含むものであってもよい。たとえ
ば、得られる画像の鮮鋭度を向上させることを目的とし
て、上記の少なくともいずれかの層を、励起光を吸収し
輝尽発光光は吸収しないような着色剤によって着色して
もよい(特公昭59−23400号公報参照)。
【0036】
【実施例】[実施例1] (1)蒸着源の作製 臭化セシウム100g(CsBr、0.47モル)と臭
化ユーロピウム1.8404g(EuBr3、4.7×
10-3モル)とを乳鉢で粉砕混合した後、更に撹拌振動
器で15分間撹拌混合した。得られた混合物を炉内に置
いて、3分間排気した後、窒素雰囲気下、温度525℃
にて2時間焼成した。焼成後、炉内を15分間排気して
焼成物を冷却した。次いで、得られたユーロピウム付活
臭化セシウム(CsBr:0.01Eu)輝尽性蛍光体を乳
鉢で粉砕した後、圧力800kg/cm2にて加圧圧縮
して、蒸着用の錠剤を作製した。錠剤に、更に温度15
0℃で2時間排気して脱ガス処理を施した。
【0037】(2)蛍光体層の形成 上記の蒸発源を蒸着装置内の所定位置に置き、透明石英
基板(支持体、厚さ1mm)を装置内の所定位置に配置
した後、装置内を排気して5.0×10-5kg/cm2
の真空度とした。次いで、基板を250℃に加熱しなが
ら、蒸着源に電子銃で加速電圧4.0kV、60Wの電
子線を照射して、基板上に輝尽性蛍光体を蒸着距離14
cm、速度25μm/分で堆積させた。装置内を大気圧
に戻し、装置から支持体を取り出した。支持体上には、
幅が約10μm、長さが約500μmの蛍光体の柱状結
晶がほぼ垂直方向に密に林立した構造の蒸着膜(膜厚:
500μm)が形成されていた。この蒸着膜の相対密度
は95%であった。
【0038】[実施例2、3]実施例1において、基板
温度および蒸着速度を表1に示すように変更したこと以
外は実施例1と同様にして、本発明の放射線像変換パネ
ルを製造した。
【0039】[比較例1〜3]実施例1において、基板
温度、蒸着速度および蛍光体層の層厚を表1に示すよう
に変更したこと以外は実施例1と同様にして、比較のた
めの放射線像変換パネルを製造した。
【0040】[放射線像変換パネルの性能評価]得られ
た各放射線像変換パネルの感度および画像鮮鋭度につい
て評価を行なった。 (1)感度 放射線像変換パネルに管電圧80kVpのX線(線量1
0mR)を照射したのち、He−Neレーザ光で走査し
て輝尽発光光を検出し、その発光強度により感度を評価
した。
【0041】(2)鮮鋭度(MTF) 放射線像変換パネルにCTFチャートを介して上記X線
を照射した後、He−Neレーザ光で走査して画像デー
タを得、得られた画像データを画像再生装置により画像
フィルムとして出力し、この出力フィルムから空間周波
数1c/mmにおける変調伝達関数MTFを測定した。
得られた結果をまとめて表1に示す。
【0042】
【表1】
【0043】表1の結果から明らかなように、本発明に
従う放射線像変換パネル(実施例1〜3)は、比較のた
めの放射線像変換パネル(比較例1〜3)に比べて、高
感度であって、かつ高鮮鋭度の画像を与えた。よって、
本発明の放射線像変換パネルは高感度、高画質というバ
ランスのとれた医療診断に適したパネルであると言え
る。
【0044】
【発明の効果】本発明によれば、気相堆積法により形成
される蛍光体層の層厚および相対密度を特定の範囲内と
することにより、高感度であって高鮮鋭度の放射線画像
を与える医療診断用の放射線像変換パネルが得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】気相堆積法により形成された蛍光体層を有する
放射線像変換パネルについて、蛍光体層の相対密度と感
度との関係を示すグラフである。
【図2】気相堆積法により形成された放射線像変換パネ
ルについて、蛍光体層の相対密度と鮮鋭度(MTF、1
c/mm)との関係を示すグラフである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C09K 11/85 CPF C09K 11/85 CPF G01T 1/00 G01T 1/00 B Fターム(参考) 2G083 AA03 BB01 CC02 DD02 DD11 DD12 EE02 EE03 4H001 CA01 CA02 CA04 CA08 XA00 XA03 XA04 XA09 XA11 XA12 XA13 XA17 XA19 XA20 XA21 XA28 XA29 XA30 XA31 XA35 XA37 XA38 XA39 XA48 XA49 XA53 XA55 XA56 YA00 YA11 YA12 YA29 YA39 YA47 YA81 YA83

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 気相堆積法により形成された蛍光体層を
    有する放射線像変換パネルにおいて、該蛍光体層の層厚
    が300乃至700μmの範囲にあり、かつ相対密度が
    85乃至97%の範囲にあることを特徴とする放射線像
    変換パネル。
  2. 【請求項2】 蛍光体層の層厚が400乃至600μm
    の範囲にあり、かつ相対密度が85乃至95%の範囲に
    ある請求項1に記載の放射線像変換パネル。
  3. 【請求項3】 蛍光体層がアルカリ金属ハロゲン化物系
    輝尽性蛍光体からなる請求項1または2に記載の放射線
    像変換パネル。
  4. 【請求項4】 アルカリ金属ハロゲン化物系輝尽性蛍光
    体がセシウムハライド系蛍光体である請求項3に記載の
    放射線像変換パネル。
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