JP2002187945A

JP2002187945A - 光学用ポリカーボネート樹脂成形材料および該材料よりなる情報記録媒体

Info

Publication number: JP2002187945A
Application number: JP2000389261A
Authority: JP
Inventors: Shinji Kono; 伸二河野
Original assignee: Teijin Chemicals Ltd
Current assignee: Teijin Ltd
Priority date: 2000-12-21
Filing date: 2000-12-21
Publication date: 2002-07-05

Abstract

(57)【要約】【課題】本発明は、光学用部材、例えば音声信号や画
像信号等、各種の情報信号を記録するための光記録媒体
を製造するのに適した樹脂成形材料及びそれよりなる情
報記録媒体を提供する。【解決手段】式（１）で表わされる物質の含有量が
１．５％以下であり且つ式（２）で表わされる物質の含
有量が５０ｐｐｍ以下であることを特徴とする光学用ポ
リカーボネート樹脂成形材料及び光ディスク基板。【化１】【化２】

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光学用材料、例え
ば音声信号や画像信号等、各種の情報信号を記録するた
めの光記録媒体を製造するのに適した樹脂成形材料およ
びそれよりなる情報記録媒体に関する。

【０００２】

【従来の技術】レーザ光の照射により情報の記録・再生
をおこなう光ディスクとしては、デジタルオーディオデ
ィスク（いわゆるコンパクトディスク）、光学式ビデオ
ディスク（いわゆるレーザディスク）、各種追記型ディ
スク、光磁気ディスク、相変化ディスク等が実用化され
ている。このうち、コンパクトディスクやレーザディス
クは、再生専用（ＲｅａｄＯｎｌｙＭｅｍｏｒｙ：
ＲＯＭ）型の光ディスクである。これらの光ディスク
は、一般に透明基板上に、情報信号に対応したピットが
凹凸形状で形成され、この上にＡｌ反射層が４０ｎｍ以
上の厚さで製膜されている。このような光ディスクで
は、ピットで生じる光干渉による反射率変化を検出する
ことにより情報信号が再生される。

【０００３】一方、追記型光ディスクは、ユーザによっ
て任意情報の書き込みが可能なＲ（Ｒｅｃｏｒｄａｂｌ
ｅ）型の光ディスクであり、光磁気ディスクおよび相変
化型ディスクは、繰り返し任意情報の書き込みが可能な
ＲＡＭ（ＲａｎｄｏｍＡｃｃｅｅｓｓＭｅｍｏｒ
ｙ）型の光ディスクである。すなわち、Ｒ型光ディスク
は、透明基板上に、レーザ光の照射によって不可逆的に
光学特性が変化したり凹凸形状が形成される追記型の記
録層にて構成される。この記録層としては、例えばレー
ザ光の照射による加熱で分解し、その光学定数が変化す
るとともに、体積変化によって基板の変形を生じさせる
シアニン系、フタロシアニン系、アゾ系の有機色素等が
用いられる。光磁気ディスクは、ユーザによって情報の
書き込みおよび消去を繰り返しおこなうことができる、
書き換え可能型の光ディスクであり、透明基板上に、Ｔ
ｂ−Ｆｅ−Ｃｏ非晶質合金薄膜などの磁気光学効果（例
えばカー効果）を有する垂直磁化膜が形成されて構成さ
れる。この光磁気ディスクでは、情報信号に対応して垂
直磁化膜の微小領域を上向きあるいは下向きに磁化する
ことにより記録ピットが形成される。そして、反射光で
の直線偏光の回転角θｋ（カー回転角）が垂直磁化膜の
磁化の向きによって異なることを利用して情報信号が再
生される。相変化ディスクは、光磁気ディスク同様に書
き換え可能型のディスクであり、例えば初期状態で結晶
状態を呈し、レーザ光が照射されることでアモルファス
状態に相変化する、Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ相変化材料等が用
いられる。この記録層では、情報信号に対応して微小領
域を相変化させることにより記録ピットが形成され、ピ
ットに相当するアモルファス部分とそれ以外の結晶領域
との反射率変化を検出することで情報信号が再生され
る。このような光磁気ディスクや相変化ディスクでは、
記録層の酸化防止や多重干渉による信号変調度の増大を
目的として、記録層の両側を透明な誘電体層で挟み込
み、さらにその上にＡｌ反射層を積層した４層構造がと
られる場合が多い。なお、誘電体層としては、窒化シリ
コン膜、Ｚｎ−ＳｉＯ₂混成膜などが用いられる。

【０００４】ところで、最近、このような光ディスクを
デジタル映像記録用として用いるための検討が盛んにお
こなわれており、そのような光ディスクとしてデジタル
・バーサタイル・ディスク（ＤＶＤ）が開発されるに至
っている。このＤＶＤは、ＣＤと同じ１２０ｍｍ径とし
ながら、映画一本分に相当する映像情報を記録し、現行
テレビ並みの画質で再生できるようになされたものであ
る。ここで、このような映像情報を光ディスクに記録す
るには、例えばＣＤの６〜８倍の記録容量が必要にな
る。このため、ＤＶＤでは、レーザ波長をＣＤでの７８
０ｎｍに対して６３５〜６５０ｎｍと短波長化するとと
もに対物レンズの開口数ＮＡをＣＤでの０.４５に対し
て、０.５２または０.６に増大させることによりトラッ
クピッチやピットの最短記録マーク長を縮め、記録密度
を上げるようにしている。

【０００５】このうち対物レンズの開口数ＮＡの増大
は、ディスク基板のそりに対する許容量を小さくするこ
とになる。このため、ＤＶＤでは、基板の厚さをＣＤの
１.２ｍｍに対して、０.６ｍｍと薄くすることにより、
レーザ光がディスク基板を通過する距離を短くし、反り
に対する許容量を補償する様にしている。そして、さら
に基板を薄くすることによるディスク強度の低下を補う
ため、特開平６−２７４９４０号公報で記載されるよう
に、基板上に形成された記録層の上に、さらに基板を貼
り合わせる、いわゆる貼り合わせ構造が採られている。
なお、貼り合わせ光ディスクの記録層としては、上述の
単板構成で用いられるＲＯＭ型の記録層、Ｒ型の記録
層、ＲＡＭ型の記録層のいずれもが採用できる。さら
に、貼り合わせ光ディスクには、その片側の面のみを利
用する片面貼り合わせ光ディスクと、両側の面を利用す
る両面型貼り合わせ光ディスクとがある。以上のような
光学用ディスク基板には、成形性、強度、光線透過率お
よび耐湿性等に優れているポリカーボネート樹脂が多く
使用されている。

【０００６】近年光学式ディスク基板の普及に伴い、基
板生産性向上に対する要求も高まっている。樹脂は種々
の揮発成分を含有しており、成形を長期間おこなうと金
型やスタンパーなどに種々の成分が堆積し、光学および
機械特性などの基板特性の悪化へとつながる。また長時
間の成形により、前記種々の基板特性の悪化するという
問題も発生する。このため、金型やスタンパーの洗浄を
行うために連続成形を一旦停止しなければならず、生産
性向上に悪影響を及ぼしていた。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】本発明は上記問題点に
鑑みてなされたものであり、該問題点について鋭意研究
を重ねた結果、ポリカーボネート樹脂中における特定の
物質の含有量を低減する事によりポリカーボネート樹脂
よりなる基板の劣化を極めて有効に制御し、長期に渡っ
て高い信頼性を維持できる光学用ディスクが得られる事
を見出し、またこれらの物質の低減は揮発成分の低減に
つながり、基板生産性を向上できる光学用ポリカーボネ
ート樹脂成形材料および光ディスク基板が得られること
も見出した。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明によれば下記式
（１）で表わされる物質の含有量が１．５％以下であり
且つ下記式（２）で表わされる物質の含有量が５０ｐｐ
ｍ以下であるポリカーボネート樹脂よりなる光学用ポリ
カーボネート樹脂成形材料およびその材料より形成され
た光ディスク基板が提供される。

【０００９】

【化３】

【００１０】

【化４】

【００１１】[式中、Ａは水素原子、アルキル基、フェ
ニルアルキル基もしくは脂肪族エステル基であり、ｒは
１〜５の整数である。]

【００１２】

【発明の実施の形態】本発明においては、ＣＤ−Ｒ、Ｃ
Ｄ−ＲＷ、ＭＯ、ＤＶＤ−ＲＯＭ、ＤＶＤ−Ａｕｄｉ
ｏ、ＤＶＤ−Ｒ、ＤＶＤ−ＲＡＭ等で代表されるデジタ
ル・バーサタイル・ディスク（ＤＶＤ）の光ディスクの
基板、特にＤＶＤの基板等の高密度光ディスクに用いる
ディスク基板として十分な信頼性を得、かつ、基板生産
性を向上できるには、該基板を成形するために供する成
形材料(芳香族ポリカーボネート樹脂)の中の上記式
（１）で表わされる物質の含有量が１．５％以下であ
り、且つ上記式（２）で表わされる物質の含有量が５０
ｐｐｍ以下である事が必要である。これらは、ポリカー
ボネート樹脂の重合反応時に末端停止剤として添加され
樹脂内に残存している物およびポリカーボネート樹脂の
重合反応時に重合材料が反応して出来たものを示す。

【００１３】式（１）で表わされる物質の含有量が１．
５％以下且つ式（２）で表わされた物質を５０ｐｐｍ以
下に抑えた場合、基板の微小な白点の発生および金型や
スタンパーの洗浄の回数を最小限に抑えられる。式
（１）で表わされる物質の含有量が１．５％を超え且つ
式（２）で表わされる物質の含有量が５０ｐｐｍを超え
た材料を用いた場合、これらの十分な信頼性と基板生産
性は得られない。なお、式（１）で表わされる物質の含
有量は１．５％以下好ましくは１．０％以下さらに好ま
しくは０．５％以下である事がより確実な効果を得る事
が出来る。最も好ましいのは０．３％以下である。また
式（２）で表わされる物質の含有量は５０ｐｐｍ以下、
好ましくは４０ｐｐｍ以下、さらに好ましくは３０ｐｐ
ｍ以下である事が確実な効果を得る事が出来る。最も好
ましいのは１５ｐｐｍ以下である。

【００１４】本発明で使用されるポリカーボネート樹脂
は、代表的には２価フェノールとカーボネート前駆体と
を界面重合法または溶融重合法で反応させて得られるも
のが使用できる。中でも界面重合法で得られる樹脂が好
ましい。ここで使用される２価フェノールは２，２−ビ
ス｛（４−ヒドロキシフェニル）プロパン｝（通称ビス
フェノールＡ）である。カーボネート前駆体としてはホ
スゲンまたはジフェニルカーボネートが挙げられる。上
記２価フェノールとカーボネート前駆体を界面重合法ま
たは溶融重合法によって反応させてポリカーボネート樹
脂を製造するに当たっては、必要に応じて触媒、２価フ
ェノールの酸化防止剤等を使用してもよい。

【００１５】界面重合法による反応は、通常二価フェノ
ールとホスゲンとの反応であり、酸結合剤および有機溶
媒の存在下に反応させる。酸結合剤としては、例えば水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸
化物またはピリジン等のアミン化合物が用いられる。有
機溶媒としては、例えば塩化メチレン、クロロベンゼン
等のハロゲン化炭化水素が用いられる。また、反応促進
のために例えばトリエチルアミン、テトラ−ｎ−ブチル
アンモニウムブロマイド、テトラ−ｎ−ブチルホスホニ
ウムブロマイド等の第三級アミン、第四級アンモニウム
化合物、第四級ホスホニウム化合物等の触媒を用いるこ
ともできる。その際、反応温度は通常０〜４０℃、反応
時間は１０分〜５時間程度、反応中のｐＨは９以上に保
つのが好ましい。

【００１６】溶融重合法による反応は、通常二価フェノ
ールとカーボネートエステルとのエステル交換反応であ
り、不活性ガスの存在下に二価フェノールとカーボネー
トエステルとを加熱しながら混合して、生成する単官能
フェノール類を留出させる方法により行われる。反応温
度は生成する単官能フェノール類の沸点等により異なる
が、通常１２０〜３５０℃の範囲である。反応後期には
系を１０〜０.１Ｔｏｒｒ程度に減圧して生成する単官
能フェノール類の留出を容易にさせる。反応中に発生す
る単官能フェノール類は、ポリカーボネート樹脂中に残
留するので、十分な反応時間が必要になり、反応時間は
１〜４時間程度である。カーボネートエステルとしては
ジフェニルカーボネートが使用される。

【００１７】また、重合速度を速めるために重合触媒を
用いることができ、かかる重合触媒としては、例えば水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム、二価フェノールのナ
トリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属化合物、水酸
化カルシウム、水酸化バリウム、水酸化マグネシウム等
のアルカリ土類金属化合物、テトラメチルアンモニウム
ヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシ
ド、トリメチルアミン、トリエチルアミン等の含窒素塩
基性化合物、アルカリ金属やアルカリ土類金属のアルコ
キシド類、アルカリ金属やアルカリ土類金属の有機酸塩
類、亜鉛化合物類、ホウ素化合物類、アルミニウム化合
物類、珪素化合物類、ゲルマニウム化合物類、有機スズ
化合物類、鉛化合物類、オスミウム化合物類、アンチモ
ン化合物類マンガン化合物類、チタン化合物類、ジルコ
ニウム化合物類などの通常エステル化反応、エステル交
換反応に使用される触媒を用いることができる。触媒は
単独で使用してもよいし、２種以上組み合わせ使用して
もよい。これらの重合触媒の使用量は、原料の二価フェ
ノール１モルに対し、好ましくは１×１０^-8〜１×１０
^-4当量、より好ましくは１×１０^-7〜５×１０^-4当量の
範囲で選ばれる。

【００１８】また、かかる重合反応において、フェノー
ル性の末端基を減少させるために、重縮合反応の後期あ
るいは終了後に、単官能フェノール類以外の末端停止
剤、例えばビス（クロロフェニル）カーボネート、ビス
（ブロモフェニル）カーボネート、ビス（ニトロフェニ
ル）カーボネート、ビス（フェニルフェニル）カーボネ
ート、クロロフェニルフェニルカーボネート、ブロモフ
ェニルフェニルカーボネート、ニトロフェニルフェニル
カーボネート、フェニルフェニルカーボネート、メトキ
シカルボニルフェニルフェニルカーボネートおよびエト
キシカルボニルフェニルフェニルカーボネートなどの化
合物を加えることが好ましい。なかでも２−クロロフェ
ニルフェニルカーボネート、２−メトキシカルボニルフ
ェニルフェニルが好ましく、特に２−メトキシカルボニ
ルフェニルフェニルが好ましく使用される。

【００１９】界面重合法によるポリカーボネート樹脂の
重合反応においては、通常、末端停止剤を使用する。末
端停止剤は分子量調節のために使用され、また得られた
ポリカーボネート樹脂は、末端が封鎖されているので、
そうでないものと比べて熱安定性に優れている。かかる
末端停止剤としては、下記一般式（３）〜（５）で表わ
される単官能フェノール類を示す事が出来る。

【００２０】

【化５】

【００２１】[式中、Ｂは水素原子または炭素数１〜９
のアルキル基もしくはフェニルアルキル基（アルキル部
分の炭素数１〜９）であり、ｒは１〜５、好ましくは１
〜３の整数である。]

【００２２】

【化６】

【００２３】

【化７】

【００２４】[これら式中、Ｘは−Ｒ−ＣＯ−Ｏ−また
は−Ｒ−Ｏ−ＣＯ−である、ここでＲは単結合または炭
素数１〜１０、好ましくは１〜５の２価の脂肪酸炭化水
素基を示し、ｎは１０〜５０の整数を示す。] 上記一般式（３）で表される単官能フェノール類の具体
例としては、例えばフェノール、イソプロピルフェノー
ル、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、ｐ−クレゾー
ル、ｐ−クミルフェノールおよびイソオクチルフェノー
ルなどが挙げられる。

【００２５】また、上記一般式（４）および（５）で表
される単官能フェノール類は、長鎖のアルキル基あるい
は脂肪族エステル基を置換基として有するフェノール類
であり、これらを用いてポリカーボネート樹脂の末端を
封鎖すると、これらは末端停止剤または分子量調節剤と
して機能するのみならず、樹脂の溶融流動性が改良さ
れ、成形加工が容易になるばかりでなく、基板としての
物性、特に樹脂の吸水率を低くする効果があり、また、
基板の複屈折が低減される効果もあり好ましく使用され
る。

【００２６】上記一般式（４）の置換フェノール類とし
てはｎが１０〜３０、特に１０〜２６のものが好まし
く、その具体例としては例えばデシルフェノール、ドデ
シルフェノール、テトラデシルフェノール、ヘキサデシ
ルフェノール、オクタデシルフェノール、エイコシルフ
ェノール、ドコシルフェノールおよびトリアコンチルフ
ェノール等を挙げることができる。

【００２７】また、上記一般式（５）の置換フェノール
類としてはＸが−Ｒ−ＣＯ−Ｏ−であり、Ｒが単結合で
ある化合物が適当であり、ｎが１０〜３０、特に１０〜
２６のものが好適であって、その具体例としては例えば
ヒドロキシ安息香酸デシル、ヒドロキシ安息香酸ドデシ
ル、ヒドロキシ安息香酸テトラデシル、ヒドロキシ安息
香酸ヘキサデシル、ヒドロキシ安息香酸エイコシル、ヒ
ドロキシ安息香酸ドコシルおよびヒドロキシ安息香酸ト
リアコンチルが挙げられる。

【００２８】これら単官能フェノール類の内、上記一般
式（３）で表される単官能フェノール類が好ましく、よ
り好ましくはアルキル置換もしくはフェニルアルキル置
換のフェノール類であり、特に好ましくはｐ−ｔｅｒｔ
−ブチルフェノールまたはｐ−クミルフェノールであ
る。これらの単官能フェノール類の末端停止剤は、得ら
れたポリカーボネート樹脂の全末端に対して少くとも５
モル％、好ましくは少くとも１０モル％末端に導入され
ることが望ましく、また、末端停止剤は単独でまたは２
種以上混合して使用してもよい。

【００２９】ポリカーボネート樹脂の分子量は、粘度平
均分子量（Ｍ）で１０,０００〜２２,０００が好まし
く、１２,０００〜２０,０００がより好ましく、１３,
０００〜１８,０００が特に好ましい。かかる粘度平均
分子量を有するポリカーボネート樹脂は、光学用材料と
して十分な強度が得られ、また、成形時の溶融流動性も
良好であり成形歪みが発生せず好ましい。本発明でいう
粘度平均分子量は塩化メチレン１００ｍＬにポリカーボ
ネート樹脂０.７ｇを２０℃で溶解した溶液から求めた
比粘度（η_sp）を次式に挿入して求めたものである。

【００３０】η_sp／ｃ＝［η］＋０．４５×［η］²ｃ
（但し［η］は極限粘度）［η］＝１．２３×１０^-4Ｍ^0.83 ｃ＝０．７ポリカーボネート樹脂は、従来公知の方法（界面重合
法、溶融重合法など）により製造した後、溶液状態にお
いてアルカリ抽出や濾過処理をしたり、造粒（脱溶媒）
後の粒状原料を例えばアセトンなどのケトン類、ヘキサ
ンなどの脂肪族炭化水素、キシレンなどの芳香族炭化水
素などのポリカーボネート貧溶媒および非溶媒で洗浄し
て低分子量成分や未反応成分等の不純物や異物を除去す
ることが好ましい。更に射出成形に供するためのペレッ
ト状ポリカーボネート樹脂を得る押出工程（ペレット化
工程）では溶融状態の時に濾過精度１０μｍの焼結金属
フィルターを通すなどして異物を除去したりすることが
好ましい。必要により、例えば多価アルコール脂肪酸エ
ステル等の離型剤、リン系等の酸化防止剤などの添加剤
を加えることも好ましい。いずれにしても射出成形前の
原料樹脂は異物、不純物、溶媒などの含有量を極力低く
しておくことが必要である。

【００３１】式（１）および式（２）で表わされる物質
の含有量を低減する方法として、例えば、従来公知の方
法（溶液重合法、溶融重合法など）により製造した後、
造粒（脱溶媒）後の粒状樹脂を例えばアセトンなどのケ
トン類、ヘキサンなどの脂肪族炭化水素、キシレンなど
の芳香族炭化水素などのポリカーボネート貧溶媒および
非溶媒で洗浄したりして除去することが好ましい。従
来、ポリカーボネートの合成条件、例えば触媒種および
触媒量の調整、温度、時間、圧力などの条件、末端停止
剤の種類および量の調整などによって式（１）および式
（２）で表わされる物質の含有量が種々異なるポリカー
ボネートが得られていたが、その中から本発明において
特定の式（１）および式（２）で表わされる物質の含有
量のものを選択して使用する事により本発明の効果を達
成することも出来る。

【００３２】上記ポリカーボネート樹脂より光ディスク
基板を製造する場合には射出成形機（射出圧縮成形機を
含む）を用いる。この射出成形機としては一般的に使用
されているものでよいが、炭化物の発生を抑制しディス
ク基板の信頼性を高める観点からシリンダーやスクリュ
ーとして樹脂との付着性が低く、かつ耐食性、耐摩耗性
を示す材料を使用してなるものを用いるのが好ましい。
射出成形の条件としてはシリンダー温度３００〜４００
℃、金型温度５０〜１４０℃が好ましく、これらにより
光学的に優れた光ディスク基板を得ることができる。成
形工程での環境は、本発明の目的から考えて、可能な限
りクリーンであることが好ましい。また、成形に供する
材料を十分乾燥して水分を除去することや、溶融樹脂の
分解を招くような滞留を起こさないように配慮すること
も重要となる。さらに、複屈折、機械特性などに異常が
発生した基板は、製品あるいは試験用基板として採用し
ないように配慮することも重要である。

【００３３】本発明による光学用ポリカーボネート樹脂
成形材料よりなる光ディスク基板は、高温・高湿条件下
長時間保持しても微小な白点の発生は極めて少なく、Ｃ
Ｄ−Ｒ、ＣＤ−ＲＷ、ＭＯ、デジタルビデオディスク、
ＤＶＤ−ＲＯＭ、ＤＶＤ−ａｕｄｉｏ、ＤＶＤ−Ｒ、Ｄ
ＶＤ−ＲＡＭ等で代表されるデジタル・バーサタイル・
ディスク（ＤＶＤ）の光ディスクの基板、特にＤＶＤの
基板として優れている。この高温・高湿条件下の特性
は、ディスク基板を温度８０℃、相対湿度８５％に制御
した恒温恒湿槽に１０００時間放置した後の大きさ２０
μｍ以上の白点発生数を調べることによって確認され
る。本発明によるポリカーボネート樹脂成形材料から得
られたディスク基板の白点発生数は直径１２０ｍｍの基
板あたり２個以下であり、好適なものは１個以下であ
る。

【００３４】

【実施例】以下、実施例を挙げて詳細に説明するが、本
発明は何らこれに限定されるものではない。なお、評価
は下記の方法に従った。

【００３５】（１）式１で表わされる物質の量分析ＧｅｌＰｅｒｍｉｎａｔｉｏｎＣｈｒｏｍａｔｏｇ
ｒａｐｈｙ（ＧＰＣ）を用いそのピークの面積比で算出
した。なお測定は以下の条件で実施した。装置：日本分光製ＬＣ−２０カラム：日本分光製ＪＡＩＧＥＬ２ＨＦ×２本＋ＪＡ
ＩＧＥＬ３ＨＦ×３本移動層：クロロホルム検出器：ＵＶ（２５４ｎｍ）設定温度：４０℃ （２）式（２）で表わされる物質の定量分析高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）を用いて定量
を行った。

【００３６】（３）ＣＤ生産性試験射出成形機［住友重機械工業製ＤＩＳＫ３Ｍ III]
にＣＤ専用の金型を取り付け、この金型にピットの入っ
たニッケル製のＣＤ用スタンパーを装着し、成形材料を
自動搬送にて成形機のホッパに投入し、シリンダー温度
３３５℃、金型温度６５℃にて連続的に成形をおこなっ
た。連続成形開始後、複屈折、機械特性に異常が生じる
ことにより、不良基板生産枚数が増加し、１００枚単位
あたりの不良基板枚数が３％を超えるまでの成形枚数を
求めた。生産基板の良品判定基準は、複屈折がダブルパ
スで±１００ｎｍ以下、機械特性が半径方向反り角で±
１.６度以内とした。

【００３７】（４）ＤＶＤ生産性試験射出成形機［住友重機械工業製ＤＩＳＫ３Ｍ III］
にＤＶＤ専用の金型を取り付け、この金型にピットの
入ったニッケル製のＤＶＤ用スタンパーを装着し、成形
材料を自動搬送にて成形機のホッパに投入し、シリンダ
ー温度３７８℃、金型温度１１９℃にて連続的に成形を
おこない、ＣＤ生産性試験と同様の方法にて、成形枚数
を求めた。生産基板の良品判定基準は、複屈折がダブル
パスで±１００ｎｍ以下、機械特性が半径方向反り角で
±０.８度以内、周方向反り角で±０.３度以内とした。

【００３８】（５）長期信頼性試験ディスク用成形機［住友重機（株）製ＤＩＳＫ３Ｍ
III］により成形された光ディスク用基板（直径１２０
ｍｍ、厚さ１.２ｍｍ）を用いたＣＤを、温度８０℃、
相対湿度８５％に制御した恒温恒湿槽に１０００時間放
置した後、基板中の大きさ２０μｍ以上の白点発生数を
数えた。これを２５枚の光学式ディスク基板についてお
こない、その平均値を求め、これを白点個数とした。

【００３９】実施例１式（１）で示される物質（複数ピーク）の全含有量が
１．３％であり、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノールの含
有量が３５ｐｐｍである２，２−ビス（４−ヒドロキシ
フェニル）プロパン骨格ポリカーボネートパウダーにリ
ン系酸化防止剤[トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェ
ニル）ホスファイト]５０ｐｐｍおよび脂肪酸エステル
[グリセリンモノステアレート（リケマールＳ−１００
Ａ）]１００ｐｐｍを添加した後に押し出し機でペレッ
ト化した。得られたペレットを使用して、ＣＤ生産性試
験、ＤＶＤ生産性試験、長期信頼性試験を行った。その
結果を表１に示す。

【００４０】実施例２実施例１において式（１）で示される物質（複数ピー
ク）の全含有量が０．２％であり、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチ
ルフェノールの含有量が８ｐｐｍである以外は実施例１
と同様の操作を行った。その結果を表１に示す。

【００４１】比較例１実施例１において式（１）で示される示される物質（複
数ピーク）の全含有量が２．５％であり、ｐ−ｔｅｒｔ
−ブチルフェノールの含有量が８５ｐｐｍである以外は
実施例１と同様の操作を行った。その結果を表１に示
す。

【００４２】

【表１】

【００４３】表１に示す通り本発明のポリマーを使用す
る事により成形性および信頼性の高い高密度ディスク基
板を得る事が出来る。

【００４４】

【発明の効果】以上説明したとおり、本発明の樹脂成形
材料を使用する事によりディスク基板を成形性良く得る
事が出来る。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】式（１）で表わされる物質の含有量が
１．５％以下であり且つ式（２）で表わされる物質の含
有量が５０ｐｐｍ以下であるポリカーボネート樹脂より
なる光学用ポリカーボネート樹脂成形材料。【化１】【化２】 [式中、Ａは水素原子、アルキル基、フェニルアルキル
基もしくは脂肪族エステル基であり、ｒは１〜５の整数
である。]
【請求項２】ポリカーボネート樹脂は粘度平均分子量
が１００００〜２２０００である請求項１記載の光学用
ポリカーボネート樹脂成形材料。
【請求項３】式（２）中、Ａが炭素数１〜９のアルキ
ル基もしくは炭素数７〜１５のフェニルアルキル基であ
る、請求項１または２記載の光学用ポリカーボネート樹
脂成形材料。
【請求項４】請求項１記載の光学用ポリカーボネート樹
脂成形材料より形成された光ディスク基板。
【請求項５】請求項１記載の光学用ポリカーボネート
樹脂成形材料より形成されたデジタル・バーサタイル・
ディスク（ＤＶＤ）用光ディスク基板。
【請求項６】請求項４または５記載の光ディスク基板
を用いた情報記録媒体。