JP2002148406A - Method for manufacturing optical filter - Google Patents

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing an optical filter having an antireflection layer formed on a rough surface in a small number of processes. SOLUTION: While a transfer die (3) is brought into contact with an antireflection layer (2) formed on the surface of a resin substrate (1), the surface of the substrate is heated and pressed to form a rough surface (4) to obtain an optical filter (5). The antireflection layer (2) is preferably a layer containing a resin. The resin substrate (1) is laminated with functional members (81 to 83) and heated and pressurized.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【０００１】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、光学フィルターの
製造方法に関し、詳しくは凹凸面に反射防止層を有し、
画像表示装置用光学フィルターとして好適に使用される
光学フィルターの製造方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing an optical filter, and more particularly, to an optical filter having an antireflection layer on an uneven surface.
The present invention relates to a method for manufacturing an optical filter suitably used as an optical filter for an image display device.

【０００２】[0002]

【従来の技術】プラズマ・ディスプレイ・パネル（ＰＤ
Ｐ）などの画像表示装置の前面側に配置される光学フィ
ルターには、画像表示装置から発生する電磁波、赤外線
などを遮蔽する機能や、画像表示装置に表示されるカラ
ー画像の色調を補正する機能などが求められている。こ
れらの機能を有する光学フィルターは、例えば電磁波遮
蔽部材、赤外線遮蔽部材、色調補正部材などの機能部材
を目的に応じて適宜選択して使用し、これらを重ね合せ
て加熱・加圧する方法により、これらを互いに一体に積
層して製造することができる（特開平１１−１０３１９
２号公報）。2. Description of the Related Art Plasma display panels (PDs)
The optical filter disposed on the front side of the image display device such as P) has a function of shielding electromagnetic waves and infrared rays generated from the image display device, and a function of correcting a color tone of a color image displayed on the image display device. Are required. The optical filter having these functions is used by appropriately selecting and using functional members such as an electromagnetic wave shielding member, an infrared shielding member, and a color tone correcting member according to the purpose, and superposing and heating / pressing these members. (Japanese Patent Laid-Open No. 11-10319).
No. 2).

【０００３】かかる光学フィルターの背面側（画像表示
装置側）の表面が凹凸面となっており、該凹凸面に反射
防止層が形成されていると、光学フィルターを画像表示
装置の表示面から離して配置した場合に、光学フィルタ
ーが反って画像表示装置と部分的に接触することによる
ニュートンリングの発生が防止でき、また光学フィルタ
ーの背面側における光の反射も防止できて、視認性が良
好となる。表面が凹凸面であり、該凹凸面に反射防止層
が形成されている光学フィルターは、例えば樹脂基材の
表面を凹凸面とし、該凹凸面に反射防止層を形成したの
ち、この樹脂基材を機能部材と重ね合せた状態で加熱・
加圧する方法により製造することができる。The surface on the back side (image display device side) of such an optical filter has an uneven surface, and if an antireflection layer is formed on the uneven surface, the optical filter is separated from the display surface of the image display device. When placed in a position, the optical filter warps and partially contacts the image display device to prevent the occurrence of Newton rings, and also prevents the reflection of light on the back side of the optical filter, resulting in good visibility. Become. An optical filter in which the surface has an uneven surface and an antireflection layer is formed on the uneven surface, for example, the surface of a resin substrate is formed as an uneven surface, and the antireflection layer is formed on the uneven surface. Heating with the
It can be manufactured by a method of applying pressure.

【０００４】しかし、かかる方法では、樹脂基材の表面
を凹凸面とする工程、該凹凸面に反射防止層を形成する
工程、樹脂基材を機能部材と重ね合せた状態で加熱・加
圧してこれらを一体に積層する工程の少なくとも３工程
を必要としていた。However, in this method, a step of forming an uneven surface on the surface of the resin substrate, a step of forming an antireflection layer on the uneven surface, and heating and pressurizing the resin substrate in a state of being overlapped with the functional member are performed. At least three of the steps of integrally laminating them are required.

【０００５】[0005]

【発明が解決しようとする課題】そこで本発明者らは、
凹凸面に反射防止層が形成された光学フィルターをより
少ない工程で製造し得る方法を開発するべく鋭意検討し
た結果、反射防止層が形成された樹脂基材の表面を転写
型で加熱・加圧することにより、反射防止層を損なうこ
となく樹脂基材の表面を凹凸面とすることができ、同時
に樹脂基材と機能部材とを一体に積層することもできる
ことを見出し、本発明に至った。SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, the present inventors
As a result of intensive studies to develop a method that can manufacture an optical filter having an anti-reflection layer on an uneven surface in fewer steps, the surface of the resin substrate on which the anti-reflection layer is formed is heated and pressed by a transfer mold. As a result, it has been found that the surface of the resin substrate can be made uneven without damaging the antireflection layer, and the resin substrate and the functional member can be integrally laminated at the same time, and the present invention has been accomplished.

【０００６】[0006]

【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、反射
防止層（２）が形成された樹脂基材（１）の表面を転写
型（３）で加熱・加圧して凹凸面（４）とすることを特
徴とする光学フィルター（５）の製造方法を提供するも
のである。That is, according to the present invention, the surface of a resin substrate (1) on which an antireflection layer (2) is formed is heated and pressed by a transfer mold (3) to form an uneven surface (4). And a method for producing an optical filter (5).

【０００７】[0007]

【発明の実施の形態】本発明の製造方法に適用される樹
脂基材（１）としては、例えばアクリル樹脂板、ポリカ
ーボネート樹脂板、ポリエステル樹脂板、トリアセチル
セルロース板、ジアセチルセルロース板などのセルロー
ス樹脂板、スチレン樹脂板などのような可視光を透過し
得る樹脂板が挙げられる。かかる樹脂基材の厚みは、例
えば１０μｍ以上１０ｍｍ以下程度であり、板状であっ
てもよいし、フィルム状であってもよい。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS As a resin substrate (1) applied to the production method of the present invention, for example, a cellulose resin such as an acrylic resin plate, a polycarbonate resin plate, a polyester resin plate, a triacetyl cellulose plate, a diacetyl cellulose plate, etc. And a resin plate capable of transmitting visible light, such as a plate and a styrene resin plate. The thickness of the resin substrate is, for example, about 10 μm or more and 10 mm or less, and may be plate-like or film-like.

【０００８】かかる樹脂基材の表面には反射防止層
（２）が形成されている。反射防止層とは、基材の表面
に入射する可視光線の反射を防止する層であり、かかる
反射防止層により基材の表面における反射率が低減され
る。反射防止層は、例えば蒸着、スパッタリングなどの
物理気相堆積（ＰＶＤ、Physical Vapor Deposition）
法により樹脂基材の表面に形成し得る金属酸化物層、金
属フッ化物層などの無機化合物からなる層であってもよ
いが、加熱・加圧おいてクラックが生じにくい点で、樹
脂成分を含む層が好ましい。樹脂成分を含む層として
は、例えば樹脂中に無機微粒子が分散された層（特開平
７−４８５２７号公報、特開２０００−１８６２１６号
公報）、フッ素含有樹脂層（特開平９−２８８２０２号
公報、特開２０００−１８６２１６号公報）、ポリシロ
キサン層（特開平９−２４５５３号公報、特開平７−４
０４５７号公報）などが挙げられる。反射防止層が樹脂
成分を含む層である場合には、クラックの発生がより少
ない点で、樹脂成分の少なくとも一部が架橋しているこ
とが好ましい。[0008] An antireflection layer (2) is formed on the surface of such a resin substrate. The antireflection layer is a layer that prevents the reflection of visible light incident on the surface of the substrate, and the reflectance on the surface of the substrate is reduced by the antireflection layer. The anti-reflection layer is formed by, for example, physical vapor deposition (PVD) such as evaporation or sputtering.
A metal oxide layer that can be formed on the surface of the resin substrate by a method, a layer made of an inorganic compound such as a metal fluoride layer may be used, but the resin component is hardly cracked when heated and pressed. Layers containing are preferred. Examples of the layer containing a resin component include a layer in which inorganic fine particles are dispersed in a resin (JP-A-7-48527 and JP-A-2000-186216), and a fluorine-containing resin layer (JP-A-9-288202). JP-A-2000-186216), polysiloxane layer (JP-A-9-24553, JP-A-7-4)
No. 0457). When the antireflection layer is a layer containing a resin component, it is preferable that at least a part of the resin component is cross-linked from the viewpoint of less occurrence of cracks.

【０００９】かかる反射防止層は、単層であってもよい
し、２層以上からなる多層であってもよい。反射防止層
の厚みは、通常の反射防止層と同様に反射防止層の屈折
率などに応じて適宜選択されるが、単層である場合に
は、例えば１００ｎｍ以上１５０ｎｍ以下であり、多層
である場合には、例えば１００ｎｍ以上１０００ｎｍ以
下である。かかる反射防止層が形成される樹脂基材の表
面は通常、平坦面である。The anti-reflection layer may be a single layer or a multilayer composed of two or more layers. The thickness of the anti-reflection layer is appropriately selected according to the refractive index of the anti-reflection layer as in the case of a normal anti-reflection layer. When the anti-reflection layer is a single layer, the thickness is, for example, 100 nm or more and 150 nm or less; In this case, the thickness is, for example, 100 nm or more and 1000 nm or less. The surface of the resin substrate on which the antireflection layer is formed is usually a flat surface.

【００１０】反射防止層と樹脂基材との間には、ハード
コート層が形成されていてもよい。ハードコート層がさ
れていると、反射防止層の硬度が向上して、加熱・加圧
において反射防止層にクラックなどが発生することを防
止できる。[0010] A hard coat layer may be formed between the antireflection layer and the resin substrate. When the hard coat layer is provided, the hardness of the antireflection layer is improved, and it is possible to prevent cracks and the like from occurring in the antireflection layer during heating and pressing.

【００１１】本発明の製造方法では、かかる樹脂基材の
反射防止層が形成されている表面を転写型（３）で加熱
・加圧する。転写型とは、目的とする凹凸面に対応した
形状の凹凸面を有する型である。転写型は、例えば表面
が凹凸面である金型であってもよいが、表面に凹凸が形
成されたフィルムであることが、例えば取り扱いや交換
が容易である点、得られた光学フィルターの取り出しが
容易である点で好ましい。In the manufacturing method of the present invention, the surface of the resin substrate on which the antireflection layer is formed is heated and pressed by the transfer mold (3). The transfer mold is a mold having an uneven surface having a shape corresponding to a target uneven surface. The transfer mold may be, for example, a mold having an uneven surface, but a film having unevenness on the surface is, for example, easy to handle and exchange, and taking out the obtained optical filter. Is preferred in that it is easy.

【００１２】表面に凹凸が形成されたフィルムとして
は、例えばポリエステル樹脂、トリアセチルセルロー
ス、ジアセチルセルロースなどのセルロース樹脂などか
らなる樹脂フィルムが用いられ、経済性の点で、ポリエ
ステル樹脂、なかでもポリエチレンテレフタレート（Ｐ
ＥＴ）からなるフィルムが好ましい。かかるフィルムの
厚みは特に限定されないが、取り扱いが容易である点で
通常は２０μｍ以上、好ましくは３０μｍ以上であり、
経済性の点で通常５００μｍ以下、好ましくは３００μ
ｍ以下である。As the film having an uneven surface, a resin film made of, for example, a cellulose resin such as polyester resin, triacetyl cellulose, diacetyl cellulose or the like is used. From the viewpoint of economy, polyester resin, especially polyethylene terephthalate, is used. (P
ET) are preferred. The thickness of such a film is not particularly limited, but is usually 20 μm or more, preferably 30 μm or more in terms of easy handling,
500 μm or less, preferably 300 μm
m or less.

【００１３】凹凸は、エンボス加工によって形成された
凹凸であってもよいし、フィルムに分散されたフィラー
により形成された凹凸であってもよい。凹凸の平均間隔
（ＪＩＳ Ｂ ０６０１）は３μｍ以上５００μｍ以下
であることが好ましく、十点平均粗さ（ＪＩＳ Ｂ ０
６０１）は０．１μｍ以上２０μｍ以下であることが好
ましい。The irregularities may be irregularities formed by embossing or irregularities formed by fillers dispersed in the film. The average interval between the irregularities (JIS B 0601) is preferably 3 μm or more and 500 μm or less, and the ten-point average roughness (JIS B 0601) is used.
601) is preferably 0.1 μm or more and 20 μm or less.

【００１４】加熱・加圧は、例えば転写型（３）として
表面に凹凸が形成されたフィルムを用いた場合には、樹
脂基材（１）と表面に凹凸が形成されたフィルム（３）
とを重ね合せ（図１）、これらをプレス装置を用いて２
つの鏡面ステンレス板（６、７）により加熱・加圧すれ
ばよい（図２）。鏡面ステンレス板とは、表面が鏡面仕
上げされたステンレス製の板であって、プレス成形用の
型として通常用いられると同様のものを用いることがで
きる。樹脂基材と転写型とは、樹脂基材の反射防止層
（２）側がフィルム（３）の凹凸と接触するように重ね
合わされる。２つの鏡面ステンレス板（６、７）によっ
て樹脂基材とフィルムとを加熱・加圧することにより、
フィルム（３）によって樹脂基材（１）の表面が加熱・
加圧されて、フィルムの凹凸が樹脂基材に転写され、樹
脂基材の表面が凹凸面となる。加熱・加圧したのちのフ
ィルムは、回収して再利用してもよい。The heating and pressurizing are performed, for example, in the case of using a film having irregularities on the surface as a transfer mold (3), a resin substrate (1) and a film (3) having irregularities on the surface.
(FIG. 1), and these are superimposed by using a press device.
Heating and pressing may be performed by using two mirror stainless steel plates (6, 7) (FIG. 2). The mirror-finished stainless steel plate is a stainless steel plate whose surface is mirror-finished, and may be the same as that usually used as a press molding die. The resin substrate and the transfer mold are overlapped so that the anti-reflection layer (2) side of the resin substrate contacts the unevenness of the film (3). By heating and pressurizing the resin substrate and the film with two mirror stainless steel plates (6, 7),
The surface of the resin substrate (1) is heated by the film (3).
When pressed, the irregularities of the film are transferred to the resin substrate, and the surface of the resin substrate becomes an irregular surface. The film after heating and pressing may be collected and reused.

【００１５】転写型（３）として表面が凹凸面である金
型を用いる場合には、該金型を一方のプレス型（７）と
して用い、他方の鏡面ステンレス板（８）と共に樹脂基
材を加熱・加圧すればよい。かくして金型（３）によっ
て樹脂基材の表面が加熱・加圧されて、金型の凹凸が樹
脂基材に転写され、樹脂基材の表面が凹凸面となる。加
熱・加圧後に得られた成形体を容易に取り出せる点で、
金型の表面には、あらかじめ離型促進剤などを塗布して
おくことが好ましい。When a mold having an uneven surface is used as the transfer mold (3), the mold is used as one press mold (7), and a resin substrate is used together with the other mirror surface stainless steel plate (8). What is necessary is just to heat and pressurize. Thus, the surface of the resin substrate is heated and pressurized by the mold (3), the irregularities of the mold are transferred to the resin substrate, and the surface of the resin substrate becomes an irregular surface. In that the molded body obtained after heating and pressing can be easily taken out,
It is preferable to apply a mold release accelerator or the like to the surface of the mold in advance.

【００１６】加熱温度は、通常、樹脂基材の変形温度以
上であり、例えば樹脂基材としてアクリル樹脂板を用い
た場合には通常１１０℃以上１８０℃以下である。加圧
圧力は凹凸面を十分に形成することができる圧力であれ
ば特に限定されるものではないが、例えば樹脂基材とし
てアクリル樹脂板を用いた場合には通常１×１０⁶Ｐａ
程度以上６×１０⁶Ｐａ程度以下である。加熱と加圧と
は通常、同時に行われる。The heating temperature is usually higher than the deformation temperature of the resin base material. For example, when an acrylic resin plate is used as the resin base material, the heating temperature is usually higher than 110 ° C. and lower than 180 ° C. The pressure is not particularly limited as long as the pressure can sufficiently form the uneven surface. For example, when an acrylic resin plate is used as the resin base material, the pressure is usually 1 × 10 ⁶ Pa
About 6 × 10 ⁶ Pa or less. Heating and pressurization are usually performed simultaneously.

【００１７】樹脂基材（１）を機能部材（８）と重ね合
せた状態で、樹脂基材の表面を転写型（３）で加熱・加
圧することとすれば、樹脂基材と機能部材との積層を同
時に行うことができる（図１、図２）。機能部材（８）
としては、例えば電磁波遮蔽部材（８１）、赤外線遮蔽
部材（８２）、色調補正部材（８３）などが挙げられ
る。If the surface of the resin substrate is heated and pressed by the transfer mold (3) in a state where the resin substrate (1) is overlaid on the functional member (8), the resin substrate and the functional member can be Can be simultaneously performed (FIGS. 1 and 2). Functional member (8)
Examples thereof include an electromagnetic wave shielding member (81), an infrared shielding member (82), a color tone correction member (83), and the like.

【００１８】電磁波遮蔽部材（８１）とは、可視光を透
過し、電磁波を遮蔽する機能を有する部材であって、例
えば導電性メッシュ、透明導電膜などが挙げられる。導
電性メッシュとしては、例えば金属製のメッシュ、表面
が金属メッキ加工されたポリエステル繊維からなる金属
化樹脂メッシュ、透明基材の表面に格子状に形成された
導電性ペーストからなるメッシュなどであってもよい。
また透明基材の表面に格子状に形成された非導電性のペ
ーストにメッキ法などにより金属薄膜が被覆されたメッ
シュなどであってもよい。透明基材は通常フィルム状な
いし板状であって、その厚みは通常１０μｍ以上１０ｍ
ｍ以下である。The electromagnetic wave shielding member (81) is a member having a function of transmitting visible light and shielding electromagnetic waves, and examples thereof include a conductive mesh and a transparent conductive film. Examples of the conductive mesh include a metal mesh, a metallized resin mesh made of polyester fibers having a metal-plated surface, a mesh made of a conductive paste formed in a grid on the surface of a transparent substrate, and the like. Is also good.
Also, a mesh or the like in which a non-conductive paste formed in a grid on the surface of a transparent base material is coated with a metal thin film by a plating method or the like may be used. The transparent substrate is usually in the form of a film or a plate, and its thickness is usually 10 μm or more and 10 m.
m or less.

【００１９】透明導電膜としては、例えばインジウム・
スズ複合酸化物（ＩＴＯ）などのような導電性の金属酸
化物の微粒子が分散された樹脂バインダーからなる層、
導電性の物質からなる層などが挙げられる。導電性の物
質としては、ＩＴＯなどの導電性の金属酸化物であって
もよいが、画像表示装置がＰＤＰである場合などのよう
に比較的高い電磁波遮蔽機能が求められる場合には、
銀、銀を主成分とする合金などの金属などが好ましい。
かかる導電性の物質からなる層は、蒸着、スパッタリン
グなどの方法により形成することができる。透明導電膜
が導電性の物質からなる層である場合には、該透明導電
膜における可視光の反射率が大きくなる傾向にあるが、
かかる場合には透明導電膜を屈折率の低い誘電体層との
多層膜とすることにより、可視光の反射率を低減するこ
とができる。As the transparent conductive film, for example, indium
A layer made of a resin binder in which fine particles of a conductive metal oxide such as tin composite oxide (ITO) are dispersed,
And a layer formed of a conductive substance. The conductive substance may be a conductive metal oxide such as ITO, but when a relatively high electromagnetic wave shielding function is required, such as when the image display device is a PDP,
A metal such as silver or an alloy containing silver as a main component is preferable.
Such a layer made of a conductive substance can be formed by a method such as evaporation or sputtering. When the transparent conductive film is a layer made of a conductive material, the reflectance of visible light in the transparent conductive film tends to increase,
In such a case, the reflectance of visible light can be reduced by forming the transparent conductive film as a multilayer film with a dielectric layer having a low refractive index.

【００２０】得られる光学フィルター（５）において電
磁波遮蔽部材（８１）は、アース（接地）されているこ
とが好ましく、そのためには、例えば電磁波遮蔽部材が
光学フィルターの四辺において露出する構造とし、この
露出した部分からアースを取ってもよいが、かかる構造
とするには、例えば電磁波遮蔽部材の上に重ね合わされ
る部材（１、２）の面積を電磁波遮蔽部材の面積よりも
小さくすればよい。In the obtained optical filter (5), the electromagnetic wave shielding member (81) is preferably grounded (grounded). For this purpose, for example, the electromagnetic wave shielding member is structured to be exposed on four sides of the optical filter. Although the ground may be taken from the exposed portion, such a structure may be achieved, for example, by making the area of the members (1, 2) superimposed on the electromagnetic wave shielding member smaller than the area of the electromagnetic wave shielding member.

【００２１】電磁波遮蔽部材（８１）として金属製のメ
ッシュ、金属化樹脂メッシュなどを用い、これを最外層
とする場合には、導電性メッシュの下側の部材（９２）
を軟質の部材として、加熱・加圧によって導電性メッシ
ュが軟質の部材に埋め込まれるようにしてもよい。When a metal mesh, a metallized resin mesh or the like is used as the electromagnetic wave shielding member (81) and this is used as the outermost layer, the member (92) below the conductive mesh is used.
As a soft member, the conductive mesh may be embedded in the soft member by heating and pressing.

【００２２】赤外線遮蔽部材（８２）とは可視光を透過
し、赤外線を遮蔽する機能を有する部材であって、例え
ば銅化合物、リン化合物、タングステン化合物などを含
有する樹脂板（特開昭６２−５１９０号公報、特開平６
−７３１９７号公報、特開平６−１１８２２８号公報、
米国特許第３６４７７２９号明細書など）、銅化合物と
リン化合物とを含有する樹脂基材、近赤外線を吸収する
色素を含有する樹脂基材などが挙げられる。The infrared shielding member (82) is a member having a function of transmitting visible light and shielding infrared rays. For example, a resin plate containing a copper compound, a phosphorus compound, a tungsten compound or the like (Japanese Patent Application Laid-Open No. Sho 62-62). No. 5190, Japanese Unexamined Patent Publication No.
-73197, JP-A-6-118228,
U.S. Pat. No. 3,647,729), a resin substrate containing a copper compound and a phosphorus compound, and a resin substrate containing a dye that absorbs near infrared rays.

【００２３】また、赤外線領域に吸収を有する染料を含
有する樹脂基材、透明基材の表面に形成された該染料か
らなる層などが挙げられる。染料からなる層は、例えば
染料およびバインダーの混合物を透明基材の表面に塗布
する方法により形成することができる。透明基材は通常
フィルム状ないし板状であって、その厚みは通常１０μ
ｍ以上１０ｍｍ以下である。Further, there may be mentioned a resin substrate containing a dye having an absorption in the infrared region, a layer made of the dye formed on the surface of a transparent substrate, and the like. The layer made of a dye can be formed by, for example, a method of applying a mixture of a dye and a binder to the surface of a transparent substrate. The transparent substrate is usually in the form of a film or a plate, and its thickness is usually 10 μm.
m or more and 10 mm or less.

【００２４】画像表示装置がＰＤＰである場合には、赤
外線遮蔽部材として近赤外線を遮蔽する機能が特に求め
られ、具体的には波長４５０ｎｍ〜６５０ｎｍにおける
全光線透過率（ＪＩＳ Ｋ７１０５Ａ）が５０％以上で
あり、波長８００ｎｍ〜１０００ｎｍにおける光線透過
率（ＪＩＳ Ｋ７１０５Ａ）が３０％以下である部材が
好ましく用いられる。When the image display device is a PDP, a function of shielding near infrared rays is particularly required as an infrared ray shielding member. Specifically, the total light transmittance (JIS K7105A) at a wavelength of 450 nm to 650 nm is 50% or more. A member having a light transmittance (JIS K7105A) at a wavelength of 800 nm to 1000 nm of 30% or less is preferably used.

【００２５】色調補正部材（８３）とは、画像表示装置
に表示されるカラー画像の色調を補正する機能を有する
部材であって、例えば染料、顔料などの色素で着色され
た透明基材などが挙げられる。透明基材は通常フィルム
状ないし板状であって、その厚みは通常１０μｍ以上１
０ｍｍ以下である。The color tone correcting member (83) is a member having a function of correcting the color tone of a color image displayed on an image display device. For example, a transparent base material colored with a dye such as a dye or a pigment may be used. No. The transparent substrate is usually in the form of a film or a plate, and its thickness is usually 10 μm or more and 1
0 mm or less.

【００２６】これらの機能部材は、一の部材が複数の機
能部材を兼ねていてもよく、例えば赤外線遮蔽部材（８
１）が色調補正部材（８３）を兼ねていてもよい。赤外
線遮蔽部材が色調補正部材を兼ねる場合には、例えば赤
外線遮蔽部材が呈色している場合には、そのまま色調補
正部材として使用してもよいし、赤外線遮蔽部材を色素
で着色して使用してもよい。As for these functional members, one member may also serve as a plurality of functional members. For example, an infrared shielding member (8
1) may also serve as the color tone correction member (83). When the infrared shielding member also serves as a color tone correcting member, for example, when the infrared shielding member is colored, the infrared shielding member may be used as it is as a color tone correcting member, or the infrared shielding member may be colored with a dye and used. You may.

【００２７】樹脂基材や機能部材の材質や厚みによって
は、これらだけでは光学フィルターの形状を平面状に維
持することが困難である場合もあるが、この場合には、
これら樹脂基材や機能部材を支持基板と共に積層して一
体化してもよい。支持基板としては、例えばアクリル樹
脂板、ポリカーボネート樹脂板、ポリエステル樹脂板、
トリアセチルセルロース板、ジアセチルセルロース板な
どのセルロース樹脂板、スチレン樹脂板などの樹脂板、
ソーダガラス、強化ガラス、半強化ガラス（化学強化ガ
ラス）などの無機ガラスからなるガラス板などの透明基
板が挙げられる。支持基板としてガラス板を用いる場合
には、破損防止の観点から強化ガラス、半強化ガラスな
どが好ましく用いられる。支持基板として樹脂板を用い
た場合、その厚みは通常１ｍｍ以上１０ｍｍ以下であ
り、ガラス板を用いた場合、その厚みは通常２ｍｍ以上
５ｍｍ以下である。Depending on the material and thickness of the resin base material and the functional member, it may be difficult to maintain the shape of the optical filter in a planar shape by using only these materials.
These resin base materials and functional members may be laminated and integrated with the support substrate. As the support substrate, for example, an acrylic resin plate, a polycarbonate resin plate, a polyester resin plate,
Cellulose resin plate such as triacetyl cellulose plate, diacetyl cellulose plate, resin plate such as styrene resin plate,
A transparent substrate such as a glass plate made of inorganic glass such as soda glass, tempered glass, and semi-tempered glass (chemically strengthened glass) may be used. When a glass plate is used as the support substrate, tempered glass, semi-tempered glass, or the like is preferably used from the viewpoint of preventing breakage. When a resin plate is used as the support substrate, the thickness is usually 1 mm or more and 10 mm or less. When a glass plate is used, the thickness is usually 2 mm or more and 5 mm or less.

【００２８】樹脂基材（１）、機能部材（８）および支
持基板の材質によっては、加熱・加圧によってこれらが
互いに接着しにくい場合もあるが、この場合には、例え
ば接着層（９１、９２）を介してこれらを重ね合せて加
熱・加圧すればよい。接着層を介して重ね合せて加熱・
加圧することにより、互いを十分な強度で接着すること
ができる。接着層としては、例えば接着剤からなる層、
軟質アクリルフィルムなどの接着性フィルムなどが挙げ
られる。Depending on the materials of the resin substrate (1), the functional member (8) and the support substrate, they may be difficult to adhere to each other by heating and pressing. In this case, for example, the adhesive layer (91, These may be heated and pressurized by superimposing them through 92). Heating by overlapping through the adhesive layer
By applying pressure, they can be bonded to each other with sufficient strength. As the adhesive layer, for example, a layer made of an adhesive,
An adhesive film such as a soft acrylic film may be used.

【００２９】樹脂基材（１）、機能部材（８）、支持基
板の積層の順序は、樹脂基材が最外層となってその表面
が転写型により加熱・加圧されることが可能であれば、
特に限定されるものではない。The order of lamination of the resin base material (1), the functional member (8) and the support substrate is such that the resin base material becomes the outermost layer and its surface can be heated and pressed by a transfer mold. If
There is no particular limitation.

【００３０】光学フィルターとして、その両面に反射防
止層が形成されたものを得るには、例えば表面に反射防
止層（２０）が形成された樹脂基材（１０）をさらに重
ね合せて加熱・加圧すればよい。さらに重ね合わされる
樹脂基材（１０）およびその表面に形成される反射防止
層（２０）としては、先に挙げたと同様のものを用いる
ことができる。該樹脂基材（１０）は、その反射防止層
（２０）が最外層となるように重ね合わされる。加熱・
加圧に際しては、かかる樹脂基材（１０）の表面に形成
された反射防止層（２０）に転写型を接触させて、該表
面を転写型で加熱・加圧して凹凸面を形成してもよい。In order to obtain an optical filter having an anti-reflection layer formed on both surfaces, for example, a resin substrate (10) having an anti-reflection layer (20) formed on its surface is further superposed and heated and heated. You only have to press. Further, as the resin substrate (10) to be superposed and the antireflection layer (20) formed on the surface thereof, the same ones as described above can be used. The resin substrate (10) is overlaid so that the antireflection layer (20) is the outermost layer. heating·
When pressing, a transfer mold is brought into contact with the antireflection layer (20) formed on the surface of the resin base material (10), and the surface is heated and pressed by the transfer mold to form an uneven surface. Good.

【００３１】[0031]

【発明の効果】本発明の製造方法によれば、機能部材の
積層と凹凸面の形成とを同時に行い得るので、凹凸面に
反射防止層が形成された光学フィルターを少ない工程で
製造することができる。According to the manufacturing method of the present invention, since the lamination of the functional member and the formation of the uneven surface can be performed simultaneously, the optical filter having the antireflection layer formed on the uneven surface can be manufactured in a small number of steps. it can.

【００３２】[0032]

【実施例】以下、実施例により本発明をより詳細に説明
するが、本発明はかかる実施例により限定されるもので
はない。The present invention will be described in more detail with reference to the following examples, but the present invention is not limited to these examples.

【００３３】なお、評価は以下の方法で行った。 （１）全光線透過率 「ヘーズコンピューターＨＧＭ−２ＤＰ」（スガ試験機
社製）を用いて波長４５０ｎｍ〜６５０ｎｍでの全光線
透過率を測定した。 （２）赤外線透過率 自記分光光度計「３３０型」（日立製作所製）を用いて
波長８５０ｎｍ、９００ｎｍ、９５０ｎｍでの透過率を
測定した。 （３）反射率 波長３００ｎｍ〜８００ｎｍの反射スペクトルを自記分
光光度計「ＭＰＳ３０００型」（島津製作所製）を用い
て測定した。 （４）電磁波遮蔽性能 得られた光学フィルターに照射した電磁波（１００ＭＨ
ｚ）の強度（Ｘ₀）と光学フィルターを透過した電磁波
の強度（Ｘ）とから、式（１） 電磁波遮蔽性能（ｄＢ）＝２０×ｌｏｇ₁₀（Ｘ₀／Ｘ） （１） により算出した。なお電磁波の強度はシールド材評価シ
ステム「Ｒ２５４７型」（アドバンテスト社製）を用い
て測定した。 （５）凹凸面の十点平均粗さ 表面粗さ形状測定器「サーフコム５７０Ａ」（東京精密
社製）を用いて測定した。The evaluation was performed by the following method. (1) Total light transmittance The total light transmittance at a wavelength of 450 nm to 650 nm was measured using "Haze Computer HGM-2DP" (manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.). (2) Infrared transmittance The transmittance at wavelengths of 850 nm, 900 nm and 950 nm was measured using a self-recording spectrophotometer “Type 330” (manufactured by Hitachi, Ltd.). (3) Reflectance A reflection spectrum having a wavelength of 300 nm to 800 nm was measured using a self-recording spectrophotometer “MPS3000 type” (manufactured by Shimadzu Corporation). (4) Electromagnetic wave shielding performance The electromagnetic wave (100 MH) irradiated on the obtained optical filter
From the intensity (X ₀ ) of z) and the intensity (X) of the electromagnetic wave transmitted through the optical filter, it was calculated by the following equation (1): electromagnetic wave shielding performance (dB) = 20 × log ₁₀ (X ₀ / X) (1) . The strength of the electromagnetic wave was measured using a shield material evaluation system “R2547 type” (manufactured by Advantest). (5) Ten-point average roughness of the uneven surface The surface roughness was measured using a surface roughness shape measuring device “Surfcom 570A” (manufactured by Tokyo Seimitsu Co., Ltd.).

【００３４】参考例１ （近赤外線遮蔽樹脂板の製造）メチルメタクリレート７
８重量部、メタクリル酸４重量部、ネオペンチルグリコ
ールジメタクリレート４重量部、式（２） [CH₂=C(CH₃)-COO-(CH₂C(CH₃)HO)_n]_m-P(O)(OH)-(OH)_3-m （２）（式中 、ｎは数平均で５．５であり、ｍは１または２である。） で示される化合物の混合物１８重量部の混合物に、水酸
化銅１．２重量部、ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチル
ヘキサノエート０．３重量部を混合し、さらに色調調整
のための染料を加えて混合して溶液を得た。ポリ塩化ビ
ニル製ガスケットと２枚のガラス板〔面積２２０ｍｍ×
２２０ｍｍ、厚み１０ｍｍ〕からなる重合セルに上記で
得た溶液を注入し、５０℃で１時間保温し、次いで１０
０℃で１時間保温して、透明樹脂板〔面積２００ｍｍ×
２００ｍｍ、厚み３ｍｍ〕を得た。この透明樹脂板の全
光線透過率は７１％であり、波長８００ｎｍ〜１０００
ｎｍの範囲における平均光線透過率は１０％以下であっ
た。この透明樹脂板は、赤外線遮蔽機能と色調補正機能
とを有している。Reference Example 1 (Production of a Near-Infrared Shielding Resin Plate) Methyl methacrylate 7
8 parts by weight, 4 parts by weight of methacrylic acid, 4 parts by weight of neopentyl glycol dimethacrylate, formula (2) [CH ₂ = C (CH ₃ ) -COO- (CH ₂ C (CH ₃ ) HO) _n ] _m -P (O) (OH)-(OH) _3-m (2) (wherein n is a number average of 5.5 and m is 1 or 2) 18 parts by weight of a mixture of compounds represented by the following formula: 1.2 parts by weight of copper hydroxide and 0.3 parts by weight of t-butylperoxy-2-ethylhexanoate were mixed with the mixture, and a dye for adjusting color tone was added and mixed to obtain a solution. . Polyvinyl chloride gasket and two glass plates [area 220 mm x
The solution obtained above was poured into a polymerization cell having a thickness of 220 mm and a thickness of 10 mm], and kept at 50 ° C. for 1 hour.
Keep the temperature at 0 ° C for 1 hour, and set the transparent resin plate [area 200 mm x
200 mm, thickness 3 mm]. This transparent resin plate has a total light transmittance of 71% and a wavelength of 800 nm to 1000 nm.
The average light transmittance in the range of nm was 10% or less. This transparent resin plate has an infrared shielding function and a color tone correcting function.

【００３５】実施例１ 鏡面ステンレス板（６）の上に、ポリカーボネートフィ
ルム（１０）の表面に樹脂を含む反射防止層（２０）が
形成された反射防止フィルム〔「リアルック３２０
０」、日本油脂社製、面積２００ｍｍ×２００ｍｍ〕を
反射防止層側を下にして載置し、該反射防止フィルムの
上に軟質アクリルフィルム〔「サンジュレン」、鐘淵化
学工業社製、厚みは５０μｍ、面積２００ｍｍ×２００
ｍｍ〕（９１）、参考例１で得た透明樹脂板〔面積２０
０ｍｍ×２００ｍｍ〕（８２（８３））、軟質アクリル
フィルム〔「サンジュレン」、面積２００ｍｍ×２００
ｍｍ〕（９２）および導電性メッシュ〔面積２００ｍｍ
×２００ｍｍ、織り目の密度は１３５本／インチ（１イ
ンチは２５．６ｍｍ）、繊維径３４μｍ、フィラメント
表面を銅および黒ニッケルメッキ加工されたポリエステ
ル紗織物、セーレン社製〕（８１）をこの順に載置し、
該導電性メッシュの上に、ポリカーボネートフィルム
（１）の表面に反射防止層（２）が形成された反射防止
フィルム〔「リアルック３２００」、面積１８０ｍｍ×
１８０ｍｍ〕をその反射防止層を上にして載置し、該反
射防止フィルムの上に、表面に凹凸が形成されたフィル
ム〔「エクセルマイティーＮＣ−０１」、大日本印刷社
製、厚み１８８μｍ、ＰＥＴフィルム、、面積１８０ｍ
ｍ×１８０ｍｍ〕（３）をその凹凸面を反射防止フィル
ム側として載置し、該フィルム〔「エクセルマイティー
ＮＣ−０１」〕の上に鏡面ステンレス板（７）を載置し
た（図１）。これらを５０ｔ油圧プレスにて、１３０℃
に加熱しながら１０分間３．９×１０⁶Ｐａ（４０ｋｇ
／ｃｍ²）の圧力で加圧し、積層して（図２）、光学フ
ィルター（５）を得た（図３）。得られた光学フィルタ
ーは、その周辺部の平面上に導電性メッシュが露出して
おり、この露出している部分でアースを取ることができ
た。得られた光学フィルターの評価結果を表１に示す。Example 1 An anti-reflection film having a polycarbonate film (10) and an anti-reflection layer (20) containing a resin formed on a mirror-finished stainless steel plate (6) ["Real-Look 320"
0 ", manufactured by NOF CORPORATION, area 200 mm x 200 mm] with the antireflection layer side down, and a soft acrylic film [" Sanjuren ", manufactured by Kanegafuchi Chemical Co., Ltd. on the antireflection film. 50 μm, area 200 mm × 200
mm] (91), the transparent resin plate obtained in Reference Example 1 [area 20
0 mm × 200 mm] (82 (83)), a soft acrylic film [“Sanjuren”, area 200 mm × 200
mm] (92) and conductive mesh [area 200 mm
× 200 mm, the density of the weave is 135 lines / inch (1 inch is 25.6 mm), the fiber diameter is 34 μm, the polyester gauze fabric whose filament surface is plated with copper and black nickel, manufactured by Seiren Co., Ltd.) (81). Place
On the conductive mesh, an anti-reflection film in which an anti-reflection layer (2) was formed on the surface of a polycarbonate film (1) [“Real-Look 3200”, area 180 mm ×
180 mm] with its anti-reflection layer facing up, and a film [“Excellity NC-01”, manufactured by Dai Nippon Printing Co., Ltd., thickness 188 μm, PET, on the anti-reflection film. Film, 180m area
m × 180 mm] (3) was placed with its uneven surface as the antireflection film side, and a mirror-finished stainless steel plate (7) was placed on the film [“Excellity NC-01”] (FIG. 1). These are pressed at 130 ° C by a 50t hydraulic press.
3.9 × 10 ⁶ Pa (40 kg) for 10 minutes while heating
/ Cm ² ) and laminated (FIG. 2) to obtain an optical filter (5) (FIG. 3). In the obtained optical filter, the conductive mesh was exposed on a plane around the periphery thereof, and the exposed portion could be grounded. Table 1 shows the evaluation results of the obtained optical filters.

【００３６】この光学フィルターの凹凸面をＰＤＰ側と
してＰＤＰの前面に配置したところ、光学フィルターの
背面側とＰＤＰの表面との間でニュートンリングが発生
することはなく、また光が反射することもなかった。ま
た、ＰＤＰに付属の赤外線リモコンが誤動作することも
なかった。When the uneven surface of the optical filter is disposed on the front surface of the PDP with the PDP side, no Newton ring occurs between the rear surface of the optical filter and the surface of the PDP, and light is not reflected. Did not. Further, the infrared remote control attached to the PDP did not malfunction.

【００３７】[0037]

【表１】 [Table 1]

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図１】本発明の製造方法を説明する断面模式図であ
る。FIG. 1 is a schematic cross-sectional view illustrating a manufacturing method of the present invention.

【図２】本発明の製造方法を説明する断面模式図であ
る。FIG. 2 is a schematic sectional view illustrating a manufacturing method of the present invention.

【図３】本発明の製造方法により得られる光学フィルタ
ーを示す断面模式図である。FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing an optical filter obtained by the production method of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

１ ：樹脂基材 １０：樹脂基材 ２ ：反射防止層 ２０：樹脂基材 ３ ：転写型 ４ ：凹凸面 ５ ：光学フィルター ６ ：鏡面ステンレス板 ７ ：鏡面ステン
レス板 ８ ：機能部材 ８１：電磁波遮蔽
部材 ８２：赤外線遮蔽部材 ８３：色調補正部材 ９ ：接着層（接着性フィルム） ９１：接着層（接
着性フィルム） ９２：接着層（接着性フィルム）1: resin base material 10: resin base material 2: anti-reflection layer 20: resin base material 3: transfer mold 4: uneven surface 5: optical filter 6: mirror stainless steel plate 7: mirror stainless steel plate 8: functional member 81: electromagnetic wave shielding Member 82: Infrared shielding member 83: Color correction member 9: Adhesive layer (adhesive film) 91: Adhesive layer (adhesive film) 92: Adhesive layer (adhesive film)

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】反射防止層が形成された樹脂基材の表面を
転写型で加熱・加圧して凹凸面とすることを特徴とする
光学フィルターの製造方法。1. A method for manufacturing an optical filter, wherein a surface of a resin substrate on which an anti-reflection layer is formed is heated and pressed by a transfer mold to form an uneven surface. 【請求項２】反射防止層が樹脂を含む層である請求項１
に記載の製造方法。2. The anti-reflection layer is a layer containing a resin.
The production method described in 1. 【請求項３】樹脂基材を機能部材と重ね合せた状態で、
樹脂基材の表面を転写型で加熱・加圧する請求項１に記
載の製造方法。3. In a state where the resin base material is overlaid on the functional member,
The method according to claim 1, wherein the surface of the resin substrate is heated and pressed by a transfer mold.