JP2002136915A - Coating apparatus and coating method - Google Patents
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、基材に塗工液を塗
工する方法に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for coating a substrate with a coating liquid.
【０００２】[0002]
【従来の技術】最近、液晶表示装置等が広く普及するよ
うになり、この液晶表示装置のガラス板へ保護膜等に使
用される塗工液を塗工する必要がある。2. Description of the Related Art Recently, liquid crystal display devices and the like have become widespread, and it is necessary to apply a coating liquid used for a protective film or the like to a glass plate of the liquid crystal display device.
【０００３】すなわち、液晶表示装置のアレイ基板や対
向基板などの製造工程の中で、フォトリソグラフィー工
程がある。この工程は、レジスト塗布装置、露光装置、
現像装置から構成されている。その中のレジスト塗布装
置は、従来よりスピンコータ装置が用いられている。That is, a photolithography step is included in a process of manufacturing an array substrate, a counter substrate, and the like of a liquid crystal display device. This process includes a resist coating device, an exposure device,
It is composed of a developing device. As the resist coating apparatus, a spin coater apparatus has been conventionally used.
【０００４】このスピンコータ装置は、塗工液を回転さ
せつつ噴射させて塗工させるものであるため、液の使用
効率が５％以下という問題点、回転による放射状の乾燥
ムラが発生するという問題点、基板の端面及び裏面に塗
工液が付着するという問題点、大型基板に対する対応が
難しいという問題点がある。In this spin coater, since the coating liquid is sprayed while being rotated to perform the coating, the use efficiency of the liquid is 5% or less, and the radial drying unevenness due to the rotation is generated. In addition, there is a problem that the coating liquid adheres to the end surface and the back surface of the substrate, and it is difficult to cope with a large substrate.
【０００５】そこで、このような問題点を解決したもの
として、毛細管現象を利用した塗工装置が提案されてい
る（特開平８−２２４５２８号、特開平６−３４３９０
８号）。In order to solve such problems, a coating apparatus utilizing the capillary phenomenon has been proposed (JP-A-8-224528, JP-A-6-34390).
No. 8).
【０００６】この塗工装置は、塗工液によって満たされ
た液層の内部に毛管状隙間を備えたノズルを沈めてお
き、塗工する際にはこのノズルを上昇させて基材の下面
近傍に位置させ、毛管状隙間から塗工液を接液して、基
材の下面に塗工液を塗工するものである。In this coating apparatus, a nozzle having a capillary gap is submerged in a liquid layer filled with a coating liquid, and the nozzle is raised during coating to raise the vicinity of the lower surface of the substrate. The coating liquid is applied to the lower surface of the substrate by contacting the coating liquid through the capillary gap.
【０００７】[0007]
【発明が解決しようとする課題】ところで、液晶表示装
置等のガラス基板に塗工液を塗工する場合には、その塗
工厚さをかなり薄くする必要がある。そのため、上記の
ような塗工装置を使用した場合であっても、その塗工方
法はかなり難しく、実質的には上記装置はガラス基板等
の塗工には使用することについて実現されていなかっ
た。When a coating liquid is applied to a glass substrate of a liquid crystal display device or the like, the coating thickness must be considerably reduced. Therefore, even when the above-described coating apparatus is used, the coating method is considerably difficult, and the apparatus has not been practically used for coating a glass substrate or the like. .
【０００８】そこで、本発明は上記問題点に鑑み、上記
のような塗工装置を使用しても確実にガラス板等の基材
の下面に塗工液を薄く塗工することができる塗工方法を
提供するものである。[0008] In view of the above problems, the present invention provides a coating liquid capable of reliably applying a thin coating liquid to the lower surface of a base material such as a glass plate even when using the above coating apparatus. It provides a method.
【０００９】[0009]
【課題を解決するための手段】請求項１の発明は、塗工
液を入れた液槽と、前記液槽に入れた塗工液の中に沈
み、また、毛管状隙間を備えた左右方向に延びたノズル
と、を有し、前後方向に走行する基材の下面に前記ノズ
ルの毛管状隙間から塗工液を塗布する塗工装置の塗工方
法において、前記基材が、ガラス板、合成樹脂板、セラ
ミック板、シリコン板、金属板であることを特徴とする
塗工装置の塗工方法である。According to the present invention, there is provided a liquid tank containing a coating liquid, a liquid tank submerged in the coating liquid contained in the liquid tank, and having a capillary gap. And a nozzle extending to the coating method of a coating apparatus for applying a coating liquid from the capillary gap of the nozzle to the lower surface of the substrate traveling in the front-rear direction, wherein the substrate is a glass plate, A coating method for a coating apparatus, which is a synthetic resin plate, a ceramic plate, a silicon plate, or a metal plate.
【００１０】請求項２の発明は、塗工液を入れた液槽
と、前記液槽に入れた塗工液の中に沈み、また、毛管状
隙間を備えた左右方向に延びたノズルと、を有し、前後
方向に走行する基材の下面に前記ノズルの毛管状隙間か
ら塗工液を塗布する塗工装置の塗工方法において、前記
基材の走行速度が０．１ｍ／分から５０ｍ／分であるこ
とを特徴とする塗工装置の塗工方法である。A second aspect of the present invention provides a liquid tank containing a coating liquid, a nozzle submerged in the coating liquid contained in the liquid tank, and having a capillary gap and extending in the left-right direction. And a coating method of a coating apparatus for applying a coating liquid from a capillary gap of the nozzle to a lower surface of a substrate traveling in a front-rear direction, wherein a traveling speed of the substrate is from 0.1 m / min to 50 m / min. A coating method of a coating apparatus, wherein
【００１１】請求項３の発明は、塗工液を入れた液槽
と、前記液槽に入れた塗工液の中に沈み、また、毛管状
隙間を備えた左右方向に延びたノズルと、を有し、前後
方向に走行する基材の下面に前記ノズルの毛管状隙間か
ら塗工液を塗布する塗工装置の塗工方法において、前記
基材への塗工厚みがウエット状態で１μｍから５０μｍ
であることを特徴とする塗工装置の塗工方法である。A third aspect of the present invention provides a liquid tank containing a coating liquid, a nozzle submerged in the coating liquid contained in the liquid tank, and having a capillary gap and extending in the left-right direction. In the coating method of a coating apparatus for applying a coating liquid from the capillary gap of the nozzle to the lower surface of the substrate traveling in the front-rear direction, the coating thickness on the substrate is from 1 μm in a wet state 50 μm
It is a coating method of a coating apparatus characterized by the following.
【００１２】請求項４の発明は、塗工液を入れた液槽
と、前記液槽に入れた塗工液の中に沈み、また、毛管状
隙間を備えた左右方向に延びたノズルと、を有し、前後
方向に走行する基材の下面に前記ノズルの毛管状隙間か
ら塗工液を塗布する塗工装置の塗工方法において、前記
塗工液の固形分濃度が８０％以下であることを特徴とす
る塗工装置の塗工方法である。A fourth aspect of the present invention provides a liquid tank containing a coating liquid, a nozzle submerged in the coating liquid contained in the liquid tank, and having a capillary gap and extending in the left-right direction. Wherein the solid content concentration of the coating liquid is 80% or less in a coating method of a coating apparatus for applying a coating liquid from a capillary gap of the nozzle to a lower surface of a substrate traveling in the front-rear direction. A coating method for a coating apparatus, characterized in that:
【００１３】請求項５の発明は、塗工液を入れた液槽
と、前記液槽に入れた塗工液の中に沈み、また、毛管状
隙間を備えた左右方向に延びたノズルと、を有し、前後
方向に走行する基材の下面に前記ノズルの毛管状隙間か
ら塗工液を塗布する塗工装置の塗工方法において、前記
塗工液の粘度が１００ｍＰａ・ｓ以下であることを特徴
とする塗工装置の塗工方法である。A fifth aspect of the present invention provides a liquid tank containing a coating liquid, a nozzle submerged in the coating liquid contained in the liquid tank, and having a capillary gap and extending in the left-right direction. In a coating method of a coating apparatus for applying a coating liquid from a capillary gap of the nozzle to a lower surface of a substrate traveling in the front-rear direction, a viscosity of the coating liquid is 100 mPa · s or less. A coating method of a coating apparatus characterized by the following.
【００１４】請求項６の発明は、塗工液を入れた液槽
と、前記液槽に入れた塗工液の中に沈み、また、毛管状
隙間を備えた左右方向に延びたノズルと、を有し、長尺
状の基材の下面に前記ノズルの毛管状隙間から塗工液を
塗布する塗工装置の塗工方法において、前記基材が、合
成樹脂フィルムシート、セラミックシート、シリコンシ
ート、金属シートであることを特徴とする塗工装置の塗
工方法である。According to a sixth aspect of the present invention, there is provided a liquid tank containing a coating liquid, a nozzle submerged in the coating liquid contained in the liquid tank, and having a capillary gap and extending in the left-right direction. In the coating method of a coating apparatus for applying a coating liquid from the capillary gap of the nozzle to the lower surface of a long base material, the base material is a synthetic resin film sheet, a ceramic sheet, a silicon sheet And a metal sheet.
【００１５】請求項７の発明は、塗工液を入れた液槽
と、前記液槽に入れた塗工液の中に沈み、また、毛管状
隙間を備えた左右方向に延びたノズルと、を有し、長尺
状の基材の下面に前記ノズルの毛管状隙間から塗工液を
塗布する塗工装置の塗工方法において、前記基材の走行
速度が０．１ｍ／分から５０ｍ／分であることを特徴と
する塗工装置の塗工方法である。A seventh aspect of the present invention provides a liquid tank containing a coating liquid, a nozzle submerged in the coating liquid contained in the liquid tank, and having a capillary gap and extending in the left-right direction. And a coating method of a coating device for applying a coating liquid from a capillary gap of the nozzle to a lower surface of a long base material, wherein a running speed of the base material is 0.1 m / min to 50 m / min. It is a coating method of a coating apparatus characterized by the following.
【００１６】請求項８の発明は、塗工液を入れた液槽
と、前記液槽に入れた塗工液の中に沈み、また、毛管状
隙間を備えた左右方向に延びたノズルと、を有し、長尺
状の基材の下面に前記ノズルの毛管状隙間から塗工液を
塗布する塗工装置の塗工方法において、前記基材への塗
工厚みがウエット状態で１μｍから５０μｍであること
を特徴とする塗工装置の塗工方法である。The invention according to claim 8 is a liquid tank containing a coating liquid, a nozzle submerged in the coating liquid contained in the liquid tank, and having a capillary gap and extending in the left-right direction. In a coating method of a coating apparatus for applying a coating liquid from the capillary gap of the nozzle to the lower surface of a long base material, the coating thickness on the base material is 1 μm to 50 μm in a wet state. It is a coating method of a coating apparatus characterized by the following.
【００１７】請求項９の発明は、塗工液を入れた液槽
と、前記液槽に入れた塗工液の中に沈み、また、毛管状
隙間を備えた左右方向に延びたノズルと、を有し、長尺
状の基材の下面に前記ノズルの毛管状隙間から塗工液を
塗布する塗工装置の塗工方法において、前記塗工液の固
形分濃度が８０％以下であることを特徴とする塗工装置
の塗工方法である。A ninth aspect of the present invention provides a liquid tank containing a coating liquid, a nozzle submerged in the coating liquid contained in the liquid tank, and having a capillary gap and extending in the left-right direction. Wherein the solid content of the coating liquid is 80% or less in a coating method of a coating apparatus for applying a coating liquid from a capillary gap of the nozzle to a lower surface of a long base material. A coating method of a coating apparatus characterized by the following.
【００１８】請求項１０の発明は、塗工液を入れた液槽
と、前記液槽に入れた塗工液の中に沈み、また、毛管状
隙間を備えた左右方向に延びたノズルと、を有し、長尺
状の基材の下面に前記ノズルの毛管状隙間から塗工液を
塗布する塗工装置の塗工方法において、前記塗工液の粘
度が１００ｍＰａ・ｓ以下であることを特徴とする塗工
装置の塗工方法である。In a tenth aspect of the present invention, there is provided a liquid tank containing a coating liquid, a nozzle submerged in the coating liquid contained in the liquid tank, and having a capillary gap and extending in the left-right direction. In a coating method of a coating apparatus that applies a coating liquid from the capillary gap of the nozzle to the lower surface of a long base material, the viscosity of the coating liquid is 100 mPa · s or less. This is a coating method of a coating apparatus characterized by the following.
【００１９】以上により本発明の塗工方法であると、基
材の下面に所定の塗工厚さで、かつ、平面状態に塗工を
行うことができる。As described above, according to the coating method of the present invention, the lower surface of the base material can be coated with a predetermined coating thickness and in a flat state.
【００２０】また、本発明は、バックアップロールによ
って移動する基材の下面に塗工液を確実に塗工すること
ができる。Further, according to the present invention, the coating liquid can be surely applied to the lower surface of the base material moved by the backup roll.
【００２１】[0021]
【発明の実施の形態】＜第１の実施例＞以下、本発明の
第１の実施例を示す塗工装置１０について図１〜図１０
に基づいて説明する。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS <First Embodiment> A coating apparatus 10 according to a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.
It will be described based on.
【００２２】この塗工装置１０は、液晶表示装置のアレ
イ基板にフォトレジストを塗工するレジスト工程に使用
する塗工装置である。The coating device 10 is a coating device used in a resist process for coating a photoresist on an array substrate of a liquid crystal display device.
【００２３】レジスト工程とは、アレイ基板を製造する
工程の一つであって、ガラス基板に薄膜を成形した後、
塗工液である紫外光感光性樹脂材料（フォトレジスト）
を基板上に成膜された薄膜表面全体にわたり均一な厚さ
に塗工する工程である。なお、フォトレジストには、光
照射した部分が架橋硬化して現像後に残るネガティブ型
フォトレジストと、光照射した部分が分解可容化して現
像で溶けるポジティブ型フォトレジストがある。The resist step is one of the steps for manufacturing an array substrate, and after forming a thin film on a glass substrate,
Ultraviolet photosensitive resin material (photoresist) which is a coating liquid
Is a step of applying a uniform thickness over the entire surface of the thin film formed on the substrate. Note that the photoresist includes a negative photoresist in which a light-irradiated portion is crosslinked and hardened and remains after development, and a positive photoresist in which the light-irradiated portion is decomposed and allowed to dissolve during development.
【００２４】そして、使用する塗工液（フォトレジス
ト）は、固形分濃度が５０％以下であり、粘度は３０ｍ
Ｐａ・ｓである。The coating solution (photoresist) used has a solid content of 50% or less and a viscosity of 30 m
Pa · s.
【００２５】また、塗工対象となるガラス基板は、１．
４ｍから１．６ｍ角、厚さが０．４ｍｍから３０ｍｍの
ものを用いる。The glass substrates to be coated include:
A square having a length of 4 m to 1.6 m and a thickness of 0.4 mm to 30 mm is used.
【００２６】１．塗工装置１０の全体の構造 図１は塗工装置１０の左側面図であり、図２は正面図で
ある。1. FIG. 1 is a left side view of the coating apparatus 10, and FIG. 2 is a front view.
【００２７】図１及び図２が示すように、塗工装置１０
は、水平な床面等に設置されるベースフレーム１２の上
に、リニアウェイ１４、１４を介して前後方向に移動可
能な移動フレーム１６、１６が載置されている。As shown in FIGS. 1 and 2, the coating apparatus 10
On a base frame 12 installed on a horizontal floor or the like, movable frames 16, 16 movable in the front-rear direction via linear ways 14, 14 are mounted.
【００２８】左右一対の移動フレーム１６，１６の間に
はサクションテーブル（以下、単にテーブルという）２
４が回動自在に回転軸２６によって支持されている。な
お、移動フレーム１６，１６は、左右を溶接構造により
一体化されている。A suction table (hereinafter simply referred to as a table) 2 is provided between a pair of left and right moving frames 16 and 16.
4 is rotatably supported by a rotating shaft 26. The left and right moving frames 16, 16 are integrated by a welding structure.
【００２９】このテーブル２４の吸着面２７にガラス基
板よりなる基材２８を吸着させ、塗工を行うものであ
る。このテーブル２４の構成についてはあとから詳しく
説明する。The substrate 28 made of a glass substrate is adsorbed on the adsorbing surface 27 of the table 24 to perform coating. The configuration of the table 24 will be described later in detail.
【００３０】２．塗工システム３０の構造 ベースフレーム１２の内部には塗工液を塗工するための
塗工システム３０が設けられている。以下、この塗工シ
ステム３０について説明する。2. Structure of Coating System 30 A coating system 30 for applying a coating liquid is provided inside the base frame 12. Hereinafter, the coating system 30 will be described.
【００３１】図３が、塗工システム３０の斜視図であ
り、図４が正面図であり、図５が図４におけるＸ−Ｘ線
断面図である。FIG. 3 is a perspective view of the coating system 30, FIG. 4 is a front view, and FIG. 5 is a sectional view taken along line XX in FIG.
【００３２】塗工システム３０は、ベースフレーム１２
の左右方向に配されたベースプレート３２を基礎に構成
されている。The coating system 30 includes the base frame 12
Are formed on the base plate 32 arranged in the left-right direction.
【００３３】ベースプレート３２の上面には、左右一対
の移動コッタ３４，３６が設けられている。A pair of left and right movable cotters 34 and 36 are provided on the upper surface of the base plate 32.
【００３４】このうち、右側に位置する移動コッタ３６
は、ベースプレート３２の上面に左右方向に配されたリ
ニアウェイ３８に沿って移動可能である。また、移動コ
ッタ３６の上面は斜面４０になっており、左側が右側よ
りも低くなっている。そして、この斜面４０の上にもリ
ニアウェイ４２が設けられている。The moving cotter 36 located on the right side is
Is movable along a linear way 38 disposed on the upper surface of the base plate 32 in the left-right direction. The upper surface of the movable cotter 36 is a slope 40, and the left side is lower than the right side. A linear way 42 is also provided on the slope 40.
【００３５】移動コッタ３４も同様にベースプレート３
２に対してリニアウェイ４４で左右方向に移動可能とな
っており、また、斜面４６の上にはリニアウェイ４８が
設けられている。Similarly, the movable cotter 34 has a base plate 3
2 is movable in the left-right direction by a linear way 44, and a linear way 48 is provided on the slope 46.
【００３６】左右一対の移動コッタ３４，３６には連結
シャフト５０が設けられ、この連結シャフト５０の右端
部にはサーボモータ５２が配されている。連結シャフト
５０の移動コッタ３４，３６の位置には雄ネジ部が設け
られ、移動コッタ３４，３６内部には雌ネジ部が設けら
れている。このサーボモータ５２を回転させることによ
って連結シャフト５０が回転し、移動コッタ３４，３６
がリニアウエイ３８，４４に沿って左右方向に移動する
ものである。A pair of left and right movable cotters 34, 36 is provided with a connecting shaft 50, and a servo motor 52 is provided at the right end of the connecting shaft 50. A male screw portion is provided at the position of the moving cotters 34 and 36 of the connecting shaft 50, and a female screw portion is provided inside the moving cotters 34 and 36. By rotating the servo motor 52, the connecting shaft 50 is rotated, and the movable cotters 34 and 36 are rotated.
Move left and right along the linear ways 38 and 44.
【００３７】一対の移動コッタ３４，３６の上方には支
持プレート５４が設けられている。この支持プレート５
４は、左右方向に沿って延びている支持板５６と、この
支持板５６の下端より前後方向に延びた基板５８とより
なる。A support plate 54 is provided above the pair of movable cotters 34, 36. This support plate 5
4 includes a support plate 56 extending in the left-right direction and a substrate 58 extending in the front-rear direction from the lower end of the support plate 56.
【００３８】この基板５８の下面には左右一対の支持脚
６０，６２が設けられている。支持脚６０，６２の下面
は斜面となっており、前記した移動コッタ３４，３６の
斜面の上に形成されたリニアウェイ４２，４８に沿って
移動可能となっている。On the lower surface of the substrate 58, a pair of left and right support legs 60, 62 are provided. The lower surfaces of the support legs 60 and 62 are slopes, and can move along the linear ways 42 and 48 formed on the slopes of the moving cotters 34 and 36.
【００３９】また、ベースプレート３２から支持プレー
ト５４の基板５８の中央部に上下移動用のガイドシャフ
ト６４が突出している。支持プレート５４はこのガイド
シャフト６４に沿って上下動可能であり、かつ、左右方
向の移動が規制されている。A guide shaft 64 for vertical movement protrudes from the base plate 32 to the center of the substrate 58 of the support plate 54. The support plate 54 can move up and down along the guide shaft 64, and is restricted from moving in the left-right direction.
【００４０】支持プレート５４の上端部には塗工液を溜
めるための液槽６６が設けられている。この液槽６６に
ついてはあとから説明する。At the upper end of the support plate 54, a liquid tank 66 for storing a coating liquid is provided. The liquid tank 66 will be described later.
【００４１】支持プレート５４の支持板５６には左右一
対のリニアウェイ６８を介して左右移動プレート７０が
設けられている。このリニアウェイ６８は左右方向に移
動可能となっている。左右移動プレート７０はエアシリ
ンダ７１によって左右方向に移動可能となっている。The support plate 56 of the support plate 54 is provided with a left and right moving plate 70 via a pair of left and right linear ways 68. This linear way 68 is movable in the left-right direction. The left / right moving plate 70 can be moved in the left / right direction by an air cylinder 71.
【００４２】左右移動プレート７０の前面にはリニアウ
ェイ７２を介して上下移動プレート７４が設けられてい
る。このリニアウェイ７２は斜め方向に移動可能となっ
ている。さらに、上下移動プレート７４は支持プレート
５４の基板５８から突出した左右一対のガイドシャフト
７６に沿って上下方向移動可能となっており、かつ、左
右方向の移動が規制されている。An up / down moving plate 74 is provided on the front surface of the left / right moving plate 70 via a linear way 72. The linear way 72 is movable in an oblique direction. Further, the vertically moving plate 74 is vertically movable along a pair of left and right guide shafts 76 protruding from the substrate 58 of the support plate 54, and is restricted from moving in the left and right directions.
【００４３】上下移動プレート７４の左端部近傍及び右
端部近傍からノズル支持シャフト７８が突出し、この左
右一対のノズル支持シャフト７８，８０にはノズル８２
が支持されている。このノズル８２についてはあとから
説明する。A nozzle support shaft 78 projects from the vicinity of the left end and the vicinity of the right end of the vertically moving plate 74.
Is supported. The nozzle 82 will be described later.
【００４４】３．液槽６６とノズル８２の構造 次に、図６から図８に基づいて液槽６６とノズル８２の
構造について説明する。3. Structure of Liquid Tank 66 and Nozzle 82 Next, the structure of the liquid tank 66 and the nozzle 82 will be described with reference to FIGS.
【００４５】支持プレート５４の支持板５６の上部に支
持された液槽６６は、左右方向に延びており、図６に示
すように、側面形状は台形となっている。そして、液槽
６６の上端部中央部（斜面の頂上部）には、左右方向に
伸びるスリット８４が形成されている。このスリット８
４は、液槽６６の外方に設けられた蓋８６によって閉塞
可能となっている。The liquid tank 66 supported above the support plate 56 of the support plate 54 extends in the left-right direction, and has a trapezoidal side surface as shown in FIG. A slit 84 extending in the left-right direction is formed in the center of the upper end of the liquid tank 66 (at the top of the slope). This slit 8
4 can be closed by a lid 86 provided outside the liquid tank 66.
【００４６】液槽６６の内部にはノズル８２が内蔵され
ている。このノズル８２は、左右方向に伸びる毛管状隙
間８８を介して前後一対の前ノズル部材９０と後ノズル
部材９２とより構成されている。これら前ノズル部材９
０と後ノズル部材９２は前後対称であり、上方ほどくち
ばしのように尖った断面形状となっており、その間に毛
管状隙間８８が設けられている。この毛管状隙間８８の
上端部は左右方向に沿って開口し、下面も左右方向に沿
って開口している。A nozzle 82 is built in the liquid tank 66. The nozzle 82 includes a pair of front and rear nozzle members 90 and a rear nozzle member 92 via a capillary gap 88 extending in the left-right direction. These front nozzle members 9
0 and the rear nozzle member 92 are symmetrical in the front-rear direction, have a sharp cross-sectional shape like a beak as it goes upward, and a capillary gap 88 is provided between them. The upper end of the capillary gap 88 opens in the left-right direction, and the lower surface also opens in the left-right direction.
【００４７】ノズル８２の左端部及び右端部には前記し
た左右一対のノズル支持シャフト７８，８０が固定され
ている。そして、左右一対のノズル支持シャフト７８，
８０は液槽６６の底面に開口した左右一対の孔９４，９
６を摺動するものである。この孔９４，９６から塗工液
が漏れ出さないようにするために、ノズル８２の底面か
ら液槽６６の底面にかけて蛇腹状の閉塞部材９８，１０
０が設けられている。これにより、支持シャフト７８，
８０が上下動しても蛇腹状の閉塞部材９８，１００が上
下方向に延び縮みして、孔９４，９６から塗工液が漏れ
出さないようになっている（図６及び図７参照）。The above-mentioned pair of left and right nozzle support shafts 78 and 80 are fixed to the left end and the right end of the nozzle 82, respectively. Then, a pair of left and right nozzle support shafts 78,
Reference numeral 80 denotes a pair of left and right holes 94, 9 opened on the bottom of the liquid tank 66.
6 slides. In order to prevent the coating liquid from leaking out of the holes 94 and 96, bellows-like closing members 98 and 10 extend from the bottom of the nozzle 82 to the bottom of the liquid tank 66.
0 is provided. Thereby, the support shaft 78,
Even if the 80 moves up and down, the bellows-like closing members 98 and 100 extend and contract in the vertical direction so that the coating liquid does not leak from the holes 94 and 96 (see FIGS. 6 and 7).
【００４８】図８に示すように、塗工液を溜めたタンク
１０２から塗工液がポンプ１０４によってくみ出され、
フィルタ１０６を通じて液槽６６の左側面に開口した塗
工液の供給口１０８に供給される。また、液槽６６の底
面には循環口１１０が開口しており、この循環口１１０
からタンク１０２に塗工液が循環する。なお、フィルタ
１０６は、塗工液を循環させるため、異物があった場合
に取り除くものである。As shown in FIG. 8, the coating liquid is pumped out of the tank 102 storing the coating liquid by the pump 104,
The coating liquid is supplied to the supply port 108 of the coating liquid which is opened on the left side surface of the liquid tank 66 through the filter 106. A circulation port 110 is opened at the bottom of the liquid tank 66.
The coating liquid circulates from the tank 102 to the tank 102. Note that the filter 106 removes foreign matter when it is present, in order to circulate the coating liquid.
【００４９】さらに、液槽６６の左側面の上部には、孔
１１１が開口し、そこからＬ字状の高さ調整管１１２が
突出している。この高さ調整管１１２の上端は開口し、
かつ、その調整管１１２の外部側面には塗工液の高さを
検知する検知センサ１１４が設けられている。すなわ
ち、液槽６６に塗工液が満たされた場合に、それと同じ
高さまでこの高さ調整管１１２に塗工液が満たされる。
そして、この満たされた量に応じて検知センサ１１４が
塗工液を検知し、その高さを検知するものである。そし
て、検知した高さのデータは、マイコンよりなる制御部
１１５に送られ、制御部１１５は、その高さのデータに
応じて、ポンプ１０４のモータ１０５を駆動させて、設
定され高さになるまで塗工液を供給する。Further, a hole 111 is opened in the upper part on the left side of the liquid tank 66, and an L-shaped height adjusting tube 112 protrudes therefrom. The upper end of the height adjustment tube 112 is open,
Further, a detection sensor 114 for detecting the height of the coating liquid is provided on the outer side surface of the adjusting tube 112. That is, when the liquid tank 66 is filled with the coating liquid, the height adjusting pipe 112 is filled with the coating liquid to the same height.
Then, the detection sensor 114 detects the coating liquid according to the filled amount, and detects the height of the coating liquid. The data of the detected height is sent to the control unit 115 composed of a microcomputer, and the control unit 115 drives the motor 105 of the pump 104 according to the height data to set the height to the set height. Supply the coating liquid up to.
【００５０】４．テーブル２４の移動構造 次に、テーブル２４をノズル８２の位置まで移動させる
構造について説明する。4. Next, a structure for moving the table 24 to the position of the nozzle 82 will be described.
【００５１】図１及び図２が示すように、この移動フレ
ーム１６、１６は、ベースフレーム１２の左側面に設け
られたネジ棒１８をモータ２０によって回動させること
で、前後方向にリニアウエイ１４、１４に沿って移動可
能となっている。As shown in FIGS. 1 and 2, the moving frames 16, 16 are rotated in the longitudinal direction by rotating a screw rod 18 provided on the left side surface of the base frame 12 by a motor 20. , 14 can be moved.
【００５２】すなわち、一対の移動フレーム１６，１６
のうち左側にある移動フレーム１６からネジ棒１８と螺
合する雌ネジ部を有する移動部２２が突出し、このネジ
棒１８が回動することによって移動部２２がネジ棒１８
に沿って移動して、左右一対の移動フレーム１６，１６
が前後方向に移動するものである。That is, the pair of moving frames 16, 16
A moving portion 22 having a female screw portion screwed with the screw rod 18 projects from the moving frame 16 on the left side, and the moving portion 22 is turned by the rotation of the screw rod 18.
Along a pair of left and right moving frames 16, 16
Moves in the front-back direction.
【００５３】５．テーブル２４の吸着構造 次に、基材２８をテーブル２４に吸着させる構造につい
て説明する。5. Next, a structure for adsorbing the base material 28 to the table 24 will be described.
【００５４】左右一対の移動フレーム１６，１６の間に
設けられたテーブル２４は、回転軸２６に沿ってほぼ１
８０゜回動可能となっている。そして、このテーブル２
４の吸着面２７には複数の吸着孔１１６が開口してい
る。この吸着孔１１６はテーブル２４の前面にわたって
開口しているものであるが、その内部構造は図９及び図
１０のようになっている。すなわち、テーブル２４の内
部には、複数の区画に分割された吸着空間１１８が設け
られている。The table 24 provided between the pair of right and left moving frames 16,
It can be turned by 80 °. And this table 2
A plurality of suction holes 116 are opened in the suction surface 27 of No. 4. The suction hole 116 is open over the front surface of the table 24, and its internal structure is as shown in FIGS. That is, the suction space 118 divided into a plurality of sections is provided inside the table 24.
【００５５】具体的には、第１区画は、図１０における
テーブル２４の上部の中央部に設けられた４つの吸着空
間１１８から構成され、各吸着空間１１８は細い空気経
路１２０によって連結されている。そして、これら４つ
の吸着空間１１８の各部分に４つの吸着孔１１６が開口
している。この第１区画の４つの吸着空間１１８には図
９に示すように、空気を吸い込むための吸引パイプ１２
２が連結され、この吸引パイプ１２２は手動バルブ１２
４を経て回転軸２６内部に挿通されている。そして、こ
の挿通された吸引パイプ１２２は、移動フレーム１６の
左側から取り出され、真空ポンプ１２６に連結されてい
る。Specifically, the first section is composed of four suction spaces 118 provided at the center of the upper part of the table 24 in FIG. 10, and the suction spaces 118 are connected by a narrow air path 120. . Each of the four suction spaces 118 has four suction holes 116. As shown in FIG. 9, suction pipes 12 for sucking air are provided in the four suction spaces 118 of the first section.
2, the suction pipe 122 is connected to the manual valve 12
4 and is inserted into the rotation shaft 26. Then, the inserted suction pipe 122 is taken out from the left side of the moving frame 16 and connected to the vacuum pump 126.
【００５６】また、テーブル２４の第２区画は、前記し
た第１区画をコの字状に囲んだ状態であり、６個の吸着
空間１１８から構成され、この吸着空間１１８も空気経
路１２０によって連結されている。The second section of the table 24 is a state in which the above-mentioned first section is surrounded in a U-shape and is composed of six suction spaces 118, which are also connected by the air path 120. Have been.
【００５７】以下、同様にして第３区画、第４区画が構
成されている。Hereinafter, the third section and the fourth section are similarly configured.
【００５８】ここで、テーブル２４が基材２８を吸着す
る場合について説明する。Here, the case where the table 24 sucks the substrate 28 will be described.
【００５９】テーブル２４の中央部に基材２８を載置す
る。この場合に、基材２８の大きさに合わせて、第１区
画から第ｎ区画までを手動バルブ１２４を開けて真空ポ
ンプ１２６によって吸着孔１１６から基材２８を吸着す
る。すなわち、中央部にある第１区画は必ず吸引状態に
し、後の区画は、基材２８の大きさに合わせて吸引状態
にする。また、吸引に必要でない区画は手動バルブ１２
４を閉めて吸引が行われないようにする。The substrate 28 is placed at the center of the table 24. In this case, the manual valve 124 is opened from the first section to the n-th section in accordance with the size of the base material 28, and the base material 28 is sucked from the suction hole 116 by the vacuum pump 126. That is, the first section at the center is always in the suction state, and the subsequent sections are in the suction state according to the size of the base material 28. In addition, a section that is not necessary for suction is a manual valve 12.
Close 4 to prevent suction.
【００６０】そして、移動フレーム１６内部には、テー
ブル２４の回転軸２６を回転するためのモータ１２８と
減速機が内蔵されている。A motor 128 and a speed reducer for rotating the rotary shaft 26 of the table 24 are built in the moving frame 16.
【００６１】なお、第１区画を矩形状に開口せず４つの
吸着空間１１８を設けて各吸着空間１１８を空気経路１
２０によって連結したのは、テーブル２４の強度を考慮
したためである。The first section is not opened in a rectangular shape, and four suction spaces 118 are provided.
The connection by 20 is because the strength of the table 24 is considered.
【００６２】６．塗工工程 上記構成の塗工装置１０を用いて基材２８に塗工液を塗
工する場合について説明する。6. Coating Step A case in which a coating liquid is applied to the base material 28 using the coating apparatus 10 having the above configuration will be described.
【００６３】（第１工程）図１において、基材位置Ａの
ところにテーブル２４を位置させる。この場合に、吸着
面２７は上方を向いている。そして、塗工したい面を上
方にして基材２８を吸着面２７に載置する。そして、真
空ポンプ１２６を作動させて、吸着孔１１６から基材２
８を吸引してテーブル２４に基材２８を固定する。(First Step) In FIG. 1, the table 24 is located at the position A of the base material. In this case, the suction surface 27 faces upward. Then, the substrate 28 is placed on the suction surface 27 with the surface to be coated facing upward. Then, the vacuum pump 126 is operated to move the substrate 2 from the suction hole 116.
The base material 28 is fixed to the table 24 by sucking 8.
【００６４】（第２工程）テーブル２４をほぼ１８０゜
回転させ、図１に示す基材位置Ｂのように吸着面２７、
すなわち基材２８を下方に位置させる。(Second Step) The table 24 is rotated by approximately 180 °, so that the suction surface 27 and the base surface position B shown in FIG.
That is, the base member 28 is positioned below.
【００６５】移動フレーム１６内部には回転軸２６を回
転するためのモータ１２８と減速機が内蔵されている。A motor 128 for rotating the rotary shaft 26 and a speed reducer are built in the moving frame 16.
【００６６】（第３工程）反転したテーブル２４を、モ
ータ２０によって移動させて、移動フレーム１６，１６
によって塗工開始位置まで移動させる。(Third Step) The inverted table 24 is moved by the motor 20 so that the moving frames 16, 16 are moved.
To the coating start position.
【００６７】（第４工程）液槽６６の中には所定の高さ
まで塗工液を満たしておく。この場合に塗工液の現在の
高さは、高さ調整管１１２の外部側面に設けられた検知
センサ１１４によって調整し、塗工液の高さを所定の高
さまで上げる場合には制御部１１５はポンプ１０４を動
作させて塗工液を供給する。(Fourth Step) The liquid tank 66 is filled with a coating liquid up to a predetermined height. In this case, the current height of the coating liquid is adjusted by the detection sensor 114 provided on the outer side surface of the height adjusting pipe 112, and when the height of the coating liquid is increased to a predetermined height, the control unit 115 is used. Operates the pump 104 to supply the coating liquid.
【００６８】また、ノズル８２は、塗工液で満たされた
液槽６６の内部に沈んだ状態としておく。そして、この
ようにノズル８２が塗工液に沈んだ状態で液槽６６のス
リット８４の蓋８６を開けて、液槽６６を基材２８の下
方まで上昇させる。この上昇させる方法は、図４に示す
ように、サーボモータ５２を回転させて左右一対の移動
コッタ３４，３６を移動させる。すると、左右方向に移
動が規制された支持プレート５４が、移動コッタ３４，
３６の斜面４０，４６に設けられたリニアウェイ４２，
４８に沿って上方のみ移動する。支持プレート５４が上
方に移動すると液槽６６とノズル８２が同時に上方に移
動する。The nozzle 82 is kept submerged in the liquid tank 66 filled with the coating liquid. Then, with the nozzle 82 submerged in the coating liquid, the lid 86 of the slit 84 of the liquid tank 66 is opened, and the liquid tank 66 is raised below the substrate 28. In this method of raising, as shown in FIG. 4, the servomotor 52 is rotated to move the pair of left and right moving cotters 34, 36. Then, the support plate 54 whose movement is restricted in the left-right direction is moved to the movement cotter 34,
36, the linear ways 42 provided on the slopes 40, 46,
It moves only upward along 48. When the support plate 54 moves upward, the liquid tank 66 and the nozzle 82 simultaneously move upward.
【００６９】液槽６６が基材２８の下方まで上昇させる
と、その上昇を一旦停止させる。When the liquid bath 66 is raised below the base material 28, the lifting is temporarily stopped.
【００７０】（第５工程）上記のように上昇した液槽６
６からノズル８２のみを突出させる。(Fifth Step) The liquid tank 6 raised as described above
6 and only the nozzle 82 is projected.
【００７１】このために、左右移動プレート７０をエア
シリンダ７１によって移動させる。この場合に上下移動
プレート７４は左右方向に移動が規制されているため、
左右移動プレート７０が左右方向に移動すると、リニア
ウェイ７２が斜めに設けられているため上下移動プレー
ト７４は上方のみ移動する。上下移動プレート７４が上
方に移動するとノズル支持シャフト７８，８０も同時に
上方に移動してノズル８２が上昇する。ノズル８２が液
槽６６の塗工液から上昇する際に、毛管状隙間８８の間
には塗工液が満たされているため、この毛管状隙間８８
には塗工液が先端まで満たされた状態で上昇する。そし
て、その上昇を停止させる。For this purpose, the left / right moving plate 70 is moved by the air cylinder 71. In this case, since the vertical movement plate 74 is restricted from moving in the left-right direction,
When the left / right moving plate 70 moves in the left / right direction, the vertical moving plate 74 moves only upward because the linear way 72 is provided diagonally. When the vertically moving plate 74 moves upward, the nozzle support shafts 78 and 80 also move upward at the same time, and the nozzle 82 rises. When the nozzle 82 rises from the coating liquid in the liquid tank 66, the gap between the capillary gaps 88 is filled with the coating liquid.
Rises with the coating liquid filled to the tip. Then, the ascent is stopped.
【００７２】（第６工程）上記のようにノズル８２が突
出した状態で液槽６６を再び上昇させ、基材２８の下面
に接液する。すなわち、ノズル８２の毛管状隙間８８に
満たされた塗工液を基材２８の下面に接触させるもので
ある。(Sixth Step) With the nozzle 82 projecting as described above, the liquid tank 66 is raised again to come into contact with the lower surface of the substrate 28. That is, the coating liquid filled in the capillary gap 88 of the nozzle 82 is brought into contact with the lower surface of the substrate 28.
【００７３】この上昇の際には液槽６６の上昇速度及び
上昇距離はかなり微妙な調整を要求されるが、前記した
ようにサーボモータ５２を回転させると移動コッタ３
４，３６の斜面に沿って支持プレート５４が上下動する
ため、この微妙な調整を容易に行うことが可能となる。
また、左右方向に水平な状態で液槽６６を持ち上げるこ
とが可能となるため、基材２８の塗工厚が左右方向に変
化することがない。At the time of this rise, the speed and distance of the rise of the liquid tank 66 need to be adjusted very finely.
Since the support plate 54 moves up and down along the slopes 4 and 36, this fine adjustment can be easily performed.
In addition, since the liquid tank 66 can be lifted in a horizontal state in the left-right direction, the coating thickness of the substrate 28 does not change in the left-right direction.
【００７４】（第７工程）上記のように接液した状態で
ノズル８２と共に液槽６６を塗工高さの位置まで接液し
た状態で下降させる。すなわち、ノズル８２の先端の位
置と基材２８との間の距離が塗工厚さとなるわけであ
る。そして、この微妙な調整も上記したようにサーボモ
ータ５２を用いて容易に行うことができる。この塗工厚
さは、ウェットな状態で１〜５０μｍが好適である。(Seventh Step) The liquid tank 66 is lowered together with the nozzle 82 in a state where the liquid tank 66 is in contact with the liquid to a coating height position in the state where the liquid is connected as described above. That is, the distance between the position of the tip of the nozzle 82 and the substrate 28 is the coating thickness. This fine adjustment can be easily performed using the servo motor 52 as described above. The coating thickness is preferably 1 to 50 μm in a wet state.
【００７５】（第８工程）上記のようにノズル８２を塗
工高さの位置まで下降させた後、基材２８をテーブル２
４によって一定の走行速度で塗工終了位置まで移動させ
る。この走行速度としては、０．１〜５０ｍ／分が好適
である。すると、塗工液はノズル８２によって左右方向
に塗工された状態で、前後方向に基材２８を移動させる
ことによって平面状態に塗工を行うことができる。すな
わち、基材２８上に平面に塗工液を所定の塗工厚さで塗
工することが可能となる。なお、この搬送する場合に、
基材２８の前後方向の姿勢、及び、左右方向の姿勢は、
どちらも水平に維持する。(Eighth Step) After the nozzle 82 is lowered to the coating height position as described above, the base material 28 is placed on the table 2.
4 moves the coating at a constant traveling speed to the coating end position. The traveling speed is preferably from 0.1 to 50 m / min. Then, the coating liquid can be applied in a flat state by moving the base material 28 in the front-rear direction while the coating liquid is applied in the left-right direction by the nozzle 82. That is, it becomes possible to apply the coating liquid to the flat surface on the base material 28 at a predetermined coating thickness. In addition, when carrying this,
The posture of the base material 28 in the front-back direction and the posture in the left-right direction
Both are kept horizontal.
【００７６】（第９工程）基材２８を塗工終了位置で一
旦停止させ、ノズル８２及び液槽６６をそれぞれ塗工高
さの位置から下降させ、基材２８から離す。(Ninth Step) The base material 28 is temporarily stopped at the coating end position, and the nozzle 82 and the liquid tank 66 are respectively lowered from the coating height position and separated from the base material 28.
【００７７】（第１０工程）ノズル８２が基材２８の下
面から離れた後、図１に示すようにテーブル２４を後方
に移動させ、基板位置Ｃまで移動させる。(Tenth Step) After the nozzle 82 moves away from the lower surface of the base material 28, the table 24 is moved backward as shown in FIG.
【００７８】（第１１工程）基板位置Ｃまで移動したテ
ーブル２４を再び１８０゜回転させ、基板位置Ｄの状態
に反転させる。これによって、基板２８がテーブル２４
の上面に位置する。(Eleventh Step) The table 24 having been moved to the substrate position C is again rotated by 180 ° to reverse the state of the substrate position D. As a result, the substrate 28 is
Is located on the upper surface.
【００７９】（第１２工程）吸着面２７の吸引力を解除
し、基材２８をテーブル２４から取り外す。これによっ
て、一連の塗工動作が終了する。(Twelfth Step) The suction force of the suction surface 27 is released, and the substrate 28 is removed from the table 24. Thus, a series of coating operations is completed.
【００８０】以上のように本実施例の塗工装置１０であ
ると、上記のような塗工工程を行うことにより、ガラス
基板よりなる基材２８に所定の塗工厚さで、かつ、平面
で一度に塗工を行うことができる。また、移動コッタ３
４，３６の斜面上を支持プレート５４が上下動するた
め、液槽６６及びノズル８２の上下の位置を正確に、か
つ、途中の状態であっても移動させることができる。As described above, according to the coating apparatus 10 of this embodiment, by performing the above-described coating process, the base material 28 made of a glass substrate is coated with a predetermined coating thickness and a flat surface. Can be applied all at once. In addition, moving cotter 3
Since the support plate 54 moves up and down on the slopes 4 and 36, the upper and lower positions of the liquid tank 66 and the nozzle 82 can be moved accurately and even in the middle.
【００８１】さらに、ノズル８２は左右移動プレート７
０をエアシリンダ７１によって移動させて、上下移動プ
レート７４を上下方向に移動させるため、正確かつ確実
に上下動させることができる。Further, the nozzle 82 is connected to the left and right moving plate 7.
0 is moved by the air cylinder 71 to move the up-down moving plate 74 in the up-down direction, so that it can be moved up and down accurately and reliably.
【００８２】（変更例）上記塗工装置では、レジスト工
程においてガラス基板に塗工液を塗工する場合を説明し
たが、これ以外にカラーレジスト、反射防止膜、蛍光
体、発光体、配向膜、その他各種保護膜、透明導電膜、
絶縁膜、光触媒、フィルム液晶、ＵＶ樹脂、ブラックマ
トリックスの塗工工程にも使用できる。(Modification) In the above-described coating apparatus, the case where the coating liquid is coated on the glass substrate in the resist process has been described. , Other various protective films, transparent conductive films,
It can also be used in the coating process of insulating film, photocatalyst, film liquid crystal, UV resin, black matrix.
【００８３】本装置は、液晶表示装置のアレイ基板の塗
工に用いる以外に、有機ＥＬ表示装置、無機ＥＬ表示装
置、プラズマディスプレー装置、ＬＥＤ（発光ダイオー
ド）表示装置、蛍光表示装置の基板に塗工液を塗工する
場合にも使用できる。This device is used not only for coating an array substrate of a liquid crystal display device but also for coating an organic EL display device, an inorganic EL display device, a plasma display device, an LED (light emitting diode) display device, and a fluorescent display device substrate. It can also be used when applying a working fluid.
【００８４】本装置はガラス基板に限らず、合成樹脂
板、セラミック板、シリコン板、金属板であっても塗工
は可能である。The present apparatus is not limited to a glass substrate, but can be applied to a synthetic resin plate, a ceramic plate, a silicon plate, or a metal plate.
【００８５】塗工液としては、固形分濃度が８０％以下
であり、また、粘度は１００ｍＰａ・ｓ以下であれば塗
工可能である。The coating liquid can be applied if the solid content concentration is 80% or less and the viscosity is 100 mPa · s or less.
【００８６】塗工対象となる基材の大きさは、上記実施
例では１．４ｍから１．６ｍ角のものを用いたが、２ｍ
〜３ｍ角の基材も塗工できる。また、基材の形状は、長
方形以外に正方形、円形、多角形のものも塗工できる。In the above embodiment, the size of the substrate to be coated is from 1.4 m to 1.6 m square.
Substrates of up to 3 m square can also be applied. The shape of the substrate may be square, circular, or polygonal in addition to the rectangle.
【００８７】＜第２の実施例＞図１１は、第２の実施例
の塗工装置２００である。<Second Embodiment> FIG. 11 shows a coating apparatus 200 according to a second embodiment.
【００８８】この塗工装置２００は、第１の実施例の塗
工装置１０のように板状の基材２８に塗工液を塗工する
ものでなく、長尺状の基材２０２（例えば、合成樹脂フ
ィルムシート、セラミックシート、シリコンシート、金
属シート、不織布）に塗工液を塗工するものである。基
材２０２の幅は、１．５ｍ〜２ｍであり、厚さは３０ミ
クロン〜１０ｍｍである。The coating apparatus 200 is different from the coating apparatus 10 of the first embodiment in that it does not apply a coating liquid to the plate-like base material 28, but uses a long base material 202 (for example, , A synthetic resin film sheet, a ceramic sheet, a silicon sheet, a metal sheet, and a nonwoven fabric). The width of the substrate 202 is 1.5 m to 2 m, and the thickness is 30 microns to 10 mm.
【００８９】図１１に示すように、バックアップロール
２０４の下方に前記で説明した塗工システム３０が配さ
れている。As shown in FIG. 11, below the backup roll 204, the coating system 30 described above is arranged.
【００９０】そして、基材２０２はバックアップロール
２０４に沿って一定の走行速度で搬送され、バックアッ
プロール２０４の最下点の位置においてノズル８２によ
って塗工を行うものである。この走行速度としては、
０．１〜５０ｍ／分が好適である。この塗工方法は上記
と同様である。The substrate 202 is conveyed along the backup roll 204 at a constant traveling speed, and is coated by the nozzle 82 at the lowest point of the backup roll 204. As this running speed,
0.1 to 50 m / min is preferred. This coating method is the same as described above.
【００９１】この方法であると、板状の基材２８のみな
らず長尺状の基材２０２に対しても塗工を行うことがで
きる。According to this method, coating can be performed not only on the plate-shaped substrate 28 but also on the long substrate 202.
【００９２】[0092]
【発明の効果】以上により本発明の塗工方法であると、
基材の下面に所定の塗工厚さで、かつ、平面状態に塗工
を行うことができる。As described above, according to the coating method of the present invention,
The lower surface of the base material can be coated with a predetermined coating thickness and in a flat state.
【００９３】また、本発明は、バックアップロールによ
って移動する基材の下面に塗工液を確実に塗工すること
ができる。Further, according to the present invention, the coating liquid can be surely applied to the lower surface of the base material moved by the backup roll.
【図１】本発明の第１の実施例を示す塗工装置の左側面
図である。FIG. 1 is a left side view of a coating apparatus according to a first embodiment of the present invention.
【図２】同じく正面図である。FIG. 2 is a front view of the same.
【図３】塗工システムの斜視図である。FIG. 3 is a perspective view of a coating system.
【図４】塗工システムの正面図である。FIG. 4 is a front view of the coating system.
【図５】図４におけるＸ線断面図である。FIG. 5 is an X-ray sectional view in FIG.
【図６】液槽及びノズルの縦断面図であり、塗工前の状
態である。FIG. 6 is a longitudinal sectional view of a liquid tank and a nozzle, which are in a state before coating.
【図７】同じく塗工中の状態である。FIG. 7 is also a state during coating.
【図８】液槽とノズルとタンクとポンプとフィルタの関
係を示す縦断面図である。FIG. 8 is a longitudinal sectional view showing a relationship among a liquid tank, a nozzle, a tank, a pump, and a filter.
【図９】テーブルの縦断面図である。FIG. 9 is a longitudinal sectional view of a table.
【図１０】テーブルの一部欠載横断面図である。FIG. 10 is a cross-sectional view of a partly mounted table with a part omitted.
【図１１】第２の実施例の塗工装置の側面図である。FIG. 11 is a side view of a coating apparatus according to a second embodiment.
１０ 塗工装置 ２４ テーブル ２８ 基材 ３０ 塗工システム ３４ 移動コッタ ３６ 移動コッタ ５２ サーボモータ ５４ 支持プレート ６０ 支持脚 ６２ 支持脚 ６６ 液槽 ７０ 左右移動プレート ７１ エアシリンダ ７４ 上下移動プレート ７８ ノズル支持シャフト ８０ ノズル支持シャフト ８２ ノズル ８４ スリット ８８ 毛管状隙間 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Coating apparatus 24 Table 28 Base material 30 Coating system 34 Moving cotter 36 Moving cotter 52 Servo motor 54 Support plate 60 Support leg 62 Support leg 66 Liquid tank 70 Left-right movement plate 71 Air cylinder 74 Vertical movement plate 78 Nozzle support shaft 80 Nozzle support shaft 82 Nozzle 84 Slit 88 Capillary gap
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｂ０５Ｄ 7/00 Ｂ０５Ｄ 7/00 Ｅ Ｈ 7/04 7/04 (72)発明者 村田 充孝 奈良県北葛城郡河合町大字川合101番地の １ 株式会社ヒラノテクシード内 Ｆターム(参考） 4D075 AC02 AC84 AC92 AC94 AC96 CA47 DA04 DA06 DB01 DB13 DB14 DB31 DC19 DC24 EA45 EB52 4F040 AA02 AA12 AA14 AA22 AA24 AB06 AC01 BA35 CC02 DA03 DA05 DA12 DA15 4F041 AA05 AA12 AB02 BA12 BA34 BA56 CA02 CA12 CA22 4F042 AA06 AA22 BA04 BA15 BA25 CB02 CC22 Continuation of the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat II (reference) B05D 7/00 B05D 7/00 E H 7/04 7/04 (72) Inventor Mitsutaka Murata Kawai-cho, Kitakatsuragi-gun, Nara Prefecture No. 101 Kawai 1 Hirano Tecseed Co., Ltd. F-term (reference) 4D075 AC02 AC84 AC92 AC94 AC96 CA47 DA04 DA06 DB01 DB13 DB14 DB31 DC19 DC24 EA45 EB52 4F040 AA02 AA12 AA14 AA22 AA24 AB06 AC01 BA35 CC02 DA03 DA05 DA1 DA12 A04 A04 BA34 BA56 CA02 CA12 CA22 4F042 AA06 AA22 BA04 BA15 BA25 CB02 CC22
Claims (10)
を備えた左右方向に延びたノズルと、 を有し、 前後方向に走行する基材の下面に前記ノズルの毛管状隙
間から塗工液を塗布する塗工装置の塗工方法において、 前記基材が、ガラス板、合成樹脂板、セラミック板、シ
リコン板、金属板であることを特徴とする塗工装置の塗
工方法。1. A liquid tank containing a coating liquid, and a nozzle submerged in the coating liquid contained in the liquid tank and having a capillary gap and extending in the left-right direction. In a coating method of a coating device for applying a coating liquid from a capillary gap of the nozzle to a lower surface of a base material traveling in a direction, the base material is a glass plate, a synthetic resin plate, a ceramic plate, a silicon plate, a metal. A coating method for a coating apparatus, which is a plate.
を備えた左右方向に延びたノズルと、 を有し、 前後方向に走行する基材の下面に前記ノズルの毛管状隙
間から塗工液を塗布する塗工装置の塗工方法において、 前記基材の走行速度が０．１ｍ／分から５０ｍ／分であ
ることを特徴とする塗工装置の塗工方法。2. A liquid tank containing a coating liquid, and a nozzle submerged in the coating liquid contained in the liquid tank and having a capillary gap and extending in the left-right direction. In a coating method of a coating device for applying a coating liquid from a capillary gap of the nozzle to a lower surface of a substrate traveling in a direction, a traveling speed of the substrate is from 0.1 m / min to 50 m / min. Characteristic coating method of coating equipment.
を備えた左右方向に延びたノズルと、 を有し、 前後方向に走行する基材の下面に前記ノズルの毛管状隙
間から塗工液を塗布する塗工装置の塗工方法において、 前記基材への塗工厚みがウエット状態で１μｍから５０
μｍであることを特徴とする塗工装置の塗工方法。3. A liquid tank containing a coating liquid, and a nozzle submerged in the coating liquid contained in the liquid tank and having a capillary gap and extending in the left-right direction. In a coating method of a coating apparatus for applying a coating liquid from a capillary gap of the nozzle to a lower surface of a substrate traveling in a direction, a coating thickness on the substrate is from 1 μm to 50 in a wet state.
μm.
を備えた左右方向に延びたノズルと、 を有し、 前後方向に走行する基材の下面に前記ノズルの毛管状隙
間から塗工液を塗布する塗工装置の塗工方法において、 前記塗工液の固形分濃度が８０％以下であることを特徴
とする塗工装置の塗工方法。4. A liquid tank containing a coating liquid, and a nozzle submerged in the coating liquid contained in the liquid tank and having a capillary gap and extending in the left-right direction. In a coating method of a coating device for applying a coating liquid from a capillary gap of the nozzle to a lower surface of a substrate traveling in a direction, a solid concentration of the coating liquid is 80% or less. Coating method of coating device.
を備えた左右方向に延びたノズルと、 を有し、 前後方向に走行する基材の下面に前記ノズルの毛管状隙
間から塗工液を塗布する塗工装置の塗工方法において、 前記塗工液の粘度が１００ｍＰａ・ｓ以下であることを
特徴とする塗工装置の塗工方法。5. A liquid tank containing a coating liquid, and a nozzle submerged in the coating liquid contained in the liquid tank and having a capillary gap and extending in the left-right direction. In a coating method of a coating apparatus for applying a coating liquid from a capillary gap of the nozzle to a lower surface of a substrate traveling in a direction, a viscosity of the coating liquid is 100 mPa · s or less. Coating method of construction equipment.
を備えた左右方向に延びたノズルと、 を有し、 長尺状の基材の下面に前記ノズルの毛管状隙間から塗工
液を塗布する塗工装置の塗工方法において、 前記基材が、合成樹脂フィルムシート、セラミックシー
ト、シリコンシート、金属シートであることを特徴とす
る塗工装置の塗工方法。6. A liquid tank containing a coating liquid, and a nozzle extending in the left-right direction provided with a capillary gap and submerged in the coating liquid contained in the liquid tank. In a coating method of a coating apparatus for applying a coating liquid from a capillary gap of the nozzle to a lower surface of a scale-shaped substrate, the substrate is a synthetic resin film sheet, a ceramic sheet, a silicon sheet, or a metal sheet. A coating method for a coating apparatus, comprising:
を備えた左右方向に延びたノズルと、 を有し、 長尺状の基材の下面に前記ノズルの毛管状隙間から塗工
液を塗布する塗工装置の塗工方法において、 前記基材の走行速度が０．１ｍ／分から５０ｍ／分であ
ることを特徴とする塗工装置の塗工方法。7. A liquid tank containing a coating liquid, and a nozzle extending in the left-right direction provided with a capillary gap and submerged in the coating liquid contained in the liquid tank. In a coating method of a coating device for applying a coating liquid from a capillary gap of the nozzle to a lower surface of a long base material, a running speed of the base material is 0.1 m / min to 50 m / min. Coating method of a coating device to be used.
を備えた左右方向に延びたノズルと、 を有し、 長尺状の基材の下面に前記ノズルの毛管状隙間から塗工
液を塗布する塗工装置の塗工方法において、 前記基材への塗工厚みがウエット状態で１μｍから５０
μｍであることを特徴とする塗工装置の塗工方法。8. A liquid tank containing a coating liquid, and a nozzle submerged in the coating liquid contained in the liquid tank and having a capillary gap and extending in the left-right direction. A coating method of a coating apparatus for applying a coating liquid from a capillary gap of the nozzle to a lower surface of a long base material, wherein a coating thickness on the base material is 1 μm to 50 in a wet state.
μm.
を備えた左右方向に延びたノズルと、 を有し、 長尺状の基材の下面に前記ノズルの毛管状隙間から塗工
液を塗布する塗工装置の塗工方法において、 前記塗工液の固形分濃度が８０％以下であることを特徴
とする塗工装置の塗工方法。9. A liquid tank containing a coating liquid, and a nozzle submerged in the coating liquid contained in the liquid tank and having a capillary gap and extending in the left-right direction. A coating method of a coating apparatus for coating a coating liquid from a capillary gap of the nozzle on a lower surface of a scale-shaped substrate, wherein a solid content concentration of the coating liquid is 80% or less. Coating method of construction equipment.
を備えた左右方向に延びたノズルと、 を有し、 長尺状の基材の下面に前記ノズルの毛管状隙間から塗工
液を塗布する塗工装置の塗工方法において、 前記塗工液の粘度が１００ｍＰａ・ｓ以下であることを
特徴とする塗工装置の塗工方法。10. A liquid tank containing a coating liquid, and a nozzle submerged in the coating liquid contained in the liquid tank and having a capillary gap and extending in the left-right direction. In a coating method of a coating device for coating a coating liquid from a capillary gap of the nozzle on a lower surface of a scale-shaped substrate, a viscosity of the coating liquid is 100 mPa · s or less. Equipment coating method.
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Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004034002A (en) * | 2002-07-08 | 2004-02-05 | Nitto Denko Corp | Method for producing film coated sheet, optical function layer, optical element and image display device |
| KR101021904B1 (en) * | 2004-03-30 | 2011-03-18 | 호야 가부시키가이샤 | Method of manufacturing a board coated with a resist film |
-
2000
- 2000-11-02 JP JP2000336599A patent/JP2002136915A/en active Pending
Cited By (4)
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