JP2002126528A - リホーミング用触媒の製造方法 - Google Patents

リホーミング用触媒の製造方法

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JP2002126528A
JP2002126528A JP2000318477A JP2000318477A JP2002126528A JP 2002126528 A JP2002126528 A JP 2002126528A JP 2000318477 A JP2000318477 A JP 2000318477A JP 2000318477 A JP2000318477 A JP 2000318477A JP 2002126528 A JP2002126528 A JP 2002126528A
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catalyst
reforming
producing
reforming catalyst
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Hideo Okado
秀夫 岡戸
Toshiya Wakatsuki
俊也 若月
Kiyoshi Inaba
清 稲葉
Hitomi Hirano
ひとみ 平野
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Japan Oil Gas and Metals National Corp
Original Assignee
Japan National Oil Corp
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    • Y02P20/52Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts

Abstract

(57)【要約】 【課題】 メタン等の炭化水素と水蒸気等の改質物質と
を反応させて合成ガスを製造する際に炭素質(カーボ
ン)が析出しないリホーミング用触媒を生産性よく製造
する。 【解決手段】 CoまたはNi、またはNiおよびM
と、MgとCaとを特定の比率で含有する水溶液に、共
沈剤を添加して沈殿を生成させる沈殿生成工程と、前記
沈殿を乾燥し乾燥沈殿物とする乾燥工程と、前記乾燥沈
殿物を焼成する焼成工程を有する製造方法であり、沈殿
生成工程を313〜373Kで行う。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、一酸化炭素(C
O)と水素(H2 )との混合ガスである合成ガスを、メ
タンなどの炭化水素と水、二酸化炭素、酸素、空気など
の改質物質とから得るためのリホーミング用触媒の製造
方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来より、メタン、天然ガス、石油ガ
ス、ナフサ、重油、原油などの炭化水素と、水、空気、
酸素あるいは二酸化炭素の改質物質とを高温で触媒の存
在下、反応させて、反応性に富む一酸化炭素と水素とか
らなる合成ガスを生成するリホーミングが行われてお
り、生成した合成ガスを原料としてメタノールや液体燃
料油が製造されている。このリホーミングに使用される
リホーミング用触媒としては、ニッケル/アルミナ触
媒、ニッケル/マグネシア/アルミナ触媒などが用いら
れる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
のリホーミング用触媒を用いた反応では、例えばメタン
と水蒸気とを化学等量反応させようとすると、炭素質
(カーボン)が多量に析出する問題がある。よって、こ
の炭素質の析出を防止するために大過剰の水蒸気を供給
し、リホーミング反応を促進する必要がある。このた
め、従来のリホーミングにあっては、多量の水蒸気を必
要とするためエネルギーコストが嵩み、設備が大型化す
る不都合があった。そこで本出願人は、大過剰の水蒸気
を供給しなくても炭素質(カーボン)の析出を抑制でき
るリホーミング用触媒として、コバルト/マグネシア系
触媒を特願平10−103203号および特願平11−
98220号で報告したが、このような炭素質(カーボ
ン)の析出を抑制できる触媒を、より低コストで生産性
良く製造できる方法の開発が望まれていた。
【0004】本発明の目的は、炭化水素に化学等量もし
くはそれに近い量の改質物質を加えて合成ガスを製造す
る際にも炭素質が析出しない触媒を、生産性良く製造す
る方法を提供することである。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明のリホーミング用
触媒の製造方法は、下記式(1)で表される組成を有す
る複合酸化物からなり、Coが該複合酸化物中で高分散
化されていることを特徴とする炭化水素のリホーミング
触媒の製造方法であって、CoとMgとCaとを下記式
(1)で表された比率で含有する水溶液に、共沈剤を添
加して沈殿を生成させる沈殿生成工程と、前記沈殿を乾
燥し乾燥沈殿物とする乾燥工程と、前記乾燥沈殿物を焼
成する焼成工程を有し、沈殿生成工程を313〜373
Kで行うことを特徴とする。 aCo・bMg・cCa・dO…(1) (式中、a,b,c,dはモル分率であり、a+b+c
=1、0.005≦a≦0.30、0.70≦(b+
c)≦0.995、0<b≦0.995、0≦c≦0.
995、d=元素が酸素と電荷均衡を保つのに必要な数
である。)
【0006】また、本発明のリホーミング用触媒の製造
方法は、下記式(2)で表される組成を有する複合酸化
物からなり、Niが該複合酸化物中で高分散化されてい
ることを特徴とする炭化水素のリホーミング触媒の製造
方法であって、NiとMgとCaとを下記式(2)で表
された比率で含有する水溶液に、共沈剤を添加して沈殿
を生成させる沈殿生成工程と、前記沈殿を乾燥し乾燥沈
殿物とする乾燥工程と、前記乾燥沈殿物を焼成する焼成
工程を有し、沈殿生成工程を313〜373Kで行うこ
とを特徴とする。 aNi・bMg・cCa・dO…(2) (式中、a,b,c,dはモル分率であり、a+b+c
=1、0.005≦a≦0.30、0.70≦(b+
c)≦0.995、0<b≦0.995、0≦c≦0.
995、d=元素が酸素と電荷均衡を保つのに必要な数
である。)
【0007】さらに、本発明のリホーミング用触媒の製
造方法は、下記式(3)で表される組成を有する複合酸
化物からなり、MおよびNiが該複合酸化物中で高分散
化されていることを特徴とする炭化水素のリホーミング
触媒の製造方法であって、MとNiとMgとCaとを下
記式(3)で表された比率で含有する水溶液に、共沈剤
を添加して沈殿を生成させる沈殿生成工程と、前記沈殿
を乾燥し乾燥沈殿物とする乾燥工程と、前記乾燥沈殿物
を焼成する焼成工程を有し、沈殿生成工程を313〜3
73Kで行うことを特徴とする。 aM・bNi・cMg・dCa・eO…(3) (式中、a,b,c,d,eはモル分率であり、a+b
+c+d=1、0.0001≦a≦0.10、0.00
01≦b≦0.30、0.60≦(c+d)≦0.99
98、0<c≦0.9998、0≦d<0.9998、
e=元素が酸素と電荷均衡を保つのに必要な数である。
また、Mは周期律表第6A族元素、第7A族元素、Ni
を除く第8族遷移元素、第1B族元索、第2B族元素、
第4B族元素およびランタノイド元素の少なくとも1種
類の元素である。)
【0008】
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳しく説明する。
本発明の製造方法で製造されるリホーミング用触媒は、
下記式(1)で表される組成の複合酸化物からなるもの
である。 aCo・bMg・cCa・dO…(1) (式中、a,b,c,dはモル分率であり、a+b+c
=1、0.005≦a≦0.30、0.70≦(b+
c)≦0.995、0<b≦0.995、0≦c≦0.
995、d=元素が酸素と電荷均衡を保つのに必要な数
である。) なお、ここでの周期律表はIUPACによるものとす
る。
【0009】コバルト含有量(a)は、0.005≦a
≦0.30であり、好ましくは、0.005≦a≦0.
25、さらに好ましくは0.01≦a≦0.20であ
る。コバルト含有量(a)が0.005未満ではコバル
トの含有量が少なすぎて反応活性が低く、0.30を越
えると後述する高分散化が阻害され、炭素質析出防止効
果が十分得られない。
【0010】マグネシウム含有量(b)とカルシウム含
有量(c)との合計量(b+c)は、0.70≦(b+
c)≦0.995であり、好ましくは0.75≦(b+
c)≦0.99、さらに好ましくは0.80≦(b+
c)≦0.99である。このうち、マグネシウム含有量
(b)は0<b≦0.995であり、好ましくは0.7
5≦b≦0.99、さらに好ましくは0.50≦b≦
0.99であり、カルシウム含有量(c)は0≦c<
0.995、好ましくは0≦c≦0.5、さらに好まし
くは0≦c≦0.3であり、カルシウムを欠くものであ
ってもよい。
【0011】マグネシウム含有量(b)とカルシウム含
有量(c)との合計量(b+c)は、コバルト含有量
(a)とのバランスで決められる。(b+c)は上記範
囲内であればいかなる割合でもリホーミング反応に優れ
た効果を発揮するが、カルシウム(c)の含有量が多い
と炭素質析出の抑制に効果があるものの、マグネシウム
(b)が多い場合に比べて触媒活性が低い。よって、活
性を重視するのであれば、カルシウム含有量(c)が
0.5を越えると活性が低下するので好ましくない。
【0012】本発明における複合酸化物とは、MgO、
CaOが岩塩型結晶構造をとり、その格子に位置するM
gまたはCa原子の一部がCoに置換した一種の固溶体
であって、単相をなすものであり、各元素の単独の酸化
物の混合物を言うものではない。そして、本発明の製造
方法で製造されるリホーミング用コバルト系触媒では、
Coがこの複合酸化物中で高分散状態となっている。
【0013】本発明での分散とは、一般に触媒分野で定
義されているものであって、例えば「触媒講座 第5巻
触媒設計」第141頁(触媒学会編、講談社刊)など
にあるように、担持された金属の全原子数に対する触媒
表面に露出している原子数の比として定められるもので
ある。
【0014】これを、図1の模式図によって具体的に説
明すると、複合酸化物からなる触媒1の表面には活性中
心となる半球状などの微小粒子2、2…が無数存在して
おり、この微小粒子2は、後述する活性化(還元)処理
後ではCoの金属元素またはその化合物からなってい
る。この微小粒子2をなすCoの金属元素またはその化
合物の原子数をAとし、これらの原子のうち粒子2の表
面に露出している原子の数をBとすると、B/Aが分散
度となる。
【0015】触媒反応に関与するのは、微小粒子2の表
面に露出している原子であると考えれば、分散度が1に
近いものは多くの原子がその表面に分布することになっ
て、活性中心が増加し、高活性となりうると考えられ
る。また、微小粒子2の粒径が限りなく小さくなれば、
微小粒子2をなす原子の大部分は、粒子2表面に露出す
ることになって、分散度は1に近づく。したがって、微
小粒子2の粒径が分散度を表す指標にもなりうる。
【0016】本発明の製造方法で製造される触媒では、
微細粒子2の径は種々の測定法、例えばX線回析法など
の測定限界の3.5nm未満であり、このことから分散
度が高く、高分散状態であると言うことができる。この
ため、反応に関与するコバルトの原子数が増加し、高活
性となって、反応が化学量論的に進行し、炭素質(カー
ボン)の析出が防止される。
【0017】また、本発明の製造方法で製造されるリホ
ーミング用触媒としては、上記式(1)におけるCoの
かわりにNiを使用した、下記式(2)で表される組成
の複合酸化物からなるものであってもよい。 aNi・bMg・cCa・dO…(2) (式中、a,b,c,dはモル分率であり、a+b+c
=1、0.005≦a≦0.30、0.70≦(b+
c)≦0.995、0<b≦0.995、0≦c≦0.
995、d=元素が酸素と電荷均衡を保つのに必要な数
である。) なお、ここでの周期律表はIUPACによるものとす
る。この式(2)で表されるリホーミング用触媒も、M
gO、CaOが岩塩型結晶構造をとり、その格子に位置
するMgまたはCa原子の一部がNiに置換した一種の
固溶体であって、単相をなす複合酸化物からなり、各元
素の単独の酸化物の混合物からなるものではない。そし
て、式(2)で表されるリホーミング用触媒において
は、式(1)におけるCoのかわりにNiがこの複合酸
化物中で高分散状態となっている。また、式(2)のリ
ホーミング用触媒における、Niの好ましい割合は式
(1)の複合酸化物からなるリフォーミング触媒におけ
るCoと同じであり、Mg、Caの好ましい割合は式
(1)のリホーミング用触媒のMg、Caと同様であ
る。
【0018】さらに、本発明の製造方法で製造されるリ
ホーミング用触媒としては、下記式(3)の複合酸化物
からなるものであってもよい。この触媒においては、N
iとMが複合酸化物中で高分散状態となっている。 aM・bNi・cMg・dCa・eO…(3) (式中、a,b,c,d,eはモル分率であり、a+b
+c+d=1、0.0001≦a≦0.10、0.00
01≦b≦0.30、0.60≦(c+d)≦0.99
98、0<c≦0.9998、0≦d<0.9998、
e=元素が酸素と電荷均衡を保つのに必要な数である。
また、Mは周期律表第6A族元素、第7A族元素、Ni
を除く第8族遷移元素、第1B族元索、第2B族元素、
第4B族元素およびランタノイド元素の少なくとも1種
類の元素である。) なお、ここでの周期律表はIUPACによるものとす
る。ここでMは、マンガン、モリブデン、ロジウム、ル
テニウム、白金、パラジウム、銅、銀、亜鉛、錫、鉛、
ランタニウム、セリウムから選ばれる少なくとも1種で
あることが好ましい。また、この組成において、Mの含
有量(a)は、0.0001≦a≦0.10であり、好
ましくは0.0001≦a≦0.05、さらに好ましく
は0.0001≦a≦0.03である。Mの含有量
(a)が0.0001未満では、炭素質析出抑制効果が
認められず、0.10を越えるとリフォーミング反応の
活性を低下させ不都合である。
【0019】ニッケル含有量(b)は、0.0001≦
b≦0.30であり、好ましくは、0.0001≦b≦
0.25、さらに好ましくは0.0001≦b≦0.2
0である。ニッケル含有量(b)が0.0001未満で
はニッケルの含有量が少なすぎて反応活性が低く、0.
30を越えると高分散化が阻害され、炭素質析出防止効
果が十分得られない。
【0020】マグネシウム含有量(c)とカルシウム含
有量(d)との合計量(c+d)は、0.60≦(c+
d)≦0.9998であり、好ましくは0.70≦(c
+d)≦0.9998、さらに好ましくは0.77≦
(c+d)≦0.9998である。このうち、マグネシ
ウム含有量(c)は0<c≦0.9998であり、好ま
しくは0.20≦c≦0.9998、さらに好ましくは
0.37≦c≦0.9998であり、カルシウム含有量
(d)は0≦d<0.9998、好ましくは0≦d≦
0.5、さらに好ましくは0≦d≦0.3であり、カル
シウムを欠くものであってもよい。
【0021】マグネシウム含有量(c)とカルシウム含
有量(d)との合計量(c+d)は、M含有量(a)お
よびニッケル含有量(b)とのバランスで決められる。
(c+d)は上記範囲内であればいかなる割合でもリホ
ーミング反応に優れた効果を発揮するが、カルシウム
(d)とM(a)の含有量が多いと炭素質析出の抑制に
効果があるものの、マグネシウム(c)が多い場合に比
べて触媒活性が低い。よって、活性を重視するのであれ
ば、カルシウム含有量(c)が0.5を越え、M含有量
(a)が0.1を越えると活性が低下するので好ましく
ない。
【0022】以上説明したCoが複合酸化物(式
(1))中で高分散化されているリホーミング用触媒、
Niが複合酸化物(式(2))中で高分散化されている
リホーミング用触媒、MおよびNiが複合酸化物(式
(3))中で高分散化されているリホーミング用触媒
は、以下に説明する本発明の製造方法で効率的に製造で
きる。まず、式(1)で表される複合酸化物からなる触
媒の製造方法を説明する。本発明の製造方法は、Coと
MgとCaとを式(1)で表された比率で含有する水溶
液に、共沈剤を添加して沈殿を生成させる沈殿生成工程
と、前記沈殿を乾燥し乾燥沈殿物とする乾燥工程と、前
記乾燥沈殿物を焼成する焼成工程とを有し、沈殿生成工
程を313〜373Kで行う。
【0023】沈殿生成工程における、CoとMgとCa
とを式(1)で表された比率で含有する水溶液は、コバ
ルト、マグネシウム、カルシウムの酢酸塩などの有機塩
や、硝酸塩などの無機塩といった水溶性塩類を、所望の
比率で水に完全に溶解することによって得られる。
【0024】共沈剤は、水溶液から沈殿を生成させるこ
とができるものであれば特に制限はないが、ナトリウム
炭酸塩、カリウム炭酸塩、アンモニウム炭酸塩、ナトリ
ウム炭酸水素塩、カリウム炭酸水素塩、アンモニウム炭
酸水素塩、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化
アンモニウム、アンモニア水から選ばれる少なくとも1
種であることが好ましい。また、共沈剤の添加量は沈殿
生成当量の1.0〜1.2倍とすることが好ましい。こ
こで沈殿生成当量とは、Co、Mg、Caをすべて水酸
化物として沈殿させる場合に必要十分な共沈剤量の理論
値である。共沈剤の添加量が沈殿生成当量の1.2倍を
超えると、沈殿の生成量が多くゲル状のスラリーにな
り、このスラリーを十分に攪拌できなくなる場合があ
る。スラリーを十分に攪拌できないと、得られる触媒の
組成が不均一になったり、Coが高分散しなくなったり
する。また、スラリーがゲル状であると取扱いにくいう
え、沈殿の歩留まりが低下し、触媒の生産性が低下す
る。一方、共沈剤の添加量が沈殿生成当量の1.0倍未
満では、十分に沈殿を生成させることができない場合が
ある。共沈剤の添加量を沈殿生成当量の1.0〜1.2
倍とすることによって、水溶液のpHを8〜9.5に維
持でき、沈殿を含むスラリーがゲル化せず、高い歩留ま
り、すなわち高い収量で沈殿を得ることができる。
【0025】また、沈殿生成工程は、水溶液を313〜
373Kに維持して行うことが好ましい。水溶液の温度
が313K未満では、沈殿の生成量が多くゲル状のスラ
リーになり、このスラリーを十分に攪拌できなくなる場
合がある。スラリーを十分に攪拌できないと、得られる
触媒の組成が不均一になったり、Coが高分散しなくな
ったりする。また、スラリーがゲル状であると取扱いに
くいうえ、沈殿の歩留まりが低下し、触媒の生産性が低
下する。一方、373K以上では、沈殿の溶解度および
イオン積が大きくなるため、沈殿の歩留まりが低下し、
触媒の生産性が低下する。さらに、Coを高分散させる
ためには沈殿生成工程中、水溶液を攪拌することが好ま
しく、沈殿生成後も10分間以上撹拌して沈殿の生成を
完結させることが好ましい。このようにして沈殿生成工
程を行うことによって、CoとMgと必要に応じてCa
を有する成分からなる化合物が、熱分解性水酸化物の形
態で沈殿する。
【0026】沈殿が生成した後、この沈殿物をろ過し、
水や炭酸アンモニウム水溶液で洗浄を繰り返す。つい
で、乾燥工程においてこの沈殿を373K以上の温度で
乾燥し、乾燥沈殿物とする。そして乾燥沈殿物を、通常
973〜1573K、好ましくは1173〜1573
K、より好ましくは1223〜1523Kで、1〜20
時間焼成する焼成工程を行う。この焼成工程によって、
熱分解性水酸化物が熱分解して酸化物となり、目的のリ
ホーミング用触媒を得ることができる。焼成温度が97
3K未満では、炭素質(カーボン)析出を防止できる触
媒が得られない場合がある。一方、1573Kを超える
と、触媒活性が著しく低下する場合がある。また、焼成
工程は空気中の他、不活性雰囲気中で行ってもよい。
【0027】このような沈殿生成工程、乾燥工程、焼成
工程で得られた触媒は、粉砕して粉末状として用いるこ
ともできるが、必要に応じて圧縮成型機により成型し
て、タブレット状として用いることもできる。また、こ
れらの触媒を石英砂、アルミナ、マグネシア、カルシ
ア、その他の希釈剤と合わせて用いることもできる。
【0028】なお、式(2)で表される複合酸化物から
なる触媒を製造する場合には、沈殿生成工程において使
用する水溶液として、CoのかわにりNiを含有する水
溶液を使用する以外には上述した式(1)で表される複
合酸化物の製造の場合と同様に行えばよい。このような
製造方法で製造することによって、Niが複合酸化物
(式(2))中で高分散化されているリホーミング用触
媒を製造できる。また、式(3)で表される複合酸化物
からなる触媒を製造する場合には、沈殿生成工程におい
て使用する水溶液として、CoのかわにりNiとMとを
含有する水溶液を使用する以外には上述した式(1)で
表される複合酸化物の製造の場合と同様に行えばよい。
このような製造方法で製造することによって、Niおよ
びMが複合酸化物(式(3))中で高分散化されている
リホーミング用触媒を製造できる。
【0029】次に、本発明の製造方法で製造したリホー
ミング用触媒を用いて合成ガスを製造する方法について
説明する。まず、予めリホーミング用触媒の活性化処理
を行う。この活性化処理は触媒を水素ガスなどの還元性
気体の存在下で、773〜1273K、好ましくは87
3〜1273K、さらに好ましくは923〜1273K
の温度範囲で0.5〜30時間程度加熱することによっ
て行われる。還元性気体は窒素ガスなどの不活性ガスで
希釈されていてもよい。この活性化処理をリホーミング
反応を行う反応器内で行うこともできる。この活性化処
理により、図1での触媒1表面の微小粒子2、2…が還
元されてCoまたはMの金属元素またはその化合物とな
り、触媒活性が発現する。本発明での活性化処理は、従
来のCo酸化物系触媒およびNi酸化物系触媒の活性化
よりも高温で行う。従来のこれらの触媒ではすべて77
3K未満で行われており、本発明の製造方法で得られる
触媒においては、このような高温での活性化処理も高分
散化に寄与している可能性がある。
【0030】合成ガスの原料となる炭化水素としては、
天然ガス、石油ガス、ナフサ、重油、原油などや石炭、
コールサンドなどから得られた炭化水素などが用いら
れ、その一部にメタンなどの炭化水素が含有されていれ
ば、特に限定されることはない。これらは2種以上が混
合されていてもよい。また、改質物質としては、水(水
蒸気)、二酸化炭素、酸素、空気などが用いられ、2種
以上が混合されていてもよい。
【0031】反応に際しての炭化水素と改質物質との供
給割合は、炭化水素中の炭素原子の数を基準とするモル
比で表して、改質物質/炭素比=0.3〜100、好ま
しくは0.3〜10、さらに好ましくは0.5〜3とさ
れ、本発明では、改質物質を大過剰に供給する必要はな
い。炭化水素と改質物質との混合気体には、希釈剤とし
て窒素などの不活性ガスを共存させてもよい。
【0032】具体的な反応としては、上述のリホーミン
グ用触媒を充填した反応管に、炭化水素と改質物質とか
らなる原料ガスを供給し、温度773〜1273K、好
ましくは873〜1273K、さらに好ましくは923
〜1273Kの温度条件で、圧力条件が0.1〜10M
Pa、好ましくは0.1〜5MPa、さらに好ましくは
0.1〜3MPaの範囲で反応を行う。原料ガスの空間
速度(GHSV:原料ガスの供給速度を体積換算の触媒
量で除した値)は、500〜200000h-1、好まし
くは1000〜100000h -1、さらに好ましくは1
000〜70000h-1の範囲とすることが望ましい。
また、触媒床の形態は、固定床、移動床、流動床などの
周知の形態を任意に選択できる。
【0033】このようなリホーミング用触媒の製造方法
にあっては、CoOまたはNiOまたはNiOおよびM
Oxが、MgOまたはMgO/CaOとの複合酸化物と
なっていて、コバルトまたはニッケルまたはニッケルお
よびMが高分散化している触媒を生産性よく製造でき
る。すなわち、高活性で、メタンなどの炭化水素と水蒸
気などの改質物質とを化学等量もしくはそれに近い量で
反応させても、炭素質(カーボン)の析出を抑制でき、
効率よく合成ガスを製造でき、寿命も長い高性能な触媒
を、低コストで製造できる。このため、触媒製造を含め
た合成ガス製造プロセス全体のコストを低く抑えること
ができる。
【0034】
【実施例】以下、具体例を示して本発明の作用、効果を
明確にするが、本発明はこれら具体例に限定されるもの
ではない。 [実施例1]硝酸コバルト六水和物16.2g、硝酸マ
グネシウム六水和物270.7gを水500mlに溶解
した。ついで、溶液温度を323Kに保ちながら、共沈
剤として2mol/L炭酸カリウム水溶液590ml
(沈殿生成当量の約1.1倍)を加えることによってp
H9にし、コバルト、マグネシウムの2成分からなる沈
殿物を生成させた。沈殿を含むスラリー溶液はゲルしな
かった。最終的に沈殿を生成した溶液はpH8.4とな
った。沈殿物をろ過し、洗浄を行なった後、空気中39
3Kで12時間以上乾燥した。乾燥後の沈殿の収量は8
5.8gであった。ついで、空気中、1453Kで5時
間焼成して触媒Aを得た。
【0035】[実施例2]硝酸ニッケル六水和物9.6
9g、硝酸マグネシウム六水和物276.3gを水50
0mlに溶解した。ついで、溶液温度を323Kに保ち
ながら、共沈剤として2mol/L炭酸カリウム水溶液
590ml(沈殿生成当量の約1.1倍)を加えること
によってpH9にし、ニッケル、マグネシウムの2成分
からなる沈殿物を生成させた。沈殿を含むスラリー溶液
はゲルしなかった。最終的に沈殿を生成した溶液はpH
8.4となった。沈殿物をろ過し、洗浄を行なった後、
空気中393Kで12時間以上乾燥した。乾燥後の沈殿
の収量が86.0gであった。ついで、空気中、145
3Kで5時間焼成して触媒Bを得た。
【0036】[実施例3]硝酸ニッケル六水和物14.
5g、硝酸マグネシウム六水和物272.1g、硝酸マ
ンガン六水和物3.19gを水500mlに溶解した。
ついで、溶液温度を323Kに保ちながら、共沈剤とし
て2mol/L炭酸カリウム水溶液590ml(沈殿生
成当量の約1.1倍)を加えることによってpH9に
し、ニッケル、マグネシウム、マンガンの3成分からな
る沈殿物を生成させた。沈殿を含むスラリー溶液はゲル
しなかった。最終的に沈殿を生成した溶液はpH8.4
となった。沈殿物をろ過し、洗浄を行なった後、空気中
393Kで12時間以上乾燥した。乾燥後の沈殿の収量
が85.5gであった。ついで、空気中、1453Kで
5時間焼成して触媒Cを得た。
【0037】(比較例1)硝酸コバルト六水和物16.
2g、硝酸マグネシウム六水和物270.7gを水50
0mlに溶解した。ついで、溶液温度を293Kに保ち
ながら、共沈剤として2mol/L炭酸カリウム水溶液
540ml(沈殿生成当量の1.0倍)を加えることに
よってpHを9とし、コバルト、マグネシウムの2成分
からなる沈澱を生成させた。沈殿を含むスラリー溶液は
ゲル化し、攪拌できなかった。最終的に沈殿を生成した
溶液はpH9.4となった。沈澱をろ過し、洗浄を行な
った後、空気中、393Kで12時間以上乾燥した。乾
燥後の沈殿の収量は71.0gであった。
【0038】(比較例2)硝酸コバルト六水和物16.
2g、硝酸マグネシウム六水和物270.7gを水50
0mlに溶解した。ついで、溶液温度を293Kに保ち
ながら、共沈剤として2mol/L炭酸カリウム水溶液
815ml(沈殿生成当量の1.5倍)を加えることに
よってpHを10とし、コバルト、マグネシウムの2成
分からなる沈澱を生成させた。沈殿を含むスラリー溶液
はゲル化し、攪拌できなかった。最終的に沈殿を生成し
た溶液はpH10.8となった。沈澱をろ過し、洗浄を
行なった後、空気中、393Kで12時間以上乾燥し
た。乾燥後の沈殿の収量は79.5gであった。
【0039】[反応例1]実施例1で調製した触媒A:
30mlを加圧固定床流通式反応器に充填して、メタン
の CO2/水蒸気改質を行った。触媒は予め水素気流中
で1173Kで還元処理を行った後、 CH4:CO2
2Oモル比=1:0.4:1の原料ガスを、圧力 20
kg/cm2G、温度1123K、GHSV=6000
hr-1の条件で反応を行った。反応開始から100時間
経過後の CH4転化率は59%(反応条件下のCH4
平衡転化率=59%)であり、3000時間経過後のC
4転化率は59%であった。
【0040】[反応例2]実施例2で調製した触媒B:
30mlを加圧固定床流通式反応器に充填して、メタン
の CO2/水蒸気改質を行った。触媒は予め水素気流中
で1173Kで還元処理を行った後、 CH4:CO2
2Oモル比=1:0.4:1の原料ガスを、圧力 20
kg/cm2G、温度1123K、GHSV=6000
hr-1の条件で反応を行った。反応開始から100時間
経過後の CH4転化率は59%(反応条件下のCH4
平衡転化率=59%)であった。
【0041】[反応例3]実施例3で調製した触媒C:
30mlを加圧固定床流通式反応器に充填して、メタン
の CO2/水蒸気改質を行った。触媒は予め水素気流中
で1173Kで還元処理を行った後、CH4:CO2:H
2Oモル比=1:0.4:1の原料ガスを、圧力 20
kg/cm2G、温度1123K、GHSV=6000
hr-1の条件で反応を行った。反応開始から100時間
経過後の CH4転化率は59%(反応条件下のCH4
平衡転化率=59%)であった。
【0042】
【発明の効果】以上説明したように本発明のリホーミン
グ用触媒の製造方法は、必須成分を特定の比率で含有す
る水溶液に、共沈剤を添加して沈殿を生成させる沈殿生
成工程と、前記沈殿を乾燥し乾燥沈殿物とする乾燥工程
と、前記乾燥沈殿物を焼成する焼成工程を有し、沈殿生
成工程を313〜373Kで行う。よって、CoOまた
はNiOまたはNiOおよびMOxが、MgOまたはM
gO/CaOとの複合酸化物となっていて、コバルトま
たはニッケルまたはニッケルおよびMが高分散化してい
る触媒を、生産性よく製造できる。すなわち、高活性で
あり、メタンなどの炭化水素と水蒸気、二酸化炭素など
の改質物質とを化学等量もしくはそれに近い量で反応さ
せても、炭素質(カーボン)の析出を抑制でき、効率よ
く合成ガスを製造でき、寿命も長い高性能な触媒を、低
コストで製造できる。このため、触媒製造を含めた合成
ガス製造プロセス全体のコストを低く抑えることができ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の触媒の表面状態を模式的に示した説
明図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4G040 EA03 EA05 EA06 EA07 EB01 EC01 EC02 EC03 EC04 EC05 EC07 4G069 AA08 AA09 BB04A BB04B BB06A BB06B BB16A BC02A BC03A BC09A BC10A BC10B BC21A BC22A BC31A BC32A BC35A BC42A BC43A BC59A BC62A BC62B BC67A BC67B BC68A BC68B BC70A BC71A BC72A BC75A BE17A CC17 EC30 FA01 FB09 FB30 FB57 FC03 FC07 FC08 4G140 EA03 EA05 EA06 EA07 EB01 EC01 EC02 EC03 EC04 EC05 EC07

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 下記式(1)で表される組成を有する複
    合酸化物からなり、Coが該複合酸化物中で高分散化さ
    れていることを特徴とする炭化水素のリホーミング触媒
    の製造方法であって、 CoとMgとCaとを下記式(1)で表された比率で含
    有する水溶液に、共沈剤を添加して沈殿を生成させる沈
    殿生成工程と、前記沈殿を乾燥し乾燥沈殿物とする乾燥
    工程と、前記乾燥沈殿物を焼成する焼成工程を有し、 沈殿生成工程を313〜373Kで行うことを特徴とす
    るリホーミング用触媒の製造方法。 aCo・bMg・cCa・dO…(1) (式中、a,b,c,dはモル分率であり、a+b+c
    =1、0.005≦a≦0.30、0.70≦(b+
    c)≦0.995、0<b≦0.995、0≦c≦0.
    995、d=元素が酸素と電荷均衡を保つのに必要な数
    である。)
  2. 【請求項2】 下記式(2)で表される組成を有する複
    合酸化物からなり、Niが該複合酸化物中で高分散化さ
    れていることを特徴とする炭化水素のリホーミング触媒
    の製造方法であって、 NiとMgとCaとを下記式(2)で表された比率で含
    有する水溶液に、共沈剤を添加して沈殿を生成させる沈
    殿生成工程と、前記沈殿を乾燥し乾燥沈殿物とする乾燥
    工程と、前記乾燥沈殿物を焼成する焼成工程を有し、 沈殿生成工程を313〜373Kで行うことを特徴とす
    るリホーミング用触媒の製造方法。 aNi・bMg・cCa・dO…(2) (式中、a,b,c,dはモル分率であり、a+b+c
    =1、0.005≦a≦0.30、0.70≦(b+
    c)≦0.995、0<b≦0.995、0≦c≦0.
    995、d=元素が酸素と電荷均衡を保つのに必要な数
    である。)
  3. 【請求項3】 下記式(3)で表される組成を有する複
    合酸化物からなり、MおよびNiが該複合酸化物中で高
    分散化されていることを特徴とする炭化水素のリホーミ
    ング触媒の製造方法であって、 MとNiとMgとCaとを下記式(3)で表された比率
    で含有する水溶液に、共沈剤を添加して沈殿を生成させ
    る沈殿生成工程と、前記沈殿を乾燥し乾燥沈殿物とする
    乾燥工程と、前記乾燥沈殿物を焼成する焼成工程を有
    し、 沈殿生成工程を313〜373Kで行うことを特徴とす
    るリホーミング用触媒の製造方法。 aM・bNi・cMg・dCa・eO…(3) (式中、a,b,c,d,eはモル分率であり、a+b
    +c+d=1、0.0001≦a≦0.10、0.00
    01≦b≦0.30、0.60≦(c+d)≦0.99
    98、0<c≦0.9998、0≦d<0.9998、
    e=元素が酸素と電荷均衡を保つのに必要な数である。
    また、Mは周期律表第6A族元素、第7A族元素、Ni
    を除く第8族遷移元素、第1B族元索、第2B族元素、
    第4B族元素およびランタノイド元素の少なくとも1種
    類の元素である。)
  4. 【請求項4】 Mが、マンガン、モリブデン、ロジウ
    ム、ルテニウム、白金、パラジウム、銅、銀、亜鉛、
    錫、鉛、ランタニウム、セリウムから選ばれる少なくと
    も1種であることを特徴とする請求項3に記載のリホー
    ミング用触媒の製法。
  5. 【請求項5】 沈殿生成工程における共沈剤の添加量
    を、沈殿生成当量の1.0〜1.2倍とすることを特徴
    とする請求項1ないし4のいずれかに記載のリホーミン
    グ用触媒の製造方法。
  6. 【請求項6】 焼成工程を973〜1573Kの温度で
    行うことを特徴とする請求項1ないし5のいずれかに記
    載のリホーミング用触媒の製造方法。
  7. 【請求項7】 共沈剤が、ナトリウム炭酸塩、力リウム
    炭酸塩、アンモニウム炭酸塩、ナトリウム炭酸水素塩、
    カリウム炭酸水素塩、アンモニウム炭酸水素塩、水酸化
    ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化アンモニウム、ア
    ンモニア水から選ばれる少なくとも1種であることを特
    徴とする請求項1ないし6のいずれかに記載のリホーミ
    ング用触媒の製造方法。
  8. 【請求項8】 請求項1ないし7のいずれかに記載の製
    法で得られたリホーミング用触媒を用いて、炭化水素と
    改質物質とから合成ガスを得ることを特徴する合成ガス
    の製法。
  9. 【請求項9】 請求項8に記載の合成ガスの製法におい
    て、炭化水素と改質物質との供給比を、改質物質/炭索
    比=0.3〜100とすることを特徴とする合成ガスの
    製法。
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