JP2002074640A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】微細な六方晶フェライトを使用した磁気記録媒
体の粒子間相互作用に着目し磁化の安定性が従来よりも
良好で，MRヘッドを使用して再生したとき短波長出力と
Ｃ／Ｎが良好な磁気記録媒体を提供すること。 【解決手段】支持体上に無機質非磁性粉末を結合剤中に
分散させた非磁性層を設けこの上に強磁性粉末を結合剤
中に分散してなる磁性層を設けた磁気記録媒体におい
て、平均板径が10〜28nmである六方晶系フェライト磁性
粉を含有する磁性層を有し、かつ該磁性粉を含有する磁
性層において、抗磁力Ｈｃが135〜400kA/mであり、該Ｈ
ｃと異方性磁界Ｈｋの比Ｈｃ／Ｈｋが0.3〜0.6であり、
ΔMの最大値が0〜0.10である事を特徴とする磁気記録媒
体。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は磁気テープ等の磁気
記録媒体に関し、特に強磁性粉末や結合剤を主体とする
磁性塗料を支持体上に塗布して磁性層を形成した塗布型
の磁気記録媒体に関連し、再生に磁気抵抗効果を利用し
たＭＲヘッドを使用したシステムで使用すると特に好適
な磁性層に六方晶系フェライトを含む高密度記録用の塗
布型磁気記録媒体に関連する。

【０００２】

【従来の技術】従来、ビデオテ−プ、オ−ディオテー
プ、磁気ディスク等の磁気記録媒体としては強磁性酸化
鉄、Ｃｏ変性強磁性酸化鉄、ＣｒＯ₂ 、強磁性金属粉
末、六方晶系フェライト等を結合剤中に分散した磁性層
を支持体に塗設したものが広く用いられる。この中でも
六方晶系フェライトは高密度記録特性に優れている事が
知られている(例えば、特開昭６０−１５７７１９号公
報，特開昭６２−１０９２２６号公報，特開平３−２８
０２１５号公報) 。特開平５−１２６５０号公報には、
該フェライトを用いた磁性層の厚みを０．１〜０．６μ
ｍとし、磁性層と支持体の間に磁性層より厚い非磁性層
を設け、表面性、短波長出力、消去特性、耐久性を改善
するとしている。特開平５−２２５５４７号公報には、
支持体上に非磁性層を設け、その上に０．１μｍ以下の
磁性粉を含有した磁性層を設けた磁気記録媒体を開示
し、高域特性に優れ、しかも信号の重ね書き特性の良好
な、耐久性も良好な磁気記録媒体を提供すとしている。

【０００３】また、特開平３−２８６４２０号公報、Ｉ
ＥＥＥ．Ｔｒａｎｓ．Ｍａｇ、ｖｏｌ２４、Ｎｏ６、ｎ
ｏｖ．１９８８、ｐ２８５０等には、六方晶系フェライ
トの異方性磁場Ｈｋが磁気記録媒体の電磁変換特性に影
響する事が開示されている。そして、前者では非磁性層
上に磁性層を２層設けた磁気記録媒体であって、下層の
磁性層が長尺方向に磁化容易軸を有し、上層の磁性層に
異方性磁界が３０００Ｏｅ以下である磁性粉が配設され
た磁気記録媒体を開示し、長波長から短波長に至るまで
の広域において高出力の磁気記録媒体を提供するとして
いる。特開平8-115518号公報には，媒体のHcが103.5〜3
98kA/m,Hc/Hkが0.30〜1.0，かつ面内方向の角型比SQが
0.65〜1.00である高密度記録用媒体が提案されている。
六方晶系フェライト磁性粉を含む磁性層のＨｃ、Ｈｃ／
ＨＫ、および面内方向のＳＱの各数値範囲を特定したこ
とを特徴とし、これにより高密度記録に必要な極短波長
出力を格段に改良したものである。しかしながら，MRヘ
ッドで使用するとき高ノイズとなり好ましくない。

【０００４】最近、コンピュ−タ−用デ−タ記録システ
ムには、磁気抵抗効果を利用した高感度な再生ヘッド
(ＭＲヘッド)が使用され、システムノイズは磁気記録媒
体に由来するノイズに支配されている。Okabeらは，Ba
フェライト媒体をMRヘッドと組み合わせて使用すること
が，MRヘッドの飽和を回避するので好ましいことを示唆
している(IEEE.Trans．Mag．vol32（5），ｐ3404-3406
（1996）．媒体ノイズを低減するため強磁性粒子の微細
化が進められているが、強磁性粒子の微細化にともない
熱揺らぎの影響を受け、磁化遷移領域の安定性が問題と
なることが推定されている。磁化の安定性は、KuV/kT(K
uは磁気異方性定数、Vは粒子体積、kはボルツマン定
数、Tは絶対温度)で評価されている。メタルテープの粒
子体積と熱揺らぎに関しては、鈴木俊行らによる報告
(信学技報MR97-55 P33-40 1997.11.21)がある。

【０００５】六方晶フェライトは飽和磁化が強磁性金属
粉の約1/3〜1/2であるので，Kuを大きくすることが難し
く熱揺らぎは大きくなる。さらに，六方晶フェライトを
用いた磁気記録媒体は粒子間の相互作用が大きく，媒体
のノイズレベルに影響すると言われている。粒子間の相
互作用が大きいと磁化の安定性が優れているといわれて
いるが，なんらかの原因で粒子が磁化反転すると周囲の
磁性体もひきずられて磁化反転する可能性がある。その
ためか粉体サイズを微細にした六方晶系フェライト磁性
粉を用いて作成した高密度記録用媒体をＭＲヘッドで再
生したときのＣ／Ｎを十分に確保することが困難である
という問題があった。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記従来技
術の問題点に鑑みなされたものであり、微細な六方晶フ
ェライトを使用した磁気記録媒体の粒子間相互作用に着
目し磁化の安定性が従来よりも良好で，MRヘッドを使用
して再生したとき短波長出力とＣ／Ｎが良好な磁気記録
媒体を提供することを目的としている。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、支持体
上に無機質非磁性粉末を結合剤中に分散させた非磁性層
を設けこの上に強磁性粉末を結合剤中に分散してなる磁
性層を設けた磁気記録媒体において、平均板径が10〜28
nmである六方晶系フェライト磁性粉を含有する磁性層を
有し、かつ該磁性粉を含有する磁性層において、抗磁力
Ｈｃが135〜400kA/mであり、該Ｈｃと異方性磁界Ｈｋの
比Ｈｃ／Ｈｋが0.3〜0.6であり、ΔMの最大値が0〜0.10
である事を特徴とする磁気記録媒体により達成される。
また、本発明は、前記磁性層の厚みが0.01〜0.5μｍ、
残留磁束密度×磁性層厚みが5〜100ｍT・μmである事が
好ましい。

【０００８】本発明は、六方晶系フェライト磁性粉の粉
体サイズとこれを含む磁性層のＨｃ、Ｈｃ／Ｈｋ、およ
びΔMの各数値範囲を特定したことを特徴とし、これに
より高密度記録に必要な極短波長出力と磁化の安定性を
格段に改良したものである。Hkは，低磁界から回転ヒス
テリシス損失Ｗｒの値を測定し、800kA/mまで測定し
た。印加磁界の逆数１／Ｈに対してプロットし、高印加
磁界側においてＷｒが０になる磁界をＷｒカーブの直線
部分を外挿して求めＨkとした。

【０００９】六方晶フェライトの組成と形状(板厚，板
状比)を制御することでHkを大きくすることができる。
大きなHkはKuを大きくする方向であり、磁化の熱安定性
を高める発明の目的を達成するために好ましい。本発明
のためにはHkは390〜800kA/mが好ましい。Ｈｃの設定は
記録に使用するヘッド性能による所が大きく、 Ｈｃ135
kA/m以上はＦｅ-Ｔａ-Ｎ等の高飽和磁束密度（Ｂｓ）材
料を用いたヘッドの場合に好ましい。Ｈｃの上限はヘッ
ド材質による為一概に言えないが，磁性層が薄い場合
は，磁気記録媒体のHcが400kA/m程度までは記録が可能
と思われる。一方Hcが135kA/m未満では高記録密度が達
成できない。

【００１０】従って、Ｈｃは１３５〜４００ｋＡ／ｍ、
好ましくは１５０〜３５０ｋＡ／ｍの範囲に制御され
る。また、Ｈｃ／Ｈｋは０．３〜０．６、好ましくは
０．３５〜０．６の範囲に制御される。また、本発明に
おいてはΔMは０〜０．１０、好ましくは０〜０．９の
範囲に制御される。ΔMを0〜0.10とするためには、粒子
のスタッキングを防止すること、磁性体の充填度を小さ
くすること、必要以上に角型比を高くしないことが有効
である。粉体サイズや形状の観点から、平均板径が10〜
28nmであること、板状比（平均板径／平均板厚）が小さ
いことがスタッキングの発生が小さく、本発明の目的を
達成するために好ましい。平均板径は１５〜２５nmが好
ましく、板状比は、１．５〜４．０、好ましくは２〜
３．８の範囲である。結合剤樹脂量（硬化剤を含む）を
通常よりも増加するほうが、磁性体粒子間の相互作用を
小さくするうえで好ましく、結合剤樹脂１００質量部に
対して磁性体を２００〜８００質量部用いることが好ま
しく、２５０〜７００質量部用いることが更に好まし
い。一方、磁性体の平均板径が28nmを超える場合は、粒
子間の相互作用が大きく、ΔMを0.10以下にすることが
困難であり、高ノイズであり、磁化の減衰が大きく好ま
しくない。

【００１１】ΔMは、AC消磁し測定したレマネンス曲線I
r(H)とDC消磁し測定したレマネンス曲線Id(H)より、各
測定磁界に対しΔM＝Id(H)-（1-2Ir(H)）で算出され
る。MRヘッドが飽和することにより、再生出力が劣化す
ることを防止するために、残留磁束密度（Ｂｒ）×磁性
層厚み（δ）は5〜100ｍT・μmが好ましい。100ｍT・μ
mを超えるとMRヘッドの飽和が発生しやすいので好まし
くない。残留磁束密度は好ましくは７０〜２００ｍＴ、
更に好ましくは７０〜１８０ｍＴの範囲である。また、
磁性層の厚みは、好ましくは０．０１〜０．５μｍ、更
に好ましくは０．０２〜０．１μｍの範囲である。

【００１２】磁化の減衰勾配（ΔＳ）は、好ましくは０
〜０．０５、更に好ましくは０〜０．０４５の範囲であ
る。ΔＳはDC飽和磁化した後、テープHcと同じ磁界を逆
方向に印加し磁化の減衰を1000秒測定し、lnｔ(ｔは時
間；秒)に対する10〜1000秒間の磁化減衰の勾配（S）を
求め、この勾配（S）を残留磁化Mrで規格化して得られ
る。

【００１３】熱揺らぎ磁界（Hf）は、好ましくは０〜
２．０Ａ／ｍ、更に好ましくは０〜１．８Ａ／ｍの範囲
である。Hfが小さいと、熱揺らぎに対し安定なので好ま
しい。熱揺らぎ磁界（Hf）は、レマネンス曲線より非可
逆帯磁率χirre(Hc付近の磁界強度の数値を使用)を求
め、Hf=S/χirreより算出できる。活性化体積Vaは、Va=
ｋT/(Ms・Hf)より求まる。ｋはボルツマン定数、Tは絶
対温度、Msは体積あたりの飽和磁化である。

【００１４】また、磁性層の角型比（ＳＱ）は、好まし
くは０．５０〜０．６５、更に好ましくは０．５５〜
０．６４の範囲である。

【００１５】以下、磁性層（上層ともいう）に使用され
る六方晶系フェライト磁性粉について説明する。本発明
の上層に含まれる六方晶系フェライト磁性粉としてバリ
ウムフェライト、ストロンチウムフェライト、鉛フェラ
イト、カルシウムフェライトの各置換体、Ｃｏ置換体等
が挙げられる。具体的にはマグネトプランバイト型のバ
リウムフェライト及びストロンチウムフェライト、更に
一部スピネル相を含有したマグネトプランバイト型のバ
リウムフェライト及びストロンチウムフェライト等が挙
げられ、その他所定の原子以外にＡｌ、Ｓｉ、Ｓ，Ｓ
ｃ、Ｔｉ、Ｖ，Ｃｒ、Ｃｕ，Ｙ，Ｍｏ，Ｒｈ，Ｐｄ，Ａ
ｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、
Ｈｇ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ，Ｃ
ｏ，Ｍｎ，Ｚｎ、Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂ、Ｇｅ、Ｎｂなどの原
子を含んでもかまわない。一般にはＣｏ−Ｔｉ，Ｃｏ−
Ｔｉ−Ｚｒ、Ｃｏ−Ｎｂ，Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚｎ，Ｃｏ−Ｚ
ｎ−Ｎｂ，Ｎｉ−Ｔｉ−Ｚｎ，Ｎｂ−Ｚｎ，Ｎｉ−Ｔ
ｉ，Ｚｎ−Ｔｉ等の元素を添加した物を使用することが
できる。上層の長手方向のＳＦＤは０．３以下にすると
抗磁力の分布が小さくなり好ましい。ＳＦＤの観点から
は，純粋なマグネトプランバイト型フェライトの方が，
スピネル層を多く含む複合型フェライトよりも好まし
い。抗磁力を制御するためには、組成，粒子径、粒子厚
を制御する、六方晶フェライトのスピネル相の厚みを制
御する、スピネル相の置換元素の量を制御する、スピネ
ル相の置換サイトの場所を制御する、などの方法があ
る。本発明に用いられる六方晶系フェライト磁性粉は、
通常六角板状の粉体であり、そのサイズは以下のように
して測定する。

【００１６】本明細書において、六方晶系フェライト磁
性粉のように種々の粉体のサイズ（以下、「粉体サイ
ズ」と言う）は、高分解能透過型電子顕微鏡写真より求
められる。即ち、粉体サイズは、粉体の形状が針状、
紡錘状、柱状（ただし、高さが底面の最大長径より大き
い）等の場合は、粉体を構成する長軸の長さ、即ち長軸
長で表され、粉体の形状が板状乃至柱状（ただし、厚
さ乃至高さが板面乃至底面の最大長径より小さい）場合
は、その板面乃至底面の最大長径で表され、粉体の形
状が球形、多面体状、不特定形等であって、かつ形状か
ら粉体を構成する長軸を特定できない場合は、円相当径
で表される。円相当径とは、円投影法で求められるもの
を言う。

【００１７】また、該粉体の平均粉体サイズは、上記粉
体サイズの算術平均であり、約５００個の一次粒子につ
いて上記の如く測定を実施して求めたものである。一次
粒子とは、凝集のない独立した粉体をいう。また、該粉
体の平均針状比は、上記測定において粉体の短軸の長
さ、即ち短軸長を測定し、各粉体の（長軸長／短軸長）
の値の算術平均を指す。ここで、短軸長とは、上記粉体
サイズの定義での場合は、粉体を構成する短軸の長さ
を、同じくの場合は、厚さ乃至高さを各々指し、の
場合は、長軸と短軸の区別がないから、（長軸長／短軸
長）は、便宜上１とみなす。そして、粉体の形状が特定
の場合、例えば、上記粉体サイズの定義の場合は、平
均粉体サイズを平均長軸長と言い、同定義の場合は平
均粉体サイズを平均板径と言い、（最大長径／厚さ乃至
高さ）の算術平均を平均板状比という。同定義の場合
は平均粉体サイズを平均粒子径という。

【００１８】本発明では六方晶系フェライト磁性粉の平
均板径は10〜28nm、好ましくは15〜25nmの範囲である。
また、該磁性粉の平均厚さは通常、2〜15nmであるが特
に4〜7nmが好ましい。更に平均板状比は好ましくは1.5
〜4であり、更に好ましくは2〜3.8である。平均板径が1
0nm未満のとき、高比表面積となり、分散が困難となる
ため好ましくない。また、これら六方晶系フェライト磁
性粉末のＢＥＴ法による比表面積（Ｓ_BET）は通常25〜1
00m²/gであるが、40〜80m²/gが好ましい。２５m²/gに満
たないとノイズが高くなり、１００m²/gを超えると分散
が困難となり表面性が得にくく好ましくない。含水率は
0.3〜2.0％とするのが好ましい。結合剤の種類によって
該磁性粉の含水率は最適化するのが好ましい。該磁性粉
のｐＨは用いる結合剤との組合せにより最適化すること
が好ましい。その範囲は４〜１２であるが、好ましくは
６〜１０である。該磁性粉は必要に応じ、Ａｌ、Ｓｉ、
Ｐ，Ｚｒ，Ｍｇまたはこれらの酸化物や水酸化物などで
表面処理を施してもかまわない。好ましくはＡｌ₂Ｏ₃・
ｎＨ₂ＯまたはＳｉＯ₂・ｎＨ₂Ｏによる表面処理であ
り、用いるバインダによってその量と比率を変えること
が好ましい。その量は該磁性粉に対し０．１〜１０質量
％であり表面処理を施すと脂肪酸などの潤滑剤の吸着が
１００ｍｇ／ｍ²以下になり好ましい。該磁性粉には可
溶性のＮａ、Ｃａ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｓｒなどの無機イオン
を含む場合があるが合計量が少ないほうが好ましいが、
0〜100ｐｐｍ以下であれば特に特性に影響を与えない。
σsは35A・m ²/kg以上、好ましくは40A・m²/kg以上であ
る。タップ密度は0.5ｇ／ｍｌ以上が好ましく0.8ｇ／ｍ
ｌ以上がさらに好ましい。六方晶系フェライト磁性粉の
製法としてはガラス結晶化法、共沈法、水熱反応法等が
あるが、本発明は製法を選ばないが、ガラス結晶化法は
微細で粒度分布が良好な粒子が得られるので好ましい。

【００１９】本発明の磁気記録媒体における磁性層の結
合剤樹脂は、従来公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、
反応型樹脂やこれらの混合物が使用できる。熱可塑性樹
脂としては、ガラス転移温度が−１００〜１５０℃、数
平均分子量が１０００〜２０００００、好ましくは１０
０００〜１０００００、重合度が約５０〜１０００程度
のものである。

【００２０】このような結合剤樹脂としては、塩化ビニ
ル、酢酸ビニル、ビニルアルコ−ル、マレイン酸、アク
リル酸、アクリル酸エステル、塩化ビニリデン、アクリ
ロニトリル、メタクリル酸、メタクリル酸エステル、ス
チレン、ブタジエン、エチレン、ビニルブチラ−ル、ビ
ニルアセタ−ル、ビニルエ−テル、等を構成単位として
含む重合体または共重合体、ポリウレタン樹脂、各種ゴ
ム系樹脂がある。

【００２１】また、熱硬化性樹脂または反応型樹脂とし
てはフェノ−ル樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化
型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、アク
リル系反応樹脂、ホルムアルデヒド樹脂、シリコ−ン樹
脂、エポキシ−ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂とイ
ソシアネ−トプレポリマ−の混合物、ポリエステルポリ
オ−ルとポリイソシアネ−トの混合物、ポリウレタンと
ポリイソシアネートの混合物等があげられる。

【００２２】前記の結合剤樹脂に、より優れた強磁性粉
末の分散効果と磁性層の耐久性を得るためには必要に応
じ、ＣＯＯＭ，ＳＯ₃Ｍ、ＯＳＯ₃Ｍ、Ｐ＝Ｏ（Ｏ
Ｍ）₂、Ｏ−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）₂、（以上につきＭは水素原
子、またはアルカリ金属塩基）、ＯＨ、ＮＲ₂、Ｎ⁺Ｒ₃
（Ｒは炭化水素基）、エポキシ基、ＳＨ、ＣＮなどから
選ばれる少なくともひとつ以上の極性基を共重合または
付加反応で導入したものをもちいることが好ましい。こ
のような極性基の量は１０^-1〜１０^-8モル／ｇであり、
好ましくは１０^-2〜１０^-6モル／ｇである。

【００２３】本発明の磁気記録媒体に用いられる結合剤
樹脂は、強磁性粉末に対し、５〜５０質量％の範囲、好
ましくは１０〜３０質量％の範囲で用いられる。塩化ビ
ニル系樹脂を用いる場合は５〜１００質量％、ポリウレ
タン樹脂を用いる場合は２〜５０質量％、ポリイソシア
ネ−トは２〜１００質量％の範囲でこれらを組み合わせ
て用いるのが好ましい。

【００２４】また、磁性層の六方晶系フェライト磁性粉
の充填度は、使用した六方晶系フェライト磁性粉のσｓ
及び最大磁束密度（Ｂｍ）から計算でき（Ｂｍ／４πσ
ｓ）となり、本発明においてはその値は、望ましくは
１．１〜３．２ｇ／ｃｍ³であり、更に望ましくは１．
２〜３．０ｇ／ｃｍ³である。

【００２５】本発明において、ポリウレタンを用いる場
合はガラス転移温度が−５０〜１００℃、破断伸びが１
００〜２０００％、破断応力は０．０５〜１０Kg/mm
²（０．４９〜９８ＭＰａ）、降伏点は０．０５〜１０K
g/mm²（０．４９〜９８ＭＰａ）が好ましい。

【００２６】本発明にもちいるポリイソシアネ−トとし
ては、トリレンジイソシアネ−ト、４，４’−ジフェニ
ルメタンジイソシアネ−ト、ヘキサメチレンジイソシア
ネ−ト、キシリレンジイソシアネ−ト、ナフチレン−
１，５−ジイソシアネ−ト、ｏ−トルイジンジイソシア
ネ−ト、イソホロンジイソシアネ−ト、トリフェニルメ
タントリイソシアネ−ト等のイソシアネ−ト類、また、
これらのイソシアネ−ト類とポリアルコールとの生成
物、また、イソシアネート類の縮合によって生成したポ
リイソシアネ−ト等を使用することができる。これらの
イソシアネート類の市販されている商品名としては、日
本ポリウレタン社製、コロネートＬ、コロネ−トＨＬ、
コロネ−ト２０３０、コロネ−ト２０３１、ミリオネ−
トＭＲミリオネ−トＭＴＬ、武田薬品社製、タケネ−ト
Ｄ−１０２，タケネ−トＤ−１１０Ｎ、タケネ−トＤ−
２００、タケネ−トＤ−２０２、住友バイエル社製、デ
スモジュ−ルＬ、デスモジュ−ルＩＬ、デスモジュ−ル
Ｎ、デスモジュ−ルＨＬ、等がありこれらを単独または
硬化反応性の差を利用して二つもしくはそれ以上の組合
せでもちいることができる。

【００２７】本発明の磁気記録媒体の磁性層中には、通
常、潤滑剤、研磨剤、分散剤、帯電防止剤、分散剤、可
塑剤、防黴剤等などを始めとする種々の機能を有する素
材をその目的に応じて含有させることができる。

【００２８】本発明の磁性層に使用する潤滑剤として
は、ジアルキルポリシロキサン（アルキルは炭素数１〜
５個）、ジアルコキシポリシロキサン（アルコキシは炭
素数１〜４個）、モノアルキルモノアルコキシポリシロ
キサン（アルキルは炭素数１〜５個、アルコキシは炭素
数１〜４個）、フェニルポリシロキサン、フロロアルキ
ルポリシロキサン（アルキルは炭素数１〜５個）などの
シリコンオイル；グラファイト等の導電性微粉末；二硫
化モリブデン、二硫化タングステンなどの無機粉末；ポ
リエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレン塩化ビニル
共重合体、ポリテトラフルオロエチレン等のプラスチッ
ク微粉末；α−オレフィン重合物；常温で固体の飽和脂
肪酸（炭素数１０から２２）；常温で液状の不飽和脂肪
族炭化水素（ｎ−オレフィン二重結合が末端の炭素に結
合した化合物、炭素数約２０）；炭素数１２〜２０個の
一塩基性脂肪酸と炭素数３〜１２個の一価のアルコール
から成る脂肪酸エステル類、フルオロカーボン類等が使
用できる。

【００２９】上記の中でも飽和脂肪酸と脂肪酸エステル
が好ましく、両者を併用することがより好ましい。脂肪
酸エステルの原料となるアルコールとしてはエタノー
ル、ブタノール、フェノール、ベンジルアルコール、２
−メチルブチルアルコール、２−ヘキシルデシルアルコ
ール、プロピレングリコールモノブチルエーテル、エチ
レングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリ
コールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノ
ブチルエーテル、ｓ−ブチルアルコール等の系モノアル
コール類、エチレングリコール、ジエチレングリコー
ル、ネオペンチルグリコール、グリセリン、ソルビタン
誘導体等の多価アルコールが挙げられる。同じく脂肪酸
としては酢酸、プロピオン酸、オクタン酸、２−エチル
ヘキサン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、ステアリン
酸、パルミチン酸、ベヘン酸、アラキン酸、オレイン
酸、リノール酸、リノレン酸、エライジン酸、パルミト
レイン酸等の脂肪族カルボン酸またはこれらの混合物が
挙げられる。

【００３０】脂肪酸エステルとしての具体例は、ブチル
ステアレート、ｓ−ブチルステアレート、イソプロピル
ステアレート、ブチルオレエート、アミルステアレー
ト、３−メチルブチルステアレート、２−エチルヘキシ
ルステアレート、２−ヘキシルデシルステアレート、ブ
チルパルミテート、２−エチルヘキシルミリステート、
ブチルステアレートとブチルパルミテートの混合物、ブ
トキシエチルステアレート、２−ブトキシ−１−プロピ
ルステアレート、ジプロピレングリコールモノブチルエ
ーテルをステアリン酸でアシル化したもの、ジエチレン
グリコールジパルミテート、ヘキサメチレンジオールを
ミリスチン酸でアシル化してジオールとしたもの、グリ
セリンのオレエート等の種々のエステル化合物を挙げる
ことができる。

【００３１】さらに、磁気記録媒体を高湿度下で使用す
るときしばしば生ずる脂肪酸エステルの加水分解を軽減
するために、原料の脂肪酸及びアルコールの分岐／直
鎖、シス／トランス等の異性構造、分岐位置を選択する
ことがなされる。これらの潤滑剤は結合剤１００質量部
に対して通常、０．２〜２０質量部の範囲で添加され
る。

【００３２】潤滑剤としては、更に以下の化合物を使用
することもできる。即ち、シリコンオイル、グラファイ
ト、二硫化モリブデン、窒化ほう素、弗化黒鉛、フッ素
アルコール、ポリオレフィン、ポリグリコール、アルキ
ル燐酸エステル、二硫化タングステン等である。

【００３３】本発明の磁性層に用いられる研磨剤として
は、一般に使用される材料でα、γアルミナ、溶融アル
ミナ、コランダム、人造コランダム、炭化珪素、酸化ク
ロム（Ｃｒ₂Ｏ₃）、ダイアモンド、人造ダイアモンド、
ザクロ石、エメリー（主成分：コランダムと磁鉄鉱）、
αＦｅ₂Ｏ₃等が使用される。これらの研磨剤はモース硬
度が６以上である。具体的な例としては住友化学社製、
ＡＫＰ−１０、ＡＫＰ−１５、ＡＫＰ−２０、ＡＫＰ−
３０，ＡＫＰ−５０、ＡＫＰ−１５２０、ＡＫＰ−１５
００、ＨＩＴ−５０、ＨＩＴ６０Ａ、ＨＩＴ６０Ｇ、Ｈ
ＩＴ７０、ＨＩＴ８０、ＨＩＴ８２、ＨＩＴ−１００、
日本化学工業社製、Ｇ５、Ｇ７、Ｓ−１、酸化クロム
Ｋ、上村工業社製ＵＢ４０Ｂ、不二見研磨剤社製ＷＡ８
０００、ＷＡ１００００、ＬＡＮＤＳ社製ＬＳ６００Ｆ
０／−１／４、東名ダイヤ社製ＭＤ−２００、ＭＤ−
１５０、ＭＤ−１００、ＭＤ−７０、ＩＲＭ ０−１／
４Ｆ、ＩＲＭ ０−１／４ＦＦ、ＧＥ社製 ０−１／１
０、０−１／４、ＤｏＰｕｎｔ社製マイポレックス １
／１０ＱＧ、同 １／８ＱＧ、戸田工業社製ＴＦ１０
０、ＴＦ１４０、ＴＦ１８０などが挙げられる。平均粒
子径が０．０５〜１μｍの大きさのものが効果があり、
好ましくは０．０５〜０．５μｍである。研磨剤を単独
で使用するだけでなく、２種類以上の研磨剤を併用する
ことも好適で、微粒子ダイヤモンドの場合は他の研磨剤
と併用することで、磁性体に対する添加量を０．１％程
度に減少することができる。これら研磨剤の合計量は磁
性体１００質量部に対して１〜２０質量部、望ましくは
１〜１５質量部の範囲で添加される。１質量部より少な
いと十分な耐久性が得られず、２０質量部より多すぎる
と表面性、充填度が劣化する。これら研磨剤は、あらか
じめ結合剤で分散処理したのち磁性塗料中に添加しても
かまわない。

【００３４】本発明の磁気記録媒体の磁性層中には、前
記非磁性粉末の他に帯電防止剤として導電性粒子を含有
することもできる。帯電防止剤としては特に、カーボン
ブラックを添加することは、媒体全体の表面電気抵抗を
下げる点で好ましい。本発明に使用できるカ−ボンブラ
ックはゴム用ファ−ネス、ゴム用サ−マル、カラ−用ブ
ラック、導電性カーボンブラック、アセチレンブラック
等を用いることができる。比表面積は５〜５００ｍ²／
ｇ、ＤＢＰ吸油量は１０〜１５００ｍｌ／１００ｇ、粒
子径は５〜３００ｎｍ、ｐＨは２〜１０、含水率は０．
１〜１０％、タップ密度は０．１〜１ｇ／ｃｍ³、が好
ましい。本発明に用いられるカ−ボンブラックの具体的
な例としてはキャボット社製、ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ
２０００、１３００、１０００、９００、８００，７
００、ＶＵＬＣＡＮ ＸＣ−７２、旭カ−ボン社製、＃
８０、＃６０，＃５５、＃５０、＃３５、三菱化学社
製、＃３０３０Ｂ、＃３０４０Ｂ、＃３０５０Ｂ、＃３
２３０Ｂ、＃３３５０Ｂ、＃９１８０Ｂ、＃２７００、
＃２６５０、＃２６００、＃２４００Ｂ、＃２３００、
＃９５０Ｂ、＃９００，＃１０００，＃９５、＃３０，
＃４０、＃１０Ｂ、ＭＡ２３０、ＭＡ２２０、ＭＡ７
７、コロンビアンカ−ボン社製、ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ
ＳＣ、ＲＡＶＥＮ １５０、５０、４０，１５、ライオ
ンアグゾ社製ケッチェンブラックＥＣ、ケッチェンブラ
ックＥＣＤＪ−５００、ケッチェンブラックＥＣＤＪ−
６００などが挙などが挙げられる。カ−ボンブラックを
分散剤などで表面処理したり、カーボンブラックを酸化
処理したり、樹脂でグラフト化して使用しても、表面の
一部をグラファイト化したものを使用してもかまわな
い。また、カ−ボンブラックを磁性塗料に添加する前に
あらかじめ結合剤で分散してもかまわない。磁性層にカ
−ボンブラックを使用する場合は磁性体に対する量は
０．１〜３０質量％でもちいることが好ましい。さらに
後述する非磁性層には全非磁性粉末に対し３〜２０質量
％含有させることが好ましい。

【００３５】一般的にカ−ボンブラックは帯電防止剤と
してだけでなく、摩擦係数低減、遮光性付与、膜強度向
上などの働きがあり、これらは用いるカ−ボンブラック
により異なる。従って本発明に使用されるこれらのカ−
ボンブラックは、その種類、量、組合せを変え、粒子サ
イズ、吸油量、電導度、ｐＨなどの先に示した諸特性を
もとに目的に応じて使い分けることはもちろん可能であ
る。使用できるカーボンブラックは例えば「カ−ボンブ
ラック便覧」カ−ボンブラック協会編を参考にすること
ができる。

【００３６】本発明の六方晶系フェライト磁性粉を含有
する磁性層を含む磁気記録媒体は、支持体と磁性層の間
に非磁性層を設ける構成であれば、特に限定されず、公
知の層構成が可能である。非磁性層（下層ともいう）
は、非磁性粉末を結合剤樹脂中に分散した層が好まし
い。その非磁性層に使用される非磁性粉末には、種々の
ものが使用できる。例えば、α化率９０％以上のα−ア
ルミナ、β−アルミナ、γ−アルミナ、炭化ケイ素、酸
化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、ゲ−タイト、コ
ランダム、窒化珪素、チタンカ−バイト、酸化チタン、
二酸化珪素、窒化ホウ素、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、
硫酸カルシウム、硫酸バリウムなどが単独または組合せ
で使用される。微細で粒度がそろっているものとして、
α−酸化鉄、ゲ−タイト、酸化チタン、酸化亜鉛が好適
である。これら非磁性粉末の粒子サイズは０．０１〜１
μｍが好ましいが、必要に応じて粒子サイズの異なる非
磁性粉末を組み合わせたり、単独の非磁性粉末でも粒径
分布を広くして同様の効果をもたせることもできる。使
用する結合剤樹脂との相互作用を大きくし分散性を改良
するために、使用する非磁性粉末が表面処理されていて
もよい。表面処理により粒子表面に存在させる物として
は、シリカ、アルミナ、シリカ−アルミナなどの無機物
でも、カップリング剤により形成されるものでもよい。
タップ密度は０．３〜２ｇ／ｃｍ³、含水率は０．１〜
５質量％、ｐＨは２〜１１、比表面積は５〜１００ｍ²
／ｇ、が好ましい。前記非磁性粉末の形状は針状、球
状、サイコロ状、板状のいずれでも良い。

【００３７】非磁性粉末の具体的な例としては、昭和電
工製ナノタイト、住友化学製ＨＩＴ−１００、ＨＩＴ−
８０、戸田工業製α−酸化鉄ＤＰＮ−２５０ＢＸ、ＤＰ
Ｎ−２４５、ＤＰＮ−２７０ＢＸ、ＤＰＮ−５５０Ｂ
Ｘ、ＤＰＮ−５５０ＲＸ、ＤＢＮ−４５０ＢＸ、ＤＢＮ
−６５０ＲＸ、ＤＡＮ−８５０ＲＸ、石原産業製酸化チ
タンＴＴＯ−５１Ｂ、ＴＴＯ−５５Ａ、ＴＴＯ−５５
Ｂ、ＴＴＯ−５５Ｃ、ＴＴＯ−５５Ｓ、ＴＴＯ−５５
Ｄ、ＳＮ−１００、チタン工業製酸化チタンＳＴＴ−４
Ｄ、ＳＴＴ−３０Ｄ、ＳＴＴ−３０、ＳＴＴ−６５Ｃ、
テイカ製酸化チタンＭＴ−１００Ｓ、ＭＴ−１００Ｔ、
ＭＴ−１５０Ｗ、ＭＴ−５００Ｂ、ＭＴ−６００Ｂ、Ｍ
Ｔ−１００Ｆ、ＭＴ−５００ＨＤ、堺化学製ＦＩＮＥＸ
−２５、ＢＦ−１、ＢＦ−１０、ＢＦ−２０、ＳＴ−
Ｍ、同和鉱業製酸化鉄ＤＥＦＩＣ−Ｙ、ＤＥＦＩＣ−
Ｒ、日本アエロジル製ＡＳ２ＢＭ、ＴｉＯ２ Ｐ２５、
宇部興産製１００Ａ、５００Ａ、及びそれを焼成したも
のが挙げられる。

【００３８】上述のように支持体上に複数の塗布層を形
成させることは高記録密度の磁気記録媒体を製造するす
るうえで有効であり、同時塗布方式は超薄層の磁性層を
作り出すことができるので特に優れている。その同時塗
布方式、即ち、ウェット・オン・ウェット方式の具体的
な方法としては、

【００３９】（１）磁性塗料で一般的に用いられるグラ
ビア塗布、ロール塗布、ブレード塗布、エクストルージ
ョン塗布装置によりまず下層を塗布し、その層がまだ湿
潤状態にあるうちに、例えば、特公平１−４６１８６号
公報、特開昭６０−２３８１７９合公報及び特開平２−
２６５６７２号公報に開示されている支持体加圧型エク
ストルージョン塗布装置により上層を塗布する方法、

【００４０】（２）特開昭６３−８８０８０号公報、特
開平２−１７９７１号公報及び特開平２−２６５６７２
号公報に開示されているような塗布液通液スリットを二
つ内蔵した塗布ヘッドにより、下層の塗布液及び上層の
塗布液をほぼ同時に塗布する方法、

【００４１】（３）特開平２−１７４９６５号公報に開
示されているバックアップロール付きエクストルージョ
ン塗布装置により、上層及び下層をほぼ同時に塗布する
方法、等が挙げられる。

【００４２】ウェット・オン・ウェット方式で塗布する
場合、磁性層用塗布液と非磁性層用塗布液の流動特性は
できるだけ近い方が、塗布された磁性層と非磁性層の界
面の乱れがなく厚さが均一な厚み変動の少ない磁性層を
得ることができる。塗布液の流動特性は、塗布液中の粉
末粒子と結合剤樹脂の組み合わせに強く依存するので、
特に、非磁性層に使用する非磁性粉末の選択に留意する
必要がある。

【００４３】本磁気記録媒体の支持体は、通常、３〜１
００μｍ、テ−プ状で使用する時は望ましくは３〜２０
μｍ、フレキシブルディスクとして使用する場合は２５
〜８０μｍが好ましく、支持体上に設ける非磁性層は、
通常、０．５〜５．０μｍ、好ましくは０．５〜３μｍ
である。磁性層厚みは好ましくは０．０１〜０．５μ
ｍ、更に好ましくは０．０５〜０．３μｍである。ま
た、前記磁性層及び前記非磁性層以外の他の層を目的に
応じて形成することもできる。例えば、支持体と下層の
間に密着性向上のための下塗り層を設けてもかまわな
い。この厚みは通常、０．０１〜１μｍ、好ましくは
０．０５〜０．３μｍである。また、磁性層を担持する
面とは反対側の支持体面上にバック層を設けてもかまわ
ない。この厚みは通常、０．１〜１．０μｍ、好ましく
は０．３〜１．０μｍである。これらの下塗り層、バッ
ク層は公知のものが使用できる。円盤状磁気記録媒体の
場合、両面もしくは片面に上記磁性層を含む構成を設け
ることができる。

【００４４】本発明で使用される支持体には特に制限は
なく、通常使用されているものを用いることができる。
支持体を形成する素材の例としては、ポリエチレンテレ
フタレート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカー
ボネート、ポリエチレンナフタレート、ポリアミド、ポ
リアミドイミド、ポリイミド、ポリサルホン、ポリエー
テルサルホン等の各種合成樹脂のフィルム、およびアル
ミニウム箔、ステンレス箔などの金属箔を挙げることが
できる。

【００４５】本発明の目的を有効に達成するには、支持
体の表面粗さは、中心線平均表面粗さＲａ（カットオフ
値０．２５ｍｍ）で０．０３μｍ以下、望ましく０．０
２μｍ以下、さらに望ましく０．０１μｍ以下である。
また、これらの支持体は単に前記中心線平均表面粗さが
小さいだけではなく、１μｍ以上の粗大突起がないこと
が好ましい。また表面の粗さ形状は必要に応じて支持体
に添加されるフィラ−の大きさと量により自由にコント
ロ−ルされるものである。これらのフィラ−の一例とし
ては、Ｃａ，Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉなどの酸化物や炭酸塩の
他、アクリル系などの有機樹脂微粉末があげられる。本
発明に用いられる支持体のウエブ走行方向のＦ−５値は
好ましくは５〜５０ｋｇ／ｍｍ²（４９〜４９０ＭＰ
ａ）、ウエブ幅方向のＦ−５値は好ましくは３〜３０ｋ
ｇ／ｍｍ²（２９．４〜２９４ＭＰａ）であり、ウエブ
長い手方向のＦ−５値がウエブ幅方向のＦ−５値より高
いのが一般的であるが、特に幅方向の強度を高くする必
要があるときはその限りでない。

【００４６】また、支持体のウエブ走行方向および幅方
向の１００℃、３０分での熱収縮率は好ましくは３％以
下、さらに望ましくは１．５％以下、８０℃、３０分で
の熱収縮率は好ましくは１％以下、さらに望ましくは
０．５％以下である。破断強度は両方向とも５〜１００
ｋｇ／ｍｍ²（４９〜９８０ＭＰａ）、弾性率は１００
〜２０００ｋｇ／ｍｍ²（９８０〜１９６００ＭＰａ）
が望ましい。

【００４７】本発明で用いられる有機溶媒は任意の比率
でアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケ
トン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホ
ロン、テトラヒドロフラン等のケトン類、メタノ−ル、
エタノ−ル、プロパノ−ル、ブタノ−ル、イソブチルア
ルコ−ル、イソプロピルアルコール、メチルシクロヘキ
サノール、などのアルコ−ル類、酢酸メチル、酢酸ブチ
ル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、乳酸エチル、
酢酸グリコ−ル等のエステル類、グリコ−ルジメチルエ
ーテル、グリコールモノエチルエーテル、ジオキサン、
などのグリコールエーテル系、ベンゼン、トルエン、キ
シレン、クレゾール、クロルベンゼン、などの芳香族炭
化水素類、メチレンクロライド、エチレンクロライド、
四塩化炭素、クロロホルム、エチレンクロルヒドリン、
ジクロルベンゼン、等の塩素化炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジ
メチルホルムアミド、ヘキサン等のものが使用できる。
これら有機溶媒は必ずしも１００％純粋ではなく、主成
分以外に異性体、未反応物、副反応物、分解物、酸化
物、水分等の不純分がふくまれてもかまわない。これら
の不純分は３０％以下が好ましく、さらに好ましくは１
０％以下である。本発明で用いる有機溶媒は必要ならば
各層でその種類、量を変えてもかまわない。下層に揮発
性の高い溶媒をもちい表面性を向上させる、下層に表面
張力の高い溶媒（シクロヘキサノン、ジオキサンなど）
を用い塗布の安定性をあげる、磁性層に溶解性パラメ−
タの高い溶媒を用い充填度を上げるなどがその例として
あげられるがこれらの例に限られたものではないことは
無論である。

【００４８】本発明の磁気記録媒体は、前記強磁性粉末
と結合剤樹脂、及び必要ならば他の添加剤と共に有機溶
媒を用いて混練分散し、磁性塗料を支持体上に塗布し、
必要に応じて配向、乾燥して得られる。

【００４９】本発明の磁気記録媒体の磁性塗料、非磁性
塗料を製造する工程は、少なくとも混練工程、分散工
程、およびこれらの工程の前後に必要に応じて設けた混
合工程からなる。個々の工程はそれぞれ２段階以上にわ
かれていてもかまわない。本発明に使用する磁性体、非
磁性粉末、結合剤、カ−ボンブラック、研磨剤、帯電防
止剤、潤滑剤、溶剤などすべての原料はどの工程の最初
または途中で添加してもかまわない。また、個々の原料
を２つ以上の工程で分割して添加してもかまわない。例
えば、ポリウレタンを混練工程、分散工程、分散後の粘
度調整のための混合工程で分割して投入してもよい。

【００５０】磁性塗料の混練分散に当たっては各種の混
練機が使用される。例えば、二本ロールミル、三本ロー
ルミル、ボールミル、ペブルミル、トロンミル、サンド
グラインダー、ゼグバリ（Ｓｚｅｇｖａｒｉ）、アトラ
イター、高速インペラー分散機、高速ストーンミル、高
速衝撃ミル、ディスパー、ニーダー、高速ミキサー、ホ
モジナイザー、超音波分散機などを用いることができ
る。

【００５１】混練工程では連続ニ−ダや加圧ニ−ダなど
強い混練力をもつものを使用することが、磁気記録媒体
の高いＢｒを得る上で好ましい。連続ニ−ダまたは加圧
ニ−ダを用いる場合は磁性体と結合剤のすべてまたはそ
の一部（ただし全結合剤の３０％以上が好ましい）およ
び磁性体１００質量部に対し１５〜５００質量部の範囲
で混練処理される。これらの混練処理の詳細については
特開平１−１０６３３８号公報、特開昭６４−７９２７
４号公報に記載されている。本発明では、特開昭６２−
２１２９３３に示されるような同時重層塗布方式を用い
ることによりより効率的に生産することが出来る。

【００５２】本発明の磁気記録媒体の磁性層中に含まれ
る残留溶媒は好ましくは１００ｍｇ／ｍ²以下、さらに
好ましくは１０ｍｇ／ｍ²以下であり、磁性層に含まれ
る残留溶媒が非磁性層に含まれる残留溶媒より少ないほ
うが好ましい。

【００５３】磁性層が有する空隙率は下層、最上層とも
好ましくは３０容量％以下、さらに好ましくは１０容量
％以下である。非磁性層の空隙率が磁性層の空隙率より
大きいほうが好ましいが非磁性層の空隙率が５容量％以
上であれば小さくてもかまわない。

【００５４】本発明は、目的に応じ下層と磁性層でこれ
らの物理特性を変えることができるのは容易に推定され
ることである。例えば、磁性層の弾性率を高くし走行耐
久性を向上させると同時に下層の弾性率を磁性層より低
くして磁気記録媒体のヘッドへの当りを良くするなどで
ある。

【００５５】このような方法により、支持体上に塗布さ
れた磁性層等は必要により層中の強磁性粉末を配向させ
る処理を施したのち、形成した磁性層を乾燥する。又必
要により表面平滑化加工を施したり、所望の形状に裁断
したりして、本発明の磁気記録媒体を製造する。

【００５６】磁性層の０．５％伸びでの弾性率はウエブ
塗布方向、幅方向とも望ましくは１００〜２０００ｋｇ
／ｍｍ²（９８０〜１９６００ＭＰａ）、破断強度は望
ましくは１〜３０ｋｇ／ｃｍ²（９８〜２９４０ｋＰ
ａ）、磁気記録媒体の弾性率はウエブ塗布方向、幅方向
とも望ましくは１００〜１５００ｋｇ／ｍｍ²（９８０
〜１４７００ＭＰａ）、残留のびは望ましくは０．５％
以下、１００℃以下のあらゆる温度での熱収縮率は望ま
しくは１％以下、さらに望ましくは０．５％以下、もっ
とも望ましくは０．１％以下である。

【００５７】本発明の磁気記録媒体は、ビデオ用途、オ
ーディオ用途などのテープであってもデータ記録用途の
フロッピー（登録商標）ディスクや磁気ディスクであっ
てもよいが、ドロップアウトの発生による信号の欠落が
致命的となるデジタル記録用途の媒体に対しては特に有
効である。更に、非磁性層と磁性層の重層構成で、磁性
層の厚さを０．５μｍ以下とすることにより、電磁変換
特性が高い、オーバーライト特性が優れた、高密度で大
容量の磁気記録媒体を得ることができる。本発明の新規
な特長を以下の実施例で具体的に説明する。

【００５８】

【実施例】以下、本発明の具体的実施例を説明するが、
本発明はこれに限定されるものではない。 ＜六方晶系フェライト磁性粉の生成＞六方晶系フェライ
ト製造原料として、各種の化合物を酸化物換算で以下の
様に秤量した。下記成分の使用量Ｘ、Ｙ及びＺ並びに得
られた磁性粉（実施例１〜４、比較例１〜２）につい
て、表１に記載した。また、比較例３として、特開平８
−１１５５１８号公報に記載の磁性粉Ｆを併記した。

【００５９】 Ｂ₂Ｏ₃ ４．７モル ＢａＣＯ₃ １０．０モル Ｆｅ₂Ｏ₃ Ｘモル ＣｏＣＯ₃ ０．０５×Ｘモル ＺｎＯ Ｙモル Ｎｂ₂Ｏ₅ Ｚモル

【００６０】以上を粉末ミキサーにて十分混合した後、
攪拌機の付属したＰｔ−Ｒｈ製ルツボに入れ１３００〜
１３５０℃で２時間溶融し、回転しているステンレス製
冷却双ロール間に噴出させて非晶質体を得て，粉砕処理
を行った。次いで非晶質体を金属ベルト上に2ｃｍ厚に
ひろげ，600℃に保持した電気炉中に搬送し１時間保持
後，８５０℃に保持した電気炉中にただちに搬送し1時
間保持した。その後，室温の金属製ホッパーに処理物を
投入し，冷却し結晶粉末を得た。該結晶粉末を遊星ミル
により粉砕し2mol/lの酢酸水溶液に浸漬し、８０℃、５
時間保持しガラス成分を除去し，ろ別し微結晶を回収し
た。回収した微結晶を多量のイオン交換水で水洗し、脱
水した後１００℃で乾燥させ、更にマーラーにて圧密処
理を行い、強磁性粉末を得た。この強磁性粉末をＸ線回
折法で解析するとマグネトプランバイト構造を示した。
強磁性粉末を透過型電子顕微鏡観察し、平均粉体サイズ
を測定した。窒素中で250℃で３０分脱気処理し、ＢＥ
Ｔ法で比表面積を測定した。得られたバリウムフェライ
トの組成及び磁気特性を表１に示す。比較例２は実施例
1で得られた非晶質体を金属ベルト上に2ｃｍ厚にひろ
げ、600℃に保持した電気炉中に搬送し１時間保持後、
８５０℃に保持した電気炉中にただちに搬送し3時間保
持した。その後は実施例と同様の処理を行った。

【００６１】

【表１】

【００６２】＜塗料の作製＞実施例中、「部」との表示
は「重量部」を示す。 磁性液処方 １ バリウムフェライト（磁性粉表２に示す） １００部 結合剤樹脂 塩化ビニル共重合体 １２部 （−ＳＯ₃Ｋ基を１×１０^-4ｅｑ／ｇ含有、重合度 ３００） ポリエステルポリウレタン樹脂 4部 （ネオペンチルグリコール／カプロラクトンポリオール／ＭＤＩ ＝０．９／２．６／１、−ＳＯ₃Ｎａ基：１×１０^-4ｅｑ／ｇ含有 ） フェニルフォスフォン酸 ３部 α−アルミナ（平均粒子径：０．１５μｍ） ２部 カ−ボンブラック（平均粒子径：３０ｎｍ） ５部 ブチルステアレート １部 ステアリン酸 ２部 メチルエチルケトン １２５部 シクロヘキサノン １２５部

【００６３】 磁性液処方 ２ バリウムフェライト（磁性粉表２に示す） １００部 結合剤樹脂 塩化ビニル共重合体 １５部 （−ＳＯ₃Ｋ基を１×１０^-4ｅｑ／ｇ含有、重合度 ３００） ポリエステルポリウレタン樹脂 6部 （ネオペンチルグリコール／カプロラクトンポリオール／ＭＤＩ ＝０．９／２．６／１、−ＳＯ₃Ｎａ基：１×１０^-4ｅｑ／ｇ含有 ） フェニルフォスフォン酸 ３部 α−アルミナ（平均粒子径：０．１５μｍ） ２部 カ−ボンブラック（平均粒子径：３０ｎｍ） ５部 ブチルステアレート １部 ステアリン酸 ２部 メチルエチルケトン １２５部 シクロヘキサノン １２５部

【００６４】 非磁性液処方 針状ヘマタイト ８０部 （ＢＥＴ法による比表面積：５５m²/g、 平均長軸長：０．１０μｍ、平均針状比：７、 ｐＨ：８．８、アルミ処理：Al₂O₃として１質量％） カーボンブラック ２０部 （平均粒子径：１７ｎｍ、 ＤＢＰ及油量：８０ｍｌ／１００ｇ、 ＢＥＴ法による表面積：２４０ｍ²／ｇ、ｐＨ７．５） 結合剤樹脂 （−ＳＯ₃Ｋ基を１×１０^-4ｅｑ／ｇ含有、重合度 ３００） ポリエステルポリウレタン樹脂 ５部 （ネオペンチルグリコール／カプロラクトンポリオール／ＭＤＩ ＝０．９／２．６／１、−ＳＯ₃Ｎａ基：１×１０^-4ｅｑ／ｇ含有 ） フェニルフォスフォン酸 ３部 ブチルステアレート ３部 ステアリン酸 ３部 メチルエチルケトンとシクロヘキサノン１：１混合溶剤 ２８０部

【００６５】上記の磁性液処方１、２及び非磁性液処方
のそれぞれについて、顔料、ポリ塩化ビニル、フェニル
フォスフォン酸と処方量の５０質量％の各溶剤をニーダ
で混練したのち、ポリウレタン樹脂と残りの成分を加え
てサンドグラインダーで分散した。得られた分散液にイ
ソシアネートを非磁性液には１５部、磁性液には１４部
を加え、さらにそれぞれにシクロヘキサノン３０部を加
え、１μmの平均孔径を有するフィルターを用いて濾過
し、非磁性層形成用および磁性層形成用の塗布液をそれ
ぞれ調製した。

【００６６】＜テープの作成1；実施例11〜16，比較例1
1〜15＞得られた下層非磁性層用の塗布液を厚さ７μｍ
のポリエチレンテレフタレート支持体上に乾燥後の厚さ
が１．５μｍとなるように塗布し、さらにその直後下層
非磁性層用塗布層がまだ湿潤状態にあるうちに、その上
に磁性層の厚みが約０．１５μｍとなるように表２記載
の磁性液処方による磁性層用塗布液を用いて湿式同時重
層塗布を行い、両層がまだ湿潤状態にあるうちに配向装
置を通過させ長手配向した。この時の配向磁石は希土類
磁石（表面磁束500mT）を通過させた後ソレノイド磁石
（磁束密度500mT）中を通過させ、ソレノイド内で配向
が戻らない程度まで乾燥しさらに磁性層を乾燥し巻き取
った。その後金属ロールより構成される７段カレンダー
でロール温度を９０℃にしてカレンダー処理を施して、
ウェッブ状の磁気記録媒体を得、それを８ｍｍ幅にスリ
ットして８ｍｍビデオテープのサンプルを作成した。

【００６７】＜テープの作成2；実施例21，22，比較例2
1＞得られた下層非磁性層用の塗布液を厚さ７μｍのポ
リエチレンテレフタレート支持体上に乾燥後の厚さが
１．５μｍとなるように塗布し、さらにその直後下層非
磁性層用塗布層がまだ湿潤状態にあるうちに、磁性液処
方１による磁性層用塗布液を用いて磁性層の塗布量を変
化させることにより磁性層の厚みを変化させて湿式同時
重層塗布を行い、両層がまだ湿潤状態にあるうちに配向
装置を通過させ長手配向し，磁性層厚みを変化したサン
プルを作成した。この時の配向磁石は希土類磁石（表面
磁束500mT）を通過させた後ソレノイド磁石（磁束密度5
00mT）中を通過させ、ソレノイド内で配向が戻らない程
度まで乾燥しさらに磁性層を乾燥し巻き取った。その後
金属ロールより構成される７段カレンダーでロール温度
を９０℃にしてカレンダー処理を施して、ウェッブ状の
磁気記録媒体を得、それを８ｍｍ幅にスリットして８ｍ
ｍビデオテープのサンプルを作成した。

【００６８】＜テープの評価＞得られたサンプルを振動
試料型磁力計で測定した磁気特性、表面粗さ、電磁変換
特性を測定した。電磁変換特性の測定法は次の方法によ
った。データー記録用８ミリデッキにＭＩＧヘッド（ヘ
ッドギャップ０．２μｍ、トラック幅１７μｍ、飽和磁
束密度１．５Ｔ、アジマス角２０°）と再生用ＭＲヘッ
ド(SALバイアス、MR素子はFe-Ni、トラック幅６μm、ギ
ャップ長０．２μm、アジマス角２０°)を搭載した。Ｍ
ＩＧヘッドを用いて、テープとヘッドの相対速度を１
０．２ｍ／秒とし、１／２Ｔｂ（λ＝０．５μｍ）の入
出力特性から最適記録電流を決めこの電流で信号を記録
し、ＭＲヘッドで再生した。Ｃ／Ｎは再生キャリアのピ
ークから消磁ノイズまでとし、スペクトルアナライザー
の分解能バンド幅は１００ｋHzとした。比較例1１のテ
ープに対する特性で表わした。

【００６９】表面粗さは、ＷＹＫＯ社（ＵＳアリゾナ
州）製の光干渉３次元粗さ計「ＴＯＰＯ−３Ｄ」を使用
し２５０μｍ角の試料面積を測定した。測定値の算出に
あたっては、傾斜補正、球面補正、円筒補正等の補正を
ＪＩＳ−Ｂ６０１に従って実施し、中心面平均粗さＲａ
を表面粗さの値とした。得られたサンプルを振動試料型
磁力計を使用し磁気特性とレマネンス曲線、熱ゆらぎ磁
界（Hf）を測定した。さらに表面粗さ、電磁変換特性を
測定した。

【００７０】磁気特性は振動試料型磁力計（東英工業
製）を使用し外部磁界796kA/mで配向方向に平行に測定
した。東英工業製の振動試料型磁力計に磁気記録媒体の
測定サンプルの配向方向が磁場と同一方向になるように
セットし、AC消磁し残留磁化を０．０００５A・m²/kg以
下とし，7.96kA/mの磁界を印加したのち磁界をゼロのも
どし残留磁化Mrを測定し、7.96kA/mずつ印加磁界を変化
し、残留磁化を測定することを繰り返し、レマネンス曲
線Ir(H)を測定した。−796kA/m印加しＤＣ飽和させた後
に、磁場をゼロに戻し残留磁化(-Mrmax)を測定する。逆
方向に7.96kA/mの磁界を印加したのち磁界をゼロのもど
し残留磁化Mrを測定し、7.96kA/mずつ印加磁界を変化
し、残留磁化を測定することを繰り返し、レマネンス曲
線Id(H)を測定した。測定したレマネンス曲線Ir(H)とDC
消磁し測定したレマネンス曲線Id(H)より，各測定磁界
に対し，ΔＭ＝Id(H)-（1-2Ir(H)）で算出される。実施
例12，14，15、比較例11，13のΔＭを図1に示す．

【００７１】DC飽和磁化した後、テープHcと同じ磁界を
逆方向に印可し磁化の減衰を1000秒測定し、lnｔ(ｔは
時間；秒)に対する10〜1000秒間の磁化減衰の勾配（S）
を求めた。勾配（S）を残留磁化Mrで規格化し、磁化の
減衰勾配とした。レマネンス曲線より非可逆帯磁率χir
re(Hc付近の磁界強度の数値を使用)を求め、Hf=S/χirr
eより熱揺らぎ磁界（Hf）を算出した。Hfより活性化体
積Vaが次式で算出できる。Va=ｋT/(Ms・Hf)：ｋはボル
ツマン定数，Tは絶対温度，Msは体積あたりの飽和磁
化。Hfが小さいと、熱揺らぎに対し安定なので好まし
い。

【００７２】得られた特性を表２，３に示す。本発明に
よる微粒子六方晶フェライトを使用した媒体は，比較例
よりも体積が小さいことを反映してノイズレベルが低く
高C/Nであった。微粒子なので熱揺らぎが懸念されたが
ΔMを0.10以下とすることで、減衰勾配は実用されてい
るハードディスクと同等以上とすることができ、実用に
供することができる．

【００７３】

【表２】

【００７４】

【表３】

【００７５】

【発明の効果】本発明は、微細な六方晶フェライトを使
用しても磁化の安定性が従来よりも良好で、MRヘッドを
使用して再生したとき短波長出力とＣ／Ｎが良好な磁気
記録媒体を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】縦軸がΔＭを、横軸が磁界強度（ｋＡ／ｍ）を
示す。また、縦軸の「Ｅ−０１」は「×１０^-1」を示
し、他も同様の意味である。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 支持体上に非磁性粉末を結合剤中に分散
   させた非磁性層を設けこの上に強磁性粉末を結合剤中に
   分散してなる磁性層を設けた磁気記録媒体において、平
   均板径が10〜28nmである六方晶系フェライト磁性粉を含
   有する磁性層を有し、かつ該磁性粉を含有する磁性層に
   おいて、抗磁力Ｈｃが135〜400kA/mであり、該Ｈｃと異
   方性磁界Ｈｋの比Ｈｃ／Ｈｋが0.3〜0.6であり、ΔMの
   最大値が0〜0.10である事を特徴とする磁気記録媒体。
2. 【請求項２】 前記磁性層の厚みが0.01〜0.5μｍ、残
   留磁束密度×磁性層厚みが5〜100ｍT・μmである事を特
   徴とする請求項１記載の磁気記録媒体。