JP2002071586A - 二次元走査x線分析装置 - Google Patents
二次元走査x線分析装置Info
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Abstract
ことなく、低コストで実現することができる二次元走査
X線分析装置を提供する。 【解決手段】 試料にX線を照射するためのX線照射部
2と、二次X線を検出するためのX線検出部3とを備え
た二次元走査X線分析装置Dであって、前記X線照射部
2を、一端部が固定された板状体5の他端部によって支
持させ、さらに、この板状体5に付勢を加えて変形させ
るための付勢手段6を設けた。
Description
分析装置に関する。
Y方向に動かすことが可能な試料台に設置された試料に
対して、X線管と、XGT(X線ガイドチューブ)また
はコリメータとからなるX線照射部よりX線を照射する
ことで得られる透過,螢光,回折あるいは散乱X線を、
それぞれ適当なX線検出器で検出し、XY走査信号で同
期複像していた。
らなる従来の二次元走査X線分析装置では、試料台をX
Y方向に動かして分析を行っていたが、例えば、試料台
に設置した試料が、速く動かすと形などが崩れて支障が
生じるもの(例えば、腹部を開口した状態の生体)や液
状のもの、重量物などであった場合には、試料台を低速
で動かして分析を行っていたことから、分析時間が長く
なることとなっていた。また、前記試料台を高速で動か
そうとすれば、パワーのあるモータが必要となるだけで
なく、分析精度が悪くなるおそれがあり、さらに、この
分析精度の改善を行おうとすれば、コストの飛躍的な上
昇を伴うため、前記試料台の高速化を図ることはかなり
困難であった。
もので、その目的は、分析時間の短縮化を、分析精度を
低下させることなく、低コストで実現することができる
二次元走査X線分析装置を提供することにある。
に、この発明の二次元走査X線分析装置は、試料にX線
を照射するためのX線照射部と、二次X線を検出するた
めのX線検出部とを備えた二次元走査X線分析装置であ
って、前記X線照射部を、一端部が固定された板状体の
他端部によって支持させ、さらに、この板状体に付勢を
加えて変形させるための付勢手段を設けた(請求項
1)。
に対してそれぞれの先端が固定される一対のピエゾ圧電
素子からなり、一方のピエゾ圧電素子が、他方のピエゾ
圧電素子よりも板状体の前記一端部に近い位置において
その先端が固定されているとしてもよい(請求項2)。
保持体を、板状体の変形する方向と垂直であって、かつ
前記試料の外面と平行な方向に移動可能としてあるとし
てもよい(請求項3)。
分析精度を低下させることなく、低コストで実現するこ
とができる二次元走査X線分析装置の提供が可能とな
る。
参照しながら説明する。図1および図2は、本発明の一
実施例に係る二次元走査X線分析装置(以下、分析装置
という)Dの構成を概略的に示す斜視図および説明図で
あり、図3は、前記分析装置Dの構成を概略的に示す部
分拡大斜視図である。分析装置Dは、試料(図示せず)
を設置するための試料台1と、前記試料にX線を照射す
るためのX線照射部2と、二次X線を検出するためのX
線検出部3とを備えており、前記X線照射部2は、一端
部が保持体4に固定された板状体5の他端部によって支
持されており、さらに、この板状体5に付勢を加えて変
形させるための付勢手段6が設けられている。
であり、中央に切り欠き部1aを有している。なお、試
料台1の構造や試料の設置方法は、適宜に設定すればよ
い。
管2aと、X線集束手段2bとを一体にしてなる。前記
X線集束手段2bは、例えば、XGT(X線ガイドチュ
ーブ)や、コリメータなどである。
して試料を透過した透過X線を検出するNaI(Ti)
検出器又は半導体検出器である。なお、X線検出器3が
検出する二次X線は、前記透過X線のみならず、螢光X
線,回折X線あるいは散乱X線などでもよく、前記X線
検出器3は、検出しようとする二次X線に応じた検出器
を適宜の位置に配置すればよい。また、異なる種類のX
線検出器3を複数用いてもよい。
ムなどの剛性を有する材料によって形成されており、前
記試料台1と平行な平行部分7と、この平行部分7の前
後両端部から下方へ突設された二つの突出部分8,8と
からなる。そして、前記平行部分7の下面のほぼ中央に
は、溝7aが左右方向に設けられており、この溝7a内
には、前記板状体5の前記一端部がバネ等の固定部材5
aによって固定されている。
ば、前記平行部分7の上面部)にはボールネジ部4aが
設けられており、このボールネジ部4aが、モータ9に
よって軸心回りに自在に回転させることができる雄ねじ
体9aに沿って動くように構成されている。そして、こ
れにより、前記保持体4は、前記板状体5の変形する方
向と垂直であって、かつ前記試料台1の上面と平行な方
向(例えば分析装置Dの左右方向)に移動可能となって
いる。なお、上記のように保持体4を移動させるための
手段としては、ボールネジ部4aと雄ねじ体9aとを用
いたものに限らない。
9aやモータ9などを備えた枠体10は、支持アーム1
1の上端部に固定されており、前記X線検出器3は、前
記支持アーム11の下端部に固定されている。そして、
前記試料台1は、前記枠体10とX線検出器3との間に
配置された状態で支持アーム11に固定されている。な
お、前記試料台1は、支持アーム11に対してその位置
調整(高さ調整など)ができるように固定されていても
よい。
高い材料(例えば、鋼鉄など)から形成された、ほぼ矩
形状の薄板体である。
対してそれぞれの先端が固定される一対のピエゾ圧電素
子6a,6bからなり、一方のピエゾ圧電素子6aが、
他方のピエゾ圧電素子6bよりも板状体5の保持体4に
固定された前記一端部に近い位置においてその先端が固
定されている。また、前記ピエゾ圧電素子6a,6bの
それぞれの後端は、前記保持体4の突出部分8,8によ
って保持されている。
れ、電圧のオン・オフや、電圧の大きさを調整すること
によって、伸縮させることができるものである。
に対して一方向および他方向に付勢を加えた状態の構成
を概略的に示す説明図である。初期状態にある前記ピエ
ゾ圧電素子6a,6bのうち、ピエゾ圧電素子6bのみ
を伸ばすと、図4(A)に実線で示すように、前記板状
体5は、変形していない状態(その下端が下方を向いた
状態)から、一方向に付勢が加えられて、その下端が図
面左側に向いた状態となる。そして、さらに、初期状態
にあった前記ピエゾ圧電素子6aを伸ばすと、図4
(A)に二点鎖線で示すように、板状体5の下端はさら
に図面左側に向いた状態となる。
6a,6bのうち、ピエゾ圧電素子6bのみを縮ませる
と、図4(B)に実線で示すように、前記板状体5は、
変形していない状態(その下端が下方を向いた状態)か
ら、他方向に付勢が加えられて、その下端が図面右側に
曲いた状態となる。そして、さらに、初期状態にあった
前記ピエゾ圧電素子6aを縮ませると、図4(B)に二
点鎖線で示すように、板状体5の下端はさらに図面右側
に向いた状態となる。
縮は、電圧を調整することによって高速で行わせること
ができ、前記板状体5の変形も高速で行わせることがで
きるのである。
料台1に設置された試料の分析を行うには、前記付勢手
段6によって、X線照射部2を支持した板状体5を分析
装置Dの前後方向(試料のX方向)に高速で円弧状に振
らせながら(振幅運動させながら)、保持体4を分析装
置Dの左右方向(試料のY方向)に適宜の速度で移動さ
せる。そして、このとき、前記X線照射部2からのX線
が試料に照射されることによって生じた二次X線を、前
記X線検出器3で検出させ、XY走査信号で同期複像す
るだけでよい。
の分析を、X線照射部2を試料のX方向に高速で振らせ
ながら試料のY方向へ適宜の速度で移動させることで行
うことができるのであり、これにより、分析時間の短縮
化を図ることができ、また、試料自体は静止した状態に
保たれることから、分析の高速化によって分析精度が低
下するということがなく、ひいては分析時間の短縮化を
低コストで実現することができるのである。
は、試料の分析を試料を動かすことなく静止させた状態
で行うことができるため、分析対象とする試料が、例え
ば、速く動かすと形などが崩れて支障が生じるもの(例
えば、腹部を開口した状態の小動物などの生体)や液状
のもの、重量物などであっても、その分析を高速で行う
ことが可能であり、さらに、X線検出器3の配置などを
適宜に変えることによって、側壁や天井等に設けられた
文化財など、特定の場所から動かせないものを試料とし
て分析する場合にも、その文化財などがある現地にて、
直接、そして対象とする文化財などの試料を傷つけるこ
となく分析することができ、汎用性に優れたものとな
る。
は、前記付勢手段6を一対のピエゾ圧電素子6a,6b
からなるとしているが、前記ピエゾ圧電素子6a,6b
のいずれか一方のみを用いるようにしてもよい。
では、X線照射部2を、分析装置Dの前後方向に高速で
振らせながら(振幅運動させながら)分析装置Dの左右
方向に適宜の速度で移動させるとしているが、このよう
な構成に限るものではなく、例えば、X線照射部2を、
分析装置Dの左右方向に高速で振らせながら(振幅運動
させながら)分析装置Dの前後方向に適宜の速度で移動
させるとしてもよい。
る本発明によれば、分析時間の短縮化を、分析精度を低
下させることなく、低コストで実現することができる二
次元走査X線分析装置の提供が可能となる。
置の構成を概略的に示す斜視図である。
る。
図である。
状体に対して一方向および他方向に付勢を加えた状態の
構成を概略的に示す説明図である。
勢手段、D…二次元走査X線分析装置。
Claims (3)
- 【請求項1】 試料にX線を照射するためのX線照射部
と、二次X線を検出するためのX線検出部とを備えた二
次元走査X線分析装置であって、前記X線照射部を、一
端部が固定された板状体の他端部によって支持させ、さ
らに、この板状体に付勢を加えて変形させるための付勢
手段を設けたことを特徴とする二次元走査X線分析装
置。 - 【請求項2】 前記付勢手段が、前記板状体の両面に対
してそれぞれの先端が固定される一対のピエゾ圧電素子
からなり、一方のピエゾ圧電素子が、他方のピエゾ圧電
素子よりも板状体の前記一端部に近い位置においてその
先端が固定されている請求項1に記載の二次元走査X線
分析装置。 - 【請求項3】 前記板状体の一端部が固定された保持体
を、板状体の変形する方向と垂直であって、かつ前記試
料の外面と平行な方向に移動可能としてある請求項1ま
たは2に記載の二次元走査X線分析装置。
Priority Applications (1)
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---|---|---|---|
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007523341A (ja) * | 2004-02-20 | 2007-08-16 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | X線蛍光マーカー分布のマッピング装置及び方法 |
WO2020084890A1 (ja) * | 2018-10-25 | 2020-04-30 | 株式会社堀場製作所 | X線分析装置及びx線発生ユニット |
JP2023505662A (ja) * | 2019-12-11 | 2023-02-10 | 同方威視技術股▲分▼有限公司 | 放射線源コンポーネントの調節位置決め装置及び方法並びに放射走査結像機器 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6144399B2 (ja) * | 1979-12-14 | 1986-10-02 | Hitachi Medical Corp | |
JPS625332A (ja) * | 1985-07-01 | 1987-01-12 | 松下電器産業株式会社 | X線照射装置 |
JPH0247600Y2 (ja) * | 1985-05-02 | 1990-12-13 |
-
2000
- 2000-09-01 JP JP2000265466A patent/JP4505116B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6144399B2 (ja) * | 1979-12-14 | 1986-10-02 | Hitachi Medical Corp | |
JPH0247600Y2 (ja) * | 1985-05-02 | 1990-12-13 | ||
JPS625332A (ja) * | 1985-07-01 | 1987-01-12 | 松下電器産業株式会社 | X線照射装置 |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007523341A (ja) * | 2004-02-20 | 2007-08-16 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | X線蛍光マーカー分布のマッピング装置及び方法 |
JP4825687B2 (ja) * | 2004-02-20 | 2011-11-30 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | X線蛍光マーカー分布のマッピング装置及び方法 |
WO2020084890A1 (ja) * | 2018-10-25 | 2020-04-30 | 株式会社堀場製作所 | X線分析装置及びx線発生ユニット |
JPWO2020084890A1 (ja) * | 2018-10-25 | 2021-09-16 | 株式会社堀場製作所 | X線分析装置及びx線発生ユニット |
US11467107B2 (en) | 2018-10-25 | 2022-10-11 | Horiba, Ltd. | X-ray analysis apparatus and x-ray generation unit |
JP7270637B2 (ja) | 2018-10-25 | 2023-05-10 | 株式会社堀場製作所 | X線分析装置及びx線発生ユニット |
JP2023505662A (ja) * | 2019-12-11 | 2023-02-10 | 同方威視技術股▲分▼有限公司 | 放射線源コンポーネントの調節位置決め装置及び方法並びに放射走査結像機器 |
JP7446428B2 (ja) | 2019-12-11 | 2024-03-08 | 同方威視技術股▲分▼有限公司 | 放射線源コンポーネントの調節位置決め装置及び方法並びに放射走査結像機器 |
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