JP2002071586A - 二次元走査x線分析装置 - Google Patents

二次元走査x線分析装置

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JP2002071586A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 分析時間の短縮化を、分析精度を低下させる
ことなく、低コストで実現することができる二次元走査
X線分析装置を提供する。 【解決手段】 試料にX線を照射するためのX線照射部
2と、二次X線を検出するためのX線検出部3とを備え
た二次元走査X線分析装置Dであって、前記X線照射部
2を、一端部が固定された板状体5の他端部によって支
持させ、さらに、この板状体5に付勢を加えて変形させ
るための付勢手段6を設けた。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、二次元走査X線
分析装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来の二次元走査X線分析装置では、X
Y方向に動かすことが可能な試料台に設置された試料に
対して、X線管と、XGT(X線ガイドチューブ)また
はコリメータとからなるX線照射部よりX線を照射する
ことで得られる透過,螢光,回折あるいは散乱X線を、
それぞれ適当なX線検出器で検出し、XY走査信号で同
期複像していた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記の構成か
らなる従来の二次元走査X線分析装置では、試料台をX
Y方向に動かして分析を行っていたが、例えば、試料台
に設置した試料が、速く動かすと形などが崩れて支障が
生じるもの(例えば、腹部を開口した状態の生体)や液
状のもの、重量物などであった場合には、試料台を低速
で動かして分析を行っていたことから、分析時間が長く
なることとなっていた。また、前記試料台を高速で動か
そうとすれば、パワーのあるモータが必要となるだけで
なく、分析精度が悪くなるおそれがあり、さらに、この
分析精度の改善を行おうとすれば、コストの飛躍的な上
昇を伴うため、前記試料台の高速化を図ることはかなり
困難であった。
【0004】この発明は上述の事柄に留意してなされた
もので、その目的は、分析時間の短縮化を、分析精度を
低下させることなく、低コストで実現することができる
二次元走査X線分析装置を提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、この発明の二次元走査X線分析装置は、試料にX線
を照射するためのX線照射部と、二次X線を検出するた
めのX線検出部とを備えた二次元走査X線分析装置であ
って、前記X線照射部を、一端部が固定された板状体の
他端部によって支持させ、さらに、この板状体に付勢を
加えて変形させるための付勢手段を設けた(請求項
1)。
【0006】また、前記付勢手段が、前記板状体の両面
に対してそれぞれの先端が固定される一対のピエゾ圧電
素子からなり、一方のピエゾ圧電素子が、他方のピエゾ
圧電素子よりも板状体の前記一端部に近い位置において
その先端が固定されているとしてもよい(請求項2)。
【0007】さらに、前記板状体の一端部が固定された
保持体を、板状体の変形する方向と垂直であって、かつ
前記試料の外面と平行な方向に移動可能としてあるとし
てもよい(請求項3)。
【0008】上記の構成により、分析時間の短縮化を、
分析精度を低下させることなく、低コストで実現するこ
とができる二次元走査X線分析装置の提供が可能とな
る。
【0009】
【発明の実施の形態】以下、この発明の実施例を、図を
参照しながら説明する。図1および図2は、本発明の一
実施例に係る二次元走査X線分析装置(以下、分析装置
という)Dの構成を概略的に示す斜視図および説明図で
あり、図3は、前記分析装置Dの構成を概略的に示す部
分拡大斜視図である。分析装置Dは、試料(図示せず)
を設置するための試料台1と、前記試料にX線を照射す
るためのX線照射部2と、二次X線を検出するためのX
線検出部3とを備えており、前記X線照射部2は、一端
部が保持体4に固定された板状体5の他端部によって支
持されており、さらに、この板状体5に付勢を加えて変
形させるための付勢手段6が設けられている。
【0010】前記試料台1は、例えば、平面視が矩形状
であり、中央に切り欠き部1aを有している。なお、試
料台1の構造や試料の設置方法は、適宜に設定すればよ
い。
【0011】前記X線照射部2は、X線を発生するX線
管2aと、X線集束手段2bとを一体にしてなる。前記
X線集束手段2bは、例えば、XGT(X線ガイドチュ
ーブ)や、コリメータなどである。
【0012】前記X線検出器3は、例えば、二次X線と
して試料を透過した透過X線を検出するNaI(Ti)
検出器又は半導体検出器である。なお、X線検出器3が
検出する二次X線は、前記透過X線のみならず、螢光X
線,回折X線あるいは散乱X線などでもよく、前記X線
検出器3は、検出しようとする二次X線に応じた検出器
を適宜の位置に配置すればよい。また、異なる種類のX
線検出器3を複数用いてもよい。
【0013】前記保持体4は、例えば軟鉄・アルミニウ
ムなどの剛性を有する材料によって形成されており、前
記試料台1と平行な平行部分7と、この平行部分7の前
後両端部から下方へ突設された二つの突出部分8,8と
からなる。そして、前記平行部分7の下面のほぼ中央に
は、溝7aが左右方向に設けられており、この溝7a内
には、前記板状体5の前記一端部がバネ等の固定部材5
aによって固定されている。
【0014】また、前記保持体4の適宜の箇所(例え
ば、前記平行部分7の上面部)にはボールネジ部4aが
設けられており、このボールネジ部4aが、モータ9に
よって軸心回りに自在に回転させることができる雄ねじ
体9aに沿って動くように構成されている。そして、こ
れにより、前記保持体4は、前記板状体5の変形する方
向と垂直であって、かつ前記試料台1の上面と平行な方
向(例えば分析装置Dの左右方向)に移動可能となって
いる。なお、上記のように保持体4を移動させるための
手段としては、ボールネジ部4aと雄ねじ体9aとを用
いたものに限らない。
【0015】前記保持体4を移動させるための雄ねじ体
9aやモータ9などを備えた枠体10は、支持アーム1
1の上端部に固定されており、前記X線検出器3は、前
記支持アーム11の下端部に固定されている。そして、
前記試料台1は、前記枠体10とX線検出器3との間に
配置された状態で支持アーム11に固定されている。な
お、前記試料台1は、支持アーム11に対してその位置
調整(高さ調整など)ができるように固定されていても
よい。
【0016】前記板状体5は、前記保持体よりも剛性の
高い材料(例えば、鋼鉄など)から形成された、ほぼ矩
形状の薄板体である。
【0017】前記付勢手段6は、前記板状体5の両面に
対してそれぞれの先端が固定される一対のピエゾ圧電素
子6a,6bからなり、一方のピエゾ圧電素子6aが、
他方のピエゾ圧電素子6bよりも板状体5の保持体4に
固定された前記一端部に近い位置においてその先端が固
定されている。また、前記ピエゾ圧電素子6a,6bの
それぞれの後端は、前記保持体4の突出部分8,8によ
って保持されている。
【0018】前記ピエゾ圧電素子6a,6bはそれぞ
れ、電圧のオン・オフや、電圧の大きさを調整すること
によって、伸縮させることができるものである。
【0019】図4(A)および(B)は、前記板状体5
に対して一方向および他方向に付勢を加えた状態の構成
を概略的に示す説明図である。初期状態にある前記ピエ
ゾ圧電素子6a,6bのうち、ピエゾ圧電素子6bのみ
を伸ばすと、図4(A)に実線で示すように、前記板状
体5は、変形していない状態(その下端が下方を向いた
状態)から、一方向に付勢が加えられて、その下端が図
面左側に向いた状態となる。そして、さらに、初期状態
にあった前記ピエゾ圧電素子6aを伸ばすと、図4
(A)に二点鎖線で示すように、板状体5の下端はさら
に図面左側に向いた状態となる。
【0020】一方、初期状態にある前記ピエゾ圧電素子
6a,6bのうち、ピエゾ圧電素子6bのみを縮ませる
と、図4(B)に実線で示すように、前記板状体5は、
変形していない状態(その下端が下方を向いた状態)か
ら、他方向に付勢が加えられて、その下端が図面右側に
曲いた状態となる。そして、さらに、初期状態にあった
前記ピエゾ圧電素子6aを縮ませると、図4(B)に二
点鎖線で示すように、板状体5の下端はさらに図面右側
に向いた状態となる。
【0021】なお、前記ピエゾ圧電素子6a,6bの伸
縮は、電圧を調整することによって高速で行わせること
ができ、前記板状体5の変形も高速で行わせることがで
きるのである。
【0022】上記の構成からなる分析装置Dを用いて試
料台1に設置された試料の分析を行うには、前記付勢手
段6によって、X線照射部2を支持した板状体5を分析
装置Dの前後方向(試料のX方向)に高速で円弧状に振
らせながら(振幅運動させながら)、保持体4を分析装
置Dの左右方向(試料のY方向)に適宜の速度で移動さ
せる。そして、このとき、前記X線照射部2からのX線
が試料に照射されることによって生じた二次X線を、前
記X線検出器3で検出させ、XY走査信号で同期複像す
るだけでよい。
【0023】上記の構成からなる分析装置Dでは、試料
の分析を、X線照射部2を試料のX方向に高速で振らせ
ながら試料のY方向へ適宜の速度で移動させることで行
うことができるのであり、これにより、分析時間の短縮
化を図ることができ、また、試料自体は静止した状態に
保たれることから、分析の高速化によって分析精度が低
下するということがなく、ひいては分析時間の短縮化を
低コストで実現することができるのである。
【0024】また、上記の構成からなる分析装置Dで
は、試料の分析を試料を動かすことなく静止させた状態
で行うことができるため、分析対象とする試料が、例え
ば、速く動かすと形などが崩れて支障が生じるもの(例
えば、腹部を開口した状態の小動物などの生体)や液状
のもの、重量物などであっても、その分析を高速で行う
ことが可能であり、さらに、X線検出器3の配置などを
適宜に変えることによって、側壁や天井等に設けられた
文化財など、特定の場所から動かせないものを試料とし
て分析する場合にも、その文化財などがある現地にて、
直接、そして対象とする文化財などの試料を傷つけるこ
となく分析することができ、汎用性に優れたものとな
る。
【0025】なお、上記の構成からなる分析装置Dで
は、前記付勢手段6を一対のピエゾ圧電素子6a,6b
からなるとしているが、前記ピエゾ圧電素子6a,6b
のいずれか一方のみを用いるようにしてもよい。
【0026】また、前記上記の構成からなる分析装置D
では、X線照射部2を、分析装置Dの前後方向に高速で
振らせながら(振幅運動させながら)分析装置Dの左右
方向に適宜の速度で移動させるとしているが、このよう
な構成に限るものではなく、例えば、X線照射部2を、
分析装置Dの左右方向に高速で振らせながら(振幅運動
させながら)分析装置Dの前後方向に適宜の速度で移動
させるとしてもよい。
【0027】
【発明の効果】以上説明したように、上記の構成からな
る本発明によれば、分析時間の短縮化を、分析精度を低
下させることなく、低コストで実現することができる二
次元走査X線分析装置の提供が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例に係る二次元走査X線分析装
置の構成を概略的に示す斜視図である。
【図2】上記実施例の構成を概略的に示す説明図であ
る。
【図3】上記実施例の構成を概略的に示す部分拡大斜視
図である。
【図4】(A)および(B)は、上記実施例における板
状体に対して一方向および他方向に付勢を加えた状態の
構成を概略的に示す説明図である。
【符号の説明】
2…X線照射部、3…X線検出部、5…板状体、6…付
勢手段、D…二次元走査X線分析装置。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 試料にX線を照射するためのX線照射部
    と、二次X線を検出するためのX線検出部とを備えた二
    次元走査X線分析装置であって、前記X線照射部を、一
    端部が固定された板状体の他端部によって支持させ、さ
    らに、この板状体に付勢を加えて変形させるための付勢
    手段を設けたことを特徴とする二次元走査X線分析装
    置。
  2. 【請求項2】 前記付勢手段が、前記板状体の両面に対
    してそれぞれの先端が固定される一対のピエゾ圧電素子
    からなり、一方のピエゾ圧電素子が、他方のピエゾ圧電
    素子よりも板状体の前記一端部に近い位置においてその
    先端が固定されている請求項1に記載の二次元走査X線
    分析装置。
  3. 【請求項3】 前記板状体の一端部が固定された保持体
    を、板状体の変形する方向と垂直であって、かつ前記試
    料の外面と平行な方向に移動可能としてある請求項1ま
    たは2に記載の二次元走査X線分析装置。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007523341A (ja) * 2004-02-20 2007-08-16 コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ X線蛍光マーカー分布のマッピング装置及び方法
WO2020084890A1 (ja) * 2018-10-25 2020-04-30 株式会社堀場製作所 X線分析装置及びx線発生ユニット
JP2023505662A (ja) * 2019-12-11 2023-02-10 同方威視技術股▲分▼有限公司 放射線源コンポーネントの調節位置決め装置及び方法並びに放射走査結像機器

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6144399B2 (ja) * 1979-12-14 1986-10-02 Hitachi Medical Corp
JPS625332A (ja) * 1985-07-01 1987-01-12 松下電器産業株式会社 X線照射装置
JPH0247600Y2 (ja) * 1985-05-02 1990-12-13

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6144399B2 (ja) * 1979-12-14 1986-10-02 Hitachi Medical Corp
JPH0247600Y2 (ja) * 1985-05-02 1990-12-13
JPS625332A (ja) * 1985-07-01 1987-01-12 松下電器産業株式会社 X線照射装置

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007523341A (ja) * 2004-02-20 2007-08-16 コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ X線蛍光マーカー分布のマッピング装置及び方法
JP4825687B2 (ja) * 2004-02-20 2011-11-30 コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ X線蛍光マーカー分布のマッピング装置及び方法
WO2020084890A1 (ja) * 2018-10-25 2020-04-30 株式会社堀場製作所 X線分析装置及びx線発生ユニット
JPWO2020084890A1 (ja) * 2018-10-25 2021-09-16 株式会社堀場製作所 X線分析装置及びx線発生ユニット
US11467107B2 (en) 2018-10-25 2022-10-11 Horiba, Ltd. X-ray analysis apparatus and x-ray generation unit
JP7270637B2 (ja) 2018-10-25 2023-05-10 株式会社堀場製作所 X線分析装置及びx線発生ユニット
JP2023505662A (ja) * 2019-12-11 2023-02-10 同方威視技術股▲分▼有限公司 放射線源コンポーネントの調節位置決め装置及び方法並びに放射走査結像機器
JP7446428B2 (ja) 2019-12-11 2024-03-08 同方威視技術股▲分▼有限公司 放射線源コンポーネントの調節位置決め装置及び方法並びに放射走査結像機器

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