JP2002054761A - 流体制御バルブ - Google Patents

流体制御バルブ

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 金属製の弁体で金属製の弁座をシールするた
めに必要な推力を確保しつつ小型化を図ったアクチュエ
ータを有する流体制御バルブを提供すること。 【解決手段】 出力用コイルバネ19の付勢力をレバー
16などの梃子機構で増加させて作用させることによ
り、ロッド21に前進方向(弁本体3側)の推力を発生
させて、金属製のダイヤフラム26を金属製の弁座27
に密着させる。これにより、金属製のダイヤフラム26
で金属製の弁座27をシールするために必要な推力を確
保されるとともに、出力用コイルバネ19の外径を小さ
くできる余地が生まれる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、金属製の弁体を金
属製の弁座に密着・離間させる流体制御バルブに関す
る。
【0002】
【従来の技術】従来、半導体製造装置に使用される流体
制御バルブのうち、高温の流体を制御するものについて
は、熱負荷に対抗するため、殆どの部材を金属材料で製
作している。従って、金属製の弁体を金属製の弁座に密
着させて、金属製の弁体で金属製の弁座をシールするた
めには、金属製の弁体を金属製の弁座に強く押しつける
必要がある。
【0003】そこで、例えば、図9や図10に示された
流体制御弁においては、金属製の弁体を金属製の弁座に
強く押しつけるために、特開平9−26052に記載さ
れたアクチュエータを駆動部として使用している。
【0004】ここで、図9と図10について説明する
と、図9と図10に示された流体制御弁は、金属製の弁
体として、金属製のダイヤフラム114を使用したもの
である。そして、図9において、アクチュエータ100
のハウジングキャップ101の高圧空気導入口102よ
り、空気室103に高圧空気を導入させると、ピストン
105が押し出され、これにより、カム106の他端の
ローラ107が押されてピン108を中心に回動し、図
10に示すように、カム106の一端がフランジ109
を押して、軸110をピストン105の押出方向とは逆
の方向に移動させる。これにより、軸110と結合され
ているステム111がスプリング112に抗して一体に
移動するので、ダイヤフラム押し込みピース113の押
圧力がそう失し、その結果、ダイヤフラム114は自身
の弾性復元力によって弁座115から離間するので、ガ
ス流入通路116とガス流出通路117が相互に連通
し、弁開状態となる。
【0005】一方、空気室103から高圧空気を排出さ
せると、ピストン105を押し出す力が無くなり、カム
106の他端のローラ107が解放されるので、図9に
示すように、軸110と一体のステム111がスプリン
グ112の復元力により弁本体118側に移動し、その
ため、ダイヤフラム押し込みピース113が押圧される
ので、ダイヤフラム114が弁座115に圧接し、弁閉
状態となる。
【0006】すなわち、図9や図10に示された流体制
御弁においては、ステム111に対し、スプリング11
2の復元力を弁本体118側へ直接に作用させることに
より、金属製のダイヤフラム114を金属製の弁座11
5に強く押しつけていた。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図9や
図10に示された流体制御弁においては、カム106、
ローラ107、ピン108などで構成される梃子機構
が、金属製のダイヤフラム114を金属製の弁座115
に強く押しつけるための手段としてでなく、金属製のダ
イヤフラム114を金属製の弁座115から離間させる
際に、上述したスプリング112の復元力に対抗する手
段として用いられている。
【0008】従って、金属製のダイヤフラム114で金
属製の弁座115をシールするために必要な推力を、ス
テム111に直接に作用するスプリング112の復元力
のみで確保しており、そのため、スプリング112の外
径の最小化に限界が生じ、アクチュエータ100の小型
化を妨げる大きな要因になっていた。
【0009】そこで、本発明は、上述した問題点を解決
するためになされたものであり、金属製の弁体で金属製
の弁座をシールするために必要な推力(以下、「シール
推力」という)を確保しつつ小型化を図ったアクチュエ
ータを有する流体制御バルブを提供することを課題とす
る。
【0010】
【課題を解決するための手段】この課題を解決するため
に成された請求項1に係る発明は、流体制御バルブであ
って、梃子機構のレバーの一端部に出力用コイルバネの
付勢力が作用することにより、前記レバーの他端部と係
合するロッドを前進させる一方、駆動源の圧力を受けた
ピストンが移動して、前記出力用コイルバネを圧縮させ
ることにより、前記レバーの一端部を前記出力用コイル
バネの付勢力から解放するとともに、復帰用コイルバネ
の付勢力により、前記ロッドを後退させるアクチュエー
タを有し、前記アクチュエータにより、金属製の弁体を
金属製の弁座に密着・離間させること、を特徴としてい
る。
【0011】また、請求項2に係る発明は、請求項1に
記載する流体制御バルブにおいて、前記弁体がダイヤフ
ラムであること、を特徴とする流体制御バルブ。
【0012】また、請求項3に係る発明は、請求項1又
は請求項2に記載する流体制御バルブにおいて、半導体
製造装置に使用されること、を特徴としている。
【0013】このような特徴を有する本発明の流体制御
バルブは、レバーなどを有する梃子機構、ピストン、ロ
ッド、出力用コイルバネ、復帰用コイルバネなどを備え
たアクチュエータによって、金属製の弁体を金属製の弁
座に密着・離間させる。すなわち、ノーマル時では、梃
子機構のレバーの一端部に出力用コイルバネの付勢力が
作用しており、そのため、レバーの他端部と係合するロ
ッドに前進方向の推力が発生するので、金属製の弁体が
金属製の弁座に密着することになる。一方、非ノーマル
時では、ピストンが駆動源の圧力を受けて移動すること
により、出力用コイルバネが圧縮するので、レバーの一
端部が出力用コイルバネの付勢力から解放され、その結
果、復帰用コイルバネの付勢力により、ロッドに後退方
向の推力が発生するので、金属製の弁体が金属製の弁座
から離間することになる。
【0014】従って、本発明の流体制御バルブでは、出
力用コイルバネの付勢力を梃子機構の梃子比で増加させ
て作用させることにより、ロッドに前進方向の推力を発
生させて、金属製の弁体を金属製の弁座に密着させてお
り、これにより、「シール推力」を確保しているので、
最低限必要な出力用コイルバネの付勢力は、「シール推
力」を梃子比で除した値となる。よって、「シール推
力」を梃子比で除した値と「シール推力」の値との差に
相当する分だけ、出力用コイルバネの外径を最小化する
ことが可能となり、出力用コイルバネを内蔵するアクチ
ュエータを小型化することができるので、「シール推
力」を確保しつつ小型化を図ったアクチュエータを有す
る流体制御バルブを提供することが可能となる。
【0015】尚、これらの点については、アクチュエー
タにより、金属製のダイヤフラムを金属製の弁座に密着
・離間させる流体制御バルブにおいても、同様である。
【0016】また、半導体製造装置においては、高温度
の流体を制御することが多く、そこで使用される流体制
御バルブには、金属製の弁体を金属製の弁座に密着・離
間させる構造を必要とする。さらに、半導体製造装置で
使用される場合には、流体制御バルブに対して、常に、
より高度な遮断性や、より一層の小型化が求められる。
従って、それらの観点からするならば、本発明の流体制
御バルブは最適であると言うことができる。
【0017】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
を参照にして説明する。図1と図2に、本実施の形態の
流体制御バルブ1の断面図を示す。図1は、ノーマル時
の弁閉の状態を示したものである。図2は、非ノーマル
時の弁開の状態を示したものである。図1や図2に示す
ように、流体制御バルブ1は、ハウジング22、ハウジ
ング22の上部に螺合されるキャップ11、ハウジング
22の下部が螺合する弁本体3に大別することができ
る。
【0018】キャップ11の内部には、ピストン13が
装入されており、キャップ11の内側とピストン13の
外周を耐熱パッキン12で密封することにより、空気室
34を形成している。空気室34は、導入口33を介し
て外部と連通する。また、キャップ11がハウジング2
2の上部と螺合することにより、キャップ11とハウジ
ング22で挟み込むようにして、梃子ベース15を内設
している。
【0019】梃子ベース15には、図5の部分断面図や
図6の背面図で示すように、その中心において、ロッド
用嵌入口42が形成され、その周辺において、等ピッチ
で3個の伝達ロッド用嵌通口41が形成されるととも
に、背面において、各々の伝達ロッド用嵌通口41の内
側に、平行ピン用挿入口を穿孔した梃子架台部43が設
けられている。そして、3個の梃子架台部43の間にお
いては、平行ピン用挿入口を穿孔したレバー16が(図
7、図8参照)、図1や図2に示すように、回動可能に
支持される。
【0020】そのために、ここでは、梃子架台部43に
穿孔された平行ピン用挿入口の軸線と、レバー16に穿
孔された平行ピン用挿入口の軸線とが重なり合うよう
に、梃子架台部43の間にレバー16をセットし、それ
らの平行ピン用挿入口に平行ピン17を軸通させること
により行っている。
【0021】一方、ハウジング22の内部には、出力用
コイルバネ19が内蔵されており、出力用コイルバネ1
9の上端には、コイルバネ押さえ18が載置されてい
る。そして、キャップ11がハウジング22の上部と螺
合すると、コイルバネ押さえ18の上面に、梃子ベース
15に回動可能に支持された3個のレバー16の一端部
が圧接することになる。さらに、このとき、コイルバネ
押さえ18の上面とピストン13の間に、梃子ベース1
5の伝達ロッド用嵌通口41(図5、図6参照)を嵌通
した伝達ロッド14が介装される。
【0022】また、ハウジング22の内部には、その中
心線上において、ロッド21がその下端を弁本体3側に
貫いた状態で取り付けられている。そして、キャップ1
1がハウジング22の上部と螺合すると、ロッド21に
挿着された復帰用コイルバネ20の両端が、ハウジング
22の底面とロッド21のフランジ部に圧接することに
なる。さらに、このとき、ロッド21に形成された係合
部には、 梃子ベース15に回動可能に支持された3個
のレバー16の他端部が圧接するとともに、ロッド21
の上端が、梃子ベース15のロッド用嵌入口42(図
5、図6参照)に嵌入されることになる。
【0023】尚、図3は、図1の線A−Aで切断した断
面図であり、図4は、図1の線B−Bで切断した断面図
である。
【0024】また、弁本体3には、流入路31と流出路
32が形成されており、流入路31の末端に位置する弁
座27や流出路32の始端などは、ダイヤフラム26で
覆われている。そして、ダイヤフラム26は、その周縁
がホルダー23の周縁突起部と当接しており、ハウジン
グ22の下部が弁本体3と螺合すると、ホルダー23と
弁本体3で挟持されることになる。さらに、このとき、
ホルダー23の中央部には、第1ステム24が嵌装され
ているので、第1ステム24の上面が、ロッド21の下
端に接面するとともに、第1ステム24の下面は、第1
ステム24の下面にねじ込まれた第2ステム25を介し
て、ダイヤフラム26の上面に接面することになる。
【0025】そして、このような構成を有する流体制御
バルブ1では、250℃程度の高温の流体を制御するた
めに、耐熱パッキン12と第2ステム25を除く全ての
構成部品が金属材料から製作されており、例えば、ダイ
ヤフラム26はNi−Co合金で、その他の構成部品の
多くはSUS316で製作されている。
【0026】次に、本実施の形態の流体制御バルブ1の
動作について説明する。図1に示すように、ノーマル時
のロッド21においては、コイルバネ押さえ18とレバ
ー16を介して、出力用コイルバネ19の付勢力が弁本
体3側に作用すると同時に、復帰用コイルバネ20の付
勢力がキャップ11側に作用する。従って、出力用コイ
ルバネ19の付勢力が作用する方向と復帰用コイルバネ
20の付勢力が作用する方向が向き合うことになる。し
かし、出力用コイルバネ19の付勢力は、復帰用コイル
バネ20の付勢力より格段に大きく、さらに、レバー1
6や梃子ベース15などで構成された梃子機構により、
梃子比を乗じた大きさに増加されて作用することから、
ノーマル時のロッド21には、弁本体3側に大きな推力
が発生することになる。そのため、ノーマル時のロッド
21は、弁本体3側に前進し、その結果、ロッド21の
下端が第1ステム24の上面に圧接して、第2ステム2
5がダイヤフラム26を弁座27に強く押しつけること
ができるので、ダイヤフラム26や弁座27が金属製で
あっても、弁閉状態となる。
【0027】一方、弁閉状態にある流体制御バルブ1に
おいて、導入口33を介して、駆動源たる圧縮空気を空
気室34に充填すると、図2に示すように、ピストン1
3が圧縮空気の圧力を受けて弁本体3側に移動すること
になる。そして、ピストン13が弁本体3側に移動する
と、伝達ロッド14を介して、コイルバネ押さえ18も
弁本体3側に移動し、出力用コイルバネ19が圧縮され
るので、レバー16の一端部に出力用コイルバネ19の
付勢力が作用しなくなる。そのため、ロッド21には、
復帰用コイルバネ20の付勢力しか作用せず、キャップ
11側に推力が発生するので、ロッド21はキャップ1
1側に後退することになる。その結果、ロッド21の下
端が第1ステム24の上面に圧力を加えることが不可能
となるので、ダイヤフラム26の反力により、第1ステ
ム24、第2ステム25がキャップ11側に押し上げら
れて、ダイヤフラム26が弁座27から離間し、弁開状
態に移行することになる。
【0028】以上詳細に説明したように、本実施の形態
の流体制御バルブ1は、レバー16などを有する梃子機
構、ピストン13、ロッド21、出力用コイルバネ1
9、復帰用コイルバネ20などを備えたアクチュエータ
2によって、金属製のダイヤフラム26を金属製の弁座
27に密着・離間させる。すなわち、ノーマル時では、
図1に示すように、梃子機構のレバー16の一端部に、
コイルバネ押さえ18を介して、出力用コイルバネ19
の付勢力が作用しており、そのため、レバー16の他端
部と係合するロッド21に前進方向(弁本体3側)の推
力が発生するので、金属製のダイヤフラム26が金属製
の弁座27に密着することになる。一方、非ノーマル時
では、ピストン13が圧縮空気の圧力を受けて、図1か
ら図2に示すように移動することにより、伝達ロッド1
4とコイルバネ押さえ18を介して、出力用コイルバネ
19が圧縮するので、レバー16の一端部が出力用コイ
ルバネ19の付勢力から解放される。その結果、復帰用
コイルバネ20の付勢力により、ロッド21に後退方向
(キャップ11側)の推力が発生するので、金属製のダ
イヤフラム26が金属製の弁座27から離間することに
なる。
【0029】従って、本実施の形態の流体制御バルブ1
では、出力用コイルバネ19の付勢力を、レバー16な
どを有する梃子機構の梃子比で増加させて作用させるこ
とにより、ロッド21に前進方向(弁本体3側)の推力
を発生させて、金属製のダイヤフラム26を金属製の弁
座27に密着させており、これにより、「シール推力」
を確保しているので、最低限必要な出力用コイルバネ1
9の付勢力は、「シール推力」を梃子比で除した値とな
る。よって、「シール推力」を梃子比で除した値と「シ
ール推力」の値との差に相当する分だけ、出力用コイル
バネ19の外径を最小化することが可能となり、出力用
コイルバネ19を内蔵するアクチュエータ2を小型化す
ることができるので、「シール推力」を確保しつつ小型
化を図ったアクチュエータ2を有する流体制御バルブ1
を提供することが可能となる。
【0030】尚、本実施の形態では、「シール推力」の
値は980Nであり、「シール推力」を梃子比で除した
値である、最低限必要な出力用コイルバネ19の付勢力
の値は、490Nである。
【0031】また、本発明は上記実施の形態に限定され
るものでなく、その趣旨を逸脱しない範囲で様々な変更
が可能である。例えば、本実施の形態の流体制御バルブ
1は、金属製のダイヤフラム26を金属製の弁座27に
密着・離間させるものであったが、金属製のダイヤフラ
ム26に特に限定する趣旨ではなく、金属製の弁体を金
属製の弁座に密着・離間させるものであってもよい。
【0032】また、本実施の形態では、流体制御バルブ
1の使用場所については言及しなかったが、半導体製造
装置においては、高温度の流体を制御することが多く、
そこで使用される流体制御バルブには、金属製の弁体を
金属製の弁座に密着・離間させる構造を必要とする。さ
らに、半導体製造装置で使用される場合には、流体制御
バルブに対して、常に、より高度な遮断性や、より一層
の小型化が求められる。従って、それらの観点からする
ならば、本実施の形態の流体制御バルブ1は最適である
と言うことができる。
【0033】
【発明の効果】本発明の流体制御バルブでは、出力用コ
イルバネの付勢力を梃子機構の梃子比で増加させて作用
させることにより、ロッドに前進方向の推力を発生させ
て、金属製の弁体を金属製の弁座に密着させており、こ
れにより、「シール推力」を確保しているので、最低限
必要な出力用コイルバネの付勢力は、「シール推力」を
梃子比で除した値となる。よって、「シール推力」を梃
子比で除した値と「シール推力」の値との差に相当する
分だけ、出力用コイルバネの外径を最小化することが可
能となり、出力用コイルバネを内蔵するアクチュエータ
を小型化することができるので、「シール推力」を確保
しつつ小型化を図ったアクチュエータを有する流体制御
バルブを提供することが可能となる。
【0034】尚、これらの点については、アクチュエー
タにより、金属製のダイヤフラムを金属製の弁座に密着
・離間させる流体制御バルブにおいても、同様である。
【0035】また、半導体製造装置においては、高温度
の流体を制御することが多く、そこで使用される流体制
御バルブには、金属製の弁体を金属製の弁座に密着・離
間させる構造を必要とする。さらに、半導体製造装置で
使用される場合には、流体制御バルブに対して、常に、
より高度な遮断性や、より一層の小型化が求められる。
従って、それらの観点からするならば、本発明の流体制
御バルブは最適であると言うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の流体制御バルブの断面図であって、弁
閉状態を示したものである。
【図2】本発明の流体制御バルブの断面図であって、弁
開状態を示したものである。
【図3】図1の線A−Aで切断した断面図である。
【図4】図1の線B−Bで切断した断面図である。
【図5】本発明の流体制御バルブで使用される梃子ベー
スの部分断面図である。
【図6】本発明の流体制御バルブで使用される梃子ベー
スの背面図である。
【図7】本発明の流体制御バルブで使用されるレバーの
正面図である。
【図8】本発明の流体制御バルブで使用されるレバーの
側面図である。
【図9】従来技術の流体制御バルブの断面図であって、
弁閉状態を示したものである。
【図10】従来技術の流体制御バルブの断面図であっ
て、弁開状態を示したものである。
【符号の説明】
1 流体制御バルブ 2 アクチュエータ 13 ピストン 16 レバー 19 出力用コイルバネ 20 復帰用コイルバネ 21 ロッド 26 ダイヤフラム 27 弁座

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 梃子機構のレバーの一端部に出力用コイ
    ルバネの付勢力が作用することにより、前記レバーの他
    端部と係合するロッドを前進させる一方、駆動源の圧力
    を受けたピストンが移動して、前記出力用コイルバネを
    圧縮させることにより、前記レバーの一端部を前記出力
    用コイルバネの付勢力から解放するとともに、復帰用コ
    イルバネの付勢力により、前記ロッドを後退させるアク
    チュエータを有し、 前記アクチュエータにより、金属製の弁体を金属製の弁
    座に密着・離間させること、を特徴とする流体制御バル
    ブ。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載する流体制御バルブにお
    いて、 前記弁体がダイヤフラムであること、を特徴とする流体
    制御バルブ。
  3. 【請求項3】 請求項1又は請求項2に記載する流体制
    御バルブにおいて、 半導体製造装置に使用されること、を特徴とする流体制
    御バルブ。
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