JP2002049146A - Photosensitive paste and member for display using the same - Google Patents

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a photosensitive paste excellent in dispersion stability of a filler and to provide a member for a display having partition walls formed by good patterning by photolithography and excellent in display characteristics such as chromaticity, luminance and contrast. SOLUTION: The photosensitive paste has 0.1-150×10-4 S/m electric conductivity or 0.001-500 ppm chlorine ion concentration. The member for a display has partition walls formed using the photosensitive paste by photolithography.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【０００１】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は感光性ペーストおよ
びディスプレイ用部材に関するものであり、さらに詳し
くは、無機微粒子の分散安定性を向上した感光性ペース
トおよび該感光性ペーストを使用したプラズマディスプ
レイパネル（ＰＤＰ）、プラズマアドレス液晶ディスプ
レイ（ＰＡＬＣ）、電子放出素子（フィールドエミッシ
ョンまたはＦＥ）、あるいは蛍光表示管素子（ＶＦＤ）
のディスプレイ用部材に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a photosensitive paste and a display member, and more particularly, to a photosensitive paste having improved dispersion stability of inorganic fine particles, and a plasma display panel using the photosensitive paste. PDP), plasma-addressed liquid crystal display (PALC), electron-emitting device (field emission or FE), or fluorescent display tube device (VFD)
Related to a display member.

【０００２】[0002]

【従来の技術】ＰＤＰや電子放出素子、蛍光表示管素子
を用いたディスプレイは、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）
に比べて明るい画像が得られると共に、視野角が広い、
さらに大画面化、高精細化の要求に応えられることか
ら、そのニーズが高まりつつある。2. Description of the Related Art A display using a PDP, an electron-emitting device, and a fluorescent display device is a liquid crystal display (LCD).
Bright images are obtained compared to, and the viewing angle is wide.
In addition, since the demand for larger screens and higher definition can be met, the needs are increasing.

【０００３】電子放出素子には、熱電子放出素子と冷陰
極電子放出素子がある。冷陰極電子源を用いたディスプ
レイは、電子放出素子から放出される電子ビームを蛍光
体に照射して蛍光を発光させることで画像を表示するも
のである。この装置において、前面ガラス基板と背面ガ
ラス基板にそれぞれの機能を付与して用いるが、背面ガ
ラス基板には、複数の電子放出素子とそれらの素子の電
極を接続するマトリックス状の配線が設けられる。これ
らの配線は、電子放出素子の電極部分で交差することに
なるので絶縁するための絶縁層が設けられる。さらに両
基板の間で耐大気圧支持部材として隔壁（スペーサ）が
形成される。The electron-emitting devices include a thermionic electron-emitting device and a cold cathode electron-emitting device. A display using a cold cathode electron source displays an image by irradiating a phosphor with an electron beam emitted from an electron-emitting device to emit fluorescent light. In this device, the front glass substrate and the rear glass substrate are used with their respective functions. The rear glass substrate is provided with a plurality of electron-emitting devices and a matrix-like wiring for connecting the electrodes of those devices. Since these wirings intersect at the electrode portion of the electron-emitting device, an insulating layer for insulation is provided. Further, a partition wall (spacer) is formed between the two substrates as an anti-atmospheric pressure support member.

【０００４】蛍光表示管（ＶＦＤ）の構造と電気的動作
機構は、ＣＲＴと異なりＶＦＤでは数十Ｖの電圧による
数十ｍＡの低速電子流で蛍光体を励起する。このような
ＶＦＤ素子を用いたディスプレイにおいても、発光領域
を区切るため格子状などの隔壁が形成される。[0004] Unlike a CRT, the structure and electrical operation mechanism of a fluorescent display tube (VFD) excite a phosphor with a low-speed electron flow of several tens mA at a voltage of several tens of volts. Even in a display using such a VFD element, a partition wall such as a grid is formed to separate a light emitting region.

【０００５】ＰＤＰは、前面ガラス基板と背面ガラス基
板との間に設けられた隔壁で仕切られた放電空間内で対
向するアノード電極およびカソード電極間にプラズマ放
電を生じさせ、この空間内に封入されているガスから発
生する紫外線を放電空間内に塗布された蛍光体に当てる
ことによって表示を行う。A PDP generates a plasma discharge between an anode electrode and a cathode electrode facing each other in a discharge space partitioned by partitions provided between a front glass substrate and a rear glass substrate, and is sealed in this space. The display is performed by irradiating the ultraviolet light generated from the flowing gas to the phosphor applied in the discharge space.

【０００６】プラズマアドレス液晶ディスプレイ（ＰＡ
ＬＣ）は、ＴＦＴ−ＬＣＤのＴＦＴ（薄膜トランジスタ
ー）アレイ部分をプラズマチャネルに置き換えたもの
で、プラズマ部分以外は基本的にＴＦＴ−ＬＣＤと同じ
構造である。プラズマ発生部分は、高さ２００μｍ程
度、ピッチ４８０μｍ程度の隔壁で区切られている。つ
まり上記のの各種ディスプレイは、いずれも隔壁を必要
とする。以下、これらの各種ディスプレイを代表してＰ
ＤＰについて記述する。従来、ＰＤＰにおいては、絶縁
ガラスペーストをスクリーン印刷することによって、隔
壁が形成されているが、この方法ではスクリーン版の伸
縮による位置合わせの精度の問題があり、高アスペクト
比で高精細の隔壁が得られず、大面積化、高解像度化を
行うことができない。このような問題を改良する方法と
して、感光性ペーストを用いてフォトリソグラフィ技術
により隔壁を形成する方法が知られている。A plasma addressed liquid crystal display (PA)
LC) is a TFT-LCD in which the TFT (thin film transistor) array portion is replaced with a plasma channel, and has basically the same structure as the TFT-LCD except for the plasma portion. The plasma generating portion is separated by a partition having a height of about 200 μm and a pitch of about 480 μm. That is, each of the above various displays requires a partition. Hereinafter, on behalf of these various displays, P
Describe DP. Conventionally, in PDPs, partition walls are formed by screen-printing an insulating glass paste. However, in this method, there is a problem of alignment accuracy due to expansion and contraction of the screen plate. As a result, a large area and a high resolution cannot be obtained. As a method of solving such a problem, a method of forming a partition by a photolithography technique using a photosensitive paste is known.

【０００７】隔壁は単に発光区域を区分するのみでな
く、発光輝度、色純度などのディスプレイの表示特性に
影響を与える。蛍光体層からの発光の効率を向上するた
めには、隔壁の反射率を高くしたいという要求がある。
つまり、隔壁の光透過率が高く反射率が低いと、隔壁側
面や隔壁間の底面に塗布されている蛍光体層から発光さ
れる表示光の反射が不足し、さらに、隣の隔壁間の蛍光
体層の表示光の洩れ込みが起こり、輝度が高く色純度の
良好なディスプレイを得ることができない。これに対
し、特公平６−４４４５２号公報には、ガラス粉末とそ
れと異なる屈折率を有する充填剤との混合物を用いた隔
壁の形成を開示しているが、このような組成物は感光性
ペーストを用いたフォトリソグラフィ法による隔壁形成
には不適切である。また、特開平８−１３８５５９号公
報には、形成された隔壁の表面に表示に特定の波長の光
のみを反射する反射膜を形成する方法が提案されている
が、その反射膜の形成のために工程が増えるなどの問題
点がある。The partition walls not only divide the light emitting area but also affect the display characteristics of the display such as light emission luminance and color purity. In order to improve the efficiency of light emission from the phosphor layer, there is a demand to increase the reflectance of the partition walls.
That is, if the light transmittance of the partition is high and the reflectance is low, the display light emitted from the phosphor layer applied to the side wall of the partition and the bottom surface between the partition is insufficiently reflected, and further, the fluorescent light between the adjacent partition is insufficient. Display light leaks from the body layer, and a display with high luminance and good color purity cannot be obtained. On the other hand, Japanese Patent Publication No. 6-44452 discloses formation of a partition wall using a mixture of glass powder and a filler having a different refractive index from the glass powder. It is unsuitable for forming a partition by a photolithography method using a method. Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-138559 proposes a method of forming a reflective film on a surface of a formed partition wall for reflecting only light of a specific wavelength for display. However, there is a problem that the number of processes increases.

【０００８】光の透過性を向上させるために、粒子径が
小さい無機微粒子を用いることができるが、感光性有機
成分中に塩素イオンが多量に存在すると、これと無機微
粒子との相互作用により無機微粒子が凝集する。これに
対し、イオン性不純物とくに塩素イオンと硝酸イオンに
ついては、特開平１１−６４６１９号公報に塩素イオン
と硝酸イオンを合計で０．００１ｐｐｍ〜１５０ｐｐｍ
含有するカラーペーストおよびイオン交換法で塩素イオ
ンと硝酸イオンの全部または一部を除去するカラーペー
ストの製造方法が示されている。しかし、ここに公開さ
れた技術では、高粘度のペーストに対しては塩素イオン
と硝酸イオンの除去が不十分であり、またイオン交換後
のイオン交換樹脂の除去が困難であるため、残存したイ
オン交換樹脂が露光光の透過を阻害してフォトリソグラ
フィ法による高アスペクト比で高精細な隔壁が得られな
い欠点があった。[0008] In order to improve light transmittance, inorganic fine particles having a small particle size can be used. However, if a large amount of chloride ions is present in the photosensitive organic component, the inorganic fine particles interact with the inorganic fine particles. Fine particles aggregate. On the other hand, as for ionic impurities, in particular, chloride ions and nitrate ions, JP-A-11-64619 discloses a total of 0.001 ppm to 150 ppm of chloride ions and nitrate ions.
A method of producing a color paste that contains all or part of chloride ions and nitrate ions by an ion exchange method is disclosed. However, with the technology disclosed here, the removal of chloride ions and nitrate ions is insufficient for high-viscosity pastes, and it is difficult to remove the ion-exchange resin after ion exchange. There is a disadvantage that the exchange resin inhibits the transmission of the exposure light, and a high-resolution partition wall having a high aspect ratio cannot be obtained by the photolithography method.

【０００９】[0009]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、無機微粒子
の分散安定性に優れた感光性ペーストおよびその製造方
法を提供してかかる矛盾的な問題を解決し、フォトリソ
グラフィ法の良好なパターニングにより形成した隔壁を
有し、色度や発光輝度、コントラスト等の表示特性に優
れたディスプレイ用部材を提供することを目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention provides a photosensitive paste having excellent dispersion stability of inorganic fine particles and a method for producing the same, which solves such contradictory problems, and achieves good patterning by photolithography. It is an object of the present invention to provide a display member having formed partition walls and having excellent display characteristics such as chromaticity, emission luminance, and contrast.

【００１０】[0010]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明は以下の構成を有する。すなわち、本発明の
第１発明の感光性ペーストは、無機微粒子と感光性有機
成分を含有する感光性ペーストであって、２５℃におけ
る電気伝導度が０．１〜１５０×１０^-4Ｓ／ｍの範囲内
であることを特徴とする。また、第２発明の感光性ペー
ストは、無機微粒子と感光性有機成分を含有する感光性
ペーストであって、感光性ペースト中の塩素イオン濃度
が０．００１〜５００ｐｐｍの範囲内であることを特徴
とする。In order to solve the above problems, the present invention has the following arrangement. That is, the photosensitive paste of the first invention of the present invention is a photosensitive paste containing inorganic fine particles and a photosensitive organic component, and has an electric conductivity at 25 ° C. of 0.1 to 150 × 10 ⁻⁴ S / m. It is characterized by being within the range. Further, the photosensitive paste of the second invention is a photosensitive paste containing inorganic fine particles and a photosensitive organic component, wherein a chlorine ion concentration in the photosensitive paste is in a range of 0.001 to 500 ppm. And

【００１１】さらに、本発明のディスプレイ用部材は上
記感光性ペーストを用いて形成した隔壁を有することを
特徴とする。Further, the display member of the present invention is characterized in that it has a partition wall formed using the photosensitive paste.

【００１２】[0012]

【発明の実施の形態】本発明の感光性ペーストは、フォ
トリソグラフィー法を用いたパターン形成後に焼成を行
い、実質的に無機物からなるパターンを形成する目的で
使用するため、無機微粒子と感光性有機成分を含有す
る。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The photosensitive paste of the present invention is used for the purpose of forming a pattern substantially consisting of an inorganic substance by baking after forming a pattern using a photolithography method, so that inorganic fine particles and a photosensitive organic compound are used. Contains ingredients.

【００１３】本発明の第１発明の感光性ペーストは、無
機微粒子の分散安定性の面での理由から、２５℃におけ
る電気伝導度が０．１〜１５０×１０^-4Ｓ／ｍの範囲内
である。より好ましくは０．１〜１００×１０^-4Ｓ／ｍ
の範囲内である。感光性ペーストの電気伝導度が高い
と、電気的遮蔽により無機微粒子の微分散が阻害され、
無機微粒子の凝集体が露光光の透過を妨害してフォトリ
ソグラフィ法の良好なパターニングが得られないためで
ある。The photosensitive paste of the first invention of the present invention has an electric conductivity at 25 ° C. within the range of 0.1 to 150 × 10 ⁻⁴ S / m from the viewpoint of dispersion stability of inorganic fine particles. It is. More preferably, 0.1 to 100 × 10 ⁻⁴ S / m
Is within the range. When the electric conductivity of the photosensitive paste is high, the fine dispersion of the inorganic fine particles is hindered by electric shielding,
This is because the aggregate of the inorganic fine particles hinders the transmission of the exposure light, and good patterning by the photolithography method cannot be obtained.

【００１４】本発明の第２発明の感光性ペーストは、感
光性ペースト中の塩素イオン濃度が０．００１〜５００
ｐｐｍの範囲内であることが必要である。なお、ここで
いう感光性ペースト中の塩素イオンは、テトラエチルベ
ンゼンアンモニウムクロライドなどをいう。無機微粒子
の分散安定性の面から、感光性ペースト中の塩素イオン
濃度は、５００ｐｐｍ以下であることが必要である。よ
り好ましくは３００ｐｐｍ以下である。塩素イオンなど
の不純物イオンを低減することにより、感光性ペースト
中の無機微粒子が安定に微分散するため、感光性ペース
ト塗布膜は、高い光線透過率を示すので、パターン露光
時の光の透過率が高く、散乱が少なく、優れたパターン
形成性を示すことができる。また、塩素イオンの除去に
関するコストの面から、塩素イオン濃度は０．００１ｐ
ｐｍ以上であることが必要である。一層効率を上げるた
めには、０．１ｐｐｍ以上であることが好ましい。さら
に、本発明の感光性ペーストにおいては、上記の電気伝
導度および塩素イオン濃度の条件をともに満たすことが
好ましい。The photosensitive paste according to the second aspect of the present invention has a chlorine ion concentration of 0.001 to 500 in the photosensitive paste.
It must be in the ppm range. Here, the chlorine ion in the photosensitive paste refers to tetraethylbenzene ammonium chloride or the like. From the viewpoint of dispersion stability of the inorganic fine particles, the chlorine ion concentration in the photosensitive paste needs to be 500 ppm or less. More preferably, it is 300 ppm or less. By reducing impurity ions such as chlorine ions, inorganic fine particles in the photosensitive paste are stably and finely dispersed, so that the photosensitive paste coating film shows a high light transmittance, so that light transmittance during pattern exposure , High scattering, and excellent pattern formability. In addition, the chlorine ion concentration is 0.001 p.
pm or more. In order to further increase the efficiency, the content is preferably 0.1 ppm or more. Furthermore, in the photosensitive paste of the present invention, it is preferable that both the above-described conditions of the electric conductivity and the chloride ion concentration are satisfied.

【００１５】また、感光性ペースト中の無機微粒子が、
低融点ガラス粉末が５０〜９０重量部、平均粒子径が
１．５〜４μｍのフィラーＡが０〜３０重量部および平
均粒子径が０．００３〜０．０２μｍのフィラーＢが３
〜５０重量部とからなるものであることが焼成収縮率の
減少、形成された隔壁の強度向上、隔壁の不透明化など
のため好ましい。無機微粒子の低融点ガラスを５０重量
部以上とすることで、フォトリソグラフィ法でパターン
形成した後の焼成工程で、隔壁形状の変形がなく、強度
の高い隔壁が得られる。さらに、９０重量部以下とする
ことで、隔壁を低融点ガラスとフィラーから構成できる
ため、焼成収縮率の減少、形成された隔壁の強度向上、
隔壁の不透明化が可能になる。Further, the inorganic fine particles in the photosensitive paste are
50 to 90 parts by weight of low melting glass powder, 0 to 30 parts by weight of filler A having an average particle size of 1.5 to 4 μm, and 3 of filler B having an average particle size of 0.003 to 0.02 μm
The amount of 50 to 50 parts by weight is preferable for decreasing the firing shrinkage, improving the strength of the formed partition wall, and making the partition wall opaque. By setting the low melting point glass of the inorganic fine particles to 50 parts by weight or more, a partition wall having high strength can be obtained without deformation of the partition wall shape in a firing step after pattern formation by a photolithography method. Furthermore, by setting the content to 90 parts by weight or less, the partition walls can be made of a low-melting glass and a filler, so that the firing shrinkage ratio decreases, the strength of the formed partition walls increases,
The partition walls can be made opaque.

【００１６】また、フィラーＡの平均粒子径を１．５μ
ｍ以上とすることで、焼成時に隔壁の形状を保持する効
果を得ることができる。また、フィラーＡは焼成工程で
溶融することがないので４μｍより大きすぎると、形成
された隔壁の頂部の凹凸が大きくなりクロストークの原
因となるなどの問題を生じる傾向にあり好ましくない。
さらに、フィラーＡを３０重量部以下とすることで、焼
成後に強度の高い隔壁を得ることができる。フィラーＢ
は、平均粒子径を０．００３μｍ以上とすることで、フ
ォトリソグラフィ法によるパターン形成においては良好
な光透過性を示し、焼成後の隔壁としては高い反射性を
示すという矛盾的に要求される特性を両立させることが
できる。また、感光性ペースト塗布膜のパターン形成性
を良好に保持するために上限として平均粒子径を０．０
２μｍ以下とすることが好ましい。フィラーＢを３重量
部以上とすることで、隔壁の反射率向上に寄与すること
ができ、また、感光性ペースト塗布膜のパターン形成性
を良好に保持する上限として５０重量部以下とすること
が好ましい。上記のフィラーＡとフィラーＢをともに用
いることはさらに好ましい。The average particle diameter of the filler A is 1.5 μm.
By setting m or more, the effect of maintaining the shape of the partition wall during firing can be obtained. Further, since the filler A is not melted in the firing step, if it is more than 4 μm, the irregularities at the top of the formed partition walls tend to be large, which tends to cause problems such as crosstalk, which is not preferable.
Further, by setting the filler A to 30 parts by weight or less, a partition wall having high strength after firing can be obtained. Filler B
Is an inconsistent property that, when the average particle diameter is 0.003 μm or more, good light transmittance is exhibited in pattern formation by photolithography, and high reflectivity is exhibited as a partition after firing. Can be compatible. Further, in order to maintain good pattern formability of the photosensitive paste coating film, the upper limit of the average particle diameter is 0.0
It is preferable that the thickness be 2 μm or less. By setting the filler B to 3 parts by weight or more, it is possible to contribute to the improvement of the reflectance of the partition walls, and to 50% by weight or less as an upper limit for maintaining good pattern formability of the photosensitive paste coating film. preferable. It is more preferable to use both the filler A and the filler B described above.

【００１７】感光性ペーストは感光性有機成分中に無機
微粒子を分散させたものであり、その塗布膜では感光性
有機成分層の中にかなり高い濃度で無機微粒子が存在し
ている。このような塗布膜にフォトリソグラフィ法でパ
ターン形成を行うためには、少なくとも共存する各成分
の屈折率を近似させることが重要である。用いる感光性
有機成分の平均屈折率が１．４〜１．７の範囲にあるの
で無機微粒子の屈折率もこの範囲に出来るだけ近似した
ものを選ぶことが必要になる。種々の酸化物からなるガ
ラス成分はその配合を考慮することで特性の制御が可能
であり、本発明においても熱特性、屈折率などをコント
ロールした低融点ガラス粉末が使用できる。低融点ガラ
ス粉末として屈折率が１．４５〜１．６５であり、ガラ
ス転移点が４００〜５５０℃、荷重軟化点が４５０〜６
００℃を有するものが好ましい。荷重軟化点を４５０℃
以上とすることで、部材形成およびディスプレイ形成の
後工程において隔壁が変形することがなく、荷重軟化点
を６００℃以下とすることで、焼成時に溶融し強度の高
い隔壁を得ることができる。このような特性を満たす低
融点ガラス粉末は、酸化物換算表記で以下の様な組成で
あることが好ましい。 The photosensitive paste is obtained by dispersing inorganic fine particles in a photosensitive organic component. In a coating film of the photosensitive paste, inorganic fine particles are present at a considerably high concentration in the photosensitive organic component layer. In order to form a pattern on such a coating film by photolithography, it is important to approximate at least the refractive index of each of the coexisting components. Since the average refractive index of the photosensitive organic component used is in the range of 1.4 to 1.7, the refractive index of the inorganic fine particles must be selected as close as possible to this range. The characteristics of the glass components composed of various oxides can be controlled by considering the composition thereof, and a low-melting glass powder having controlled thermal characteristics and refractive index can be used in the present invention. The low-melting glass powder has a refractive index of 1.45 to 1.65, a glass transition point of 400 to 550 ° C., and a softening point under load of 450 to 6.
Those having a temperature of 00 ° C are preferred. 450 ° C softening point under load
By doing so, the partition walls are not deformed in the steps after the member formation and the display formation, and the softening point under load is set to 600 ° C. or less, whereby the partition walls can be melted during firing and have high strength. The low-melting glass powder satisfying such characteristics preferably has the following composition in terms of oxide.

【００１８】酸化リチウム、酸化ナトリウムまたは酸化
カリウムのアルカリ金属酸化物のうち少なくとも１種を
用い、その合計量が３〜１５重量部、さらには３〜１０
重量部であることが好ましい。At least one of alkali metal oxides of lithium oxide, sodium oxide or potassium oxide is used, and the total amount is 3 to 15 parts by weight, and more preferably 3 to 10 parts by weight.
It is preferably in parts by weight.

【００１９】アルカリ金属酸化物は、ガラスの荷重軟化
点、熱膨張係数のコントロールを容易にするのみなら
ず、ガラスの屈折率を低くすることができるため、感光
性有機成分との屈折率差を小さくすることが容易にな
る。アルカリ金属酸化物の合計量が３重量部以上とする
ことでガラスの低融点化の効果を得ることができ、１５
重量部以下とすることでガラスの化学的安定性を維持す
ると共に熱膨張係数を小さく抑えることができる。アル
カリ金属としては、ガラスの屈折率を下げることやイオ
ンのマイグレーションを防止することを考慮するならリ
チウムを選択するのが好ましい。The alkali metal oxide not only facilitates the control of the softening point under load and the coefficient of thermal expansion of the glass, but also reduces the refractive index of the glass. It is easy to reduce the size. When the total amount of the alkali metal oxides is 3 parts by weight or more, the effect of lowering the melting point of the glass can be obtained.
When the amount is not more than part by weight, the chemical stability of the glass can be maintained and the coefficient of thermal expansion can be suppressed to a small value. As the alkali metal, lithium is preferably selected in consideration of lowering the refractive index of the glass and preventing migration of ions.

【００２０】酸化ケイ素の配合量は５〜３０重量部が好
ましく、より好ましくは１０〜３０重量部である。酸化
ケイ素は、ガラスの緻密性、強度や安定性の向上に有効
であり、また、ガラスの低屈折率化にも効果がある。熱
膨張係数をコントロールしてガラス基板とのミスマッチ
による剥離などを防ぐこともできる。５重量部以上とす
ることで、熱膨張係数を小さく抑えガラス基板に焼き付
けた時にクラックを生じない。また、屈折率を低く抑え
ることができる。３０重量部以下とすることで、ガラス
転移点、荷重軟化点を低く抑え、ガラス基板への焼き付
け温度を低くすることができる。The compounding amount of silicon oxide is preferably 5 to 30 parts by weight, more preferably 10 to 30 parts by weight. Silicon oxide is effective for improving the denseness, strength and stability of glass, and is also effective for lowering the refractive index of glass. The thermal expansion coefficient can be controlled to prevent separation due to mismatch with the glass substrate. When the amount is 5 parts by weight or more, the coefficient of thermal expansion is suppressed to a small value, and cracks do not occur when baked on a glass substrate. Further, the refractive index can be kept low. When the content is 30 parts by weight or less, the glass transition point and the softening point under load can be kept low, and the temperature for baking on a glass substrate can be lowered.

【００２１】酸化ホウ素は、鉛などの重金属を含有しな
いガラスにおいて低融点化のために必要な成分であり、
さらに低屈折率化にも有効であり、２０〜４５重量部、
さらには２０〜４０重量部の範囲で配合することが好ま
しい。２０重量部以上とすることで、ガラス転移点、荷
重軟化点を低く抑えガラス基板への焼き付けを容易にす
る。また、４５重量部以上とすることでガラスの化学的
安定性を維持することができる。Boron oxide is a component necessary for lowering the melting point of glass that does not contain heavy metals such as lead.
Further effective in lowering the refractive index, 20 to 45 parts by weight,
Furthermore, it is preferable to mix in the range of 20 to 40 parts by weight. When the content is 20 parts by weight or more, the glass transition point and the softening point under load are suppressed to be low, and baking on a glass substrate is facilitated. Further, when the content is 45 parts by weight or more, the chemical stability of the glass can be maintained.

【００２２】酸化バリウムおよび酸化ストロンチウムの
うち少なくとも１種を用い、その合計量が２〜１５重量
部、さらには２〜１０重量部であることが好ましい。こ
れらの成分は、ガラスの低融点化、熱膨張係数の調整に
有効であり、焼き付け温度の基板の耐熱性への適用、電
気絶縁性、形成される隔壁の安定性や緻密性の点でも好
ましい。２重量％以上とすることで低融点化の効果を得
ることができると共に結晶化による失透を防ぐこともで
きる。また、１５重量部以下とすることにより、熱膨張
係数を小さく抑え、屈折率も小さく抑えることができ
る。またガラスの化学的安定性も維持できる。Preferably, at least one of barium oxide and strontium oxide is used, and the total amount is 2 to 15 parts by weight, more preferably 2 to 10 parts by weight. These components are effective in lowering the melting point of glass and adjusting the coefficient of thermal expansion, and are also preferable in terms of applying the baking temperature to the heat resistance of the substrate, electrical insulation, and stability and denseness of the formed partition walls. . When the content is 2% by weight or more, the effect of lowering the melting point can be obtained, and devitrification due to crystallization can be prevented. When the content is 15 parts by weight or less, the coefficient of thermal expansion can be kept small, and the refractive index can be kept small. Also, the chemical stability of the glass can be maintained.

【００２３】酸化アルミニウムはガラス化範囲を広げて
ガラスを安定化する効果があり、ペーストのポットライ
フ延長にも有効である。１０〜２５重量部の範囲で配合
することが好ましく、この範囲内とすることでガラス転
移点、荷重軟化点を低く保ち、ガラス基板上への焼き付
けを容易とすることができる。Aluminum oxide has the effect of expanding the vitrification range and stabilizing the glass, and is also effective in extending the pot life of the paste. It is preferable to mix in the range of 10 to 25 parts by weight. By setting the content in this range, the glass transition point and the softening point under load can be kept low, and baking on a glass substrate can be facilitated.

【００２４】さらに、酸化カルシウムおよび酸化マグネ
シウムは、ガラスを溶融しやすくすると共に熱膨張係数
を制御するために配合されることが好ましい。酸化カル
シウムおよび酸化マグネシウムは合計で２〜１５重量部
配合するのが好ましい。合計量が２重量部以上とするこ
とで結晶化によるガラスの失透を防ぎ、１５重量部以下
とすることでガラスの化学的安定性を維持することがで
きる。Further, it is preferable that calcium oxide and magnesium oxide are blended to facilitate melting of the glass and to control the coefficient of thermal expansion. It is preferable to mix calcium oxide and magnesium oxide in a total amount of 2 to 15 parts by weight. When the total amount is 2 parts by weight or more, devitrification of the glass due to crystallization can be prevented, and when the total amount is 15 parts by weight or less, the chemical stability of the glass can be maintained.

【００２５】また、上記の組成には表記されていない
が、酸化亜鉛はガラスの熱膨張係数を大きく変化させる
ことなく低融点化させる成分でありこれも配合されるこ
とが好ましい。多く配合しすぎると屈折率が大きくなる
傾向にあるので、１〜２０重量部の範囲で配合するのが
好ましい。Although not described in the above composition, zinc oxide is a component that lowers the melting point of the glass without greatly changing the coefficient of thermal expansion of the glass. If the amount is too large, the refractive index tends to increase. Therefore, the amount is preferably in the range of 1 to 20 parts by weight.

【００２６】感光性ペーストに用いる低融点ガラス粉末
は、ペースト形成時の充填性および分散性が良好で、ペ
ーストの均一な厚さでの塗布が可能であると共にパター
ン形成性を良好に保つためには、平均粒子径が１〜４μ
ｍであり、最大粒子径が３５μｍ以下であることが好ま
しい。このような粒度分布を有するガラス粉末がペース
トへの充填性および分散性の点で優れているが、低融点
ガラス粉末の場合は焼成工程でその殆どが溶融し一体化
されるので、かなり大きな粒子径の粉末も許容される。
この範囲であれば、充填性および分散性を満足させて、
塗布性およびパターン形成性の優れた感光性ペーストを
構成することができる。The low melting point glass powder used for the photosensitive paste has good filling properties and dispersibility at the time of forming the paste, is capable of being applied with a uniform thickness of the paste, and has good pattern forming properties. Has an average particle diameter of 1 to 4 μm
m, and the maximum particle diameter is preferably 35 μm or less. Glass powder having such a particle size distribution is excellent in terms of filling and dispersibility into paste, but in the case of low melting point glass powder, most of them are melted and integrated in a firing step, so that considerably large particles are used. Powders of a diameter are also acceptable.
Within this range, satisfying the filling property and dispersibility,
A photosensitive paste having excellent coating properties and pattern forming properties can be formed.

【００２７】フィラーＡは無機微粒子中に０〜３０重量
部で加えられるもので、コーディエライトおよび高融点
ガラス粉末から選ばれた少なくとも一種を含むものであ
ることが好ましい。これらのフィラーＡは低融点ガラス
粉末と同様に屈折率が感光性有機成分の屈折率と整合し
ていることが好ましい。高融点ガラス粉末としては、ガ
ラス転移点５００〜１２００℃、荷重軟化点５５０〜１
２００℃を有するものが好ましく、このような高融点ガ
ラス粉末は、酸化ケイ素および酸化アルミニウムをそれ
ぞれ１５重量部以上含有する組成のものが好ましく、こ
れらの含有量合計が５０重量部以上であることが必要な
熱特性を得るのに有効である。高融点ガラス粉末の組成
はこれに限定されるものではないが、例えば以下のよう
な酸化物換算組成のものを用いることができる。 酸化珪素 １５〜５０重量部 酸化ホウ素 ５〜２０重量部 酸化バリウム ２〜１０重量部 酸化アルミニウム １５〜５０重量部。The filler A is added in an amount of 0 to 30 parts by weight in the inorganic fine particles, and preferably contains at least one selected from cordierite and high melting point glass powder. It is preferable that the refractive index of these fillers A matches the refractive index of the photosensitive organic component, similarly to the low melting point glass powder. As the high melting point glass powder, a glass transition point of 500 to 1200 ° C and a softening point under load of 550 to 1
It is preferable that the composition has a temperature of 200 ° C., and such a high melting point glass powder has a composition containing 15 parts by weight or more of silicon oxide and 15 parts by weight of aluminum oxide, respectively, and the total content thereof is 50 parts by weight or more. It is effective to obtain necessary thermal characteristics. The composition of the high melting point glass powder is not limited to this, but for example, the following oxide-converted composition can be used. Silicon oxide 15 to 50 parts by weight Boron oxide 5 to 20 parts by weight Barium oxide 2 to 10 parts by weight Aluminum oxide 15 to 50 parts by weight.

【００２８】例えば、酸化珪素３８重量部、酸化ホウ素
１０重量部、酸化バリウム５重量部、酸化アルミニウム
３６重量％で、その他の成分として酸化カルシウム、酸
化亜鉛、酸化マグネシウムを少量ずつ含有するガラス転
移点６２５℃、荷重軟化点７５０℃の高融点ガラスの屈
折率は１．５９であり、これは本発明で好ましく使用さ
れる低融点ガラスの屈折率と同等である。フィラーＡ成
分のもう一つの成分であるコーディエライトの屈折率は
１．５８であり、好適である。For example, the glass transition point is 38 parts by weight of silicon oxide, 10 parts by weight of boron oxide, 5 parts by weight of barium oxide, and 36% by weight of aluminum oxide, and contains calcium oxide, zinc oxide and magnesium oxide as other components little by little. The refractive index of the high melting point glass at 625 ° C. and the softening point under load of 750 ° C. is 1.59, which is equivalent to the refractive index of the low melting point glass preferably used in the present invention. Cordierite, another component of the filler A component, has a refractive index of 1.58 and is suitable.

【００２９】フィラーＢは、アルミナ、ジルコニア、チ
タニア、セリア、イットリア、酸化錫およびシリカの群
から選ばれた少なくとも一種が用いられることが好まし
い。これらのフィラーＢは本発明で用いる低融点ガラス
粉末、フィラーＡ、感光性有機成分の屈折率に比べてよ
り高い屈折率を有するものである。低融点ガラスやフィ
ラーＡより屈折率が高いことは、このようなフィラーＢ
を含有する隔壁がより高い反射率を示すことになり、輝
度の高いディスプレイの形成に好都合である。しかし、
感光性有機成分との関係では大きな屈折率差があること
は好ましくないので、本発明ではフィラーＢの平均粒子
径が、パターン形成のため露光される光の波長である３
５０〜４２０ｎｍより小さい０．００３〜０．０２μｍ
（３〜２０ｎｍ）であることが好ましい。このようにす
ることでペースト中にフィラーＢが分散して存在しても
パターン露光の妨げにならず、パターン形成に悪影響を
与えることがない。As the filler B, at least one selected from the group consisting of alumina, zirconia, titania, ceria, yttria, tin oxide and silica is preferably used. The filler B has a higher refractive index than the low-melting glass powder, the filler A, and the photosensitive organic component used in the present invention. The fact that the refractive index is higher than that of low melting point glass or filler A means that such filler B
Will exhibit higher reflectivity, which is advantageous for forming a display with high brightness. But,
Since it is not preferable that there is a large refractive index difference in relation to the photosensitive organic component, in the present invention, the average particle diameter of the filler B is 3 which is the wavelength of light exposed for pattern formation.
0.003-0.02 μm smaller than 50-420 nm
(3 to 20 nm). In this way, even if the filler B is dispersed and present in the paste, it does not hinder pattern exposure and does not adversely affect pattern formation.

【００３０】また、フィラーＢが感光性ペースト中に安
定に微分散するために、界面活性剤により表面処理を施
すことも好ましい。界面活性剤の具体例として、ラウリ
ル硫酸アンモニウム、ポリオキシエチレンアルキルエー
テル硫酸トリエタノールアミンなどの陰イオン界面活性
剤、ステアリルアミンアセテート、ラウリルトリメチル
アンモニウムクロライドなどの陽イオン界面活性剤、ラ
ウリルジメチルアミンオキサイド、ラウリルカルボキシ
メチルメチルヒドロキシメチルイミダゾリウムベタイン
などの両性界面活性剤、ポリオキシエチレンラウリルエ
ーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ソル
ビタンモノステアレートなどの非イオン界面活性剤など
が挙げられる。本発明では、これらに限定されずに、界
面活性剤を１種または２種以上用いることができる。界
面活性剤の添加は、フィラーＢの分散工程中またはその
工程の前後のどの時点でも行うことができるが、添加の
時点によりフィラーＢの分散性が変わる場合があるので
注意を要する。一方、隔壁パターンを焼成するとフィラ
ーＢの存在は隔壁の白色化に有効に作用し、輝度の向上
や色純度の向上に繋がり、ディスプレイの表示特性を向
上させる。このような平均粒子径を有するフィラーＢの
添加による隔壁の反射率向上効果の原因については、必
ずしも明らかでないが、次のように推定される。すなわ
ち、微細な平均粒子径を有するフィラーＢとしての酸化
物微粒子は焼成の工程で凝集して粒子径０．３〜２μｍ
の凝集粒子を構成する。この凝集粒子は母体となる低融
点ガラスに比べて高い屈折率を有するので、これらの凝
集粒子による散乱が顕著になり、隔壁の反射率を向上さ
せ、蛍光体層からの発光の効率を向上することができ
る。凝集粒子として好ましい粒子径は０．５〜１．０μ
ｍである。このような凝集粒子の粒子径は、電子顕微鏡
による観察写真を画像処理し、凝集粒子の見かけの面積
と同面積の円に換算した際の直径をいう。５０個の凝集
粒子について観察・画像処理を行って、それらの平均値
を凝集粒子の粒子径とした。In order to stably and finely disperse the filler B in the photosensitive paste, it is preferable to perform a surface treatment with a surfactant. Specific examples of the surfactant include anionic surfactants such as ammonium lauryl sulfate, polyoxyethylene alkyl ether triethanolamine sulfate, cationic surfactants such as stearylamine acetate and lauryltrimethylammonium chloride, lauryl dimethylamine oxide, lauryl Examples include amphoteric surfactants such as carboxymethylmethylhydroxymethylimidazolium betaine, and nonionic surfactants such as polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene stearyl ether, and sorbitan monostearate. In the present invention, the surfactant is not limited to these, and one or more surfactants can be used. The surfactant may be added at any time during or before or after the step of dispersing the filler B, but care must be taken since the dispersibility of the filler B may change depending on the time of the addition. On the other hand, when the partition pattern is baked, the presence of the filler B effectively acts on whitening of the partition, leading to an improvement in luminance and an improvement in color purity, and an improvement in display characteristics of the display. The cause of the effect of improving the reflectance of the partition walls by the addition of the filler B having such an average particle diameter is not necessarily clear, but is presumed as follows. That is, the oxide fine particles as the filler B having a fine average particle diameter aggregate in the firing step and have a particle diameter of 0.3 to 2 μm.
Constitute aggregated particles. Since the aggregated particles have a higher refractive index than the low-melting glass serving as the base, scattering by these aggregated particles becomes remarkable, improving the reflectance of the partition walls, and improving the efficiency of light emission from the phosphor layer. be able to. The preferred particle size of the aggregated particles is 0.5 to 1.0 μm
m. The particle diameter of such agglomerated particles refers to a diameter obtained by processing a photograph observed with an electron microscope and converting the image into a circle having the same area as the apparent area of the agglomerated particles. Observation and image processing were performed on 50 aggregated particles, and the average value was defined as the particle diameter of the aggregated particles.

【００３１】本発明で用いるフィラーＢとしての酸化物
微粒子は、マイクロトラック粒度分析計ＵＰＡ１５０Ｍ
ＯＤＥＬ Ｎｏ．９３４０（日機装株式会社）を用いて
測定した平均粒子径が０．００３〜０．０２μｍである
ことが好ましい。このような範囲の平均粒子径の酸化物
微粒子を用いることにより、フォトリソグラフィ法によ
るパターン形成においては良好な光透過性を示し、焼成
後の隔壁としては高い反射性を示すという矛盾的に要求
される特性を両立させることができる。フィラーＢの平
均粒子径を０．００３μｍ以上とすることにより、隔壁
の反射率向上効果に寄与することができ、また、感光性
ペースト塗布膜のパターン形成性を良好に保持する上限
として平均粒子径を０．０２μｍ以下とすることが好ま
しい。The oxide fine particles as the filler B used in the present invention are microtrac particle size analyzer UPA150M
ODEL No. The average particle size measured using 9340 (Nikkiso Co., Ltd.) is preferably 0.003 to 0.02 μm. By using oxide fine particles having an average particle diameter in such a range, it is inconsistently required to exhibit good light transmittance in pattern formation by photolithography and to exhibit high reflectivity as a partition after firing. Characteristics can be compatible. By setting the average particle diameter of the filler B to 0.003 μm or more, it is possible to contribute to the effect of improving the reflectance of the partition walls, and the average particle diameter is set as an upper limit for maintaining good pattern formability of the photosensitive paste coating film. Is preferably 0.02 μm or less.

【００３２】本発明の感光性ペーストにおける感光性有
機成分は、反応性モノマー、反応性オリゴマー、反応性
ポリマーから選ばれた少なくとも１種、および必要に応
じてバインダポリマー、光重合開始剤、光酸発生剤、光
塩基発生剤、増感剤、増感助剤、紫外線吸収剤、有機染
料、分散剤、可塑剤、増粘剤、有機溶媒、酸、塩基、沈
降防止剤、酸化防止剤などの添加剤成分を加えて構成さ
れる。ここで、反応性モノマー、反応性オリゴマー、反
応性ポリマーにおける反応性とは、感光性ペーストが活
性光線の照射を受けた場合に、反応性モノマー、反応性
オリゴマー、反応性ポリマーが、光架橋、光重合、光解
重合、光変性などの反応を通して化学構造が変化するこ
とを意味する。The photosensitive organic component in the photosensitive paste of the present invention is at least one selected from a reactive monomer, a reactive oligomer, and a reactive polymer, and if necessary, a binder polymer, a photopolymerization initiator, and a photoacid. Generators, photobase generators, sensitizers, sensitization aids, ultraviolet absorbers, organic dyes, dispersants, plasticizers, thickeners, organic solvents, acids, bases, anti-settling agents, antioxidants, etc. It is constituted by adding an additive component. Here, the reactivity of the reactive monomer, the reactive oligomer, and the reactive polymer means that when the photosensitive paste is irradiated with actinic light, the reactive monomer, the reactive oligomer, and the reactive polymer are photocrosslinked, It means that the chemical structure is changed through reactions such as photopolymerization, photodepolymerization, and photodenaturation.

【００３３】本発明の感光性ペーストにおける感光性有
機成分は、側鎖にカルボキシル基を有する重合体を含有
してもよい。側鎖にカルボキシル基を有する重合体は、
例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロ
トン酸、マレイン酸、フマル酸、ビニル酢酸またはこれ
らの酸無水物などのカルボキシル基含有モノマーおよび
メタクリル酸エステル、アクリル酸エステル、スチレ
ン、アクリロニトリル、酢酸ビニル、２−ヒドロキシア
クリレートなどのモノマーを選択し、アゾビスイソブチ
ロニトリルのような開始剤を用いて重合することにより
得られるが、これに限定されるものではない。The photosensitive organic component in the photosensitive paste of the present invention may contain a polymer having a carboxyl group in a side chain. Polymer having a carboxyl group in the side chain,
For example, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, maleic acid, fumaric acid, carboxyl group-containing monomers such as vinyl acetic acid or anhydrides thereof and methacrylic acid esters, acrylic acid esters, styrene, acrylonitrile, vinyl acetate, It is obtained by selecting a monomer such as 2-hydroxyacrylate and polymerizing it using an initiator such as azobisisobutyronitrile, but is not limited thereto.

【００３４】側鎖にカルボキシル基を有する重合体の樹
脂酸価は５０〜１５０ｍｇＫＯＨ／ｇであることが好ま
しい。酸価が１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下とすることで、
現像許容幅を広くとることができる。また、酸価が５０
ｍｇＫＯＨ／ｇ以上とすることで、未露光部の現像液に
対する溶解性が低下することなく、従って現像液濃度を
濃くする必要がなく露光部の剥がれを防ぎ、高精細なパ
ターンが得ることができる。The polymer having a carboxyl group in the side chain preferably has a resin acid value of 50 to 150 mgKOH / g. By setting the acid value to 150 mgKOH / g or less,
The development tolerance can be widened. In addition, the acid value is 50
When the concentration is not less than mgKOH / g, the solubility of the unexposed portion in the developing solution is not reduced, and therefore, it is not necessary to increase the concentration of the developing solution, the peeling of the exposed portion is prevented, and a high-definition pattern can be obtained. .

【００３５】側鎖にカルボキシル基を有する重合体とし
ては、焼成時の熱分解温度が低いことから、（メタ）ア
クリル酸エステルおよび（メタ）アクリル酸を共重合成
分とする共重合体が好ましく用いられる。とりわけ、ス
チレン／メタクリル酸メチル／メタクリル酸共重合体が
好ましく用いられる。さらに、カルボキシル基を有する
共重合体が側鎖にエチレン性不飽和基を有することも好
ましい。エチレン性不飽和基としては、アクリル基、メ
タクリル基、ビニル基、アリル基などが挙げられる。こ
のような側鎖をポリマーに付加させる方法は、ポリマー
中のメルカプト基、アミノ基、水酸基やカルボキシル基
に対して、グリシジル基やイソシアネート基を有するエ
チレン性不飽和化合物やアクリル酸クロライド、メタク
リル酸クロライドまたはアリルクロライドを付加反応さ
せて作る方法がある。グリシジル基を有するエチレン性
不飽和化合物としては、アクリル酸グリシジル、メタク
リル酸グリシジル、アリルグリシジルエーテル、エチル
アクリル酸グリシジル、クロトニルグリシジルエーテ
ル、クロトン酸グリシジルエーテル、イソクロトン酸グ
リシジルエーテルなどが挙げられる。イソシアネート基
を有するエチレン性不飽和化合物としては、（メタ）ア
クリロイルイソシアナート、（メタ）アクリロイルエチ
ルイソシアネートなどがある。また、グリシジル基やイ
ソシアネート基を有するエチレン性不飽和化合物やアク
リル酸クロライド、メタクリル酸クロライドまたはアリ
ルクロライドは、ポリマー中のメルカプト基、アミノ
基、水酸基やカルボキシル基に対して０．０５〜１モル
等量付加させることが好ましい。適切な露光量を得るた
めには、側鎖にカルボキシル基を有する重合体の添加量
は、溶媒を除いた有機成分中の１０〜９０重量部である
ことが好ましい。また、バインダー成分が必要な場合に
はポリマーとして、ポリビニルアルコール、ポリビニル
ブチラール、メタクリル酸エステル重合体、アクリル酸
エステル重合体、アクリル酸エステル−メタクリル酸エ
ステル共重合体、ブチルメタクリレート樹脂などを用い
ることができる。As the polymer having a carboxyl group in the side chain, a copolymer containing (meth) acrylic acid ester and (meth) acrylic acid as a copolymer component is preferably used because of its low thermal decomposition temperature during firing. Can be In particular, a styrene / methyl methacrylate / methacrylic acid copolymer is preferably used. Further, it is also preferable that the copolymer having a carboxyl group has an ethylenically unsaturated group in a side chain. Examples of the ethylenically unsaturated group include an acryl group, a methacryl group, a vinyl group and an allyl group. A method for adding such a side chain to a polymer is, for a mercapto group, an amino group, a hydroxyl group or a carboxyl group in the polymer, an ethylenically unsaturated compound having a glycidyl group or an isocyanate group, acrylic acid chloride, methacrylic acid chloride. Alternatively, there is a method of making an allyl chloride by an addition reaction. Examples of the ethylenically unsaturated compound having a glycidyl group include glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate, allyl glycidyl ether, glycidyl ethyl acrylate, crotonyl glycidyl ether, glycidyl ether crotonic acid, glycidyl ether isocrotonic acid, and the like. Examples of the ethylenically unsaturated compound having an isocyanate group include (meth) acryloyl isocyanate and (meth) acryloylethyl isocyanate. The ethylenically unsaturated compound having a glycidyl group or an isocyanate group, acrylic acid chloride, methacrylic acid chloride or allyl chloride is used in an amount of 0.05 to 1 mol based on the mercapto group, amino group, hydroxyl group or carboxyl group in the polymer. It is preferable to add an amount. In order to obtain an appropriate amount of exposure, the amount of the polymer having a carboxyl group in the side chain is preferably 10 to 90 parts by weight in the organic component excluding the solvent. When a binder component is required, polyvinyl alcohol, polyvinyl butyral, a methacrylate polymer, an acrylate polymer, an acrylate-methacrylate copolymer, a butyl methacrylate resin, or the like may be used as the polymer. it can.

【００３６】本発明においては、必要に応じてエチレン
性不飽和結合を有するモノマーを用いてもよい。このよ
うな重合性モノマーとしては、１個以上の光重合可能な
（メタ）アクリレート基またはアリル基を有するモノマ
ーなどが挙げられる。これらの具体例としては、アルコ
ール類（例えばエタノール、プロパノール、ヘキサノー
ル、オクタノール、シクロヘキサノール、グリセリン、
トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトールなど）
のアクリル酸またはメタクリル酸エステル、カルボン酸
（例えば酢酸、プロピオン酸、安息香酸、アクリル酸、
メタクリル酸、コハク酸、マレイン酸、フタル酸、酒石
酸、クエン酸など）とアクリル酸グリシジル、メタクリ
ル酸グリシジル、アリルグリシジル、またはテトラグリ
シジルメタキシリレンジアミンとの反応生成物、アミド
誘導体（例えば、アクリルアミド、メタクリルアミド、
Ｎ−メチロールアクリルアミド、メチレンビスアクリル
アミドなど）、エポキシ化合物とアクリル酸またはメタ
クリル酸との反応物、エチレン性不飽和結合を有するグ
リシジル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸ク
ロリド、（メタ）アクリル酸無水物等をアミノ化合物と
反応させて得られるアミン化合物、ウレタン化合物など
を挙げることができる。また、多官能モノマーにおい
て、不飽和基は、アクリル、メタクリル、ビニル、アリ
ル基が混合して存在してもよい。これらは単独で用いて
もよく、また組み合わせて用いてもよい。In the present invention, a monomer having an ethylenically unsaturated bond may be used if necessary. Examples of such a polymerizable monomer include a monomer having one or more photopolymerizable (meth) acrylate groups or allyl groups. Specific examples of these include alcohols (eg, ethanol, propanol, hexanol, octanol, cyclohexanol, glycerin,
Trimethylolpropane, pentaerythritol, etc.)
Acrylic or methacrylic esters, carboxylic acids (eg, acetic acid, propionic acid, benzoic acid, acrylic acid,
Reaction products of methacrylic acid, succinic acid, maleic acid, phthalic acid, tartaric acid, citric acid, etc.) with glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate, allyl glycidyl, or tetraglycidyl methaxylylenediamine, amide derivatives (for example, acrylamide, Methacrylamide,
N-methylolacrylamide, methylenebisacrylamide, etc.), a reaction product of an epoxy compound and acrylic acid or methacrylic acid, glycidyl (meth) acrylate having an ethylenically unsaturated bond, (meth) acrylic acid chloride, (meth) acrylic anhydride Amine compounds and urethane compounds obtained by reacting a product with an amino compound. In the polyfunctional monomer, the unsaturated group may be a mixture of acryl, methacryl, vinyl, and allyl groups. These may be used alone or in combination.

【００３７】本発明に用いる光重合開始剤は、ラジカル
種を発生するものから選んで用いられる。光重合開始剤
としては、ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ
−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、ベン
ジルジメチルケタール、１−（４−イソプロピルフェニ
ル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オ
ン、４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル−（２−
ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン、１−ヒドロキシシ
クロヘキシル−フェニルケトン、１−フェニル−１，２
−プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オ
キシム、２−メチル−［４−（メチルチオ）フェニル］
−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル
−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニ
ル）−ブタノン−１、ベンゾイン、ベンゾインメチルエ
ーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプ
ロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベン
ゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４−フェ
ニルベンゾフェノン、４，４−ジクロロベンゾフェノ
ン、ヒドロキシベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４'
−メチル−ジフェニルサルファイド、アルキル化ベンゾ
フェノン、３，３'，４，４'−テトラ（ｔ−ブチルパー
オキシカルボニル）ベンゾフェノン、４−ベンゾイル−
Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−［２−（１−オキソ−２−プロ
ペニルオキシ）エチル］ベンゼンメタナミニウムブロミ
ド、（４−ベンゾイルベンジル）トリメチルアンモニウ
ムクロリド、２−ヒドロキシ−３−（４−ベンゾイルフ
ェノキシ）−Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチル−１−プロペンア
ミニウムクロリド一水塩、２−イソプロピルチオキサン
トン、２，４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジエ
チルチオキサントン、２，４−ジクロロチオキサント
ン、２ーヒドロキシ−３−（３，４−ジメチル−９−オ
キソ−９Ｈ−チオキサンテン−２−イロキシ）−Ｎ，
Ｎ，Ｎ−トリメチル−１−プロパナミニウムクロリド、
２，４，６−トリメチルベンゾイルフェニルホスフィン
オサイド、２，２'−ビス（ｏ−クロロフェニル）−
４，５，４'，５'−テトラフェニル−１，２−ビイミダ
ゾール、１０−ブチル−２−クロロアクリドン、２−エ
チルアンスラキノン、ベンジル、９，１０−フェナンス
レンキノン、カンファーキノン、メチルフェニルグリオ
キシエステル、η５−シクロペンタジエニル−η６−ク
メニル−アイアン（１＋）−ヘキサフルオロフォスフェ
イト（１−）、ジフェニルスルフィド誘導体、ビス（η
５−２，４−シクロペンタジエン−１−イル）−ビス
（２，６−ジフルオロ−３−（１Ｈ−ピロール−１−イ
ル）−フェニル）チタニウム、４，４−ビス（ジメチル
アミノ）ベンゾフェノン、４，４−ビス（ジエチルアミ
ノ）ベンゾフェノン、チオキサントン、２−メチルチオ
キサントン、２−クロロチオキサントン、４−ベンゾイ
ル−４−メチルフェニルケトン、ジベンジルケトン、フ
ルオレノン、２，３−ジエトキシアセトフェノン、２，
２−ジメトキシ−２−フェニル−２−フェニルアセトフ
ェノン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノ
ン、ｐ−ｔ−ブチルジクロロアセトフェノン、ベンジル
メトキシエチルアセタール、アントラキノン、２−ｔ−
ブチルアントラキノン、２−アミノアントラキノン、β
−クロルアントラキノン、アントロン、ベンズアントロ
ン、ジベンズスベロン、メチレンアントロン、４−アジ
ドベンザルアセトフェノン、２，６−ビス（ｐ−アジド
ベンジリデン）シクロヘキサン、２，６−ビス（ｐ−ア
ジドベンジリデン）−４−メチルシクロヘキサノン、２
−フェニル−１，２−ブタジオン−２−（ｏ−メトキシ
カルボニル）オキシム、１，３−ジフェニルプロパント
リオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、ナ
フタレンスルフォニルクロライド、キノリンスルホニル
クロライド、Ｎ−フェニルチオアクリドン、４，４−ア
ゾビスイソブチロニトリル、ベンズチアゾールジスルフ
ィド、トリフェニルホスフィン、四臭素化炭素、トリブ
ロモフェニルスルホン、過酸化ベンゾイルおよびエオシ
ン、メチレンブルーなどの光還元性の色素とアスコルビ
ン酸、トリエタノールアミンなどの還元剤の組み合わせ
などが挙げられる。本発明では、これらを１種または２
種以上使用することができる。光重合開始剤は、感光性
有機成分に対し、好ましくは０．０５〜１０重量部の範
囲で添加され、より好ましくは、０．１〜１０重量部で
ある。光重合開始剤の添加量をこの範囲内とすることに
より、露光部の残存率を保ちつつ良好な光感度を得るこ
とができる。The photopolymerization initiator used in the present invention is selected from those generating radical species. Examples of the photopolymerization initiator include diethoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, benzyldimethylketal, and 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropane-. 1-one, 4- (2-hydroxyethoxy) phenyl- (2-
(Hydroxy-2-propyl) ketone, 1-hydroxycyclohexyl-phenyl ketone, 1-phenyl-1,2
-Propanedione-2- (o-ethoxycarbonyl) oxime, 2-methyl- [4- (methylthio) phenyl]
-2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl Ether, benzophenone, methyl o-benzoylbenzoate, 4-phenylbenzophenone, 4,4-dichlorobenzophenone, hydroxybenzophenone, 4-benzoyl-4 '
-Methyl-diphenyl sulfide, alkylated benzophenone, 3,3 ', 4,4'-tetra (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone, 4-benzoyl-
N, N-dimethyl-N- [2- (1-oxo-2-propenyloxy) ethyl] benzenemethanaminium bromide, (4-benzoylbenzyl) trimethylammonium chloride, 2-hydroxy-3- (4-benzoylphenoxy) ) -N, N, N-Trimethyl-1-propenaminium chloride monohydrate, 2-isopropylthioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone, 2-hydroxy-3 -(3,4-dimethyl-9-oxo-9H-thioxanthen-2-yloxy) -N,
N, N-trimethyl-1-propanaminium chloride,
2,4,6-trimethylbenzoylphenylphosphine oxide, 2,2′-bis (o-chlorophenyl)-
4,5,4 ′, 5′-tetraphenyl-1,2-biimidazole, 10-butyl-2-chloroacridone, 2-ethylanthraquinone, benzyl, 9,10-phenanthrenequinone, camphorquinone, Methylphenylglyoxyester, η5-cyclopentadienyl-η6-cumenyl-iron (1 +)-hexafluorophosphate (1-), diphenyl sulfide derivative, bis (η
5-2,4-cyclopentadien-1-yl) -bis (2,6-difluoro-3- (1H-pyrrol-1-yl) -phenyl) titanium, 4,4-bis (dimethylamino) benzophenone, , 4-bis (diethylamino) benzophenone, thioxanthone, 2-methylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 4-benzoyl-4-methylphenylketone, dibenzylketone, fluorenone, 2,3-diethoxyacetophenone, 2,
2-dimethoxy-2-phenyl-2-phenylacetophenone, 2-hydroxy-2-methylpropiophenone, pt-butyldichloroacetophenone, benzylmethoxyethyl acetal, anthraquinone, 2-t-
Butylanthraquinone, 2-aminoanthraquinone, β
-Chloranthraquinone, anthrone, benzanthrone, dibenzsuberone, methyleneanthrone, 4-azidobenzalacetophenone, 2,6-bis (p-azidobenzylidene) cyclohexane, 2,6-bis (p-azidobenzylidene) -4-methylcyclohexanone , 2
-Phenyl-1,2-butadione-2- (o-methoxycarbonyl) oxime, 1,3-diphenylpropanetrione-2- (o-ethoxycarbonyl) oxime, naphthalenesulfonyl chloride, quinoline sulfonyl chloride, N-phenylthioacrylic And photoreducing dyes such as 4,4-azobisisobutyronitrile, benzthiazole disulfide, triphenylphosphine, carbon tetrabromide, tribromophenylsulfone, benzoyl peroxide and eosin, methylene blue and ascorbic acid, Examples include a combination of a reducing agent such as ethanolamine. In the present invention, one or two of these are used.
More than one species can be used. The photopolymerization initiator is added in an amount of preferably 0.05 to 10 parts by weight, more preferably 0.1 to 10 parts by weight, based on the amount of the photosensitive organic component. By setting the amount of the photopolymerization initiator in this range, it is possible to obtain good photosensitivity while maintaining the remaining ratio of the exposed portion.

【００３８】光重合開始剤と共に増感剤を使用し、感度
を向上させたり、反応に有効な波長範囲を拡大すること
ができる。増感剤の具体例としては、２，４−ジメチル
チオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２
−イソプロピルチオキサントン、２，３−ビス（４−ジ
エチルアミノベンザル）シクロペンタノン、２，６−ビ
ス（４−ジメチルアミノベンザル）シクロヘキサノン、
２，６−ビス（４−ジメチルアミノベンザル）−４−メ
チルシクロヘキサノン、ミヒラーケトン、４，４−ビス
（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４−ビス（ジ
メチルアミノ）カルコン、４，４−ビス（ジエチルアミ
ノ）カルコン、ｐ−ジメチルアミノシンナミリデンイン
ダノン、ｐ−ジメチルアミノベンジリデンインダノン、
２−（ｐ−ジメチルアミノフェニルビニレン）イソナフ
トチアゾール、１，３−ビス（４−ジメチルアミノフェ
ニルビニレン）イソナフトチアゾール、１，３−ビス
（４−ジメチルアミノベンザル）アセトン、１，３−カ
ルボニルビス（４−ジエチルアミノベンザル）アセト
ン、３，３−カルボニルビス（７−ジエチルアミノクマ
リン）、トリエタノールアミン、メチルジエタノールア
ミン、トリイソプロパノールアミン、Ｎ−フェニル−Ｎ
−エチルエタノールアミン、Ｎ−フェニルエタノールア
ミン、Ｎ−トリルジエタノールアミン、４−ジメチルア
ミノ安息香酸メチル、４−ジメチルアミノ安息香酸エチ
ル、ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、ジエチルアミ
ノ安息香酸イソアミル、安息香酸（２−ジメチルアミ
ノ）エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸（ｎ−ブトキ
シ）エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸２−エチルヘ
キシル、３−フェニル−５−ベンゾイルチオテトラゾー
ル、１−フェニル−５−エトキシカルボニルチオテトラ
ゾールなどが挙げられる。本発明ではこれらを１種また
は２種以上使用することができる。なお、増感剤の中に
は光重合開始剤としても使用できるものがある。増感剤
を本発明の感光性ペーストに添加する場合、その添加量
は感光性有機成分に対して好ましくは０．０５〜１０重
量部、より好ましくは０．１〜１０重量部である。増感
剤の添加量をこの範囲内とすることにより、露光部の残
存率を保ちつつ良好な光感度を得ることができる 本発明では酸化防止剤が好ましく添加される。酸化防止
剤とは、ラジカル連鎖禁止作用、三重項の消去作用、ハ
イドロパーオキサイドの分解作用をもつものである。感
光性ペーストは、例えばプラズマディスプレイ用部材の
隔壁製造に用いられる場合、多くの無機微粒子を含有す
るために露光光の光散乱が避け難く、これに起因すると
考えられるパターン形状の太りやパターン間の埋り（残
膜形成）が発生しやすい。パターンの壁は垂直に切り立
ち、矩形になることが望ましい。理想的には、ある露光
量以下では現像液に溶解し、それ以上では現像液に不溶
となることである。つまり、光散乱によって低い露光量
で硬化しても現像液に溶解し、パターン形状の太りやパ
ターン間の埋まりが解消され、露光量を多くしても解像
できる範囲が広いことが好ましい。感光性ペーストに酸
化防止剤を添加すると、酸化防止剤がラジカルを捕獲し
たり、励起された光重合開始剤や増感剤のエネルギー状
態を基底状態に戻したりすることにより散乱光による余
分な光反応が抑制され、酸化防止剤で抑制できなくなる
露光量で急激に光反応が起こることにより、現像液への
溶解、不溶のコントラストを高くすることができる。具
体的には、ｐ−ベンゾキノン、ナフトキノン、ｐ−キシ
ロキノン、ｐ−トルキノン、２，６−ジクロロキノン、
２，５−ジアセトキシ−ｐ−ベンゾキノン、２，５−ジ
カプロキシ−ｐ−ベンゾキノン、ヒドロキノン、ｐ−ｔ
−ブチルカテコール、２，５−ジブチルヒドロキノン、
モノ−ｔ−ブチルヒドロキノン、２，５−ジ−ｔ−アミ
ルヒドロキノン、ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ヒ
ドロキノンモノメチルエーテル、α−ナフトール、ヒド
ラジン塩酸塩、トリメチルベンジルアンモニウムクロリ
ド、トリメチルベンジルアンモニウムオキザレート、フ
ェニル−β−ナフチルアミン、パラベンジルアミノフェ
ノール、ジ−β−ナフチルパラフェニレンジアミン、ジ
ニトロベンゼン、トリニトロベンゼン、ピクリン酸、キ
ノンジオキシム、シクロヘキサノンオキシム、ピロガロ
ール、タンニン酸、トリエチルアミン塩酸塩、ジメチル
アニリン塩酸塩、クペロン、（２，２'−チオビス（４
−ｔ−オクチルフェノレート）−２−エチルヘキシルア
ミノニッケル−（II）、４，４'−チオビス−（３−メ
チル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２'−メチレ
ンビス−（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、
２，２'−チオビス−（４−メチル−６−ｔ−ブチルフ
ェノール）、トリエチレングリコール−ビス［３−（ｔ
−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロ
ピオネート］、１，６−ヘキサンジオール−ビス
［（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロピオネート］、１，２，３−トリヒドロキシベ
ンゼン、などが挙げられるがこれらに限定されない。本
発明では、これらを１種以上使用することができる。酸
化防止剤の添加量は、感光性ペースト中に好ましくは
０．１〜３０重量部、より好ましくは、０．５〜２０重
量部の範囲である。酸化防止剤の添加量をこの範囲内と
することにより、感光性ペーストの光感度を維持し、ま
た重合度を保ちパターン形状を維持しつつ、現像液への
溶解、不溶のコントラストを大きくとることができる。By using a sensitizer together with the photopolymerization initiator, the sensitivity can be improved and the wavelength range effective for the reaction can be extended. Specific examples of the sensitizer include 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone,
-Isopropylthioxanthone, 2,3-bis (4-diethylaminobenzal) cyclopentanone, 2,6-bis (4-dimethylaminobenzal) cyclohexanone,
2,6-bis (4-dimethylaminobenzal) -4-methylcyclohexanone, Michler's ketone, 4,4-bis (diethylamino) benzophenone, 4,4-bis (dimethylamino) chalcone, 4,4-bis (diethylamino) Chalcone, p-dimethylaminocinnamylidene indanone, p-dimethylaminobenzylidene indanone,
2- (p-dimethylaminophenylvinylene) isonaphthothiazole, 1,3-bis (4-dimethylaminophenylvinylene) isonaphthothiazole, 1,3-bis (4-dimethylaminobenzal) acetone, 1,3- Carbonyl bis (4-diethylaminobenzal) acetone, 3,3-carbonylbis (7-diethylaminocoumarin), triethanolamine, methyldiethanolamine, triisopropanolamine, N-phenyl-N
-Ethylethanolamine, N-phenylethanolamine, N-tolyldiethanolamine, methyl 4-dimethylaminobenzoate, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, isoamyl dimethylaminobenzoate, isoamyl diethylaminobenzoate, benzoic acid (2-dimethylamino ) Ethyl, (n-butoxy) ethyl 4-dimethylaminobenzoate, 2-ethylhexyl 4-dimethylaminobenzoate, 3-phenyl-5-benzoylthiotetrazole, 1-phenyl-5-ethoxycarbonylthiotetrazole and the like. . In the present invention, one or more of these can be used. Some sensitizers can also be used as photopolymerization initiators. When a sensitizer is added to the photosensitive paste of the present invention, the amount of the sensitizer is preferably 0.05 to 10 parts by weight, more preferably 0.1 to 10 parts by weight, based on the amount of the photosensitive organic component. By setting the amount of the sensitizer to be in this range, good photosensitivity can be obtained while maintaining the residual ratio of the exposed portion. In the present invention, an antioxidant is preferably added. The antioxidant has a radical chain inhibiting action, a triplet eliminating action, and a hydroperoxide decomposing action. When the photosensitive paste is used, for example, for manufacturing a partition wall of a member for a plasma display, light scattering of exposure light is inevitable due to the inclusion of many inorganic fine particles. Filling (residual film formation) is likely to occur. The walls of the pattern are desirably vertically cut and rectangular. Ideally, it is dissolved in the developer below a certain exposure amount, and insoluble in the developer above it. In other words, it is preferable that even if the resin is cured at a low exposure dose due to light scattering, it is dissolved in the developing solution, the thickening of the pattern shape and the filling between the patterns are eliminated, and the resolution range is wide even if the exposure dose is increased. When an antioxidant is added to the photosensitive paste, the antioxidant captures radicals and returns the energy state of the excited photopolymerization initiator and sensitizer to the ground state, thereby generating extra light due to scattered light. The reaction is suppressed, and a photoreaction occurs abruptly at an exposure dose that cannot be suppressed by the antioxidant, so that the contrast between dissolution and insolubility in the developer can be increased. Specifically, p-benzoquinone, naphthoquinone, p-xyloquinone, p-toluquinone, 2,6-dichloroquinone,
2,5-diacetoxy-p-benzoquinone, 2,5-dicaproxy-p-benzoquinone, hydroquinone, pt
-Butylcatechol, 2,5-dibutylhydroquinone,
Mono-t-butylhydroquinone, 2,5-di-t-amylhydroquinone, di-t-butyl-p-cresol, hydroquinone monomethyl ether, α-naphthol, hydrazine hydrochloride, trimethylbenzylammonium chloride, trimethylbenzylammonium oxa Rate, phenyl-β-naphthylamine, parabenzylaminophenol, di-β-naphthylparaphenylenediamine, dinitrobenzene, trinitrobenzene, picric acid, quinonedioxime, cyclohexanone oxime, pyrogallol, tannic acid, triethylamine hydrochloride, dimethylaniline hydrochloride Salt, cuperon, (2,2′-thiobis (4
-T-octylphenolate) -2-ethylhexylaminonickel- (II), 4,4'-thiobis- (3-methyl-6-t-butylphenol), 2,2'-methylenebis- (4-methyl-6 -T-butylphenol),
2,2′-thiobis- (4-methyl-6-t-butylphenol), triethylene glycol-bis [3- (t
-Butyl-5-methyl-4-hydroxyphenyl) propionate], 1,6-hexanediol-bis [(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], 1,2,3-triene Hydroxybenzene, and the like, but are not limited thereto. In the present invention, one or more of these can be used. The amount of the antioxidant to be added is preferably 0.1 to 30 parts by weight, more preferably 0.5 to 20 parts by weight in the photosensitive paste. By keeping the addition amount of the antioxidant within this range, it is possible to maintain the photosensitivity of the photosensitive paste, maintain the degree of polymerization and maintain the pattern shape, and increase the contrast between dissolution and insolubility in the developer. Can be.

【００３９】また、紫外線吸収剤を添加することで、露
光光によるペースト内部の散乱光を吸収し、散乱光を弱
めることができる。紫外線吸収剤としては、ベンゾフェ
ノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、サリチル
酸系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、インドール
系化合物、無機系の微粒子酸化金属などが挙げられる。
これらの中でもベンゾフェノン系化合物、シアノアクリ
レート系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、インド
ール系化合物が特に有効である。これらの具体例として
は、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロ
キシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２'−ジヒド
ロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２'−ジヒ
ドロキシ−４，４'−ジメトキシベンゾフェノン、２，
２'−ジヒドロキシ−４，４'−ジメトキシ−５−スルホ
ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−２'
−カルボキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メ
トキシ−５−スルホベンゾフェノントリヒドレート、２
−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシベンゾフェノン、２
−ヒドロキシ−４−オクタデシロキシベンゾフェノン、
２，２'，４，４'−テトラヒドロキシベンゾフェノン、
４−ドデシロキシ−２−ヒドロキシベンゾフェノン、２
−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−メタクリロ
キシ）プロポキシベンゾフェノン、２−（２'−ヒドロ
キシ−５'−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２
−（２'−ヒドロキシ−３'，５'−ジ−ｔ−ブチルフェ
ニル）ベンゾトリアゾール、２−（２'−ヒドロキシ−
３'−ｔ−ブチル−５'−メチルフェニル）−５−クロロ
ベンゾトリアゾール、２−（２'−ヒドロキシ−３'，
５'−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾト
リアゾール、２−（２'−ヒドロキシ−４'−ｎ−オクト
キシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−エチルヘキシ
ル−２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート、２
−エチル−２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレー
ト、インドール系の吸収剤であるＢＯＮＡＳＯＲＢ Ｕ
Ａ−３９０１（オリエント化学社製）、ＢＯＮＡＳＯＲ
Ｂ ＵＡ−３９０２（オリエント化学社製）ＳＯＭ−２
−０００８（オリエント化学社製）などが挙げられるが
これらに限定されない。さらに、これら紫外線吸収剤の
骨格にメタクリル基などを導入し反応型として用いても
よい。本発明では、これらを１種以上使用することがで
きる。紫外線吸収剤の添加量は、ペースト中に好ましく
は０．００１〜１０重量部、より好ましくは、０．００
５〜５重量部の範囲である。この範囲内とすることによ
り、透過限界波長および波長傾斜幅を所望範囲内にとど
め、露光光の透過率、感光性ペーストの感度を保持しつ
つ散乱光の吸収効果を得ることができる。By adding an ultraviolet absorber, scattered light inside the paste due to exposure light can be absorbed and scattered light can be reduced. Examples of the ultraviolet absorber include a benzophenone-based compound, a cyanoacrylate-based compound, a salicylic acid-based compound, a benzotriazole-based compound, an indole-based compound, and inorganic fine metal oxides.
Of these, benzophenone-based compounds, cyanoacrylate-based compounds, benzotriazole-based compounds, and indole-based compounds are particularly effective. Specific examples of these include 2,4-dihydroxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone, 2,2′-dihydroxy-4-methoxybenzophenone, 2,2′-dihydroxy-4,4′-dimethoxybenzophenone, 2,
2'-dihydroxy-4,4'-dimethoxy-5-sulfobenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxy-2 '
-Carboxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxy-5-sulfobenzophenone trihydrate, 2
-Hydroxy-4-n-octoxybenzophenone, 2
-Hydroxy-4-octadecyloxybenzophenone,
2,2 ′, 4,4′-tetrahydroxybenzophenone,
4-dodecyloxy-2-hydroxybenzophenone, 2
-Hydroxy-4- (2-hydroxy-3-methacryloxy) propoxybenzophenone, 2- (2′-hydroxy-5′-methylphenyl) benzotriazole,
-(2'-hydroxy-3 ', 5'-di-tert-butylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-
3′-t-butyl-5′-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2′-hydroxy-3 ′,
5'-di-t-butylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2'-hydroxy-4'-n-octoxyphenyl) benzotriazole, 2-ethylhexyl-2-cyano-3,3-diphenyl Acrylate, 2
-Ethyl-2-cyano-3,3-diphenyl acrylate, BONASORB U which is an indole-based absorbent
A-3901 (manufactured by Orient Chemical Co., Ltd.), BONASOR
B UA-3902 (manufactured by Orient Chemical Co.) SOM-2
-0008 (manufactured by Orient Chemical Co., Ltd.) and the like, but are not limited thereto. Further, a methacryl group or the like may be introduced into the skeleton of these ultraviolet absorbers and used as a reaction type. In the present invention, one or more of these can be used. The amount of the ultraviolet absorber added is preferably 0.001 to 10 parts by weight in the paste, more preferably 0.001 to 10 parts by weight.
It is in the range of 5 to 5 parts by weight. By setting it within this range, the transmission limit wavelength and the wavelength gradient width can be kept within desired ranges, and the effect of absorbing scattered light can be obtained while maintaining the transmittance of exposure light and the sensitivity of the photosensitive paste.

【００４０】また、本発明では、露光、現像の目印とし
て有機系染料を添加することができる。染料を添加して
着色することにより視認性が良くなり、現像時にペース
トが残存している部分と除去された部分との区別が容易
になる。有機染料としては、特に限定はされないが、焼
成後の絶縁膜中に残存しないものが好ましい。具体的に
はアゾ系染料、アントラキノン系染料、インジゴイド系
染料、フタロシアニン系染料、カルボニウム系染料、キ
ノンイミン系染料、メチン系染料、キノリン系染料、ニ
トロ系染料、ニトロソ系染料、ベンゾキノン系染料、ナ
フトキノン系染料、フタルイミド系染料、ペリノン系染
料などが使用できる。特に、ｈ線とｉ線付近の波長の光
を吸収するもの、例えばベーシックブルー等のカルボニ
ウム系染料を選択すると、本発明の効果がより出やすく
なり好ましい。有機染料の添加量は０．００１〜１重量
％であることが好ましい。In the present invention, an organic dye can be added as a mark for exposure and development. By adding a dye and coloring, visibility is improved, and it becomes easy to distinguish a portion where the paste remains and a portion where the paste has been removed during development. The organic dye is not particularly limited, but preferably does not remain in the insulating film after firing. Specifically, azo dyes, anthraquinone dyes, indigoid dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinone imine dyes, methine dyes, quinoline dyes, nitro dyes, nitroso dyes, benzoquinone dyes, naphthoquinone dyes Dyes, phthalimide dyes, perinone dyes and the like can be used. In particular, it is preferable to select a material that absorbs light having wavelengths near the h-line and the i-line, for example, a carbonium-based dye such as basic blue, because the effects of the present invention can be more easily achieved. The added amount of the organic dye is preferably 0.001 to 1% by weight.

【００４１】感光性ペーストを基板に塗布する時の粘度
を塗布方法に応じて調整するために有機溶媒が使用され
る。このとき使用される有機溶媒としては、メチルセロ
ソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、メチル
エチルケトン、ジオキサン、アセトン、シクロヘキサノ
ン、シクロペンタノン、イソブチルアルコール、イソプ
ロピルアルコール、テトラヒドロフラン、ジメチルスル
フォキシド、γ−ブチロラクトン、ブロモベンゼン、ク
ロロベンゼン、ジブロモベンゼン、ジクロロベンゼン、
ブロモ安息香酸、クロロ安息香酸などや、これらのうち
の１種以上を含有する有機溶媒混合物が用いられる。An organic solvent is used to adjust the viscosity when applying the photosensitive paste to the substrate according to the application method. As the organic solvent used at this time, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, methyl ethyl ketone, dioxane, acetone, cyclohexanone, cyclopentanone, isobutyl alcohol, isopropyl alcohol, tetrahydrofuran, dimethyl sulfoxide, γ-butyrolactone, bromobenzene, Chlorobenzene, dibromobenzene, dichlorobenzene,
Bromobenzoic acid, chlorobenzoic acid, and the like, and an organic solvent mixture containing at least one of them are used.

【００４２】感光性ペーストは、通常、無機微粒子と反
応性ポリマー、反応性モノマー、反応性オリゴマー、紫
外線吸収剤、酸化防止剤、有機染料、分散剤、吸光剤、
および溶媒などから構成される感光性有機成分を所定の
組成となるように調合した後、３本ローラや混練機で均
質に混合分散し作製する。感光性ペーストの粘度は、有
機溶媒によりその範囲は２０００〜２０万ｃｐｓ（セン
チ・ポイズ）程度に調整して使用される。例えば、基板
への塗布をスピンコート法で行う場合は、２０００〜５
０００ｃｐｓが好ましい。スクリーン印刷法で１回塗布
して膜厚１０〜２０μｍを得るには、５万〜２０万ｃｐ
ｓが好ましい。ブレードコーター法やダイコーター法な
どを用いる場合は、１万〜５万ｃｐｓが好ましい。この
時使用される有機溶媒としては、プロピレングリコー
ル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピ
レングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロ
ピレングリコールモノメチルエーテル、メチルセロソル
ブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、メチルエチ
ルケトン、ジオキサン、アセトン、シクロヘキサノン、
シクロペンタノン、イソブチルアルコール、イソプロピ
ルアルコール、テトラヒドロフラン、ジメチルスルフォ
キシド、γ-ブチロラクトンなどやこれらのうちの1種以
上を含有する有機溶媒混合物が挙げられる。フィラーＢ
の酸化物微粒子の分散溶媒と感光性有機成分の溶媒が異
なる場合、これらの溶媒を混合して使用することによっ
てフィラーＢの凝集を避けることができる。The photosensitive paste is usually composed of inorganic fine particles and a reactive polymer, a reactive monomer, a reactive oligomer, an ultraviolet absorber, an antioxidant, an organic dye, a dispersant, a light absorber,
And a photosensitive organic component composed of a solvent and the like so as to have a predetermined composition, and then uniformly mixed and dispersed with a three-roller or a kneader to produce. The viscosity of the photosensitive paste is adjusted to about 2000 to 200,000 cps (centipoise) with an organic solvent before use. For example, when the coating on the substrate is performed by spin coating,
000 cps is preferred. 50,000 to 200,000 cp to obtain a film thickness of 10 to 20 μm by applying once by screen printing
s is preferred. When using a blade coater method, a die coater method, or the like, 10,000 to 50,000 cps is preferable. As the organic solvent used at this time, propylene glycol, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, dipropylene glycol monomethyl ether, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, methyl ethyl ketone, dioxane, acetone, cyclohexanone,
Examples thereof include cyclopentanone, isobutyl alcohol, isopropyl alcohol, tetrahydrofuran, dimethyl sulfoxide, γ-butyrolactone, and an organic solvent mixture containing at least one of these. Filler B
When the dispersion solvent of the oxide fine particles is different from the solvent of the photosensitive organic component, aggregation of the filler B can be avoided by mixing and using these solvents.

【００４３】以下、本発明の感光性ペーストの製造方法
を説明するが、本発明はこれに限定されない。感光性有
機成分からイオン交換法により、塩素イオンの全部また
は一部を除去する工程を用いる。イオン交換の一例を示
すと、少なくとも感光性有機成分と粒状のイオン交換樹
脂を混合、攪拌し、その後、濾過などによりイオン交換
樹脂を取り除くという方法がある。この場合、４０〜７
０℃に加熱すると感光性ペーストの粘度が低下するため
イオン交換の効率が高くなり、また濾過の操作性が向上
する。陰イオン交換樹脂には、スチレン、ビニルトルエ
ン、エチルスチレン等のモノビニル芳香族化合物と、ジ
ビニルベンゼン、トリビニルベンゼン、ジビニルトルエ
ン、ジビニルキシレン等のポリビニル化合物との共重合
体を母体とし、これにクロロメチルメチルエーテル、ク
ロロエチルメチルエーテル、クロロメチルエチルエーテ
ル、ブロモメチルメチルエーテル、ブロモエチルメチル
エーテル、ブロモメチルエチルエーテル等のハロアルキ
ル化剤を作用させてハロアルキル化したのち、ジメチル
アミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン等のアミ
ンと反応させて１〜３級アミノ基および／または４級ア
ンモニウム基を有する陰イオン交換基を導入したものが
使用できる。ここでは陰イオン交換樹脂によるイオン交
換法の一例を示したが、本発明ではそれらの個別の方法
には限定されず、陰イオン交換膜、陰イオン交換繊維や
含水酸化ビスマス、水酸化燐酸鉛などの無機の陰イオン
交換体を用いることにより、感光性有機成分から塩素イ
オンを吸着またはイオン交換し、その量を低減すること
ができる。また、本発明の感光性ペーストの製造方法に
おいては、感光性有機成分からイオン交換法により塩素
イオンの全部または一部を除去する工程の後、もしく
は、同時に陽イオンを除去する工程を含むことが好まし
い。つまり、陰イオン交換後、もしくは、同時に陽イオ
ン交換を行い、陽イオンを低減することにより、フィラ
ーの分散性を向上させることができる。陽イオン交換は
具体的には、スルホン酸基やカルボン酸基などの陽イオ
ン交換基をもつイオン交換樹脂、陽イオン交換膜、陽イ
オン交換繊維や無機の陽イオン交換体を用いることによ
り、陽イオンを吸着または、イオン交換しその量を低減
することができる。Hereinafter, a method for producing the photosensitive paste of the present invention will be described, but the present invention is not limited thereto. A step of removing all or a part of chlorine ions from the photosensitive organic component by an ion exchange method is used. As an example of ion exchange, there is a method of mixing and stirring at least a photosensitive organic component and a granular ion exchange resin, and then removing the ion exchange resin by filtration or the like. In this case, 40-7
When heated to 0 ° C., the viscosity of the photosensitive paste decreases, so that the efficiency of ion exchange increases and the operability of filtration improves. The anion exchange resin is based on a copolymer of a monovinyl aromatic compound such as styrene, vinyltoluene, and ethylstyrene and a polyvinyl compound such as divinylbenzene, trivinylbenzene, divinyltoluene, and divinylxylene. After reacting with a haloalkylating agent such as methyl methyl ether, chloroethyl methyl ether, chloromethyl ethyl ether, bromomethyl methyl ether, bromoethyl methyl ether, or bromomethyl ethyl ether to perform haloalkylation, dimethylamine, trimethylamine, triethylamine, etc. Those obtained by reacting with an amine to introduce an anion exchange group having a primary to tertiary amino group and / or a quaternary ammonium group can be used. Here, an example of an ion exchange method using an anion exchange resin is shown, but the present invention is not limited to these individual methods, and anion exchange membranes, anion exchange fibers, hydrated bismuth oxide, lead hydroxide phosphate, etc. By using the inorganic anion exchanger of the above, chloride ions can be adsorbed or ion-exchanged from the photosensitive organic component, and the amount thereof can be reduced. Further, the method for producing a photosensitive paste of the present invention may include a step of removing all or a part of chloride ions from the photosensitive organic component by an ion exchange method, or a step of simultaneously removing cations. preferable. That is, the cation exchange is performed after or simultaneously with the anion exchange to reduce the cations, thereby improving the dispersibility of the filler. Cation exchange is specifically performed by using an ion exchange resin having a cation exchange group such as a sulfonic acid group or a carboxylic acid group, a cation exchange membrane, a cation exchange fiber or an inorganic cation exchanger. Ions can be adsorbed or ion-exchanged to reduce the amount.

【００４４】感光性有機成分とフィラーＢの混合物に前
述の陰イオン交換樹脂を混合、攪拌し、その後、濾過な
どによりイオン交換樹脂を取り除くという方法もある。
これにより、フィラーＢに含まれる塩素イオンの全部ま
たは一部を除去することができる。この場合も４０〜７
０℃に加熱すると感光性ペーストの粘度が低下するため
イオン交換の効率が高くなり、また濾過の操作性が向上
する傾向がある。フィラーＢは平均粒子径が０．００３
〜０．０２μｍであり、イオン交換樹脂の粒子径と比較
して微小なため、濾過時に除去されることがなく、有機
成分中に含まれる。ここではイオン交換樹脂によるイオ
ン交換法の例を示したが、本発明ではそれらの個別の方
法には限定されず、任意のイオン交換法を使用しうる。
また、本発明では感光性有機成分とフィラーＢを含有す
る感光性ペーストからイオン交換法により塩素イオンの
全部または一部を除去する工程の後、もしくは、同時に
陽イオンを除去する工程を含むことが好ましい。つま
り、陰イオン交換後、もしくは、同時に陽イオン交換を
行い、陽イオンを低減することにより、さらに分散性を
向上させることができる。There is also a method in which the above-described anion exchange resin is mixed with a mixture of the photosensitive organic component and the filler B, stirred, and then the ion exchange resin is removed by filtration or the like.
Thereby, all or a part of the chlorine ions contained in the filler B can be removed. Also in this case 40-7
When heated to 0 ° C., the viscosity of the photosensitive paste decreases, so that the efficiency of ion exchange increases and the operability of filtration tends to improve. Filler B has an average particle size of 0.003
０．０0.02 μm, which is very small compared to the particle size of the ion exchange resin, so that it is not removed during filtration and is contained in the organic component. Although an example of the ion exchange method using an ion exchange resin is shown here, the present invention is not limited to these individual methods, and any ion exchange method can be used.
Further, the present invention may include a step of removing all or a part of chloride ions from the photosensitive paste containing the photosensitive organic component and the filler B by an ion exchange method, or a step of simultaneously removing cations. preferable. That is, cation exchange is performed after or simultaneously with anion exchange to reduce cations, so that dispersibility can be further improved.

【００４５】以下、感光性ペーストを用いてディスプレ
イ用部材の作製方法の一例について説明するが、本発明
はこれに限定されない。Hereinafter, an example of a method for manufacturing a display member using a photosensitive paste will be described, but the present invention is not limited to this.

【００４６】基板上に、導電性金属によりアドレス電極
を形成する。導電性金属としては、銀、銅、クロム、ア
ルミニウム、ニッケル、金などを用いることができる。
アドレス電極は幅２０〜１００μｍのストライプ状に形
成される。次いで電極を被覆するように誘電体層を形成
するのが好ましい。An address electrode is formed on a substrate by using a conductive metal. Silver, copper, chromium, aluminum, nickel, gold, or the like can be used as the conductive metal.
The address electrodes are formed in a stripe shape having a width of 20 to 100 μm. Next, it is preferable to form a dielectric layer so as to cover the electrodes.

【００４７】次いで、誘電体層上もしくは電極が形成さ
れた基板上に、感光性ペーストを全面塗布、もしくは部
分的に塗布する。塗布方法としては、スクリーン印刷
法、バーコーター、ロールコーター、ダイコーター、ブ
レードコーターなどの方法を用いることができる。塗布
厚みは、塗布回数、スクリーンのメッシュ、ペーストの
粘度を選ぶことによって調整できる。Next, the photosensitive paste is applied entirely or partially on the dielectric layer or the substrate on which the electrodes are formed. As a coating method, a method such as a screen printing method, a bar coater, a roll coater, a die coater, or a blade coater can be used. The coating thickness can be adjusted by selecting the number of coatings, the screen mesh, and the viscosity of the paste.

【００４８】ここでペーストを基板上に塗布する場合、
基板と塗布膜との密着性を高めるために基板の表面処理
を行うことができる。表面処理液としては、シランカッ
プリング剤、例えば、ビニルトリクロロシラン、ビニル
トリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、トリ
ス（２−メトキシエトキシ）ビニルシラン、γ−グリシ
ドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−（メタクリロ
キシプロピル）トリメトキシシラン、γ−（２−アミノ
エチル）アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−クロ
ロプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピ
ルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキ
シシランなど、あるいは有機金属例えば、有機チタン、
有機アルミニウム、有機ジルコニウムなどである。シラ
ンカップリング剤あるいは有機金属を有機溶媒、例え
ば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレン
グリコールモノエチルエーテル、メチルアルコール、エ
チルアルコール、プロピルアルコール、ブチルアルコー
ルなどで０．１〜５％の濃度に希釈したものを用いる。
次にこの表面処理液をスピナーなどで基板上に均一に塗
布した後に８０〜１４０℃で１０〜６０分間乾燥するこ
とによって表面処理ができる。Here, when applying the paste on the substrate,
Surface treatment of the substrate can be performed to enhance the adhesion between the substrate and the coating film. Examples of the surface treatment liquid include silane coupling agents such as vinyltrichlorosilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, tris (2-methoxyethoxy) vinylsilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ- (methacrylic acid). Roxypropyl) trimethoxysilane, γ- (2-aminoethyl) aminopropyltrimethoxysilane, γ-chloropropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, and the like, or an organic metal such as , Organic titanium,
Organic aluminum, organic zirconium and the like. A silane coupling agent or an organic metal diluted with an organic solvent such as ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, methyl alcohol, ethyl alcohol, propyl alcohol, or butyl alcohol to a concentration of 0.1 to 5% is used. Used.
Next, this surface treatment liquid is uniformly applied on a substrate by a spinner or the like, and then dried at 80 to 140 ° C. for 10 to 60 minutes to perform surface treatment.

【００４９】塗布した後、露光装置を用いて露光を行
う。露光装置としては、プロキシミティ露光機などを用
いることができる。また、大面積の露光を行う場合は、
基板上に感光性ペーストを塗布した後に、搬送しながら
露光を行うことによって、小さな露光面積の露光機で、
大きな面積を露光することができる。After application, exposure is performed using an exposure apparatus. As an exposure apparatus, a proximity exposure machine or the like can be used. Also, when performing large area exposure,
After applying the photosensitive paste on the substrate, by performing exposure while transporting, with an exposure machine with a small exposure area,
A large area can be exposed.

【００５０】露光後、露光部分と未露光部分の現像液に
対する溶解度差を利用して現像を行うが、この場合、浸
漬法やスプレー法、ブラシ法で行う。現像処理に用いる
現像液は、水を主成分とすることが好ましい。現像液に
は、感光性ペースト中の有機成分が溶解可能である有機
溶媒を用いることができる。また、有機溶媒にその溶解
力が失われない範囲で水を添加してもよい。感光性ペー
スト中にカルボキシル基などの酸性基をもつ化合物が存
在する場合、アルカリ水溶液で現像できる。アルカリ水
溶液としては水酸化ナトリウムや炭酸ナトリウム、水酸
化カルシウム水溶液などが使用できるが、有機アルカリ
水溶液を用いた方が焼成時にアルカリ成分を除去しやす
いので好ましい。After the exposure, development is carried out using the difference in solubility between the exposed portion and the unexposed portion in the developing solution. In this case, the development is performed by an immersion method, a spray method, or a brush method. The developing solution used for the developing treatment preferably contains water as a main component. An organic solvent in which an organic component in the photosensitive paste can be dissolved can be used for the developer. In addition, water may be added to the organic solvent as long as its solubility is not lost. When a compound having an acidic group such as a carboxyl group is present in the photosensitive paste, development can be performed with an aqueous alkali solution. As the alkaline aqueous solution, sodium hydroxide, sodium carbonate, calcium hydroxide aqueous solution and the like can be used, but it is preferable to use an organic alkaline aqueous solution since an alkaline component can be easily removed during firing.

【００５１】有機アルカリとしては、一般的なアミン化
合物を用いることができる。具体的には、テトラメチル
アンモニウムヒドロキサイド、トリメチルベンジルアン
モニウムヒドロキサイド、モノエタノールアミン、ジエ
タノールアミンなどが挙げられる。As the organic alkali, a general amine compound can be used. Specific examples include tetramethylammonium hydroxide, trimethylbenzylammonium hydroxide, monoethanolamine, diethanolamine and the like.

【００５２】アルカリ水溶液の濃度は通常０．０５〜５
重量％、より好ましくは０．１〜１重量％である。アル
カリ濃度が低すぎれば可溶部が除去されず、アルカリ濃
度が高すぎれば、パターン部を剥離させ、また非可溶部
を腐食させるおそれがあり良くない。また、現像時の現
像温度は、２０〜５０℃で行うことが工程管理上好まし
い。The concentration of the aqueous alkali solution is usually 0.05 to 5
%, More preferably 0.1 to 1% by weight. If the alkali concentration is too low, the soluble portion is not removed, and if the alkali concentration is too high, the pattern portion may be peeled off and the non-soluble portion may be corroded, which is not good. The development temperature during development is preferably from 20 to 50 ° C. from the viewpoint of process control.

【００５３】次に焼成炉にて焼成を行う。焼成雰囲気や
温度は、ペーストや基板の種類によって異なるが、空気
中、窒素、水素などの雰囲気中で焼成する。焼成炉とし
ては、バッチ式の焼成炉やベルト式の連続型焼成炉を用
いることができる。Next, firing is performed in a firing furnace. The firing atmosphere and temperature vary depending on the type of paste or substrate, but firing is performed in an atmosphere such as air, nitrogen, or hydrogen. As the firing furnace, a batch-type firing furnace or a belt-type continuous firing furnace can be used.

【００５４】焼成温度は４００〜１０００℃で行う。ガ
ラス基板上にパターン加工する場合は、４８０〜６１０
℃の温度で１０〜６０分間保持して焼成を行うことが好
ましい。The firing temperature is 400 to 1000 ° C. When processing a pattern on a glass substrate, 480 to 610
It is preferable to perform calcination by holding at a temperature of 10 ° C. for 10 to 60 minutes.

【００５５】[0055]

【実施例】以下、実施例に基づいて本発明を具体的に説
明するが、本発明はこれらに限定されない。なお実施例
中に記載された測定法の具体的な手法は以下に示すとお
りである。 （測定方法） （１）感光性ペーストに添加するフィラーＢの平均粒子
径の測定 マイクロトラック粒度分析計ＵＰＡ１５０ＭＯＤＥＬ
Ｎｏ．９３４０（日機装株式会社）を用いて測定した。 （２）感光性ペースト中の塩素イオン濃度の測定 ２インチシリコンウエハーを精秤し、この上に感光性ペ
ーストをスピンナーで塗布する。８０℃で３０分、熱風
乾燥機で乾燥する。乾燥後の重量を精秤し、その重量差
より、感光性ペースト中の不揮発成分の重量を求める。
２インチシリコンウエハー上に感光性ペーストを上記と
同じ条件でスピンナーで塗布する。８０℃で３０分、熱
風乾燥機で乾燥後、塗布膜を０．５％ＮａＯＨ水溶液に
溶解し、イオンクロマト法で塩素イオン量を測定する。
測定値は上記不揮発成分の重量に対しての量で示す。 （３）電気伝導度の測定 東亜電波工業株式会社製の電気伝導度計モデルＣＭー３
０Ｓを用いて２５．０℃で測定した。EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically described based on examples, but the present invention is not limited to these examples. The specific method of the measuring method described in the examples is as shown below. (Measurement method) (1) Measurement of average particle size of filler B added to photosensitive paste Microtrac particle size analyzer UPA150MODEL
No. 9340 (Nikkiso Co., Ltd.). (2) Measurement of chlorine ion concentration in photosensitive paste A 2-inch silicon wafer is precisely weighed, and the photosensitive paste is applied thereon by a spinner. Dry at 80 ° C. for 30 minutes with a hot air dryer. The weight after drying is precisely weighed, and the weight of the nonvolatile component in the photosensitive paste is determined from the difference in weight.
A photosensitive paste is applied on a 2-inch silicon wafer with a spinner under the same conditions as above. After drying at 80 ° C. for 30 minutes using a hot air drier, the coating film is dissolved in a 0.5% aqueous NaOH solution, and the amount of chlorine ions is measured by an ion chromatography method.
The measured value is shown in an amount based on the weight of the nonvolatile component. (3) Measurement of electric conductivity Electric conductivity meter model CM-3 manufactured by Toa Denpa Kogyo Co., Ltd.
It was measured at 25.0 ° C. using 0S.

【００５６】（実施例１）γ−ブチロラクトン２６．３
ｇに感光性ポリマー１７．５ｇを混合し、撹拌しながら
６０℃まで加熱して全てのポリマーを溶解した。感光性
ポリマーには、サイクロマーＰ（ダイセル化学製品ＡＣ
Ａ３２０、分子量２８，０００、酸価１２０）を用い
た。室温の感光性ポリマー溶液に、感光性モノマー(Ｍ
ＧＰ４００）７．５ｇ、光重合開始剤(ＩＣ−３６９）
２．５ｇおよび増感剤(２，４−ジエチルチオキサント
ン）２．５ｇを加えた後に、超音波攪拌器で３０分間ほ
ど攪拌して均一な溶液の状態となるように溶解させた感
光性有機成分に弱陰イオン交換樹脂１２．６ｇを添加し
て４５℃、６０ｒｐｍで攪拌し、４００メッシュのフィ
ルターで加圧濾過した後、アゾ系有機染料で処理した低
融点ガラス５６．０ｇとフィラーＡを７．０ｇ、フィラ
ーＢを７．０ｇ加えて３本ローラーを用いて１２５ｒｐ
ｍで混練した。イオン交換樹脂にはオルガノ社（株）製
弱陰イオン交換樹脂"アンバーリスト"Ａー２１（３級ア
ミノ基および一部４級アンモニウム基（ＯＨ型）のイオ
ン交換基をもつ）をγーブチロラクトンで洗浄して用い
た。低融点ガラスは酸化物換算組成が分析値で酸化リチ
ウム６．７重量％、酸化ケイ素２２重量％、酸化ホウ素
３２重量％、酸化バリウム３．９重量％、酸化アルミニ
ウム１９重量％、酸化亜鉛２．２重量％、酸化マグネシ
ウム５．５重量％、酸化カルシウム４．１重量％であ
り、ガラス転移点が４９７℃、荷重軟化点が５３０℃、
熱膨張係数が７５×１０^-7／Ｋ、屈折率が１．５８であ
った。ガラス成分は、予めアトラクターで微粉末とし、
平均粒子径２．６μｍの非球状粉末であった。このガラ
ス粉末５６．０ｇに対して、０．０４５ｇのアゾ系有機
染料スダンIVをアセトンに溶解し、分散剤を加えてホモ
ジナイザーで均質に撹拌し、この溶液中にガラス粉末を
添加して均質に分散、混合後、ロータリーエバポレータ
ーを用いてアセトンを蒸発させ、１５０℃の温度で乾燥
したものを用いた。フィラーＡは酸化物換算組成が分析
値で酸化ケイ素３８重量％、酸化ホウ素１０重量％、酸
化バリウム５重量％、酸化アルミニウム３６重量％で、
酸化カルシウム５％、酸化マグネシウム６重量％であ
り、ガラス転移点が６２５℃、荷重軟化点が７５０℃、
屈折率が１．５９であった。フィラーＢには、平均粒子
径が０．００５μｍ（５ｎｍ）の酸化チタンをγ−ブチ
ロラクトンに単分散に近い状態で分散した２０％濃度の
溶液を用いた。Example 1 γ-butyrolactone 26.3
Then, 17.5 g of the photosensitive polymer was mixed with the resulting mixture and heated to 60 ° C. with stirring to dissolve all the polymers. Photopolymers include Cyclomer P (Daicel Chemical Products AC
A320, molecular weight 28,000, acid value 120). Add a photosensitive monomer (M
GP400) 7.5 g, photopolymerization initiator (IC-369)
After adding 2.5 g and a sensitizer (2,4-diethylthioxanthone) 2.5 g, the photosensitive organic component was dissolved by stirring with an ultrasonic stirrer for about 30 minutes to form a uniform solution. 12.6 g of a weak anion exchange resin was added to the mixture, and the mixture was stirred at 45 ° C. and 60 rpm, filtered under pressure through a 400-mesh filter, and 56.0 g of a low-melting glass treated with an azo organic dye and 7 A of filler A were added. 2.0 g and 7.0 g of the filler B, and 125 rpm using three rollers.
m. As an ion exchange resin, a weak anion exchange resin “Amberlyst” A-21 (having a tertiary amino group and a partly quaternary ammonium group (OH type) ion exchange group) manufactured by Organo Corporation is used as γ-butyrolactone. It was used after washing. The low-melting glass has an oxide-converted composition of 6.7% by weight of lithium oxide, 22% by weight of silicon oxide, 32% by weight of boron oxide, 3.9% by weight of barium oxide, 19% by weight of aluminum oxide, and 2. 2% by weight, magnesium oxide 5.5% by weight, calcium oxide 4.1% by weight, glass transition point 497 ° C, softening point under load 530 ° C,
The coefficient of thermal expansion was 75 × 10 ⁻⁷ / K and the refractive index was 1.58. The glass component is made into fine powder with an attractor in advance,
It was a non-spherical powder having an average particle size of 2.6 μm. To 56.0 g of this glass powder, 0.045 g of the azo organic dye Sudan IV was dissolved in acetone, a dispersing agent was added, and the mixture was stirred homogeneously with a homogenizer. After dispersion and mixing, acetone was evaporated using a rotary evaporator and dried at a temperature of 150 ° C. Filler A has an oxide equivalent composition of 38% by weight of silicon oxide, 10% by weight of boron oxide, 5% by weight of barium oxide, and 36% by weight of aluminum oxide in terms of an analysis value.
Calcium oxide 5%, magnesium oxide 6% by weight, glass transition point 625 ° C, softening point under load 750 ° C,
The refractive index was 1.59. As the filler B, a 20% concentration solution in which titanium oxide having an average particle diameter of 0.005 μm (5 nm) was dispersed in γ-butyrolactone in a nearly monodispersed state was used.

【００５７】このようにして得た感光性ペーストの塩素
イオンは４９０ｐｐｍであった。電気伝導度は１４０×
１０^-4Ｓ／ｍであった。The photosensitive paste thus obtained had a chlorine ion content of 490 ppm. Electric conductivity is 140 ×
It was 10 ^-4 S / m.

【００５８】この感光性ペーストを用いて隔壁を作製し
た。ガラス基板（旭硝子社製ＰＤ２００）上に、感光性
銀ペーストを用いて、フォトリソグラフィ法により、線
幅４０μｍ、ピッチ１５０μｍの５００本のアドレス電
極を形成した。Using the photosensitive paste, a partition was prepared. 500 address electrodes having a line width of 40 μm and a pitch of 150 μm were formed on a glass substrate (PD200 manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) by a photolithography method using a photosensitive silver paste.

【００５９】次に、電極上にガラス粉末５０重量％、酸
化チタン１５重量％、エチルセルロース２０重量％、溶
媒１５重量％からなるガラスペーストをスクリーン印刷
により塗布した後に、５５０℃で焼成して誘電体層を形
成した。Next, a glass paste consisting of 50% by weight of glass powder, 15% by weight of titanium oxide, 20% by weight of ethylcellulose and 15% by weight of a solvent was applied on the electrode by screen printing, and then fired at 550 ° C. to obtain a dielectric material. A layer was formed.

【００６０】誘電体層上に、感光性ペーストを１２５ｍ
ｍ角ガラス基板上に３２５メッシュのスクリーンを用い
たスクリーン印刷により塗布した。塗布膜にピンホール
などの発生を回避するために塗布・乾燥を数回繰り返し
行い、膜厚の調整を行った。途中の乾燥は８０℃で１０
分間行った。その後、８０℃で１時間保持して乾燥し
た。乾燥後の厚さ２００μｍの塗膜を形成した。On the dielectric layer, apply a photosensitive paste of 125 m
It was applied on a m-square glass substrate by screen printing using a 325 mesh screen. Coating and drying were repeated several times to avoid pinholes and the like in the coating film, and the film thickness was adjusted. Drying on the way is 10 at 80 ° C.
Minutes. Then, it was kept at 80 ° C. for 1 hour and dried. A coating film having a thickness of 200 μm after drying was formed.

【００６１】続いて、ピッチ１５０μｍ、線幅５０μｍ
のネガ用のクロムマスクを用いて、上面から２０ｍＷ／
ｃｍ²出力の超高圧水銀灯でプロキシミティ露光した。
露光量は６００ｍＪ／ｃｍ²とした。Subsequently, a pitch of 150 μm and a line width of 50 μm
20mW / from the top using a negative chrome mask
Proximity exposure was performed using an ultra-high pressure mercury lamp with a cm ² output.
The exposure amount was 600 mJ / cm ² .

【００６２】次に、３５℃に保持したモノエタノールア
ミンの０．２％水溶液をシャワーで３００秒間かけるこ
とにより現像し、その後、シャワースプレーを用いて水
洗し、光硬化していないスペース部分を除去してガラス
基板上にストライプ状の隔壁パターンを形成した。Next, a 0.2% aqueous solution of monoethanolamine kept at 35 ° C. is developed by applying a shower for 300 seconds, and then washed with water using a shower spray to remove a space portion that has not been photocured. Thus, a stripe-shaped partition pattern was formed on the glass substrate.

【００６３】このようにして得られた隔壁パターンを空
気中、６００℃で１５分間焼成して隔壁を形成した。形
成された隔壁の断面形状を電子顕微鏡で観察したとこ
ろ、高さ１５０μｍ、隔壁中央部の線幅６０μｍ、ピッ
チ１５０μｍの矩形だった。The partition pattern thus obtained was fired in air at 600 ° C. for 15 minutes to form a partition. When the cross-sectional shape of the formed partition wall was observed with an electron microscope, it was a rectangle having a height of 150 μm, a line width of 60 μm at the center of the partition wall, and a pitch of 150 μm.

【００６４】（比較例１）イオン交換樹脂を用いない以
外は、実施例１と同様にして感光性ペーストを得た。こ
の感光性ペースト中の塩素イオン濃度は５１０ｐｐｍで
あった。電気伝導度は１６０×１０^-4Ｓ／ｍであった。
この感光性ペーストを用いて実施例１と同様にして隔壁
を作製した。形成された隔壁の断面形状を電子顕微鏡で
観察したところ、高さ１５０μｍ、隔壁中央部の線幅１
００μｍ、隔壁底部の線幅５０μｍ、ピッチ１５０μｍ
で隔壁中央部が太ったパターン特性を示した。Comparative Example 1 A photosensitive paste was obtained in the same manner as in Example 1 except that no ion exchange resin was used. The chlorine ion concentration in this photosensitive paste was 510 ppm. The electric conductivity was 160 × 10 ⁻⁴ S / m.
Using the photosensitive paste, a partition was produced in the same manner as in Example 1. Observation of the cross-sectional shape of the formed partition wall with an electron microscope showed a height of 150 μm and a line width of 1 at the center of the partition wall.
00 μm, line width at the bottom of partition wall 50 μm, pitch 150 μm
Indicates a pattern characteristic in which the central portion of the partition wall is thick.

【００６５】（実施例２）実施例１と同じ組成であっ
て、フィラーＢが７．０ｇと感光性有機成分が５６．３
ｇからなる混合物に、弱陰イオン交換樹脂"アンバーリ
スト"Ａ−２１を５．６ｇ添加して４５℃、６０ｒｐｍ
で１６時間攪拌後、４００メッシュのフィルターで加圧
濾過してイオン交換樹脂を除去した。これに、低融点ガ
ラス５６．０ｇとフィラーＡを７．０ｇを添加して、３
本ローラーを用いて１２５ｒｐｍで混練した。この感光
性ペースト中の塩素イオン濃度は３００ｐｐｍであっ
た。電気伝導度は８０×１０^-4Ｓ／ｍであった。実施例
１と同様にして隔壁を作製した。形成された隔壁の断面
形状を電子顕微鏡で観察したところ、高さ１５０μｍ、
隔壁中央部の線幅６５μｍ、ピッチ１５０μｍの矩形だ
った。Example 2 The composition was the same as that of Example 1 except that the filler B was 7.0 g and the photosensitive organic component was 56.3.
5.6 g of a weak anion exchange resin "Amberlyst" A-21 was added to a mixture consisting of
After stirring for 16 hours, the mixture was filtered under pressure with a 400 mesh filter to remove the ion exchange resin. To this, 56.0 g of low melting glass and 7.0 g of filler A were added, and 3
Using this roller, kneading was performed at 125 rpm. The chlorine ion concentration in this photosensitive paste was 300 ppm. The electric conductivity was 80 × 10 ⁻⁴ S / m. A partition was produced in the same manner as in Example 1. When the cross-sectional shape of the formed partition wall was observed with an electron microscope, the height was 150 μm,
It was a rectangle having a line width of 65 μm and a pitch of 150 μm at the center of the partition wall.

【００６６】（比較例２）実施例２の弱陰イオン交換樹
脂のかわりにオルガノ（株）製陽イオン交換樹脂"アン
バーリスト"１５ーＥを使用した以外は、実施例２と同
様にして感光性ペーストを得た。この感光性ペースト中
の塩素イオン濃度は５２０ｐｐｍであった。電気伝導度
は１７０×１０^-4Ｓ／ｍであった。この感光性ペースト
を用いて実施例１と同様にして隔壁を作製した。形成さ
れた隔壁の断面形状を電子顕微鏡で観察したところ、高
さ１５０μｍ、隔壁中央部の線幅９０μｍ、隔壁底部の
線幅４０μｍ、ピッチ１５０μｍで隔壁中央部が太っ
た。Comparative Example 2 Photosensitization was performed in the same manner as in Example 2 except that the cation exchange resin "Amberlyst" 15-E manufactured by Organo Co., Ltd. was used instead of the weak anion exchange resin of Example 2. A paste was obtained. The chlorine ion concentration in this photosensitive paste was 520 ppm. The electric conductivity was 170 × 10 ⁻⁴ S / m. Using the photosensitive paste, a partition was produced in the same manner as in Example 1. When the cross-sectional shape of the formed partition wall was observed with an electron microscope, it was found that the center of the partition wall was thick with a height of 150 μm, a line width of 90 μm at the center of the partition, a line width of 40 μm at the bottom of the partition, and a pitch of 150 μm.

【００６７】実施例１〜２と比較例１〜２より、感光性
ペースト中の塩素イオンを低減することによって感光性
ペースト中のフィラーの分散安定化が達成され、良好な
隔壁形状が得られることがわかった。From Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 and 2, dispersion of the filler in the photosensitive paste was stabilized by reducing chloride ions in the photosensitive paste, and a good partition wall shape was obtained. I understood.

【００６８】（実施例３）実施例１で弱陰イオン交換樹
脂"アンバーリスト"Ａ−２１とオルガノ（株）製陽イオ
ン交換樹脂"アンバーリスト"１５−Ｅを各５．６ｇ併用
した以外は、実施例１と同様にして感光性ペーストを得
た。この感光性ペースト中の塩素イオン濃度は８０ｐｐ
ｍであった。電気伝導度は６０×１０^-4Ｓ／ｍであっ
た。この感光性ペーストを用いて実施例１と同様にして
隔壁を作製した。形成された隔壁の断面形状を電子顕微
鏡で観察したところ、高さ１５０μｍ、隔壁中央部の線
幅５５μｍ、ピッチ１５０μｍの矩形だった。(Example 3) Except that 5.6 g each of the weak anion exchange resin "Amberlyst" A-21 and the cation exchange resin "Amberlyst" 15-E manufactured by Organo Co., Ltd. were used in Example 1, In the same manner as in Example 1, a photosensitive paste was obtained. The chlorine ion concentration in this photosensitive paste is 80 pp
m. The electric conductivity was 60 × 10 ⁻⁴ S / m. Using the photosensitive paste, a partition was produced in the same manner as in Example 1. When the cross-sectional shape of the formed partition wall was observed with an electron microscope, it was a rectangle having a height of 150 μm, a line width of 55 μm at the center of the partition wall, and a pitch of 150 μm.

【００６９】実施例３により陰イオンと陽イオンを同時
に除去することにより電気伝導度が小さくなり、さらに
良好なパターン形成が可能になった。In Example 3, the electric conductivity was reduced by removing anions and cations at the same time, and a more favorable pattern could be formed.

【００７０】実施例１〜３と比較例１〜２より、感光性
ペースト中の電気伝導度を小さくすることによってフィ
ラーの分散安定化が達成され、良好な隔壁形状が得られ
ることがわかった。From Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 and 2, it was found that by reducing the electric conductivity in the photosensitive paste, the dispersion of the filler was stabilized and a good partition shape was obtained.

【００７１】[0071]

【発明の効果】本発明の感光性ペーストによれば、感光
性ペースト中に含まれるフィラーの分散安定化が達成さ
れた。感光性ペーストを用いてフォトリソグラフィ法の
良好なパターニングにより形成した隔壁を有し、色度や
発光輝度、コントラスト等の表示特性に優れたディスプ
レイ用部材を得ることができる。According to the photosensitive paste of the present invention, the dispersion of the filler contained in the photosensitive paste can be stabilized. A display member having a partition formed by favorable patterning using a photosensitive paste by photolithography and having excellent display characteristics such as chromaticity, luminance, and contrast can be obtained.

フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H025 AA02 AA03 AA11 AB20 AC01 AD01 BC31 BJ00 CB43 CC08 CC20 FA29 2H089 HA36 QA16 5C027 AA09 5C040 GF18 Continued on the front page F term (reference) 2H025 AA02 AA03 AA11 AB20 AC01 AD01 BC31 BJ00 CB43 CC08 CC20 FA29 2H089 HA36 QA16 5C027 AA09 5C040 GF18

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】無機微粒子と感光性有機成分を含有する感
光性ペーストであって、２５℃における電気伝導度が
０．１〜１５０×１０^-4Ｓ／ｍの範囲内であることを特
徴とする感光性ペースト。1. A photosensitive paste containing inorganic fine particles and a photosensitive organic component, wherein an electric conductivity at 25 ° C. is in a range of 0.1 to 150 × 10 ⁻⁴ S / m. Photosensitive paste. 【請求項２】無機微粒子と感光性有機成分を含有する感
光性ペーストであって、感光性ペースト中の塩素イオン
濃度が０．００１〜５００ｐｐｍの範囲内であることを
特徴とする感光性ペースト。2. A photosensitive paste containing inorganic fine particles and a photosensitive organic component, wherein the concentration of chlorine ions in the photosensitive paste is in the range of 0.001 to 500 ppm. 【請求項３】無機微粒子が、低融点ガラス粉末が５０〜
９０重量部、平均粒子径が１．５〜４μｍのフィラーＡ
が０〜３０重量部および平均粒子径が０．００３〜０．
０２μｍのフィラーＢが３〜５０重量部とからなること
を特徴とする請求項１または２記載の感光性ペースト。3. The method according to claim 1, wherein the inorganic fine particles have a low melting point glass powder of 50 to 50%.
90 parts by weight, filler A having an average particle size of 1.5 to 4 μm
Is from 0 to 30 parts by weight and the average particle size is from 0.003 to 0.
3. The photosensitive paste according to claim 1, wherein the filler B has a thickness of 3 to 50 parts by weight. 【請求項４】フィラーＡが、コーディエライトおよび高
融点ガラス粉末から選ばれた少なくとも一種であること
を特徴とする請求項３記載の感光性ペースト。4. The photosensitive paste according to claim 3, wherein the filler A is at least one selected from cordierite and high melting point glass powder. 【請求項５】フィラーＢが、アルミナ、ジルコニア、チ
タニア、セリア、イットリア、酸化錫およびシリカの群
から選ばれた少なくとも一種であることを特徴とする請
求項３記載の感光性ペースト。5. The photosensitive paste according to claim 3, wherein the filler B is at least one selected from the group consisting of alumina, zirconia, titania, ceria, yttria, tin oxide and silica. 【請求項６】低融点ガラス粉末が、酸化物換算表記で以
下の組成からなることを特徴とする請求項３記載の感光
性ペースト。 酸化リチウム、酸化ナトリウムまたは酸化カリウム ３〜１５重量部 酸化ケイ素 ５〜３０重量部 酸化ホウ素 ２０〜４５重量部 酸化バリウムまたは酸化ストロンチウム ２〜１５重量部 酸化アルミニウム １０〜２５重量部 酸化マグネシウムまたは酸化カルシウム ２〜１５重量部6. The photosensitive paste according to claim 3, wherein the low melting point glass powder has the following composition in terms of oxide. Lithium oxide, sodium oxide or potassium oxide 3 to 15 parts by weight Silicon oxide 5 to 30 parts by weight Boron oxide 20 to 45 parts by weight Barium oxide or strontium oxide 2 to 15 parts by weight Aluminum oxide 10 to 25 parts by weight Magnesium oxide or calcium oxide 2 ~ 15 parts by weight 【請求項７】感光性有機成分が側鎖にカルボキシル基を
有する重合体を含むことを特徴とする請求項１または２
に記載の感光性ペースト。7. The method according to claim 1, wherein the photosensitive organic component contains a polymer having a carboxyl group in a side chain.
3. The photosensitive paste according to item 1. 【請求項８】請求項１〜７のいずれかに記載の感光性ペ
ーストを用いて隔壁を形成したことを特徴とするディス
プレイ用部材。8. A member for a display, wherein a partition is formed by using the photosensitive paste according to claim 1.