JP2002045760A

JP2002045760A - 塗布装置および塗布方法

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Publication number: JP2002045760A
Application number: JP2000230681A
Authority: JP
Inventors: Akira Amada; 田晶甘; Soichi Matsuo; 尾壮一松; Youtetsu Suzuki; 木庸哲鈴; Takeo Koito; 糸健夫小
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date: 2000-07-31
Filing date: 2000-07-31
Publication date: 2002-02-12
Anticipated expiration: 2020-07-31
Also published as: JP4614509B2

Abstract

(57)【要約】【課題】被塗布基板上への塗膜形成開始時に形成され
る膜厚不良部分を減少させ、枚葉タイプの被塗布基板上
に塗布液を均一かつ効率的に塗布することができる塗布
装置を提供する。【解決手段】ステージ３上に配設された基板ホルダ６
にて被塗布基板８を保持するとともに、ステージ３上に
配設された予備塗布部７の上方に塗布ノズル５のスリッ
ト５ａがくるようステージ３の左右方向の位置を調整す
る。次いで、塗布液供給機構から塗布液を塗布ノズル５
に連続して供給し、塗布ノズル５のスリット５ａから下
方に塗布液を吐出する。同時に、エアースライドリニア
モータ２によりステージ３をスライドさせ、塗布ノズル
５から吐出された塗布液を予備塗布部７に塗布して塗布
液の量を調節した後、被塗布基板８上に塗布液を塗布す
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、被塗布基板上に塗
布液を塗布する塗布装置および塗布方法に係り、とりわ
け、大型のガラス基板やプラスチック基板等の枚葉タイ
プの被塗布基板上に塗布液を均一かつ効率的に塗布する
ための塗布装置および塗布方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】一般に、ＬＣＤ（liquid crystal displ
ay）用のカラーフィルター等で用いられる大型のガラス
基板上に塗布液を塗布する方式として、スピン塗布方式
が多く用いられている。

【０００３】スピン塗布方式には大気開放型および密閉
カップ式があるが、いずれの方式でも、塗布材料の使用
効率が１０％程度と低く、また被塗布基板の回転中心部
分および周辺部分の塗布膜厚がその中間部分に比べて厚
くなりすぎるという欠点がある。このため、例えば、塗
布膜厚として数μｍ±３％程度の範囲が要求される場合
には、スピン塗布方式により形成された塗膜をそのまま
用いることが困難であり、被塗布基板の回転中心部分と
周辺部分との間の中間部分であって塗布膜厚が比較的均
一な部分のみを用いる必要がある。すなわち、スピン塗
布方式には、塗布液の使用量、および被塗布基板の有効
利用等の点で問題がある。

【０００４】このようなスピン塗布方式の欠点を解消す
るための方式として、ナイフ塗布方式やロール塗布方式
等が提案されている。ナイフ塗布方式およびロール塗布
方式はいずれも、被塗布基板上に塗布用クリアランスを
設け、その設定値によって塗布膜厚を決定して塗布面の
平滑性を得る方式であるが、この方式では、被塗布基板
の表面の平滑度（凹凸度）が塗布精度以上に低い（凹凸
度が大きい）場合に均一な膜厚を得ることが困難である
という欠点である。

【０００５】そこで、上述したような各塗布方式の欠点
を解消して、枚葉タイプの被塗布基板上に塗布液の物性
等の影響を受けることなく安定した状態で均一な塗膜を
形成することのできる方式として、ダイ塗布方式やエク
ストルージョン塗布方式、ビード塗布方式が提案されて
いる（特願平０５−１４６７５７号参照）。

【０００６】これらの塗布方式に基づく塗布装置として
は、例えば、一定の塗布用クリアランスをとって被塗布
基板上に塗布ノズルから塗布液を吐出し、これと同時に
被塗布基板を一定速度でスライドさせることにより、被
塗布基板上に塗膜を形成するものが知られている。この
とき、塗布ノズルには、塗布液供給機構から連続して塗
布液の供給が行われ、塗布ノズルから吐出される塗布液
の吐出量が一定に保たれるようになっている。なお、被
塗布基板上に塗膜が形成されるとき、塗布ノズルと被塗
布基板との間には一定量のビードが形成され、そのうち
の一定量が被塗布基板上に塗布される。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来の塗布装置では、塗布ノズルから吐出された塗布
液（ビード）が被塗布基板に確実に接触するようにする
ため、被塗布基板上に塗布液が最初に塗布される塗膜形
成開始時の状態（図７(a)参照）では、被塗布基板上に
塗布液が連続して塗布されている定常状態（図７(b)参
照）よりも多量の塗布液が必要となる。なお、図７(a)
(b)において、符号５は塗布ノズル、符号５ａは塗布液
が吐出されるスリット、符号８は被塗布基板、符号２０
は塗布液を示している。

【０００８】このため、従来の塗布装置では、被塗布基
板のスライド速度が一定で、かつ塗布ノズルから吐出さ
れる塗布液の量が一定であっても、被塗布基板上に形成
される塗布膜厚は均一にはならない。すなわち、塗膜形
成開始時の状態から定常状態へ移行するまでの過渡期に
形成された塗膜の部分は、その膜厚が正規の値から外れ
た不良部分となってしまうという問題がある。

【０００９】本発明はこのような点を考慮してなされた
ものであり、被塗布基板上への塗膜形成開始時に形成さ
れる膜厚不良部分を減少させ、大型のガラス基板やプラ
スチック基板等の枚葉タイプの被塗布基板上に塗布液を
均一かつ効率的に塗布することができる塗布装置および
塗布方法を提供することを目的とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明は、その第１の解
決手段として、被塗布基板上に塗布液を塗布する塗布装
置において、塗布液を吐出する塗布ノズルと、前記塗布
ノズルを被塗布基板に対向させた状態で前記塗布ノズル
と前記被塗布基板とを相対的に移動させる塗布用移動機
構と、前記被塗布基板に並列して配設され、前記被塗布
基板上に塗布液を塗布するのに先立って、前記塗布ノズ
ルから吐出された塗布液が塗布される予備塗布部とを備
えたことを特徴とする塗布装置を提供する。

【００１１】なお、上述した第１の解決手段において
は、前記被塗布基板に対する前記予備塗布部の相対位置
を調整する調整機構をさらに備えることが好ましい。ま
た、前記予備塗布部は、前記被塗布基板が載置されてい
るステージに対して脱着自在に取り付けられていること
が好ましい。さらに、前記予備塗布部は、前記塗布ノズ
ルから吐出された塗布液が塗布される予備塗布ブロック
と、前記予備塗布ブロックを洗浄する洗浄機構とを有す
ることが好ましい。さらにまた、前記予備塗布部は、前
記予備塗布ブロックを塗布液の塗布位置と洗浄位置との
間で移動させる洗浄用移動機構をさらに有することが好
ましい。なお、前記予備塗布ブロックは塗布液が塗布さ
れる複数の塗布面を有し、前記洗浄用移動機構は、前記
各塗布面が塗布液の塗布位置または洗浄位置に位置する
よう前記予備塗布ブロックを移動させることが好まし
い。また、前記洗浄機構は、前記予備塗布ブロックに対
して洗浄液を供給する手段と、前記予備塗布ブロックか
ら洗浄液とともに除去された塗布液を回収する手段とを
有することが好ましい。

【００１２】本発明は、その第２の解決手段として、塗
布ノズルと被塗布基板とを相対的に移動させて被塗布基
板上に塗布液を塗布する塗布方法において、塗布ノズル
から吐出された塗布液を、被塗布基板に並列して配設さ
れた予備塗布部に塗布して塗布液の量を調節するステッ
プと、塗布液の量が調節された塗布ノズルにより前記被
塗布基板上に塗布液を塗布するステップとを含むことを
特徴とする塗布方法を提供する。

【００１３】本発明の第１および第２の解決手段によれ
ば、被塗布基板に並列して配設された予備塗布部に、被
塗布基板上に塗布液を塗布するのに先立って、塗布ノズ
ルから吐出された塗布液が塗布されるので、塗膜形成開
始時において、被塗布基板に対するビードの接触のため
に吐出される過剰な塗布液を取り除き、定常状態と同様
の量に調節することができる。このため、塗膜形成開始
時の状態から定常状態までの塗布液の量の変化（過渡
期）をなくすことができ、被塗布基板への塗膜形成開始
直後から、所望の膜厚を有する均一な塗膜を被塗布基板
上に形成することができ、ＬＣＤ用のカラーフィルター
で用いられるガラス基板等のような大面積の基板に対し
ても、所望の膜厚を有する均一な塗膜を形成することが
できる。

【００１４】また、本発明の第１の解決手段によれば、
調整機構により被塗布基板に対する予備塗布部の相対位
置を調整することにより、塗布液の吐出量および物性等
に応じて、塗膜形成開始時の塗布液の量が定常状態と同
様の量となるよう容易に調節することができる。さら
に、予備塗布部を、被塗布基板が載置されているステー
ジに対して脱着自在に取り付けることにより、塗布液の
物性に応じて、適切な濡れ性を有する予備塗布部への交
換を容易に行うことができ、多様な物性の塗布液に柔軟
に対応することができるとともに、予備塗布部のメンテ
ナンスおよび洗浄を容易に行うことができる。さらにま
た、予備塗布部のうち塗布液が塗布された予備塗布ブロ
ックを洗浄機構により洗浄液によって洗浄することによ
り、予備塗布部のメンテナンスおよび洗浄を容易に行う
ことができる。なお、予備塗布ブロックとして、塗布液
が塗布される複数の塗布面を有するものを用い、洗浄用
移動機構により、各塗布面が塗布位置または洗浄位置に
位置するよう予備塗布ブロックを移動させることによ
り、塗布液が塗布された塗布面を簡易かつ迅速に洗浄お
よび再利用することができる。

【００１５】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態について説明する。図１および図２は本発明に
よる塗布装置の一実施の形態を説明するための図であ
る。

【００１６】図１に示すように、本実施の形態に係る塗
布装置は、被塗布基板８上に塗布液を塗布するものであ
り、塗布液を吐出する塗布ノズル５を備えている。

【００１７】塗布ノズル５は、被塗布基板８が載置され
るステージ３のスライド（移動）方向（図１の左右方
向）と直交する方向（図１の紙面に直交する方向）に延
びる帯状のスリット５ａを有し、塗布液供給機構（図示
せず）から供給される塗布液をスリット５ａを介して下
方に吐出することができるようになっている。

【００１８】また、塗布ノズル５は、被塗布基板８に対
する塗布ノズル５の水平状態を調整することが可能なダ
イホルダ４に支持されている。ダイホルダ４は、昇降機
構１５を介して支柱１６に取り付けられており、被塗布
基板８に対する塗布ノズル５の高さを任意に調整するこ
とができるようになっている。なお、支柱１６は基台１
上に固定されている。

【００１９】一方、被塗布基板８は、基板ホルダ６を介
してステージ３上に載置されており、基板ホルダ６の上
面にて真空吸着により保持されるようになっている。ス
テージ３上には、基板ホルダ６（被塗布基板８）に並列
して予備塗布部７が配設されており、被塗布基板８上に
塗布液を塗布するのに先立って、塗布ノズル５から吐出
された塗布液が塗布されるようになっている。なお、予
備塗布部７は、調整台（調整機構）９を介してステージ
３上に配設されており、被塗布基板８に対する予備塗布
部７の相対位置（被塗布基板８との距離、高さおよび平
行度）を調整することができるようになっている。

【００２０】ここで、ステージ３は、エアースライドリ
ニアモータ（塗布用移動機構）２を介して基台１上にて
スライド（移動）自在に設置されており、塗布ノズル５
のスリット５ａを被塗布基板８に対向させた状態で塗布
ノズル５と被塗布基板８とを相対的に移動させることが
できるようになっている。また、エアースライドリニア
モータ２は、ステージ３の移動を適宜制御することによ
り、被塗布基板８上に塗布液を塗布するのに先立って、
塗布ノズル５を予備塗布部７に対向させ、塗布ノズル５
から吐出された塗布液を塗布することができるようにな
っている。

【００２１】次に、図２により、図１に示す予備塗布部
７の詳細について説明する。

【００２２】図２に示すように、予備塗布部７は、塗布
ノズル５から吐出された塗布液が塗布される予備塗布ブ
ロック１０と、予備塗布ブロック１０を洗浄する洗浄機
構１７とを有している。予備塗布ブロック１０は、塗布
液が塗布される複数の塗布面を有する四角柱形状をなし
ている。予備塗布ブロック１０は、洗浄機構１７の洗浄
槽１１に回転軸１０ａを介して配設されており、図示し
ない駆動部（洗浄用移動機構）により予備塗布ブロック
１０を図２の矢印方向に回転移動させることができるよ
うになっている。これにより、予備塗布ブロック１０の
各塗布面は、塗布液の塗布位置（塗布ノズル５に対向す
る位置）または洗浄位置（洗浄液供給ノズル１２に対向
する位置）に位置するようになっている。なお、洗浄機
構１７は、予備塗布ブロック１０の各塗布面を洗浄する
よう予備塗布ブロック１０に対して洗浄液を供給する洗
浄液供給ノズル１２と、予備塗布ブロック１０から洗浄
液とともに除去された塗布液を回収する洗浄槽１１とを
有している。なお、洗浄液供給ノズル１２は、洗浄槽１
１に取り付けられている。また、洗浄槽１１には、洗浄
液および塗布液を除去するための洗浄液ドレン１３と、
予備塗布ブロック１０の洗浄後の各塗布面を空気等の循
環により乾燥させるための排気ポート１４とが取り付け
られている。

【００２３】なお、予備塗布ブロック１０としては、被
塗布基板８上に形成される塗膜の目標膜厚に応じた塗布
プロセスによる塗布速度、塗布液供給レート、および塗
布クリアランス等のパラメータに応じて、適当な濡れ性
を有するものを選択することができる。このような適当
な濡れ性を有する予備塗布ブロック１０の一例として
は、被塗布基板８と同様のガラスの他、ポリエチレンテ
レフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリイミド
ポリエーテルサルホン、ポリフェニレンスルフィド、ポ
リアミド等の高分子樹脂、ステンレスや銅、鉄、クロム
等の金属を用いることができる。なお、これらの素材の
濡れ性、対薬品性および対環境性を改善するため、適宜
表面処理を施すようにしてもよい。

【００２４】また、被塗布基板８としては、ＬＣＤ用の
カラーフィルターで用いられるガラス基板等の任意のも
のを用いることができる。また、塗布ノズル５から吐出
される塗布液としては、カラーフィルター用の着色液等
の任意のものを用いることができる。具体的には例え
ば、溶剤系感光性樹脂、水系感光性樹脂、またはこれら
の感光性樹脂に顔料等の着色材を分散させた着色感光性
樹脂、各種接着剤、保護膜等を形成するための樹脂、各
種インキ等を用いることができる。

【００２５】次に、図１および図２により、このような
構成からなる本実施の形態の作用について説明する。

【００２６】まず、図１に示すように、ステージ３上に
配設された基板ホルダ６上にて真空吸着により被塗布基
板８を保持するとともに、ステージ３上に配設された予
備塗布部７の上方に塗布ノズル５のスリット５ａがくる
ようステージ３の左右方向の位置を調整する。なおこの
とき、被塗布基板８に対する塗布ノズル５の平行度およ
び高さはそれぞれダイホルダ４および昇降機構１５によ
り調整される。また、被塗布基板８に対する予備塗布部
７（予備塗布ブロック１０の洗浄済みの塗布面）の相対
位置（被塗布基板８との距離、高さおよび平行度）は調
整台９により調整される。

【００２７】この状態で、塗布液供給機構（図示せず）
から塗布液を塗布ノズル５に連続して供給し、塗布ノズ
ル５のスリット５ａから下方に塗布液を吐出する。

【００２８】同時に、エアースライドリニアモータ２に
よりステージ３を図１の位置から右方向にスライドさ
せ、塗布ノズル５から吐出された塗布液を予備塗布部７
に塗布して塗布液の量を調節した後、被塗布基板８上に
塗布液を塗布する。

【００２９】その後、被塗布基板８の全面に亘って塗布
液を塗布した後、エアースライドリニアモータ２により
ステージ３を図１の左方向にスライドさせ、図１の位置
へ戻す。

【００３０】なお、以上のようにして所定枚数の被塗布
基板８に対して塗布液を塗布した後は、予備塗布ブロッ
ク１０のうち塗布液が塗布された塗布面を洗浄する。具
体的には、図２に示すように、図示しない駆動部（洗浄
用移動機構）により予備塗布ブロック１０を回転移動さ
せ、塗布ノズル５に対向する位置に配置されていた塗布
面を洗浄液供給ノズル１２に対向する位置に移動させ、
洗浄液供給ノズル１２から供給された洗浄液により当該
塗布面を洗浄する。なお、予備塗布ブロック１０から洗
浄液とともに除去された塗布液は、洗浄槽１１を介して
洗浄液ドレン１３により除去される。また、予備塗布ブ
ロック１０の洗浄後の塗布面は排気ポート１４を介して
空気等を循環させることにより乾燥される。

【００３１】このように本実施の形態によれば、被塗布
基板８に並列して配設された予備塗布部７に、被塗布基
板８上に塗布液を塗布するのに先立って、塗布ノズル５
から吐出された塗布液を塗布するので、塗膜形成開始時
において、被塗布基板８に対するビードの接触のために
吐出される過剰な塗布液を取り除き、定常状態と同様の
量に調節することができる。このため、塗膜形成開始時
の状態から定常状態までの塗布液の量の変化（過渡期）
をなくすことができ、被塗布基板８への塗膜形成開始直
後から、所望の膜厚を有する均一な塗膜を被塗布基板８
上に形成することができ、ＬＣＤ用のカラーフィルター
で用いられるガラス基板等のような大面積の基板に対し
ても、所望の膜厚を有する均一な塗膜を形成することが
できる。

【００３２】また、本実施の形態によれば、予備塗布部
７が調整台９を介してステージ３上に取り付けられ、被
塗布基板８に対する予備塗布部７の相対位置（被塗布基
板８との距離、高さおよび平行度）を調整することがで
きるので、塗布液の吐出量および物性等に応じて、塗膜
形成開始時の塗布液の量が定常状態と同様の量となるよ
う容易に調節することができる。

【００３３】さらに、本実施の形態によれば、予備塗布
部７の予備塗布ブロック１０がステージ３（洗浄槽１
１）に対して脱着自在に取り付けられているので、塗布
液の物性に応じて、適切な濡れ性を有する予備塗布ブロ
ックへの交換を容易に行うことができ、多様な物性の塗
布液に柔軟に対応することができるとともに、予備塗布
部７のメンテナンスおよび洗浄を容易に行うことができ
る。

【００３４】さらにまた、本実施の形態によれば、予備
塗布部７のうち塗布液が塗布された予備塗布ブロック１
０を洗浄機構１７により洗浄液によって洗浄しているの
で、予備塗布部７のメンテナンスおよび洗浄を容易に行
うことができる。なお、予備塗布ブロック１０は、塗布
液が塗布される複数の塗布面を有し、図示しない駆動部
（洗浄用移動機構）により、各塗布面が塗布ノズル５に
対向する位置または洗浄液供給ノズル１２に対向する位
置に位置するよう予備塗布ブロック１０を回転移動させ
るので、塗布液が塗布された塗布面を簡易かつ迅速に洗
浄および再利用することができる。

【００３５】なお、上述した実施の形態においては、予
備塗布部７として、複数の塗布面を有する予備塗布ブロ
ック１０を用い、これら各塗布面が塗布ノズル５に対向
する位置と洗浄液供給ノズル１２に対向する位置との間
で切り替えられるよう、予備塗布ブロック１０を回転移
動させているが、これに限らず、図３に示すように、一
つの塗布面のみを有する予備塗布ブロック１０を用い、
この塗布面を塗布液の塗布位置と洗浄位置との間で移動
させるようにしたり、図４に示すように、表裏両面の２
つの塗布面を有する予備塗布ブロック１０を用い、これ
らの塗布面が塗布ノズル５に対向する位置と洗浄液供給
ノズル１２に対向する位置との間で切り替えられるよ
う、予備塗布ブロック１０を適宜反転させるようにして
もよい。なお、図３および図４において、図２に示す予
備塗布部７と同一の機能を果たす部材には同一の符号が
付されている。

【００３６】また、上述した実施の形態においては、ス
リット５ａを下方に向けて開口させた状態で塗布ノズル
５を固定し、この固定されている塗布ノズル５に対して
ステージ３をスライドさせて被塗布基板８への塗布を行
っているが、これに限らず、(1)スリット５ａを上方に
向けて開口させた状態で塗布ノズル５を固定し、この固
定されている塗布ノズル５に対してステージ３をスライ
ドさせて被塗布基板８への塗布を行ったり、(2)スリッ
ト５ａを下方に向けて開口させた状態の塗布ノズル５
を、固定されているステージ３に対してスライドさせて
被塗布基板８への塗布を行ったり、(3)スリット５ａを
上方に向けて開口させた状態の塗布ノズル５を、固定さ
れているステージ３に対してスライドさせて被塗布基板
８への塗布を行うようにしてもよい。

【００３７】さらに、上述した実施の形態においては、
予備塗布部７の予備塗布ブロック１０を洗浄槽１１に対
して脱着自在に取り付けているが、これに限らず、予備
塗布部７全体をステージ３に対して脱着自在に取り付け
るようにしてもよい。

【００３８】

【実施例】次に、図１および図２に示す塗布装置の具体
的実施例について述べる。

【００３９】本実施例では、被塗布基板８として、ＬＣ
Ｄ用のカラーフィルターで用いられるガラス基板を用い
た。ガラス基板の寸法は、幅方向（塗布方向）の長さが
６７０ｍｍ、横方向の長さが５５０ｍｍである。また、
塗布ノズル５から吐出される塗布液としては、カラーフ
ィルター用の着色液として、富士フィルムオーリン
（株）製カラーモザイクＣＲ−７００１を用いた。

【００４０】一方、エアスライドリニアモータ２の移動
速度（塗布速度）は、５０ｍｍ／ｓｅｃとし、塗布ノズ
ル５からの塗布液供給レートは、０．２ｍｌ／ｓｅｃと
した。また、塗布ノズル５と被塗布基板８との間の塗布
用クリアランスは７５μｍとした。

【００４１】さらに、被塗布基板８と予備塗布部７（予
備塗布ブロック１０）とは次のような関係で設置した。
すなわち、被塗布基板８の端部と予備塗布ブロック１０
の塗布用の塗布面の端部との間の離間距離を２ｍｍと
し、被塗布基板８の塗布面を予備塗布ブロック１０の塗
布用の塗布面より５０μｍ高く設置した。なお、被塗布
基板８の塗布面と予備塗布ブロック１０の塗布用の塗布
面とは互いに平行になるように設置した。

【００４２】なお、予備塗布ブロック１０としては、ス
テンレスブロックを用い、被塗布基板８上に塗布液を塗
布するのに先立って、予備塗布ブロック１０を前記塗布
速度と同一の速度で移動させた状態で、塗布ノズル５を
予備塗布ブロック１０上で５０ｍｍの距離に亘って接触
させた。

【００４３】以上のような条件で、被塗布基板８上に塗
布液を塗布した結果、被塗布基板８上に形成される塗膜
の膜厚は、図５に示すように、被塗布基板８の全面に亘
って略均一（膜厚：１．５μｍ）となった。すなわち、
ＬＣＤ用のカラーフィルターで用いられる大面積の基板
であっても、被塗布基板８への塗膜形成開始直後から均
一な塗膜を形成することができた。なお、図６に、予備
塗布部７を用いることなく、上述した実施例と同一の条
件で塗布液の塗布を行った比較例の結果を示す。

【００４４】

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、被
塗布基板上への塗膜形成開始時に形成される膜厚不良部
分を減少させ、大型のガラス基板やプラスチック基板等
の枚葉タイプの被塗布基板上に塗布液を均一かつ効率的
に塗布することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による塗布装置の一実施の形態を示す全
体構成図。

【図２】図１に示す塗布装置のII部分の詳細を示す拡大
図。

【図３】図２に示す予備塗布部の変形例を示す図。

【図４】図２に示す予備塗布部の他の変形例を示す図。

【図５】図１に示す塗布装置により塗布液を塗布した場
合の被塗布基板の膜厚分布を示す図。

【図６】図５に示す実施例に対応する比較例の結果を示
す図。

【図７】塗布ノズルと被塗布基板との間の塗布液（ビー
ド）の状態を説明するための図。

【符号の説明】

１基台２エアスライドリニアモータ（塗布用移動機構）３ステージ４ダイホルダ５塗布ノズル５ａスリット６基板ホルダ７予備塗布部８基板９調整台（調整機構）１０予備塗布ブロック１０ａ回転軸１１洗浄槽１２洗浄液供給ノズル１３洗浄液ドレン１４排気ポート１５昇降機構１６支柱１７洗浄機構

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者鈴木庸哲東京都新宿区市谷加賀町一丁目１番１号大日本印刷株式会社内 (72)発明者小糸健夫東京都新宿区市谷加賀町一丁目１番１号大日本印刷株式会社内Ｆターム(参考） 2H048 BA43 BB14 BB42 4D075 AC02 AC53 AC73 AC84 AC92 BB65Y CA48 CB07 DA06 DB13 DB31 DC24 EA07 4F041 AA02 AA05 AB01 BA05 BA56 CA02 CA22 CA28 4F042 AA02 AA10 CC04 CC10 CC15

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】被塗布基板上に塗布液を塗布する塗布装置
において、塗布液を吐出する塗布ノズルと、前記塗布ノズルを被塗布基板に対向させた状態で前記塗
布ノズルと前記被塗布基板とを相対的に移動させる塗布
用移動機構と、前記被塗布基板に並列して配設され、前記被塗布基板上
に塗布液を塗布するのに先立って、前記塗布ノズルから
吐出された塗布液が塗布される予備塗布部とを備えたこ
とを特徴とする塗布装置。
【請求項２】前記被塗布基板に対する前記予備塗布部の
相対位置を調整する調整機構をさらに備えたことを特徴
とする請求項１記載の塗布装置。
【請求項３】前記予備塗布部は、前記被塗布基板が載置
されているステージに対して脱着自在に取り付けられて
いることを特徴とする請求項１または２記載の塗布装
置。
【請求項４】前記予備塗布部は、前記塗布ノズルから吐
出された塗布液が塗布される予備塗布ブロックと、前記
予備塗布ブロックを洗浄する洗浄機構とを有することを
特徴とする請求項１乃至３のいずれか記載の塗布装置。
【請求項５】前記予備塗布部は、前記予備塗布ブロック
を塗布液の塗布位置と洗浄位置との間で移動させる洗浄
用移動機構をさらに有することを特徴とする請求項４記
載の塗布装置。
【請求項６】前記予備塗布ブロックは塗布液が塗布され
る複数の塗布面を有し、前記洗浄用移動機構は、前記各塗布面が塗布液の塗布位
置または洗浄位置に位置するよう前記予備塗布ブロック
を移動させることを特徴とする請求項５記載の塗布装
置。
【請求項７】前記洗浄機構は、前記予備塗布ブロックに
対して洗浄液を供給する手段と、前記予備塗布ブロック
から洗浄液とともに除去された塗布液を回収する手段と
を有することを特徴とする請求項４乃至６のいずれか記
載の塗布装置。
【請求項８】前記被塗布基板としてカラーフィルター用
の基板を用い、前記塗布液としてカラーフィルター用の
着色液を用いることを特徴とする請求項１乃至７のいず
れか記載の塗布装置。
【請求項９】塗布ノズルと被塗布基板とを相対的に移動
させて被塗布基板上に塗布液を塗布する塗布方法におい
て、塗布ノズルから吐出された塗布液を、被塗布基板に並列
して配設された予備塗布部に塗布して塗布液の量を調節
するステップと、塗布液の量が調節された塗布ノズルにより前記被塗布基
板上に塗布液を塗布するステップとを含むことを特徴と
する塗布方法。
【請求項１０】前記被塗布基板としてカラーフィルター
用の基板を用い、前記塗布液としてカラーフィルター用
の着色液を用いることを特徴とする請求項９記載の塗布
方法。