JP2002016210A - 半導体装置 - Google Patents
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Abstract
で1パッケージ化したもので、ワイヤーボンディング時
の素子劣化を防止し、高集積化およびメモリー増量を達
成するものである。 【解決手段】 第1のアイランド20上に第1の親子半
導体チップ22を形成し、第2のアイランド21上に第
2の半導体チップ24を形成し、第1および第2の半導
体チップ22、24間にブリッヂ31を形成する。そし
て、半導体チップ側はボールボンディングで、ブリッヂ
31側はステッチボンディングでワイヤーボンドする。
また、第1の親子半導体チップを搭載することで、高集
積化およびメモリー増量を達成する。
Description
プがアイランドに平面的におよび一部は立体的に配列さ
れた半導体装置に関する。
に成っており、複数の半導体チップを1パッケージ化す
るものが開発されている。
645号公報の従来例がある。これは、図5に示すよう
に、第1の半導体チップ1および第2の半導体チップ2
が1つのリードフレームの1つのアイランド3に固着さ
れている。第1および第2の半導体チップ1、2のボン
ディングパット4、5とリード6の先端が金属細線7に
より実現され、全体が樹脂で封止されている。そして、
第1の半導体チップ1と第2の半導体チップ2との間の
接続は、ボンディングパット8、9の間を金属細線10
により接続されている。
接続は、一般にワイヤボンディングにより実現され、一
端はボールボンディング、他端はステッチボンディング
により実現されている。また、ステッチボンディング
は、金属細線をキャピラリーチップ(ボンディングツー
ル)で強く押さえ力で引きちぎるため、ステッチボンデ
ィング下の部分には直接キャピラリーチップがぶつかり
ストレスが加わる。リード6とボンディングパット5と
の間は、リード側をステッチボンディング、ボンディン
グパット側をボールボンディングにすれば、半導体チッ
プにはストレスは加わりにくいが、ボンディングパット
8とボンディングパット9との間は、どちらか一方は、
必ずステッチボンディングとなり、どちらか一方の半導
体チップのボンディングパットにストレスが加わる。最
近は、ボンディングパットの下に保護ダイオード等の半
導体装置が組み込まれるため、このストレスにより半導
体装置自身が不良になったり、ボンディングパット下の
半導体素子が破壊してしまう問題があった。
鑑みてなされ、第1に、第1のアイランドと第2のアイ
ランド間を橋渡しする2本の橋絡リードと、前記第1の
アイランド、前記第2のアイランドおよび橋絡リードと
で囲まれた領域に設けられ、電気的に分離されたボンデ
ィング可能なブリッヂを設けることで、半導体チップ側
の接続はボールボンディングで、前記ブリッヂ側の接続
はステッチボンディングで実現することができる。ま
た、前記2本の橋絡リードはそれぞれプレス・カット等
で第1のアイランドと第2のアイランドを電気的に分離
し、第1の半導体チップのノイズが第2の半導体チップ
へ侵入しないような構造をとっている。
定し、この接着テープが設けられた領域に対応する橋絡
リードに前記切断分離を設けることで、この切断分離部
とブリッヂの安定化を図っている。
第2の半導体チップを、絶縁性接着剤により固着するこ
とで解決するものである。この接着剤(例えば体積抵抗
率10の5乗程度)の使用で、チップとアイランド間の
インピーダンスが高くなり、ノイズの伝搬を抑制するこ
とができる。
を図1を参照しながら詳細に説明する。
上には第1の親子半導体チップ22が形成され、第2の
アイランド21上には第2の半導体チップ24が形成さ
れている。第1および第2の半導体チップ22、24の
シリコン表面には、前工程において各種の能動、受動回
路素子が形成され、更にチップの周辺部に外部接続用の
ボンディングパット25、26、27が形成されてい
る。そのボンディングパット25、26、27を被覆す
るようにシリコン窒化膜、シリコン酸化膜、ポリイミド
系絶縁膜などのパッシベーション被膜が形成され、ボン
ディングパット25、26、27の上部は、ボンディン
グ接続のために開口されている。
はリードフレームの第1および第2のアイランド20、
21に接着材(ここでは、半田や銀ベースト等)により
ダイボンドされ、第1および第2の半導体チップ22、
24表面のボンディングパット25、26、27には、
金線等のボンディングワイヤ28の一端がボールボンデ
ィングでワイヤボンドされており、ボンディングワイヤ
28の他端は外部導出用のリード29の先端部にステッ
チボンディングでワイヤボンドされている。
導体チップ24との接続は、以下の構成になっている。
まず、第1および第2の半導体チップ22、24との間
に対応する第1および第2のアイランド20、21に
は、開口部30が設けられ、この中には、必要な本数だ
けアイランド状のブリッヂ31が設けられている。
0、21に開口部30を設けたと述べたが、第1のアイ
ランド20と第2のアイランド21とが2本の橋絡リー
ド32、33で囲まれた領域が、前記開口部30を構成
しているとも言える。また、後述するがそれぞれの橋絡
リード32、33には離間部34が設けられている。
レスカットやエッチング)、第1および第2のアイラン
ド20、21と一体のブリッヂ31、第1および第2の
アイランド20、21と一体の橋絡リード32、33
(ただし橋絡部に離間部34が形成される)を形成して
おき、図1のように接着テープ35を貼った後に、ブリ
ッヂ31を第1および第2のアイランド20、21から
切り離せばよい。接着テープ35は、ブリッヂ31と離
間部34を構成する橋絡リード32、33を貼りつける
ことになる。
グパット25、26、27との接続について、第1およ
び第2の半導体チップ22、24側のボンディングパッ
ト25、26、27をボールボンディングで行い、ブリ
ッヂ31側をステッチボンディングで行うことに特徴を
有する。
と第2の半導体チップ24に組み込まれる回路により、
相互干渉を生じる場合がある。例えば、第1の半導体チ
ップ22から発生するノイズが第1のアイランド20、
橋絡リード32、33、第2のアイランド21を介して
第2の半導体チップ24に侵入する場合は、ここにプレ
スカット等で離間部34を設けることで、このノイズの
侵入を防止できる。
端はボールボンディング、他端はステッチボンディンに
より実現されている。特に、ステッチボンディングは、
金属細線をキャピラリーチップで強く押さえ、力で引き
ちぎるため、ステッチボンディング下の部分にはストレ
スが加わるが、ブリッヂ31側をステッチボンディング
とし第1および第2の半導体チップ22、24側をボー
ルボンディングとしたため、この第1および第2の半導
体チップ22、24のボンディングパット25、26、
27下に加わるストレスを抑制することができる。従っ
て、ボンディングパット25、26、27下の半導体素
子の劣化を抑制することができる。
4、第1および第2のアイランド20、21の近傍まで
延在される複数のリード23、29の先端部、およびボ
ンディングワイヤ28を含む主要部は、一点鎖線の如く
エポキシ系の熱硬化樹脂36でモールドされ、パッケー
ジ化される。
メモリ等に用いられ、半導体チップを2段に搭載するこ
とで高集積化ができ、また、メモリー容量を倍にするこ
とができる。
図4を参照して説明する。図2は図1に示した半導体装
置と同様に親子チップを搭載する半導体チップの平面図
である。また、図2の半導体装置のA−A線断面図であ
る図3に示したように、この半導体装置は、アイランド
上にマザーチップ43を、そして、マザーチップ43上
にドウターチップ42をそれぞれ接着テープ48または
半田や銀ペースト等を用いて接着されている。そして、
マザーチップ43およびドウターチップ42にボールボ
ンディングされたボンディングワイヤ44、49は、互
いに接触しショートしないように、ボンディングワイヤ
49は、M型に加工されて第2のリード45にステッチ
ボンディングされている。尚、ボンディングワイヤ49
は必ずしもM型の形状でステッチボンディングされなく
ても良く、ボンディングワイヤ44、49が互いに接触
しない構造であれば良い。
5は、第1の実施の形態でのブリッジ31と同様の役割
を果たす。第2のリード45は、隣接する第1のリード
41や電気的に使用されないリード52に接続された状
態で加工される。そして、第2のリード45が接着テー
プ47で固定された後に、プレスカットにて第1のリー
ド41やリード52から切り離されることで、浮きピン
状に形成される。
テープ47で接着されることでフレーム上に固定され
る。このとき、第1および第2のリード41、45はリ
ード幅が狭く形成されている。そのため、接着テープ4
7の接着面積を確保するため第2のリード45に隣接す
る第1のリード41に幅の広い部分46を設けている。
そのことにより、接着テープ47は第1および第2のリ
ード41、45上に確実に接着し、第2のリード45は
固定される。
ップ43とドウターチップ42とを電気的に接続すると
き、第2のリード45は接着テープ47で固定されてい
るため浮き上がりや移動等を防止することができ、良好
なワイヤーボンディングが可能となる。ここで、接着テ
ープ47は、半導体チップを囲むように第1および第2
のリード41、45上を全周に渡り形成される場合や、
また、第2のリード45および隣接して設けられる第1
のリード41の幅の広い部分46を主に利用してその部
分で形成される場合もある。
のブリッヂ31とボンディングパット25、26、27
との接続について、第1および第2の半導体チップ2
2、24側のボンディングパット25,26、27をボ
ールボンディングで行い、ブリッヂ31側をステッチボ
ンディングで行うことに特徴を有する。
様に、ブリッヂ31や離間部34を有する橋絡リード3
2、33を支持している。従って、離間部34により、
一方の半導体チップから発生するノイズが、橋絡リード
32、33を介して他方のチップへ入るのを防止するこ
とができる。
プを固着する接着材にあることが判った。つまり、銀入
りの接着剤(銀ペースト)を採用すると、ノイズがペー
スト、第1および第2のアイランド20、21を介して
他方のチップに伝搬することが判った。
るデジタルオートバランス回路内蔵で、1〜8(Hz)
の動作クロックを持ち、他方の半導体チップは、C−M
OSロジックによるデジタルディレイライン内蔵で、数
100〜数MHzの動作クロックを有した場合、ディレ
イラインで発生する動作クロックノイズがオートバラン
ス回路の動作クロックに混入し、動作速度が速くなる等
の異常動作が発生した。
ピーダンスの高い絶縁性接着剤によるチップの固着で、
これらの問題が解決された。この絶縁性接着剤は、片方
の半導体チップに採用しても良いが、プロセス上両者に
採用しても良い。
のリード45のようにリードが浮きピン状に形成される
場合、第2のリード45に隣接する第1のリード41に
幅の広い部分46を設ける。そのことにより、第2のリ
ード45を接着テープ47で固定するとき、接着テープ
47の接着面積が確保され、第2のリード45がより安
定して固定され、半導体チップとの良好なワイヤーボン
ディングを可能にすることができる。
第1に、2つの半導体チップの間に位置するアイランド
に開口部を設け、この開口部にブリッヂを設け、半導体
チップ側の接続はボールボンディングで、前記ブリッヂ
側の接続はステッチボンディングで金属細線をワイヤー
ボンディングすることで、ボンディングパット下の半導
体素子の劣化を防止することができる。
属細線から2本の金属細線に分割したため、ボンディン
グの際にこの金属細線の高さを低くすることができる。
従って、封止樹脂の厚みを薄くすることができる。
体装置を形成したことで、高集積化が可能となり、ま
た、メモリー容量が増大された半導体装置を得ることが
できる。
着剤の使用で、一方のチップから他方へのノイズの侵入
を制御することができる。
に同時に形成するため、ブリッヂをプレスで簡単にに分
離でき、また、接着テープによりブリッヂを固定できる
ため、良好なワイヤーボンディングが可能となる。
びそのリードに隣接するリードに幅の広いリードを形成
し一体に接着テープで固定することで、浮きピン状のリ
ードが確実に固定され半導体チップとの良好なワイヤー
ボンディングが可能となる。
置の平面図である。
る半導体装置の平面図である。
面図である。
置の平面図である。
Claims (8)
- 【請求項1】 第1の半導体チップの固着領域を有する
第1のアイランドおよび第2の半導体チップの固着領域
を有する第2のアイランドと、 前記第1のアイランドと前記第2のアイランド間を橋渡
しする2本の連絡リードと、 前記第1のアイランド、前記第2のアイランドの周辺に
延在された複数のリードと、 前記第1のアイランドに固着された第1の親子半導体チ
ップおよび前記第2のアイランドに固着された第2の半
導体チップと、 前記第1の親子半導体チップおよび前記第2の半導体チ
ップと前記リードを電気的に接続する第1の金属細線
と、 前記第1のアイランド、前記第2のアイランドおよび前
記橋絡リードとで囲まれた領域に設けられ、電気的に分
離されたボンディング可能なブリッヂと、 前記半導体チップと前記ブリッヂとの間に設けられ、半
導体チップ側の接続はボールボンディングで、前記ブリ
ッヂ側の接続はステッチボンディングで実現される第2
の金属細線とを有し、 前記第1のアイランドと前記第2のアイランドとを電気
的に分離するため、前記2本の橋絡リードはそれぞれ分
離されていることを特徴とした半導体装置。 - 【請求項2】 前記橋絡リードの分離は、切断により離
間されて成る請求項1記載の半導体装置。 - 【請求項3】 前記ブリッヂは、接着テープにより固定
され、この接着テープが設けられた領域に対応する橋絡
リードに前記切断分離が設けられる請求項2記載の半導
体装置。 - 【請求項4】 第1の半導体チップの固着領域を有する
第1のアイランドおよびだい2の半導体チップの固着領
域を有する第2のアイランドと、 前記第1のアイランドと前記第2のアイランド間を橋渡
しする2本の連絡リードと、 前記第1のアイランド、前記第2のアイランドの周辺に
延在された複数のリードと、 前記第1のアイランドに固着された第1の親子半導体チ
ップおよび前記第2のアイランドに固着された前記第2
の半導体チップと、 前記第1の親子半導体チップおよび前記第2の半導体チ
ップと前記リードを電気的に接続する第1の金属細線
と、 前記第1のアイランド、前記第2のアイランドおよび前
記橋絡リードとで囲まれた領域に設けられ、電気的に分
離されたボンディング可能なブリッヂと、 前記半導体チップと前記ブリッヂとの間に設けられ、半
導体チップ側の接続はボールボンディングで、前記ブリ
ッヂ側の接続はステッチボンディングで実現される第2
の金属細線とを有し、 前記第1の親子半導体チップおよび前記第2の半導体チ
ップは、絶縁性接着剤により固着されることを特徴とし
た半導体装置。 - 【請求項5】 半導体チップの固着領域を有するアイラ
ンドと、 前記アイランドを囲むように周辺に延在された外部に導
出される第1のリードおよび外部に導出されない第2の
リードと、 前記アイランドに固着された親子半導体チップと、 前記親子半導体チップと前記第1および第2のリードを
電気的に接続する金属細線とを有し、 前記第2のリードは接着テープにより固定され、前記親
子半導体チップは前記第2のリードを介して電気的に接
続されることを特徴とした半導体装置。 - 【請求項6】 前記接着テープは、前記第2のリードお
よびその近傍に位置する第1のリードと接着されること
を特徴とした請求項5記載の半導体装置。 - 【請求項7】 前記接着テープは、前記親子半導体チッ
プを囲むように全周に渡り形成されることを特徴とした
請求項5記載の半導体装置。 - 【請求項8】 前記第2のリードに隣接する前記第1の
リードは、リード幅が広く形成されることを特徴とした
請求項5記載の半導体装置。
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005064076A (ja) * | 2003-08-20 | 2005-03-10 | Sanyo Electric Co Ltd | 回路装置 |
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JP2007281509A (ja) * | 2007-06-15 | 2007-10-25 | Sanyo Electric Co Ltd | 半導体装置 |
-
2000
- 2000-06-29 JP JP2000196426A patent/JP3702152B2/ja not_active Expired - Fee Related
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