JP2001512421A - α−アミノケトンに基づく光活性化可能な窒素含有塩基 - Google Patents

α−アミノケトンに基づく光活性化可能な窒素含有塩基

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Abstract

(57)【要約】 本発明は、式(I)(式中、R1は、200〜650nmの波長の光を吸収できる芳香族又は複素芳香族基であり、それにより、隣接する炭素−窒素結合を開裂する)の構造単位の少なくとも1種を含む、分子量1000未満を有する有機化合物に関する。化合物は、塩基−触媒反応性光開始剤である。発明の他の目的は、式(I)の構造単位を有する化合物を含む塩基重合性又は架橋性組成物、光化学的に誘導される塩基−触媒反応を実施する方法及び塩基−触媒反応のための光開始剤としての化合物の使用である。

Description

【発明の詳細な説明】 α−アミノケトンに基づく光活性化可能な窒素含有塩基 本発明は、アミジン誘導体へ光化学的に変換できるα−アミノケトン、その製 造のための方法及びアミジン誘導体の光化学的製造方法に関する。更に、本発明 の目的は、このα−アミノケトンよりなる塩基重合性又は架橋性組成物、光化学 的に誘導された塩基−触媒反応を実施する方法及び塩基−触媒反応のための光開 始剤としてのα−アミノケトンの使用である。 特定のα−アミノケトンの遊離基への光分解開裂及びそれが開始するオレフィ ン性不飽和モノマー又はオリゴマーの光重合は、長い間公知であり、例えばUS50 77402に記載されている。 遊離基重合性オリゴマー又はモノマーに加えて、塩基−触媒系が、特にフォト リトグラフ方法において開示されている。この系は、光に暴露されると塩基を放 出する光開始剤を必要とする。例えばD.R.MacKean et al.,Polym.Mater.Sci .Eng.(1992),66,237-238では、光開始剤として特定のカルバマートを使用す るポリイミドの光構造化について報告している。 驚くべきことに、式(I): の構造単位を含むある種のα−アミノケトンが、可視又はUV光に暴露されると アミジン基を放出することが見出されている。このアミジン基は、多数の塩基− 触媒可能な反応、特に重合反応を開始するために、十分に塩基性である。化合物 は高感度であり、置換基R1の選択により、吸収スペクトルを広範囲に変化でき る。 化合物は、著しく長期の保存期間を有する塩基−触媒可能なオリゴマー又はモ ノマーによる、いわゆる1ポット系を製造することを可能にする。例えば重合反 応は、光への暴露の後でのみ開始される。化合物が影響されずにモノマー又はオ リゴマーに溶解するため、この系は溶媒をほとんど又は全く使用せずに配合でき る。活性触媒は、光への暴露の後でのみ形成される。この系は、上塗り、被覆、 成形化合物又は光リトグラフ再生産品のような数々の目的のために使用できる。 本発明は、式(I): (式中、R1は、200〜650nmの波長の光を吸収できる芳香族又は複素芳香 族基であり、それにより、隣接する炭素−窒素結合を開裂する)構造単位の少な くとも1種を含む、分子量1000未満を有する有機化合物を提供する。式(I )の構造単位は、二価及び一価窒素原子及び二価及び一価炭素原子が特徴であり 、窒素原子は互いに相対的にβ位置である。芳香族又は複素芳香族基R1は、ヒ ュッケル4n+2則に従ったものを意味する。 最大吸収は、芳香族又は複素芳香族基R1の選択により、広範囲に変化でき、 それにより化合物の感光性は、UVから太陽光領域に移行できる。 式(I)の構造単位が、式(II): (式中、 R1は、200〜650nmの波長の光を吸収できる芳香族又は複素芳香族基で あり、それにより、隣接する炭素−窒素結合を開裂し; R2及びR3は、互いに独立して、水素、C1-18アルキル、C3-18アルケニ ル、C3-18アルキニル又はフェニルであり、もしR2が水素又はC1-18アル キルであれば、R3は、更に、基−CO−R14(式中、R14は、C1-18アルキ ル又はフェニルである)であるか;或いは、R1及びR3は、カルボ ニル基及びR3が結合しているC原子と一緒になって、ベンゾシクロペンタノン 基を形成し; R5は、C1-18アルキル又はNR1516であり; R4、R6、R7、R15及びR16は、互いに独立して、水素又はC1-18アルキ ルであるか;或いは、 R4とR6は、一緒になって、C2-12アルキレン橋を形成するか、又は、 R5とR7は、R4及びR6から独立して、一緒になって、C2-12アルキレン橋 を形成するか、又はもしR5がNR1516であれば、R16とR7は、一緒になって 、C2-12アルキレン橋を形成する)の化合物よりなる、有機化合物が好ましい 。 炭素原子を18個まで有する種々の基におけるアルキルは、メチル、エチル、 プロピル、イソプロピル、n−ブチル、sec−ブチル、イソブチル、tert−ブチ ル、2−エチルブチル、n−ペンチル、イソペンチル、1−メチルペンチル、1 ,3−ジメチルブチル、n−ヘキシル、1−メチルヘキシル、n−ヘプチル、イ ソヘプチル、1,1,3,3−テトラメチルブチル、1−メチルヘプチル、3− メチルヘプチル、n−オクチル、2−エチル−ヘキシル、1,1,3−トリメチ ルヘキシル、1,1,3,3−テトラメチルペンチル、ノニル、デシル、ウンデ シル、1−メチルウンデシル、ドデシル、1,1,3,3,5,5−ヘキサメチ ルヘキシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタ デシル、オクタデシルのような分岐鎖又は非分岐鎖基である。炭素原子1〜12 、特に1〜6を有するアルキルが好ましい。 炭素原子3〜18を有するアルケニルは、プロペニル、2−ブテニル、3−ブ テニル、イソブテニル、、n−2,4−ペンタジエニル、3−メチル-2−ブテ ニル、n−2−オクテニル、n−2−ドデセニル、イソ−ドデセニル、オレイル 、n−2−オクタドデセニル又はn−4−オクタドデセニルのような分岐鎖又は 非分岐鎖基である。炭素原子3〜12、特に3〜6を有するアルケニルが好まし い。 炭素原子3〜18を有するアルキニルは、プロピニル(−CH2−C≡CH)、 2−ブチニル、3−ブチニル、n−2−オクチニル又はn−2−オクタデシニル のような分岐鎖又は非分岐鎖基である。炭素原子3〜12、特に3〜6を有する アルキニルが好ましい。 C2-12アルキレン橋は、エチレン、プロピレン、ブチレン、ペンチレン、ヘ キシレン、ヘプチレン、オクチレン、ノニレン、デシレン、ウンデシレン又はド デシレンである。 R1は、好ましくは、非置換であるか、又はC1-18アルキル、C3-18アル ケニル、C3-18アルキニル、C1-18ハロアルキル、NO2、NR89、N3、 OH、CN、OR10、SR10、C(O)R11、C(O)OR12若しくはハロゲン により1回以上非置換又は置換されている芳香族基であり、それは、フェニル、 ナフチル、フェナントリル、アントラシル、ピレニル、5,6,7,8−テトラ ヒドロ−2−ナフチル、5,6,7,8−テトラヒドロ−1−ナフチル、チエニ ル、ベンゾ[b]チエニル、ナフト[2,3−b]チエニル、チアトレニル、ジ ベンゾフリル、クロメニル、キサンテニル、チオキサンチル、フェノキサチイニ ル、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、ピラジニル、ピリミジニル、ピリダ ジニル、インドリジニル、イソインドリル、インドリル、インダゾリル、プリニ ル、キノリジニル、イソキノリル、キノリル、フタラジニル、ナフチリジニル、 キノキサリニル、キナゾリニル、シンノリニル、プテリジニル、カルバゾリル、 β−カルボリニル、フェナントリジニル、アクリジニル、ペリミジニル、フェナ ントロリニル、フェナジニル、イソチアゾリル、フェノチアジニル、イソキサゾ リル、フラザニル、テルフェニル、スチルベニル、フルオレニル若しくはフェノ キサジニルからなる群から選択されるか、或いは、 R1は、式A、B又はC:(式中、 R8、R9、R10、R11及びR12は、水素又はC1-18アルキルであり; R13は、C1-18アルキル、C2-18アルケニル、C2-18アルキニル、C1- 18ハロアルキル、NO2、NR89、OH、CN、OR10、SR10、C(O) R11、C(O)OR12又はハロゲンであり;nは0又は1、2若しくは3の数で ある)の基である。C1-18アルキル、C3-18アルケニル及びC3-18アルキ ニルの例は、既に上記に示されている。 ハロゲンは、フッ素、塩素、臭素及びヨウ素である。 C1-18ハロアルキルの例は、完全に又は部分的にハロゲン化されたC1-18 アルキルである。ここで、ハロゲン(ハロ)は、F、Cl、Br又はIである。 例は、モノ〜デカフルオロペンチル、モノ〜オクタフルオロブチル、モノ〜ヘキ サフルオロプロピル、モノ〜テトラフルオロエチル並びにモノ及びジフルオロメ チルの位置異性体、また対応するクロロ、ブロモ及びヨ−ド化合物である。ペル フルオロ化アルキル基が好ましい。これらの例は、ペルフルオロペンチル、ペル フルオロブチル、ペルフルオプロピル、ペルフルオエチル、特にトリフルオロメ チルである。 NR89アミノ基の例は、メチルアミノ、エチルアミノ、プロピルアミノ、ブ チルアミノ、ペンチルアミノ、ヘキシルアミノ、オクタデシルアミノ、ジメチル アミノ、ジエチルアミノ、ジプロピルアミノ、ジイソプロピルアミノ、ジ−n− ブチルアミノ、ジ−イソブチルアミノ、ジペンチルアミノ、ジヘキシルアミノ又 はジオクタデシルアミノのような、それぞれモノアルキル又はジアルキルア ミノ基である。更に、ジアルキルアミノ基は、2つの基が互いに独立して分岐又 は非分岐されたものであり、例えばメチレンチルアミノ、メチル−n−プロピル アミノ、メチルイソプロピルアミノ、メチル−n−ブチルアミノ、メチルイソブ チルアミノ、エチルイソプロピルアミノ、エチル−n−ブチルアミノ、エチルイ ソブチルアミノ、エチル−tert−ブチルアミノ、イソプロピル−n−ブチルアミ ノ又はイソプロピルイソブチルアミノである。 炭素原子18個までを有するアルコキシ基OR10は、メトキシ、エトキシ、プ ロポキシ、イソプロポキシ、n−ブトキシ、イソブトキシ、ペントキシ、イソペ ントキシ、ヘキソキシ、ヘプトキシ、オクトキシ、デシルオキシ、テトラデシル オキシ、ヘキサデシルオキシ又はオクタデシルオキシのような分岐鎖又は非分岐 鎖基である。炭素原子1〜12、特に1〜8、例えば1〜6を有するアルコキシ が好ましい。 チオアルキル基SR10の例は、チオメチル、チオエチル、チオプロピル、チオ ブチル、チオペンチル、チオヘキシル、チオヘプチル、チオオクチル又はチオオ クタデシルであり、アルキル基が直鎖又は分岐鎖であることができる。 基R1の例は、フェニル、ナフチル、フェナントリル、アントラシル、ピレニ ル、5,6,7,8−テトラヒドロ−2−ナフチル、5,6,7,8−テトラヒ ドロ−1−ナフチル、チエニル、ベンゾ[b]チエニル、ナフト[2,3−b] チエニル、チアトレニル、ジベンゾフリル、クロメニル、キサンテニル、フェノ キサチイニル、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、ピラジニル、ピリミジニ ル、ピリダジニル、インドリジニル、イソインドリル、インドリル、インダゾリ ル、プリニル、キノリジニル、イソキノリル、キノリル、フタラジニル、ナフチ リジニル、キノキサリニル、キナゾリニル、シンノリニル、プテリジニル、カル バゾリル、β−カルボリニル、フェナントリジニル、アクリジニル、ペリミジニ ル、フェナントロリニル、フェナジニル、イソチアゾリル、フェノチアジニル、 イソキサゾリル、フラザニル、ビフェニル、スチルベニル、テルフェニル、フル オレニル、フェノキサジニル、メトキシフェニル、2,4−ジメトキシフェニル 、2,4,6−トリメトキシフェニル、ブロモフェニル、トリル、キシリル、メ シチル、ニトロフェニル、ジメチルアミノフェニル、ジエチルアミノフェニル、 ア ミノフェニル、ジアミノフェニル、1−ナフチル、2−ナフチル、1−フェニル アミノ−4−ナフチル、1−メチルナフチル、2−メチルナフチル、1−メトキ シ−2−ナフチル、2−メトキシ−1−ナフチル、1−ジメチルアミノ−2−ナ フチル、1,2−ジメチル−4−ナフチル、1,2−ジメチル−6−ナフチル、 1,2−ジメチル−7−ナフチル、1,3−ジメチル−6−ナフチル、1,4− ジメチル−6−ナフチル、1,5−ジメチル−2−ナフチル、1,6−ジメチル −2−ナフチル、1−ヒドロキシ−2−ナフチル、2−ヒドロキシ−1−ナフチ ル、1,4−ジヒドロキシ−2−ナフチル、7−フェナントリル、1−アントリ ル、2−アントリル、9−アントリル、3−ベンゾ[b]チエニル、5−ベンゾ [b]チエニル、2−ベンゾ[b]チエニル、4−ジベンゾフリル、4,7−ジ ベンゾフリル、4−メチル−7−ジベンゾフリル、2−キサンテニル、8−メチ ル−2−キサンテニル、3−キサンテニル、2−フェノキサチイニル、2,7− フェノキサチイニル、2−ピロリル、3−ピロリル、5−メチル−3−ピロリル 、2−イミダゾリル、4−イミダゾリル、5−イミダゾリル、2−メチル−4− イミダゾリル、2−エチル−4−イミダゾリル、2−エチル−5−イミダゾリル 、3−ピラゾリル、1−メチル−3−ピラゾリル、1−プロピル−4−ピラゾリ ル、2−ピラジニル、5,6−ジメチル−2−ピラジニル、2−インドリジニル 、2−メチル-3−イソインドリル、2−メチル−1−イソインドリル、1−メ チル−1−インドリル、1−メチル−3−インドリル、1,5−ジメチル−2− インドリル、1−メチル−3−インダゾリル、2,7−ジメチル−8−プリニル 、2−メトキシ−7−メチル−8−プリニル、2−キノリジニル、3−イソキノ リル、6−イソキノリル、7−イソキノリル、イソキノリル、3−メトキシ−6 −イソキノリル、2−キノリル、6−キノリル、7−キノリル、2−メトキシ− 3−キノリル、2−メトキシ−6−キノリル、6−フタラジニル、7−フタラジ ニル、1−メトキシ−6−フタラジニル、1,4−ジメトキシ−6−フタラジニ ル、1,8−ナフチリジン−2−イル、2−キノキサリニル、6−キノキサリニ ル、2,3−ジメチル−6−キノキサリニル、2,3−ジメトキシ−6−キノキ サリニル、2−キナゾリニル、7−キナゾリニル、2−ジメチルアミノ−6−キ ナゾリニル、3−シンノリニル、6−シンノリニル、7−シンノリニ ル、3−メトキシ−7−シンノリニル、2−プテリジニル、6−プテリジニル、 7−プテリジニル、6,7−ジメトキシ−2−プテリジニル、2−カルバゾリル 、3−カルバゾリル、9−メチル−2−カルバゾリル、9−メチル−3−カルバ ゾリル、β−カルボリン−3−イル、1−メチル−β−カルボリン−3−イル、 1−メチル−β−カルボリン−6−イル、3−フェナントリジニル、2−アクリ ジニル、3−アクリジニル、2−ペリミジニル、1−メチル−5−ペリミジニル 、5−フェナントロリニル、6−フェナントロリニル、1−フェナジニル、2− フェナジニル、3−イソチアゾリル、4−イソチアゾリル、5−イソチアゾリル 、2−フェノチアジニル、3−フェノチアジニル、10−メチル−3−フェノチ アジニル、3−イソキサゾリル、4−イソキサゾリル、5−イソキサゾリル、4 −メチル−3−フラザニル、2−フェノキサジニル又は10−メチル−2−フェ ノキサジニルである。 1回以上置換されている基は、例えば1〜5回、1〜4回又は3回、2回若し くは1回置換されている。 R1及びR3が、カルボニル基及びR3が結合しているC原子と一緒になって、 ベンゾシクロペンタノン基を形成する場合は、下記の構造式を意味する。 特に好ましくは、R1が、フェニル、ナフチル、ピレニル、チアオキサンチル 、又はフェノチアジニルであり、それぞれC1-18アルキル、C1-18ハロアル キル、NR89、CN、NO2、N3、SR10又はOR10により、1回以上非置換 又は置換されているか、R1が、式A、B又はC:(式中、nは0であり、基R8、R9、R10及びR13は、上記に定義したとおりで ある)の基である。 更に特に好ましい化合物は、R1が、フェニル、ナフチル、アントラシル、チ アオキサンチル、ジベンゾフリル又はピレニルであり、基フェニル、ナフチル、 アントラシル、チアオキサンチル及びピレニルが、CN、NR89、NO2、ハ ロゲン、N3、CF3、SR10又はOR10により、1回以上非置換又は置換されて いるものか、R1が、式A、B又はC: (式中、nは0であり、基R8、R9、R10及びR13は、上記に定義したとおりで ある)の基である。特に非常に好ましくは、R1が、フェニル、4−アミノフェ ニル、4−メチルチオフェニル、4−トリフルオロ−メチルフェニル、4−ニト ロフェニル、2,4,6−トリメトキシフェニル、2,4−ジメトキシフェニル 、ナフチル、アントラシル、又はピレニルであるか、R1が、式A又はB:(式中、 nは、0であり、基R2及びR3は、互いに独立して、好ましくは水素又はC1 −C6アルキルである)の基である。R4とR6が一緒になってC2−C6アルキレ ン橋であることが同様に好ましい。 好ましくはR5とR7はC2−C6アルキレン橋であるか、もしR5がNR1516 であれば、R16とR7は一緒になってC2−C6アルキレン橋である。 R7は好ましくはR5と一緒になってC2−C6アルキレン橋であるか、R7は、 N原子のα位置で分岐しているC1−C18アルキルである。 特に好ましい式(II)の化合物は、R1が、フェニル、ナフチル、アントラシ ル、チオキサンチル、ジベンゾフラニル又はピレニルであり、フェニル基が、C N、NR89、NO2、N3、ハロゲン、CF3、SR10又はOR10により、1回 以上非置換又は置換されているものか、R1が、式A、B又はC: (式中、 nは、0であり、基R8、R9、R10及びR13は、水素又はC1-14アルキルで あり; R2及びR3は、水素又はC1-6アルキルであるか;或いはR1とR3は、カル ボニル基及びR3が結合しているC原子と一緒になって、ベンゾシクロペン タノン基を形成し: R4、R6及びR7は、互いに独立して、水素又はC1-6アルキルであり; R5は、C1-6アルキル又はNR1516(式中、R15及びR16は水素又はC1- 6アルキルである)であるか; R4とR6は、一緒になって、C2-6アルキレン橋を形成するか;若しくは、 R5とR7は、R4及びR6から独立して、一緒になって、C2-6アルキレン橋を 形成するか、もしR5が、NR1516であれば、R16及びR7は、一緒になってC2-6アルキレン橋を形成する)基であるものである。 本発明は更に、式(I)の構造単位を有する化合物を製造する方法を提供し、 式(III): の構造単位よりなる化合物を、式(IV): (式中、R1は、好ましい意味を含む上記に定義したとおりであり、ハロゲンは F、Cl、Br又はIであり、好ましくはBrである)の構造単位よりなる化合 物と反応させる方法を含む。 式(V): 化合物を、式(VI): (式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6及びR7は、好ましい意味を含め上記に 定義したとおりであり、ハロゲンはF、Cl、Br又はIである)化合物と反応 させる方法を含む式(III)の化合物を製造する方法が好ましい。 反応は通常の方法で実施できる。例えば、炭化水素類(ベンゼン、トルエン、 キシレン)、ハロゲン化炭化水素類(塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、 クロロベンゼン)、アルカノール類(メタノール、エタノール、エチレングリコ ールモノメチルエーテル)及びエーテル類(ジエチルエーテル、ジブチルエーテ ル、エチレングリコールジメチルエーテル)或いはその混合物の溶媒又は溶媒混 合物を使用することは有利である。 反応は−10℃〜+100℃の温度の範囲内で実施できる。10℃〜50℃で 実施することが好ましい。 本発明は同様に、式(II): の化合物を、波長200nm〜650nmを有する光に暴露する方法を含む式(VII ): の化合物を製造する方法を提供する。反応は溶媒又は溶媒混合物中で有利に行わ れる。式(II)の化合物の濃度は、実質的に全ての光が反応容器中に吸収される ように有利に調整される。 反応溶液を好ましくは撹拌し、所望ならば暴露の間に冷却する。 適切な溶媒は上記に示されている。 本発明は更に、 A)式(I)の構造単位を有する化合物の少なくとも1種及び B)塩基−触媒付加又は置換反応が可能な有機化合物の少なくとも1種 を含む組成物を提供する。 式(II): (式中、基R1、R2、R3、R4、R5、R6及びR7は、好ましい意味を含めて上 記に定義したとおりである)の化合物を含む式(I)の構造単位の有機化合物を 成分A)として含む組成物が好ましい。 塩基−触媒付加又は置換反応は、低分子量化合物(モノマー)、オリゴマー、 重合化合物又はそれらの化合物の混合物により実施できる。新規な光開始剤を使 用して、モノマー及びオリゴマー/ポリマーの両方により実施できる反応の例は 、クネベナ−ゲル反応又はマイケル付加反応である。 成分B)がアニオン重合性又は架橋性有機材料の組成物であることが特に重要 である。有機材料は単官能又は多官能性モノマー、オリゴマー又はポリマーの形 状であることができる。 特に好ましいオリゴマー/ポリマー系は、塗料工業において慣用的なものであ る結合剤又は塗料系である。 そのような塩基−触媒可能な結合剤又は塗料系の例は下記である: a)例えばUS-A-4,772,672又はUS-A-4,444,974に記載されたポリマーである、 アルコキシシラン又はアルコキシシロキサン側基を有するアクリラートコポリマ ー; b)ヒドロキシル含有ポリアクリラート、ポリエステル及び/又はポリエーテ ル及び脂肪族又は芳香族ポリイソシアナートを含む2成分系; c)官能ポリアクリラート及びポリエポキシドを含む2成分系(ここでポリア クリラートはカルボキシル又は無水物基を含む); d)フッ素変性又はシリコーン変性ヒドロキシル含有ポリアクリラート、ポリ エステル及び/又はポリエーテル及び脂肪族又は芳香族ポリイソシアナートを含 む2成分系; e)(ポリ)ケチミン及び脂肪族又は芳香族ポリイソシアナートを含む2成分系 ; f)(ポリ)ケチミン及び不飽和アクリラート樹脂、アセトアセタート樹脂又は メチルα−アクリルアミドメチルグリコラートを含む2成分系; g)ポリアミン及び無水物基を含むポリアクリラートを含む2成分系; h)(ポリ)オキサゾリジン及び無水物基を含むポリアクリラート、不飽和アク リラート樹脂又はポリイソシアナートを含む2成分系; i)エポキシ含有ポリアクリラート及びカルボキシル含有ポリアクリラートを 含む2成分系; l)アリルグリシジルエーテルに基づくポリマー; m)(ポリ)アルコール及び(ポリ)イソシアナートを含む2成分系; n)α、β−エチレン性不飽和カルボニル化合物及び活性化されたCH2基を 有する化合物を含む2成分系であり、活性化されたCH2基は、例えばEP-B-0161 697において(ポリ)マロナート基のために記載されているように、主鎖又は側 鎖或いは両方のいずれかに存在することができる。活性化されたCH2基を有す る他の化合物は、(ポリ)アセトアセタート及び(ポリ)シアノアセタートであ る。 この塩基−触媒性結合剤の中で下記のものが特に好ましい: b)ヒドロキシル含有ボリアクリラート、ポリエステル及び/又はポリエーテ ル及び脂肪族又は芳香族ポリイソシアナートを含む2成分系; c)官能ポリアクリラート及びポリエポキシドを含む2成分系(ここでポリア クリラートはカルボキシル又は無水物基を含む); i)エポキシ含有ポリアクリラート及びカルボキシル含有ポリアクリラートを 含む2成分系; m)(ポリ)アルコール及び(ポリ)イソシアナートを含む2成分系;そして n)α,β−エチレン性不飽和カルボニル化合物及び活性化されたCH2基を 有する化合物を含む2成分系であり、活性化されたCH2基は、例えばEP-B-0161 697において(ポリ)マロナート基のために記載されているように、主鎖又は側 鎖或いは両方のいずれかに存在することができる。活性化されたCH2基を有す る他の化合物は、(ポリ)アセトアセタート及び(ポリ)シアノアセタートであ る。 α,β−エチレン性不飽和カルボニル化合物及び(ポリ)マロナートよりなる 2成分系並びにその製法がEP-B-0161687に記載されている。ここでマロナート基 は、ポリウレタン、ポリエステル、ポリアクリラート、エポキシ樹脂、ポリアミ ド又はポリビニルポリマーエーテルの主鎖又は側鎖のいずれかに結合できる。使 用されるα,β−エチレン性不飽和カルボニル化合物は、カルボニル基により活 性化されたいかなる二重結合であることができる。例は、アクリル酸又はメタク リル酸のエステル又はアミドである。エステル基では、更なるヒドロキシル基が 存在することも可能である。またジエステル及びトリエステルも可能である。典 型的な例は、ヘキサンジオールジアクリラート又はトリメチロールプロパントリ アクリラートである。アクリル酸の代わりに、クロトン酸又はケイ皮酸のような 他の酸及びそのエステル又はアミドを使用することも可能である。 塩基触媒の下で系の化合物は室温で互いに反応し、数多くの用途に適切な架橋 された被覆系を形成する。その固有の良好な耐候性により、例えば外面の用途に も同様に適切であり、必要であればUV吸収剤及び他の光安定剤により更に安定 化することもできる。 新規の組成物において成分B)として適切な他の系はエポキシ系である。エポ キシ樹脂は、成分B)としてエポキシ樹脂を含む新規の硬化可能な混合物の製造 に適切であり、エポキシ樹脂技術において慣例的なものであり、そのようなエポ キシ樹脂の例は下記である。 I)少なくとも2個のカルボキシル基を分子に有する化合物とエピクロロヒド リン又はβ−メチル−エピクロロヒドリンとを反応させて得ることができる、ポ リグリシジル及びポリ(β−メチルグリシジル)エステル。反応を塩基の存在中 に慎重に実施した。少なくとも2個のカルボキシル基を分子に有する化合物とし ては、脂肪族ポリカルボン酸を使用することが可能である。そのようなポリカル ボン酸の例は、シュウ酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、ス ベリン酸、アゼライン酸又は二量化若しくは三量化リノール酸である。しかし例 えば、テトラヒドロフタル酸、4−メチルテトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロ フタル酸又は4−メチルヘキサヒドロフタル酸のような環式脂肪族ポリカルボン 酸を使用することも可能である。更に、例えばフタル酸、イソフタル酸又はテレ フタル酸のような芳香族ポリカルボン酸も使用できる。 II)少なくとも2個の遊離のアルコール性ヒドロキシル基及び/又はフェノー ル性ヒドロキシル基を有する化合物とエピクロロヒドリン又はβ−メチル−エピ クロロヒドリンとを、アルカリ環境下で反応させるか又は酸性触媒の存在中に反 応させ続いてアルカリ処理して得ることができる、ポリグリシジル又はポリ(β −メチルグリシジル)エーテル。この種のグリシジルエーテルは、例えばエチレ ングリコール、ジエチレングリコール及び高級ポリ(オキシエチレン)グリコー ル、プロパン−1,2−ジオール又はポリ(オキシプロピレン)グリコール、プ ロパン−1,3−ジオール、ブタン−1,4−ジオール、ポリ(オキシテトラメ チレン)グリコール、ペンタン−1,5−ジオール、ヘキサン−1,6−ジオー ル、ヘキサン−2,4,6−トリオール、グリセロール、1,1,1−トリメチ ロール−プロパン、ペンタエリトリトール、ソルビトールのような非環式アルコ ール及びポリエピクロロヒドリンから誘導される。またこれらは、例えば1,4 −シクロヘキサンジメタノール、ビス(4−ヒドロキシシクロヘキシル)メタン 又は2,2−ビス(4−ヒドロキシシクロヘキシル)プロパンのような環式脂肪 族アルコールから誘導されるか、N,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)アニリ ン又はp,p’−ビス(2−ヒドロキシエチルアミノ)ジフェニルメタンのよう な脂肪族核を有する。またグリシジルエーテルは、例えばレゾルシノール又はヒ ドロキノンのような単核フェノールから誘導できるか、ビス(4−ヒドロキシフ ェニル)メタン、4,4’−ジヒドロキシビフェニル、ビス(4−ヒドロキシフ ェニル)スルホン、1,1,2,2−テトラキス(4−ヒドロキシフェニル)エ タン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス (3,5−ジブロモ−4−ヒドロキシフェニル)プロパンのような多核フェノー ルに基づき、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、クロラール又はフルフルア ルデヒドのようなアルデヒドを、フェノールのようなフェノール類により或いは その核を塩素原子又はC1-9アルキル基(例として4−クロロフェノール、2 −メチルフェノール又は4−tert−ブチルフェノール)により置換されているフ ェノール類により縮合して得られるか、或いは上記で特定された種類のビスフェ ノール類により縮合して得られるノボラック類から誘導できる。 III)エピクロロヒドリンの反応生成物を、少なくとも2個のアミン水素原子 を含むアミンによりジヒドロクロル化して得られる、ポリ(N−グリシジル)化 合物。このアミンは、例えばアニリン、n−ブチルアミン、ビス(4−アミノフ ェニル)メタン、m−キシリレンジアミン又はビス(4−メチルアミノフェニル )メタンである。しかしまた、ポリ(N−グリシジル)化合物は、トリグリシジ ルイソシアヌラート、エチレンウレア又は1,3−プロピレンウレアのようなシ クロアルキレンウレアのN,N’−ジグリシジル誘導体及び5,5−ジメチルヒ ダントインのようなヒダントインのジグリシジル誘導体を含む。 IV)例えば、エタン−1,2−ジチオール又はビス(4−メルカプトメチルフ ェニル)エーテルから誘導されるジ−S−グリシジル誘導体である、ポリ(S− グリシジル)化合物。 V)例えば、ビス(2,3−エポキシシクロペンチル)エーテル、2,3−エ ポキシ−シクロペンチルグリシジルエーテル、1,2−ビス(2,3−エポキシ シクロペンチルオキシ)エタン又は3,4−エポキシシクロヘキシルメチル3' ,4’−エポキシシクロヘキサンカルボキシラートである環式脂肪族エポキシ樹 脂。代替的に1,2−エポキシ基が異なる複素原子及び/又は官能基に結合して いるエポキシ樹脂を使用することも可能であり、これらの化合物には、例えば4 −アミノフェノールのN,N−トリグリシジル誘導体、グリシジルエーテル、サ リチル酸のグリシジルエステル、N−グリシジル−N’−(2−グリシジルオキ シプロピル)−5,5−ジメチルヒダントイン又は2−グリシジルオキシ−1, 3−ビス(5,5−ジメチル−1−グリシジルヒダントイン−3−イル)プロパ ンが含まれる。 エポキシ樹脂の混合物も成分B)として使用できる。 光開始剤、成分A)よりなる化合物は、好ましくは成分B)に基づき0.01 〜10重量%の量である。 光開始剤、成分A)に加えて、光重合可能な混合物は種々の添加剤を含んでも よい。これらの例は、ヒドロキノン、ヒドロキノン誘導体、p−メトキシフェノ ール、β−ナフトール又は例えば2,6−ジ(tert−ブチル)−p−クレゾール のような立体的障害フェノール類のような早期重合を阻止することを意図した熱 抑制剤である。暗室保存安定性を増大させるために、例えばナフテン酸銅、ステ アリン酸銅又はオクタン酸銅のような銅化合物、トリフェニルホスフィン、トリ ブチルホスフィン、トリエチルホスファイト、トリフェニルホスファイト又はト リベンジルホスファイトのようなリン酸化合物、テトラメチルアンモニウムクロ リド又はトリメチルベンジルアンモニウムクロリドのような第四アンモニウム化 合物或いはN−ジエチル−ヒドロキシルアミンのようなヒドロキシルアミン誘導 体を使用することが可能である。重合の間、大気中の酸素を除外するために、パ ラフィンまたは類似したワックス状物質を加えることが可能であり、それらのポ リマー中における溶解性の欠如により、重合の初めに表面に移動し、そこで透明 な表面層を形成して空気の進入を防ぐ。同様に、酸素不透過層を適用することが 可能である。添加できる少量の光安定剤は、例えばヒドロキシフェニルベンゾト リアゾール、ヒドロキシフェニル−ベンソフェノン、オキサルアミド又はヒドロ キシフェニル−s−トリアジン型のもののようなUV吸収剤である。個別の化合 物又はこれらの化合物の混合物を、立体障害アミン類(HALS)を展開して又 はせずに使用できる。 このようなUV吸収剤及び光安定剤の例を下記に示す。 1.2−(2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、例えば2−(2 ’−ヒドロキシ−5’−メチルフェニル)−ベンゾトリアゾール、2−(3', 5’−ジ−tert−ブチル−2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2 −(5’−tert−ブチル−2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2 −(2’−ヒドロキシ-5’−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェニ ル)−ベンゾトリアゾール、2−(3',5’−ジ−tert−ブチル− 2’−ヒドロキシフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(3’−te rt−ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−メチルフェニル)−5−クロロベンゾト リアゾール、2−(3’−sec−ブチル−5’−tert−ブチル-2’−ヒドロキフ ェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−4’−オクトキシフェ ニル)ベンゾトリアゾール、2−(3',5’−ジ−tert−アミル−2’−ヒド ロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3',5’−ビス(α,α−ジメ チルベンジル)−2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3’ −tert−ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−(2−オクチルオキシカルボニルエ チル)フェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール及び2−(3’−tert−ブチ ル−5’−[2−(2−エチルヘキシルオキシ)カルボニルエチル]−2’−ヒ ドロキシフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール及び2−(3’−tert−ブ チル−2’−ヒドロキシ−5’−(2−メトキシカルボニルエチル)フェニル) −5−クロロベンゾトリアゾール及び2−(3’−tert−ブチル−2’−ヒドロ キシ−5’−(2−メトキシカルボニルエチル)フェニル)−ベンゾトリアゾー ル及び2−(3’−tert−ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−(2−オクチルオ キシカルボニルエチル)フェニル)ベンゾトリアゾール及び2−(3’−tert− ブチル−5’−[2−(2−エチルヘキシルオキシ)カルボニルエチル]−2’ −ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール及び2−(3’−ドデシル−2’− ヒドロキシ−5’−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール及び2−(3’−tert −ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−(2−イソオクチルオキシカルボニルエチ ル)フェニルベンゾトリアゾールの混合物、2,2’−メチレンビス[4−(1 ,1,3,3−テトラメチルブチル)−6−ベンゾトリアゾール−2−イルフェ ノール];2−[3’−tert−ブチル−5’−(2−メトキシカルボニルエチル )−2’−ヒドロキシフェニル]ベンゾトリアゾールとポリエチレングリコール 300とのエステル交換反応生成物;[R−CH2CH2−COO(CH2)32、 ここでR=3’−tert−ブチル−4’−ヒドロキシ−5’−2H−ベンゾトリア ゾール−2−イルフェニル、である。 2.2−ヒドリキシベンゾフェノン、例えば4−ヒドロキシ、4−メトキシ、 4−オクトキシ、4−デシルオキシ、4−ドデシルオキシ、4−ベンジルオキシ 、4,2',4’−トリヒドロキシ及び2’−ヒドロキシ−4,4’−ジメトキ シ誘導体である。 3.置換及び非置換安息香酸のエステル、例えば4−tert−ブチルフェニルサ リシラート、フェニルサリシラート、オクチルフェニルサリシラート、ジベンゾ イルレゾルシノール、ビス(4−tert−ブチル−ベンゾイル)レゾルシノール、 ベンゾイルレゾルシノール、2,4−ジ−tert−ブチルフェニル3,5−ジ−te rt−ブチル−4−ヒドロキシベンゾアート、ヘキサデシル3,5−ジ−tert−ブ チル−4−ヒドロキシベンゾアート、オクタデシル3,5、−ジ−tert−ブチル −4−ヒドロキシベンゾアート及び2−メチル−4,6−ジ−tert−ブチルフェ ニル3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンゾアートである。 4.アクリラート、例えばエチル又はイソオクチルα−シアノ−β,β−ジフ ェニルアクリラート、メチルα−カルボメトキシシンナマート、メチル及びブチ ルα−シアノ−β−メチル−p−メトキシシンナマート、メチルα−カルボメト キシ−p−メトキシシンナマート並びにN−(β−カルボメトキシ−β−シアノ ビニル)−2−メチル−インドリンである。 5.立体障害アミン、例えばビス(2,2,6,6−テトラメチルピペリジル )セバケート、ビス(2,2,6,6−テトラメチルピペリジル)スクシナート 、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジル)セバケート、ビス(1 ,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジル)n−ブチル−3,5−ジ−tert− ブチル−4−ヒドロキシベンジルマロナート、1−ヒドロキシエチル−2,2, 6,6−テトラメチル−4−ヒドロキシピペリジン及びコハク酸の縮合生成物、 N,N’−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ヘキサメチ レンジアミン及び4−tert−オクチルアミノ−2,6−ジクロロ−1,3,5− s−トリアジンの縮合生成物、トリス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピ ペリジル)ニトリロトリアセタート、テトラキス(2,2,6,6−テトラメチ ル−4−ピペリジル)−1,2,3,4−ブタンテトラオート、1,1’−(1 ,2−エタンジイル)−ビス(3,3,5,5−テトラメチルピペラジノン)、4 −ベンゾイル−2,2,6,6−テトラメチル ピペリジン、4−ステアリルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン 、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジル)2−n−ブチル−2− (2−ヒドロキシ−3,5−ジ−tert−ブチルベンジル)マロナート、3−n− オクチル−7,7,9,9−テトラメチル−1,3,8−トリアザスピロ[4. 5]デカン−2,4−ジオン、ビス(1−オクチルオキシ−2,2,6,6−テ トラメチルピペリジル)セバケート、ビス(1−オクチルオキシ−2,2,6, 6−テトラメチルピペリジル)スクシナート、N,N’−ビス(2,2,6,6 −テトラメチル−4−ピペリジル)ヘキサメチレンジアミン及び4−モルホリノ −2,6−ジクロロ−1,3,5−トリアジンの縮合生成物、2−クロロ−4, 6−ジ−(4−n−ブチルアミノ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジル) −1,3,5−トリアジン及び1,2−ビス(3−アミノプロピルアミノ)エタ ンの縮合生成物、2−クロロ−4,6−ジ−(4−n−ブチルアミノ−1,2, 2,6,6−ペンタメチルピペリジル)−1,3,5−トリアジン及び1,2− ビス(3−アミノプロピルアミノ)エタンの縮合生成物、8−アセチル−3−ド デシル−7,7,9,9−テトラメチル−1,3,8−トリアザスピロ[4.5 ]デカン−2,4−ジオン、3−ドデシル−1−(2,2,6,6−テトラメチ ル−4−ピペリジル)ピロリジン−2,5−ジオン、3−ドデシル−1−(1, 2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)ピロリジン−2,5−ジオン である。 6.オキサルアミド、例えば4,4’−ジオクチルオキシオキサニリド、2, 2’−ジエトキシオキサニリド、2,2’−ジオクチルオキシ−5,5’−ジ− tert−ブチルオキサニリド、2,2’−ジ−ドデシルオキシ−5,5’−ジ−te rt−ブチルオキサニリド、2−エトキシ−2’−エチルオキサニリド、N,N’ −ビス(3−ジメチルアミノプロピル)オキサロアミド、2−エトキシ−5−te rt−ブチル−2’−エチルオキサニリド、それと、2−エトキシ−2’−エチル −5,4’−ジ−tert−ブチルオキサニリドとの混合物、o−及びp−メトキシ とo−及びp−エトキシ−ジ置換オキサニリドとの混合物である。 7.2(2−ヒドロキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、例えば2,4 ,6−トリス(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)− 1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル )−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2 −(2,4−ジヒドロキシフェニル)−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニ ル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ビス(2−ヒドロキシ−4−プロピル オキシフェニル)−6−(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジ ン、2−(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−4,6−ビス(4 −メチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−ド デシルオキシフェニル)−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3 ,5−トリアジン、2−[2−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキシ−3−ブチル オキシプロピルオキシ)−フェニル]−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニ ル)−1,3,5−トリアジン、2−[2−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキシ −3−オクチルオキシプロピルオキシ)フェニル]−4,6−ビス(2,4−ジ メチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−[4−ドデシル/トリデシル オキシ−(2−ヒドロキシプロピル)オキシ−2−ヒドロキシフェニル]−4, 6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジンである。 8.ホスファイト及びホスホナイト、例えばトリフェニルホスファイト、ジフ ェニルアルキルホスファイト、フェニルジアルキルホスファイト、トリス(ノニ ルフェニル)ホスファイト、トリラウリルホスファイト、トリオクタデシルホス ファイト、ジステアリルペンタエリトリトールジホスファイト、トリス(2,4 −ジ−tert−ブチルフェニル)ホスファイト、ジイソデシルペンタエリトリトー ルジホスファイト、ビス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)ペンタエリトリ トールジホスファイト、ビス(2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェニル )ペンタエリトリトールジホスファイト、ビス−イソデシルオキシペンタエリト リトールジホスファイト、ビス(2,4−ジ−tert−ブチル−6−メチルフェニ ル)ペンタエリトリトールジホスファイト、ビス(2,4,6−トリ−tert−ブ チルフェニル)ペンタエリトリトールジホスファイト、トリステアリルソルビト ールトリホスファイト、テトラキス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)−4 ,4’−ビフェニレンジホスホナイト、6−イソオクチルオキシ− 2,4,8,10−テトラ−tert−ブチル−12H−ジベンゾ[d,g]−1, 3,2−ジオキサホスホシン、6−フルオロ−2,4,8,10−テトラ−tert −ブチル−12−メチルジベンゾ[d,g]−1,3,2−ジオキサホスホシン 、ビス−(2,4−ジ−tert−ブチル−6−メチルフェニル)メチルホスファイ ト、ビス(2,4−ジ−tert−ブチル−6−メチルフェニル)エチルホスファイ トである。 更なる添加剤の例は、下記のとおりである。 充填剤及び補強剤、例えば炭酸カルシウム、ケイ酸塩、ガラス繊維、ガラスビ ーズ、アスベスト、タルク、カオリン、雲母、硫酸バリウム、金属酸化物及び水 酸化物、カーボンブラック、グラファイト、木材粉末及び他の材料の粉末又は繊 維、合成繊維である。 他の添加剤、例えば可塑剤、潤滑剤、乳化剤、顔料、流動学的な添加物、触媒 、均染助剤、光学増白剤、防炎剤、静電気防止剤、発泡剤である。上記に示した 添加剤に加えて、更なる共開始剤が存在することも可能である。一般的に、これ らは、例えば、エネルギー転移又は電子転移の手段によって、全体的な量子収率 を改善する染料である。共開始剤として添加できる適切な染料の例は、トリアリ ールメタン、例えばマラカイトグリーン、インドリン、チアジン、例えばメチレ ンブルー、キサントン、チオキサントン、オキサジン、アクリジン又はフェナジ ン、例えばサフラニン及び式:(式中、Rはアルキル又はアリールであり、R’は水素、アルキル又はアリール 基である)のローダミン、例えばローダミンB、ローダミン6G又はビオラミン R、またスルホローダミンB又はスルホローダミンGである。 チオキサントン、オキサジン、アクリジン、フェナジン及びローダミンが好ま しい。 上記の塩基−触媒性(硬化性)結合剤、成分B)に加えて、組成物は他の結合 剤も同様に含んでもよい。例えば更なるオレフィン性不飽和化合物が可能である 。不飽和化合物は、1個以上のオレフィン性二重結合を含んでもよい。それらは 低分子量(モノマー)又は高分子量(オリゴマー)のものであってもよい。二重 結合を含むモノマーの例は、メチル、エチル、2−エチルヘキシル若しくは2− ヒドロキシエチルアクリラート、イソボルニルアクリラート、メチルメタクリラ ート又はエチルメタクリラートのようなアルキル若しくはヒドロキシルアクリラ ート又はメタクリラートである。シリコーンアクリラートも興味あるものである 。更なる例は、アクリロニトリル、アクリルアミド、メタクリルアミド、N−置 換(メタ)アクリルアミド、ビニルアセタートのようなビニルエステル、イソブ チルビニルエステルのようなビニルエーテル、スチレン、アルキル及びハロスチ レン、N−ビニルピロリドン、ビニルクロリド又はビニリデンクロリドである。 2個以上の二重結合を含むモノマーの例は、エチレングリコール、プロピレン グリコール、ネオペンチルグリコール、ヘキサメチレングリコール若しくはビス フェノールAのジアクリラート、4,4’−ビス(2−アクリロイルオキシエト キシ)ジフェニル、プロパン、トリメチロールプロパントリアクリラート、ペン タエリトリトールトリアクリラート若しくはテトラアクリラート、ビニルアクリ ラート、ジビニルベンゼン、ジビニルスクシナート、ジアリルフタラート、トリ アリルホスファート、トリアリルイソシアヌラート又はトリス(2−アクリロイ ルエチル)イソシアヌラートである。 比較的に高分子量(オリゴマー)の多価不飽和化合物の例は、アクリル化エポ キシ樹脂、アクリル化ポリエステル又はビニルエーテル基若しくはエポキシ基を 含むポリエステル、ポリウレタン及びポリエーテルである。不飽和オリゴマーの 更なる例は、主にマレイン酸、フタル酸及び1個以上のジオールから製造され、 約500〜3,000の分子量を有する不飽和ポリエステル樹脂である。更に、 ビニルエーテルモノマー及びオリゴマー、またポリエステル、ポリウレタン、ポ リエーテル、ポリビニルエーテル及びエポキシ主鎖によりマレイン酸塩−停止反 応しているオリゴマーも使用することが可能である。特に、WO 90/01512に記載 されたようなビニルエーテル官能性オリゴマー及びポリマーの組合せが、非常に 適している。また、ビニルエーテル及びマレイン酸官能性モノマーのコポリマー も適している。この種の不飽和オリゴマーをプレポリマーとして参照することも できる。 特に適切な例は、エチレン性不飽和カルボン酸のエステル及びポリオール又は ポリエポキシド、不飽和ポリエステル、ポリアミド及びポリウレタン並びにその コポリマーのようなエチレン性不飽和基を鎖又は側鎖に有するポリマー、アルキ ド樹脂、ポリブタジエン及びブタジエンコポリマー、ポリイソプレン及びイソプ レンコポリマー、(メタ)アクリル基を側鎖に有するポリマー及びコポリマー並 びにこのようなポリマー1個以上の混合物である。 加えて、このような遊離基で硬化可能なモノマー、オリゴマー/ポリマーを使 用する場合、遊離基に分離する更なる光開始剤を加えることは賢明である。この ような光開始剤は公知であり、工業的に生産される。例は、ベンゾフェノン、ベ ンゾフェノン誘導体、アセトフェノン、アセトフェノン誘導体、例えばα−ヒド ロキシシクロアルキルフェニルケトン、ジアルコキシアセトフェノン、α−ヒド ロキシ−若しくはα−アミノアセトフェノン、4−アロイル−1,3−ジオキソ ラン、ベンゾインアルキルエーテル及びベンジルケタル、モノアシルホスフィン オキシド、ビスアシルホスフィンオキシド、フェロセニウム化合物又はチタノセ ンである。例は米国特許第5,077,402号に定義されている。この種のポリマー系 (異なる機構により硬化/架橋が行われる)もハイブリッド系として参照される 。 新規組成物も、また、それに非反応性結合剤として添加することができ、それ は、もし光重合性化合物が液体又は粘性物質である場合には、特に賢明である。 非反応結合剤の量は、全固形物含量に基づき、例えば5〜95%、好ましくは1 0〜90%、特に40〜90重量%であることができる。非反応結合剤は、使用 の分野並びに水性及び有機溶剤系の中に展開する可能性、基板への接着及び酸素 への感受性のような、この使用に要求される特性により選択される。 適切な結合剤の例は、およそ5,000〜2,000,000、好ましくは1 0,000〜1,000,000の分子量を有するポリマーである。例は以下の とおりである:ホモ及びコポリマーアクリラート並びにメタクリラート、例えば メチルメタクリラート/エチルアクリラート/メタクリル酸のコポリマー、ポ リ(アルキルメタクリラート)、ポリ(アルキルアクリラート);酢酸セルロース、 酢酸酪酸セルロース、メチルセルロース、エチルセルロースのようなセルロース エステル及びエーテル;ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、環化ゴ ム、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド、ポリテトラヒドロフラン のようなポリエーテル;ポリスチレン、ポリカルボナート、ポリウレタン、塩素 化ポロオレフィン、塩化ポリビニル、塩化ビニル/塩化ビニリデンのコポリマー 、アクリロニトリルによる塩化ビニリデンのコポリマー、メチルメタクリラート 及び酢酸ビニル、酢酸ポリビニル、コポリ(エチレン/酢酸ビニル)、ポリカプロ ラクタム及びポリ(ヘキサメチレンアジパミド)のようなポリマー並びにポリ( エチレングリコールテレフタラート)及びポリ(ヘキサメチレングリコールスク シナート)のようなポリエステル。 本発明は塩基−触媒反応を実施する方法を更に提供し、 A)式(I):(式中、R1は、200〜650nmの波長の光を吸収できる芳香族又は複素芳香 族基であり、それにより、隣接する炭素−窒素結合を開裂する)構造単位よりな る化合物の少なくとも1種;及び B)塩基−触媒反応が可能な有機化合物の少なくとも1種 を200nm〜650nmの波長を有する光で照射する方法よりなる。 成分A)は、好ましくは、式(I)の構造単位が式(II): (式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6及びR7は、その好ましい意味も含んで 上記に定義したとおりである)の化合物を含む有機化合物である。 塩基−触媒された反応の例及び好ましい意味は、既に上記で示されている。 特に好ましくは、成分B)がアニオン重合性であるか、又は架橋性である有機 材料である。 いくつかの場合において、光への暴露の間又は後に加熱を実行することは、有 利でありえる。この方法で架橋反応を速めることは、多くの場合において可能で ある。 新規組成物の光に対する感受性は、一般的に約200nmからUV領域を経て赤 外線領域(約20,000nm、特に1200nm)まで広がり、したがって非常 に広範囲にわたる。適切な放射は、例えば太陽光線又は人工光源からの光を含む 。したがって数多くの非常に異なる種類の光源を使用できる。点光源及びラジエ ータ(ランプカーペット)の両方が適切である。例は、炭素アーク灯、キセノン アーク灯、中圧、高圧及び低圧水銀灯、所望ならば金属ハロゲン化物によりドー プされた(金属ハロゲン灯)、マイクロ波で誘導された金属蒸気灯、エキシマラン プ、高次アクチニド蛍光灯、蛍光灯、白熱アルゴンランプ、電子フラッシュ光、 写真投光照明灯、シンクロトロン又はレーザープラズマによって生じる電子ビー ム及びX線である。ランプと暴露される本発明の基板との間の距離は、用途及び ランプの種類及び/又は電力に依存して変えることができ、例えば2cm〜150 cmである。また、レーザー光源、例えばエキシマレーザーは、特に適切である。 可視領域又はIR領域でのレーザーも使用できる。新規材料の高い感受性及び共 開始剤としてレーザー線に染料を適応する可能性が、ここで非常に有利である。 この方法によって、電子産業でのプリント回路、リトグラフオフセット印刷プレ ート又は凸版印刷プレート、また写真画像記録材料を生産することが可能である 。 新規組成物は種々の目的、例えば印刷インキとして、クリアコートとして、ホ ワイトペイントとして、例えば木材又は金属のために、被覆材料として、とりわ け紙、木材、金属又はプラスチックのために、粉体塗料として、建物や道路のマ ーキングのために日光硬化性塗料として、写真再生産方法のために、ホログラフ 記録材料のために、画像記録方法のために、又は有機溶媒若しくは水性−アル カリ媒体を使用して現像できる印刷プレートの生産のために、スクリーンプリン トのマスクの製造のために、歯科充填材料として、感圧接着剤を含む接着剤とし て、積層樹脂として、エッチングレジスト又はパーマネントレジストとして及び 電子回路の半田マスクとして、塊硬化(透明金型でのUV硬化)又は立体リトグ ラフ方法により3次元物品の生産のために、例えば米国特許第4,575,330号に記 載されているように、複合材料(例えば、ガラス繊維及び/又は他の繊維及び補 助剤を含んでもよいスチレン性ポリエステル)及び他の厚層組成物の製造のため に、電子部品の被覆又は封入のために或いは光学繊維の被覆のために使用される 。 表面被覆において、プレポリマーと単一不飽和モノマーも含む多価不飽和モノ マーとの混合物を使用することは、一般的である。ここでプレポリマーは、被覆 フィルムの性質を第一義的に決定し、それを変化させることにより熟練労働者が 硬化フィルムの性質に影響を与えることができる。多価不飽和モノマーは架橋剤 として機能し、それにより被覆フィルムを不溶性にする。単一不飽和モノマーは 、反応希釈剤として機能し、それにより溶媒を使用する必要無しに粘性を減少さ せる。 不飽和のポリエステル樹脂は、大部分は2成分系において、単一不飽和モノマ ー、好ましくはスチレンと共に使われる。フォトレジストのために、特定の1成 分系が頻繁に使用され、例えば、DE-A-2308830において記載されたように、ポリ マレインイミド、ポリカルコン又はポリイミドである。 新規の光硬化性組成物は、例えば全ての種類の基板のための被覆材料として適 切であり、その例としては、木材、織物、紙、セラミック、ガラス、特にフィル ムの形状で、ポリエステル、ポリエチレンテレフタラート、ポリオレフィン又は 酢酸セルロースのようなプラスチック、またAl、Cu、Ni、Fe、Zn、M g若しくはCo及びGaAs、Si又はSiO2のような金属であり、その上に 保護被覆を塗布するか又は画像様暴露により画像を塗布する意図である。 液体組成物、溶液又は懸濁液を基板に塗布することにより基板を被覆できる。 溶媒の選択及び濃度は、組成物の種類及び被覆方法に顕著に依存している。溶媒 は不活性でなければならない:換言すれば、成分といかなる化学反応も起こして はならず、乾燥工程において、被覆操作の後で再び除去することが可能でなけれ ばならない。適切な溶媒の例は、メチルエチルケトン、イソブチルメチルケトン 、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、N−メチルピロリドン、ジオキサン、 テトラヒドロフラン、2−メトキシエタノール、2−エトキシエタノール、1− メトキシ−2−プロパノール、1,2−ジメトキシエタン、酢酸エチル、酢酸n −ブチル及びエチル3−エトキシプロピオナートのようなケトン、エーテル並び にエステルである。 公知の被覆方法を使用して、例えばスピンコート、ディップコート、ナイフコ ート、カーテンコート、ブラッシング、スプレー(特に静電気スプレー)及びリ バースロールコートにより並びに電気泳動塗装により、溶液を基板に均等に塗布 する。また、感光性層を仮の可撓性支持体に塗布し、次に最終的な基板、例えば 銅張り回路に薄層を介する層の移動により被覆することが可能である。 塗布量(層厚)及び基板の性質(層支持体)は、適用する所望の分野と相関関 係にある。層厚の範囲は一般的に約0.1μm〜100μmを超える値からなる。 新規の放射線−感受性組成物もまた画像様の暴露に付すことができる。この場 合には、これはネガティブレジストとして使用される。これは、電子工学(ガル バノレジスト、エッチングレジスト及び半田レジスト)のために、オフセットプ リント板、フレキソ及び凸版印刷板又はスクリーンプリント板のような、プリン ト板の製造のために、マーキングスタンプの製造のために適切であり、集積回路 の生産における化学混練のために又はミクロレジストとして使用できる。可能な 層支持体及び被覆基板の加工条件はそれぞれ広範囲に変化する。 用語「画像様」の暴露は、コンピュータ制御の下、例えば塗布基板の表面の上 を移動するレーザー光線により暴露し、それにより画像を生み出す予め決められ たパターンを含むフォトマスク、例えばスライドを通しての暴露及びコンピュー タ制御された電子線による照射の両方に関する。 材料の画像方向の暴露に続き、現像の前に、露出部分のみが熱硬化される、短 時間の熱処理を実施することが有利であるかもしれない。適用温度は一般的に5 0〜150℃、好ましくは80〜130℃であり、熱処理の継続時間は一般的に 0.25〜10分である。 光硬化が使用される更なる分野は、金属被覆、例えば金属板及び管、缶又は瓶 の蓋の表面被覆並びにポリマー被覆の光硬化、例えばPVCに基づく床又は壁被 覆である。紙被覆の光硬化の例は、ラベル、レコードジャケット又はブックカバ ーの無色のワニス塗布である。 新規化合物の、複合組成物から作られている造形品の硬化のための使用も同様 に興味深い。複合組成物は、自己支持マトリックス材料、例えばガラス繊維生地 、また例えば植物繊維[cf.K.-P.Mieck,T.Reussmann in Kunststoffe 85(19 95),366-370](光硬化配合物により含浸されている)から作られている。本発明 の化合物を使用して複合組成物から作られている造形品は、高度の機械的安定性 及び耐性がある。本発明の化合物は、また、例えばEP-A-7086に記載されている ように、成形、含浸及び被覆組成物中に光硬化剤として使用できる。そのような 組成物の例は、硬化活性及び黄変への耐性に関して過酷な必要条件が課せられて いる微細被覆樹脂或いは平面又は縦若しくは横断波形光拡散パネルのような繊維 強化成形物である。 本発明は式(I): (式中、R1は、200〜650nmの波長の光を吸収できる芳香族又は複素芳香 族基であり、それにより、隣接する炭素−窒素結合を開裂する)の構造単位の少 なくとも1種を含む有機化合物を、塩基−触媒付加又は置換反応を光化学的に誘 導される光開始剤として使用することを更に提供する。 式(I)の構造単位が式(II): (式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6及びR7は、その好ましい意味も含んで 上記に定義したとおりである)の化合物よりなる有機化合物が好ましい。 塩基−触媒付加又は置換反応の例及び好ましいものは、上記で示されている。 本発明は更に、少なくとも1面が上記に記載した組成物により被覆されている 被覆基板及び凸版画像の写真生産のための方法(被覆基板が画像様に暴露され、 次に非暴露の部分は溶媒により除去される)を提供する。この文脈において、レ ーザー光線による上記の暴露が特に興味深い。 下記の実施例は本発明を説明する。記載の残りの部分と請求項において、部及 び%は断らない限り重量である。3個以上のC原子を有するアルキル又はアルコ キシ基が、その異性体の形状に参照されなく示される場合は、それぞれのn−異 性体が意味される。 A−実施例:光開始剤の製造 実施例A1 [R1=フェニル,R2=R3=H,R4/R6=−(CH2)3−,R5/R7=−(C H23−] トルエン中α−ブロモアセトフェノンの溶液を、トルエン中1,5−ジアザビ シクロ[4.3.0]ノナンの溶液に撹拌しながら加えた。混合物を室温で一晩 撹拌した。反応混合物を濾過し、脱イオン水で洗浄し、MgSO4で乾燥した。 続いて真空中で更に乾燥して、約85%の収率を得た。 U.V.(CHCl3)246nm(ε 10400l/mol cm)で最大。 下記の例は実施例A1と同様に製造された。対応する生成物は、全ての場合に おいて約85%の収率で得た。 実施例A2 [R1=ジフェニル,R2=R3=H,R4/R6=−(CH2)3−,R5/R7=−( CH23−] U.V.(CHCl3)287nm(Σ19600l/mol cm)で最大。 実施例A3 [R1=ナフチル,R2=R3=H,R4/R6=−(CH2)3−,R5/R7=−(C H23−] 元素分析 計算値:C18222O:C 76.56;H 7.85;N 9.92;実測値:C 76. 83;H 7.52;N 9.42, U.V.(CHCl3)251nm(ε 39100l/mol cm),286nm(ε 8200l/mol cm)及び345nm( ε 1700l/mol cm)で最大。 実施例A4 [R1=ピレン,R2=R3=H,R4/R6=−(CH2)3−,R5/R7=−(CH2 3−]元素分析 計算値:C25242O:C 81.49;H 6.57;実測値:C 81.70;H 6. 74. U.V.(CHCl3)245nm(ε 29800l/mol cm),285nm(ε 20900l/mol cm)及び360nm (ε 18100l/mol cm)で最大。 実施例A5 [R1=4−アジドフェニル,R2=R3=H,R4/R6=−(CH2)3−,R5/R7 =−(CH2)3−] 実施例A6〜A36;表1: 実施例A37〜A39;表2:実施例A40〜A59;表3: 実施例A60 5/R7=−(CH2)3−] 実施例A61 [R1=4−ジエチルアミノフェニル,R2=R3=H,R4/R6=−(CH2)3− ,R5/R7=−(CH2)3−] 黄色の固形物(収率87%); 元素分析 計算値:C19293O:C 72.34,H 9.27,N 13.32;実測値:C 72.06,H 9.16,N 13.20. U.V.(CHCl3)247nm(ε 4700),313nm(ε 17300)及び364nm(ε 5800)で最大 。 I.R.(KBr)1684cm-1(C=O). 実施例A62 赤色のゴム状固形物(収率72%) U.V.(CHCl3)245nm(ε 6700)及び330nm(ε 23100)で最大。 実施例A63 橙色に着色された油状物(収率78%) U.V.(CHCl3)287nm(ε 20500)で最大。 I.R.(KBr)1690cm-1(C=O). 実施例A64 [R1=フェニル,R2=CH3,R3=H,R4/R6=−(CH2)3−,R5/R7= −(CH2)3−] 橙色に着色された油状物(収率86%) I.R.(KBr)1695cm-1(C=O). 実施例A65 橙色に着色された油状物(収率89%) U.V.(CHCl3)268nm(ε 10100)及び302(ε 7300)で最大 I.R.(KBr)1670及び1600cm-1(C=O).実施例A66 橙色の結晶(収率94%) U.V.(CHCl3)244nm(ε 5400)及び306(ε 17300)で最大 I.R.(KBr)1670及び1590cm-1(C=O). 実施例A67 U.V.(CHCl3)245nm(ε 44800),345nm(ε 3400),37Onm(ε 3800)及び395nm (ε 3700)で最大。 I.R.(KBr)1670cm-1(C=O). 実施例A68 U.V.(CHCl3)258nm(ε 14100)で最大。 I.R.(KBr)1685及び1585cm-1(C=O). 実施例A69 実施例A70〜A82;表4: *実施例76の化合物は次のようにして得られる:銅の存在中でのチオサリチル 酸及びp−ブロモアセトフェノンの塩基−触媒結合反応を使用してケト酸を得て 、それをポリリン酸により脱水素化して2−アセチルチオキアントンを得て、α 位置で臭素化する。最後にケトンと1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノナ ンとを反応させて化合物A76を得た。 実施例A83 [R1=2−ナフチル,R2=CH3,R3=H,R4/R6=−(CH2)3−,R5/ R7=−(CH2)3−] 実施例A84 [R1=ジフェニル,R2=CH3,R3=H,R4/R6=−(CH2)3−,R5/R7 =−(CH2)3−] B−実施例:使用:モノマー化合物による塩基触媒 実施例B1〜B4 UV−開始マイケル付加 光開始剤(潜伏性アミジン塩基)7.4・10-5molを、ジメチルマロナート及 びn−ブチルアクリラートの混合物(1:1、7.4・10-4molに対応する20 0mg)に、石英容器中で溶解した。混合物を、高圧水銀灯(200W)で30cm の距離から照射した。変換を時間の関数として監視した。結果を表5に示した。実施例B5 可視光線により開始されるマイケル付加 光開始剤A2(潜伏性アミジン塩基)7.4・10-5mol及びイソプロピルチオ キサントン7.4・10-5molを、ジメチルマロナート及びn−ブチルアクリラー トの混合物(1:1、7.4・10-4molに対応する200mg)に、ガラス容器中 で溶解した。混合物を、ハロゲンランプ(500W)で30cmの距離から照射し た。変換を時間の関数として監視した。結果を表5にした。下記の結果が得られ た。 実施例B6〜B9 下記の方法は、実施例B1〜B4に記載された方法と同様である。使用された 開始剤及び試験結果を表6に示す。 C−実施例:使用:オリゴマー/ポリマー化合物による塩基触媒 実施例C1〜C6 イソホロンジイソシアナート及び4−ヒドロキシブチルアクリラートに基づく ウレタンアクリラート製造。 反応は窒素雰囲気下で実施され、使われる全ての商用の化学製品は更なる精製 なしで使用される。 イソホロンジイソシアナート1566.8g(NCO13.78mol)、ジブチ ルチンジラウラート2.3g、2,5−ジ−t−ブチル−p−クレゾール2.3 g及び酢酸ブチル802.8gを、冷却器及び滴下装置を備えた三つ口フラスコ に装入した。ドライ窒素を反応混合物中に泡立て、温度を60℃に徐々に上昇さ せた。4−ヒドロキシブチルアクリラート1987g(13.78mol)を加え 、その間反応溶液を80℃に徐々に温めた。温度を80℃で保持し、滴下装置を 酢酸ブチル(86.6g)でフラッシュした。反応を、イソシアナート残量の滴 定により監視し、ソシアナート含有量が固形物含有量に基づいて0.2%未満の ときに終了した。得られた反応生成物は下記の物性を有していた: 残基4−ヒドロキシブチルアクリラート:<固形物に基づき0.002%(HP LC分析)、 色:<<ガードナー1 粘度:43cPas(20℃) 固形物含有量:79.3%(140℃で1時間)、 GPCデータ(ポリスチレン基準):Mn778、Mw796、d=1.02。 マロナートポリエステルの製造 反応は窒素雰囲気下で実施し、使われる全ての商用の化学製品は更なる精製な しで使用される。 撹拌器及び冷却器を備えた反応容器中で、1,5−ペンタンジオール1045 g、ジエチルマロナート1377.4g及びキシレン242.1gを慎重に還流 した。反応混合物の最高温度は196℃であったが、冷却器の先頭での温度は7 9℃に保持した。この方法で、エタノール862g(97.7%の変換に対応す る)が留去した。キシレンが真空中で200℃の温度でストリッピングした。得 られたポリマーは、固形含有量98.6%、粘度2710mPas及び固形物含有量 に基づきKOH/g0.3mgの酸価を有した。Mnは1838であり、Mwは31 86であり、色はAPHA(American Public Health Association)スケールで 175(Hazen color number;ISO 6271)であった。 実施例C1 UV光線による硬化 実施例A2の光開始剤20.5mg(6.4×10-5mol)を、上記に記載した ウレタンアクリラート及びマロナートポリエステルの1.3:1混合物400mg に溶解した。混合物を石英容器中に高圧水銀灯(200W)を使用して30cmの 距離から暴露した。ポリマーは45分後に粘着性無しになった。 実施例C2 UV光線による硬化 実施例A3の光開始剤18.8mg(6.4×10-5mol)を、上記に記載した ウレタンアクリラート及びマロナートポリエステルの1.3:1混合物400mg に溶解した。50μm厚のフィルムをガラス板上へ引き出し、高圧水銀灯(20 0W)を使用して30cmの距離から暴露した。ポリマーフィルムは30分後に粘 着性無しになった。 実施例C3 可視光線による硬化 実施例A2の光開始剤20.5mg(6.4×10-5mol)及びイソプロピル− 9H−チオキサントン10mg(6.4×10-5mol)を、上記に記載したウレタ ンアクリラート及びマロナートポリエステルの1.3:1混合物400mgに溶解 した。混合物を石英容器中にハロゲンランプ(500W)を使用して30cmの距 離から暴露した。ポリマーは120分後に粘着性無しになった。 実施例C4 可視光線による硬化 実施例A2の光開始剤20.5mg(6.4×10-5mol)及びイソプロピル− 9H−チオキサントン10mg(6.4×10-5mol)を、上記に記載したウレタ ンアクリラート及びマロナートポリエステルの1.3:1混合物400mgに溶解 した。50μm厚のフィルムをガラス板上へ引き出し、ハロゲンランプ(500W )を使用して30cmの距離から暴露した。ポリマーフィルムは120分後に粘着 性無しになった。 実施例C5 可視光線による硬化 実施例A3の光開始剤18.8mg(6.4×10-5mol)及びイソプロピル− 9H−チオキサントン10mg(6.4×10-5mol)を、上記に記載したウレタ ンアクリラート及びマロナートポリエステルの1.3:1混合物400mgに溶解 した。50μm厚のフィルムをガラス板上へ引き出し、ハロゲンランプ(500W )を使用して30cmの距離から暴露した。ポリマーフィルムは 120分後に粘着性無しになった。 実施例C6 可視光線による硬化 実施例A1の光開始剤18.8mg(6.4×10-5mol)及びイソプロピル− 9H−チオキサントン10mg(6.4×10-5mol)を、上記に記載したウレタ ンアクリラート及びマロナートポリエステルの1.3:1混合物400mgに溶解 した。50μm厚のフィルムをガラス板上へ引き出し、ハロゲンランプ(500W )を使用して30cmの距離から暴露した。ポリマーフィルムは120分後に粘着 性無しになった。 実施例C7〜C8 表6に示された量の実施例A3の光開始剤及びイソプロピル−9H−チオキサ ントン(ITX)を、上記に記載したウレタンアクリラート及びマロナートポリ エステルの1.3:1混合物400mgに溶解した。50μm厚のフィルムをガラ ス板上へ引き出し、TL03/40Wランプを使用して30cmの距離から暴露し た。4、6及び24時間後、ASTMD1925〜88によるケーニッヒ振子硬 度(DIN53157)及び黄色度指数が、それぞれ決定された。結果を表7に 示した。
【手続補正書】特許法第184条の8第1項 【提出日】平成10年10月28日(1998.10.28) 【補正内容】 実施例A37〜A39;表2: 実施例A40〜A59;表3: 請求の範囲 1.式(II):(式中、 R1は、芳香族又は複素芳香族基であり; R2及びR3は、互いに独立して、水素、C1-18アルキル、C3-18アルケニ ル、C3-18アルキニル又はフェニルであり、そしてもしR2が水素又はC1-1 8 アルキルであれば、R3は、更に、基−CO−R14(式中、R14は、C1-18ア ルキル又はフェニルである)であるか;或いは、 R1とR3は、カルボニル基及びR3が結合しているC原子と一緒になって、ベ ンゾシクロペンタノン基を形成し; R5は、C1-18アルキル又はNR1516であり; R4、R6、R7、R15及びR16は、互いに独立して、水素又はC1-18アルキ ルであるか:或いは、 R4とR6は、一緒になって、C2-12アルキレン橋を形成するか、又は、R5 とR7は、R4及びR6から独立して、一緒になって、プロピレン、ブチレン、ペ ンチレン、ヘキシレン、ヘプチレン、オクチレン、ノニレン、デシレン、ウンデ シレン若しくはドデシレンであるか、又はもしR5がNR1516であれば、R16 とR7は、一緒になって、C2-12アルキレン橋を形成する)の有機化合物。 2.R1が、芳香族基(これは、非置換であるか、又はC1-18アルキル、C3- 18アルケニル、C3-18アルキニル、C1-18ハロアルキル、NO2、NR89 、N3、OH、CN、OR10、SR10、C(O)R11、C(O)OR12若しくは ハロゲンにより1回以上置換されている)であり、それは、フェニル、ナフチル 、フェナントリル、アントラシル、ピレニル、5,6,7,8−テトラ ヒドロ−2−ナフチル、5,6,7,8−テトラヒドロ−1−ナフチル、チエニ ル、ベンゾ[b]チエニル、ナフト[2,3−b]チエニル、チアトレニル、ジ ベンゾフリル、クロメニル、キサンテニル、チオキサンチル、フェノキサチイニ ル、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、ピラジニル、ピリミジニル、ピリダ ジニル、インドリジニル、イソインドリル、インドリル、インダゾリル、プリニ ル、キノリジニル、イソキノリル、キノリル、フタラジニル、ナフチリジニル、 キノキサリニル、キナゾリニル、シンノリニル、プテリジニル、カルバゾリル、 β−カルボリニル、フェナントリジニル、アクリジニル、ペリミジニル、フェナ ントロリニル、フェナジニル、イソチアゾリル、フェノチアジニル、イソキサゾ リル、フラザニル、テルフェニル、スチルベニル、フルオレニル若しくはフェノ キサジニルからなる群から選択されるか、或いは、 R1が、式A、B又はC: (式中、 R13は、C1-18アルキル、C2-18アルケニル、C2-18アルキニル、C1- 18ハロアルキル、NO2、NR89、OH、CN、OR10、SR10、C(O) R11、C(O)OR12又はハロゲンであり; R8、R9、R10、R11及びR12は、水素又はC1-18アルキルであり;そして nは、0又は1、2若しくは3の数である)の基である、請求項1記載の有機 化合物。 3.R1が、フェニル、ナフチル、アントラシル、チアオキサンチル、ジベンゾ フリル又はピレニルであり、基フェニル、ナフチル、アントラシル、チアオキサ ンチル及びピレニルが、非置換であるか、又はCN、N3、NR89、ハロゲン 、NO2、CF3、SR10又はOR10により、1回以上置換されているか、或いは R1が、式A、B又はC: (式中、nは、0であり、そして基R8、R9、R10及びR13は、請求項2に定義 したとおりである)の基である、請求項1記載の有機化合物。 4.R2及びR3が、互いに独立して、水素、C1-6アルキル又はフェニルであ る、請求項1記載の有機化合物。 5.R4とR6が、一緒になって、C2-6アルキレン橋を形成する、請求項1記 載の有機化合物。 6.R5及びR7が、プロピレン、ブチレン、ペンチレン、ヘキシレン、ヘプチレ ン、オクチレン、ノニレン、デシレン、ウンデシレン若しくはドデシレンである か、又はもしR5がNR1516であれば、R16とR7は、一緒になって、C2-6 アルキレン橋を形成する、請求項1記載の化合物。 7.R1が、フェニル、ナフチル、アントラシル、チオキサンチル、ジベンゾフ ラニル又はピレニルであり、フェニル基が、非置換であるか、又はCN、NR8 9、N3、NO2、CF3、ハロゲン、SR10若しくはOR10により、1回以上置 換されているか、或いは R1が、式A、B又はC:(式中、 nは、0であり、基R8、R9、R10及びR13は、水素又はC1-14アルキルで あり; R2及びR3は、水素又はC1-6アルキル若しくはフェニルであるか;或いは R1とR3は、カルボニル基及びR3が結合しているC原子と一緒になって、ベ ンゾシクロペンタノン基を形成し; R4、R6及びR7は、互いに独立して、水素又はC1-6アルキルであり; R5は、C1-6アルキル又はNR1516(式中、R15及びR16は水素又はC1- 6アルキルである)の基であるか;或いは R4とR6は、一緒になって、C2-6アルキレン橋を形成するか;或いは R5とR7は、R4及びR6から独立して、一緒になって、プロピレン、ブチレン 、ペンチレン、ヘキシレン、ヘプチレン、オクチレン、ノニレン、デシレン、ウ ンデシレン若しくはドデシレンであるか、又はもしR5がNR1516であれば、 R16とR7は、一緒になって、C2-6アルキレン橋を形成する)基である、請求 項1記載の式(II)の化合物。 8.請求項1記載の式(II)の化合物を製造する方法であり、式(V): の化合物を、式(VI): (式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6及びR7は、請求項1に定義したとおり であり、ハロゲンは、F、Cl、Br又はIである)の化合物と反応させること を特徴とする方法。 9.式(VII): (式中、R4、R5、R6及びR7は、請求項1に定義したとおりである)の化合物 を製造する方法であり、 請求項1記載の式(II)の化合物を波長200nm〜650nmを有する光に暴露 することを特徴とする方法。 10.A)請求項1記載の式(II)の化合物の少なくとも1種及び B)塩基−触媒付加又は置換反応が可能な有機材料の少なくとも1種 を含む組成物。 11.成分B)が、アニオン重合性又は架橋性有機材料である、請求項10記載 の組成物。 12.成分B)が、下記の系: b)ヒドロキシル含有ポリアクリラート、ポリエステル及び/又はポリエーテ ル及び脂肪族又は芳香族ポリイソシアナートを含む2成分系; c)官能ポリアクリラート及びポリエポキシドを含む2成分系(ここでポリア クリラートはカルボキシル又は無水物基を含む); i)エポキシ含有ポリアクリラート及びカルボキシル含有ポリアクリラートを 含む2成分系; m)(ポリ)アルコール及び(ポリ)イソシアナートを含む2成分系; n)α、β−エチレン性不飽和カルボニル化合物及び活性化されたCH2基を 有する化合物を含む2成分系、 のうちの1種である、請求項10記載の組成物。 13.成分B)が、エポキシ系である、請求項10記載の組成物。 14.成分A)が、成分B)に基づき0.01〜10重量%の量で存在する、請 求項10記載の組成物。 15.チオキサントン、オキサジン、アクリジン、フェナジン及びローダミンか らなる群から選択される増感剤を更に含む、請求項10記載の組成物。 16.塩基−触媒重合反応を実施する方法であって、 A)請求項1記載の式(II)の化合物の少なくとも1種;及び B)塩基−触媒反応性有機材料の少なくとも1種 に200〜650nmの波長を有する光を照射することを特徴とする方法。 17.光への暴露中又は暴露後に加熱する、請求項16記載の方法。 18.光化学的に誘導された、塩基−触媒付加又は置換反応のための光開始剤と しての、請求項1記載の式(II)の有機材料の使用。 19.被覆、成形組成物又は光構造化層を製造する、請求項18記載の有機化合 物の使用。 20.請求項10記載の組成物により少なくとも1つの表面上に被覆されている 被覆された基質。 21.請求項11記載の重合又は架橋された組成物。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C09D 201/00 C09D 201/00 G03F 7/028 G03F 7/028 (81)指定国 EP(AT,BE,CH,DE, DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,IT,L U,MC,NL,PT,SE),OA(BF,BJ,CF ,CG,CI,CM,GA,GN,ML,MR,NE, SN,TD,TG),AP(GH,GM,KE,LS,M W,SD,SZ,UG,ZW),EA(AM,AZ,BY ,KG,KZ,MD,RU,TJ,TM),AL,AM ,AT,AU,AZ,BA,BB,BG,BR,BY, CA,CH,CN,CU,CZ,DE,DK,EE,E S,FI,GB,GE,GH,GM,GW,HU,ID ,IL,IS,JP,KE,KG,KP,KR,KZ, LC,LK,LR,LS,LT,LU,LV,MD,M G,MK,MN,MW,MX,NO,NZ,PL,PT ,RO,RU,SD,SE,SG,SI,SK,SL, TJ,TM,TR,TT,UA,UG,UZ,VN,Y U,ZW

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.式(I): (式中、R1は、200〜650nmの波長の光を吸収できる芳香族又は複素芳香 族基であり、それにより、隣接する炭素−窒素結合を開裂する)構造単位の少な くとも1種を含み、分子量1,000未満を有する有機化合物。 2.式(I)の構造単位が、式(II): (式中、 R1は、200〜650nmの波長の光を吸収できる芳香族又は複素芳香族基で あり、それにより、隣接する炭素−窒素結合を開裂し; R2及びR3は、互いに独立して、水素、C1-18アルキル、C3-18アルケニ ル、C3-18アルキニル又はフェニルであり、もしR2が水素又はC1-18アル キルであれば、R3は、更に、基−CO−R14(式中、R14は、C1-18アルキ ル又はフェニルである)であるか; 或いは、R1とR3は、カルボニル基及びR3が結合しているC原子と一緒になっ て、ベンゾシクロペンタノン基を形成し; R5は、C1-18アルキル又はNR1516であり; R4、R6、R7、R15及びR16は、互いに独立して、水素又はC1-18アルキ ルであるか;或いは、 R4とR6は、一緒になって、C2-12アルキレン橋を形成するか、又は、R5 とR7は、R4及びR6から独立して、一緒になって、C2-12アルキレン 橋を形成するか、もしR5がNR1516であれば、R16及びR7は、一緒になって C2-12アルキレン橋を形成する)の化合物を含む、請求項1記載の有機化合物 。 3.R1が、芳香族基(これは、非置換であるか、又はC1-18アルキル、C3-18 アルケニル、C3-18アルキニル、C1-18ハロアルキル、NO2、NR89 、N3、OH、CN、OR10、SR10、C(O)R11、C(O)OR12若しくは ハロゲンにより1回以上置換されている)、それらは、フェニル、ナフチル、フ ェナントリル、アントラシル、ピレニル、5,6,7,8−テトラヒドロ−2− ナフチル、5,6,7,8−テトラヒドロ−1−ナフチル、チエニル、ベンゾ[ b]チエニル、ナフト[2,3−b]チエニル、チアトレニル、ジベンゾフリル 、クロメニル、キサンテニル、チオキサンチル、フェノキサチイニル、ピロリル 、イミダゾリル、ピラゾリル、ピラジニル、ピリミジニル、ピリダジニル、イン ドリジニル、イソインドリル、インドリル、インダゾリル、プリニル、キノリジ ニル、イソキノリル、キノリル、フタラジニル、ナフチリジニル、キノキサリニ ル、キナゾリニル、シンノリニル、プテリジニル、カルバゾリル、β−カルボリ ニル、フェナントリジニル、アクリジニル、ペリミジニル、フェナントロリニル 、フェナジニル、イソチアゾリル、フェノチアジニル、イソキサゾリル、フラザ ニル、テルフェニル、スチルベニル、フルオレニル若しくはフェノキサジニルか らなる群から選択されるか、或いは、 R1が、式A、B又はC: (式中、 R13は、C1-18アルキル、C2-18アルケニル、C2-18アルキニル、C1- 18ハロアルキル、NO2、NR89、OH、CN、OR10、SR10、C(O) R11、C(O)OR12又はハロゲンであり; R8、R9、R10、R11及びR12は、水素又はC1-18アルキルであり;そして nは、0又は1、2若しくは3の数字である)の基である、請求項1記載の有機 化合物。 4.R1が、フェニル、ナフチル、アントラシル、チアオキサンチル、ジベンゾ フリル又はピレニルであり、基フェニル、ナフチル、アントラシル、チアオキサ ンチル及びピレニルが、非置換であるか、又はCN、N3、NR89、ハロゲン 、NO2、CF3、SR10若しくはOR10により、1回以上置換されているか、或 いはR1が、式A、B又はC: (式中、 nは、0であり、基R8、R9、R10及びR13は、請求項3に定義したとおりで ある)の基である、請求項1記載の有機化合物。 5.R2及びR3が、互いに独立して、水素、C1-6アルキル又はフェニルであ る、請求項2記載の有機化合物。 6.R4及びR6が、一緒になって、C2-6アルキレン橋を形成する、請求項2 記載の有機化合物。 7.R5及びR7が、C2-6アルキレン橋を形成するか、もしR5がNR1516で あれば、R16とR7が一緒になってC2-6アルキレン橋を形成する、 請求項2記載の有機化合物。 8.R1が、フェニル、ナフチル、アントラシル、チオキサンチル、ジベンゾフ ラニル若しくはピレニルであり、フェニル基が、非置換であるか、またはCN、 NR89、N3、NO2、CF3、ハロゲン、SR10若しくはOR10により、1回 以上置換されているか、或いは R1が、式A、B又はC: (式中、 nは、0であり、基R8、R9、R10及びR13は、水素又はC1-14アルキルで あり; R2及びR3は、水素又はC1-6アルキル若しくはフェニルであるか;或いは R1とR3は、カルボニル基及びR3が結合しているC原子と一緒になって、ベ ンゾシクロペンタノン基を形成し; R4、R6及びR7は、互いに独立して、水素又はC1-6アルキルであり; R5は、C1-6アルキル若しくはNR1516(式中、R15及びR16は水素又は C1-6アルキルである)であるか; R4及びR6は、一緒になってC2-6アルキレン橋を形成するか;又は R5とR7は、R4及びR6から独立して、一緒になって、C2-6アルキレン架 橋を形成するか、又はもしR5が、NR1516であれば、R16とR7は、一緒にな って、C2-6アルキレン橋を形成する)基である、請求項2記載の式 (II)の化合物。 9.請求項1記載の式(I)の構造単位を有する化合物を製造する方法であり、 式(III): の構造単位よりなる化合物を、式(IV): (式中、R1は、請求項1に定義したとおりであり、ハロゲンはF、Cl、Br 又はIである)の構造単位よりなる化合物と反応させることを特徴とする方法。 10.請求項2記載の式(II)の化合物を製造する方法であり、 式(V): の化合物を、式(VI): (式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6及びR7は、請求項2に定義したとおり であり、ハロゲンはF、Cl、Br又はIである)の化合物と反応させることを 特徴とする方法。 11.請求項2記載の式(II)の化合物を製造する方法であって、 式(VII): の化合物を、波長200nm〜650nmを有する光に暴露することを特徴とする方 法。 12.A)請求項1記載の式(II)の構造単位を有する化合物の少なくとも1種 及び B)塩基−触媒付加又は置換反応が可能な有機化合物の少なくとも1種を含む組 成物。 13.成分B)が、アニオン重合性又は架橋性有機材料である、請求項12記載 の組成物。 14.成分B)が、下記の系: b)ヒドロキシル含有ポリアクリラート、ポリエステル及び/又はポリエーテ ル及び脂肪族又は芳香族ポリイソシアナートを含む2成分系; c)官能ポリアクリラート及びポリエポキシドを含む2成分系(ここでポリア クリラートはカルボキシル又は無水物基を含む); i)エポキシ含有ポリアクリラート及びカルボキシル含有ポリアクリラートを 含む2成分系; m)(ポリ)アルコール及び(ポリ)イソシアナートを含む2成分系; n)α、β−エチレン性不飽和カルボニル化合物及び活性化されたCH2基を 有する化合物を含む2成分系、 のうちの1種である、請求項12記載の組成物。 15.成分B)が、エポキシ系である、請求項12記載の組成物。 16.成分A)が、成分B)に基づき0.01〜10重量%の量で存在する、請 求項12記載の組成物。 17.チオキサントン、オキサジン、アクリジン、フェナジン及びローダミンか らなる群から選択される増感剤を更に含む、請求項12記載の組成物。 18.塩基−触媒反応を実施する方法であって、 A)請求項1記載の式(I): (式中、R1は、200〜650nmの波長の光を吸収できる芳香族又は複素芳香 族基であり、それにより、隣接する炭素−窒素結合を開裂する)の構造単位より なる化合物の少なくとも1種;及び B)塩基−触媒反応性有機化合物の少なくとも1種 を200〜650nmの波長を有する光で照射する方法。 19.光への暴露中又は暴露後に加熱する、請求項18記載の方法。 20.式(I): (式中、R1は、200〜650nmの波長の光を吸収できる芳香族又は複素芳香 族基であり、それにより、隣接する炭素−窒素結合を開裂する)の構造単位の少 なくとも1種を有する請求項1記載の有機化合物の、光化学的に誘導される塩基 −触媒付加又は置換反応のための光開始剤としての使用。 21.被覆、成形組成物又は光構造化層を製造するための、請求項20記載の有 機化合物の使用。 22.請求項12記載の組成物により少なくとも1つの表面上に被覆された被覆 基質。 23.請求項13記載の重合又は架橋された組成物。
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