JP2001509521A - 有機ポリマー用光安定化相乗混合物 - Google Patents

有機ポリマー用光安定化相乗混合物

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JP2001509521A JP2000502023A JP2000502023A JP2001509521A JP 2001509521 A JP2001509521 A JP 2001509521A JP 2000502023 A JP2000502023 A JP 2000502023A JP 2000502023 A JP2000502023 A JP 2000502023A JP 2001509521 A JP2001509521 A JP 2001509521A
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alkyl group
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カルロ ネリ
ファビオ ブロウッサルド
ルチアーナ クリッシー
マウロ アドヴァッシオ
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グレート レイクス ケミカル (ユーロープ) ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング
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Abstract

(57)【要約】 下記成分を含む、有機ポリマー用安定化剤組成物。 (a)一級又は二級脂肪族又は芳香族アミンを有する、β−ケト−エステル、β−ケト−アミド又は1,3−ジケトンの誘導体からなるエナミンの群に属する下記一般式(I)で示される1以上の化合物、及び、

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】 本発明は、有機ポリマー用光安定化相乗混合物(light−stabili
zing synergic mixture)に関する。
【0002】 より詳細には、本発明は、一級又は二級脂肪族又は芳香族アミンを有する、β
−ケト−エステル又はβ−ケト−アミド又は1,3−ジケトンの誘導体からなる
エナミンの群に属する1以上の化合物及び当該技術分野において既知の立体障害
アミン(hindered amine)(HALS)の群に属する1以上の化
合物を含む、有機ポリマー用光安定化相乗混合物並びに有機ポリマーの光安定化
におけるその使用に関する。
【0003】 更に本発明は、前記混合物で光安定化されたポリマー組成物及び前記組成物か
ら得られる最終製品に関する。
【0004】 有機ポリマーは、大気中の因子、主に紫外線への曝露の結果として、ある期間
、分解を受け、更に、加工及び変形工程の間に熱酸化的(thermoxida
tive)分解を容易に受ける。
【0005】 この分解により、有機ポリマーの物理的特性、例えば衝撃強さ及び曲げの低下
並びに最終製品の光学的性質の変化等の低下が生じる。 この分解を防ぐために、通常、安定化化合物が有機ポリマーへ導入される。
【0006】 本件出願人は、β−ケト−エステルの誘導体又はβ−ケト−アミド又は一級又
は二級の脂肪族又は芳香族アミンを有する1,3−ジケトンからなるエナミンの
群に属する化合物は、当該技術分野において既知の立体障害アミン(HALS)
の群に属する1以上の化合物と組み合わせたとき、相乗作用を有し、それゆえ、
添加されるポリマーを安定化し、光に対する耐性、特に紫外線に対する耐性を改
善することができることを見いだした。
【0007】 それゆえ、本発明は、下記の成分、 (a)一級又は二級脂肪族又は芳香族アミンを有する、β−ケト−エステル、
β−ケト−アミド又は1,3−ジケトンの誘導体からなるエナミンの群に属する
下記一般式(I)で示される1以上の化合物、
【0008】
【0009】 (式中、mは1〜3の整数であり、 nは1〜4の整数であり、 Rは下記一般式(II)、(III)又は(IV)、
【0010】
【0011】 (式中、Rは水素原子、C〜C18の直鎖又は分岐したアルキル基、−NH
アミン基又は−SR基(式中Rは水素原子又はC〜C18の直鎖又は
分岐したアルキル基である)である)の中の1つを有するトリアジンであり、 R及びRは、同一又は異なって、水素原子、C〜C18の直鎖又は分岐
したアルキル基、C〜Cの直鎖又は分岐したアルコキシアルキル基、酸素、
窒素及び硫黄の中から選ばれるヘテロ原子を適宜含むC〜Cのシクロアルキ
ル基、C〜C18のアリール基、C〜C20のアリールアルキル基、下記一
般式(V)、
【0012】
【0013】 (式中、Rは水素原子、C〜C18の直鎖又は分岐したアルキル基であって
、−NHR基又は−OR基(式中、Rは水素原子、C〜C18の直鎖又
は分岐したアルキル基又はC〜C18のアリール基である)で適宜置換さてい
るアルキル基、−OR基(式中、Rは水素原子又はC〜C18の直鎖又は
分岐したアルキル基である)を有する基であり、又は、
【0014】 R及びRは窒素原子と一緒になって、酸素、窒素及び硫黄の中から選ばれ
る第二のヘテロ原子を適宜含むC〜Cのヘテロ環基であり、
【0015】 R及びRは、同一又は異なって、C〜C18の直鎖又は分岐したアルキ
ル基、C〜C18のアリール基、C〜C20のアルキルアリール又はアリー
ルアルキル基、C〜Cの直鎖又は分岐したアルコキシ基であり、又は、
【0016】 Rは一般式(VI)、
【0017】
【0018】 (式中、Rは前記と同一である)を有する基であり、、又は、 RはNR1011基(式中、R10及びR11は、同一又は異なって、水
素原子、C〜C18の直鎖又は分岐したアルキル基、C〜Cの直鎖又は分
岐したアルコキシアルキル基、酸素、窒素及び硫黄の中から選ばれるヘテロ原子
を適宜含むC〜Cのシクロアルキル基、C〜C18のアリール基、C
20のアリールアルキル又はアルキルアリール基、下記一般式(II)、(I
II)又は(IV)、
【0019】
【0020】 (式中、Rは前記と同一である)の中の1つを有するトリアジン、下記一般式
(V)、
【0021】
【0022】 (式中、Rは前記と同一である)を有する基であり、又は、
【0023】 R10及びR11は窒素原子と一緒になって、酸素、窒素及び硫黄の中から選
ばれる第二のヘテロ原子を適宜含むC〜Cのヘテロ環基である)であり、又
は、
【0024】 Rは下記一般式(VII)、(VIII)又は(IX)、
【0025】
【0026】 (式中、R12は水素原子又はC〜C18の直鎖又は分岐したアルキル基であ
り、 R13はC〜C18の直鎖又は分岐したアルキル基、−COCHCOCH
基又は直接結合である)の中の1つを有する基である、及び、 (b)立体障害アミンの群に属する1以上の化合物。
【0027】 R、R、R10及びR11基の例は、水素原子、メチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、ブチル、オクチル、シクロヘキシル、ベンジル、フェニル、
エチルフェニル、メトキシエチル、4−(2,2,6,6−テトラメチル)ピペ
リジニル、4−(2,2,6,6−テトラメチル)−1−ブトキシエチルピペリ
ジニル、4−(2,2,6,6−テトラメチル)−1−ブトキシピペリジニル、
4−(2,2,6,6−テトラメチル)−1−メチルピペリジニル、3,5−ジ
オクチルアミノトリアジン、3,5−ジブチルアミノトリアジン等である。
【0028】 R及びR又はR10及びR11が窒素原子と一緒になるとき、C〜C
のヘテロ環基の例は、モルホリン、ピロリジン、ピペリジン、ピペラジン、チオ
モルホリン、チアゾリジン、ベンゾチアゾリジン等である。 R及びR基の例は、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、フェニル
、オキシメチル、オキシエチル、オキシブチル等である。
【0029】 Rが一般式(VI)を有するとき、R基の例は、4−(2,2,6,6−
テトラメチル)ピペリジノキシ、N−メチル−4−(2,2,6,6−テトラメ
チル)ピペリジノキシ、N−メトキシエチル−4−(2,2,6,6−テトラメ
チル)ピペリジノキシ、N−メチルアミノエチル−4−(2,2,6,6−テト
ラメチル)ピペリジノキシ等である。
【0030】 Rが一般式(VII)、(VIII)又は(IX)を有しかつnが2である
とき、R基の例は、
【0031】
【0032】 等である。 Rが一般式(VII)、(VIII)又は(IX)を有しかつnが3である
とき、R基の例は、
【0033】
【0034】 等である。 Rが一般式(VII)、(VIII)又は(IX)を有しかつnが4である
とき、R基の例は、
【0035】
【0036】 等である。 R基の例は、メチル、エチル、プロピル、ブチル、エトキシ、ブトキシ、β
−ヒドロキシエチル、β−メトキシエチル、β−ブトキシエチル、メチルアミノ
エチル等である。
【0037】 R、R、R、R、R12及びR13基がC〜C18の直鎖又は分岐
したアルキル基であるとき、R、R、R、R、R12及びR13基の例
は、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、オクチル等である。
【0038】 一般式(I)を有する化合物(a)の特定の例は、決して本発明の範囲を限定
するものではないが、下記の通りである。
【0039】
【0040】
【0041】
【0042】 前記一般式(I)を有する化合物は、種々の方法により得ることができる。 一般式(I)を有する化合物を合成する1つの方法は、1〜4モルの下記一般
式(X)を有する一級又は二級の、脂肪族又は芳香族アミン、
【0043】 HNR (X)
【0044】 (式中、R及びRは前記と同一である)と、1〜3モルのβ−ケト−エステ
ル又はβ−ケト−アミド又は下記一般式(XI)を有する1,3−ジケトン、
【0045】
【0046】 (式中、R、R及びnは前記と同一である)との反応工程を含んでいる。 前記反応は、不活性有機溶媒、好ましくは炭化水素、特にトルエンの存在下、
60℃〜160℃、好ましくは115℃〜150℃、大気圧下、0.5〜24時
間、好ましくは3〜10時間行う。酢酸を触媒としてこの反応へ適宜添加するこ
とができる。
【0047】 前記反応の間、反応水(reaction water)が放出され、これを
共沸蒸留装置を使用して蒸留により除去する。有機溶媒はリサイクルする。
【0048】 反応の終わりに、溶媒及び存在する可能性のある酢酸を蒸留により除去し、原
産物を得る。一般式(I)を有する所望の化合物を、減圧:13.3パスカル〜
6666パスカル(0.1mm/Hg〜50mm/Hg)下、40℃〜200℃
で操作する分留(fractionated distillation)によ
り、原産物から精製して得る。又は、一般式(I)を有する化合物を、当該技術
分野において既知の技術を使用して結晶化により分離する。
【0049】 前記方法に使用することができる、一般式(X)を有する一級又は二級の脂肪
族又は芳香族アミンの例は、シクロヘキシルアミン、n−ブチルアミン、ter
t−ブチルアミン、n−オクチルアミン、tert−オクチルアミン、n−オク
タデシルアミン、n−ドデシルアミン、ベンジルアミン、2−メトキシエチルア
ミン、2−フルフリルアミン、ピロリジン、ピペリジン、モルホリン、ジベンジ
ルアミン、アニリン、ジフェニルアミン、メラミン、4−アミノ−2,2,6,
6−テトラメチルピペリジン、4−アミノ−2,2,6,6−テトラメチル−1
−メチルピペリジン、4−アミノ−2,2,6,6−テトラメチル−1−ブトキ
シエチルピペリジン、1−アミノ−3,5−ジオクチルアミノトリアジン等であ
る。
【0050】 前記方法に使用することができるβ−ケト−エステル又はβ−ケト−アミド又
は一般式(XI)を有する1,3−ジケトンの例は、エチルアセトアセテート、
エチルベンゾイルアセテート、アセチルアセトン、ベンゾイルアセトン、p−ト
ルイルアセトン、4−(2,2,6,6−テトラメチル)ピペリジニルアセトア
セテート、N−メチル−4−(2,2,6,6−テトラメチル)ピペリジニルア
セトアセテート、アセトアセトアミド、アセトアセト−4−(2,2,6,6−
テトラメチルピペリジン)アミド、アセトアセト−(3,5−ジブチルトリアジ
ン)−1−アミド等である。
【0051】 前記方法により合成される、一般式(I)を有する化合物のエナミン官能基は
、高純度のサンプル(ガスクロマトグラフィーにより95%を確認)についての
NMRスペクトル分析(BRUKER AC 200分光計を使用)により確認
する。
【0052】 しかしながら、本発明の一般式(I)を有する化合物の製造に使用することが
できるその他の方法は、例えばHouben−Weyl(1957),Vol.
11/1,172−178頁に記載されている。
【0053】 本発明に使用することができる立体障害アミン(b)は、下記化合物(b−1
)〜(b−25)の中から選ぶことができる。
【0054】 化合物(b−1)は、下記の化合物の中から選ぶことができる。 ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジニル)−n−ブチル
−3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジルマロネート、トリス(2,
2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジニル)ニトリロトリアセテート、テト
ラキス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジニル)−1,2,3,4
−ブタンテトラカルボキシレート、1,1’−(1,2−エタンジイル)−ビス
−(3,3,5,5−テトラメチルピペラジノン)、4−ベンゾイル−2,2,
6,6−テトラメチルピペリジン、3−n−オクチル−7,7,9,9−テトラ
メチル−1,3,8−トリアザスピロ[4.5]デカノ−2,4−ジオン、8−
アセチル−3−ドデシル−7,7,9,9−テトラメチル−1,3,8−トリア
ザスピロ[4.5]デカノ−2,4−ジオン。
【0055】 化合物(b−2)は、下記一般式(XII)を有する化合物の中から選ぶこと
ができる。
【0056】
【0057】 (式中、R’は、水素原子、C〜C18のアルキル基、C〜Cのアルキ
ル基で適宜置換されたC〜C12のシクロアルキル基であり、 nは1、2又は4であり、 nが1であるとき、R’はC〜C25のアルキル基であり、 nが2であるとき、R’はC〜C14のアルキレン基であり、 nが4であるとき、R’はC〜C10のテトライル(tetrayl)
−アルカン基である)
【0058】 化合物(b−3)は、下記一般式(XIII)を有する化合物の中から選ぶこ
とができる。
【0059】
【0060】 (式中、R’及びR’は、同一又は異なって、水素原子又はC〜C12
アルキル基であり、 R’、R’及びR’は、同一又は異なって、C〜C10のアルキレン
基であり、 X、X、X、X、X、X、X及びXは、同一又は異なって、
下記一般式(XIV)を有する基であり、
【0061】
【0062】 (式中、R’は、水素原子、C〜C12のアルキル基、C〜Cのアルキ
ル基で適宜置換されたC〜C12のシクロアルキル基、−OH基及び/又はC
〜C10のアルキル基で適宜置換されたフェニル基、フェニル基が−OH基及
び/又はC〜C10のアルキル基で適宜置換されたC〜Cのフェニルアル
キル基である)又は、
【0063】 下記一般式(XV)を有する基、
【0064】
【0065】 (式中、R’及びR’10は、同一又は異なって、前記R’と同一である)
である。
【0066】 化合物(b−4)は、下記一般式(XVI)を有する化合物の中から選ぶこと
ができる。
【0067】
【0068】 (式中、X、X10及びX11は、同一又は異なって、下記一般式(XIV)
を有する基である)
【0069】 化合物(b−5)は、下記一般式(XVII)を有する化合物の中から選ぶこ
とができる。
【0070】
【0071】 (式中、R’11、R’13、R’14及びR’15は、同一又は異なって、水
素原子、C〜C12のアルキル基、C〜Cのアルキル基で適宜置換された
〜C12のシクロアルキル基、−OH基及び/又はC〜C10のアルキル
基で適宜置換されたフェニル基、フェニル基が−OH基及び/又はC〜C10
のアルキル基で適宜置換されたC〜Cのフェニルアルキル基であるか、又は
一般式(XV)を有する基であり、 R’12は、C〜C18のアルキレン基、C〜Cのシクロアルキレン基
、又はC〜Cのアルキレンジ(C〜Cシクロアルキレン)基であり、又
は、 R’11、R’12及びR’13は、R’11、R’12及びR’13
結合する窒素原子と一緒になって、C〜C10のヘテロ環であり、又は、 R’14及びR’15は、R’14及びR’15が結合する窒素原子と一緒に
なって、C〜C10のヘテロ環であり、又は、 nは2〜50の数値であり、置換基R’11、R’13、R’14及びR’
15の中の少なくとも1つは一般式(XV)を有する基である)
【0072】 化合物(b−6)は、下記一般式(XVIII)を有する化合物の中から選ぶ
ことができる。
【0073】
【0074】 (式中、R’16は下記式で示される基であり、
【0075】
【0076】 (式中、R’23は水素原子、O・、C〜C18のアルキル基、C〜C
アルキル基で適宜置換されたC〜C12のシクロアルキル基、CHCN基、
〜Cのアルケニル基、フェニル基がC〜Cのアルキル基で適宜置換さ
れたC〜Cのフェニルアルキル基)であり、 Zは下記式で示される基の中から選ばれ、
【0077】
【0078】 (式中、R’24はC〜Cの直鎖又は分岐したアルキル基である)であり、
R’17、R’19及びR’20は、同一又は異なって、C〜C10の直鎖
又は分岐した基、C〜C10の脂環基又はアルキル脂環基、炭素数6の芳香族
基、C〜C10のアルキル又はアルケニル基で適宜置換された芳香族基であり
、 R’18は、C〜C10の直鎖又は分岐したアルキレン基又は下記式の中の
1つであり、
【0079】
【0080】 (式中、R’25及びR’26はそれぞれ独立してC〜C10の直鎖又は分岐
したアルキレン基である)、 m及びnは整数であり、4≦m+n≦60、0≦n≦15、nが0とは異なる
とき1≦m/n≦10であり、 yは0又は1であり、 R’21はOH又は下記式の基であり、
【0081】
【0082】 (式中、R’17は前記と同一である)、 R’22は水素又は下記式の基であり、
【0083】
【0084】 (式中、R’17は前記と同一である)、 R’21及びR’22は一緒になって直接の結合で、環構造を与える)。
【0085】 化合物(b−7)は、下記の通りにして得られる化合物の中から選ぶことがで
きる。
【0086】 (a)下記一般式(XIX)を有するポリアミンと塩化シアヌールとの反応に
よって得られる生成物と、下記一般式(XX)を有する化合物とを反応させる工
程、
【0087】
【0088】 (式中、n’、n’’及びn’’’は、同一又は異なって、2〜12の数
値であり、 R’27は、水素原子、C〜C12のアルキル基、C〜C12のシクロア
ルキル基、フェニル基、C〜Cのフェニルアルキル基である)、 (b)次いで、分子内に存在する2,2,6,6−テトラメチルピペリド−4
−イル基を反応させて、下記一般式(XXI)を有する基を得る工程、
【0089】
【0090】 (式中、R’28は、R’と同一である)。
【0091】 化合物(b−8)は、下記一般式(XXII)を有する化合物の中から選ぶこ
とができる。
【0092】
【0093】 (式中、R’29及びR’34は、同一又は異なって、直接結合又は−N(Y
)−CO−Y−CO−N(Y)基(式中、Y及びYは、同一又は異なっ
て、水素原子、C〜Cのアルキル基、C〜C12のシクロアルキル基、フ
ェニル基、C〜Cのフェニルアルキル基又は一般式(XV)を有する基であ
り、Yは直接の結合又はC〜Cのアルキレン基である)であり、 R’30は、R’と同一であり、 R’31、R’32、R’35及びR’36は、同一又は異なって、水素原子
、C〜C30のアルキル基、C〜C12のシクロアルキル基又はフェニル基
であり、 R’33は、水素原子、C〜C30のアルキル基、C〜C12のシクロア
ルキル基、フェニル基、C〜Cのフェニルアルキル基又は一般式(XV)を
有する基であり、 nは1〜50の数値である)。
【0094】 化合物(b−9)は、下記一般式(XXIII)を有する化合物の中から選ぶ
ことができる。
【0095】
【0096】 (式中、R’37はC〜C24のアルキル基であり、 R’38は、R’と同一である)。
【0097】 化合物(b−10)は、下記一般式(XXIV)を有する化合物の中から選ぶ
ことができる。
【0098】
【0099】 (式中、R’39は、R’と同一であり、 nは2〜50の数値である)。
【0100】 化合物(b−11)は、下記一般式(XXV)を有する化合物の中から選ぶこ
とができる。
【0101】
【0102】 (式中、R’40及びR’41は、一緒になってC〜C14のアルキレン基を
形成し、 R’42は、水素原子又は−Z−COO−Z基(式中、ZはC〜C
のアルキレン基であり、ZはC〜C24のアルキル基である)であり、 R’43は、R’と同一である)。
【0103】 化合物(b−12)は、下記一般式(XXVI)を有する化合物の中から選ぶ
ことができる。
【0104】
【0105】 (式中、R’44、R’45、R’46、R’47及びR’48は、同一又は異
なって、直接の結合又はC〜C10のアルキレン基であり、 R’49は、R’と同一であり、 nは1〜50の数値である)。
【0106】 化合物(b−13)は、下記一般式(XXVII)を有する化合物の中から選
ぶことができる。
【0107】
【0108】 (式中、X12、X13及びX14は、同一又は異なって、一般式(XXVII
I)を有する基である。
【0109】
【0110】 (式中、Aは一般式(XIV)を有する基である))。
【0111】 化合物(b−14)は、下記一般式(XXIX)を有する化合物の中から選ぶ
ことができる。
【0112】
【0113】 (式中、Aは、水素原子、C〜Cのアルキル基、O・、−CHCN基、
〜Cアルケニル基、フェニル基がC〜Cのアルキル基で適宜置換され
たC〜Cのフェニルアルキル基であり、 bは、1、2又は4であり、 bが1であるとき、AはC〜C25のアルキル基であり、 bが2であるとき、AはC〜C14のアルキレン基であり、 bが4であるとき、AはC〜C10のテトライル−アルカン基である)
【0114】 化合物(b−15)は、下記一般式(XXX)を有する化合物の中から選ぶこ
とができる。
【0115】
【0116】 (式中、A及びAは、同一又は異なって、水素原子又はC〜C12のアル
キル基であり、 A、A及びAは、同一又は異なって、C〜C10のアルキレン基であ
り、 T、T、T、T、T、T、T及びTは、同一又は異なって、
下記一般式(XXXI)を有する基であり、
【0117】
【0118】 (式中、Aは、水素原子、C〜C12のアルキル基、C〜Cのアルキル
基で適宜置換されたC〜C12のシクロアルキル基、−OH基及び/又はC
〜C10のアルキル基で適宜置換されたフェニル基、フェニル基が−OH基及び
/又はC〜C10のアルキル基で適宜置換されたC〜Cのフェニルアルキ
ル基又は下記一般式(XXXII)を有する基である。
【0119】
【0120】 (式中、A及びA10は、同一又は異なって、Aと同一である)))。
【0121】 化合物(b−16)は、下記一般式(XXXIII)を有する化合物の中から
選ぶことができる。
【0122】
【0123】 (式中、T、T10及びT11は、同一又は異なって、一般式(XXXI)を
有する基である)。
【0124】 化合物(b−17)は、下記一般式(XXXIV)を有する化合物の中から選
ぶことができる。
【0125】
【0126】 (式中、A11、A13、A14及びA15は、同一又は異なって、水素原子、
〜C12のアルキル基、C〜Cのアルキル基で適宜置換されたC〜C
12のシクロアルキル基、−OH基及び/又はC〜C10のアルキル基で適宜
置換されたフェニル基、フェニル基が−OH基及び/又はC〜C10のアルキ
ル基で適宜置換されたC〜Cのフェニルアルキル基又は一般式(XXXII
)を有する基であり、
【0127】 A12は、C〜C18のアルキレン基、C〜Cのシクロアルキレン基又
はC〜Cのアルキレンジ(C〜Cシクロアルキレン)基であり、又は、
11、A12及びA13は、A11、A12及びA13が結合する窒素原子
と一緒になってC〜C10のヘテロ環であり、又は、 A14及びA15は、A14及びA15が結合する窒素原子と一緒になってC
〜C10のヘテロ環であり、 bは2〜50の数値であり、置換基A11、A13、A14及びA15の内
の少なくとも1つは、一般式(XXXII)を有する基である)。
【0128】 化合物(b−18)は、下記の通りにして得られる化合物の中から選ぶことが
できる。 (a)下記一般式(XXXV)を有するポリアミンと塩化シアヌールとの反応
により得られる生成物と、下記一般式(XXXVI)を有する化合物とを反応さ
せる工程、
【0129】
【0130】 (式中、b’、b’’及びb’’’は、同一又は異なって、2〜12の数
値であり、 A19は、水素原子、C〜C12のアルキル基、C〜C12のシクロアル
キル基、フェニル基、C〜Cのフェニルアルキル基であり、 A20は、Aと同一である)。
【0131】 化合物(b−19)は、下記一般式(XXXVII)を有する化合物の中から
選ぶことができる。
【0132】
【0133】 (式中、A21及びA26は、同一又は異なって、直接の結合又は−N(E
−CO−E−CO−N(E)−基(式中、E及びEは、同一又は異なっ
て、水素原子、C〜Cのアルキル基、C〜C12のシクロアルキル基、フ
ェニル基、C〜Cのフェニルアルキル基又は一般式(XXXII)を有する
基であり、Eは、直接の結合又はC〜Cのアルキレン基である)であり、
22は、Aと同一であり、 A23、A24、A27及びA28は、同一又は異なって、水素原子、C
30のアルキル基、C〜C12のシクロアルキル基又はフェニル基であり、
25は、水素原子、C〜C30のアルキル基、C〜C12のシクロアル
キル基、フェニル基、C〜Cのフェニルアルキル基又は一般式(XXXII
)を有する基であり、 bは1〜50の数値である)。
【0134】 化合物(b−20)は、下記一般式(XXXVIII)を有する化合物の中か
ら選ぶことができる。
【0135】
【0136】 (式中、A29はC〜C24のアルキル基であり、 A30は、Aと同一である)。
【0137】 化合物(b−21)は、下記一般式(XXXIX)を有する化合物の中から選
ぶことができる。
【0138】
【0139】 (式中、A31は、Aと同一であり、 bは2〜50の数値である)。
【0140】 化合物(b−22)は、下記一般式(XL)を有する化合物の中から選ぶこと
ができる。
【0141】
【0142】 (式中、A32及びA33は、一緒になってC〜C14のアルキレン基を形成
し、 A34は、水素原子、又は−G−COO−G基(式中、GはC
14のアルキレン基であり、GはC〜C24のアルキル基である)であり
、 A35は、Aと同一である)。
【0143】 化合物(b−23)は、下記一般式(XLI)を有する化合物の中から選ぶこ
とができる。
【0144】
【0145】 (式中、A36、A37、A38、A39及びA40は、同一又は異なって、直
接の結合又はC〜C10のアルキレン基であり、 A41は、Aと同一であり、 bは、1〜50の数値である)
【0146】 化合物(b−24)は、下記一般式(XLII)を有する化合物の中から選ぶ
ことができる。
【0147】
【0148】 (式中、T12、T13及びT14は、同一又は異なって、一般式(XLIII
)である。
【0149】
【0150】 (式中、Lは一般式(XXXI)を有する基である))。
【0151】 化合物(b−25)は、下記一般式(XLIV)を有する化合物の中から選ぶ
ことができる。
【0152】
【0153】 (式中、A42は、水素原子又はメチル基であり、 A43は、直接の結合又はC〜C10のアルキレン基であり、 bは、2〜50の数値である)。
【0154】 炭素数30までのアルキル基の例は、メチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル、n−ブチル、s−ブチル、イソブチル、t−ブチル、2−エチルブチル、n
−ペンチル、イソペンチル、1−メチルペンチル、1,3−ジメチルブチル、n
−ヘキシル、1−メチルヘキシル、n−ヘプチル、イソヘプチル、1,1,3,
3−テトラメチルブチル、1−メチルヘプチル、3−メチルヘプチル、n−オク
チル、2−エチルヘキシル、1,1,3−トリメチルヘキシル、1,1,3,3
−テトラメチルペンチル、ノニル、デシル、ウンデシル、1−メチルウンデシル
、ドデシル、1,1,3,3,5,5−ヘキサメチルヘキシル、トリデシル、テ
トラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシル、エイ
コシル、ドコシル、トリアコンチル等である。置換基A、A、A10、A
、A20、A22、A30、A31、A35及びA41は、好ましくはC
のアルキル基、より好ましくはメチル基である。置換基R’31、R’35
、A23及びA27は、好ましくはC〜C25のアルキル基、より好ましくは
15〜C25のアルキル基、例えばヘキサデシル及びC18〜C22のアルキ
ル基である。置換基R’33及びA25は、好ましくはC〜C25のアルキル
基、より好ましくはオクタデシル基である。置換基R’、R’27、A及び
19は、C〜Cのアルキル基、より好ましくはn−ブチル基である。
【0155】 C〜C12のシクロアルキル基の例は、シクロペンチル、シクロヘキシル、
シクロヘプチル、シクロ−オクチル、シクロドデシル等である。C〜Cのシ
クロアルキル基が好ましく、シクロヘキシルがより好ましい。
【0156】 C〜Cのアルキル基で置換されたC〜C12のシクロアルキル基の例は
、メチルシクロヘキシル、ジメチルシクロヘキシル等である。
【0157】 −OH基及び/又はC〜C10のアルキル基で置換されたフェニル基の例は
、メチルフェニル、ジメチルフェニル、トリメチルフェニル、t−ブチルフェニ
ル、3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル等である。
【0158】 C〜Cのフェニルアルキル基の例は、ベンジル、フェニルエチル等である
【0159】 フェニル基が−OH基及び/又はC〜C10のアルキル基で適宜置換された
〜Cのフェニルアルキル基の例は、メチルベンジル、ジメチルベンジル、
トリメチルベンジル、t−ブチルベンジル、3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒド
ロキシベンジル等である。
【0160】 C〜Cのアルケニル基の例は、アリル、2−メタリル、ブテニル、ペンテ
ニル、ヘキセニル等である。アリルが好ましい基である。1位の炭素は、好まし
くは飽和している。
【0161】 炭素数18までのアルキレン基の例は、メチレン、エチレン、プロピレン、ト
リメチレン、テトラメチレン、ペンタメチレン、2,2−ジメチルトリメチレン
、ヘキサメチレン、トリメチルヘキサメチレン、オクタメチレン、デカメチレン
等である。置換基R’12及びA12は、好ましくはヘキサメチレンであり、置
換基A43は、好ましくはエチレンであり、置換基R’44、R’46、R’
、A36及びA38は、好ましくはメチレンであり、置換基R’47及びA
は、好ましくは2,2−ジメチルエチレンであり、置換基R’48及びA40
は、好ましくは1,1−ジメチルエチレンである。
【0162】 C〜C10のテトライル−アルカン基の例は、1,2,3,4−テトライル
−ブタンである。
【0163】 C〜Cのシクロアルキレン基の例は、シクロヘキシレンである。
【0164】 C〜Cのアルキレン ジ(C〜C−シクロアルキレン)基の例は、メ
チレンジシクロヘキシレンである。
【0165】 置換基R’11、R’12、R’13又はA11、A12及びA13が、置換
基R’11、R’12、R’13又はA11、A12及びA13が結合する窒素
原子と一緒になってC〜C10のヘテロ環を形成するとき、この環の例は、
【0166】
【0167】 である。
【0168】 炭素数6のヘテロ環が好ましい。
【0169】 置換基R’14及びR’15又はA14及びA15が、置換基R’14及びR
15又はA14及びA15が結合する窒素原子と一緒になってC〜C10
ヘテロ環を形成するとき、この環の例は、1−ピロリジン、ピペリジン、モルホ
リン、1−ピペラジニル、4−メチル−1−ピペラジニル、1−ヘキサヒドロア
ゼピニル、5,5,7−トリメチル−1−ホモピペラジニル、4,5,5,7−
テトラメチル−1−ホモピペラジニル等である。モルホリン基が好ましい。
【0170】 置換基R’31、R’35、A23及びA27は、好ましくはフェニル基であ
る。 置換基Y、E、R’45及びA37は、好ましくは直接の結合である。
【0171】 置換基Y、Y、E、E、A、A、A10、A18、A20、A
、A30、A31、A35、A41及びA42は、好ましくは水素である。
【0172】 n及びbは、好ましくは2〜25である。
【0173】 n及びbは、好ましくは1〜25、より好ましくは2〜20又は2〜10
である。
【0174】 n’、n’’、n’’’、b’、b’’及びb’’’は、好まし
くは2〜4である。
【0175】 n及びbは、好ましくは1〜25、より好ましくは2〜20又は1〜10
である。
【0176】 n及びbは、好ましくは2〜25、より好ましくは2〜20又は2〜10
である。
【0177】 n及びbは、好ましくは1〜25、より好ましくは1〜20又は1〜10
である。
【0178】 bは、好ましくは2〜25、より好ましくは2〜20又は2〜10である。
【0179】 化合物(b−14)〜(b−25)は既知の化合物であり、ある場合において
は商業的に入手可能であり、既知の方法を用いて製造可能である。例えば、US
3.640.928、US 4.108.829、US 3.925.376
、US 4.086.204、US 4.331.586、US 5.051.
458、US 4.477.615及びケミカルアブストラクト−CAS番号
136 504−96−6、US 4.857.595、DD 262.439
(ダウエント 89−122 983/17、ケミカルアブストラクト 111
:58 964u)、WO 94/12 544(ダウエント 94−177
274/22)、US 4.356.307、US 4.340.534、US
4.408.051、US 4.689.416、US 4.110.334
、US 4.529.760、US 5.182.890(ケミカルアブストラ
クト−CAS番号 144 923−25−1)及びUS 4.233.412
に記載されている。
【0180】 化合物(b−18)は既知の方法に類似の方法、例えば、一般式(XXXV)
を有するポリアミドと塩化シアヌリルとの、モル比1:2〜1:4での、無水炭
酸リチウム、炭酸ナトリウム又は炭酸カリウムの存在下、有機溶媒、例えば1,
2−ジクロロエタン、トルエン、キシレン、ベンゼン、ジオキサン又はt−アミ
ルアルコール中、−20℃〜+10℃、好ましくは−10℃〜+10℃で、2〜
8時間の反応、続く得られた生成物と一般式(XXXVI)を有する2,2,6
,6−テトラメチル−4−ピペリジルアミンとの反応により製造することができ
る。2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジルアミンと使用する一般式(
XXXV)を有するポリアミンとのモル比は、4:1〜8:1である。多量の2
,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジルアミンは、一度又は数時間の間隔
をおいて種々の部分で添加することができる。
【0181】 一般式(XXXV)を有する化合物、塩化シアヌリル及び一般式(XXXVI
)を有する2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジルアミンの比は、好ま
しくは1:3:5〜1:3:6である。
【0182】 下記の実施例は(b−18)化合物の製造方法を説明している。
【0183】実施例 23.6g(0.128モル)の塩化シアヌリル、7.43g(0.0426
モル)のN,N’−ビス[3−アミノ−プロピル]エチレンジアミン及び18g
(0.13モル)の無水炭酸カリウムを、250mlの1,2−ジクロロエタン
中、攪拌しながら、5℃下で3時間反応させた。得られた混合物を室温で更に4
時間加熱した。27.2g(0.128モル)のN−(2,2,6,6−テトラ
メチル−4−ピペリジル)ブチルアミンを添加し、得られた混合物を60℃で2
時間加熱した。更に18g(0.13モル)の無水炭酸カリウムを添加し、得ら
れた混合物を60℃で更に6時間加熱した。軽度の減圧(20000パスカル(
200ミリバール))下、蒸留により溶媒を除去し、キシレンで置換した。18
.2g(0.085モル)のN−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリ
ジル)ブチルアミン及び顆粒状の5.2g(0.13モル)の水酸化ナトリウム
を添加し、混合物を還流温度で2時間、更に12時間加熱し、反応の間に形成し
た水を共沸蒸留により除去した。混合物をろ過した。得られた溶液を水で洗浄し
、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を蒸発させ、残渣を減圧下(10パスカル(
0.1ミリバール))、120℃〜130℃で乾燥した。(b−18)化合物の
範囲内にある得られた化合物は無色の樹脂であった。
【0184】 (b−18)化合物は、例えば式(b−18)、(b−18)又は(b
−18)を有する化合物のいずれか1つ又はこれらの混合物によって一般的には
示すことができる。
【0185】
【0186】 好ましい(b−18)化合物は下記の通りである。
【0187】
【0188】 好ましい(b−18)化合物は下記の通りである。
【0189】
【0190】 好ましい(b−18)化合物は下記の通りである。
【0191】
【0192】 前記式(b−18)、(b−18)及び(b−18)において、b
、好ましくは1〜20である。
【0193】 化合物(b−1)は既知の化合物であり、ある場合においては商業的に入手可
能である。
【0194】 化合物(b−2)〜(b−13)は、2,2,6,6−テトラメチルピペリド
−4−イル基の窒素原子が置換されていない(b−14)〜(b−24)に記載
の化合物から出発して、既知の方法、例えば米国特許第5.204.473号明
細書に記載の方法に類似の方法で操作して、触媒としての金属カルボニル又は金
属酸化物の存在下、適切な過酸化物、例えば過酸化水素又はt−ブチルヒドロペ
ルオキシドを用いた対応の2,2,6,6−テトラメチル−ピペリジン誘導体の
酸化、続いての、好ましくは触媒的水素化によるオキシル中間体の所望のN−ヒ
ドロキシル誘導体への還元により製造することができる。
【0195】 前記方法に加えて、O−アルキル誘導体を種々の方法で合成することができる
。例えば、N−ヒドロキシル誘導体を、水素化ナトリウム及びハロゲン化炭化水
素、例えばヨウ化エチルを用いてアルキル化することができる。N−メトキシル
変異体は、ニトロキシル基及びジ−t−ブチル過酸化物のクロロベンゼン溶液の
熱分解により製造することができる。
【0196】 生成物は、ニトロキシル基とt−ブトキシル基のβ位における切断により形成
するメチル基との間の「カップリング反応」により形成する。
【0197】 その他のN−アルコキシル変異体は、ニトロキシル基と、炭化水素溶媒、例え
ばシクロヘキサン、トルエン及びエチルベンゼン等の存在下におけるジ−t−ブ
チル過酸化物の熱分解の間に形成する炭化水素基との間の「カップリング反応」
により合成することができる。
【0198】 前記方法は、N−アルコキシル置換基に関する記載であるが、全てのOR’
基の場合においても同様に使用することができる。
【0199】 例えば、1−シクロアルキルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリド
−4−イル誘導体は、対応の2,2,6,6−テトラメチルピペリド−4−イル
誘導体と、t−ブチルヒドロペルオキシドとを、酸化モリブデン(MoO)及
びシクロアルカンの存在下で反応させることにより製造することができる。 更に、いくつかの(b−6)化合物は既知化合物であり、ある場合においては
商業的に入手可能であり、かつ既知の方法、例えば欧州特許EP162.524
及び米国特許第4.946.880号明細書に記載の方法を用いて製造すること
ができる。
【0200】 一般的に、例えば化合物(b−7)は、化合物(b−18)、(b−18
)又は(b−18)のいずれか1つ(式中、A20基は−OR’28基である
)又は3つの化合物の混合物により示すことができる。
【0201】 (b−7)に記載の化合物は、例えば、一般式(XIX)を有するポリアミン
と塩化シアヌリルとの反応により得られる生成物と、一般式(XX’)を有する
化合物とを反応させることによっても得ることができる。
【0202】
【0203】 (式中、n’、n’’及びn’’’は、同一又は異なって、2〜12であ
り、 R’27は、水素原子、C〜C12のアルキル基、C〜C12のシクロア
ルキル基、フェニル基又はC〜Cのフェニルアルキル基であり、 R’28は、R’と同一である)。
【0204】 前記反応は、米国特許第4.477.615号明細書に記載される方法に類似
の方法で行うことができる。
【0205】 本発明に使用することができる立体障害アミン(b)の例は、化合物(b−2
)の範囲内にあるTINUVIN 123(登録商標)、化合物(b−14)の
範囲内にあるMARK LA 52(登録商標)又はMARK LA 57(登
録商標)、化合物(b−15)の範囲内にあるCHIMASSORB 119(
登録商標)、化合物(b−17)の範囲内にあるCHIMASSORB 944
(登録商標)、CYASORB UV 3346(登録商標)及びDASTIB
1082(登録商標)、化合物(b−6)の範囲内にあるポリ−メチルプロピ
ル−3−オキシ[4−(2,2,6,6−テトラメチル)ピペリジニル]シロキ
サンに対応するUVASIL 299(登録商標)、化合物(b−18)の範囲
内にあるUVASORB HA88(登録商標)、化合物(b−19)の範囲内
にあるUVINUL 5050 H(登録商標)、LICHTSCHUTZST
OFF UV 31(登録商標)又はLUCHEM HA−B 18(登録商標
)、化合物(b−21)の範囲内にあるHOSTAVIN N 30(登録商標
)、化合物(b−23)の範囲内にあるMARK LA 63(登録商標)又は
MARK LA 68(登録商標)及び化合物(b−25)の範囲内にあるLO
WILITE 62(登録商標)である。
【0206】 その他の本発明に使用することができる立体障害アミンは、化合物(b−14
)の範囲内にある、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジニル)
セバケート(sebacate)に対応するTINUVIN 770(登録商標
)、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジニル)セバケート
に対応するLOWILITE 76(登録商標)、又は化合物(b−25)の範
囲内にある1−(2−ヒドロキシエチル)−2,2,6,6−テトラメチル−4
−ヒドロキシピペリジンとコハク酸との縮合物に対応するLOWILITE 6
2(登録商標)から選ばれる。
【0207】 本発明に使用することができるその他の生成物は、例えば、化合物(b−14
)の範囲内にあるDASTIB 845(登録商標)、化合物(b−20)の範
囲内にあるLICHTSCHUTZMITTEL S 95(登録商標)又は化
合物(b−22)の範囲内にあるHOSTAVIN N20(登録商標)又はS
ANDUVOR 3050(登録商標)である。
【0208】 本発明に使用することができる化合物(b−7)は、UVASORB HA
88(登録商標)であり、この化合物では、2,2,6,6−テトラメチルピペ
リジン−4−イル基が、一般式(XXI)を有する基で置換されている。
【0209】 一般式(XXXIX)を有する化合物の基A31が水素原子であるとき、前記
化合物は、式(XXXIX’)を有する化合物との混合物の形態をとることがで
き、
【0210】
【0211】 本発明の目的についての化合物(b−21)と同様に前記混合物と同様に使用
することができる。一般式(XXXIX)を有する化合物/一般式(XXXIX
’)を有する化合物の比は、例えば20:1〜1:20又は1:10〜10:1
である。
【0212】 一般式(XVII)、(XXXIV)、(XVIII)、(b−18)、(
−18)、(b−18)、(XXII)、(XXXVII)、(XXIV
)、(XXXIX)、(XXXIX’)、(XXVI)、(XLI)及び(XL
IV)を有する化合物における遊離の原子価を飽和する末端基の定義は、その製
造に使用する方法に依存する。前記化合物の製造後に末端基を修飾することもで
きる。
【0213】 一般式(XVII)を有する化合物を、一般式、
【0214】
【0215】 (式中、Xは、例えばハロゲン原子、好ましくは塩素であり、R’14及びR’
15は前記と同一である)で示される化合物と、一般式、
【0216】
【0217】 (式中、R’11、R’12及びR’13は前記と同一である)で示される化合
物との反応により製造するとき、ジアミン基に結合する末端基は、水素原子又は
一般式、
【0218】
【0219】 で示される基であり、トリアジン基に結合する末端基はX又は一般式、
【0220】
【0221】 を有する基である。
【0222】 Xがハロゲン原子を示すとき、反応終了時に、これを、例えば−OH基又はア
ミン基で置換することは有利である。本発明に使用することができるアミン基の
例は、ピロリジン−1−イル、モルホリン、−NH、−N(C−C−アル
キル)、−NR(C−C−アルキル)(式中、Rは水素原子又は一般式(X
V)を有する基である)である。
【0223】 一般式(XVII)を有する化合物について前記で特定されるものは、一般式
(XXXIV)(式中、A11、A12、A13及びA14は、R’11、R’
12、R’13及びR’14に対応する)を有する化合物にも適用され、一般式
(XXXII)を有する基は一般式(XV)を有する基に対応する。
【0224】 式(b−18)、(b−18)、(b−18)を有する化合物において
、トリアジン基に結合する末端基は、例えば塩素原子、一般式、
【0225】
【0226】 を有する基であり、アミン基に結合する末端基は、例えば水素原子又は一般式、
【0227】
【0228】 を有する基である。
【0229】 一般式(XXII)を有する化合物において、2,5−ジオキソピロリジン環
に結合する末端基は、例えば水素原子であり、基−C(R’35)(R’36
−に結合する末端基は、例えば下記一般式を有する基の中の1つである。
【0230】
【0231】 一般式(XXXVII)を有する化合物において、2,5−ジオキソピロリジ
ン環に結合する末端基は、例えば水素原子であり、−C(A27)(A28)−
基に結合する末端基は、例えば下記一般式を有する基の中の1つである。
【0232】
【0233】 一般式(XXIV)及び(XXXIV)を有する化合物において、ジメチレン
基に結合する末端基は、例えば−OH基であることができ、酸素原子に結合する
末端基は、例えば水素原子であることができる。更に末端基はポリエーテル基で
あることができる。
【0234】 一般式(XXXIX’)を有する化合物において、窒素原子に結合する末端基
は、例えば水素原子であり、2−ヒドロキシプロピレン基に結合する末端基は、
例えば式、
【0235】
【0236】 を有する基であることができる。
【0237】 一般式(XXVI)を有する化合物において、カルボニル基に結合する末端基
は、例えば一般式、
【0238】
【0239】 を有する基であり、酸素に結合する末端基は、例えば一般式、
【0240】
【0241】 を有する基である。
【0242】 一般式(XLI)を有する化合物において、カルボニル基に結合する末端基は
、例えば一般式、
【0243】
【0244】 を有する基であり、酸素に結合する末端基は、例えば一般式、
【0245】
【0246】 を有する基である。
【0247】 一般式(XLIV)を有する化合物の製造を、例えば一般式、
【0248】
【0249】 (式中、A42は前記と同一である)を有する化合物と、式、
【0250】 Q−OOC−A43−COO−Q
【0251】 (式中、Qは、例えばメチル、エチル又はプロピルであり、A43は前記と同一
である)を有するジカルボキシルジエステルとを反応させることにより行うとき
、2,2,6,6−テトラメチル−4−オキシピペリド−1−イル基に結合する
末端基は水素原子又は−CO−A43−COO−Q基であり、ジアシル基に結合
する末端基は、−O−Q基又は一般式、
【0252】
【0253】 を有する基である。
【0254】 本発明のエナミン(a)の群に属する好ましい化合物は、 一般式(a)、
【0255】
【0256】 (式中、Zは下記の基の内の1つであるか、 −C、−t−C、−n−C17、−n−C1225、−n−
1837又は一般式、
【0257】
【0258】 (式中、R’は水素原子又はメチルである)である)を有するエナミン; 式(a)、
【0259】
【0260】 を有するエナミン; 式(a)、
【0261】
【0262】 を有するエナミン; 式(a)、
【0263】
【0264】 を有するエナミン; 式(a)、
【0265】
【0266】 (Rは下記の基: C−、CHOCHCH−、C17−、C1225−、C18
37−の中の1つであるか、又は一般式、
【0267】
【0268】 (式中R’は水素原子又はメチルである))を有するエナミン; 一般式(a)、
【0269】
【0270】 (式中、Rは、下記の基: −C、−C、−C17、−C1225の中の1つであり、 R’は、下記の基: −CH−CO−CH、−CH、−C、−Cの中の1つであり
、 Xは、両端を含む1〜4の整数であり、 yは、両端を含む0〜3の整数である)を有するペンタエリトライト(pen
taerythrite)の誘導体の混合物からなるエナミン; 式(a)、
【0271】
【0272】 を有するエナミン; 式(a)、
【0273】
【0274】 (式中、Rは下記の基: C−、CHOCHCH−、C17−の中の1つである)を有す
るエナミン; 式(a)、
【0275】
【0276】 を有するエナミン; 一般式(a10)、
【0277】
【0278】 (式中、Rは式、
【0279】
【0280】 を有する基であり、 R’は下記の基: −CH、−C、−Cの中の1つである)を有するトリアジン化合
物の混合物からなるエナミン。
【0281】 本発明とって好ましい立体障害アミン(b)は、ビス(1,2,2,6,6−
ペンタメチル−4−ピペリジニル)セバケートに対応するLOWILITE 7
6(登録商標)、1−(2−ヒドロキシエチル)−2,2,6,6−テトラメチ
ル−4−ヒドロキシピペリジンとコハク酸との縮合物に対応するLOWILIT
E 62(登録商標)、ポリ−メチルプロピル−3−オキシ[4−(2,2,6
,6−テトラメチル)ピペリジニル]シロキサンに対応するUVASIL 29
9(登録商標)、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジニル)セ
バケート(sebacate)に対応するTINUVIN 770(登録商標)
である。
【0282】 本発明にとって好ましい安定化混合物は、 下記の化合物の中から選ばれるエナミン(a)の群に属する化合物、
【0283】 式(a’)、
【0284】 を有するエナミン; 式(a’)、
【0285】
【0286】 を有するエナミン; 式(a’)、
【0287】
【0288】 を有するエナミン; 式(a’)、
【0289】
【0290】 を有するエナミン; 式(a’)、
【0291】
【0292】 を有するエナミン; 式(a’)、
【0293】
【0294】 を有するエナミン; 式(a’)、
【0295】
【0296】 を有するエナミン; 式(a’)、
【0297】
【0298】 を有するエナミン; 下記の化合物の中から選ばれる立体障害アミン(b)、
【0299】 (b’)ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジニル)セバ
ケートに対応するLOWILITE 76(登録商標);
【0300】 (b’)1−(2−ヒドロキシエチル)−2,2,6,6−テトラメチル−4
−ヒドロキシピペリジンとコハク酸との縮合物に対応するLOWILITE 6
2(登録商標);
【0301】 (b’)ポリメチルプロピル−3−オキシ[4−(2,2,6,6−テトラメ
チル)ピペリジニル]シロキサンに対応するUVASIL 299(登録商標)
【0302】 (b’)ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジニル)セバケー
トに対応するTINUVIN 770(登録商標)である。
【0303】 本発明の安定化混合物において、2つの成分(a)及び(b)を、1:10〜
10:1、好ましくは1:4〜1:1の割合で使用する。
【0304】 本発明の安定化混合物の添加により光り安定化することができる有機ポリマー
は、 (1)モノオレフィン及びジオレフィンのポリマー、例えばポリプロピレン、
ポリイソブチレン、ポリブト−1−エン、ポリ−4−メチルペント−1−エン、
ポリイソプレン又はポリブタジエン、並びにシクロオレフィンのポリマー、例え
ばシクロペンテン又はノルボルネン、ポリエチレン(適宜、架橋することができ
る)、例えば高密度ポリエチレン(HDPE)、高密度ポリエチレン及び高分子
量のポリエチレン(HDPE−HMW)、高密度ポリエチレン及び「超高」分子
用のポリエチレン(HDPE−UHMW)、中密度ポリエチレン(MDPE)、
低密度ポリエチレン(LDPE)、直鎖状低密度ポリエチレン(LLDPE)、
分岐低密度ポリエチレン(BLDPE)である。
【0305】 ポリオレフィン、例えば前節で引用したモノオレフィン、好ましくはポリエチ
レン及びポリプロピレンは、文献記載の種々の方法、好ましくは下記の方法によ
り製造することができる。
【0306】 (a)ラジカル重合(通常、高温高圧下で行う); (b)触媒を使用した触媒重合。触媒は、通常、周期表のIVb、Vb、VI
b又はVIII群の中の1以上の金属を含んでいる。これらの金属は通常、1以
上のリガンド、例えばオキシド、ハライド、アルコラート、エーテル、アミン、
アルキル、アルケニル及び/又はアリール(π−又はσ−配位することができる
)を有している。これらの金属複合体は遊離形態又は基材、例えば活性化塩化マ
グネシウム、塩化チタン(III)、アルミナ又は酸化珪素上に担持することが
できる。これらの触媒は、反応媒体中で溶解性又は不溶性であることができる。
触媒は、単独又はその他の活性化剤、例えばアルキル金属、金属水素化物、アル
キル金属のハロゲン化物、アルキル金属の酸化物又は金属アルキルオキサン(m
etal alkyloxane)(これらの金属は周期表のIa、IIa及び
/又はIIIaの群に属する元素である)の存在下で使用することができる。活
性化剤は、その他のエステル、エーテル、アミン又はシリル−エーテル基で便利
に修飾することができる。これらの触媒系は、通常、フィリップス(Phill
ips)、標準油インディアナ(Standard Oil Indiana)
、チーグラー(−ナッタ)、TNZ(デュポン(DuPont))、メタロセン
又は「単一部位触媒」(SSC)と呼ばれる。
【0307】 (2)ポイント(1)に記載されるポリマーの混合物、例えばポリプロピレン
とポリイソブチレンとの混合物、ポリプロピレンとポリエチレンとの混合物(例
えば、PP/HDPE、PP/LDPE)、異なる型のポリエチレンの混合物(
例えば、LDPE/HDPE)。
【0308】 (3)モノオレフィン及びジオレフィンの、相互の又はその他のビニルモノマ
ーとのコポリマー、例えばエチレン−プロピレンコポリマー、直鎖状低密度ポリ
エチレン(LLDPE)及びこれと低密度ポリエチレン(LDPE)との混合物
、プロピレン/ブト−1−エン コポリマー、プロピレン/イソブチレン コポ
リマー、エチレン/ブト−1−エン コポリマー、エチレン/ヘキセン コポリ
マー、エチレン/メチルペンテン コポリマー、エチレン/ヘプテン コポリマ
ー、エチレン/オクテン コポリマー、プロピレン/ブタジエン コポリマー、
イソブチレン/イソプレン コポリマー、エチレン/アルキルアクリレート コ
ポリマー、エチレン/アルキルメタクリレート コポリマー、エチレン/ビニル
アセテート コポリマー及びこれらと一酸化炭素とのコポリマー並びにこれらの
塩(イオノマー)並びにエチレンとポリプロピレン及びジエンとのターポリマー
、例えばヘキサジエン、ジシクロペンタジエン又はエチリデン−ノルボルネン、
これらのコポリマーと相互のい又はパラグラフ(1)で引用したポリマーとの混
合物、例えばポリプロピレン/エチレン−プロピレン コポリマー、LDPE/
エチレン−ビニルアセテート(EVA) コポリマー、LDPE/エチレン−ア
クリル酸(EAA) コポリマー、LLDPE/EVA、LLDPE/EAA、
代替としての「ランダム」ポリアルキレン/一酸化炭素 コポリマー及びこれら
の混合物とその他のポリマー、例えばポリアミドとの混合物。
【0309】 (4)炭化水素樹脂(例えば、C〜C)であって、その水素化修飾物(例
えば、粘着性付与剤)を含むもの及びこれとポリアルキレン及びデンプンとの混
合物。
【0310】 (5)ポリスチレン、ポリ(p−メチルスチレン)、ポリ(α−メチルスチレ
ン)。
【0311】 (6)スチレン又はα−メチルスチレンとジエン又はアクリル誘導体とのコポ
リマー、例えばスチレン/ブタジエン、スチレン/アクリロニトリル、スチレン
/アルキルメタクリレート、スチレン/ブタジエン/アルキルアクリレート、ス
チレン/ブタジエン/アルキルメタクリレート、スチレン/無水マレイン酸、ス
チレン/アクリロニトリル/メチルアクリレート、スチレンと別のポリマーとの
コポリマーの中で、高い衝撃強さを有する混合物、例えばポリアクリレート、ジ
エンのポリマー又はエチレン/プロピレン/ジエンターポリマー、スチレンのブ
ロック重合体、例えばスチレン/ブタジエン/スチレン、スチレン/イソプレン
/スチレン、スチレン/エチレン/ブチレン/スチレン又はスチレン/エチレン
/プロピレン/スチレン。
【0312】 (7)スチレン又はα−メチルスチレンのグラフトコポリマー、例えばポリブ
タジエン上のスチレン、ポリブタジエン又はポリブタジエン−アクリロニトリル
コポリマー上のスチレン、ブタジエン上のスチレン及びアクリロニトリル(又
はメタクリロニトリル)、ポリブタジエン上のスチレン、アクリロニトリル及び
メチルメタクリレート、ポリブタジエン上のスチレン及び無水マレイン酸、ポリ
ブタジエン上のアクリロニトリル及び無水マレイン酸又はマレイミド、ポリブタ
ジエン上のスチレン及びマレイミド、ポリブタジエン上のスチレン及びアルキル
アクリレート又はメタクリレート、エチレン/プロピレン/ジエンターポリマー
上のスチレン及びアクリロニトリル、ポリアルキルアクリレート又はポリアルキ
ルメタクリレート上のスチレン及びアクリロニトリル、アクリレート/ブタジエ
ン コポリマー上のスチレン及びアクリロニトリル、並びに前記のコポリマーと
ポイント(6)に示すコポリマーとの混合物、例えば既知のコポリマー、例えば
ABS、MBS、ASA又はAESの混合物。
【0313】 (8)ハロゲンを含むポリマー、例えばポリクロロプレン、塩素化ゴム、塩素
化又はスルホクロル化(sulfochlorinated)ポリエチレン、エ
チレン及び塩素化エチレン コポリマー、エピクロルヒドリンのホモポリマー及
びコポリマー、特にハロゲンを含むビニル化合物のポリマー、例えばポリ塩化ビ
ニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニル又はポリフッ化ビニリデン、更に
は、これらのコポリマー、例えば塩化ビニル/塩化ビニリデン、塩化ビニル/酢
酸ビニル又は塩化ビニリデン/酢酸ビニル。
【0314】 (9)α,β−不飽和酸及びその誘導体に由来するポリマー、例えばポリアク
リレート及びポリメタクリレート、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリルア
ミド及びポリアクリロニトリル、アクリル酸ブチルでの修飾したもの。
【0315】 (10)ポイント(9)記載のモノマーと互いの又はその他の不飽和モノマー
とのコポリマー、例えばアクリロニトリル/ブタジエン コポリマー、アクリロ
ニトリル/アルキルアクリレート コポリマー、アクリロニトリル/アルコキシ
アルキルアクリレート コポリマー又はアクリロニトリル/ハロゲン化ビニル
コポリマー又はアクリロニトリル/アルキル メタクリレート/ブタジエン タ
ーポリマー。
【0316】 (11)不飽和アルコール及びアミンに由来するポリマー又はこれらのアシル
又はアセタール誘導体、例えばポリビニル、アルコール、ポリビニルアセテート
、ポリビニルステアレート、ポリビニルベンゾエート、ポリビニルマレアート、
ポリビニルブチラール、ポリアリルフタラート又はポリアリルメラミン及びポイ
ント(1)に列挙したオレフィンとのコポリマー。
【0317】 (12)環状エーテルのホモポリマー及びコポリマー、例えばポリアルキレン
グリコール、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド又は前記化合物と
ビス−グリシジルエーテルとのコポリマー。
【0318】 (13)ポリアセタール、例えばポリオキシメチレン及びコモノマーとしてエ
チレンオキシドを含むポリオキシメチレン、熱可塑性ポリウレタン、アクリラー
ト又はMBSで修飾したポリアセタール。
【0319】 (14)ポリフェニレンオキシド及びスルフィド並びにポリフェニレンオキシ
ドとスチレン又はポリアミドポリマーとの混合物。
【0320】 (15)一方がヒドロキシルを末端に有するポリエーテル、ポリエステル又は
ポリブタジエン、他方が脂肪族又は芳香族ポリイソシアナートに由来するポリウ
レタン。
【0321】 (16)ジアミン及びジカルボン酸及び/又はアミノカルボン酸に由来又は対
応のラクタムに由来するポリアミド及びコポリアミド、例えばポリアミド4、ポ
リアミド6、ポリアミド6/6、6/10、6/9、6/12、4/6、12/
12、ポリアミド11、ポリアミド12、m−キシレンジアミン及びアジピン酸
から出発して得られる芳香族ポリアミド、ヘキサメチレンジアミン及びイソフタ
ル酸及び/又はテレフタル酸から、モディファイヤーとしてエラストマーと共に
又はなしに製造したポリアミド、例えばポリ−2,4,4−トリメチルヘキサメ
チレンテレフタルアミド又はポリ−m−フェニレンイソフタルアミド、前記ポリ
アミドと化学的結合又はグラフトしたポリオレフィン、オレフィンコポリマー、
イオノマー又はエラストマー又はポリエーテルとのブロックコポリマー、例えば
ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール又はポリテトラメチレング
リコール、並びにEPDM又はABSで修飾したポリアミド又はコポリアミド及
び加工中に濃縮するポリアミド(「RIMポリアミド系」)。
【0322】 (17)ポリウレア、ポリイミド、ポリアミド−イミド及びポリベンゾイミダ
ゾール。
【0323】 (18)ジカルボン酸及びジオール及び/又はヒドロキシカルボン酸又は対応
のラクトンに由来するポリエステル、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリ
ブチレンテレフタレート、ポリ−1,4−ジメチルオールシクロヘキサンテレフ
タレート、ポリ−1,4−ジメチルオールシクロヘキサンテレフタレート及びポ
リヒドロキシベンゾエート、並びにヒドロキシを末端に有するポリエステルに由
来するブロックコポリマーエステル、並びにポリカーボネート又はMBSで修飾
したポリエステル。
【0324】 (19)ポリカーボネート及びポリエステルカーボネート。
【0325】 (20)ポリスルホン、ポリエーテルスルホン及びポリエーテルケトン。
【0326】 (21)一方がアルデヒド、他方がフェノール、尿素及びメラミンに由来する
架橋ポリマー、例えばフェノール/ホルムアルデヒド樹脂、尿素/ホルムアルデ
ヒド樹脂及びメラミン/ホルムアルデヒド樹脂。
【0327】 (22)乾燥又は非乾燥アルキド樹脂。
【0328】 (23)飽和又は不飽和のジカルボン酸と多価アルコール及び架橋剤としての
ビニル化合物とのコポリエステルに由来する不飽和ポリエステルに基づく樹脂、
及びハロゲンを含み、かつ良好な耐炎性を有する前記樹脂。
【0329】 (24)置換アクリラートに由来する、架橋可能なアクリル樹脂、例えばエポ
キシアクリラート、ウレタンアクリラート又はポリエステルアクリラート。
【0330】 (25)アルキド樹脂、ポリエステルに基づく樹脂又はメラミン樹脂と架橋結
合したポリエステル又はアクリル化樹脂、尿素樹脂、ポリイソシアナートに基づ
く樹脂又はエポキシ樹脂。
【0331】 (26)脂肪族、脂環式、複素環式又は芳香族グリシディック(glycid
ic)化合物に由来する架橋エポキシ樹脂、例えばビスフェノールA及びビスフ
ェノールFのジグリシジルエーテル、これは通常の硬化剤、例えば無水物又はア
ミンを、促進剤の存在下又は非存在下で用いることにより架橋する。
【0332】 (27)天然ポリマー、例えばセルロース、ゴム、ゼラチン及び相同のポリマ
ーを与えるための化学的に修飾した誘導体、例えば酢酸セルロース、プロピオン
酸セルロース及び酪酸セルロース又はセルロースエーテル、例えばメチルセルロ
ース、並びに炭化水素樹脂(「ロジン」)及びその誘導体。
【0333】 (28)前記ポリマーの混合物(「ポリブレンド」)、例えばPP/EPDM
、ポリアミド/EPDM又はABS、PVC/EVA、PVC/ABS、PVC
/MBS、PC/ABS、PBTP/ABS、PC/ASA、PC/PBT、P
VC/CPE、PVC/アクリラート、POM/熱可塑性PUR、PC/熱可塑
性PUR、POM/アクリラート、POM/アクリラート、POM/MBS、P
PO/HIPS、PPO/PA6.6及びコポリマー、PA/HDPE、PA/
PP、PA/PPO、PBT/PC/ABS又はPBT/PET/PC。
【0334】 (29)天然又は合成有機物質であって、純粋なモノマー化合物又はこっらの
混合物であるもの、例えば鉱油、動物性及び植物性脂肪、油及びワックス又は合
成エステル(例えばフタラート、アジパート、ホスフェート又はトリメリタート
(trimellitate))を基本とする油、脂肪及びワックス並びに合成
エステルと鉱油とのあらゆる重量比の混合物。通常は紡糸(spinning)
用組成物として及びこれらの物質の水性乳濁液として使用される。
【0335】 (30)天然又は合成ゴムの水性乳濁液、例えば天然ラテックス又はカルボキ
シル化スチレン−ブタジエンコポリマーのラテックス。
【0336】 特に、本発明の混合物の添加により光安定化することができる有機ポリマーは
、ポリオレフィン、好ましくはポリプロピレン及びポリエチレンである。
【0337】 本発明の安定化組成物の前記有機ポリマーへの添加は、当該技術分野において
既知の方法にしたがい行う。
【0338】 例えば、本発明の安定化混合物は、それ自体又は単一成分(化合物(a)及び
化合物(b))で、適宜その他の添加剤の存在下、製造後の工程又は変形工程の
直前に、有機ポリマーへ添加することができる。
【0339】 前記の目的について、本発明の安定化剤を、0.05重量%〜5重量%、好ま
しくは0.1重量%〜2重量%の量でポリマーへ添加して安定化させる。単一成
分を添加するとき、総量は前記と同一になる。
【0340】 前記の通りにした安定化したポリマーは、光、特に紫外線により引き起こされ
る分解に対して高い耐性を有する。それゆえ、安定化したポリマーは、たとえ外
部作用因子(exteranl agent)に曝露したときも、長期間その色
及び輝きを維持することができる。
【0341】 前記安定化混合物は、コーティング又はペインティング用組成物(「コーティ
ング用組成物」)、例えば塗料、ラッカー、プラスチックを基本とする組成物の
光安定化においても使用することができる。
【0342】 本発明の目的のために、下記の中から選ばれる有機ポリマーであるコーティン
グ用又はペインティング用組成物が好ましい。
【0343】 (a)ヘテロ原子、特に窒素、硫黄及び/又は酸素をその主鎖中に含む、スチ
レンコポリマー、グラフトスチレンポリマー及びポリメチルメタクリレート(P
MMA)の中から選ばれる熱可塑性ポリマー、又は
【0344】 (b)塗料用リガンド(paint ligand)。
【0345】 ヘテロ原子、特に窒素、硫黄及び/又は酸素をその主鎖中に含む、熱可塑性ポ
リマー(a)の特定の例は、前記ポイント13〜20に列挙したものである。こ
れらのなかで、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリアミド、ポリアセタール
、ポリフェニレンオキシド及びポリフェニレンスルフィドが好ましい。特に好ま
しいのは、ポリカーボネート、ポリエステル、例えばポリエチレンテレフタレー
ト(PET)及びポリイミド(PA)、例えばPA6及びPA6/6である。ポ
リカーボネートが更に好ましい。
【0346】 スチレンコポリマー及びグラフトスチレンポリマー(a)の特定の例は、前記
ポイント6及び7に列挙したものである。
【0347】 塗料用リガンド(b)は、前記有機ポリマーの少なくとも1つを含むことがで
きる。特定のリガンドを含む塗料の特定の例は下記の通りである。
【0348】 1.アルキド樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂又はメラ
ミン樹脂を基本とする塗料であって、低温又は高温で架橋することができるもの
。これらの樹脂の混合物であって、架橋剤が適宜添加されているもの。
【0349】 2.ヒドロキシル基を含むアルキル樹脂、ポリエステル樹脂又はポリエーテル
樹脂及び脂肪族又は芳香族イソシアナート、イソシアヌラート(Isocyan
urate)又はポリイソシアナートに基づく2つの成分を有するポリウレタン
塗料。
【0350】 3.ブロックイソシアナート、イソシアヌラート又はポリイソシアナートを基
本とする1成分を有するポリウレタン塗料であって、オーブン処理の間ブロック
されない(unblock)もの。
【0351】 4.(ポリ)ケトイミン及び脂肪族又は芳香族イソシアナート、イソシアヌラ
ート又はポリイソシアナートを基本とする2成分を有する塗料。
【0352】 5.(ポリ)ケトイミン及び不飽和アクリル樹脂又はポリアセトアセテート樹
脂又はメチルメタクリルアミドグリコラートを基本とする2成分を有する塗料。
【0353】 6.カルボキシル基又はアミン基を含むポリアクリラート及びポリエポキシド
を基本とする2成分を有する塗料。
【0354】 7.無水物基を含むアクリル樹脂及びポリヒドロキシ化合物又はポリアミン化
合物を基本とする2成分を有する塗料。
【0355】 8.(ポリ)オキサゾリン及び無水物基を含むアクリル樹脂又は不飽和アクリ
ル樹脂又は脂肪族又は芳香族イソシアナート又はイソシアヌラート又はポリイソ
シアナートを基本とする2成分を有する塗料。
【0356】 9.不飽和ポリアクリラート及びポリマロナートを基本とする2成分を有する
塗料。
【0357】 10.熱可塑性アクリル樹脂又はエーテル化メラミン樹脂と組み合わせた非自
己架橋アクリル樹脂を基本とする熱可塑性ポリアクリル塗料。
【0358】 11.シロキサン修飾アクリル樹脂に基づく塗料用システム。
【0359】 12.フッ素修飾アクリル樹脂に基づく塗料用システム。
【0360】 13.アリルグリシジルエーテルに基づく塗料用システム。
【0361】 塗料は、コーティングの1又は2層(「一層又は二層」)として適用すること
ができ、本発明の安定化混合物は、好ましくは上部無色コーティングに添加する
【0362】 塗料は、従来の方法、例えばはけ塗り、スプレー、流し込み(pouring
)、浸漬又は電気泳動を使用して、基材(金属、プラスチック、木材等)へ適用
することができる。
【0363】 本発明の好ましい態様は、本発明の安定化混合物を少なくとも1つ含む塗料又
はコーティング(例えば車のコーティング)にある。この目的に使用することが
できるリガンドは、例えば前記に列挙したものである。
【0364】 本発明の目的に対して、前述したように、前記安定化混合物を、その他の従来
の添加剤又はそれらの混合物と組み合わせることができる。これらの添加剤は、
安定化するポリマー組成物の重量に対して約0.1〜約5重量%、好ましくは約
0.5〜約3重量%の量で添加する。使用する添加剤のあるものは、例として下
記に列挙するものである。
【0365】 1.酸化防止剤 1.1 アルキル化モノフェノール 2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノール、 2−t−ブチル−4,6−ジメチルフェノール、 2,6−ジ−t−ブチル−4−エチルフェノール、 2,6−ジ−t−ブチル−4−n−ブチルフェノール、 2,6−ジ−t−ブチル−4−イソブチルフェノール、 2,6−ジ−シクロペンチル−4−メチルフェノール、 2−(α−メチルシクロヘキシル)−4,6−ジメチルフェノール、 2,6−ジオクタデシル−4−メチルフェノール、 2,4,6−トリシクロヘキシルフェノール、 2,6−ジ−t−ブチル−4−メトキシメチルフェノール、 2,6−ジ−ノニル−4−メチルフェノール、 2,4−ジメチル−6−(1’−メチルウンデク−1’−イル)フェノール、 2,4−ジメチル−6−(1’−メチルヘクタデク−1’−イル)フェノール、
2,4−ジメチル−6−(1’−メチルトリデク−1’−イル)フェノール及び
これらの混合物。
【0366】 1.2 アルキルチオメチルフェノール 2,4−ジオクチルチオメチル−6−t−ブチルフェノール、 2,4−ジオクチルチオメチル−6−メチルフェノール、 2,4−ジオクチルチオメチル−6−エチルフェノール、 2,6−ジドデシルチオメチル−4−ノニルフェノール。
【0367】 1.3 ヒドロキノン及びアルキル化ヒドロキノン 2,6−ジ−t−ブチル−4−メトキシフェノール、 2,5−ジ−t−ブチルヒドロキノン、 2,5−ジ−t−アミルヒドロキノン、 2,6−ジフェニル−4−オクタデシルオキシフェノール、 2,6−ジ−t−ブチルヒドロキノン、 2,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシアニソール、 3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシアニソール、 3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニルステアレート、 ビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)アジパート。
【0368】 1.4 トコフェロール α−トコフェロール、β−トコフェロール、γ−トコフェロール、δ−トコフェ
ロール及びこれらの混合物(ビタミンE)。
【0369】 1.5 ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル 2,2’−チオビス−(6−t−ブチル−4−メチルフェノール)、 2,2’−チオビス−(4−オクチルフェノール)、 4,4’−チオビス−(6−t−ブチル−3−メチルフェノール)、 4,4’−チオビス−(6−t−ブチル−2−メチルフェノール)、 4,4’−チオビス−(3,6−ジ−sec−アミルフェノール)、 4,4’−ビス−(2,6−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)ジスルフィド
【0370】 1.6 アルキリデン−ビスフェノール 2,2’−メチレンビス−(6−t−ブチル−4−メチルフェノール)、 2,2’−メチレンビス−(6−t−ブチル−4−エチルフェノール)、 2,2’−メチレンビス[4−メチル−6−(α−メチルシクロヘキシル)フェ
ノール]、 2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−シクロヘキシルフェノール)、 2,2’−メチレンビス(6−ノニル−4−メチルフェノール)、 2,2’−メチレンビス(4,6−ジ−t−ブチルフェノール)、 2,2’−エチリデンビス(4,6−ジ−t−ブチルフェノール)、 2,2’−エチリデンビス(6−t−ブチル−4−イソブチルフェノール)、 2,2’−メチレンビス[6−(α−メチルベンジル)−4−ノニルフェノール
]、 2,2’−メチレンビス[6−(α,α−ジメチルベンジル)−4−ノニルフェ
ノール]、 4,4’−メチレンビス(2,6−ジ−t−ブチルフェノール)、 4,4’−メチレンビス(6−t−ブチル−2−メチルフェノール)、 1,1−ビス−(5−t−ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)−ブ
タン、 2,6−ビス−(3−t−ブチル−5−メチル−2−ヒドロキシベンジル)−4
−メチルフェノール、 1,1,3−トリス−(5−t−ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル
)−ブタン、 1,1−ビス−(5−t−ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)−3
−n−ドデシルメルカプトブタン、 エチレングリコール ビス[3,3−ビス(3’−t−ブチル−4’−ヒドロキ
シフェニル)ブチラート]、 ビス(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)ジシクロペンタ
ジエン、 ビス[2−(3’−t−ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−メチルベンジル)−
6−t−ブチル−4−メチルフェニル]テレフタラート、 1,1−ビス(3,5−ジメチル−2−ヒドロキシフェニル)ブタン、 2,2−ビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、
2,2−ビス(5−t−ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)−4−
n−ドデシルメルカプトブタン、 1,1,5,5−テトラ(5−t−ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニ
ル)ペンタン。
【0371】 1.7 O、N又はSを含むベンジル化合物 3,5,3’,5’−テトラ−t−ブチル−4,4’−ジヒドロキシジベンジル
エーテル、 オクタデシル−4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルベンジルメルカプトアセテー
ト、 トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)アミン、 ビス(4−t−ブチル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジル)ジチオテ
レフタラート、 ビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)スルフィド、 イソ−オクチル−3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジルメルカプト
アセテート。
【0372】 1.8 ヒドロキシベンジル化マロナート ジオクタデシル−2,2−ビス(3,5−ジ−t−ブチル−2−ヒドロキシベン
ジル)マロナート、 ジオクタデシル−2−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルベンジル
)マロナート、 ジドデシルメルカプトエチル−2,2−ビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒ
ドロキシベンジル)マロナート、 ビス[4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェニル]−2,2−ビス
(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)マロナート。
【0373】 1.9 芳香族ヒドロキシベンジル化合物 1,3,5−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−2
,4,6−トリメチルベンゼン、 1,4−ビス−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−2,3
,5,6−テトラメチルベンゼン、 2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)フェ
ノール。
【0374】 1.10 トリアジン化合物 2,4−ビス(オクチルメルカプト)−6−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒ
ドロキシアニリン)−1,3,5−トリアジン、 2−オクチルメルカプト−4,6−ビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロ
キシアニリン)−1,3,5−トリアジン、 2−オクチルメルカプト−4,6−ビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロ
キシフェノキシ)−1,3,5−トリアジン、 2,4,6−トリス−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェノキシ)
−1,2,3−トリアジン、 1,3,5−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)イソ
シアヌラート、 1,3,5−トリス(4−t−ブチル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベン
ジル)イソシアヌラート、 2,4,6−トリス−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニルエチ
ル)−1,3,5−トリアジン、 1,3,5−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピ
オニル)ヘキサヒドロ−1,3,5−トリアジン、 1,3,5−トリス−(3,5−ジシクロヘキシル−4−ヒドロキシベンジル)
イソシアヌラート。
【0375】 1.11ベンジルホスホネート ジメチル−2,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジルホスホネート、 ジエチル−3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジルホスホネート、 ジオクタデシル−3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジルホスホネー
ト、 ジオクタデシル−3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−3−メチルベンジ
ルホスホネート、 3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジルホスホン酸のモノエチルエス
テルのカルシウム塩。
【0376】 1.12 アシルアミノフェノール 4−ヒドロキシラウラアニリド(hydroxylauranilide)、 4−ヒドロキシステアラアニリド(hydroxystearanilide)
、オクチル−N−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)カルバ
メート。
【0377】 1.13 β−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオ
ン酸と一価アルコール又は多価アルコール例えば、メタノール、エタノール、オ
クタノール、オクタデカノール、1,6−ヘキサンジオール、1,9−ノナンジ
オール、エチレングリコール、1,2−プロパンジオール、ネオペンチルグリコ
ール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコ
ール、ペンタエリスリトール、トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌラート、
N、N’−ビス(ヒドロキシエチル)オキサミド、3−チオウンデカノール、3
−チオペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパ
ン、4−ヒドロキシメチル−1−ホスホ−2,6,7−トリオキサビシクロ[2
.2.2]オクタンとのエステル。
【0378】 1.14 β−(5−t−ブチル−4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)プロ
ピオン酸と一価アルコール又は多価アルコール、例えば、メタノール、エタノー
ル、オクタノール、オクタデカノール、1,6−ヘキサンジオール、1,9−ノ
ナンジオール、エチレングリコール、1,2−プロパンジオール、ネオペンチル
グリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレン
グリコール、ペンタエリスリトール、トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌラ
ート、N,N’−ビス(ヒドロキシエチル)オキサミド、3−チオウンデカノー
ル、3−チオペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロール
プロパン、4−ヒドロキシメチル−1−ホスホ−2,6,7−トリオキサビシク
ロ[2.2.2]オクタンとのエステル。
【0379】 1.15 β−(3,5−ジシクロヘキシル−4−ヒドロキシフェニル)プロピ
オン酸と一価アルコール又は多価アルコール、例えば、メタノール、エタノール
、オクタノール、オクタデカノール、1,6−ヘキサンジオール、1,9−ノナ
ンジオール、エチレングリコール、1,2−プロパンジオール、ネオペンチルグ
リコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレング
リコール、ペンタエリスリトール、トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌラー
ト、N,N’−ビス(ヒドロキシエチル)オキサミド、3−チオウンデカノール
、3−チオペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプ
ロパン、4−ヒドロキシメチル−1−ホスホ−2,6,7−トリオキサビシクロ
[2.2.2]オクタンとのエステル。
【0380】 1.16 (3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)酢酸と一価ア
ルコール又は多価アルコール、例えば、メタノール、エタノール、オクタノール
、オクタデカノール、1,6−ヘキサンジオール、1,9−ノナンジオール、エ
チレングリコール、1,2−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオ
ジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペン
タエリスリトール、トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌラート、N,N’−
ビス(ヒドロキシエチル)オキサミド、3−チオウンデカノール、3−チオペン
タデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、4−ヒ
ドロキシメチル−1−ホスホ−2,6,7−トリオキサビシクロ[2.2.2]
オクタンとのエステル。
【0381】 1.17 β−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオ
ン酸 N,N’−ビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニ
ル)ヘキサメチレンジアミン、 N,N’−ビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニ
ル)トリメチレンジアミン、 N,N’−ビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニ
ル)ヒドラジン。
【0382】 1.18 アスコルビン酸(ビタミンC)。
【0383】 1.19 アミン酸化防止剤 N,N’−ジ−イソプロピル−p−フェニレンジアミン、N,N’−ジ−s−ブ
チル−p−フェニレンジアミン、N,N’−ビス(1,4−ジメチルペンチル)
−p−フェニレンジアミン、N,N’−ビス(1−エチル−3−メチルペンチル
)−p−フェニレンジアミン、N,N’−ビス(1−メチルヘプチル)−p−フ
ェニレンジアミン、N,N’−ジシクロヘキシル−p−フェニレンジアミン、N
,N’−ジフェニル−p−フェニレンジアミン、N,N’−ビス(2−ナフチル
)−p−フェニレンジアミン、N−イソプロピル−N’−フェニル−p−フェニ
レンジアミン、N−(1,3−ジメチルブチル)−N’−フェニル−p−フェニ
レンジアミン、N−(1−メチルヘプチル)−N’−フェニル−p−フェニレン
ジアミン、N−シクロヘキシル−N’−フェニル−p−フェニレンジアミン、4
−(p−トルエンスルファモイル)ジフェニルアミン、N,N’−ジメチル−N
,N’−ジ−s−ブチル−p−フェニレンジアミン、ジフェニルアミン、N−ア
リルジフェニルアミン、4−イソプロポキシジフェニルアミン、N−フェニル−
1−ナフチルアミン、N−(4−t−オクチルフェニル)−1−ナフチルアミン
、N−フェニル−2−ナフチルアミン、オクチル化ジフェニルアミン、例えばp
,p’−ジ−t−オクチルジフェニルアミン、4−n−ブチルアミノフェノール
、4−ブチリルアミノフェノール、4−ノナノイルアミノフェノール、4−ドデ
カノイルアミノフェノール、4−オクタデカノイルアミノフェノール、ビス(4
−メトキシフェニルアミン)、2,6−ジ−t−ブチル−4−ジメチルアミノメ
チルフェノール、2,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジ
フェニルメタン、N,N,N’,N’−テトラメチル−4,4’−ジアミノジフ
ェニルメタン、1,2−ビス〔(2−メチルフェニル)アミノ〕エタン、1,2
−ビス(フェニルアミノ)プロパン、(o−トルイル)ビグアニド、ビス[4−
(1’,3’−ジメチルブチル)フェニル]アミン、t−オクチル化N−フェニ
ル−1−ナフチルアミン、モノ−及びジ−アルキル化t−ブチル/t−オクチル
ジフェニルアミンの混合物、モノ−及びジ−アルキル化ノニルジフェニルアミン
の混合物、モノ−及びジ−アルキル化ドデシルジフェニルアミンの混合物、モノ
−及びジ−アルキル化イソプロピル/イソヘキシルジフェニルアミンの混合物、
モノ−及びジ−アルキル化t−ブチルジフェニルアミンの混合物、2,3−ジヒ
ドロ−3,3−ジメチル−4H−1,4−ベンゾチアジン、フェノチアジン,モ
ノ−及びジ−アルキル化t−ブチル/t−オクチルフェノチアジンの混合物、モ
ノ−及びジ−アルキル化t−オクチルフェノチアジンの混合物、N−アリルフェ
ノチアジン,N,N,N’,N−テトラフェニル、1,4−ジアミノブト−2−
エン、N,N−ビス(2,2,6,6−テトラメチルピペリド−4−イル)ヘキ
サメチレンジアミン、ビス(2,2,6,6−テトラメチルピペリド−4−イル
)セバケート、2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−オン、2,2,
6,6−テトラメチルピペリジン−4−オール。
【0384】 2. 紫外線及び光安定化剤 2.1 2−(2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾールの誘導体 2−(2’−ヒドロキシ−5’メチルフェニル)ベンゾトリアゾール, 2−(3’,5’−ジ−ブチル−2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾー
ル、 2−(5’−t−ブチル−2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、 2−[2’−ヒドロキシ−5’−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェ
ニル]ベンゾトリアゾール、 2−(3’,5’−ジ−t−ブチル−2’−ヒドロキシフェニル)−5−クロロ
ベンゾトリアゾール、 2−(3’−t−ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−メチルフェニル)−5−ク
ロロベンゾトリアゾール、 2−(3’−sec−ブチル−5’−t−ブチル−2’−ヒドロキシフェニル)
ベンゾトリアゾール、 2−(2’−ヒドロキシ−4’−オクチルオキシフェニル)ベンゾトリアゾール
、 2−(3’,5’−ジ−t−アミル−2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリア
ゾール、 2−[3’,5’−ビス(α,α−ジメチルベンジル)−2’−ヒドロキシフェ
ニル]ベンゾトリアゾール、 2−[3’−t−ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−(2−オクチルオキシカル
ボニルエチル)フェニル]−5−クロロベンゾトリアゾールの混合物、2−[3
’−t−ブチル−5’−(2−(2−エチルヘキシルオキシ)カルボニルエチル
)−2’−ヒドロキシフェニル]−5−クロロベンゾトリアゾール、2−[3’
−t−ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−(2−メトキシカルボニルエチル)フ
ェニル]−5−クロロベンゾトリアゾール、2−[3’−t−ブチル−2’−ヒ
ドロキシ−5’−(2−メトキシカルボニルエチル)フェニル]ベンゾトリアゾ
ール、2−[3’−t−ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−(2−オクチルオキ
シカルボニルエチル)フェニル]ベンゾトリアゾール、2−[3’−t−ブチル
−5’−(2−(2−エチルヘキシルオキシ)カルボニルエチル)−2’−ヒド
ロキシフェニル]ベンゾトリアゾール、2−(3’−ドデシル−2’−ヒドロキ
シ−5’−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール及び2−[3’−t−ブチル−
2’−ヒドロキシ−5’−(2−イソ−オクチルオキシカルボニルエチル)フェ
ニル]ベンゾトリアゾール、2,2’−メチレン−ビス[4−(1,1,3,3
−テトラメチルブチル)−6−ベンゾトリアゾール−2−イル−フェノール]、
2−[3’−t−ブチル−5’−(2−メトキシカルボニルエチル)−2’−ヒ
ドロキシフェニル]−2H−ベンゾトリアゾールとポリエチレングリコール30
0とのエステル化生成物、[R−CHCH−COO(CH(式中
、R=3’−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5’−2H−ベンゾトリアゾール−
2−イル−フェニルである)。
【0385】 2.2 2−ヒドロキシベンゾフェノンの誘導体 4−ヒドロキシ−、4−メトキシ−、4−オクチルオキシ−、4−デシルオキシ
−、4−ドデシルオキシ−、4−ベンジルオキシ−,4,2’,4’−トリヒド
ロキシ,2’−ヒドロキシ−4,4’−ジメトキシ誘導体。
【0386】 2.3 適宜置換された安息香酸のエステル サリチル酸フェニル、サリチル酸4−t−ブチルフェニル,サリチル酸オクチル
フェニル、ベンゾイル−レゾルシノール、ビス(4−t−ブチルベンゾイル)−
レゾルシノール、ジベンゾイル−レゾルシノール、2,4−ジ−t−ブチルフェ
ニル−3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル−
3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート、オクタデシル−3,5
−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート、2−メチル−4,6−ジ−t
−ブチルフェニル−3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート。
【0387】 2.4 アクリラート エチル又はイソクチル(Isoctyl)α−シアノ−β,β−ジフェニルアク
リラート、メチルα−カルボメトキシシンナメート、メチル又はブチルα−シア
ノ−β−メチル−p−メトキシシンナメート,メチルα−カルボメトキシ−p−
メトキシシンナメート,メチルα−カルボメトキシ−p−メトキシシンナメート
、N−(β−カルボメトキシ−β−シアノビニル)−2−メチルインドリン。
【0388】 2.5 ニッケル化合物 2,2’−チオビス[4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェノール
]の複合体、例えば1:1又は1:2の複合体であって、追加のリガンド、例え
ばn−ブチルアミン、トリエタノールアミン又はN−シクロヘキシルジエタノー
ルアミンを有する又は有しないもの、ニッケルジブチルジチオカルバメート、4
−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルベンジルホスホン酸のモノアルキルエス
テル、例えばメチル又はエチルエステルのニッケル塩、ケトオキシム、例えば2
−ヒドロキシ−4−メチルフェニルウンデシルケトオキシムとのニッケル複合体
、追加のリガンドを有する又は有しない1−フェニル−4−ラウロイル−5−ヒ
ドロキシピラゾールのニッケル複合体。
【0389】 2.6 オキサミド 4,4’−ジオクチルオキシオキサアニリド、 2,2’−ジエトキシオキサアニリド、 2,2’−ジオクチルオキシ−5,5’−ジ−t−ブトキサアニリド、 2,2’−ジドデシルオキシ−5,5’−ジ−t−ブトキシアニリド、 2−エトキシ−2’−エチルオキサアニリド、 N,N’−ビス(3−ジメチルアミノプロピル)オキサミド、 2−エトキシ−5−t−ブチル−2’−エトキシアニリド及びこれと2−エトキ
シ−2’−エチル−5,4’−ジ−t−ブトキシアニリドとの混合物、二置換オ
ルト−及びパラ−メトキシアニリドの混合物及び二置換オルト−及びパラ−エト
キシアニリドの混合物。
【0390】 2.7 2−(2−ヒドロキシフェニル)−1,3,5−トリアジン 2,4,6−トリス(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−1,3
,5−トリアジン、 2−(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−4,6−ビス(2,4
−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、 2−(2,4−ジヒドロキシフェニル)−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェ
ニル)−1,3,5−トリアジン、 2,4−ビス−(2−ヒドロキシ−4−プロピルオキシフェニル)−6−(2,
4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン。 2−(2−ヒドロキシ)−4−オクチルフェニル−4,6−ビス(4−メチルフ
ェニル)−1,3,5−トリアジン、 2−(2−ヒドロキシ−4−ドデシルオキシフェニル)−4,6−ビス(2,4
−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、 2−[2−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキシ−3−ブチルオキシ−プロポキシ
)フェニル]−4,6−ビス(2,4−ジメチル)−1,3,5−トリアジン、
2−[2−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキシ−3−オクチルオキシ−プロピル
オキシ)フェニル]−4,6−ビス(2,4−ジメチル)−1,3,5−トリア
ジン、 2−[4−(ドデシルオキシ/トリデシルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)
−2−ヒドロキシフェニル]−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1
,3,5−トリアジン、 2−[2−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキシ−3−ドデシルオキシプロポキシ
)フェニル]−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリ
アジン、 2−(2−ヒドロキシ−4−ヘキシルオキシ)フェニル−4,6−ジフェニル−
1,3,5−トリアジン、 2−(2−ヒドロキシ−4−メトキシ)フェニル−4,6−ジフェニル−1,3
,5−トリアジン、 2,4,6−トリス[2−ヒドロキシ−4−(3−ブトキシ−2−ヒドロキシ−
プロポキシ)フェニル]−1,3,5−トリアジン、 2−(2−ヒドロキシフェニル)−4−(4−メトキシフェニル)6−フェニル
−1,3,5−トリアジン。
【0391】 3.「金属不活性化剤」 N,N−ジフェニルオキサミド、N−サリチラル(salicylal)−N’
−サリチロイル−ヒドラジン、N,N’−ビス(サリチロイル)ヒドラジン、N
,N’−ビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニル
)ヒドラジン、3−サリチロイル(salicyloyl)アミノ−1,2,4
−トリアゾール、ビス(ベンジリデン)オキサリルジヒドラジド、オキサアニリ
ド、イソフタロイルジヒドラジド、セバコイル(sebacoyl)ビスフェニ
ルヒドラジド、N,N’−ジアセチルアジポイルジヒドラジド、N,N’−ビス
(サリチロイル)オキサリルジヒドラジド,N,N’−ビス(サリチロイル)チ
オプロピオニルジヒドラジド。
【0392】 4.ホスフィット及びホスホニット(phosphonite) トリフェニルホスフィット,ジフェニルアルキルホスフィット、フェニルジアル
キルホスフィット、トリス(ノニルフェニル)ホスフィット、トリラウリルホス
フィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステアリルペンタエリスリトール
ジホスフィット トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスフィット、ジ
イソデシルペンタエリスリトールジホスフィット、ビス(2,4−ジ−t−ブチ
ルフェニル)ペンタエリスリトールジホスフィット、ビス(2,5−ジ−t−ブ
チル−4−メチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスフィット、ジイソデシ
ルオキシペンタエリスリトールジホスフィット、ビス(2,4−ジ−t−ブチル
−6−メチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスフィット、ビス[2,4,
5−トリス(t−ブチルフェニル)]ペンタエリスリトールジホスフィット、ト
リステアリルソルビトールトリホスフィット、テトラキス−(2,4−ジ−t−
ブチル−フェニル)−4,4’−ジフェニリレンジホスホニット、5−イソ−オ
クチルオキシ−2,4,8,10−テトラ−t−ブチル−12H−ジ−ベンゾ[
d,g]−1,3,2−ジオキサホスホシン(phosphocine)、6−
フルオロ−2,4,8,10−テトラ−t−ブチル−12−メチル−ジベンゾ[
d,g]−1,3,2−ジオキサホスホシン、ビス(2,4−ジ−t−ブチル−
6−メチルフェニル)メチルホスフィット、ビス(2,4−ジ−t−ブチル−6
−メチルフェニル)エチルホスフィット。
【0393】 5.ヒドロキシルアミン N,N−ジベンジルヒドロキシルアミン、N,N−ジエチルヒドロキシルアミ
ン、N,N−ジオクチルヒドロキシルアミン、N,N−ジラウリルヒドロキシル
アミン、N,N−ジテトラデシルヒドロキシルアミン、N,N−ジヘキサデシル
ヒドロキシルアミン、N,N−ジオクタデシルヒドロキシルアミン、N−ヘキサ
デシル−N−オクタデシルヒドロキシルアミン、N−ヘプタデシル−N−オクタ
デシルヒドロキシルアミン、水素化獣脂由来のアミンに由来するN,N−ジアル
キルヒドロキシルアミン。
【0394】 6.ニトロン N−ベンジル−α−フェニル−ニトロン、N−エチル−α−メチル−ニトロン
、N−オクチル−α−ヘプチル−ニトロン、N−ラウリル−α−ウンデシル−ニ
トロン、N−テトラデシル−α−トリデシル−ニトロン、N−ヘキサデシル−α
−ペンタデシル−ニトロン、N−オクタデシル−α−ペンタデシル−ニトロン、
N−ヘプタデシル−α−ヘプタデシル−ニトロン,N−オクタデシル−α−ペン
タデシル−ニトロン,N−ヘプタデシル−α−ヘプタデシル−ニトロン、N−オ
クタデシル−α−ヘキサデシル−ニトロン、獣脂由来の水素化アミンに由来する
N,N−ジアルキルヒドロキシルアミンに由来するニトロン。
【0395】 7.過酸化物を破壊することができる薬剤 β−チオジプロピオン酸のエステル、例えばラウリル、ステアリル、ミリスチ
ル又はトリデシルエステル、メルカプトベンズイミダゾール又は2−メルカプト
ベンズイミダゾールの亜鉛塩、亜鉛ジブチルジチオカルバメート、ジオクタデシ
ルジスルフィドペンタエリスリトールテトラキス(β−ドデシルメルカプト)プ
ロピオネート。
【0396】 8.ポリアミドの安定化剤 ヨウ素及び/又はリン化合物と組み合わせた銅塩、二価のマンガン塩。
【0397】 9.塩基性補助安定化剤(co−stabilizer) メラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアノジアミド、トリアリルシアヌラー
ト、尿素の誘導体、ヒドラジンの誘導体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、
脂肪酸のアルカリ金属塩及びアルカリ土類金属塩、例えばCa−ステアレート、
Zn−ステアレート、Mg−ステアレート、Mg−ベヘネート(behenat
e)、Na−リシノレート(ricinoleate)、K−パルミテート(p
almitate)、アンチモン−ピロカテコレート(pyrocatecho
late)、錫−ピロカテコレート。
【0398】 10.核剤 無機物質、例えばタルク、金属酸化物、例えば二酸化チタン又は酸化マンガン
、ホスフェート、カーボネート又はサルフェート、好ましくはアルカリ土類金属
のもの、有機化合物、例えばモノ−又はポリ−カルボン酸及びその塩、例えば4
−t−ブチル安息香酸、アジピン酸、ジフェニル酢酸、コハク酸ナトリウム又は
安息香酸ナトリウム、高分子化合物、例えばイオン性コポリマー(「イオノマー
」)。
【0399】 11.充填剤及び強化剤 炭酸カルシウム、シリケート、ガラス繊維、「ガラスバルブ(glass b
ulb)」、石綿、タルク、カオリン、雲母、硫酸バリウム、金属酸化物及び金
属水酸化物、カーボンブラック、グラファイト、木粉及びその他の天然物の粉又
は繊維、合成繊維。
【0400】 12.その他の添加剤 可塑剤、潤滑剤、乳化剤、色素、流動学的添加剤、触媒、「流れ調整」剤、蛍
光増白剤、難燃化剤(例えば、臭化物、クロルレート(chlorurate)
、ホスホレート(phosphorate)及びリン/ハロゲン混合物)、帯電
防止剤、発泡剤、チオシナーザイジング(thiosynergizing)剤
、例えばジラウリルチオジプロピオネート又はジステアリルチオジプロピオネー
ト。
【0401】 13.ベンゾフラノン及びインドリノン(indolinone) 3−[4−(2−アセトキシエトキシ)フェニル]−5,7−ジ−t−ブチル
ベンゾフラン−2−オン、 5,7−ジ−t−ブチル−3−[4−(2−ステアロイルオキシエトキシ)フェ
ニル]ベンゾフラン−2−オン、 3,3’−ビス[5,7−ジ−t−ブチル−3−[4−(2−ヒドロキシエトキ
シ)フェニル]ベンゾフラン−2−オン]、 5,7−ジ−t−ブチル−3−(4−エトキシフェニル)ベンゾフラン−2−オ
ン、 3−(4−アセトキシ−3,5−ジメチルフェニル)−5,7−ジ−t−ブチル
−ベンゾフラン−2−オン、 3−(3,5−ジメチル−4−ピバロイルオキシフェニル)−5,7−ジ−t−
ブチル−ベンゾフラン−2−オン、 又は米国特許第4.325.863号、4.338.244号、5.175.
312号、5.216.052号、5.252.643号、4.316.611
号、4.316.622号、4.316.876号又は欧州特許出願第589.
839号及び第591.102号に記載されているもの。
【0402】 本発明及びその態様についての更なる理解を提供するために、いくつかの説明
的であるが限定的ではない実施例を提供する。
【0403】実施例1 下記一般式(a’)で示されるβ−オクタデシルアミノエチルクロトネート
(crotonate)(化合物番号1)、
【0404】
【0405】 26.03g(0.2モル)のアセト酢酸エチル、50gのトルエン、53.
9g(0.2モル)のオクタデシルアミン及び0.3gの氷酢酸を、攪拌機、温
度計及び水分離器付の還流濃縮器を備えた500mlの4口反応器へ入れた。
【0406】 反応塊を攪拌しながら維持し、118℃〜130℃で1時間45分還流加熱し
た。この間、反応水が形成し、これを共沸蒸留により分離した。3.5gの反応
水を分離した。
【0407】 減圧下での溶媒及び酢酸の蒸留後、生成物を煮沸残渣(boiler res
idue)として分離した。
【0408】 得られた生成物:75g GC純度:98.2% 収率:98.3% 融解点:40.5℃
【0409】 化合物番号1をNMR分析により特徴付け、そのエナミン構造を確認した。 H−NMR(200MHz、CDCl−TMS)δ(ppm):NH(ブ
ロード)8.53ppm、C=CH(s)4.40ppm、その他のシグナルは
構造と一致した。
【0410】 化合物番号2及び3を、実施例1と類似の方法で製造した。反応条件及び特徴
を特定した。
【0411】実施例2 下記式(a’)を有する2−n−オクタデシルアミノ−2−ペンテン−4−
オン(化合物番号2)、
【0412】
【0413】 の製造
【0414】 アミン:n−オクタデシルアミン、53.9g(0.2モル) カルボニル化合物:アセチルアセトン、20.02g(0.2モル) 溶媒:トルエン、50g 触媒:酢酸、0.46g 分離した反応水:3.41g 反応時間及び温度:118℃〜132℃で4.5時間
【0415】 溶媒及び酢酸の減圧下での蒸留後、生成物を煮沸残渣として得た。
【0416】 得られた生成物:66.33g GC純度:99.1% 収率:94.3% 融解点:38℃〜39℃ 化合物番号2をNMR分析により特徴付け、そのエナミン構造を確認した。 H−NMR(200MHz、CDCl−TMS)δ(ppm):NH(ブ
ロード)、10.85ppm、C=CH(s)4.92ppm、その他のシグナ
ルは構造と一致した。
【0417】実施例3 下記式(a’)を有するβ−ドデシルアミノエチルクロトネート(化合物番
号3)、
【0418】
【0419】 の製造
【0420】 アミン:ドデシルアミン、37.07g(0.2モル) カルボニル化合物:アセト酢酸エチル、26.03g(0.2モル) 溶媒:トルエン、50g 触媒:酢酸、0.3g 分離した反応水:3.8g 反応時間及び温度:85℃〜126℃で3時間
【0421】 溶媒及び酢酸の蒸留後、得られた祖残渣を分割蒸留に付し、中心の画分を下記
の蒸留温度範囲で集めた。154℃〜164℃(ヘッド)、166℃〜180℃
(ボイラー)、13.3パスカル(0.10mm/Hg)(減圧)。
【0422】 得られた生成物:51.2g GC純度:99.2% 収率:86.0% H−NMR(200MHz、CDCl−TMS)δ(ppm):NH(ブ
ロード)、8.48ppm、C=CH(s)4.34ppm、その他のシグナル
は構造と一致した。
【0423】実施例4 ポリプロピレンの光安定化
【0424】 モンテル(Montell)により製造販売されているタイプ モプレン(M
oplen) FLF20のポリプロピレンをこの目的に使用した(MFI、2
30℃で21.6kg=9.2)。
【0425】 粉末状の前記ポリプロピレンの100gを、下記化合物の0.25gと混合し
た。 (A)前記で得られた化合物番号1 (B)前記で得られた化合物番号2 (C)前記で得られた化合物番号3 (D)チヌビン770(登録商標)(ビス−(2,2,6,6−テトラメチル−
4−ピペリジニル)セバケートに対応。チバガイギー(Ciba Geigy)
により製造販売)
【0426】 更に、粉末状の前記ポリプロピレンの100gを、0.125gのエナミン化
合物(a)及び0.125gの立体障害アミン(b)と混合した。使用した2つ
の成分[(a)+(b)]との混合物は下記の通りである。
【0427】 (E):下記成分からなる混合物 (a)前記で得られた化合物番号1に対応するもの、及び、 (b)チヌビン770に対応するもの
【0428】 (F):下記成分からなる混合物 (a)前記で得られた化合物番号2に対応するもの、及び、 (b)チヌビン770に対応するもの
【0429】 (G):下記成分からなる混合物 (a)前記で得られた化合物番号3に対応するもの (b)チヌビン770に対応するもの
【0430】 得られた(A)〜(G)の均一混合物を、スクリュー及び2mmのノズルを備
えたブラベンダー押出機(直径19mm、長さが直径の約25倍)中での押し出
しに、圧縮比1:4、温度経過190℃、210℃、215℃、215℃で付し
た。
【0431】 押出機は50rpmで作動させ、押出機から離れるフィラメントを顆粒状に切
断し、続いて「可塑剤」を220℃で用いてフィルムへ変形させた。フィルムを
、厚さ60μmが得られるまで下記の条件下での圧縮に付した。2分間の予熱及
び2分間の200℃で9806650パスカル(100kg/cm)の圧縮を
行った。
【0432】 得られたフィルムを、下記条件下、UV−CON中で紫外線照射に付した。 光有り、60℃、8時間 暗中、結露、40℃、4時間
【0433】 更に、下記の条件下、Atlas CI 65ウェザロメーター中での促進老
化に付した(WOM)。 ブラックパネルの温度:63℃ 照射:340nmを0.40W/m 相対湿度:50% 雨のサイクル:(102’〜18’)102’毎に18’の雨 比較目的で、光安定化剤なしでポリプロピレンから得られるフィルムを製造し
た。 フィルムの破壊時間(時間)を分析し、データを表1に示す。
【0434】
【0435】 表1のデータは、本発明の混合物(E)、(F)及び(G)の混合物の相乗効
果を示している。
【0436】実施例5 ポリメリ・ヨーロッパ(Polimeri Europa)により製造販売さ
れているタイプリブレン(Riblene)FC20のポリエチレンを、この目
的に使用した。 顆粒状の前記ポリエチレンの100gを、下記化合物の0.25gと混合した
【0437】 (A)前記で得られた化合物番号1 (B)前記で得られた化合物番号2 (C)前記で得られた化合物番号3 (D)チヌビン770(登録商標)(ビス−(2,2,6,6−テトラメチル−
4−ピペリジニル)セバケートに対応。チバガイギー(Ciba Geigy)
により製造販売)
【0438】 更に、粉末状の前記ポリプロピレンの100gを、0.125gのエナミン化
合物(a)及び0.125gの立体障害アミン(b)と混合した。使用した2つ
の成分[(a)+(b)]との混合物は下記の通りである。
【0439】 (E):下記成分からなる混合物 (a)前記で得られた化合物番号1に対応するもの、及び、 (b)チヌビン770に対応するもの
【0440】 (F):下記成分からなる混合物 (a)前記で得られた化合物番号2に対応するもの、及び、 (b)チヌビン770に対応するもの
【0441】 (G):下記成分からなる混合物 (a)前記で得られた化合物番号3に対応するもの (b)チヌビン770に対応するもの
【0442】 得られた(A)〜(G)の均一混合物を、スクリュー及び2mmのノズルを備
えたブラベンダー押出機(直径19mm、長さが直径の約25倍)中での押し出
しに、圧縮比1:4、温度経過190℃、210℃、215℃、215℃で付し
た。押出機は50rpmで作動させ、押出機から離れるフィラメントを顆粒状に
切断し、続いて「可塑剤」を220℃で用いてフィルムへ変形させた。フィルム
を、厚さ100μmが得られるまで下記の条件下での圧縮に付した。2分間の予
熱及び2分間の200℃で9806650パスカル(100kg/cm)の圧
縮を行った。
【0443】 得られたフィルムを、下記条件下、UV−CON中で紫外線照射に付した。 光有り、60℃、8時間 暗中、結露、40℃、4時間 比較目的で、光安定化剤なしでポリプロピレンから得られるフィルムを製造し
た。 フィルムの破壊時間(時間)を分析し、データを表2に示す。
【0444】
【0445】 表2のデータは、本発明の混合物(E)、(F)及び(G)の混合物の相乗効
果を示している。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 クリッシー ルチアーナ イタリー イ−20074 グラッフィジアー ナ ヴィア サン アンジェロ 75 (72)発明者 アドヴァッシオ マウロ イタリー イ−ベルガモ ヴィア ジ マ ッティオリ 16ア Fターム(参考) 4J002 AB01W AB02W AC09W AC12W BB03W BB03X BB05W BB06W BB07W BB12W BB12X BB15W BB18W BB18X BB27W BC03W BC04W BC05W BC06W BC07W BD10W BE02W BE06W BG04W BG07Y BG10W BH01W BJ00Y BK00W BL01W BL02W BN14W CB00W CC04W CC18W CD00W CF01W CF06W CF07W CG01W CH02W CH07W CJ00W CK03W CK04W CK05W CL03W CM02W CM04W CN01W EN026 EU036 EU136 EU186 EU216 FD03Y FD036 4J038 CB001 CB021 CB081 CC021 CG141 CH031 DA161 DB001 DD001 DF001 DG001 JB02 JB27 JB28 JB33 JB36 JB38 KA12

Claims (56)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 下記成分(a)及び(b)を含む有機ポリマー用安定化混合
    物。 (a)一級又は二級脂肪族又は芳香族アミンを有する、β−ケト−エステル、
    β−ケト−アミド又は1,3−ジケトンの誘導体からなるエナミンの群に属する
    下記一般式(I)で示される1以上の化合物、 (式中、mは1〜3の整数であり、 nは1〜4の整数であり、 Rは下記一般式(II)、(III)又は(IV)、 (式中、Rは水素原子、C〜C18の直鎖又は分岐したアルキル基、−NH
    アミン基又は−SR基(式中Rは水素原子又はC〜C18の直鎖又は
    分岐したアルキル基である)である)の中の1つを有するトリアジンであり、 R及びRは、同一又は異なって、水素原子、C〜C18の直鎖又は分岐
    したアルキル基、C〜Cの直鎖又は分岐したアルコキシアルキル基、酸素、
    窒素及び硫黄の中から選ばれるヘテロ原子を適宜含むC〜Cのシクロアルキ
    ル基、C〜C18のアリール基、C〜C20のアリールアルキル基、下記一
    般式(V)、 (式中、Rは水素原子、C〜C18の直鎖又は分岐したアルキル基であって
    、−NHR基又は−OR基(式中、Rは水素原子、C〜C18の直鎖又
    は分岐したアルキル基又はC〜C18のアリール基である)で適宜置換されて
    いるアルキル基、−OR基(式中、Rは水素原子又はC〜C18の直鎖又
    は分岐したアルキル基である)を有する基であり、又は、 R及びRは窒素原子と一緒になって、酸素、窒素及び硫黄の中から選ばれ
    る第二のヘテロ原子を適宜含むC〜Cのヘテロ環基であり、 R及びRは、同一又は異なって、C〜C18の直鎖又は分岐したアルキ
    ル基、C〜C18のアリール基、C〜C20のアルキルアリール又はアリー
    ルアルキル基、C〜Cの直鎖又は分岐したアルコキシ基であり、又は、 Rは一般式(VI)、 (式中、Rは前記と同一である)を有する基であり、又は、 RはNR1011基(式中、R10及びR11は、同一又は異なって、水
    素原子、C〜C18の直鎖又は分岐したアルキル基、C〜Cの直鎖又は分
    岐したアルコキシアルキル基、酸素、窒素及び硫黄の中から選ばれるヘテロ原子
    を適宜含むC〜Cのシクロアルキル基、C〜C18のアリール基、C
    20のアリールアルキル又はアルキルアリール基、下記一般式(II)、(I
    II)又は(IV)、 (式中、Rは前記と同一である)の中の1つを有するトリアジン、下記一般式
    (V)、 (式中、Rは前記と同一である)を有する基であり、又は、 R10及びR11は窒素原子と一緒になって、酸素、窒素及び硫黄の中から選
    ばれる第二のヘテロ原子を適宜含むC〜Cのヘテロ環基である)であり、又
    は、 Rは下記一般式(VII)、(VIII)又は(IX)、 (式中、R12は水素原子又はC〜C18の直鎖又は分岐したアルキル基であ
    り、 R13はC〜C18の直鎖又は分岐したアルキル基、−COCHCOCH
    基又は直接結合である)の中の1つを有する基である、及び、 (b)立体障害アミンの群に属する1以上の化合物。
  2. 【請求項2】 一般式(I)において、R、R、R10及びR11基は
    、水素原子、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、オクチル、シ
    クロヘキシル、ベンジル、フェニル、エチルフェニル、メトキシエチル、4−(
    2,2,6,6−テトラメチル)ピペリジニル、4−(2,2,6,6−テトラ
    メチル)−1−ブトキシエチルピペリジニル、4−(2,2,6,6−テトラメ
    チル)−1−ブトキシピペリジニル、4−(2,2,6,6−テトラメチル)−
    1−メチルピペリジニル、3,5−ジオクチルアミノトリアジン、3,5−ジブ
    チルアミノトリアジンである、請求項1に記載の有機ポリマー用安定化混合物。
  3. 【請求項3】 一般式(I)において、R及びR又はR10及びR11
    が窒素原子と一緒になるときの、C〜Cのヘテロ環基が、モルホリン、ピロ
    リジン、ピペリジン、ピペラジン、チオモルホリン、チアゾリジン、ベンゾチア
    ゾリジンである、請求項1に記載の有機ポリマー用安定化混合物。
  4. 【請求項4】 一般式(I)において、R及びR基は、メチル、エチル
    、プロピル、イソプロピル、フェニル、オキシメチル、オキシエチル、オキシブ
    チルである、請求項1に記載の有機ポリマー用安定化混合物。
  5. 【請求項5】 一般式(I)において、Rが一般式(VI)を有するとき
    の、R基が、4−(2,2,6,6−テトラメチル)ピペリジノキシ、N−メ
    チル−4−(2,2,6,6−テトラメチル)ピペリジノキシ、N−メトキシエ
    チル−4−(2,2,6,6−テトラメチル)ピペリジノキシ、N−メチルアミ
    ノエチル−4−(2,2,6,6−テトラメチル)ピペリジノキシである、請求
    項1に記載の有機ポリマー用安定化混合物。
  6. 【請求項6】 一般式(I)において、Rが一般式(VII)、(VII
    I)又は(IX)を有しかつnが2であるときの、R基が、 である、請求項1に記載の有機ポリマー用安定化混合物。
  7. 【請求項7】 一般式(I)において、Rが一般式(VII)、(VII
    I)又は(IX)を有しかつnが3であるときの、R基が、 である、請求項1に記載の有機ポリマー用安定化混合物。
  8. 【請求項8】 一般式(I)において、Rが一般式(VII)、(VII
    I)又は(IX)を有しかつnが4であるときの、R基が、 である、請求項1に記載の有機ポリマー用安定化混合物。
  9. 【請求項9】 一般式(I)において、R基は、メチル、エチル、プロピ
    ル、ブチル、エトキシ、ブトキシ、β−ヒドロキシエチル、β−メトキシエチル
    、β−ブトキシエチル、メチルアミノエチルである、請求項1に記載の有機ポリ
    マー用安定化混合物。
  10. 【請求項10】 一般式(I)において、R、R、R、R、R12
    及びR13基がC〜C18の直鎖又は分岐したアルキル基であるときの、R
    、R、R、R、R12及びR13基が、メチル、エチル、プロピル、イソ
    プロピル、ブチル、オクチルである、請求項1に記載の有機ポリマー用安定化混
    合物。
  11. 【請求項11】 立体障害アミン(b)が、下記の化合物(b−1): ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジニル)−n−ブチル−
    3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジルマロネート、トリス(2,2
    ,6,6−テトラメチル−4−ピペリジニル)ニトリロトリアセテート、テトラ
    キス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジニル)−1,2,3,4−
    ブタンテトラカルボキシレート、1,1’−(1,2−エタンジイル)−ビス−
    (3,3,5,5−テトラメチルピペラジノン)、4−ベンゾイル−2,2,6
    ,6−テトラメチルピペリジン、3−n−オクチル−7,7,9,9−テトラメ
    チル−1,3,8−トリアザスピロ[4.5]デカノ−2,4−ジオン、8−ア
    セチル−3−ドデシル−7,7,9,9−テトラメチル−1,3,8−トリアザ
    スピロ[4.5]デカノ−2,4−ジオンの中から選ばれる、請求項1に記載の
    有機ポリマー用安定化混合物。
  12. 【請求項12】 立体障害アミン(b)が、下記一般式(XII)を有する
    化合物(b−2)の中から選ばれる、請求項1に記載の有機ポリマー用安定化混
    合物。 (式中、R’は、水素原子、C〜C18のアルキル基、C〜Cのアルキ
    ル基で適宜置換されたC〜C12のシクロアルキル基であり、 nは1、2又は4であり、 nが1であるとき、R’はC〜C25のアルキル基であり、 nが2であるとき、R’はC〜C14のアルキレン基であり、 nが4であるとき、R’はC〜C10のテトライル−アルカン基である
  13. 【請求項13】 立体障害アミン(b)が、下記一般式(XIII)を有す
    る化合物(b−3)の中から選ばれる、請求項1に記載の有機ポリマー用安定化
    混合物。 (式中、R’及びR’は、同一又は異なって、水素原子又はC〜C12
    アルキル基であり、 R’、R’及びR’は、同一又は異なって、C〜C10のアルキレン
    基であり、 X、X、X、X、X、X、X及びXは、同一又は異なって、
    下記一般式(XIV)、 (式中、R’は、水素原子、C〜C12のアルキル基、C〜Cのアルキ
    ル基で適宜置換されたC〜C12のシクロアルキル基、−OH基及び/又はC
    〜C10のアルキル基で適宜置換されたフェニル基、フェニル基が−OH基及
    び/又はC〜C10のアルキル基で適宜置換されたC〜Cのフェニルアル
    キル基である)を有する基であり、又は、 下記一般式(XV)、 (式中、R’及びR’10は、同一又は異なって、前記R’と同一である)
    を有する基である)
  14. 【請求項14】 立体障害アミン(b)が、下記一般式(XVI)を有する
    化合物(b−4)の中から選ばれる、請求項1に記載の有機ポリマー用安定化混
    合物。 (式中、X、X10及びX11は、同一又は異なって、一般式(XIV)を有
    する基である)
  15. 【請求項15】 立体障害アミン(b)が、下記一般式(XVII)を有す
    る化合物(b−5)の中から選ばれる、請求項1に記載の有機ポリマー用安定化
    混合物。 (式中、R’11、R’13、R’14及びR’15は、同一又は異なって、水
    素原子、C〜C12のアルキル基、C〜Cのアルキル基で適宜置換された
    〜C12のシクロアルキル基、−OH基及び/又はC〜C10のアルキル
    基で適宜置換されたフェニル基、フェニル基が−OH基及び/又はC〜C10
    のアルキル基で適宜置換されたC〜Cのフェニルアルキル基であるか、又は
    一般式(XV)を有する基であり、 R’12は、C〜C18のアルキレン基、C〜Cのシクロアルキレン基
    、又はC〜Cのアルキレンジ(C〜Cシクロアルキレン)基であり、又
    は、 R’11、R’12及びR’13は、R’11、R’12及びR’13
    結合する窒素原子と一緒になって、C〜C10のヘテロ環であり、又は、 R’14及びR’15は、R’14及びR’15が結合する窒素原子と一緒に
    なって、C〜C10のヘテロ環であり、又は、 nは2〜50の数値であり、置換基R’11、R’13、R’14及びR’
    15の中の少なくとも1つは一般式(XV)を有する基である)
  16. 【請求項16】 立体障害アミン(b)が、下記一般式(XVIII)を有
    する化合物(b−6)の中から選ばれる、請求項1に記載の有機ポリマー用安定
    化混合物。 (式中、R’16は下記式で示される基であり、 (式中、R’23は水素原子、O・、C〜C18のアルキル基、C〜C
    アルキル基で適宜置換されたC〜C12のシクロアルキル基、CHCN基、
    〜Cのアルケニル基、フェニル基がC〜Cのアルキル基で適宜置換さ
    れたC〜Cのフェニルアルキル基である)であり、 Zは下記式で示される基の中から選ばれ、 (式中、R’24はC〜Cの直鎖又は分岐したアルキル基である)であり、
    R’17、R’19及びR’20は、同一又は異なって、C〜C10の直鎖
    又は分岐した基、C〜C10の脂環基又はアルキル脂環基、炭素数6の芳香族
    基、C〜C10のアルキル又はアルケニル基で適宜置換された芳香族基であり
    、 R’18は、C〜C10の直鎖又は分岐したアルキレン基又は下記式の中の
    1つであり、 (式中、R’25及びR’26はそれぞれ独立してC〜C10の直鎖又は分岐
    したアルキレン基である)、 m及びnは整数であり、4≦m+n≦60、0≦n≦15、nが0とは異なる
    とき1≦m/n≦10であり、 yは0又は1であり、 R’21はOH又は下記式の基であり、 (式中、R’17は前記と同一である)、 R’22は水素又は下記式の基であり、 (式中、R’17は前記と同一である)、 R’21及びR’22は一緒になって直接の結合で、環構造を与える)
  17. 【請求項17】 立体障害アミン(b)が、下記の方法により得られる化合
    物(b−7)の中から選ばれる、請求項1に記載の有機ポリマー用安定化混合物
    。 (a)下記一般式(XIX)を有するポリアミンと塩化シアヌールとの反応に
    よって得られる生成物と、下記一般式(XX)を有する化合物とを反応させる工
    程、 (式中、n’、n’’及びn’’’は、同一又は異なって、2〜12の数
    値であり、 R’27は、水素原子、C〜C12のアルキル基、C〜C12のシクロア
    ルキル基、フェニル基、C〜Cのフェニルアルキル基である)、 (b)次いで、分子内に存在する2,2,6,6−テトラメチルピペリド−4
    −イル基を反応させて、下記一般式(XXI)を有する基を得る工程。 (式中、R’28は、R’と同一である)
  18. 【請求項18】 立体障害アミン(b)が、下記一般式(XXII)を有す
    る化合物(b−8)の中から選ばれる、請求項1に記載の有機ポリマー用安定化
    混合物。 (式中、R’29及びR’34は、同一又は異なって、直接結合又は−N(Y
    )−CO−Y−CO−N(Y)基(式中、Y及びYは、同一又は異なっ
    て、水素原子、C〜Cのアルキル基、C〜C12のシクロアルキル基、フ
    ェニル基、C〜Cのフェニルアルキル基又は一般式(XV)を有する基であ
    り、Yは直接の結合又はC〜Cのアルキレン基である)であり、 R’30は、R’と同一であり、 R’31、R’32、R’35及びR’36は、同一又は異なって、水素原子
    、C〜C30のアルキル基、C〜C12のシクロアルキル基又はフェニル基
    であり、 R’33は、水素原子、C〜C30のアルキル基、C〜C12
    シクロアルキル基、フェニル基、C〜Cのフェニルアルキル基又は一般式(
    XV)を有する基であり、 nは1〜50の数値である)
  19. 【請求項19】 立体障害アミン(b)が、下記一般式(XXIII)を有
    する化合物(b−9)の中から選ばれる、請求項1に記載の有機ポリマー用安定
    化混合物。 (式中、R’37はC〜C24のアルキル基であり、 R’38は、R’と同一である)
  20. 【請求項20】 立体障害アミン(b)が、下記一般式(XXIV)を有す
    る化合物(b−10)の中から選ばれる、請求項1に記載の有機ポリマー用安定
    化混合物。 (式中、R’39は、R’と同一であり、 nは2〜50の数値である)
  21. 【請求項21】 立体障害アミン(b)が、下記一般式(XXV)を有する
    化合物(b−11)の中から選ばれる、請求項1に記載の有機ポリマー用安定化
    混合物。 (式中、R’40及びR’41は、一緒になってC〜C14のアルキレン基を
    形成し、 R’42は、水素原子又は−Z−COO−Z基(式中、ZはC〜C
    のアルキレン基であり、ZはC〜C24のアルキル基である)であり、 R’43は、R’と同一である)
  22. 【請求項22】 立体障害アミン(b)が、下記一般式(XXVI)を有す
    る化合物(b−12)の中から選ばれる、請求項1に記載の有機ポリマー用安定
    化混合物。 (式中、R’44、R’45、R’46、R’47及びR’48は、同一又は異
    なって、直接の結合又はC〜C10のアルキレン基であり、 R’49は、R’と同一であり、 nは1〜50の数値である)
  23. 【請求項23】 立体障害アミン(b)が、下記一般式(XXVII)を有
    する化合物(b−13)の中から選ばれる、請求項1に記載の有機ポリマー用安
    定化混合物。 (式中、X12、X13及びX14は、同一又は異なって、以下の一般式(XX
    VIII)を有する基である。 (式中、Aは一般式(XIV)を有する基である))
  24. 【請求項24】 立体障害アミン(b)が、下記一般式(XXIX)を有す
    る化合物(b−14)の中から選ばれる、請求項1に記載の有機ポリマー用安定
    化混合物。 (式中、Aは、水素原子、C〜Cのアルキル基、O・、−CHCN基、
    〜Cアルケニル基、フェニル基がC〜Cのアルキル基で適宜置換され
    たC〜Cのフェニルアルキル基であり、 bは、1、2又は4であり、 bが1であるとき、AはC〜C25のアルキル基であり、 bが2であるとき、AはC〜C14のアルキレン基であり、 bが4であるとき、AはC〜C10のテトライル−アルカン基である)
  25. 【請求項25】 立体障害アミン(b)が、下記一般式(XXX)を有する
    化合物(b−15)の中から選ばれる、請求項1に記載の有機ポリマー用安定化
    混合物。 (式中、A及びAは、同一又は異なって、水素原子又はC〜C12のアル
    キル基であり、 A、A及びAは、同一又は異なって、C〜C10のアルキレン基であ
    り、 T、T、T、T、T、T、T及びTは、同一又は異なって、
    下記一般式(XXXI)を有する基であり、 (式中、Aは、水素原子、C〜C12のアルキル基、C〜Cのアルキル
    基で適宜置換されたC〜C12のシクロアルキル基、−OH基及び/又はC
    〜C10のアルキル基で適宜置換されたフェニル基、フェニル基が−OH基及び
    /又はC〜C10のアルキル基で適宜置換されたC〜Cのフェニルアルキ
    ル基又は下記一般式(XXXII)を有する基である。 (式中、A及びA10は、同一又は異なって、Aと同一である)))
  26. 【請求項26】 立体障害アミン(b)が、下記一般式(XXXIII)を
    有する化合物(b−16)の中から選ばれる、請求項1に記載の有機ポリマー用
    安定化混合物。 (式中、T、T10及びT11は、同一又は異なって、一般式(XXXI)を
    有する基である)
  27. 【請求項27】 立体障害アミン(b)が、下記一般式(XXXIV)を有
    する化合物(b−17)の中から選ばれる、請求項1に記載の有機ポリマー用安
    定化混合物。 (式中、A11、A13、A14及びA15は、同一又は異なって、水素原子、
    〜C12のアルキル基、C〜Cのアルキル基で適宜置換されたC〜C
    12のシクロアルキル基、−OH基及び/又はC〜C10のアルキル基で適宜
    置換されたフェニル基、フェニル基が−OH基及び/又はC〜C10のアルキ
    ル基で適宜置換されたC〜Cのフェニルアルキル基又は下記一般式(XXX
    II)を有する基であり、 A12は、C〜C18のアルキレン基、C〜Cのシクロアルキレン基又
    はC〜Cのアルキレンジ(C〜Cシクロアルキレン)基であり、又は、
    11、A12及びA13は、A11、A12及びA13が結合する窒素原子
    と一緒になってC〜C10のヘテロ環であり、又は、 A14及びA15は、A14及びA15が結合する窒素原子と一緒になってC
    〜C10のヘテロ環であり、 bは2〜50の数値であり、置換基A11、A13、A14及びA15の内
    の少なくとも1つは、一般式(XXXII)を有する基である)
  28. 【請求項28】 立体障害アミン(b)が、下記一般式(XXXVI)を有
    する化合物(b−18)の中から選ばれる、請求項1に記載の有機ポリマー用安
    定化混合物。 (a)下記一般式(XXXV)を有するポリアミンと塩化シアヌールとの反応
    により得られる生成物と、下記一般式(XXXVI)を有する化合物とを反応さ
    せる工程。 (式中、b’、b’’及びb’’’は、同一又は異なって、2〜12の数
    値であり、 A19は、水素原子、C〜C12のアルキル基、C〜C12のシクロアル
    キル基、フェニル基、C〜Cのフェニルアルキル基であり、 A20は、Aと同一である)
  29. 【請求項29】 立体障害アミン(b)が、下記一般式(XXXVII)を
    有する化合物(b−19)の中から選ばれる、請求項1に記載の有機ポリマー用
    安定化混合物。 (式中、A21及びA26は、同一又は異なって、直接の結合又は−N(E
    −CO−E−CO−N(E)−基(式中、E及びEは、同一又は異なっ
    て、水素原子、C〜C8アルキル基、C〜C12のシクロアルキル基、フ
    ェニル基、C〜Cのフェニルアルキル基又は一般式(XXXII)を有する
    基であり、Eは、直接の結合又はC〜Cのアルキレン基である)であり、
    22は、Aと同一であり、 A23、A24、A27及びA28は、同一又は異なって、水素原子、C
    30のアルキル基、C〜C12のシクロアルキル基又はフェニル基であり、
    25は、水素原子、C〜C30のアルキル基、C〜C12のシクロアル
    キル基、フェニル基、C〜Cのフェニルアルキル基又は一般式(XXXII
    )を有する基であり、 bは1〜50の数値である)
  30. 【請求項30】 立体障害アミン(b)が、下記一般式(XXXVIII)
    を有する化合物(b−20)の中から選ばれる、請求項1に記載の有機ポリマー
    用安定化混合物。 (式中、A29はC〜C24のアルキル基であり、 A30は、Aと同一である)
  31. 【請求項31】 立体障害アミン(b)が、下記一般式(XXXIX)を有
    する化合物(b−21)の中から選ばれる、請求項1に記載の有機ポリマー用安
    定化混合物。 (式中、A31は、Aと同一であり、 bは2〜50の数値である)
  32. 【請求項32】 立体障害アミン(b)が、下記一般式(XL)を有する化
    合物(b−2)の中から選ばれる、請求項1に記載の有機ポリマー用安定化混合
    物。 (式中、A32及びA33は、一緒になってC〜C14のアルキレン基を形成
    し、 A34は、水素原子、又は−G−COO−G基(式中、GはC〜C
    のアルキレン基であり、GはC〜C24のアルキル基である)であり、 A35は、Aと同一である)
  33. 【請求項33】 立体障害アミン(b)が、下記一般式(XLI)を有する
    化合物(b−23)の中から選ばれる、請求項1に記載の有機ポリマー用安定化
    混合物。 (式中、A36、A37、A38、A39及びA40は、同一又は異なって、直
    接の結合又はC〜C10のアルキレン基であり、 A41は、Aと同一であり、 bは、1〜50の数値である)
  34. 【請求項34】 立体障害アミン(b)が、下記一般式(XLII)を有す
    る化合物(b−24)の中から選ばれる、請求項1に記載の有機ポリマー用安定
    化混合物。 (式中、T12、T13及びT14は、同一又は異なって、一般式(XLIII
    )である。 (式中、Lは一般式(XXXI)を有する基である))
  35. 【請求項35】 立体障害アミン(b)が、下記一般式(XLIV)を有す
    る化合物(b−25)の中から選ばれる、請求項1に記載の有機ポリマー用安定
    化混合物。 (式中、A42は、水素原子又はメチル基であり、 A43は、直接の結合又はC〜C10のアルキレン基であり、 bは、2〜50の数値である)
  36. 【請求項36】 化合物(b−1)〜(b−25)の化合物において、炭素
    数30までのアルキル基が、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、n−ブ
    チル、s−ブチル、イソブチル、t−ブチル、2−エチルブチル、n−ペンチル
    、イソペンチル、1−メチルペンチル、1,3−ジメチルブチル、n−ヘキシル
    、1−メチルヘキシル、n−ヘプチル、イソヘプチル、1,1,3,3−テトラ
    メチルブチル、1−メチルヘプチル、3−メチルヘプチル、n−オクチル、2−
    エチルヘキシル、1,1,3−トリメチルヘキシル、1,1,3,3−テトラメ
    チルペンチル、ノニル、デシル、ウンデシル、1−メチルウンデシル、ドデシル
    、1,1,3,3,5,5−ヘキサメチルヘキシル、トリデシル、テトラデシル
    、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシル、エイコシル、ド
    コシル、トリアコンチルである、請求項11〜35のいずれかに記載の有機ポリ
    マー用安定化混合物。
  37. 【請求項37】 化合物(b−1)〜(b−25)の化合物において、C
    〜C12のシクロアルキル基が、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプ
    チル、シクロ−オクチル、シクロドデシルである、請求項11〜35のいずれか
    に記載の有機ポリマー用安定化混合物。
  38. 【請求項38】 化合物(b−1)〜(b−25)の化合物において、C
    〜Cのアルキル基で置換されたC〜C12のシクロアルキル基が、メチルシ
    クロヘキシル、ジメチルシクロヘキシルである、請求項11〜35のいずれかに
    記載の有機ポリマー用安定化混合物。
  39. 【請求項39】 化合物(b−1)〜(b−25)の化合物において、−O
    H基及び/又はC〜C10のアルキル基で置換されたフェニル基が、メチルフ
    ェニル、ジメチルフェニル、トリメチルフェニル、t−ブチルフェニル、3,5
    −ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニルである、請求項11〜35のいずれ
    かに記載の有機ポリマー用安定化混合物。
  40. 【請求項40】 化合物(b−1)〜(b−25)の化合物において、C
    〜Cのフェニルアルキル基が、ベンジル、フェニルエチルである、請求項11
    〜35のいずれかに記載の有機ポリマー用安定化混合物。
  41. 【請求項41】 化合物(b−1)〜(b−25)の化合物において、フェ
    ニル基が−OH基及び/又はC〜C10のアルキル基で適宜置換されたC
    のフェニルアルキル基が、メチルベンジル、ジメチルベンジル、トリメチル
    ベンジル、t−ブチルベンジル、3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベン
    ジルである、請求項11〜35のいずれかに記載の有機ポリマー用安定化混合物
  42. 【請求項42】 化合物(b−1)〜(b−25)の化合物において、C
    〜Cのアルケニル基が、アリル、2−メタリル、ブテニル、ペンテニル、ヘキ
    セニルである、請求項11〜35のいずれかに記載の有機ポリマー用安定化混合
    物。
  43. 【請求項43】 化合物(b−1)〜(b−25)の化合物において、炭素
    数18までのアルキレン基が、メチレン、エチレン、プロピレン、トリメチレン
    、テトラメチレン、ペンタメチレン、2,2−ジメチルトリメチレン、ヘキサメ
    チレン、トリメチルヘキサメチレン、オクタメチレン、デカメチレンである、請
    求項11〜35のいずれかに記載の有機ポリマー用安定化混合物。
  44. 【請求項44】 化合物(b−1)〜(b−25)の化合物において、C
    〜C10のテトライル−アルカン基が、1,2,3,4−テトライル−ブタンで
    ある、請求項11〜35のいずれかに記載の有機ポリマー用安定化混合物。
  45. 【請求項45】 化合物(b−1)〜(b−25)の化合物において、C
    〜Cのシクロアルキレン基が、シクロヘキシレンである、請求項11〜35の
    いずれかに記載の有機ポリマー用安定化混合物。
  46. 【請求項46】 化合物(b−1)〜(b−25)の化合物において、C
    〜Cのアルキレン ジ(C〜C−シクロアルキレン)基が、メチレンジシ
    クロヘキシレンである、請求項11〜35のいずれかに記載の有機ポリマー用安
    定化混合物。
  47. 【請求項47】 化合物(b−1)〜(b−25)の化合物において、置換
    基R’11、R’12、R’13又はA11、A12及びA13が、置換基R’
    11、R’12、R’13又はA11、A12及びA13が結合する窒素原子と
    一緒になってC〜C10のヘテロ環を形成するとき、この環が、 である、請求項15又は27に記載の有機ポリマー用安定化混合物。
  48. 【請求項48】 置換基R’14及びR’15又はA14及びA15が、置
    換基R’14及びR’15又はA14及びA15が結合する窒素原子と一緒にな
    ってC〜C10のヘテロ環を形成するとき、環が、1−ピロリジン、ピペリジ
    ン、モルホリン、1−ピペラジニル、4−メチル−1−ピペラジニル、1−ヘキ
    サヒドロアゼピニル、5,5,7−トリメチル−1−ホモピペラジニル、4,5
    ,5,7−テトラメチル−1−ホモピペラジニルである、請求項15又は27に
    記載の有機ポリマー用安定化混合物。
  49. 【請求項49】 エナミンの群に属する化合物が下記の中から選ばれる、請
    求項1に記載の有機ポリマー用安定化混合物。 一般式(a)、 (式中、Zは下記の基の内の1つであるか、 −C、−t−C、−n−C17、−n−C1225、−n−
    1837又は一般式、 (式中、R’は水素原子又はメチルである)である)を有するエナミン; 式(a)、 を有するエナミン; 式(a)、 を有するエナミン; 式(a)、 を有するエナミン; 式(a)、 (Rは下記の基: C−、CHOCHCH−、C17−、C1225−、C18
    37−の中の1つであるか、又は一般式、 (式中R’は水素原子又はメチルである))を有するエナミン; 一般式(a)、 (式中、Rは、下記の基: −C、−C、−C17、−C1225の中の1つであり、 R’は、下記の基: −CH−CO−CH、−CH、−C、−Cの中の1つであり
    、 Xは、両端を含む1〜4の整数であり、 yは、両端を含む0〜3の整数である)を有するペンタエリトライトの誘導体
    の混合物からなるエナミン; 式(a)、 を有するエナミン; 式(a)、 (式中、Rは下記の基: C−、CHOCHCH−、C17−の中の1つである)を有す
    るエナミン; 式(a)、 を有するエナミン; 一般式(a10)、 (式中、Rは式、 を有する基であり、 R’は下記の基: −CH、−C、−Cの中の1つである)を有するトリアジン化合
    物の混合物からなるエナミン。
  50. 【請求項50】 立体障害アミン(b)が、ビス(1,2,2,6,6−ペ
    ンタメチル−4−ピペリジニル)セバケートに対応するLOWILITE 76
    (登録商標)、1−(2−ヒドロキシエチル)−2,2,6,6−テトラメチル
    −4−ヒドロキシピペリジンとコハク酸との縮合物に対応するLOWILITE
    62(登録商標)、ポリ−メチルプロピル−3−オキシ[4−(2,2,6,
    6−テトラメチル)ピペリジニル]シロキサンに対応するUVASIL 299
    (登録商標)、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジニル)セバ
    ケートに対応するTINUVIN 770(登録商標)の中から選ばれる、請求
    項1に記載の有機ポリマー用安定化混合物。
  51. 【請求項51】 エナミン(a)の群に属する化合物が下記の式、 式(a’)、 を有するエナミン; 式(a’)、 を有するエナミン; 式(a’)、 を有するエナミン; 式(a’)、 を有するエナミン; 式(a’)、 を有するエナミン; 式(a’)、 を有するエナミン; 式(a’)、 を有するエナミン; 式(a’)、 を有するエナミン中から選ばれ、及び、 立体障害アミン(b)が下記の化合物: (b’)ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジニル)セバ
    ケートに対応するLOWILITE 76(登録商標); (b’)1−(2−ヒドロキシエチル)−2,2,6,6−テトラメチル−4
    −ヒドロキシピペリジンとコハク酸との縮合物に対応するLOWILITE 6
    2(登録商標); (b’)ポリメチルプロピル−3−オキシ[4−(2,2,6,6−テトラメ
    チル)ピペリジニル]シロキサンに対応するUVASIL 299(登録商標)
    ; (b’)ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジニル)セバケー
    トに対応するTINUVIN 770(登録商標) の中から選ばれる、請求項1に記載の有機ポリマー用安定化混合物。
  52. 【請求項52】 有機ポリマー及び請求項1〜51のいずれかに記載の安定
    化混合物の有効量を含むことを特徴とする、光安定化ポリマー組成物。
  53. 【請求項53】 ポリマーがポリオレフィンの中から選ばれる、請求項52
    記載のポリマー組成物。
  54. 【請求項54】 ポリマーがポリプロピレン及びポリエチレンの中から選ば
    れる、請求項53記載のポリマー組成物。
  55. 【請求項55】 請求項52〜54のいずれかに記載のポリマー組成物を加
    工することにより得られる最終製品。
  56. 【請求項56】 請求項1〜51のいずれかに記載の安定化混合物の有効量
    を転換することにより光安定化されていることと特徴とする、コーティング又は
    ペインティング用組成物。
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