JP2001505193A - ベンズアミド誘導体 - Google Patents

ベンズアミド誘導体

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Abstract

(57)【要約】 この発明は、バソプレッシン拮抗作用などを有し、一般式(I)によって表される新規ベンズアミド誘導体およびそれらの医薬として許容される塩、それらの製造法およびそれらを含有する医薬組成物に関するものである。 式中、R1は低級アルコキシなどで置換されていてもよいアリールなどであり、R2は低級アルキルなどであり、R3は水素などであり、AはNHなどであり、Eは−C(=O)−などであり、Xは−CH=CH−、−CH=N−またはSであり、Yは縮合複素環基などである。

Description

【発明の詳細な説明】 ベンズアミド誘導体 技術分野 本発明は、医薬として有用な新規ベンズアミド誘導体およびそれらの医薬とし て許容される塩に関する。 背景技術 いくつかのベンズアミド誘導体が、たとえばPCT国際公開番号WO91/05549、WO9 5/29152およびWO96/41795ならびにEP出願公開第0620216号において、バソプレッ シン拮抗剤として既知である。 発明の開示 この発明は、新規ベンズアミド誘導体およびそれらの医薬として許容される塩 に関するものである。 より詳細には、それは、バソプレッシン拮抗作用、血管拡張作用、降圧作用、 肝内糖類放出阻害作用、メサンギウム細胞成長阻害作用、水利尿作用、血小板凝 集抑制作用、オキシトシン拮抗作用などの活性を有する新規ベンズアミド誘導体 およびそれらの医薬として許容される塩、それらを含有する医薬組成物ならびに ヒトまたは動物における高血圧、心不全、腎不全、浮腫、腹水、バソプレッシン 異常分泌症候群、肝硬変、低ナトリウム血症、低カリウム血症、糖尿病、循環器 障害、脳血管疾患(たとえば脳浮腫、脳梗塞など)、メニエール症候群(たとえ ばメニエール病など)、乗物酔いなどの治療および/または予防法に関するもの である。 この発明の一目的は、上記の作用を有する新規かつ有用なベンズアミド誘導体 を提供することである。 この発明の他の一目的は、該ベンズアミド誘導体およびそれらの塩の製造法を 提供することである。 この発明の別の一目的は、該ベンズアミド誘導体およびそれらの医薬として許 容される塩を有効成分として含有する医薬組成物を提供することである。 この発明のなお一つの目的は、該ベンズアミド誘導体およびそれらの医薬とし て許容される塩を用いて、ヒトまたは動物における上記疾患を治療および/また は予防する方法を提供することである。 この発明の目的化合物であるベンズアミド誘導体は、新規であり、つぎの一般 式(I)によって表わすことができる。 式中、 R1はアリール、シクロ低級アルキルまたは複素環基であり、その各々は、ハ ロゲン;ヒドロキシ;ニトロ;保護されたアミノ;アミノ;アシル;置換アシル ;アシル低級アルキルスルフィニル;アシル低級アルキルスルホニル;アシルオ キシ;低級アルキルアミノ低級アルキルカルバモイルオキシ;アリール;シアノ ;複素環基;アシル、置換アシル、アリールもしくはアシル置換アリールで置換 されていてもよい低級アルケニル;アミノ、アシルアミノもしくは置換アシルア ミノで置換されていてもよい低級アルキニル;ハロゲン、アミノ、低級アルキル アミノ、アシルアミノ、置換アシルアミノ、ヒドロキシ、アシルオキシ、アシル 低級アルカノイルオキシ、アシル、置換アシル、アシル低級アルコキシイミノ、 アリールもしくはアシル置換アリールで置換されていてもよい低級アルキル;ア シルもしくは置換アシルで置換されていてもよい低級アルキルチオ;アリール、 置換アリール、ヒドロキシ、アシルオキシ、アミノ、低級アルキルアミノ、保護 されたアミノ、複素環基、アシル置換ピリジル、置換アシル置換ピリジル、ハロ ゲン、アシル低級アルキルアミノ、N−保護されたアシル低級アルキルアミノ、 N−アシル低級アルキル−N−低級アルキルアミノ、アシル、置換アシル、アシ ルアミノ、置換アシルアミノ、低級アルキルヒドラジノカルボニルアミノ、ヒド ロキシイミノ、アシル低級アルコキシイミノ、置換アシル低級アルコキシイミノ 、アシル低級アルコキシ、グアニジノもしくはN−保護されたグアニジノで置換 されていてもよいアルコキシ;およびアシルもしくは置換アシルで置換されてい てもよい低級アルケニルオキシからなる群から選ばれた置換基で置換されていて もよく; R2は水素;ヒドロキシ、アリールもしくはアシルで置換されていてもよい低 級アルキル;またはシクロ低級アルキルであり; R3は水素;ハロゲン;ヒドロキシ;アシルオキシ;置換アシルオキシ;ヒド ロキシもしくは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルキル;アリール 、アミノ、保護されたアミノ、アシル、ヒドロキシ、シアノもしくは低級アルキ ルチオで置換されていてもよい低級アルコキシ;ニトロ;アミノ;アシル;置換 アシル;またはシクロ低級アルキルオキシであり; Aは単結合、OまたはNHであり; Eは低級アルキレン、低級アルケニレン、−C(=O)−、−SO2−または 式 −G−J− (ここに、Gは低級アルキレンまたは−C(=O)−であり、 JはOまたは−N(R4)−(ここに、R4は水素またはN−保護基である)であ る)の基であり; Xは−CH=CH−、−CH=N−またはSであり; Yはアリールであって、アシル、保護されたアミノ低級アルカノイル、保護さ れたアミノおよびニトロ、アミノおよびニトロもしくはジアミノで置換されてい てもよく;もしくは 縮合複素環基であって、ハロゲン、アシル、低級アルコキシ、ヒドロキシ、グア ニジノ、メルカプト、アシルアミノ、アミノ、複素環基、シアノアミノ、アミノ 低級アルキル低級アルキルアミノ、低級アルキルアミノ、低級アルキルアミノ低 級アルキルアミノ、置換複素環基、低級アルキルヒドラジノ、アリールオキシ、 低級アルキルチオ、アリール、保護されたアミノ、N−保護された低級アルキル アミノ低級アルキルアミノ、N−保護されたアミノ低級アルキル(N’−低級ア ルキル)アミノ、アミノ低級アルキル(N−低級アルキル)アミノ、低級アルキ ルアミノ低級アルキル(N−低級アルキル)アミノ、低級アルコキシ低級アルキ ルアミノならびにアリール、アル低級アルコキシ、シアノ、ヒドロキシイミノ、 メルカプト、低級アルキルアミノ、アシルオキシ、ハロゲン、低級アルコキシ、 保護されたヒドロキシ、ヒドロキシ、低級アルコキシアリール、保護されたアミ ノ、アミノ、複素環基もしくは置換複素環基で置換されていてもよい低級アルキ ルからなる群から選ばれた置換基で置換されていてもよい; ただし、Yが低級アルキルもしくはアシルで置換されていてもよいフェニルであ るときには、Aは単結合であり、Eは−C(=O)N(R4)−(ここに、R4は 上に定義した通りである)である; ならびにそれらの医薬として許容される塩である。 目的化合物(I)またはその塩は、つぎの反応式で表わされる方法によって製 造できる。方法1 方法2 方法3 方法4 方法5 方法6 方法7 方法8 方法9 方法10 方法11 方法12 方法13 方法14 方法15 方法16 方法17 方法18 方法19 方法20 方法21 方法22 方法23 方法24 方法25 方法26 方法27 方法28 方法29 方法30 方法31 方法32 上記の各反応式において、 R1、R2、R3、A、E、XおよびYは各々上に定義した通りであり、 Eaは−C(=O)−または−S(=O)2−であり、 Yaはインドリルであり、 R5は低級アルキルであり、 Z1は酸残基であり、 YbはN−(低級アルキル)インドリルであり、 Ycはアミノおよびニトロで置換されたフェニルであり、 Ydはジアミノで置換されたフェニルであり、 Yeはベンゾイミダゾリルであり、その2位がアリール、フェノキシ、スルフ ァモイルアミノ、シアノアミノ、グアニジノ、メルカプト、アミノ、低級アルコ キシカルボニルアミノ、低級アルコキシもしくはシアノ、メルカプト、ヒドロキ シ、ハロゲン、保護されたアミノもしくは複素環基で置換されていてもよい低級 アルキルで置換されていてもよく、 Yfはキノキサリニルまたはベンゾトリアゾリルであり、 YgはN−アシルインドリルであり、 Yhは(N−アシル)アシルインドリニル、N−アシルインドリニル、(N− アシル)ヒドロキシ低級アルキルインドリニリル、低級アルキルアミノ低級アル キルアミノ(N−アシル)インドリニル、(N−低級アルコキシアリールメチル )アシルベンゾイミダゾリル、(N−低級アルコキシカルボニル)フタルイミド 低級アルキルインドリル、N−保護された低級アルキルアミノ低級アルキルアミ ノ(N−アシル)ベンゾイミダゾリル、(N−アシル)ベンゾイミダゾリル、( N−アシル)低級アルキルベンゾイミダゾリル、N−保護されたアミノ低級アル キル(N−低級アルキル)アミノ(N−アシル)ベンゾイミダゾリル、N−アシ ルインドリル、(N−アシルオキシメチル)インドリル、(N−アシル)アシル インドリル、(N−アリールメチル)低級アルコキシ低級アルキルベンゾイミダ ゾリルまたは(N−低級アルコキシアリールメチル)アシルベンゾイミダゾリル であり、 Yiはアシルインドリニル、インドリニル、ヒドロキシ低級アルキルインドリ ニル、低級アルキルアミノ低級アルキルアミノインドリニル、アシルベンゾイミ ダゾリル、フタルイミド低級アルキルインドリル、アミノ低級アルキルインドリ ル、低級アルキルアミノ低級アルキルアミノベンゾイミダゾリル、ベンゾイミダ ゾリル、低級アルキルベンゾイミダゾリル、アミノ低級アルキル(N−低級アル キル)アミノベンゾイミダゾリル、インドリル、アシルインドリル、低級アルコ キシ低級アルキルベンゾイミダゾリルまたはアシルベンゾイミダゾリルであり、 Yjは、保護されたアミノおよびニトロで置換されたアリール;または、保護 されたアミノもしくは保護されたアミノ置換低級アルキルで置換された縮合複素 環基であり、 Ykは、アミノおよびニトロで置換されたアリール;または、アミノもしくは アミノ置換低級アルキルで置換された縮合複素環基であり、 Ylは、エステル化されたカルボキシで置換されたアリール、またはエステル 化されたカルボキシで置換された縮合複素環基であり、 Ymは、カルボキシで置換されたアリール、またはカルボキシで置換された縮 合複素環基であり、 Ynは、各々に、置換または無置換N−含有複素環カルボニル、カルバモイル 、複素環カルバモイルもしくは置換または無置換低級アルキルカルバモイルで置 換されたアリールもしくは縮合複素環基であり、 Yoは、各々に、メトキシもしくは保護されたヒドロキシ置換低級アルキルで 置換された縮合(N−アシル)N−含有複素環基もしくは縮合複素環基であり、 Ypは、各々に、ヒドロキシもしくはヒドロキシ置換低級アルキルで置換され た縮合(N−アシル)N−含有複素環基もしくは縮合複素環基であり、 Yqは、アミノもしくはアミノ低級アルキルで置換された縮合複素環基であり 、 Yrは、アシルアミノもしくはアシルアミノ低級アルキルで置換された縮合複 素環基であり、 Ysは、低級アルキルアミノ置換メチルで置換されたインドリルであり、 Ytは、ヒドロキシ置換低級アルキルで置換された縮合複素環基であり、 Yuは、ホルミル置換低級アルキルで置換された縮合複素環基であり、 R1 aは、エステル化されたカルボキシもしくはエステル化されたカルボキシ置 換低級アルコキシで置換されたアリールであり、 R1 bは、カルボキシもしくはカルボキシ置換低級アルコキシで置換されたアリ ールであり、 R1 aは低級アルキルであり、 R3 aは水素または低級アルコキシであり、 Yvは、低級アルキルもしくは保護されたアミノ低級アルキルで置換されてい てもよいベンゾイミダゾリルであり、 R1 cは、置換または無置換アリールで置換されたメトキシで置換されたアリー ルであり、 R1 dはヒドロキシで置換されたアリールであり、 R1 eは、N−保護されたピペラジニルカルボニル、オキソピペリジニルカルボ ニル、カルバモイル、低級アルキルカルバモイル、低級アルキルアミノカルバモ イルもしくは低級アルキルアミノ低級アルキル(N−低級アルキル)カルバモイ ルで置換されたアリールであるかまたはN−保護されたピペラジニルカルボニル 、オキソピペリジニルカルボニル、カルバモイル、低級アルキルカルバモイル、 低級アルキルアミノカルバモイルもしくは低級アルキルアミノ低級アルキル(N −低級アルキル)カルバモイルで置換された低級アルコキシ置換アリールであり 、 R1 fはオキソピペリジニルカルボニル置換低級アルコキシで置換されたアリー ルであり、 R1 gはヒドロキシピペリジニルカルボニル置換低級アルコキシで置換されたア リールであり、 R1 hはアシルオキシで置換されたアリールであり、 R1 iは保護されたアミノ置換低級アルコキシで置換されたアリールであり、 R6は保護されたアミノで置換された低級アルキルであり、 Z2は酸残基であり、 R1 jはアミノ置換低級アルコキシで置換されたアリールであり、 R1 kはアシルアミノで置換されたアリールであり、 R1 lは低級アルキルアミノで置換されたアリールであり、 R1 mはニトロで置換されたアリールであり、 R1 nはアミノで置換されたアリールであり、 R1 baはカルボキシで置換されたアリールであり、 R1 bbはカルボキシ置換低級アルコキシで置換されたアリールであり、 R1oはヒドロキシメチル置換低級アルコキシで置換されたアリールであり、 R1pはヒドロキシ置換低級アルコキシで置換されたアリールであり、 R1qはアシルオキシ置換低級アルコキシで置換されたアリールであり、 R1rはフタルイミド置換低級アルコキシで置換されたアリールであり、 Ywはハロゲンで置換されたベンゾイミダゾリルであり、 Yxは、N−低級アルキルピペリジル、モルホリノ、低級アルキルアミノ、ジ 低級アルキルアミノピペリジノ、ジ低級アルキルヒドラジノ、アミノ低級アルキ ル(N−低級アルキル)アミノもしくはジ低級アルキルアミノ低級アルキルアミ ノで置換されたベンゾイミダゾリルであり、 Yyは、N−保護されたピペリジルで置換されたベンゾイミダゾリルであり、 Yzはピペリジルで置換されたベンゾイミダゾリルであり、 Y1は、各々にホルミルもしくはシアノ低級アルキルで置換されたベンゾイミ ダゾリルもしくはインドリルであり、 Y2は、各々にヒドロキシメチルもしくはアミノ(ヒドロキシイミノ)低級ア ルキルで置換されたベンゾイミダゾリルもしくはインドリルである。 本明細書の上記および以下の記載において、本発明の範囲に含まれるべき種々 の定義の好適な例を、以下に詳細に説明する。 「低級」なる語は、とくに断わらない限り、炭素原子数1〜6の基を意昧する ものとする。 「高級」なる語は、とくに断わらない限り、炭素原子数7〜20の基を意昧す るものとする。 「シクロ低級アルキル」および「シクロ低級アルキルオキシ」なる表現におけ る低級なる部分は炭素原子数3〜6の基を意昧するものとする。 「低級アルケニル」、「低級アルケニルオキシ」および「低級アルキニル」な る表現における低級なる部分は炭素原子数2〜6の基を意昧するものとする。 「アルコキシ」なる語は低級アルコキシおよび高級アルコキシを包含する。 好適な「低級アルコキシ」ならびに「アル低級アルコキシ」、「低級アルコキ シ低級アルキルアミノ」、「アシル低級アルコキシ」、「アシル低級アルコキシ イミノ」、「エステル化されたカルボキシ低級アルコキシイミノ」、「カルボキ シ低級アルコキシイミノ」、「N−含有複素環カルボニル低級アルコキシイミノ 」、「カルバモイル低級アルコキシイミノ」、「低級アルキルカルバモイル低級 アルコキシイミノ」および「低級アルコキシカルボニル」なる表現における好適 な低級アルコキシ部分としては、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロ ポキシ、メチルプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、第三級ブトキシ、ペンチ ルオキシ、ヘキシルオキシなどの直鎖状または分枝鎖状のC1−C6アルコキシが 挙げられる。 好適な「高級アルコキシ」としては、ヘプチルオキシ、オクチルオキシ、ノニ ルオキシ、デシルオキシ、ウンデシルオキシ、ドデシルオキシ、トリデシルオキ シ、テトラデシルオキシ、ペンタデシルオキシ、ヘキサデシルオキシ、ヘプタデ シルオキシ、オクタデシルオキシ、ノナデシルオキシ、エイコシルオキシ、メチ ルヘプチルオキシ、メチルオクチルオキシ、メチルノニルオキシ、メチルデシル オキシ、エチルヘプチルオキシ、エチルオクチルオキシ、エチルノニルオキシ、 エチルデシルオキシなどの直鎖状または分技鎖状のC7−C20アルコキシが挙げ られ、なかでも好ましいのはヘプチルオキシである。 好適な「低級アルキル」ならびに「アミノ低級アルキル低級アルキルアミノ」、 「低級アルキルアミノ低級アルキルアミノ」、「メルカプト低級アルキル」、「低 級アルキルヒドラジノ」、「低級アルキルチオ」、「N−保護された低級アルキ ルアミノ低級アルキルアミノ」、「N−保護されたアミノ低級アルキル(N’− 低級アルキル)アミノ」、「アミノ低級アルキル(N−低級アルキル)アミノ」、 「低級アルキルアミノ低級アルキル(N−低級アルキル)アミノ」、「低級アル コキシ低級アルキルアミノ」、「アシル低級アルキルスルフィニル」、「アシル 低級アルキルスルホニル」、「低級アルキルアミノ低級アルキルカルバモイルオ キシ」、「アシル低級アルキルアミノ」、「N−保護されたアシル低級アルキル アミノ」、「N−アシル低級アルキル−N−低級アルキルアミノ」、「低級アル キルヒドラジノカルボニルアミノ」、「エステル化されたカルボキシ低級アルキ ルアミノ」、「N−保護されたエステル化カルボキシ低級アルキルアミノ」、「 N−保護されたエステル化カルボキシ低級アルキル−N−低級アルキルアミノ」 、「カルボキシ低級アルキルアミノ」、「N−保護されたカルボキシ低級アルキ ルアミノ」、「N−カルボキシ低級アルキル−N−低級アルキルアミノ」、「低 級アルキルカルバモイル」、「低級アルキルカルバモイル低級アルカノイルオキ シ」、「低級アルキルカルバモイル低級アルコキシイミノ」、「N−保護された (置換または無置換N−含有複素環)カルボニル低級アルキルアミノ」、 「N−保護されたカルバモイル低級アルキルアミノ」、「N−保護された置換ま たは無置換低級アルキルカルバモイル低級アルキルアミノ」、「N−(置換また は無置換N−含有複素環)カルボニル低級アルキル−N−低級アルキルアミノ」 、「N−カルバモイル低級アルキル−N−低級アルキルアミノ」、「N−低級ア ルキルカルバモイル−N−低級アルキルアミノ」、「低級アルキルカルバモイル 低級アルコキシイミノ」、「1−ヒドロキシ低級アルキル」、「1−(低級アル キル)アミノ低級アルキル」、「モノ低級アルキルアミノ」、「低級アルキルア ミノ低級アルキル」、「アシルオキシ低級アルキル」、「ハロ低級アルキル」、 「低級アルコキシ低級アルキル」、「保護されたヒドロキシ低級アルキル」、「 ヒドロキシ低級アルキル」、「アル低級アルキル」、「保護されたアミノ低級ア ルキル」、「アミノ低級アルキル」、「複素環低級アルキル」、「アシル低級ア ルキル」、「ジ低級アルキルアミノ」、「低級アルキルスルホニル」および「低 級アルキルアミノ」なる表現における好適な低級アルキル部分としては、メチル 、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、第三級ブチル、ペン チル、エチルプロピル、ヘキシルなどの直鎖状または分枝鎖状のC1−C6アルキ ルが挙げられる。 好適な「シクロ低級アルキル」ならびに「シクロ低級アルキルオキシ」なる表 現における好適なシクロ低級アルキル部分としては、シクロプロピル、シクロブ チル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどのシクロC3−C6アルキルが挙げら れる。 好適な「アリール」ならびに「アリールオキシ」、「ハロアリール」、「アリ ールスルホニル」、「アシル置換アリール」、「(N−アリールメチル)低級ア ルコキシ低級アルキルベンゾイミダゾリル」および「(N−低級アルコキシアリ ールメチル)アシルベンゾイミダゾリル」なる表現における好適なアリール部分 ならびに「アル低級アルキル」および「アル低級アルコキシ」なる表現における 好適なアル部分としては、フェニル、ナフチル、低級アルキル置換フェニル〔た とえばトリル、キシリル、メシチル、クメニル、ジ(第三級ブチル)フェニルな ど〕などが挙げられ、なかでも好ましいのはフェニル、トリルまたはキシリルで ある。 好適な「置換アリール」としては、アシル、置換アシル、N−保護されたピペ ラジニルスルホニル、ピペラジニルスルホニル、N−低級アルキルピペラジニル スルホニル、ヒドロキシ低級アルキル、複素環低級アルキル、ハロゲン、ニトロ 、アミノ、低級アルキルアミノ、複素環基〔たとえばチアゾリル、オキサゾリル 、テトラゾリル、オキサゾリニル、ピリジル、ピリミジニリル、低級アルキルお よびシアノで置換されていてもよいピロリルなど〕、シアノ、低級アルコキシな どの適当な置換基で置換されていてもよいアリールが挙げられ、なかでも、R1 のアルコキシの置換基として好ましいのは、N−低級アルキルピペラジニルカル ボニルで置換されたアリールである。 好適な「ハロゲン」ならびに「ハロ低級アルキル」および「ハロアリール」な る表現における好適なハロ部分としては、弗素、塩素、臭素および沃素が挙げら れ、なかでも好ましいのは塩素または臭素である。 好適な「低級アルキルアミノ」ならびに「アミノ低級アルキル低級アルキルア ミノ」、「低級アルキルアミノ低級アルキルアミノ」、「N−保護された低級ア ルキルアミノ低級アルキルアミノ」、「N−保護されたアミノ低級アルキル(N ’−低級アルキル)アミノ」、「アミノ低級アルキル(N−低級アルキル)アミ ノ」、「低級アルキルアミノ低級アルキル(N−低級アルキル)アミノ」、「低 級アルコキシ低級アルキルアミノ」、「低級アルキルアミノ低級アルキルカルバ モイルオキシ」、「アシル低級アルキルアミノ」、「エステル化されたカルボキ シ低級アルキルアミノ」、「カルボキシ低級アルキルアミノ」、「N−含有複素 環カルボニル低級アルキルアミノ」、「カルバモイル低級アルキルアミノ」、「 低級アルキルカルバモイル低級アルキルアミノ」、「低級アルキルアミノ低級ア ルキル」および「低級アルキルアミノピペリジルカルボニル」なる表現における 好適な低級アルキルアミノ部分としては、メチルアミノ、エチルアミノ、プロピ ルアミノ、イソプロピルアミノ、ブチルアミノ、第三級ブチルアミノ、イソブチ ルアミノ、ペンチルアミノ、ヘキシルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ 、ジプロピルアミノ、ジブチルアミノ、ジイソプロピルアミノ、ジペンチルアミ ノ、ジヘキシルアミノ、N−メチルエチルアミノなどのモノまたはジ低級アルキ ルアミノが挙げられ、なかでも好ましいのはメチルアミノ、ジメチ ルアミノまたはジエチルアミノである。 好適な「低級アルキルヒドラジノ」としては、2−メチルヒドラジノ、2,2 −ジメチルヒドラジノ、2−エチルヒドラジノ、2,2−ジエチルヒドラジノな どの2−モノまたは2,2−ジ低級アルキルヒドラジノが挙げられ、なかでも好 ましいのは2,2−ジメチルヒドラジノである。 好適な「1−ヒドロキシ低級アルキル」としては、ヒドロキシメチル、1−ヒ ドロキシエチル、1−ヒドロキシプロピル、1−ヒドロキシブチル、1−ヒドロ キシ−3−メチルプロピルなどの1−ヒドロキシ(C1−C6)アルキルが挙げら れ、なかでも好ましいのはヒドロキシメチルまたは1−ヒドロキシエチルである 。 好適な「1−低級アルキルアミノ低級アルキル」としては、メチルアミノメチ ル、ジメチルアミノメチル、1−メチルアミノエチル、1−ジメチルアミノエチ ル、エチルアミノメチル、1−エチルアミノエチルなどの1−モノまたはジ(C1 −C6アルキル)アミノ(C1−C6)アルキルが挙げられ、なかでも好ましいの はメチルアミノメチル、ジメチルアミノメチル、1−メチルアミノエチルまたは 1−ジメチルアミノエチルである。 好適な「低級アルキルアミノ低級アルキル」としては、メチルアミノメチル、 ジメチルアミノメチル、ジメチルアミノエチルなどのモノまたはジ低級アルキル アミノ低級アルキルが挙げられる。 好適な「アミノ低級アルキル低級アルキルアミノ」としては、アミノメチルメ チルアミノ、アミノメチルエチルアミノ、アミノエチルメチルアミノ、アミノエ チルエチルアミノなどが挙げられ、なかでも好ましいのはアミノエチルメチルア ミノである。 好適な「低級アルキルアミノ低級アルキルアミノ」としては、メチルアミノエ チルアミノ、ジメチルアミノエチルアミノなどのモノまたはジ低級アルキルアミ ノ低級アルキルアミノが挙げられる。 好適な「N−保護された低級アルキルアミノ低級アルキルアミノ」としては、 N−第三級ブトキシカルボニルメチルアミノエチルアミノなどのN−第三級ブト キシカルボニル低級アルキルアミノ低級アルキルアミノが挙げられる。 好適な「N−保護されたアミノ低級アルキル(N’−低級アルキル)アミノ」 としては、N−第三級ブトキシカルボニルアミノエチル(N−メチル)アミノな どのN−第三級ブトキシカルボニルアミノ低級アルキル(N’−低級アルキル) アミノが挙げられる。 好適な「アミノ低級アルキル(N−低級アルキル)アミノ」としては、アミノ エチル(N−メチル)アミノなどが挙げられる。 好適な「低級アルキルアミノ低級アルキル(N−低級アルキル)アミノ」とし ては、ジメチルアミノエチル(N−メチル)アミノなどのモノまたはジ低級アル キルアミノ低級アルキル(N−低級アルキル)アミノが挙げられる。 好適な「低級アルコキシ低級アルキルアミノ」としては、メトキシエチルアミ ノなどが挙げられる。 好適な「アシルオキシ低級アルキル」としては、ピバロイルオキシメチルなど が挙げられる。 好適な「低級アルコキシ低級アルキル」としては、メトキシメチルなどが挙げ られる。 「保護されたヒドロキシ低級アルキル」なる表現における保護されたヒドロキ シ部分の「ヒドロキシ保護基」としては、置換または無置換アリールメチル(た とえばベンジル、低級アルコキシベンジルなど)、アシル、置換シリル(たとえ ば第三級ブチルジフェニルシリルなど)などの常用のヒドロキシ保護基が挙げら れる。 好適な「複素環基」は、窒素、硫黄および酸素の各原子のうちから選ばれた少 なくとも1個のヘテロ原子を含むものであって、それには飽和または不飽和の単 環式または縮合複素環基が包含され、好ましい複素環基としては、1〜4個の窒 素原子を含有する不飽和3〜6員複素単環基、たとえばピロリル、ピロリニル、 イミダゾリル、ピラゾリル、ピリジル、ピリミジニル、ピラジニル、ピリダジニ ル、トリアゾリル〔たとえば4H−1,2,4−トリアゾリル、1H−1,2, 3−トリアゾリル、2H−1,2,3−トリアゾリルなど〕、テトラゾリル〔た とえば1H−テトラゾリル、2H−テトラゾリルなど〕など; 1〜4個の窒素原子を含有する飽和3〜7員複素単環基〔たとえばピロリジニ ル、イミダゾリジニル、ピペリジル、ピペラジニル、ホモピペラジニルなど〕; 1〜5個の窒素原子を含有する飽和縮合複素環基、たとえばキヌクリジニルなど ; 1〜5個の窒素原子を含有する不飽和縮合複素環基、たとえばインドリル、イソ インドリル、インドリジニル、ベンゾイミダゾリル、キノリル、イソキノリル、 イミダゾピリジル〔たとえばイミダゾ〔4,5−b〕ピリジル、イミダゾ〔1,2 −a〕ピリジル、イミダゾ〔3,4−a〕ピリジルなど〕、プリニル、インダゾリ ル、ベンゾトリアゾリル、テトラゾロピリダジニル〔たとえばテトラゾロ〔1, 5−b〕ピリダジニルなど〕、インドリニル、テトラヒドロキノリル、キノキサ リニル、1H−インダゾリル、1H−ピラゾロ〔1,5−b〕〔1,2,4〕トリア ゾリル、キナゾリニルなど;などのN−含有複素環基; 1個の酸素原子を含有する不飽和3〜6員複素単環基、たとえばピラニル、フリ ルなど; 1個の酸素原子を含有する飽和3〜6員複素単環基、たとえば1H−テラヒドロ ピラニル、テラヒドロフラニルなど; 1〜2個の硫黄原子を含有する不飽和3〜6員複素単環基、たとえばチエニルな ど; 1〜2個の酸素原子と1〜3個の窒素原子とを含有する不飽和3〜6員複素単環 基、たとえばオキサゾリル、イソオキサゾリル、オキサジアゾリル〔たとえば1 ,2,4−オキサジアゾリル、1,3,4−オキサジアゾリル、1,2,5−オキサジ アゾリルなど〕、オキサゾリニル〔たとえば2,5−オキサゾリニルなど〕、オ キサジニル〔たとえば3H,4H,5H−2,6−オキサジニルなど〕など; 1〜2個の酸素原子と1〜3個の窒素原子とを含有する飽和3〜6員複素単環基 〔たとえばモルホリニルなど〕; 1〜2個の酸素原子と1〜3個の窒素原子とを含有する不飽和縮合複素環基〔た とえばベンゾフラザニル、ベンゾオキサゾリル、ベンゾオキサジアゾリル、ベン ゾオキサジニルなど〕; 1〜2個の硫黄原子と1〜3個の窒素原子とを含有する不飽和3〜6員複素単環 基、たとえばチアゾリル、チアジアゾリル〔たとえば1,2,4−チアジアゾリ ル、1,3,4−チアジアゾリル、1,2,5−チアジアゾリルなど〕など; 1〜2個の硫黄原子と1〜3個の窒素原子とを含有する飽和3〜6員複素単環基 〔たとえばチアゾリジニルなど〕; 1〜2個の硫黄原子と1〜3個の窒素原子とを含有する不飽和縮合複素環基〔た とえばベンゾチアゾリル、ベンゾチアジアゾリルなど〕; 1〜2個の酸素原子を含有する不飽和縮合複素環基〔たとえばベンゾフラニル、 ベンゾジオキソリルなど〕などが挙げられる。 該「複素環基」は、上に例示したごとき低級アルキルもしくはオキソで置換さ れたものおよびC2−C6アルキレンで置換されたスピロ型のものをも包含し、そ れらのうちでも好ましいのは、N−メチルピペラジニル、テトラゾリル、モルホ リニル、ピロリジニル、N−メチルピペリジル、N−メチルホモピペラジニル、 1H−テトラヒドロピラニル、チエニル、ピリジル、ピペリジル、オキソピペリ ジル、ピロリル、オキサゾリル、2,5−オキサゾリニル、4,4−ジメチル(2 ,5−オキサゾリニル)、1−アザ−3−オキサスピロ〔4.4〕ノン−1−エン −2−イル、3H,4H,5H−2,6−オキサジニルである。 好適な「縮合複素環基」は、上記した飽和または不飽和のものであり、なかで も好ましいのは、インドリル、ベンゾイミダゾリル、ベンゾオキサゾリル、ベン ゾトリアゾリル、イミダゾピリジル(たとえばイミダゾ〔4,5−b〕ピリジル 、イミダゾ〔1,2−a〕ピリジル、イミダゾ〔3,4−a〕ピリジルなど)、プリ ニル、インドリニル、テトラヒドロキノリル、キノキサリニル、1H−インダゾ リル、1H−ピラゾロ〔1,5−b〕〔1,2,4〕トリアゾリル、キナゾリニル、 2H−1,4−ベンゾオキサジン−3−オキソ−8−イルである。 好適な「アシル」ならびに「アシル低級アルキルスルフィニル」、「アシル低 級アルキルスルホニル」、「アシルオキシ」、「アシルオキシ低級アルキル」、 「アシルアミノ」、「アシル低級アルカノイルオキシ」、「アシル低級アルコキ シイミノ」、「アシル低級アルキルアミノ」、「N−保護されたアシル低級アル キルアミノ」、「N−アシル低級アルキル−N−低級アルキルアミノ」および「 アシル低級アルコキシ」なる表現における好適なアシル部分としては、カルボキ シ、エステル化されたカルボキシ、カルバモイル、低級アルキルカルバモイル、 低級アルカノイル、アロイル、複素環カルボニル、低級アルキルスルホニル、ア リールスルホニル、スルファモイル、低級アルキルスルファモイルなどが挙げら れる。 該エステル化されたカルボキシとしては、置換または無置換低級アルコキシカ ルボニル〔たとえばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカル ボニル、ブトキシカルボニル、第三級ブトキシカルボニル、ヘキシルオキシカル ボニル、2−ヨードエトキシカルボニル、2,2,2−トリクロロエトキシカルボ ニル、ジメチルアミノプロポキシカルボニル、ジメチルアミノエトキシカルボニ ルなど〕、置換または無置換アリールオキシカルボニル〔たとえばフェノキシカ ルボニル、4−ニトロフェノキシカルボニル、2−ナフチルオキシカルボニルな ど〕、置換または無置換アル低級アルコキシカルボニル〔たとえばベンジルオキ シカルボニル、フェネチルオキシカルボニル、ベンズヒドリルオキシカルボニル 、4−ニトロベンジルオキシカルボニル、3−メトキシ−4−ニトロベンジルオ キシカルボニルなど〕、N−含有複素環オキシカルボニル〔たとえばN−メチル ピペリジルオキシカルボニルなど〕などが挙げられる。 該低級アルキルカルバモイルとしては、メチルカルバモイル、エチルカルバモ イル、プロピルカルバモイル、ジメチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、 N−メチル−N−エチルカルバモイルなどのモノまたはジ低級アルキルカルバモ イルが挙げられる。 該低級アルカノイルとしては、ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル 、イソブチリル、バレリル、イソバレリル、ピバロイル、ヘキサノイル、トリフ ルオロアセチルなどの置換または無置換C1−C6アルカノイルが挙げられ、なか でも好ましいのはホルミルまたはアセチルである。 該アロイルとしては、ベンゾイル、ナフトイル、トルオイル、ジ第三級ブチル ベンゾイルなどが挙げられ、なかでも好ましいのはベンゾイルである。 該「複素環カルボニル」、「複素環オキシカルボニルアミノ」、「複素環カル バモイル」および「複素環スルホニル」なる表現における複素環部分としては、 複素環基として前記したごときものが挙げられる。 好ましい「複素環カルボニル」としては、N−含有複素環カルボニルが挙げら れる。 該「N−含有複素環カルボニル」としては、上記の複素環基中に少なくとも1 個の窒素原子を含有するものが挙げられ、なかでも好ましいのは、N−低級アル キルピペラジニルカルボニル(たとえばN−メチルピペラジニルカルボニルなど )、N−低級アルキルホモピペラジニルカルボニル(たとえばN−メチルホモピ ペラジニルカルボニルなど)、ピペラジニルカルボニル、ピロリジニルカルボニ ル、ピペリジルカルボニル、モルホリノカルボニル、低級アルキルピペリジルカ ルボニル(たとえばメチルピペリジルカルボニルなど)またはオキソピペリジル カルボニルである。 好適な「置換アシル」としては、アミノ、複素環基〔たとえばN−低級アルキ ルピペラジニル、ピリジルなど〕、低級アルキルスルホニルもしくはアリールス ルホニルで置換されたカルバモイル、置換低級アルキルカルバモイル〔たとえば N−低級アルキルアミノ−N−低級アルキルカルバモイル、ピリジル低級アルキ ルカルバモイル、モルホリノ低級アルキルカルバモイル、ビス(ヒドロキシ低級 アルキル)カルバモイル、ヒドロキシ低級アルキルカルバモイル、カルバモイル 低級アルキルカルバモイル、低級アルキルアミノ低級アルキルカルバモイル、N −低級アルキル−N−低級アルキルカルバモイルなど〕、置換N−含有複素環カ ルボニル〔たとえばトリフルオロアセチルピペラジニルカルボニル、ピリジルピ ペラジニルカルボニル、ヒドロキシピペリジルカルボニル、ジメチルアミノピペ リジルカルボニル、ジエチルアミノピペリジルカルボニル、カルバモイルピロリ ジニルカルボニル、ジメチルアミノピペラジニルカルボニル、ヒドロキシエトキ シエチルピペラジニルカルボニル、ピロリジニルカルボニルメチルピペラジニル カルボニルなど〕、N−保護されたN含有複素環カルボニル〔たとえばN−t− ブトキカルボニルピペリジルカルボニル、N−t−ブトキカルボニルピペラジニ ルカルボニルなど〕、N−保護されたアミノ低級アルカノイル、アミノ低級アル カノイル、ベンジルオキシベンゾイルなどが挙げられる。 「保護されたアミノ」における「N−保護基」としては、置換または無置換低 級アルカノイル〔たとえばホルミル、アセチル、プロピオニル、トリフルオロア セチルなど〕、フタロイル、低級アルコキシカルボニル〔たとえば第三級ブトキ シカルボニル、第三級アミルオキシカルボニルなど〕、置換または無置換アラル キルオキシカルボニル〔たとえばベンジルオキシカルボニル、p−ニトロベンジ ルオキシカルボニルなど〕、9−フルオレニルメトキシカルボニル、置換または 無置換アレーンスルホニル〔たとえばベンゼンスルホニル、トシルなど〕、ニト ロフェニルスルフェニル、アラルキル〔たとえばトリチル、ベンジルなど〕など の常用のN−保護基が挙げられ、なかでも好ましいのは、フタロイル、第三級ブ トキシカルボニルまたは9−フルオレニルメトキシカルボニルである。 「N−保護されたグアニジノ」における「N−保護基」としては、低級アルコ キシカルボニル〔たとえば第三級ブトキシカルボニルなど〕などの常用のN−保 護基が挙げられる。 好適な「酸残基」としては、ハロゲン〔たとえばフルオロ、クロロ、ブロモ、 ヨード〕、アレーンスルホニルオキシ〔たとえばベンゼンスルホニルオキシ、ト シルオキシなど〕、アルカンスルホニルオキシ〔たとえばメシルオキシ、エタン スルホニルオキシなど〕などが挙げられ、これらのなかでも好ましいのはハロゲ ンである。 好適な「低級アルキルスルホニル」としては、メチルスルホニル、エチルスル ホニル、プロピルスルホニルなどの(C1−C6)アルキルスルホニルが挙げられ 、なかでも好ましいのはメチルスルホニルである。 好適な「アリールスルホニル」としては、フェニルスルホニル、トリルスルホ ニルなどが挙げられる。 R1で表わされるアリールまたはYで表わされる縮合複素環基の置換基ならび にYで表わされる縮合複素環基の置換基としての低級アルキルの置換基は複数で あってもよく、かかる場合、それらの置換基は同一であっても異なっていてもよ い。 R1で表わされる好ましい「アリール」は、フェニルまたは低級アルキルで置 換されたフェニルである。 R1で表わされるアリールの置換基としての好ましい「複素環基」としては、 ピペリジノ、N−低級アルキルピペラジニル〔たとえばN−メチルピペラジニル など〕、モルホリノ、4,4−ジメチル(2,5−オキサゾリニル)、ピロリル、 2,5−オキサゾリル、2,5−オキサゾリニル、3H,4H,5H−2,6−オキ サジニルまたは1−アザ−3−オキサスピロ〔4.4〕ノン−1−エン−2−イ ルが挙げられる。 Yで表わされる縮合複素環基の置換基としての複素環低級アルキルにおける好 ましい「複素環基」としては、ピリジル、N−低級アルキルピペラジニル〔たと えばN−メチルピペラジニルなど〕、モルホリノ、イミダゾリル、ピロリジニル が挙げられる。 Yで表わされる縮合複素環基の置換基としての置換複素環低級アルキルにおけ る好ましい「置換複素環基」としては、モノまたはジ低級アルキルアミノピペリ ジル〔たとえばジメチルアミノピペリジルなど〕を含む低級アルキルアミノピペ リジルなどの置換ピペリジルなどが挙げられる。 好ましい化合物(I)は、R1がN−低級アルキルピペラジニルカルボニル置 換低級アルコキシで置換されたトリルであり、R2が低級アルキルであり、R3が 低級アルコキシであり、AがNHであって、Eが−C(=O)−であるか、もし くはAが単結合であって、Eが−C(=O)NH−であり、Xが−CH=CH−であり、 Yが、ヒドロキシ、アミノもしくはN−低級アルキルピペラジニルで置換されて いてもよい低級アルキルで置換されたベンゾイミダゾリルであるものである。 目的化合物(I)の医薬として許容される好適な塩は、慣用の無毒性塩であっ て、それらとしては、無機酸付加塩〔たとえば塩酸塩、臭化水素酸塩、硫酸塩、 燐酸塩など〕、有機酸付加塩〔たとえば蟻酸塩、酢酸塩、マレイン酸塩、トリフ ルオロ酢酸塩、酒石酸塩、メタンスルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、トルエ ンスルホン酸塩など〕などの酸付加塩、アルカリ金属塩〔たとえばナトリウム塩 、カリウム塩など〕、アルカリ土類金属塩〔たとえばカルシウム塩、マグネシウ ム塩など〕などの全属塩が挙げられる。 目的化合物(I)の製造法を以下に詳細に説明する。方法1 目的化合物(I)は、化合物(II)またはその塩を化合物(III)またはその カルボキシ基またはスルホ基における反応性誘導体もしくはそれらの塩と反応さ せ ることにより、製造できる。 化合物(Ia)および(II)の好適な塩としては、化合物(I)について例示 したものと同じものが挙げられる。 化合物(III)およびそのカルボキシ基またはスルホ基における反応性誘導体 の好適な塩としては、化合物(I)について例示したものと同じものが挙げられ る。 化合物(III)のカルボキシ基またはスルホ基における好適な反応性誘導体と しては、酸ハロゲン化物、分子内、分子間および混合酸無水物を含めての酸無水 物、活性アミド、活性エステルなどが挙げられる。それら反応性誘導体の好適な 例としては、酸塩化物;酸アジド;置換燐酸〔たとえばジアルキル燐酸、フェニ ル燐酸、ジフェニル燐酸、ジベンジル燐酸、ハロゲン化燐酸など〕、ジアルキル 亜燐酸、亜硫酸、チオ硫酸、硫酸、スルホン酸〔たとえばメタンスルホン酸など 〕、脂肪族カルボン酸〔たとえば酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、ピバル 酸、ペンタン酸、イソペンタン酸、2−エチル酪酸、トリクロロ酢酸など〕、芳 香族カルボン酸〔たとえば安息香酸など〕などの酸との混合酸無水物;対称酸無 水物:イミダゾール、4−置換イミダゾール、ジメチルピラゾール、トリアゾー ルもしくはテトラゾールとの活性アミド;活性エステル〔たとえばエチルエステ ル、シアノメチルエステル、メトキシメチルエステル、ジメチルイミノメチル〔 (CH32N+=CH−〕エステル、分子内トリフルオロメチル置換イミノメチルエス テル、ビニルエステル、プロパルギルエステル、p−ニトロフェニルエステル、 2,4−ジニトロフェニルエステル、トリクロロフェニルエステル、ペンタクロ ロフェニルエステル、メシルフェニルエステル、フェニルアゾフェニルエステル 、フェニルチオエステル、p−ニトロフェニルチオエステル、p−クレジルチオ エステル、カルボキシメチルチオエステル、ピラニルエステル、ピリジルエステ ル、ピペリジルエステル、8−キノリルチオエステルなど〕、N−ヒドロキシ化 合物〔たとえばN,N−ジメチルヒドロキシルアミン、1−ヒドロキシ2(1H )−ピリドン、N−ヒドロキシスクシンイミド、N−ヒドロキシフタルイミド、 1−ヒドロキシ−1H−ベンゾトリアゾールなど〕とのエステルなどが挙げられ る。これらの反応性誘導体は、使用する化合物(III)の種類に応じて、そ れらのうちから適宜選択できる。 反応は、通常、水、アルコール〔たとえばメタノール、エタノールなど〕、ア セトン、ジオキサン、アセトニトリル、クロロホルム、塩化メチレン、塩化エチ レン、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、N,N−ジメチルホルムアミド、ピリ ジンなどの慣用の溶媒もしくは反応に悪影響を及ぼさないその他の任意の有機溶 媒中で実施する。これら慣用の溶媒は、水との混合物として使用することもでき る。 この反応において、化合物(III)を遊離酸の形もしくはその塩の形で使用す るときには、N,N’−ジシクロヘキシルカルボジイミド;N−シクロヘキシル −N’−モルホリノエチルカルボジイミド;N−シクロヘキシル−N’−(4− ジメチルアミノシクロヘキシル)カルボジイミド;N,N’−ジエチルカルボジ イミド、N,N’−ジイソプロピルカルボジイミド;N−エチル−N’−(3− ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド;N,N’−カルボニルビス(2−メ チルイミダゾール);ペンタメチレンケテン−N−シクロヘキシルイミン;ジフ ェニルケテン−N−シクロヘキシルイミン;エトキシアセチレン;1−アルコキ シ−1−クロロエチレン;亜燐酸トリアルキル;ポリ燐酸エチル;ポリ燐酸イソ プロピル;オキシ塩化燐(塩化ホスホリル);三塩化燐;ジフェニルホスホリル アジド;クロロ燐酸ジフェニル;ジフェニルホスフィン酸クロリド;塩化チオニ ル;塩化オキサリル;ハロ蟻酸低級アルキル〔たとえばクロロ蟻酸エチル、クロ ロ蟻酸イソプロピルなど〕;トリフェニルホスフィン;2−エチル−7−ヒドロ キシベンゾイソオキサゾリウム塩;水酸化2−エチル−5−(m−スルホフェニ ル)イソオキサゾリウム分子内塩;1−(p−クロロベンゼンスルホニルオキシ )−6−クロロ−1H−ベンゾトリアゾール;N,N−ジメチルホルムアミドと 塩化チオニル、ホスゲン、クロロ蟻酸トリクロロメチル、オキシ塩化燐などとの 反応によって調製されるいわゆるヴィルスマイヤー試薬など;などの慣用の縮合 剤の存在下で反応を実施するのが好ましい。 重炭酸アルカリ金属、トリ低級アルキルアミン、ピリジン、4−ジメチルアミ ノピリジン、N−低級アルキルモルホリン、N,N−ジ低級アルキルベンジルア ミンなどの無機または有機塩基の存在下で、反応を実施してもよい。 反応温度はとくに限定されず、通常、冷却下ないし加熱下で反応を実施する。 この反応において、R1がフタルイミド置換アリールである化合物(II)を使 用する場合には、反応条件によっては、アミノ置換アリールを有する化合物(I a)が得られることもある。 この場合も、この反応の範囲に含まれるものである。方法2 目的化合物(Ic)またはその塩は、化合物(Ib)またはその塩を化合物(I V)と、塩基の存在下に反応させることにより、製造できる。 化合物(Ib)および(Ic)の好適な塩としては、化合物(I)について例 示したものと同じものが挙げられる。 好適な塩基としては、アルカリ金属(たとえばナトリウム、カリウムなど)、 アルカリ金属水素化物(たとえば水素化ナトリウムなど)、アルカリ金属アルコ キシド(たとえばカリウム第三級ブトキシドなど)などが挙げられる。 反応は、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン、ジオキサン、 これらの混合物または反応に悪影響を及ぼさないその他の任意の溶媒中で実施す る。 反応温度はとくに限定されないが、通常は、冷却下ないし加温下で反応を実施 する。方法3 目的化合物(Ie)またはその塩は、化合物(Id)またはその塩を還元に付 すことによって製造できる。 化合物(Id)および(Ie)の好適な塩としては、化合物(I)について例 示したものと同じものが挙げられる。 還元法としては、化学還元および接触還元が挙げられ、それらは常法によって 実施する。 化学還元に使用する好適な還元剤は、金属〔たとえば錫、亜鉛、鉄、ニッケル など〕、かかる金属および/もしくは金属化合物〔たとえば塩化ニッケル、塩化 クロム、酢酸クロムなど〕と有機酸もしくは無機酸〔たとえば蟻酸、酢酸、プロ ピオン酸、トリフルオロ酢酸、p−トルエンスルホン酸、塩酸、臭化水素酸な ど〕との組合せ、かかる金属および/もしくは金属化合物と塩基〔たとえばアン モニア、塩化アンモニウム、水酸化ナトリウムなど〕との組合せ、水素化アルミ ニウム化合物〔たとえば水素化アルミニウムリチウム、水素化アルミニウムナト リウム、水素化アルミニウム、水素化トリメトキシアルミニウムリチウム、水素 化トリ−t−ブトキシアルミニウムリチウムなど〕などの金属水素化物、水素化 硼素化合物〔たとえば水素化硼素ナトリウム、水素化硼素リチウム、水素化シア ノ硼素ナトリウム、水素化硼素テトラメチルアンモニウム、ボラン、ジボランな ど〕、燐化合物〔たとえば三塩化燐、三臭化燐、トリフェニルホスフィン、トリ エチルホスフィンなど〕などである。 接触還元に使用するのに好適な触媒は、白金触媒〔たとえば白金板、海綿状白 金、白金黒、コロイド白金、酸化白金、白金線など〕、パラジウム触媒〔たとえ ば海綿状パラジウム、パラジウム黒、酸化パラジウム、パラジウム炭、コロイド パラジウム、パラジウム/硫酸バリウム、パラジウム/炭酸バリウムなど〕、ニ ッケル触媒〔たとえば還元ニッケル、酸化ニッケル、ラネーニッケルなど〕、コ バルト触媒〔たとえば還元コバルト、ラネーコバルトなど〕、鉄触媒〔たとえば 還元鉄、ラネー鉄など〕、銅触媒〔たとえば還元銅、ラネー銅、ウルマン銅など 〕などの慣用のものである。 還元は、通常、溶媒中で実施する。使用するのに適した溶媒としては、水、ア ルコール〔たとえばメタノール、エタノール、プロパノールなど〕、アセトニト リル、その他、反応に悪影響を及ぼさない慣用の有機溶媒、たとえばジエチルエ ーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランなど、もしくはそれらの混合物が挙げ られる。 反応温度はとくに限定されず、冷却下ないし加熱下に反応を実施するのが好ま しい。方法4 目的化合物(If)またはその塩は、化合物(Ie)またはその塩をハロゲン 化アロイル、シアノ低級アルキルカルボン酸、メルカプト低級アルキルカルボン 酸、低級アルキルラクトン、1,1−ジハロ−1,1−ジフェノキシメタン、N− スルファモイルカルボンイミド酸ジフェニル、N−シアノカルボンイミド酸ジ フェニル、ジシアンジアミド、1,1’−チオカルボニルジイミダゾール、臭化 シアン、低級アルコキシカルボニルイソチオシアナート、オルト蟻酸トリ低級ア ルキル、オルト炭酸テトラ低級アルキル、低級アルキルカルボン酸、ハロ低級ア ルキルカルボン酸、保護されたアミノ低級アルキルカルボン酸ハロゲン化物また は複素環低級アルキルカルボニルハロゲン化物と反応させることによって製造で きる。 化合物(Ie)および(If)の好適な塩としては、化合物(I)について例 示したものと同じものが挙げられる。 反応は、無溶媒下で、または水、塩酸、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、ア セトニトリル、ベンゼン、酢酸、ジクロロメタン、ピリジン、アルコール(たと えばメタノール、エタノール、イソプロパノールなど)などの溶媒、これらの混 合物または反応に悪影響を及ぼさないその他の任意の溶媒中で、実施する。 反応を、塩基(たとえば炭酸ナトリウムなど)またはN,N’−ジシクロヘキ シルカルボジイミド、p−トルエンスルホン酸などの慣用の縮合剤の存在下で実 施することも好ましい。 この反応の反応温度はとくに限定されず、通常、冷却下ないし加熱下で反応を 実施する。方法5 目的化合物(Ig)またはその塩は、化合物(Ie)またはその塩をグリオキ サールおよび亜硫酸水素ナトリウム、または亜硝酸ナトリウムと反応させること によって製造できる。 化合物(Ie)および(Ig)の好適な塩としては、化合物(I)について例 示したものと同じものが挙げられる。 反応は、通常、水、酢酸、アルコール(たとえばメタノール、エタノールなど )などの溶媒、これらの混合物または反応に悪影響を及ぼさないその他の任意の 溶媒中で実施する。 この反応の反応温度はとくに限定されず、通常、冷却下ないし加熱下で反応を 実施する。方法6 目的化合物(Ih)またはその塩は、化合物(Ib)またはその塩をアシル化 剤と反応させることによって製造できる。 化合物(Ib)および(Ih)の好適な塩としては、化合物(I)について例 示したものと同じものが挙げられる。 アシル化剤としては、式:R7−OH(ここに、R7は上で例示した通りのアシル である)で表わされる有機酸またはその反応性誘導体が挙げられる。 有機酸の好適な反応誘導体としては、酸ハロゲン化物〔たとえば酸塩化物、酸 臭化物など〕、酸アジド、分子内無水物・分子間無水物を含めての酸無水物、活 性アミド、活性エステルなどの慣用のものが挙げられる。 アシル化剤として遊離の酸を用いるときには、N,N’−ジシクロヘキシルカ ルボジイミドなどの慣用の縮合剤の存在下でアシル化反応を好ましく実施するこ とができる。 反応は、通常、水、ピリジン、アセトン、ジオキサン、クロロホルム、塩化メ チレン、アセトニトリル、塩化エチレン、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、N ,N−ジメチルホルムアミド、ピリジンなどの慣用の溶媒または反応に悪影響を 及ぼさないその他の任意の溶媒、またはこれらの混合物中で実施する。 トリエチルアミン、ピリジン、N,N−ジメチルアミノピリジン、水酸化ナト リウムなどの慣用の塩基の存在下で反応を実施することも好ましい。 反応温度はとくに限定されず、冷却下ないし加熱下で反応を実施することがで きる。方法7 目的化合物(Ij)またはその塩は、化合物(Ii)またはその塩をN−置換 基脱離反応に付すことによって製造できる。 化合物(Ii)および(Ij)の好適な塩としては、化合物(I)について例 示したものと同じものが挙げられる。 反応は、加水分解、還元などの常法に従って実施する。 N−置換基がアシル、アシルオキシメチルまたは低級アルコキシアリールメチ ルである場合、反応を加水分解に従って実施するのが好ましく、N−置換基がア リールメチルである場合には、反応を還元法に従って実施するのが好ましい。 加水分解は、塩基もしくはルイス酸を含めての酸の存在下で実施するのが好ま しい。 好適な塩基としては、アルカリ金属〔たとえばナトリウム、カリウムなど〕、 アルカリ土類金属〔たとえばマグネシウム、カルシウムなど〕、これらの水酸化 物、炭酸塩、重炭酸塩もしくは低級アルコキシド、ヒドラジン、アルキルアミン 〔たとえばメチルアミン、トリメチルアミン、トリエチルアミンなど〕、ピコリ ン、1,5−ジアザビシクロ〔4.3.0〕ノン−5−エン、1,4−ジアザビシク ロ〔2.2.2〕オクタン、1,8−ジアザビシクロ〔5.4.0〕ウンデク−7− エンなどの無機塩基および有機塩基が挙げられる。 好適な酸としては、有機酸〔たとえば蟻酸、酢酸、プロピオン酸、トリクロロ 酢酸、トリフルオロ酢酸など〕、無機酸〔たとえば塩酸、臭化水素酸、硫酸、塩 化水素、臭化水素、弗化水素など〕および酸付加塩化合物〔たとえばピリジン塩 酸塩など〕が挙げられる。 トリハロ酢酸〔たとえばトリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸など〕などを用い ての脱離は、カチオン捕捉剤〔たとえばアニソール、フェノールなど〕の存在下 で実施することが好ましい。 反応は、通常、水、アルコール〔たとえばメタノール、エタノールなど〕、塩 化メチレン、クロロホルム、テトラクロロメタン、テトラヒドロフラン、これら の混合物などの溶媒または反応に悪影響を及ぼさないその他の任意の溶媒中で実 施する。液状の塩基または酸は、溶媒としても使用できる。反応温度はとくに限 定されず、通常、冷却下ないし加熱下で反応を実施する。 該脱離反応に適用しうる還元法としては、化学還元および接触還元が挙げられ る。 化学還元に使用するのに好適な還元剤は、金属〔たとえば錫、亜鉛、鉄など〕 または金属化合物〔たとえば塩化クロム、酢酸クロムなど〕と有機酸もしくは無 機酸〔たとえば蟻酸、酢酸、プロピオン酸、トリフルオロ酢酸、p−トルエンス ルホン酸、塩酸、臭化水素酸など〕との組合せである。 接触還元に使用するのに好適な触媒は、白金触媒〔たとえば白金板、海綿状白 金、白金黒、コロイド白金、酸化白金、白金線など〕、パラジウム触媒〔たとえ ば海綿状パラジウム、パラジウム黒、酸化パラジウム、パラジウム炭、コロイド パラジウム、パラジウム/硫酸バリウム、パラジウム/炭酸バリウムなど〕、ニ ッケル触媒〔たとえば還元ニッケル、酸化ニッケル、ラネーニッケルなど〕、コ バルト触媒〔たとえば還元コバルト、ラネーコバルトなど〕、鉄触媒〔たとえば 還元鉄、ラネー鉄など〕、銅触媒〔たとえば還元銅、ラネー銅、ウルマン銅など 〕などの慣用のものである。 N−置換基がベンジルである場合には、還元は、パラジウム触媒〔たとえばパ ラジウム黒、パララジウム炭など〕と蟻酸またはその塩〔たとえば蟻酸アンモニ ウムなど〕との組合せの存在下で実施することが好ましい。 該還元は、通常、水、メタノール、エタノール、プロパノール、N,N−ジメ チルホルムアミド、それらの混合物などの、反応に悪影響を及ぼさない慣用の溶 媒中で実施する。なお、上記化学還元に使用する酸が液状である場合には、それ らを溶媒として使用することもできる。また、接触還元に使用するのに好適な溶 媒としては、上記の溶媒のはか、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロ フランまたはこれらの混合物などの他の慣用の溶媒が挙げられる。 この還元の反応温度はとくに限定されず、通常、冷却下ないし加熱下で反応を 実施する。 この反応において、Yhが(N−低級アルコキシカルボニル)フタルイミド低 級アルキルインドリル、(N−低級アルコキシカルボニル)低級アルキルアミノ 低級アルキルアミノ(N−低級アルコキシカルボニル)ベンゾイミダゾリルまた はN−低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル(N−低級アルキル)アミ ノ(N−低級アルコキシカルボニル)ベンゾイミダゾリルである化合物(Ii) を用いる場合は、反応条件によっては、Yiがアミノ低級アルキルインドリル、 低級アルキルアミノ低級アルキルアミノベンゾイミダゾリルまたはアミノ低級ア ルキル(N−低級アルキル)アミノベンゾイミダゾリルである化合物(Ij)が 得られることがある。この場合もこの反応の範囲内に含まれるものである。方法8 目的化合物(Il)またはその塩は、化合物(Ik)またはその塩をN−保護 基脱離反応に付すことによって製造できる。 化合物(Ik)および(Il)の好適な塩としては、化合物(I)について例 示したものと同じものが挙げられる。 この反応は、方法7と実質的に同様にして実施でき、それゆえ、この反応の反 応態様および反応条件(たとえば溶媒、反応温度など)については、方法7での 説明を参照されたい。方法9 目的化合物(In)またはその塩は、化合物(Im)またはその塩を脱エステ ル反応に付すことによって製造できる。 化合物(Im)および(In)の好適な塩としては、化合物(I)について例 示したものと同じものが挙げられる。 反応は、加水分解、還元などの常法に従って実施する。 加水分解は、塩基もしくはルイス酸を含めての酸の存在下で実施するのが好ま しい。好適な塩基としては、アルカリ金属〔たとえばリチウム、ナトリウム、カ リウムなど〕、アルカリ土類金属〔たとえばマグネシウム、カルシウムなど〕、 これらの水酸化物、炭酸塩もしくは重炭酸塩、トリアルキルアミン〔たとえばト リメチルアミン、トリエチルアミンなど〕、ピコリン、1,5−ジアザビシクロ 〔4.3.0〕ノン−5−エン、1,4−ジアザビシクロ〔2.2.2〕オクタン、 1,8−ジアザビシクロ〔5.4.0〕ウンデク−7−エンなどの無機塩基および 有機塩基が挙げられる。好適な酸としては、有機酸〔たとえば蟻酸、酢酸、プロ ピオン酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸など〕、無機酸〔たとえば塩酸、 臭化水素酸、沃化水素酸、硫酸など〕およびルイス酸〔たとえば三臭化硼素など 〕が挙げられる。 反応は、通常、水、アルコール〔たとえばメタノール、エタノールなど〕、キ シレン、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、塩化メチレン、テトラヒド ロフラン、これらの混合物などの溶媒または反応に悪影響を及ぼさないその他の 任意の溶媒中で実施する。液状の塩基または酸は溶媒としても使用できる。 反応温度はとくに限定されないが、通常は、冷却下ないし加温下で反応を実施 する。 還元は、4−ニトロベンジル、2−ヨードエチル、2,2,2−トリクロロエチ ルなどのエステル部分の脱離に好ましく適用できる。この脱離反応に適用しうる 還元法としては、化学還元および接触還元が挙げられる。 化学還元に使用するのに好適な還元剤は、金属〔たとえば錫、亜鉛、鉄、パラ ジウム黒など〕もしくは金属化合物〔たとえば塩化クロム、酢酸クロムなど〕と 有機酸もしくは無機酸〔たとえば蟻酸、酢酸、プロピオン酸、トリフルオロ酢酸 、カルバミド酸、p−トルエンスルホン酸、塩酸、臭化水素酸など〕との組合せ である。 接触還元に使用するのに好適な触媒は、白金触媒〔たとえば白金板、海綿状白 金、白金黒、コロイド白金、酸化白金、白金線など〕、パラジウム触媒〔たとえ ば海綿状パラジウム、パラジウム黒、酸化パラジウム、水酸化パラジウム、パラ ジウム炭、コロイドパラジウム、パラジウム/硫酸バリウム、パラジウム/炭酸 バリウムなど〕、ニッケル触媒〔たとえば還元ニッケル、酸化ニッケル、ラネー ニッケルなど〕、コバルト触媒〔たとえば還元コバルト、ラネーコバルトなど〕 、鉄触媒〔たとえば還元鉄、ラネー鉄など〕、銅触媒〔たとえば還元銅、ラネー 銅、ウルマン銅など〕などの慣用のものである。 該還元は、通常、水、アルコール〔たとえばメタノール、エタノール、プロパ ノールなど〕、N,N−ジメチルホルムアミド、これらの混合物などの慣用の溶 媒中で実施する。なお、上記の化学還元に使用する酸が液状である場合には、そ れらを溶媒として用いることもできる。また、接触還元に使用すべき好適な溶媒 としては、上記の溶媒のほか、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフ ランなどの他の慣用の溶媒もしくはこれらの混合物が挙げられる。 この還元の反応温度はとくに限定されないが、通常は、冷却下ないし加温下で 反応を実施する。方法10 目的化合物(Io)またはその塩は、化合物(In)またはそのカルボキシ基 における反応性誘導体もしくはそれらの塩をアミンまたはその塩と反応させるこ とによって製造できる。 アミンの好適な塩としては、化合物(I)について例示したごとき酸付加塩が 挙げられる。 化合物(In)および(Io)ならびに(In)のカルボキシ基における反応 性誘導体の好適な塩としては、化合物(I)について例示したものと同じものが 挙げられる。 好適な「アミン」としては、アンモニア、置換または無置換低級アルキルアミ ン、置換または無置換N−含有複素環式化合物などが挙げられる。 該置換または無置換低級アルキルアミンとしては、モノまたはジ低級アルキル アミン)たとえばメチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、イソプロピル アミン、ブチルアミン、イソブチルアミン、ペンチルアミン、ヘキシルアミン、 ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジプロピルアミン、ジブチルアミン、ジイソ プロピルアミン、ジペンチルアミン、ジヘキシルアミンなど)、ピリジル低級ア ルキルアミン(たとえばピリジルメチルアミンなど)、低級アルキルアミノ低級 アルキルアミン(たとえばN−ジメチルアミノエチルアミン、N−ジメチルアミ ノプロピルアミン、N−ジエチルアミノエチル−N−メチルアミンなど)、モル ホリノ低級アルキルアミン(たとえばモルホリノエチルアミンなど)などが挙げ られる。 該置換または無置換N−含有複素環式化合物としては、アミノで置換された複 素環式化合物(たとえばアミノピリジン、N−メチル−N’−アミノピペラジン など)、N−含有、またはN−およびS−含有、またはN−およびO−含有飽和 5または6員複素環式化合物、たとえばピロリジン、イミダゾリジン、ピペリジ ン、ピペリドン、ピペラジン、低級アルキルアミノピペリジン(たとえばジメチ ルアミノピペリジンなど)、N−低級アルキルホモピペラジン(たとえばN−メ チルホモピペラジンなど)、N−低級アルキルピペラジン(たとえばN−メチル ピペラジン、N−エチルピペラジンなど)、モルホリン、チオモルホリン、N− ピリジルピペラジン、N−ヒドロキシ低級アルコキシ低級アルキルピペラジン( たとえばN−ヒドロキシエトキシエチルピペラジンなど)、N−ピロリジニルカ ルボニル低級アルキルピペラジン(たとえばN−ピロリジニルカルボニルメチル ピペラジンなど)などが挙げられ、なかでも好ましいのはN−メチルピペラジン である。 この反応は、方法1と実質的に同様にして実施でき、従って、この反応の反応 態様および反応条件(たとえば溶媒、反応温度など)に関しては、方法1での説 明を参照されたい。方法11 目的化合物(Iq)またはその塩は、化合物(Ip)またはその塩を脱メチル 反応またはヒドロキシ保護基脱離反応に付すことによって製造できる。 化合物(Ip)および(Iq)の好適な塩としては、化合物(I)について例 示したものと同じものが挙げられる。 この反応は、方法7と実質的に同様にして実施でき、従って、この反応の反応 態様および反応条件(たとえば溶媒、反応温度など)に関しては、方法7での説 明を参照されたい。 ヒドロキシ保護基が第三級ブチルジフェニルシリルである場合には、弗化テト ラブチルアンモニウムの存在下で反応を実施するのが好ましい。方法12 目的化合物(Is)またはその塩は、化合物(Ir)またはその塩をアシル化 剤と反応させることによって製造できる。 化合物(Ir)および(Is)の好適な塩としては、化合物(I)について例 示したものと同じものが挙げられる。 この反応は、方法6と実質的に同様にして実施でき、従って、この反応の反応 態様および反応条件(たとえば溶媒、反応温度など)に関しては、方法6での説 明を参照されたい。方法13 目的化合物(It)またはその塩は、化合物(Ib)またはその塩をハロゲン 化N−低級アルキルメチレンアンモニウムと反応させることによって製造するこ と ができる。 化合物(Ib)および(It)の好適な塩としては、化合物(I)について例 示したものと同じものが挙げられる。 好適なハロゲン化N−低級アルキルメチレンアンモニウムとしては、N−モノ またはジ低級アルキルメチレンアンモニウム、たとえば塩化N−メチルメチレン アンモニウム、塩化N,N−ジメチルメチレンアンモニウムなどが挙げられ、な かでも好ましいのは塩化N,N−ジメチルメチレンアンモニウムである。 反応は、通常、クロロホルム、塩化メチレンなどの、反応に悪影響を及ぼさな い慣用の溶媒中で実施する。 反応温度はとくに限定されず、一般に、冷却下ないし加熱下で反応を実施する 。方法14 目的化合物(Iv)またはその塩は、化合物(Iu)またはその塩を酸化反応 に付すことによって製造できる。 化合物(Iu)および(Iv)の好適な塩としては、化合物(I)について例 示したものと同じものが挙げられる。 この反応に使用すべき好適な酸化剤としては、二酸化マンガン、ジメチルスル ホキシド、ジメチルスルホキシドと塩化オキサリルとの混合物またはジメチルス ルホキシドと三酸化硫黄−ピリジン複合体との混合物などが挙げられる。 反応は、通常、ペンタン、ヘキサン、ベンゼン、ジエチルエーテル、ジメトキ シエタン、アセトン、クロロホルム、ジクロロメタンなどの慣用の溶媒または反 応に悪影響を及ぼさないその他の任意の溶媒中で実施する。 なお、上記酸化剤が液体である場合には、それを溶媒として使用することがで きる。 この反応において、ジメチルスルホキシドまたはジメチルスルホキシドと塩化 オキサリルとの混合物またはジメチルスルホキシドと三酸化硫黄−ピリジン複合 体との混合物を酸化剤として用いる場合には、アルカリ金属沃化物(たとえば沃 化ナトリウムなど)およびアルカリ金属炭酸塩(たとえば炭酸ナトリウムなど) またはトリ低級アルキルアミン(たとえばトリエチルアミンなど)の存在下で反 応を実施することが好ましい。 反応温度はとくに限定されず、一般に、冷却下ないし加熱下で反応を実施する 。方法15 目的化合物(Ix)またはその塩は、化合物(Iw)またはその塩を脱エステ ル反応に付すことによって製造できる。 化合物(Iw)および(Ix)の好適な塩としては、化合物(I)について例 示したものと同じものが挙げられる。 この反応は、方法9と実質的に同様にして実施でき、従って、この反応の反応 態様および反応条件(たとえば溶媒、反応温度など)については、方法9で説明 したところを参照されたい。方法16 目的化合物(Iz)またはその塩は、化合物(Iy)またはその塩をアリール もしくは置換アリールで置換されたメチルの脱離反応に付すことによって製造で きる。 化合物(Iy)および(Iz)の好適な塩としては、化合物(I)について例 示したものと同じものが挙げられる。 この反応は、方法11と実質的に同様にして実施でき、従って、この反応の反応 態様および反応条件(たとえば溶媒、反応温度など)については、方法11で説明 したところを参照されたい。方法17 目的化合物(I−1)またはその塩は、化合物(Ix)またはそのカルボキシ 基における反応性誘導体もしくはそれらの塩をアミンまたはその塩と反応させる ことによって製造できる。 化合物(Ix)および(I−1)の好適な塩としては、化合物(I)について 例示したものと同じものが挙げられる。 アミンの好適な塩としては、化合物(I)について例示したごとき酸付加塩が 挙げられる。 好適な「アミン」としては、N−保護されたピペラジン、オキソピペリジン、 低級アルキルアミン(たとえばジメチルアミンなど)、アンモニア、低級アルキ ルアミノアミン(たとえばN,N−ジメチルヒドラジンなど)、低級アルキルア ミノ低級アルキル(N−低級アルキル)アミン(たとえばジメチルアミノエチル (N−メチル)アミンなど)などが挙げられる。 この反応は、方法1と実質的に同様にして実施でき、従って、この反応の反応 態様および反応条件(たとえば溶媒、反応温度など)については、方法1で説明 したところを参照されたい。方法18 目的化合物(I−3)またはその塩は、化合物(I−2)またはその塩を還元 剤と反応させることによって製造できる。 化合物(I−2)および(I−3)の好適な塩としては、化合物(I)につい て例示したものと同じものが挙げられる。 好適な還元剤としては、水素化硼素アルカリ金属(たとえば水素化硼素ナトリ ウムなど)などが挙げられる。 反応は、アルコール(たとえばメタノール、エタノールなど)、テトラヒドロ フランなどの溶媒中で実施する。 反応温度はとくに限定されないが、通常は、冷却下ないし加温下で反応を実施 する。方法19 目的化合物(I−4)またはその塩は、化合物(Iz)またはその塩をアシル 化剤と反応させることによって製造できる。 化合物(Iz)および(I−4)の好適な塩としては、化合物(I)について 例示したものと同じものが挙げられる。 この反応は、方法6と実質的に同様にして実施でき、従って、この反応の反応 態様および反応条件(たとえば溶媒、反応温度など)については、方法6で説明 したところを参照されたい。方法20 目的化合物(I−5)またはその塩は、化合物(Iz)またはその塩を化合物 (V)と反応させることによって製造できる。 化合物(Iz)および(I−5)の好適な塩としては、化合物(I)について 例示したものと同じものが挙げられる。 Z2がハロゲンである化合物(V)をこの反応に使用するときには、アルカリ 金属(たとえばナトリウム、カリウムなど)、アルカリ土類金属(たとえばマグ ネシウム、カルシウムなど)、それらの水素化物、水酸化物、炭酸塩もしくは重 炭酸塩の存在下で反応を実施することが好ましい。 反応は、通常、水、ジオキサン、アルコール(たとえばメタノール、エタノ− ルなど)、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、酢酸、N,N−ジメチルホル ムアミド、これらの混合物などの慣用の溶媒中で実施する。 反応温度はとくに限定されず、一般に、冷却下ないし加熱下で反応を実施する 。方法21 目的化合物(I−6)またはその塩は、化合物(I−5)またはその塩をN− 保護基脱離反応に付すことによって製造できる。 化合物(I−5)および(I−6)の好適な塩としては、化合物(I)につい て例示したものと同じものが挙げられる。 この反応は、方法8と実質的に同様にして実施でき、従って、この反応の反応 態様および反応条件(たとえば溶媒、反応温度など)については、方法8で説明 したところを参照されたい。方法22 目的化合物(I−7)またはその塩は、化合物(I−6)またはその塩をアシ ル化剤と反応させることによって製造できる。 化合物(I−6)および(I−7)の好適な塩としては、化合物(I)につい て例示したものと同じものが挙げられる。 この反応は、方法6と実質的に同様にして実施でき、従って、この反応の反応 態様および反応条件(たとえば溶媒、反応温度など)については、方法6で説明 したところを参照されたい。方法23 目的化合物(I−8)またはその塩は、化合物(I−6)またはその塩を還元 剤 の存在下で低級アルカナールと反応させることによって製造できる。 化合物(I−6)および(I−8)の好適な塩としては、化合物(I)につい て例示したものと同じものが挙げられる。 好適な低級アルカナールとしては、ホルムアルデヒド、エタナール、プロパナ ールなどのC1−C6アルカナールが挙げられ、なかでも好ましいのはホルムアル デヒドである。 好適な還元剤としては、ジボラン、ボラン一有機アミン複合体〔たとえばボラ ンーピリジン複合体など〕、水素化シアノ硼素アルカリ金属〔たとえば水素化シ アノ硼素ナトリウム、水素化シアノ硼素リチウムなど〕、水素化硼素ナトリウム などが挙げられる。 反応は、モレキュラーシーブの存在下で実施することが好ましい。 反応は、通常、水、アルコール〔たとえばメタノール、エタノールなど〕、ジ オキサン、テトラヒドロフラン、これらの混合物などの慣用の溶媒または反応に 悪影響を及ぼさないその他の任意の溶媒中で実施する。 酸性条件下〔たとえば酢酸、硫酸の存在など〕で反応を実施することもでき、 反応温度はとくに限定されないが、通常は、冷却下ないし加温下で反応を実施す る。方法24 目的化合物(I−10)またはその塩は、化合物(I−9)またはその塩を還元 に付すことによって製造できる。 化合物(I−9)および(I−10)の好適な塩としては、化合物(I)につい て例示したものと同じものが挙げられる。 還元には化学還元および接触還元が包含され、これらは常法によって実施でき る。 化学還元に使用すべき好適な還元剤は、金属〔たとえば錫、亜鉛、鉄、ニッケ ルなど〕、かかる金属および/もしくは金属化合物〔たとえば塩化ニッケル、塩 化クロム、酢酸クロムなど〕と有機酸もしくは無機酸〔たとえば蟻酸、酢酸、プ ロピオン酸、トリフルオロ酢酸、p−トルエンスルホン酸、塩酸、臭化水素酸な ど〕との組合せ、かかる金属および/もしくは金属化合物と塩基〔たとえばアン モニア、塩化アンモニウム、水酸化ナトリウムなど〕との組合せ、水素化金属化 合物、たとえば水素化アルミニウム化合物〔たとえば水素化アルミニウムリチウ ム、水素化アルミニウムナトリウム、水素化アルミニウム、水素化トリメトキシ アルミニウムリチウム、水素化トリ第三級ブトキシアルミニウムリチウムなど〕 、水素化硼素化合物〔たとえば水素化硼素ナトリウム、水素化硼素リチウム、水 素化シアノ硼素ナトリウム、水素化硼素テトラメチルアンモニウム、ボラン、ジ ボランなど〕、燐化合物〔たとえば三塩化燐、三臭化燐、トリフェニルホスフィ ン、トリエチルホスフィンなど〕などである。 接触還元に使用すべき好適な触媒は、白金触媒〔たとえば白金板、海綿状白金 、白金黒、コロイド白金、酸化白金、白金線など〕、パラジウム触媒〔たとえば 海綿状パラジウム、パラジウム黒、酸化パラジウム、パラジウム炭、コロイドパ ラジウム、パラジウム/硫酸バリウム、パラジウム/炭酸バリウムなど〕、ニッ ケル触媒〔たとえば還元ニッケル、酸化ニッケル、ラネーニッケルなど〕、コバ ルト触媒〔たとえば還元コバルト、ラネーコバルトなど〕、鉄触媒〔たとえば還 元鉄、ラネー鉄など〕、銅触媒〔たとえば還元銅、ラネー銅、ウルマン銅など〕 などの慣用のものである。 還元は、通常、溶媒中で実施する。使用すべき好適な溶媒としては、水、アル コール〔たとえばメタノール、エタノール、プロパノールなど〕、アセトニトリ ル、その他任意の慣用の有機溶媒、たとえばジメチルエーテル、ジオキサン、テ トラヒドロフランなど、またはそれらの混合物が挙げられる。 反応温度はとくに限定されず、一般に、冷却下ないし加熱下で反応を実施する 。 方法25 目的化合物(I−10)またはその塩は、化合物(I−11)またはその塩をアジ ド化合物と反応させることによって製造できる。 化合物(I−10)および(I−11)の好適な塩としては、化合物(I)につい て例示したものと同じものが挙げられる。 好適なアジド化合物としては、ナトリウムアジド、ジフェニルホスホリルアジ ドなどが挙げられる。 反応は、通常、水、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどの慣用の溶媒または 反応に悪影響を及ぼさないその他の任意の有機溶媒中で実施する。 トリエチルアミン、ピリジンなどの慣用の塩基の存在下で反応を実施すること も好ましい。 反応温度はとくに限定されないが、通常は、加温下ないし加熱下で実施するの が好ましい。方法26 目的化合物(I−13)またはその塩は、化合物(I−12)またはそのカルボキ シ基におけ反応性誘導体もしくはそれらの塩を還元剤と反応させることによって 製造できる。 化合物(I−13)、(I−12)およびそのカルボキシ基におけ反応性誘導体の 好適な塩としては、化合物(I)について例示したものと同じものが挙げられる 。 化合物(I−12)のカルボキシ基におけ好適な反応性誘導体としては、活性イ ミド(たとえばフタルイミドなど)、活性アミド、活性エステルなどが挙げられ る。 好適な還元剤としては、水素化アルミニウム化合物〔たとえば水素化アルミニ ウムリチウム、水素化トリ第三級ブトキシアルミニウムリチウムなど〕、水素化 硼素化合物〔たとえば水素化硼素リチウムなど〕、アルミニウムアルコキシド〔 たとえばアルミニウムイソプロポキシドなど〕などが挙げられる。 反応は、通常、ジエチルエーテル、ジオキサンなどの慣用の溶媒または反応に 悪影響を及ぼさないその他の任意の有機溶媒中、もしくはそれらの混合物中で実 施する。 反応温度はとくに限定されず、一般に、冷却下ないし加熱下で反応を実施する 。方法27 目的化合物(I−15)またはその塩は、化合物(I−14)またはその塩をアシ ル化剤と反応させることによって製造できる。 化合物(I−14)および(I−15)の好適な塩としては、化合物(I)につい て例示したものと同じものが挙げられる。 この反応は、方法6と実質的に同様にして実施でき、従って、この反応の反応 態様および反応条件(たとえば溶媒、反応温度など)については、方法6で説明 したところを参照されたい。方法28 目的化合物(I−16)またはその塩は、化合物(I−15)またはその塩をフタ ルイミドのアルカリ金属塩と反応させることによって製造できる。 化合物(I−15)および(I−16)の好適な塩としては、化合物(I)につい て例示したものと同じものが挙げられる。 好適なフタルイミドアルカリ金属塩としては、フタルイミドカリウムなどが挙 げられる。 反応は、通常、ジメチルスルホキシド、テトラヒドロフランなどの慣用の溶媒 または反応に悪影響を及ぼさないその他の任意の溶媒中で実施する。 反応温度はとくに限定されず、一般に、冷却下ないし加熱下で反応を実施する 。方法29 目的化合物(I−18)またはその塩は、化合物(I−17)またはその塩をアミ ンと反応させることによって製造できる。 化合物(I−17)および(I−18)の好適な塩としては、化合物(I)につい て例示したものと同じものが挙げられる。 好適なアミンとしては、N−低級アルキルピペラジン、モルホリン、ジメチル アミン、ジ低級アルキルアミノピペリジン、ジ低級アルキルヒドラジン、アミノ 低級アルキル(N−低級アルキル)アミン、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル アミンなどが挙げられる。 反応は、無溶媒で、またはテトラヒドロフラン、ジオキサンなどの溶媒または 反応に悪影響を及ぼさないその他の任意の溶媒中で実施する。 反応温度はとくに限定されないが、通常は、加温下ないし加熱下で反応を実施 する。方法30 目的化合物(I−20)またはその塩は、化合物(I−19)またはその塩をN− 保護基脱離反応に付すことによって製造できる。 化合物(I−19)および(I−20)の好適な塩としては、化合物(I)につい て例示したものと同じものが挙げられる。 この反応は、方法8と実質的に同様にして実施でき、従って、この反応の反応 態様および反応条件(たとえば溶媒、反応温度など)については、方法8で説明 したところを参照されたい。方法31 目的化合物(I−22)またはその塩は、化合物(I−21)をヒドロキシルアミ ンまたはその塩と反応させることによって製造できる。 化合物(I−21)および(I−22)の好適な塩としては、化合物(I)につい て例示したものと同じものが挙げられる。 ヒドロキシルアミンの好適な塩としては、化合物(I)について例示した酸付 加塩が挙げられる。 反応は、酢酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウムなどの慣用の塩基の存在下で実 施するこが好ましい。 反応は、通常、水、アルコール(たとえばメタノール、エタノールなど)、ピ リジンなどの溶媒またはこれらの混合物中で実施する。 反応温度はとくに限定されないが、通常は、加温下ないし加熱下で反応を実施 する。方法32 目的化合物(I−23)またはその塩は、化合物(VI)またはそのカルボキシ基 における反応性誘導体もしくはそれらの塩を化合物(VII)またはその塩と反応 させることによって製造できる。 化合物(I−23)、(VII)、(VI)およびそのカルボキシ基における反応性 誘導体の好適な塩としては、化合物(I)について例示した酸付加塩が挙げられ る。 この反応は、方法1と実質的に同様にして実施でき、従って、この反応の反応 態様および反応条件(たとえば溶媒、反応温度など)については、方法1で説明 したところを参照されたい。 上記の諸方法によって得られた化合物は、粉末化、再結晶、カラムクロマトグ ラフィー、再沈澱などの常法によって単離、精製できる。 化合物(I)および他の化合物は、不斉炭素原子および二重結合に基づく光学 異性体または幾何異性体などの1個以上の立体異性体を包含することがあるが、 かかる異性体およびそれらの混合物はすべてこの発明の範囲に含まれるものであ ることに注意されたい。 また、化合物(I)のいかなる水和物もこの発明の範囲に含まれるものである ことに注意されたい。 目的化合物(I)およびその医薬として許容される塩は、バソプレッシン拮抗 作用、血管拡張作用、降圧作用、肝内糖類放出阻害作用、メサンギウム細胞成長 阻害作用、水利尿作用、血小板凝集阻害作用、オキシトシン拮抗作用などの作用 を有しており、ヒトおよび動物における高血圧、心不全、腎不全、浮腫、腹水、 バソプレッシン分泌異常症候群、肝硬変、低ナトリウム血症、低カリウム血症、 糖尿病、循環器障害、脳血管疾患(たとえば脳浮腫、脳梗塞など)、メニエール 症候群(たとえばメニエール病など)、乗物酔いなどの治療および/または予防 に有用である。 目的化合物(I)の有用性を例証するために、化合物(I)の薬理データを以 下に示す。試験例1 バソプレッシン1(V1)レセプター結合 (i)試験方法: 正常被験者から、静脈穿刺によって採血した。全血を200xgで10分間遠心分離 して、多血小板血漿(PRP)を調製した。PRPを45000xgで10分間遠心分離した。 残留ペレットを10倍容の氷冷100mMトリス−塩酸(pH7.4)緩衝液(5mM 塩化マグネシウム、0.1%ウシ血清アルブミンおよび1mM EDTAを含有)に再懸濁 し、再度、45000xgで30分間遠心分離した。最終ペレットを100mMトリス−塩酸緩 衝液に再懸濁した。得られた膜標本を直ちに結合アッセイに使用した。 競合アッセイは、100mMトリス−塩酸緩衝液中の1.5nM 3H−バソプレッシン( 40−87Ci/mmol;ニュー・イングランド・ニュークリアー)を用い、平衡状態で 実施した(30℃で15分間)。1μMバソプレッシンを用いて非特異性結合を求め た。インキュベーション後、氷冷100mMトリス−塩酸(pH7.4)緩衝液5mlを加え て反応を終結させ、ワットマンガラスフィルター(GF/C)を通して迅速濾過し た。フィルターを同じ緩衝液で2回洗った。ガラスフィルターを液体シンチレー ションカクテルと混合し、液体シンチレーションカウンターで放射能を計測した 。試験化合物の競合活性をIC50値で表現した。 (ii)試験結果: 試験化合物(実施例番号) IC50(nM) 39−27) 1.5 39−35) 〈1.0 115−71) 0.7 115−81) 4.5試験例2 バソプレッシン2(V2)レセプター結合 (i)試験方法: 結合アッセイのために、レセプタ−cDNAをチャイニーズハムスター卵巣(CHO) 細胞中で永続的に発現させた。本質的に先行記載(Y.ナカジマら:ジャーナル ・オブ・バイオロジカル・ケミストリー(J.Biol.Chem.),1992年,267巻,2437頁 )の通りにして、CHO細胞を、ヒトV2レセプタ−cDNAの発現のためのベクター でトランスフェクトし、ヒトV2レセプターを発現するクローン細胞系を確立し た。 DNAでトランスフェクトした細胞を採取し、25mMトリス−塩酸(pH7.4)、10mM 塩化マグネシウム、1mM EDTAおよび5μg/mlのp−アミジノフェニルメチルス ルホニルフルオリド(A−PMSF)を含有する氷冷250mMスクロース緩衝液中でホ モジナイズした。ホモジネートを500xgで10分間遠心分離した。上澄みを100000x gで1時間遠心分離した。最終ペレットを、25mMトリス−塩酸(pH7.4)緩衝液( 10mM塩化マグネシウム、1mM EDTAおよび5μg/mlのA−PMSFを含有)に再 懸濁し、少量ずつのアリコートに分けて、-80℃で保存した。 100mMトリス−塩酸(pH7.4)緩衝液(5mM塩化マグネシウム、5μg/mlのA −PMSF、4μg/mlのロイペプチン、40μg/mlのバシトラシン、20μg/mlのキ モスタチンおよび0.1%のウシ血清アルブミンを含有)中の0.5nM 3H−バソプレ ッシン(40−87Ci/mmol;ニュー・イングランド・ニュークリアー)を用い、平 衡状態で実施した(22℃で2時間)。1μMバソプレッシンを用いて非特異性結 合を求めた。インキュベーション後、反応混合物をワットマンガラスフィルタ− (GF/C)を通して迅速濾過した。フィルターを同じ緩衝液で2回洗った。液体 シンチレーションカウンターで放射能を計測した。試験化合物の競合活性をIC50 値で表現した。 (ii)試験結果: 試験化合物(実施例番号) IC50(nM) 39−27) 460 39−35) 380 治療目的には、本発明の化合物(I)は、該化合物のいずれかを有効成分とし て、これを経口、非経口投与または外用(局所適用)に適した有機または無機の 固体、半固体または液体の賦形剤などの製薬上許容しうる担体との混合物として 含有する医薬製剤の形で使用できる。該医薬製剤としては、カプセル剤、錠剤、 糖衣錠、顆粒剤、坐剤、液剤、ローション剤、懸濁剤、孔剤、軟膏剤、ゲル剤な どが挙げられる。所望により、これらの製剤に、佐剤、安定剤、湿潤または孔化 剤、緩衝剤、その他常用の添加剤を配合しうる。 化合物(I)の用量は、患者の年齢および状態によって変わるであろうが、1 回量約0.1mg、1mg、10mg、50mg、100mg、250mg、500mgおよび1000mgの化合物( I)が、上記諸疾患の処置に有効であろう。一般には、1日当り0.1mg/個体〜 約1000mg/個体の量を投与すればよい。 以下の製造例および実施例は、この発明を説明するために示すものである。製造例1 水素化ナトリウム(133mg)のテトラヒドロフラン(5.0ml)中懸濁液に、0℃ で、インドール−4−カルボン酸ベンジル(580mg)のテトラヒドロフラン(5.0 ml)溶液を滴下し、混合物を0℃で1時間攪拌した。この混合物に、4−トルエ ンスルホニルクロリド(440mg)を加え、溶液を外界温度で1時間攪拌した。1 N塩酸で反応を終焉させ、水溶液を酢酸エチルで柚出した。乾燥し、濾過し、溶 媒を除去して、粗生成物を得た。この粗製品をカラムクロマトグラフィー(溶離 剤:n−ヘキサン:酢酸エチル=15:1)により精製して、1−(4−トルエン スルホニル)インドール−4−カルボン酸ベンジル(560mg)を無色シロップ状 物として得た。 製造例2 水素化ナトリウム(174mg)のテトラヒドロフラン(8.0ml)中懸濁液に、0℃ で、インドール−7−カルボン酸ベンジル(700mg)のテトラヒドロフラン(7.0ml )溶液を滴下し、混合物を0℃で1時間攪拌した。この混合物に、ピバル酸クロ ロメチル(461mg)を加え、溶液を外界温度で3時間攪拌した。1N塩酸で反応 を終焉させ、水溶液を酢酸エチルで柚出した。乾燥し、濾過し、溶媒を除去して 、1−ピバロイルオキシメチルインドール−7−カルボン酸ベンジル(1.08g) を黄色油状物として得た。 製造例3 2,2,6,6−テトラメチルピペリジン(322mg)のテトラヒドロフラン(5.0m l)溶液に、n−ブチルリチウムの溶液(1.6M n−ヘキサン溶液、1.3m1)を- 70〜-60℃で滴下し、溶液を0℃で30分間攪拌した。1−第三級ブトキシカルボ ニルインドール−4−カルボン酸ベンジル(500mg)のテトラヒドロフラン(2.5 ml)溶液を上の溶液に-70〜-60℃で滴下し、混合物を-70℃で30分間攪拌した。 この混合物に、クロロ蟻酸エチル(185mg)のテトラヒドロフラン(2.5ml)溶液 を、温度を-60℃以下に保つような速度で加えた。溶液を-70℃で2時間攪拌し、 -20℃の飽和塩化アンモニウム溶液で反応を終焉させた。水溶液を酢酸エチルで 抽出した。乾燥し、濾過し、溶媒を除去して、粗生成物を得た。この粗製品をカ ラムクロマトグラフィー(溶離剤:n−ヘキサン:酢酸エチル=15:1)により 精製して、1−第三級ブトキシカルボニル−2−エトキシカルボニルインドール −4−カルボン酸ベンジル(100mg)を無色油状物として得た。 製造例4 2−アミノ−3−ニトロ安息香酸(4.47g)の1,2−ジクロロエタン(50ml) 溶液に、5℃で、無水トリフルオロ酢酸(10.3g)を加え、混合物を外界温度で 5時間攪拌した。この混合物に、無水トリフルオロ酢酸(5.15g)を加え、外界 温度でさらに1時間攪拌した。溶液を真空下で濃縮して、8−ニトロ−2−トリ フルオロメチル−3,1−ベンゾオキサジン−4−オンを淡黄色粉末として得た (6.35g)。 製造例5 2−(N−ベンジルアミノ)−3−ニトロ安息香酸エチル(400mg)のN,N− ジメチルアニリン(3ml)溶液に、外界温度で、塩化メトキシアセチル(318mg) を加え、混合物を90℃で4時間攪拌した。反応混合物を水中に注ぎ、水溶液を酢 酸エチルで柚出した。有機層を1N塩酸、水および食塩水で順次洗い、溶液を硫 酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下で蒸発させ、残留物をシリカゲルクロ マトグラフィーに付し、n−ヘキサンと酢酸エチルとの混合物(3:1)で溶出 して、2−(N−ベンジル−N−メトキシアセチル)アミノ−3−ニトロ安息香 酸エチル(480mg)を油状物として得た。 製造例6 2,3−ジアミノトルエン(2.0g)およびN−メチルオキサミド酸エチル(2 .36g)のN,N−ジメチルホルムアミド(10ml)中混合物を175℃で8時間攪拌 した。外界温度まで冷却後、混合物を飽和重炭酸ナトリウム水溶液と酢酸エチル との混合物中に注ぎ、有機層を分離した。有機層を食塩水で洗い、溶液を硫酸マ グネシウムで乾燥した。減圧下で溶媒を蒸発させ、残留物をシリカゲルクロマト グラフィーに付し、クロロホルム−メタノール(50:1)混合物で溶出して、4 −メチル−2−(N−メチルカルバモイル)−1H−ベンゾイミダゾール(1.17 g)を粉末として得た。 製造例7 4−メチル−2−(N−メチルカルバモイル)−1H−ベンゾイミダゾール( 1.0g)の1N水酸化ナトリウム水溶液(15ml)中懸濁液に、過マンガン酸カリ ウム(3.34g)を、100℃で、分割して加え、反応混合物を同温度で15分間攪拌 した。反応混合物をセライト層を通して濾過し、濾液をクロロホルムで洗った。 水層を4N塩酸でpH3に調整した。沈澱を減圧濾過によって集め、2−(N−メ チルカルバモイル)−1H−ベンゾイミダゾール−4−カルボン酸(647mg)を固 体として得た。 製造例8 2−ヒドロキシメチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−カルボン酸メチル( 1.0g)のN,N−ジメチルホルムアミド(10ml)溶液に、外界温度で、第三級ブ チルクロロジフェニルシラン(1.87g)およびイミダゾール(495mg)を加え、 混合物を同温度で28時間攪拌した。反応混合物を水中に注いだのち、水溶液を酢 酸エチルで抽出した。有機層を水および食塩水で洗い、硫酸マグネシウムで 乾燥した。溶媒を減圧下で蒸発させ、残留物をシリカゲルクロマトグラフィーに 付し、n−ヘキサンと酢酸エチルとの混合物(10:1)で溶出して、2−第三級 ブチルジフェニルシロキシメチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−カルボン酸 メチル(1.45g)を油状物として得た。 製造例9 2−第三級ブチルジフェニルシロキシメチル−1H−ベンゾイミダゾール−4 −カルボン酸メチル(500mg)のピリジン(3ml)溶液に、窒素気流下、外界温 度で、沃化リチウム(602mg)を加え、混合物を加熱し、3時間還流させた。反 応混合物を減圧下で濃縮し、残留物をクロロホルムに溶解させた。溶液を水およ び食塩水で洗い、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下に蒸発さ せ、残留物をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、クロロホルムとメタノール との混合物(クロロホルムのみ−50:1−25:1−10:1)で溶出して、2−第三 級ブチルジフェニルシロキシメチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−カルボン 酸(425mg)を粉末として得た。 製造例10 1−(4−トルエンスルホニル)インドール−4−カルボン酸ベンジル(550m g)と10%パラジウム炭(200mg)とのメタノール(20ml)および水(2m1)中混 合物を、外界温度で水素化した(初期水素圧を3.5気圧に設定した)。6時間で 理論量の水素が吸収された。生じた混合物をセライト層を通して濾過し、濾液を 減圧下で蒸発させた。残留物をクロロホルムで希釈し、溶液を硫酸マグネシウム で乾燥した。濾過し、溶媒を除去して、粗製品を得た。この粗製品をジエチルエ ーテル−n−ヘキサン(1:3)を用いて結晶化させて、1−(4−トルエンス ルホニル)インドール−4−カルボン酸(330mg)を褐色粉末として得た。 製造例11 製造例10と同様にして、つぎの化合物を得た。 1)1−ピバロイルオキシメチルインドール−7−カルボン酸 2)1−メチルインドール−7−カルボン酸 製造例12 10%パラジウム炭(130mg)と5.0%蟻酸-メタノール(5.0ml)との混合物に、 1−第三級ブトキシカルボニル−2−エトキシカルボニルインドール−4−カル ボン酸ベンジル(130mg)の5.0%蟻酸−メタノール(5.0ml)溶液を加えた。混 合物を、窒素雰囲気下、外界温度で30分間攪拌した。生じた混合物をセライト層 を通して濾過し、濾液を減圧下で蒸発させて、1−第三級ブトキシカルボニル− 2−エトキシカルボニルインドール−4−カルボン酸(87mg)を白色結晶として 得た。 製造例13 氷水で冷却した4N塩化水素1,4−ジオキサン溶液(5ml)に、2−(N− 第三級ブトキシカルボニル−N−メチル)アミノ−3−ニトロ安息香酸(900mg) を加え、溶液を外界温度で2時間攪拌した。反応混合物を減圧下で濃縮し、残留 物をジエチルエーテルで洗い、減圧濾過により集めて、2−(N−メチルアミノ )−3−ニトロ安息香酸(687mg)を粉末として得た。 製造例14 製造例13と同様にして、つぎの化合物を得た。 2−(N−ベンジルアミノ)−3−ニトロ安息香酸 製造例15 水素化ナトリウム(鉱油中60%懸濁液、142mg)のN,N−ジメチルホルムアミ ド(1ml)中懸濁液に、窒素雰囲気下、氷水浴中で、2−(N−第三級ブトキシ カルボニル)アミノ−3−ニトロ安息香酸エチル(1.0g)のN,N−ジメチルホ ルムアミド(5m1)溶液を滴下し、同温度で1時間攪拌した。混合物に、窒素雰 囲気下、0℃で、沃化エチル(526mg)を加え、溶液を同温度で2時間攪拌した 。反応混合物を水中に注ぎ、水溶液を酢酸エチルで柚出した。有機層を水および 食塩水で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を蒸発させて、2−(N−第三 級ブトキシカルボニル−N−メチル)アミノ−3−ニトロ安息香酸エチル(1.05 g)を油状物として得た。 製造例16 製造例15と同様にして、つぎの化合物を得た。 1)2−(N−ベンジル−N−第三級ブトキシカルボニル)アミノ−3−ニトロ 安息香酸エチル2)3−(N−アセチル−N−メチル)アミノ−2−ニトロ安息香酸 3)3−(N−アセチル−N−エチル)アミノ−2−ニトロ安息香酸 製造例17 2−(N−第三級ブトキシカルボニル−N−メチル)アミノ−3−ニトロ安息 香酸エチル(1.0g)のエタノール(10ml)溶液に、1N水酸化ナトリウム水溶液 (3.5ml)を加え、溶液を外界温度で1日間攪拌した。反応混合物を濃縮し、残 留物を水に溶解させた。水層をジエチルエーテルで洗い、水溶液を1N塩酸でpH 4に調整した。溶液をクロロホルムで柚出し、有機層を分離した。溶液を水およ び食塩水で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下で溶媒を蒸発させて、2 −(N−第三級ブトキシカルボニル−N−メチル)アミノ−3−ニトロ安息香酸 (910mg)を粉末として得た。 製造例18 製造例17と同様にして、つぎの化合物を得た。 1)3−ベンジル−2−メトキシメチル−3H−ベンゾイミダゾール−4−カル ボン酸 2)1,2−ジメチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−カルボン酸 3)1−エチル−2−メチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−カルボン酸 4)2−メチル−1−プロピル−1H−ベンゾイミダゾール−4−カルボン酸 5)1−(4−メトキシベンジル)−2−(N−メチルカルバモイル)−1H− ベンゾイミダゾール−4−カルボン酸 製造例19 2−(N−ベンジル−N−メトキシアセチル)アミノ−3−ニトロ安息香酸エ チル(478mg)のエタノール(5ml)溶液に、鉄粉(358mg)および酢酸(771mg) を加え、混合物を2時間還流下に加熱した。反応混合物をセライト層を通して濾 過し、濾液を減圧下で濃縮した。残留物を酢酸エチル−飽和重炭酸ナトリウム水 溶液混合物で希釈し、混合物を再度セライト層を通して濾過した。有機層を分離 し、水および食塩水で洗った。溶液を硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下 で蒸発させて、3−ベンジル−2−メトキシメチル-3H−ベンゾイミダゾール −4−カルボン酸エチル(364mg)を油状物として得た。製造例20 製造例19と同様にして、つぎの化合物を得た。 2−メチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−カルボン酸メチル 製造例21 出発化合物として3−(N−アセチル−N−メチル)アミノ−2−ニトロ安息 香酸メチルを用い、製造例19と同様にして、つぎの化合物を得た。 1,2−ジメチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−カルボン酸メチルと1,2 −ジメチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−カルボン酸エチルとの混合物 1,2−ジメチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−カルボン酸メチル 1,2−ジメチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−カルボン酸エチル 製造例22 出発化合物として2−(N−アセチル−N−エチル)アミノ−3−ニトロ安息 香酸メチルを用い、製造例19と同様にして、つぎの化合物を得た。 1−エチル−2−メチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−カルボン酸エチル 製造例23 3−(N−アセチル−N−メチル)アミノ−2−ニトロ安息香酸(700mg)を2 0%メタノールベンゼン溶液(5ml)に溶かした溶液に、氷水浴中で、2Nトリ メチルシリルジアゾメタンのn−ヘキサン溶液(5ml)を滴下し、混合物を外界 温度で1時間放置した。反応混合物を減圧下で濃縮し、残留物を酢酸エチルに溶 解させた。溶液を飽和重炭酸ナトリウム水溶液、水および食塩水で順次洗い、有 機層を硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下で溶媒を蒸発させ、残留物をシリカ ゲルクロマトグラフィーに付し、n−ヘキサン−酢酸エチル(10:1)混合物で 溶出して、3−(N−アセチル−N−メチル)アミノ−2−ニトロ安息香酸メチ ル(547mg)を油状物として得た。 製造例24 製造例23と同様にして、つぎの化合物を得た。 1)3−(N−アセチル−N−エチル)アミノ−2−ニトロ安息香酸メチル 2)2−(N−メチルカルバモイル)−1H−ベンゾイミダゾール−4−カルボ ン酸メチル 製造例25 2−(N−メチルアミノ)−3−ニトロ安息香酸塩酸塩(250mg)を、メタノ ール(5m1)中、中圧(3気圧)下、外界温度で3時間水素化した。反応混合物 をセライト層を通して濾過し、濾液を減圧下で濃縮した。粗製の3−アミノ−2 −(N−メチルアミノ)安息香酸塩酸塩を、それ以上精製することなく、使用し た。 製造例26 実施例13と同様にして、つぎの化合物を得た。 3−メチル−3H−ベンゾイミダゾール−4−カルボン酸塩酸塩 製造例27 2−アミノ−3−ヒドロキシ安息香酸を出発化合物として用い、実施例13と同 様にして、つぎの化合物を得た。 4−ベンゾオキサゾールカルボン酸 製造例28 3−アミノ−2−ヒドロキシ安息香酸を出発化合物として用い、実施例13と同 様にして、つぎの化合物を得た。 7−ベンゾオキサゾールカルボン酸 製造例29 実施例5と同様にして、つぎの化合物を得た。 1−メチルインドール−7−カルボン酸ベンジル 製造例30 インドール−4−カルボン酸ベンジル(1.85g)とN,N−ジメチルアミノピ リジン(180mg)とのアセトニトリル(10ml)溶液に、二炭酸ジ第三級ブチル(1 .61g)を分割して加えたのち、混合物を外界温度で2時間攪拌し、一夜放置し た。生じた混合物を減圧下で濃縮し、残留物を酢酸エチル(30ml)で希釈した。 有機層を、1N塩酸、飽和重炭酸ナトリウム水溶液および食塩水で、順次洗った 。溶液を硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。残留物をシリカゲルカ ラムクロマトグラフィー(溶離剤:n−ヘキサン:酢酸エチル=10:1)により 精製して、1−第三級ブトキシカルボニルインドール−4−カルボン酸ベンジル (2.26g)を得た。 製造例31 2−メチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−カルボン酸メチル(250mg)の N,N−ジメチルホルムアミド(4ml)溶液に、外界温度で、炭酸カリウム(363 mg)および臭化n−プロピルを加え、混合物を同温度で2日間攪拌した。反応混 合物を水中に注ぎ、水溶液を酢酸エチルで抽出した。有機層を水および食塩水で 洗い、溶液を硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下で溶媒を蒸発させ、残留物を シリカゲルクロマトグラフィーに付し、n−ヘキサン−酢酸エチル混合物(1: 1−1:2−1:3−酢酸エチルのみ)で溶出して、2−メチル−1−プロピル −1H−ベンゾイミダゾール−4−カルボン酸メチル(173mg)を油状物として 得た。 製造例32 製造例31と同様にして、つぎの化合物を得た。 1−(4−メトキシベンジル)−2−(N−メチルカルバモイル)−1H−ベ ンゾイミダゾール−4−カルボン酸メチル 実施例1 1H−イミダゾ〔4,5−b〕ピリジン−7−カルボン酸(203mg)と塩化オキ サリル(0.217ml)とのジクロロメタン(25ml)中混合物に、N,N−ジメチルホ ルムアミド1滴を加え、混合物を外界温度で2時間攪拌した。溶媒を蒸発させて 除去後、ジクロロメタン(5ml)中の残留酸塩化物を、4−アミノ−3−メトキ シ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1− イルカルボニル)ペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド(400mg) とトリメチルアミン(210mg)とのジクロロメタン(20ml)中混合物に加え、混 合物を外界温度で2時間攪拌した。混合物を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液およ び食塩水で順次洗い、硫酸ナトリウムで乾燥した。回転蒸発により溶媒を除去し 、残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(SiO230g、ジクロロメタン中 3%メタノール)により精製して、4−〔1H−イミダゾ〔4,5−b〕ピリジン −7−イル〕カルボニルアミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メ チル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1− イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド(393mg)を得た。 実施例2 実施例1と同様にして、つぎの化合物を得た。 1)4−〔〔1−(4−トルエンスルホニル)インドール−4−イル〕カルボニ ル〕アミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4− メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕 ベンズアミド 2)4−〔(1−ピバロイルオキシメチルインドール−7−イル)カルボニル〕 アミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチ ルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベン ズアミド 3)4−〔(1−メチルインドール−7−イル)カルボニル〕アミノ−3−メト キシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1 −イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド 4)4−(1−第三級ブトキシカルボニル−2−エトキシカルボニルインドール −4−イル)カルボニル〕アミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチ ル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イ ルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド 5)4−〔2−クロロ−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル〕カルボニルアミ ノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピ ペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズア ミド 6)3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピ ペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕−4−( プリン−6−イル)カルボニルアミノベンズアミド7)4−〔3−ベンジル−2−メトキシメチル−3H−ベンゾイミダゾール−4 −イル)カルボニルアミノ−3−メトキシ−N−メチル-N−〔4−メチル−2 −〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキ シ〕フェニル〕ベンズアミド 8)4−(1,2−ジメチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カルボニ ルアミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メ チルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベ ンズアミド 9)4−(1−エチル−2−メチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カ ルボニルアミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5− (4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェ ニル〕ベンズアミド10)3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピ ペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕−4−( 2−メチル−1−プロピル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カルボニル アミノベンズアミド 11)3−メトキシ−4−〔1−(4−メトキシベンジル)−2−(N−メチルカ ルバモイル)−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル〕カルボニルアミノ−N− メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カ ルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド 12)4−(2−第三級ブチルジフェニルシロキシメチル−1H−ベンゾイミダゾ ール−4−イル〕カルボニルアミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メ チル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1− イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド 13)4−(ベンゾオキサゾール−4−イル)カルボニルアミノ−3−メトキシ− N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル )カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド 14)4−(ベンゾオキサゾール−7−イル)カルボニルアミノ−3−メトキシ− N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル )カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド 15)4−(3−ブロモ−2−メチルイミダゾ〔1,2-a〕ピリジン−8−イル) カルボニルアミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5− (4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェ ニル〕ベンズアミド 16)3−メトキシ−N−メチル−4−(2−メチルイミダゾ〔1,2−a〕ピリジ ン−4−イル)カルボニルアミノ−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチル ピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズ アミド 実施例3 3−メチル−3H−ベンゾイミダゾール−4−カルボン酸塩酸塩(112mg)の ジクロロメタン(2ml)中懸濁液に、氷水浴中、窒素下で、塩化オキサリル(79 mg)を加え、つぎに、N,N−ジメチルホルムアミド1滴を加えた。同条件下で 2時間攪拌後、反応混合物を減圧下で濃縮した。残留物を、4−アミノ−3−メ トキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン− 1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド(150m g)のピリジン(2ml)溶液に、窒素下、外界温度で加え、混合物を2時間攪拌 し、同温度で一夜放置した。反応混合物を減圧下で濃縮し、残留物をクロロホル ムに溶解させた。溶液を水および飽和重炭酸ナトリウム水溶液で洗い、有機層を 硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下で溶媒を蒸発させ、残留物を分取薄層クロ マトグラフィー(酢酸エチル−メタノール=1:1)により精製して、3−メト キシ−N−メチル−N−(3−メチル−3H−ベンゾイミダゾール−4−イル) カルボニルアミノ−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1 −イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド(52mg) を粉末として得た。 実施例4 4−アミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4 −メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル 〕ベンズアミド(6.0g)の1,4−ジオキサン(200ml)溶液に、8−ニトロ− 2−トリフルオロメチル−3,1−ベンゾオキサジン−4−オン(3.24g)を加え 、混合物を100℃で4時間攪拌した。この混合物に、8−ニトロ−2−トリフル オロメチル−3,1−ベンゾオキサジン−4−オン(3.24g)を加え、溶液をさ らに3時間100℃で攪拌した。混合物に1N水酸化ナトリウム溶液(90ml)を加 え、生じた溶液を60℃で1時間攪拌した。減圧下で濃縮後、残留物をクロロホル ムで希釈し、有機溶液を飽和重炭酸ナトリウム水溶液および食塩水で洗った。有 機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮して溶媒を除去し、3−メトキ シ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1− イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕−4−(3−ニトロ−2 −トリフルオロアセチルアミノベンゾイル)アミノベンズアミド(10.6g)を黄 色の粉末として得た。この粗製品を、それ以上精製せずに、次工程に使用した。実施例5 4−〔(インドール−4−イル)カルボニル〕アミノ−3−メトキシ−N−メ チル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カル ボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド(160mg)のN,N−ジ メチルホルムアミド(3.0ml)溶液に、0℃で、カリウム第三級ブトキシド(37.3 mg)を分割して加え、混合物を0℃で1時間攪拌した。この混合物に、沃化メチ ル(47.2g)を加え、溶液を0℃で1時間攪拌した。水で反応を終焉させ、水溶 液を酢酸エチルで抽出した。乾燥し、濾過し、溶媒を除去して、粗製品を得た。 この粗製品をカラムクロマトグラフィー(溶離剤:クロロホルム中2%のメタノ ール)により精製して、4−〔(1−メチルインドール−4−イル)カルボニル 〕アミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メ チルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベ ンズアミド(65mg)を白色シロップ状物として得た。 実施例6 実施例5と同様にして、つぎの化合物を得た。 4−〔(1−イソプロピルインドール−4−イル)カルボニル〕アミノ−3− メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン −1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド 実施例7 4−(2−アミノ−3−ニトロベンゾイル)アミノ−3−メトキシ−N−メチ ル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボ ニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド(3.88g)のエタノール (40ml)溶液に、塩化アンモニウム(385mg)の水(10ml)溶液および鉄粉(2.0 1g)を加え、混合物を100℃で2時間攪拌した。混合物をセライト層を通して濾 過し、濾液を減圧下で濃縮した。残留物を酢酸エチルで希釈し、溶液を飽和重炭 酸ナトリウム水溶液および食塩水で洗った。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し 、溶液を減圧下で濃縮して、4−(2,3−ジアミノベンゾイル)アミノ−3− メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン −1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド(3. 42g)を黄色粉末として得た。 実施例8 4−(2,3−ジアミノベンゾイル)アミノ−3−メトキシ−N−メチル−N −〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペ ント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド(200mg)の水(5ml)中懸濁 液に、1N塩酸(1.3ml)を加え、つぎに、攪拌下、反応混合物にジシアンジア ミド(545mg)を加えた。溶液を、還流下に24時間加熱した。冷却後、混合物 に炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。抽出液を食塩水で 洗い、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を蒸発させたのち、残留物をシリカゲル カラムクロマトグラフィー(SiO2、30g、クロロホルム中15%メタノール)によ り精製して、4−〔2−グアニジノベンゾイミダゾール−4−イル〕カルボニル アミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチ ルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベン ズアミド(100mg)を黄色無定形物として得た。 実施例9 4−(2,3−ジアミノベンゾイル)アミノ−3−メトキシ−N−メチル−N −〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペ ント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド(110mg)の無水テトラヒドロ フラン(2ml)溶液に、窒素雰囲気下、外界温度で、1,1’−チオカルボニル ジイミダゾール(48mg)を加え、同温度で1日間攪拌した。減圧下で濃縮後、残 留物をクロロホルムと飽和重炭酸ナトリウム水溶液の混合液で希釈し、有機層を 分離した。有機層を水および食塩水で洗い、溶液を硫酸マグネシウムで乾燥した 。溶媒を減圧下で蒸発させ、残留物を分取薄層クロマトグラフィー(酢酸エチル ーメタノール=1:1)により精製して、4−(2−メルカプト−1H−ベンゾ イミダゾール−4−イル)カルボニルアミノ−3−メトキシ−N−メチル−N− 〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペン ト−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド(96mg)を粉末として得た。 実施例10 4−(2,3−ジアミノベンゾイル)アミノ−3−メトキシ−N−メチル−N −〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペ ント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド(242mg)の水(3ml)中懸濁 液に、外界温度で、臭化シアン(46mg)を加えた。混合物を、同温度で2時間攪 拌し、つぎに、同温度で一夜放置した。反応混合物に、飽和重炭酸ナトリウム水 溶液を加え、溶液をクロロホルムで抽出した。有機層を水で洗い、硫酸マグネシ ウムで乾燥し、減圧下で蒸発させた。残留物を分取薄層クロマトグラフィー(ク ロロホルム−メタノール=10:1)により精製して、4−(2−アミノ−1H− ベンゾイミダゾール−4−イル)カルボニルアミノ−3−メトキシ−N−メチル −N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニ ルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド(67mg)を粉末として得た 。 実施例11 4−(2,3−ジアミノベンゾイル)アミノ−3−メトキシ−N−メチル−N −〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペ ント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド(120mg)に、酢酸(47mg)お よび水(0.5ml)を加え、懸濁液を、外界温度で、透明溶液が得られるまで、攪 拌した。5℃まで冷却後、溶液に、冷却した亜硝酸ナトリウム(15mg)の水(O.3 ml)溶液を一度に加えた。反応混合物を5℃で5分間攪拌したのち、温度を75℃ まで上昇させ、10分間攪拌した。反応混合物を20℃に冷却し、溶液を氷浴中で1 時間攪拌した。反応混合物に、飽和重炭酸ナトリウム水溶液およびクロロホルム を加え、有機層を分離した。有機層を飽和重炭酸ナトリウム水溶液および食塩水 で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下で蒸発させ、残留物を分取 薄層クロマトグラフィー(クロロホルム−メタノール=10:1)により精製して 、4−(1H−ベンゾトリアゾール−4−イル)カルボニルアミノ−3−メトキ シ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン −1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド(81 mg)を粉末として得た。 実施例12 4−(2,3−ジアミノベンゾイル)アミノ−3−メトキシ−N−メチル−N −〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペ ント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド(145mg)のアセトニトリル− ベンゼン〔1:4(v/v)〕混合物溶液を攪拌しながら、これに、メトキシカ ルボニルイソチオシアナート(36mg)を加え、反応混合物を外界温度で5分間攪 拌した。溶液に1,3−ジシクロヘキシルカルボジイミド(73mg)を加えたのち 、生じた混合物を還流温度で5時間撹拌した。反応混合物を減圧下で濃縮し、残 留物をクロロホルムに溶解させた。溶液を飽和重炭酸ナトリウム水溶液、水およ び食塩水で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で蒸発させた。残留物をシ リカゲル(クロマトレックス)クロマトグラフィー(クロロホルムで溶出)およ び分取薄層クロマトグラフィー(クロロホルム−メタノール=10:1)により精 製して、3−メトキシ−4−(2−メトキシカルボニルアミノ−1H−ベンゾイ ミダゾール−4−イル)カルボニルアミノ−N−メチル−N−〔4−メチル−2 −〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキ シ〕フェニル〕ベンズアミド(82mg)を粉末として得た。 実施例13 4−(2,3−ジアミノベンゾイル)アミノ−3−メトキシ−N−メチル−N −〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペ ント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド(90mg)とオルト蟻酸トリメチ ル(1ml)との混合物を、還流下に4時間加熱した。過剰の試薬を蒸発により除 去後、残留物をクロロホルムに溶解させ、溶液を水および飽和重炭酸ナトリウム 水溶液で洗った。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下で蒸発させ た。残留物を分取薄層クロマトグラフィー(クロロホルム−メタノール=10:1 )により精製して、4−(1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カルボニルア ミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチル ピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズ アミド(51mg)を粉末として得た。 実施例14 4−(2,3−ジアミノベンゾイル)アミノ−3−メトキシ−N−メチル−N −〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペ ント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド(200mg)の酢酸(1ml)溶液 に、外界温度で、オルト炭酸テトラメチル(66mg)を加え、溶液を同温度で3日 間放置した。減圧下で濃縮後、残留物をクロロホルムおよび飽和重炭酸ナトリウ ム水溶液で希釈した。有機層を分離し、水および食塩水で洗った。溶液を硫酸マ グネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下で蒸発させた。残留物を分取薄層クロマトグ ラフィー(クロロホルム−メタノール=10:1)により精製して、4−(2−メ トキシ−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カルボニルアミノ−3−メトキ シ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1− イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド(171mg) を粉末として得た。 実施例15 実施例14と同様にして、つぎの化合物を得た。 1)4−(2−エトキシ−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カルボニルア ミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチル ピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズ アミド 2)3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピ ペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕−4−( 2−プロポキシ−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カルボニルアミノベン ズアミド 実施例16 4−(2,3−ジアミノベンゾイル)アミノ−3−メトキシ−N−メチル−N −〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペ ント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド(100mg)の酢酸(1ml)中懸 濁液を、還流下に8時間加熱した。減圧下で蒸発させたのち、残留物をクロロホ ルムに溶解させ、溶液を水および飽和重炭酸ナトリウム水溶液で洗った。有機層 を硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下で蒸発させた。残留物を分取薄層ク ロマトグラフィー(クロロホルム−メタノール=10:1)により精製して、3− メトキシ−N−メチル−4−(2−メチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イ ル)カルボニルアミノ−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン −1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド(84 mg)を粉末として得た。 実施例17 実施例16と同様にして、つぎの化合物を得た。 1)3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル-2−〔5−(4−メチルピペ ラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕−4−(2 −トリフルオロメチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カルボニルアミ ノベンズアミド2)4−(2−エチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カルボニルアミ ノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピ ペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズア ミド 3)3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピ ペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕−4−( 2−n−プロピル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カルボニルアミノベ ンズアミド 4)4−(2−イソプロピル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カルボニ ルアミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メ チルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキキ〕フェニル〕ベ ンズアミド 実施例18 4−(2,3−ジアミノベンゾイル)アミノ−3−メトキシ−N−メチル−N −〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペ ント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド(640mg)のジクロロメタン( 6ml)溶液に、窒素下、氷水浴中、ピリジン(99mg)および塩化N−フタロイル グリシル(280mg)を加え、混合物を同温度で2時間攪拌した。反応混合物に、 外界温度で、メタノール(1ml)を加え、さらに30分間攪拌した。反応混合物を 減圧下で濃縮し、残留物をピリジン(6ml)に溶解させた。溶液を100℃で48時 間攪拌し、溶媒を減圧下で蒸発させた。残留物をクロロホルムおよび飽和重炭酸 ナトリウム水溶液で希釈した。有機層を分離し、水および食塩水で洗った。有機 溶液を硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下で蒸発させた。残留物をシリカ ゲルクロマトグラフィーに付し、クロロホルム−メタノール(50:1〜25:1〜 10:1)で溶出して、3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5 −(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フ ェニル〕−4−(2−フタルイミドメチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イ ル)カルボニルアミノベンズアミド(41Omg)を粉末として得た。 実施例19 実施例18と同様にして、つぎの化合物を得た。 1)3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピ ペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕−4−〔 2−(2−フタルイミドエチル)−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル〕カル ボニルアミノベンズアミド 2)3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピ ペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕−4−〔 2−(2−ピリジルメチル)−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル〕カルボニ ルアミノベンズアミド 3)3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピ ペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕−4−〔 2−(3−ピリジルメチル)−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル〕カルボ ニルアミノベンズアミド 4)3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル-2−〔5−(4−メチルピペ ラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕−4−2− (4−ピリジルメチル)−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル〕カルボニルア ミノベンズアミド 実施例20 4−〔(インドール−4−イル)カルボニル〕アミノ−3−メトキシ−N−メ チル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カル ボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド(150mg)とN,N−ジ メチルアミノピリジン(5.9mg)とのアセトニトリル(10ml)中混合物に、外界 温度で、二炭酸ジエチル(46.6mg)を加えた。溶液を外界温度で数時間攪拌し、 一夜放置した。生じた混合物を水で希釈し、水溶液を酢酸エチルで抽出した。乾 燥し、濾過し、溶媒を除去して、粗製品を得た。この粗製品をカラムクロマトグ ラフィー(溶離剤:クロロホルム中2%メタノール)により精製して、4−〔( 1−エトキシカルボニルインドール−4−イル)カルボニル〕アミノ−3− メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン −1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド(12 6mg)を無色のシロップ状物として得た。 実施例21 4−〔〔1−(4−トルエンスルホニル)インドール−4−イル〕カルボニル 〕アミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メ チルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベ ンズアミド(255mg)の2N水酸化カリウム水溶液(2.5ml)とメタノール(6.0ml )との混合物中溶液を、外界温度で3時間攪拌し、一夜放置した。生じた混合物 を水で希釈し、溶液を酢酸エチルで抽出した。乾燥して、濾過し、溶媒を除去し て、粗製品を得た。この粗製品をカラムクロマトグラフィー(溶離剤:クロロホ ルム中3−8%メタノール)により精製して、4−〔(インドール−4−イル) カルボニル〕アミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5 −(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フ ェニル〕ベンズアミド(154mg)を白色無定形粉末として得た。 実施例22 4−〔(1−ピバロイルオキシメチルインドール−7−イル)カルボニル〕ア ミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチル ピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズ アミド(100mg)のメタノール(4.0ml)溶液に、28%ナトリウムメチラートメタ ノール溶液(100mg)を加えた。溶液を外界温度で数時間攪拌し、一夜放置した 。生じた混合物を水で希釈し、酢酸エチルで抽出した。乾燥して、濾過し、溶媒 を除去して、4−〔(インドール−7−イル)カルボニル〕アミノ−3−メトキ シ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1− イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド(70mg)を 微黄色シロップ状物として得た。 実施例23 4−〔(1−第三級ブトキシカルボニル−2−エトキシカルボニルインドール −4−イル)カルボニル〕アミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチ ル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イ ルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド(75mg)とトリフルオロ酢酸(2.0ml)との 混合物を、外界温度で5分間攪拌した。減圧下でトリフルオロ酢酸を除去し、残 留物を飽和重炭酸ナトリウム水溶液で希釈した。溶液を酢酸エチルで抽出し、有 機層を食塩水で洗った。乾燥し、濾過し、溶媒を除去して、4−〔(2−エトキ シカルボニルインドール−4−イル)カルボニル〕アミノ−3−メトキシ−N− メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カ ルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド(50mg)を黄色無定 形粉末として得た。 実施例24 4−(3−ベンジル−2−メトキシメチル−3H−ベンゾイミダゾール−4− イル)カルボニルアミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2− 〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ 〕フェニル〕ベンズアミド(200mg)と5%蟻酸メタノール溶液(10ml)との混 合物を、24時間還流下に加熱した。反応混合物を減圧下で濃縮し、残留物をクロ ロホルムに溶解させた。溶液を飽和重炭酸ナトリウム水溶液で洗い、有機層を硫 酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下で蒸発させ、残留物を分取薄層クロマ トグラフィー(クロロホルム−メタノール=10:1)により精製して、3−メト キシ−4−(2−メトキシメチル−3H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カル ボニルアミノ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラ ジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド (48mg)を粉末として得た。 実施例25 3−メトキシ−4−〔1−(4−メトキシベンジル)−2−(N−メチルカル バモイル)−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カルボニルアミノ−N−メ チル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カル ボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル]ベンズアミド(130mg)のトリフル オロ酢酸(3ml)溶液を、60℃で8時間攪拌した。反応混合物を減圧下で濃縮し 、残留物をクロロホルムと飽和重炭酸ナトリウム水溶液との混合物で希釈した。 有機層を分離し、水および食塩水で洗った。溶液を硫酸マグネシウムで乾燥し、 溶媒を減圧下で蒸発させた。残留物を分取薄層クロマトグラフィー(クロロホル ム−メタノール=10:1)により精製して、3−メトキシ−N−メチル−4−〔 2−(N−メチルカルバモイル)−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カル ボニルアミノ−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イ ル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド(45mg)を粉 末として得た。 実施例26 3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペ ラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕−4−(2 −フタルイミドメチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カルボニルアミ ノベンズアミド(383mg)のエタノール(5ml)溶液に、外界温度で、ヒドラジ ン一水和物(19mg)を加え、溶液を60℃で1時間攪拌した。反応混合物を氷水浴 中で2時間攪拌し、沈澱を濾去した。濾液を減圧下で濃縮し、残留物を分取薄層 クロマトグラフィー(クロロホルム−メタノール−アンモニア水(28%)=160 :32:1)により精製して、4−(2−アミノメチル−1H−ベンゾイミダゾー ル−4−イル)カルボニルアミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチ ル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イ ルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド(200mg)を粉末として得た。 実施例27 実施例26と同様にして、つぎの化合物を得た。 4−〔2−(2−アミノエチル)−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カ ルボニルアミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−( 4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニ ル〕ベンズアミド 実施例28 3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペ ラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕−4−(3 −ニトロ−2−トリフルオロアセチルアミノベンゾイル)アミノベンズアミド( 10.5g)のヒドラジン一水和物(100ml)溶液を、60℃で2時間攪拌し、混合物 を水と酢酸エチルとの混合物で希釈した。有機層を分離し、飽和重炭酸ナトリウ ム水溶液および食塩水で洗った。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥したのち、溶 液を減圧下で濃縮した。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロ ホルム中3%メタノール)により精製して、4−(2−アミノ−3−ニトロベン ゾイル)アミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−( 4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェ ニル〕ベンズアミド(5.90g)を黄色粉末として得た。 実施例29 4−〔(2−エトキシカルボニルインドール−4−イル)カルボニル〕アミノ −3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペ ラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミ ド(100mg)の1N水酸化ナトリウム水溶液(0.43ml)−エタノール(4.0ml)混 合物中溶液を、外界温度で5.5時間攪拌した。生じた溶液を1N塩酸で中和し、 減圧下でメタノールを除去した。残留物を水で希釈し、水層をクロロホルムで抽 出した。乾燥し、濾過し、溶媒を除去して、4−〔(2−カルボキシインドール −4−イル)カルボニル〕アミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチ ル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イ ルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド(70mg)を黄色無定形物として得た。 実施例30 4−〔(2−カルボキシインドール−4−イル)カルボニル〕アミノ−3−メ トキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン− 1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド(60mg )、N,N−ジメチルアミン塩酸塩(7.7mg)および1−ヒドロキシベンゾトリア ゾール(14.5mg)のN,N−ジメチルホルムアミド(3.0ml)中混合物に、1−( 3−ジメチルアミノプロピル)−3−エチルカルボジイミド塩酸塩(20.6mg) のN,N−ジメチルホルムアミド(1.0ml)溶液を加え、混合物を外界温度で4時 間攪拌した。得られた混合物を酢酸エチルで希釈し、有機層を飽和重炭酸ナトリ ウム水溶液および食塩水で順次洗った。乾燥し、濾過し、溶媒を除去して、4− 〔(2−ジメチルアミノカルボニルインドール−4−イル)カルボニル〕アミノ −3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペ ラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミ ド(60mg)を、黄色無定形粉末として得た。 実施例31 3−メトキシ−4−(2−メトキシ−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル) カルボニルアミノ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピ ペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズア ミド(139mg)の10%塩化水素含有メタノール(2ml)溶液を、外界温度で2時 間攪拌し、混合物に4N塩化水素1,4−ジオキサン溶液(2ml)を加えた。外 界温度で一夜放置したのち、反応混合物を減圧下で濃縮し、残留物をクロロホル ム−飽和重炭酸ナトリウム水溶液混合物で希釈した。有機層を分離して、水およ び食塩水で洗った。溶液を硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で蒸発させた。残 留物を分取薄層クロマトグラフィー(クロロホルム−メタノール=10:1)によ り精製して、4−(2−ヒドロキシ−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カ ルボニルアミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−( 4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニ ル〕ベンズアミド(53mg)を粉末として得た。 実施例32 4−(2−第三級ブチルジフェニルシロキシメチル−1H−ベンゾイミダゾ− ル−4−イル)カルボニルアミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチ ル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イ ルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド(296mg)の乾燥テトラヒドロフラン(10ml )溶液に、氷水浴中、窒素下に、弗化テトラブチルアンモニウム(173mg)を加 え、混合物を同温度で1時間攪拌した。反応混合物を減圧下で濃縮し、残留物を クロロホルムに溶解させた。溶液を水および食塩水で洗い、硫酸マグネシウムで 乾燥し、減圧下で溶媒を蒸発させた。残留物を分取薄層クロマトグラフィー(ク ロロホルム−メタノール=10:1)により精製して、4−(2−ヒドロキシメチ ル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カルボニルアミノ−3−メトキシ− N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル )カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド(200mg)を粉 末として得た。 実施例33 4−(2−アミノ−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カルボニルアミノ −3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペ ラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミ ド(45mg)と無水酢酸(0.5ml)との混合物を、外界温度で1時間攪拌し、つぎ に同温度で一夜放置した。反応混合物を減圧下で濃縮し、残留物をクロロホルム に溶解させた。溶液を飽和重炭酸ナトリウム水溶液、水および食塩水で順次洗い 、溶液を硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下で蒸発させ、残留物を分取 薄層クロマトグラフィー(クロロホルム−メタノール=10:1)により精製して 、4−(2−アセトアミド−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カルボニル アミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチ ルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベン ズアミド(26mg)を粉末として得た。 実施例34 4−(2−アミノ−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カルボニルアミノ −3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペ ラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミ ド(90mg)のピリジン(1ml)溶液に、氷水浴中、窒素下で、塩化メタンスルホ ニル(18mg)を加え、混合物を同温度で3時間攪拌した。反応混合物を減圧下で 濃縮し、残留物をクロロホルムに溶解させた。有機層を飽和重炭酸ナトリウム水 溶液、水および食塩水で順次洗い、硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下で溶媒 を蒸発させ、残留物を分取薄層クロマトグラフィー(クロロホルム−メタノール =10:1)により精製して、4−(2−メタンスルホニルアミノ−1H−ベンゾ イミダゾール−4−イル)カルボニルアミノ−3−メトキシ−N−メチル−N− 〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペン ト−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド(15mg)を粉末として得た。 実施例35 実施例34と同様にして、つぎの化合物を得た。 4−(2−ベンゼンスルホニルアミノ−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル )カルボニルアミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5 −(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フ ェニル〕ベンズアミド 実施例36 4−〔(インドール−4−イル)カルボニル〕アミノ−3−メトキシ−N−メ チル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カル ボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド(93mg)のジクロロメ タン(6.0ml)溶液に、0℃で、塩化N,N−ジメチルメチレンアンモニウム(41 .7mg)を加え、混合物を外界温度で1時間攪拌した。生じた混合物を水で希釈し 、水溶液をジクロロメタンで抽出した。乾燥し、濾過し、溶媒を除去して、4− 〔(3−ジメチルアミノメチルインドール−4−イル)カルボニル〕アミノ−3 −メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジ ン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド( 90mg)を無色シロップ状物として得た。 実施例37 4−(2−ヒドロキシメチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カルボ ニルアミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4− メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕 ベンズアミド(40mg)、トリエチルアミン(31mg)、ジメチルスルホキシド(0. 5ml)およびジクロロメタン(0.5ml)からなる混合物に、水浴中で、三酸化硫黄 −ピリジン錯体(29mg)を分割して加え、混合物を同温度で1日間攪拌した。反 応混合物を飽和重炭酸ナトリウム水溶液中に注ぎ、溶液をクロロホルムで抽出し た。有機層を水および食塩水で洗い、溶液を硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧 下で溶媒を蒸発させ、残留物を分取薄層クロマトグラフィー(クロロホルム−メ タノール=10:1)により精製して、4−(2−ホルミル−1H−ベンゾイミダ ゾール−4−イル)カルボニルアミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4− メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1 −イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド(6mg)を粉末として得た。 実施例38 4−(2−アミノ−3−ニトロベンゾイル)アミノ−3−メトキシ−N−メチ ル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボ ニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド(50mg)のエタノール( 2ml)溶液に、外界温度で、1N塩酸(0.16ml)を加え、同温度で30分間放置し た。減圧下で溶媒を除去後、得られた固体を蒸留水(5ml)に溶解させ、溶液を マイクロフィルターを通して濾過した。濾液を凍結乾燥して、4−〔(2−アミ ノ−3−ニトロ)ベンゾイル〕アミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4− メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1 −イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド二塩酸塩(48mg)を白色粉末として得た 。 実施例39 実施例38と同様にして、つぎの化合物を得た。 1)4−〔(インドール−4−イル)カルボニル〕アミノ−3−メトキシ−N− メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カ ルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド塩酸塩 2)4−〔(1−メチルインドール−4−イル)カルボニル〕アミノ−3−メト キシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1 −イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド塩酸塩3)4−〔(1−エトキシカルボニルインドール−4−イル)カルボニル〕アミ ノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピ ペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズア ミド塩酸塩 4)4−〔(1−イソプロピルインドール−4−イル)カルボニル〕アミノ−3 −メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジ ン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド塩 酸塩 5)4−〔(3−ジメチルアミノメチルインドール−4−イル)カルボニル〕ア ミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチル ピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズ アミド二塩酸塩 6)4−〔(インドール−7−イル)カルボニル〕アミノ−3−メトキシ−N− メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カ ルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド塩酸塩 7)4−〔(1−メチルインドール−7−イル)カルボニル〕アミノ−3−メト キシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1 −イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド塩酸塩 8)4−〔(2−エトキシカルボニルインドール−4−イル)カルボニル〕アミ ノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル-2−〔5−(4−メチルピ ペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズア ミド塩酸塩 9)4−〔(2−ジメチルアミノカルボニルインドール−4−イル)カルボニル 〕アミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メ チルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベ ンズアミド塩酸塩 10)4−〔1H−イミダゾ〔4,5−b〕ピリジン−7−イル〕カルボニルアミ ノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピ ペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズア ミド三塩酸塩 11)4−〔2−クロロ−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル〕カルボニルアミ ノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピ ペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズア ミド二塩酸塩 12)4−(2,3−ジアミノベンゾイル)アミノ−3−メトキシ−N−メチル− N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニル ペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド三塩酸塩 13)4−〔2−グアニジノベンゾイミダゾール−4−イル〕カルボニルアミノ− 3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラ ジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド 二塩酸塩 14)4−(1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カルボニルアミノ−3−メト キシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1 −イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド二塩酸塩 15)4−(2−ヒドロキシ−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カルボニル アミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチ ルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベン ズアミド塩酸塩 16)3−メトキシ−N−メチル−4−(2−メチル−1H−ベンゾイミダゾール −4−イル)カルボニルアミノ−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピ ペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズア ミド二塩酸塩 17)4−(2−メルカプト−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カルボニル アミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチ ルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベン ズアミド二塩酸塩 18)3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピ ペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕−4−( 2−トリフルオロメチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カルボニルア ミノベンズアミド二塩酸塩 19)4−(2−アミノ−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カルボニルアミ ノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピ ペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズア ミド二塩酸塩 20)4−(2−アセトアミド−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カルボニ ルアミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メ チルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベ ンズアミド二塩酸塩 21)4−(2−メタンスルホニルアミノ−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル )カルボニルアミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5 −(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フ ェニル〕ベンズアミド二塩酸塩 22)4−(2−ベンゼンスルホニルアミノ−1H−ベンゾイミダゾール−4−イ ル)カルボニルアミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔 5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕 フェニル〕ベンズアミド二塩酸塩 23)4−(1H−ベンゾトリアゾール−4−イル)カルボニルアミノ−3−メト キシ−N−メチル−N−〔4−メチル-2−〔5−(4−メチルピペラジン−1 −イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド塩酸塩 24)4−(2−エチル−1H−ベンゾトリアゾール−4−イル)カルボニルアミ ノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピ ペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズア ミド二塩酸塩25)3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピ ペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕−4− (2−n−プロピル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カルボニルアミノ ベンズアミド二塩酸塩 26)4−(2−イソプロピル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カルボニ ルアミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メ チルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベ ンズアミド二塩酸塩27)4−(2−アミノメチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カルボニ ルアミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メ チルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベ ンズアミド三塩酸塩 28)4−〔2−(2−アミノエチル)−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル〕 カルボニルアミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5− (4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェ ニル〕ベンズアミド三塩酸塩 29)3−メトキシ−N−メチル−4−(3−メチル−3H−ベンゾイミダゾール −4−イル)カルボニルアミノ−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピ ペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズア ミド二塩酸塩 30)3−メトキシ−4−(2−メトキシメチル−1H−ベンゾイミダゾール−4 −イル)カルボニルアミノ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4− メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕 ベンズアミド二塩酸塩 31)4−(1,2−ジメチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カルボニ ルアミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メ チルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベ ンズアミド二塩酸塩32)4−(1−エチル−2−メチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カ ルボニルアミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−( 4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニ ル〕ベンズアミド二塩酸塩 33)3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピ ペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕−4− (2−メチル−1−プロピル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カルボニ ルアミノベンズアミド二塩酸塩34)3−メトキシ−N−メチル−4−〔2−(N−メチルカルバモイル)−1H −ベンゾイミダゾール−4−イル〕カルボニルアミノ−N−〔4−メチル−2− 〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ 〕フェニル〕ベンズアミド二塩酸塩 35)4−(2−ヒドロキシメチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル〕カル ボニルアミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4 −メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル 〕ベンズアミド二塩酸塩 36)4−(ベンゾオキサゾール−4−イル)カルボニルアミノ−3−メトキシ− N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル )カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド塩酸塩 37)3−メトキシ−N−メチル−4−(2−メチルイミダゾ〔1,2−a〕ピリ ジン−4−イル)カルボニルアミノ−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチ ルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベン ズアミド二塩酸塩 38)3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピ ペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕−4−〔 2−(2−ピリジルメチル)−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル〕カルボニ ルアミノベンズアミド三塩酸塩 39)3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピ ペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕−4−〔 2−(3−ピリジルメチル)−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル〕カルボニ ルアミノベンズアミド三塩酸塩 40)3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピ ペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕−4−〔 2−(4−ピリジルメチル)−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル〕カルボニ ルアミノベンズアミド三塩酸塩41)3−メトキシ−4−(2−メトキシカルボニルアミノ−1H−ベンゾイミダ ゾール−4−イル)カルボニルアミノ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔 5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕 フェニル〕ベンズアミド二塩酸塩 製造例33 2−アミノ−4−ニトロ−1H−ベンゾイミダゾールを出発化合物として用い て、製造例1と同様にして、つぎの化合物を得た。 2−〔(メチルスルホニル)アミノ〕−4−ニトロ−1H−ベンゾイミダゾー ル 製造例34 製造例5と同様にして、つぎの化合物を得た。 1)N−(2−クロロエチル)−2−ニトロベンズアミド2)N−(3−クロロプロピル)−2−ニトロベンズアミド 3)N−〔1−(ヒドロキシメチル)シクロペンチル〕−2−ニトロベンズアミ ド 製造例35 製造例8と同様にして、つぎの化合物を得た。 1)1−第三級ブトキシカルボニル−3−第三級ブチルジフェニルシリルオキシ メチルインドール−4−カルボン酸ベンジル 2)2−第三級ブチルジフェニルシリルオキシメチル−4−ニトロ−1H−ベン ゾイミダゾール 製造例36 2−ヒドロキシメチルインドール−4−カルボン酸ベンジル(456mg)とイミ ダゾール(364mg)とのN,N−ジメチルホルムアミド(10ml)溶液に、塩化第三 級ブチルジフェニルシリル(802mg)を加え、溶液を外界温度で2時間攪拌した 。生じた混合物を酢酸エチル(30ml)で希釈し、水および食塩水で順次洗った。 有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。残留物をシリカゲルカ ラムクロマトグラフィー(溶離剤:n−ヘキサン:酢酸エチル=15:1)により 精製して、2−第三級ブチルジフェニルシリルオキシメチルインドール−4−カ ルボン酸ベンジル(810mg)を得た。 製造例37 2−ホルミル−1−メトキシメトキシインドール−4−カルボン酸メチルを出 発化合物として用い、製造例10と同様にして、つぎの化合物を得た。 2−ヒドロキシメチルインドール−4−カルボン酸メチル 製造例38 製造例12と同様にして、つぎの化合物を得た。 1)1−第三級ブトキシカルボニル−2−エトキシカルボニルインドリン−4− カルボン酸 2)1−第三級ブトキシカルボニル−3−第三級ブチルジフェニルシリルオキシ メチルインドール−4−カルボン酸3)1−第三級ブトキシカルボニル−2−フタルイミドメチルインドール−4− カルボン酸 4)1−第三級ブトキシカルボニル−2−メチルインドール−4−カルボン酸 製造例39 1−第三級ブトキシカルボニル−2−第三級ブチルジフェニルシリルオキシメ チルインドール−4−カルボン酸ベンジル(762mg)の5.0%蟻酸−メタノール( 20.0ml)溶液に、10%パラジウム炭(100mg)を加え、混合物を、窒素雰囲気下 、外界温度で、2時間攪拌した。生じた溶液をセライト層を通して濾過し、濾液 を減圧下で濃縮した。残留物をクロロホルム(10ml)で希釈し、溶液を水および 食塩水で順次洗った。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮し て、1−第三級ブトキシカルボニル−2−第三級ブチルジフェニルシリルオキシ メチルインドール−4−カルボン酸(597mg)を得た。 製造例40 1−第三級ブトキシカルボニルインドール−6−カルボン酸ベンジル(1.27g )の5.0%蟻酸−メタノール(20.0ml)溶液に、10%パラジウム炭(1.27g)を加 え、混合物を、窒素雰囲気下、外界温度で4時間攪拌し、一夜放置した。生じた 溶液をセライト層を通して濾過し、濾液を減圧下で濃縮した。残留物をクロロホ ルムで希釈し、溶液を水および食塩水で順次洗った。有機層を硫酸マグネシウム で乾燥し、減圧下で濃縮した。残留物を、エーテル:n−ヘキサン(1:5)を 用いて粉末化して、1−第三級ブトキシカルボニルインドリン−6−カルボン酸 (761mg)を得た。 製造例41 1−第三級ブトキシカルボニルインドール−6−カルボン酸ベンジル(450mg )の5.0%蟻酸−メタノール(10.0ml)溶液に、10%パラジウム炭(153mg)を加 え、混合物を、窒素雰囲気下、外界温度で、4時間攪拌した。生じた溶液をセラ イト層を通して濾過し、濾液を減圧下で濃縮した。残留物をクロロホルムで希釈 し、溶液を水および食塩水で順次洗った。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、 減圧下で濃縮した。残留物を、エーテル:n−ヘキサン(1:5)を用いて粉末 化して、1−第三級ブトキシカルボニルインドール−6−カルボン酸(302mg) を得た。 製造例42 3−メトキシ−4−メトキシカルボニル−N−〔4−メチル−2−(4−フタ ルイミドブト−1−イルオキシ)〕フェニルベンズアミドを出発化合物として用 い、製造例15と同様にして、つぎの化合物を得た。 3−メトキシ−4−メトキシカルボニル−N−メチル−N−〔4−メチル−2 −(4−フタルイミドブト−1−イルオキシ)〕フェニルベンズアミド 製造例43 製造例42と同様にして、つぎの化合物を得た。 3−メトキシ−4−ニトロ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−(5−フタ ルイミドペント−1−イルオキシ)〕フェニルベンズアミド 製造例44 製造例17と同様にして、つぎの化合物を得た。 1)2−ベンジルオキシ−1−第三級ブトキシカルボニルインドリン−4−カル ボン酸 2)3−ホルミルインドール−4−カルボン酸 3)2−ヒドロキシメチルインドール−4−カルボン酸 4)4−カルボキシ−3−メトキシ−N−メチル−N−(4−メチル−2−ニト ロフェニル)ベンズアミド 5)4−カルボキシ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔2−(4−第三級ブト キシカルボニルアミノブト−1−イル)オキシ−4−メチル〕フェニルベンズア ミド 6)4−カルボキシ−N−〔2−〔4,4−ジメチル(2,5−オキサゾリニル) フェニル〕−N−メチル−3−メトキシベンズアミド 7)4−カルボキシ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔2−(モルホリン−4 −イル〕フェニル〕ベンズアミド 8)4−カルボキシ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔2−(1−ピロリル) フェニル〕ベンズアミド 9)4−カルボキシ−3−メトキシ−N−メチル−N−(2−ピペリジノフェニ ル)ベンズアミド10)4−カルボキシ−N−メチル−3−メトキシ−N−〔2−(4−メチル−1 −ピペラジニル)フェニル〕ベンズアミド 11)4−カルボキシ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔2−(2,5−オキサ ゾリル)フェニル〕ベンズアミド 12)4−カルボキシ−N−メチル−3−メトキシ−N−〔2−(2,5−オキサ ゾリニル)フェニル〕ベンズアミド 13)4−カルボキシ−N−メチル−3−メトキシ−N−〔2−(3H,4H,5H −2,6−オキサジニル)フェニル〕ベンズアミド 14)N−〔2−(1−(アザ−3−オキサスピロ〔4.4〕ノン−1−エン−2 −イル)フェニル〕−4−カルボキシ−3−メトキシ−N−メチルベンズアミド15)2−カルバモイル−1−(4−メトキシベンジル)−1H−ベンゾイミダゾ ール−4−カルボン酸 16)2−(N,N−ジメチルカルバモイル)−1−(4−メトキシベンジル)− 1H−ベンゾイミダゾール−4−カルボン酸 17)2−〔1−(ベンジルオキシカルボニル)−4−ピペリジル〕−1H−ベン ゾイミダゾール−4−カルボン酸 18)2−(N−第三級ブトキシカルボニルアミノメチル)−1−メチル−1H− ベンゾイミダゾール−4−カルボン酸 19)2−(N−第三級ブトキシカルボニルアミノメチル)−3−メチル−3H− ベンゾイミダゾール−4−カルボン酸20)2−メチルチオ−1H−ベンゾイミダゾール−4−カルボン酸 21)2−メチルスルホニル−1H−ベンゾイミダゾール−4−カルボン酸 22)2−スルファモイル−1H−ベンゾイミダゾール−4−カルボン酸 23)2−メチル−1H−ピラゾロ〔1,5−b〕〔1,2,4〕トリアゾール−7 −カルボン酸 24)2−(4−ピリジル)−1H−ベンゾイミダゾール−4−カルボン酸 25)2−(3−ピリジル)−1H−ベンゾイミダゾール−4−カルボン酸 26)2−(2−ピリジル)−1H−ベンゾイミダゾール−4−カルボン酸 27)2−ジメチルアミノメチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−カルボン酸 28)2−(4−メチルピペラジン−1−イル)メチル−1H−ベンゾイミダゾー ル−4−カルボン酸 29)2−(4−ジメチルアミノピペリジノ)メチル−1H−ベンゾイミダゾール −4−カルボン酸 30)2−モルホリノメチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−カルボン酸 31)2H−1,4−ベンゾオキサジン−3−オン−4−カルボン酸 製造例45 製造例25と同様にして、つぎの化合物を得た。 1)4−アミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔2−(5−第三級ブトキシ カルボニルアミノペント−1−イル)オキシ−4−メチル〕フェニルベンズアミ ド 2)4−アミノ−1H−ベンゾイミダゾール−1−カルボン酸第三級ブチル 3)2−〔4,4−ジメチル(2,5−オキサゾリニル)フェニルアミン 4)4−アミノ−N−〔2−〔4,4−ジメチル(2,5−オキサゾリニル)フェ ニル〕−N−メチル−3−メトキシベンズアミド 5)4−アミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔2−(モルホリン−4−イ ル)フェニル〕ベンズアミド 6)2−(4−メチル−1−ピペラジニル)フェニルアミン 7)2−(2,5−オキサゾリル)フェニルアミン 8)2−(1−アザ−3−オキサスピロ〔4.4〕ノン−1−エン−2−イル)フ ェニルアミン 9)4−アミノ−2−メトキシ−1H−ベンゾイミダゾール10)4−アミノ−2−〔2−(ジメチルアミノ)エチル〕−1H−ベンゾイミダ ゾール 11)4−アミノ−1−(第三級ブトキシカルボニル)−2−〔〔2−〔N−(第 三級ブトキシカルボニル)−N−メチルアミノ〕エチル〕アミノ〕−1H−ベン ゾイミダゾール 12)4−アミノ−1−(第三級ブトキシカルボニル)−2−〔〔2−〔(第三級 ブトキシ)カルボニルアミノ〕エチル〕メチルアミノ〕−1H−ベンゾイミダゾ ール 13)4−アミノ−1−(第三級ブトキシカルボニル)−2−〔〔2−(ジメチル アミノ)エチル〕アミノ〕−1H−ベンゾイミダゾール 14)4−アミノ−2−〔〔2−(ジメチルアミノ)エチル〕メチルアミノ〕−1 H−ベンゾイミダゾール 製造例46 製造例31と同様にして、つぎの化合物を得た。 1)2−カルバモイル−1−(4−メトキシベンジル)−1H−ベンゾイミダゾ ール−4−カルボン酸メチル 2)2−(N,N−ジメチルカルバモイル)−1−(4−メトキシベンジル)−1 H−ベンゾイミダゾール−4−カルボン酸メチル 製造例47 2−フタルイミドメチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−カルボン酸エチル を出発化合物として用い、製造例31と同様にして、つぎの化合物を得た。 1)1−メチル−2−フタルイミドメチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−カ ルボン酸エチル 2)3−メチル−2−フタルイミドメチル−3H−ベンゾイミダゾール−4−カ ルボン酸エチル 製造例48 2−第三級ブチルジフェニルシリルオキシメチルインドール−4−カルボン酸 ベンジル(805mg)とN,N−ジメチルアミノピリジン(189mg)とのアセトニト リル(15ml)溶液に、二炭酸ジ第三級ブチル(507mg)を加え、混合物を外界温 度で20分間攪拌した。生じた混合物を酢酸エチル(30ml)で希釈し、飽和重炭酸 ナトリウム水溶液および食塩水で順次洗った。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥 し、減圧下で濃縮した。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離剤 :n−ヘキサン:酢酸エチル=15:1)により精製して、1−第三級ブトキシカ ルボニル−2−第三級ブチルジフェニルシリルオキシメチルインドール−4−カ ルボン酸ベンジル(762mg)を得た。 製造例49 製造例48と同様にして、つぎの化合物を得た。 1)2−ベンジルオキシメチル−1−第三級ブトキシカルボニルインドリン−4 −カルボン酸メチル 2)1−第三級ブトキシカルボニル−3−ホルミルインドール−4−カルボン酸 ベンジル 3)1−第三級ブトキシカルボニル−2−ホルミルインドール−4−カルボン酸 ベンジル 4)1−第三級ブトキシカルボニル−2−メチルインドール−4−カルボン酸ベ ンジル 5)1−第三級ブトキシカルボニルインドール−6−カルボン酸ベンジル 6)3−メトキシ−4−メトキシカルボニル−N−メチル−N−〔4−メチル− 2−〔4−(第三級ブトキシカルボニルアミノ)ブト−1−イルオキシ〕フェニ ルベンズアミド 7)4−ニトロ−1H−ベンゾイミダゾール−1−カルボン酸第三級ブチル8)1−(第三級ブトキシカルボニル)−2−〔〔2−〔N−(第三級ブトキシ カルボニル)−N−メチルアミノ〕エチル〕アミノ〕−4−ニトロ−1H−ベン ゾイミダゾール 9)1−(第三級ブトキシカルボニル)−2−〔〔2−〔(第三級ブトキシ)カ ルボニルアミノ〕エチル〕メチルアミノ〕−4−ニトロ−1H−ベンゾイミダゾ ール 10)1−(第三級ブトキシカルボニル)−2−〔〔2−(ジメチルアミノ)エチ ル〕アミノ〕−4−ニトロ−1H−ベンゾイミダゾール 製造例50 実施例1と同様にして、つぎの化合物を得た。 1)3−メトキシ−4−メトキシカルボニル-N−メチル−N−(4−メチル−2 −ニトロフェニル)ベンズアミド2)3−メトキシ−4−メトキシカルボニル−N−〔4−メチル−2−(4−フ タルイミドブト−1−イルオキシ)〕フェニルベンズアミド 3)3−メトキシ−4−ニトロ−N−〔4−メチル−2−(5−フタルイミドペ ント−1−イルオキシ)〕フェニルベンズアミド 製造例51 実施例7と同様にして、つぎの化合物を得た。 1)4−アミノ−2−フタルイミドメチル−1H−ベンゾイミダゾール 2)4−アミノ−2−(2−フタルイミドエチル)−1H−ベンゾイミダゾール 3)4−アミノ−2−第三級ブチルジフェニルシリルオキシメチル−1H−ベン ゾイミダゾール 4)4−アミノ−2−〔(第三級ブトキシ)カルボニルアミノ〕−1H−ベンゾ イミダゾール 5)4−アミノ−2−〔(メチルスルホニル)アミノ〕−1H−ベンゾイミダゾ ール 6) 4−アミノ−2−メトキシメチル−1H−ベンゾイミダゾール 7)4−アミノ−2−(n−プロピル)−1H−ベンゾイミダゾール 8)4−アミノ−2−イソプロピル−1H−ベンゾイミダゾール 9)4−アミノ−2−(3−ピリジル)−1H−ベンゾイミダゾール10)4−アミノ−2−(N,N−ジメチルアミノメチル)−1H−ベンゾイミダ ゾール 11)4−アミノ−2−(1−イミダゾリル)メチル−1H−ベンゾイミダゾール 15)4−アミノ−2−〔(4−メチルピペラジン−1−イル)メチル〕−1H− ベンゾイミダゾール 13)4−アミノ−2−(モルホリン−4−イルメチル)−1H−ベンゾイミダゾ ール 14)4−アミノ−2−(ピロリジン−1−イルメチル)−1H−ベンゾイミダゾ ール15)4−アミノ−2−(ピペリジノメチル)−1H−ベンゾイミダゾール 16)4−アミノ−2−〔2−(4−メチルピペラジン−1−イル)エチル〕−1 H−ベンゾイミダゾール 17)4−アミノ−2−(4−メチルピペラジン−1−イル)−1H−ベンゾイミ ダゾール 18)4−アミノ−2−ジメチルアミノ−1H−ベンゾイミダゾール 19)4−アミノ−2−(1−イミダゾリル)−1H−ベンゾイミダゾール 20)4−アミノ−2−(1,2,4−テトラゾール−1−イル)−1H−ベンゾミ ダゾール 21)4−アミノ−2−〔(2−メトキシエチル)アミノ〕−1H−ベンゾイミダ ゾール 製造例52 実施例14と同様にして、つぎの化合物を得た。 2−ホルミル−1H−ベンゾイミダゾール−4−カルボン酸メチル 製造例53 実施例16と同様にして、つぎの化合物を得た。 2−メトキシメチル−4−ニトロ−1H−ベンゾイミダゾール 製造例54 2,3−ジアミノ安息香酸エチル(4.72g)とピリジン(2.49g)とのジクロ ロエタン(50ml)溶液に、-70℃で、塩化クロロアセチル(3.11g)のクロロホ ルム(10ml)溶液を加え、反応混合物を一夜放置した。反応混合物を減圧下で濃 縮後、残留物をエタノール(50ml)で希釈した。溶液にp−トルエンスルホン酸 (249mg)を加え、反応混合物を2時間還流下に加熱した。反応混合物を減圧下 で濃縮後、残留物を酢酸エチルおよび飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で希釈した 。有機層を分離し、食塩水で洗った。溶液を硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下 で濃縮した。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢 酸エチル=4:1)により精製して、2−クロロメチル−1H−ベンゾイミダゾ ール−4−カルボン酸エチル(2.98g)を得た。 製造例55 製造例54と同様にして、つぎの化合物を得た。 1)4−ニトロ−2−(n−プロピル)−1H−ベンゾイミダゾール 2)2−イソプロピル−4−ニトロ−1H−ベンゾイミダゾール 3)4−ニトロ−2−(3−ピリジル)−1H−ベンゾイミダゾール 4)2−(2−クロロエチル)−4−ニトロ−1H−ベンゾイミダゾール 5)2−(3−ピリジル)−1H−ベンゾイミダゾール−4−カルボン酸エチル 6)2−(2−ピリジル)−1H−ベンゾイミダゾール−4−カルボン酸エチル 製造例56 実施例26と同様にして、つぎの化合物を得た。 1)3−メトキシ−4−メトキシカルボニル−N−メチル−N−〔4−メチル− 2−(4−アミノブト−1−イルオキシ)]フェニルベンズアミド 2)3−メトキシ−N−メチル−4−ニトロ−N−〔2−(5−第三級ブトキシ カルボニルアミノペント−1−イル)オキシ−4−メチル〕フェニルベンズアミ ド 3)2−アミノメチル−1−メチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−カルボン 酸エチル 4)2−アミノメチル−3−メチル−3H−ベンゾイミダゾール−4−カルボン 酸エチル 製造例57 実施例30と同様にして、つぎの化合物を得た。 1)2−カルバモイル−1H−ベンゾイミダゾール−4−カルボン酸メチル 2)2−(N,N−ジメチルカルバモイル)−1H−ベンゾイミダゾール−4−カ ルボン酸メチル 3)2−(N,N−ジメチルカルバモイル)−4−ニトロ−1H−ベンゾイミダゾ ール 製造例58 3−ホルミルインドール−4−カルボン酸(390mg)と炭酸カリウム(285mg) とのN,N−ジメチルホルムアミド(10ml)中懸濁液に、外界温度で、臭化ベン ジル(353mg)を加え、混合物を4時間攪拌した。生じた混合物を酢酸エチルお よび水で希釈し、両層を分離した。有機層を食塩水で洗い、硫酸マグネシウムで 乾燥し、減圧下で濃縮した。残留油状物を、ジエチルエーテル:n−ヘキサン( 1:6)により粉末化して、3−ホルミルインドール−4−カルボン酸ベンジル (520mg)を得た。 製造例59 製造例58と同様にして、つぎの化合物を得た。 1)2−ヒドロキシメチルインドール−4−カルボン酸ベンジル 2)2−メチルインドール−4−カルボン酸ベンジル 製造例60 1−第三級ブトキシカルボニル−3−ホルミルインドール−4−カルボン酸ベ ンジル(363mg)のメタノール(15ml)溶液に、0℃で、水素化硼素ナトリウム (109mg)を加え、混合物を5分間攪拌した。生じた混合物を水で希釈し、溶液 を1N塩酸で中和した。溶液を酢酸エチルで抽出し、つぎに有機溶液を飽和重炭 酸ナトリウム水溶液および食塩水で順次洗い、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧 下で濃縮して、1−第三級ブトキシカルボニル−3−ヒドロキシメチルインドー ル−4−カルボン酸ベンジル(365mg)を得た。 製造例61 製造例60と同様にして、つぎの化合物を得た。 1−第三級ブトキシカルボニル−2−ヒドロキシメチルインドール−4−カル ボン酸ベンジル 製造例62 3−メトキシ−4−メトキシカルボニル安息香酸(800mg)のジクロロメタン (15ml)溶液に、塩化オキサリル(0.664ml)およびN,N−ジメチルホルムアミ ド1滴を加え、混合物を外界温度で2時間攪拌した。溶媒を蒸発させて除去後、 ジクロロメタン(5ml)中の残留酸塩化物を、2−〔4,4−ジメチル(2,5− オキサゾリニル)〕フェニルアミン(724mg)とトリエチルアミン(770mg)との ジクロロメタン(15ml)中混合物に、0℃で加え、混合物を外界温度で2時間攪 拌した。溶媒を蒸発させて除去後、残留物を酢酸エチルで希釈し、1N塩酸、飽 和炭酸水素ナトリウム水溶液および食塩水で順次洗い、硫酸ナトリウムで乾燥し た。回転蒸発により溶媒を除去して、N−〔2−〔4,4−ジメチル(2,5−オ キサゾリニル)〕フェニル〕−3−メトキシ−4−メトキシカルボニルベンズア ミド(1.46g)を得た。 製造例63 製造例62と同様にして、つぎの化合物を得た。 1)N−〔2−〔4,4−ジメチル(2,5−オキサゾリニル)〕フェニル〕−3 −メトキシ−4−ニトロベンズアミド 2)3−メトキシ−4−メトキシカルボニル−N−〔2−(モルホリン−4−イ ル)フェニル〕ベンズアミド 3)3−メトキシ−N−〔2−(モルホリン−4−イル)フェニル〕−4−ニト ロベンズアミド 4)3−メトキシ−4−メトキシカルボニル−N−〔2−(1−ピロリル)フェ ニル〕ベンズアミド 5)3−メトキシ−4−メトキシカルボニル−N−(2−ピペリジノフェニル) ベンズアミド 6)3−メトキシ−4−ニトロ−N−(2−ピペリジノフェニル)ベンズアミド 7)3−メトキシ−4−メトキシカルボニル−N−〔2−(4−メチル−1−ピ ペラジニル)フェニル〕ベンズアミド 8)3−メトキシ−N−〔2−(4−メチル−1−ピペラジニル)フェニル〕− 4−ニトロベンズアミド 9)3−メトキシ−4−メトキシカルボニル−N−〔2−(2,5−オキサゾリル )フェニル〕ベンズアミド 10)3−メトキシ−4−メトキシカルボニル−N−〔2−(2,5−オキサゾリ ニル)フェニル〕ベンズアミド 11)3−メトキシ−4−メトキシカルボニル−N−〔2−(3H,4H,5H−2 ,6−オキサジニル)フェニル〕ベンズアミド 12)N−〔2−(1−アザ−3−オキサスピロ〔4.4〕ノン−1−エン−2− イル)フェニル〕−3−メトキシ−4−メトキシカルボニルベンズアミド 製造例64 N−〔2−〔4,4−ジメチル(2,5−オキサゾリニル)〕フェニル〕−3− メトキシ−4−メトキシカルボニルベンズアミド(1.45g)のN,N−ジメチル ホルムアミド(18ml)溶液に、0℃で、水素化ナトリウム(167mg)を分割して 加え、混合物を0℃で30分間攪拌した。この混合物に沃化メチル(0.283ml)を 加え、溶液を0℃で1時間攪拌した。水により反応を終焉させたのち、水溶液を 酢酸エチルで抽出した。有機層を食塩水で洗い、硫酸ナトリウムで乾燥した。減 圧下で溶媒を蒸発させて、N−〔2−〔4,4−ジメチル(2,5−オキサゾリニ ル)〕フェニル〕−N−メチル−3−メトキシ−4−メトキシカルボニルベンズ アミド(1.5g)を得た。 製造例65 製造例64と同様にして、つぎの化合物を得た。 1)N−〔2−〔4,4−ジメチル(2,5−オキサゾリニル)〕フェニル〕−N −メチル−3−メトキシ−4−ニトロベンズアミド 2)3−メトキシ−4−メトキシカルボニル−N−メチル−N−〔2−(モルホ リン−4−イル)フェニル〕ベンズアミド 3)3−メトキシ−N−メチル−N−〔2−(モルホリン−4−イル)フェニル 〕−4−ニトロベンズアミド 4)3−メトキシ−4−メトキシカルボニル−N−メチル−N−〔2−(1−ピ ロリル)フェニル〕ベンズアミド 5)3−メトキシ−4−メトキシカルボニル−N−メチル−N−(2−ピペリジ ノフェニル)ベンズアミド 6)3−メトキシ−N−メチル−4−ニトロ−N−(2−ピペリジノフェニル) ベンズアミド 7)N−メチル−3−メトキシ−4−メトキシカルボニル−N−〔2−(4−メ チル−1−ピペラジニル)フェニル〕ベンズアミド 8)N−メチル−3−メトキシ−N−〔2−(4−メチル−1−ピペラジニル) フェニル〕−4−ニトロベンズアミド 9)3−メトキシ−4−メトキシカルボニル−N−メチル−N−〔2−(2,5− オキサゾリル)フェニル〕ベンズアミド 10)N−メチル−3−メトキシ−4−メトキシカルボニル−N−〔2−(2,5 −オキサゾリニル)フェニル〕ベンズアミド 11)N−メチル−3−メトキシ−4−メトキシカルボニル−N−〔2−(3H, 4H,5H−2,6−オキサジニル)フェニル〕ベンズアミド 12)N−〔2−(1−アザ−3−オキサスピロ〔4.4〕ノン−1−エン−2− イル)フェニル〕−3−メトキシ−4−メトキシカルボニル−N−メチルベンズ アミド 製造例66 2−(1−ピロリル)ニトロベンゼン(1.11g)のエタノール(30ml)溶液に 、鉄粉(1.65g)および酢酸(3.54g)を加え、混合物を1時間還流下に加熱した 。反応混合物をセライト層を通して濾過し、濾液を減圧下で濃縮した。残留物を 酢酸エチルと飽和重炭酸ナトリウム水溶液との混合物で希釈し、混合物を再度セ ライト層を通して沢過した。有機層を分離し、水および食塩水で洗った。溶液を 硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で溶媒を蒸発させて、2−(1−ピロリル)フ ェニルアミン(860mg)を得た。 製造例67 製造例66と同様にして、つぎの化合物を得た。 1)4−アミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−(2−ピペリジノフェニル) ベンズアミド 2)4−アミノ−N−メチル−3−メトキシ−N−〔2−(4−メチル−1−ピ ペラジニル)フェニル〕ベンズアミド 3)2−(2,5−オキサゾリニル)フェニルアミン 4)2−(3H,4H,5H−2,6−オキサジニル)フェニルアミン 5)4−アミノ−2−(N,N−ジメチルカルバモイル)−1H−ベンゾイミダゾ ール 製造例68 3−ニトロ−1,2−フェニレンジアミン(1.0g)とトリエチルアミン(793m g)とのジクロロメタン(3ml)溶液に、窒素下、水浴中で、塩化フタリルグリ シル(1.61g)を分割して加え、混合物を同温度で2時間攪拌した。反応混合物 を飽和重炭酸ナトリウム水溶液で洗い、硫酸ナトリウムで乾燥して、減圧下で蒸 発させた。得られた粗製品にポリ燐酸(5ml)を加え、130℃で3時間攪拌した 。混合物を外界温度まで冷却後、氷水浴中で、反応混合物にアンモニア溶液(28 %)を加えた。沈澱を真空濾過により集めて、2−フタルイミドメチル−4−ニ トロ−1H−ベンゾイミダゾール(1.35g)を得た。 製造例69 製造例68と同様にして、つぎの化合物を得た。 4−ニトロ−2−(2−フタルイミドエチル)−1H−ベンゾイミダゾール 製造例70 2−クロロ−4−ニトロ−1H−ベンゾイミダゾール(300mg)のN−メチル −2−ピロリドン(4ml)溶液に、イミダゾール(517mg)を加え、混合物を80 ℃で8時間攪拌した。反応混合物を食塩水中に注ぎ、クロロホルム−メタノ−ル 混合物で抽出した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で蒸発させた。 残留物をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、クロロホルム−メタノール(10 0−0〜30−1)混合物で溶出して、2−(1−イミダゾリル)−4−ニト ロ−1H−ベンゾイミダゾール(175mg)を得た。 製造例71 製造例70と同様にして、つぎの化合物を得た。 4−ニトロ−2−(1,2,4−テトラゾール−1−イル)−1H−ベンゾイミ ダゾール 製造例72 2−クロロ−4−ニトロ−1H−ベンゾイミダゾール(300mg)とN,N−ジメ チルエチレンジアミン(2ml)との混合物を、80℃で8時間攪拌した。反応混合 物を飽和重炭酸ナトリウム水溶液中に注ぎ、クロロホルム−メタノール混合物で 抽出した。有機層を食塩水で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で蒸発さ せた。残留物をジイソプロピルエーテルで洗って、2−〔〔2−(ジメチルアミ ノ)エチル〕アミノ〕−4−ニトロ−1H−ベンゾイミダゾール(113mg)を得 た。 製造例73 製造例72と同様にして、つぎの化合物を得た。 1)2−(4−メチルピペラジン−1−イル)−4−ニトロ−1H−ベンゾイミ ダゾール 2)2−ジメチルアミノ−4−ニトロ−1H−ベンゾイミダゾール 3)2−〔(2−アミノエチル)メチルアミノ〕−4−ニトロ−1H−ベンゾイ ミダゾール 4)2−〔(2−メチルアミノ)エチル〕アミノ−4−ニトロ−1H−ベンゾイ ミダゾール 5)2−〔〔2−(ジメチルアミノ)エチル〕メチルアミノ〕−4−ニトロ−1 H−ベンゾイミダゾール 6)2−〔(2−メトキシエチル)アミノ〕−4−ニトロ−1H−ベンゾイミダ ゾール 製造例74 2−クロロメチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−カルボン酸エチル(250m g)のジクロロエタン(2.5ml)溶液に、氷浴で冷却下、モルホリン(183mg)を 加え、反応混合物を外界温度で15時間攪拌した。反応混合物にモルホリン(91mg )を追加し、80℃で6時間攪拌した。反応混合物を減圧下で濃縮後、残留物をク ロロホルムおよび飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で希釈した。有機層を分離し、 食塩水で洗った。溶液を硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。残留物 をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(メタノール:クロロホルム=1:9) により精製して、2−モルホリノメチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−カル ボン酸エチル(219mg)を得た。 製造例75 製造例74と同様にして、つぎの化合物を得た。 1)2−(N,N−ジメチルアミノメチル)−4−ニトロ−1H−ベンゾイミダゾ ール2)2−(1−イミダゾリル)メチル−4−ニトロ−1H−ベンゾイミダゾール 3)2−〔(4−メチルピペラジン−1−イル)メチル〕−4−ニトロ−1Hー ベンゾイミダゾール 4)2−(モルホリン−4−イルメチル)−4−ニトロ−1H−ベンゾイミダゾ ール 5)4−ニトロ−2−(ピロリジン−1−イルメチル)−1H−ベンゾイミダゾ ール 6)4−ニトロ−2−(ピペリジノメチル)−1H−ベンゾイミダゾール 7)2−〔2−(ジメチルアミノ)エチル〕−4−ニトロ−1H−ベンゾイミダ ゾール 8)2−〔2−(4−メチルピペラジン−1−イル)エチル〕−4−ニトロ−1 H−ベンゾイミダゾール9)2−ジメチルアミノメチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−カルボン酸エ チル 10)2−(4−メチルピペラジン−1−イル)メチル−1H−ベンゾイミダゾー ル−4−カルボン酸エチル 11)2−(4−ジメチルアミノピペリジノ)メチル−1H−ベンゾイミダゾール −4−カルボン酸エチル 製造例76 2−メチル−4−ニトロベンゾイミダゾール(2.2g)の1,4−ジオキサン( 35ml)中懸濁液を、トリエチルアミン(2.51g)および二炭酸ジ第三級ブチル( 5.42g)で処理した。15分後、反応混合物に、N,N−ジメチルアミノピリジン (触媒量)を加えた。溶液をさらに20分間攪拌し、減圧下で濃縮し、残留物を酢 酸エチルに溶解させた。溶液を1N塩酸、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液お よび食塩水で洗った。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下で蒸 発させ、残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム)により 精製して、2−メチル−4−ニトロ−1H−ベンゾイミダゾール−1−カルボン 酸第三級ブチル(3.0g)を得た。 製造例77 製造例76と同様にして、つぎの化合物を得た。 1)2−(N−第三級ブトキシカルボニルアミノメチル)−1−メチル−1H− ベンゾイミダゾール−4−カルボン酸エチル 2)2−(N−第三級ブトキシカルボニルアミノメチル)−3−メチル−3H− ベンゾイミダゾール−4−カルボン酸エチル 3)2−〔(第三級ブトキシ)カルボニルアミノ〕−4−ニトロ−1H−ベンゾ イミダゾール 製造例78 N−(2−クロロエチル)−2−ニトロベンズアミド(3.63g)のアセトニト リル(100ml)溶液に、40%弗化カリウム/アルミナ(10g)を徐々に加えた。 このスラリーを外界温度で24時間攪拌した。セライト層を通して弗化カリウム /アルミナを濾別し、酢酸エチルで洗った。溶媒を減圧下で蒸発させて、2−( 2,5−オキサゾリニル)ニトロベンゼン(3.0g)を得た。 製造例79 製造例78と同様にして、つぎの化合物を得た。 2−(2−ニトロフェニル)−4H,5H,6H−1,3−オキサジン 製造例80 実施例84と同様にして、つぎの化合物を得た。 2−ホルミルインドール−4−カルボン酸ベンジル 製造例81 実施例107と同様にして、つぎの化合物を得た。 4−メチル−1−(2−ニトロフェニル)ピペラジン 製造例82 インドール−4−カルボン酸(500mg)のメタノール(9ml)および濃塩酸(1 .0ml)中溶液に、0℃で、水素化シアノ硼素ナトリウム(487mg)を加え、混合 物を外界温度で1時間攪拌した。この懸濁液を水(10ml)で希釈したのち、澄明 な溶液を2N水酸化ナトリウム水溶液で沖和した。メタノールを除去し、水溶液 をジオキサン(15ml)および1N水酸化ナトリウム水溶液で希釈した。この混合 物に、二炭酸ジ第三級ブチル(813mg)を分割して加え、溶液を外界温度で2時 間攪拌した。溶液を1N塩酸で中和し、酢酸エチル(30ml)で希釈した。得られ た溶液を食塩水で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。固体を 、ジエチルエーテル:n−ヘキサン(1:9)を用いて粉末化して、1−第三級 ブトキシカルボニルインドール−4−カルボン酸(727mg)を得た。 製造例83 トランス−2−〔β−(ジメチルアミノ)ビニル〕−3−ニトロ安息香酸メチ ル(3.16g)のテトラヒドロフラン(20ml)−ピリジン(3.57ml)溶液に、外界 温度で、塩化ベンジルオキシアセチル(4.2g)を滴下し、混合物を3時間還流 下に加熱した。生じた混合物を酢酸エチルで希釈し、溶液を、水、飽和重炭酸ナ トリウム水溶液および食塩水で順次洗った。乾燥し、濾過し、溶媒を除去して、 粗製品を得た。この粗製品をカラムクロマトグラフィーにより精製して、2−〔 β−(ジメチルアミノ)−α−(ベンジルオキシアセチル)ビニル〕−3−ニト ロベンゾアート(3.32g)を得た。 製造例84 2−〔β−(ジメチルアミノ)−α−(ベンジルオキシアセチル)ビニル〕− 3−ニトロベンゾアート(3.31g)とp−トルエンスルホン酸水和物(632mg) との1,4−ジオキサン(15ml)−水(5ml)溶液を、還流下に24時間加熱した 。生じた混合物を減圧下で蒸発させ、残留物を酢酸エチルで希釈した。有機層を 水および食塩水で順次洗った。乾燥し、濾過し、溶媒を除去して、粗製品を暗赤 色油状物として得た。この粗製品をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離 剤:ヘキサン:酢酸エチル=3:1)により精製して、3−ベンジルオキシメチ ル−5−ニトロイソクマリン(1.0g)を得た。 製造例85 3−ベンジルオキシメチル−5−ニトロイソクマリン(850mg)のメタノール (40.0ml)溶液を、三塩化チタン(11.2g)水溶液を一度に加えて、処理した。 外界温度で2時間攪拌後、水(100ml)およびクロロホルム(120ml)を加えた。 全体を飽和重炭酸ナトリウム水溶液で注意しながら塩基性化し、有機層を分離し た。水層をさらにクロロホルム(120ml)で抽出し、抽出液を合わせ、水で洗い 、硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮して、3−ベンジルオキシメチル−5−アミ ノイソクマリン(806mg)を得た。 製造例86 5−アミノ−3−ベンジルオキシメチルイソクマリン(800mg)とメタノール 中のナトリウムメチラート(768mg)との混合物を、外界温度で20分間攪拌した 。溶媒を除去後、残留物に水(40ml)を加え、全体をクロロホルムで抽出した。 抽出液を水で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥し、蒸発乾固して、粗製品を残留さ せた。これを、n−ヘキサン:酢酸エチル(6:1)を溶離剤としたシリカゲル カラムクロマトグラフィーにより精製して、2−ベンジルオキシメチルインドー ル−4−カルボン酸メチル(660mg)を得た。 製造例87 2−ベンジルオキシメチルインドール−4−カルボン酸メチル(650mg)のメ タノール(27ml)−濃塩酸(3.0ml)中溶液に、氷浴中で攪拌しながら、水素化 シアノ硼素ナトリウム(968mg)を加え、混合物を外界温度で2.5時間撹拌した。 得られた混合物を水(30ml)で希釈して、飽和重炭酸ナトリウム水溶液で塩基性 化した。この混合物を酢酸エチル(40ml)で抽出し、有機層を水および食塩水で 順次洗い、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。残留物をシリカゲル カラムクロマトグラフィー(溶離剤:n−ヘキサン:酢酸エチル=6:1)によ り精製して、2−ベンジルオキシメチルインドリン−4−カルボン酸メチル(55 0mg)を得た。 製造例88 冷却したN,N−ジメチルホルムアミド(20.0ml)に、常に攪拌しながら、オ キシ塩化燐(0.75mg)を加え、ヴィルスマイヤー試薬を調製した。上記溶液に、 0℃で、インドール−4−カルボン酸メチルのN,N−ジメチルホルムアミド(1 2.0ml)溶液を加え、溶液を30分間攪拌した。混合物を水(40ml)で希釈し、溶 液を飽和重炭酸ナトリウム水溶液で中和し、酢酸エチル(60ml)で抽出した。有 機層を水および食塩水で順次洗い、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮し た。固体を、ジエチルエーテル(7ml)を用いて粉末化して、3−ホルミルイン ドール−4−カルボン酸メチル(792mg)を得た。 製造例89 2,2,6,6−テトラメチルピペリジン(1.97g)のテトラヒドロフラン(24.0 ml)溶液に、-40℃で、n−ブチルリチウム(1.64M−n−ヘキサン溶液、6.8ml )を滴下し、混合物を0℃で30分間攪拌した。この溶液に、-60℃で、1−メト キシメトキシインドール−4−カルボン酸メチル(1.64g)のテトラヒドロフラ ン(12.0ml)溶液を加え、溶液を同温度で30分間攪拌した。この反応混合物に、 -60℃で、N,N−ジメチルホルムアミド(662mg)のテトラヒドロフラン(9.0ml )溶液を加え、溶液を同温度で2時間攪拌した。温度を-30℃まで上昇させ、飽 和塩化アンモニウム水溶液によって反応を終焉させた。水溶液を酢酸エチル(80 ml)で抽出し、有機層を食塩水で洗った。乾燥し、濾過し、溶媒を除去し、粗製 品を得た。この粗製品をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離剤:n−ヘ キサン:酢酸エチル=9:1)により精製して、2−ホルミル−1−メトキシメ トキシインドール−4−カルボン酸メチル(1.15g)を得た。 製造例90 1−第三級ブトキシカルボニル−2−ヒドロキシメチルインドール−4−カル ボン酸ベンジル(465mg)、フタルイミド(179mg)およびトリフェニルホスフィ ン(640mg)のテトラヒドロフラン(15.0ml)溶液に、アゾジカルボン酸ジエチ ル(425mg)を加え、混合物を外界温度で1時間攪拌した。生じた混合物を減圧 下で濃縮し、残留物を、n−ヘキサン:酢酸エチル(6:1)を用いてのシリカ ゲルクロマトグラフィーに付した。固体をメタノールを用いて粉末化し、1−第 三級ブトキシカルボニル−2−フタルイミドメチルインドール−4−カルボン酸 ベンジル(440mg)を得た。 製造例91 2−メチル−4−ニトロ−1H−ベンゾイミダゾール−1−カルボン酸第三級 ブチル(3.0g)と10%パラジウム炭(300mg)とのメタノール(25ml)−1,4 −ジオキサン(60ml)中混合物を、大気圧下、外界温度で11時間水素化した。セ ライト層を通して反応混合物を濾過し、濾液を減圧下で濃縮して、粗製品を得た 。この固体をジイソプロピルエーテル/n−ヘキサン(1/2)で洗って、4− アミノ−2−メチル−1H−ベンゾイミダゾール−1−カルボン酸(2.0g)を 得た。 製造例92 N−〔(1−ヒドロキシメチル)シクロペンチル〕−2−ニトロベンズアミド (2.1g)の塩化チオニル(5.8ml)溶液を、外界温度で1時間攪拌した。反応混 合物に、ジエチルエーテルを加え、生じた沈澱を濾取した。集めた沈澱を酢酸エ チルおよび1N水酸化ナトリウムに溶解させた。有機層を食塩水で洗い、硫酸マ グネシウムで乾燥し、濃縮して、4−アザ−3−(2−ニトロフェニル)−2− オキサスピロ[4.4]ノン−3−エン(1.95g)を得た。 製造例93 2−ホルミル−1H−ベンゾイミダゾール−4−カルボン酸メチル(460mg) の水(3.2ml)−第三級ブチルアルコール(12ml)混合物中懸濁液に、水浴中、 2−メチル−2−ブテン(700mg)および燐酸二水素ナトリウム(387mg)を加え た。この混合物に、亜塩素酸ナトリウム(901mg)を分割して加え、同温度で1 日間攪拌した。反応混合物を氷浴中で冷却し、1N塩酸でpH4に調整し、生じた 沈澱を真空沢過により集めた。沈澱を酢酸エチルおよびメタノールで洗って、2 −カルボキシ−1H−ベンゾイミダゾール−4−カルボン酸メチル(400mg)を 得た。 MASS(ES-)(m/z):219製造例94 3−エトキシカルボニル−1,2−フェニレンジアミン(790mg)のテトラヒ ドロフラン(10ml)溶液に、氷浴中で、1,1’−チオカルボニルジイミダゾー ル(1.02g)を加え、混合物を外界温度で20時間攪拌した。減圧下で反応溶媒を 濃縮し、残留物をクロロホルムで洗い、真空濾過により集めて、2−メルカプト −1H−ベンゾイミダゾール−4−カルボン酸エチル(665mg)を得た。 製造例95 2−メルカプト−1H−ベンゾイミダゾール−4−カルボン酸エチル(500mg) の溶液に、外界温度で、ヨードメタン(351mg)および炭酸カリウム(622mg)を 加え、混合物を同温度で20時間攪拌した。反応混合物を水中に注ぎ、クロロホル ムで抽出した。有機層を水および食塩水で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥し、減 圧下で蒸発させた。残留物をジイソプロピルエーテルで洗って、2−メチルチオ −1H−ベンゾイミダゾール−4−カルボン酸エチル(310mg)を得た。 製造例96 2−メチルチオ−1H−ベンゾイミダゾール−4−カルボン酸エチル(200mg )のジクロロメタン(4ml)溶液に、氷浴中、窒素下に、m−クロロ過安息香酸 (292mg)のジクロロメタン(4ml)溶液を滴下し、混合物を同温度で4時間攪 拌した。反応混合物を水中に注ぎ、クロロホルムで抽出した。有機層を水で洗い 、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で蒸発させた。残留物を分取薄層クロマト グラフィー(クロロホルム:酢酸エチル:メタノール=16:1:1)により精製 して、2−メチルスルホニル−1H−ベンゾイミダゾール−4−カルボン酸エチ ル(102mg)を得た。 製造例97 2−メルカプト−1H−ベンゾイミダゾール−4−カルボン酸エチル(950mg )の20%酢酸水溶液(30ml)中懸濁液に、0℃で、塩素を30分問吹き込んだ。 生じた粗製品を真空濾過によって集め、氷水浴中のアンモニア水溶液(28%、10 ml)に分割して加えた。反応混合物を外界温度で1時間攪拌したのち、1N塩酸 でpH5に調整した。沈澱を真空濾過により集めて、2−スルファモイル−1H− ベンゾイミダゾール−4−カルボン酸エチル(775mg)を得た。 製造例98 2−ヒドロキシメチル−4−ニトロ−1H−ベンゾイミダゾール(1.15g)に 、0℃で、塩化チオニル(8.3ml)を加えたのち、懸濁液を還流下に3時間加熱 した。減圧下で過剰の塩化チオニルを除去し、残留物を氷中に注ぎ、飽和重炭酸 ナトリウム水溶液でpH7に調整した。真空濾過により沈澱を集め、水で洗って 、2−クロロメチル−4−ニトロ−1H−ベンゾイミダゾール(1.32g)を得た 。 製造例99 2,4−ジヒドロキシ−8−メチルキナゾリン(1.00g)の2−メチル−2− プロパノール(20ml)−水(20ml)混合物溶液に、過マンガン酸カリウム(3.59 g)および硫酸マグネシウム(1.37g)を加え、反応混合物を90℃で15時間攪拌 した。セライト層を通して反応混合物を濾過し、濾液を水で希釈した。この溶液 を1N塩酸でpH4に調整した。生成した沈澱を真空濾過により集めて、2,4− ジヒドロキシキナゾリン−8−カルボン酸(390mg)を得た。 製造例100 3−アミノピラゾール−4−カルボン酸エチル(5.00g)の四塩化炭素(70ml )溶液に、オルト酢酸トリエチル(6.53g)を加え、反応混合物を90℃で3時間 攪拌した。減圧下で反応混合物を濃縮後、残留物をシリカゲル(クロマトレック ス、富士シリシア化学)カラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル =1:2)により精製して、3−(1−アザ−2−エトキシプロプ−1−エンイ ル)ピラゾール−4−カルボン酸エチル(4.94g)を得た。 製造例101 3−(1−アザ−2−エトキシプロプ−1−エンイル)ピラゾール−4−カル ボン酸エチル(4.90g)のN,N−ジメチルホルムアミド(50ml)溶液に、ヒド ロキシルアミン塩酸塩(15.1g)を加え、外界温度で3時間攪拌した。減圧下で 反応混合物を濃縮し、残留物を水で希釈した。溶液を1N塩酸でpH7に調整した 。生成した沈澱を真空濾過により集めて、3−〔〔1−(ヒドロキシイミノ)エ チル〕アミノ〕ピラゾール−4−カルボン酸エチル(1.52g)を得た。 製造例102 3−〔〔1−(ヒドロキシイミノ)エチル〕アミノ〕ピラゾール−4−カルボ ン酸エチル(1.50g)とピリジン(1.12g)とのN,N−ジメチルホルムアミド (20ml)溶液に、氷浴で冷却しながら、塩化p−トルエンスルホニル(1.39g) を加え、外界温度で3時間攪拌した。反応混合物を酢酸エチルおよび水で希釈し た。有機層を分離し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および食塩水で洗った。溶 液を硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮して、3−〔1−(p−トルエン スルホニルオキシイミノ)エチル〕アミノ−1H−ピラゾール−4−カルボン酸 エチル(2.14g)を得た。 製造例103 3−〔1−(p−トルエンスルホニルオキシイミノ)エチル〕アミノ−1H− ピラゾール−4−カルボン酸エチル(1.00g)とピリジン(240mg)とのエタノ ール(20mL)溶液を、還流下に3時間加熱した。減圧下で反応混合物を濃縮し、 残留物を水で希釈した。溶液を1N塩酸でpH4に調整した。生成した沈澱を真空 濾過により集めて、2−メチル−1H−ピラゾロ〔1,5−b〕トリアゾール− 7−カルボン酸エチル(240mg)を得た。 製造例104 3−アミノフタル酸エチル(1.00g)のエタノール(10ml)溶液に、ホルムア ミジン塩酸塩(444mg)を加え、12時間還流下に加熱した。冷却後、生じた沈澱 を真空濾過により集め、沈澱をエタノールで洗って、4−ヒロドキシキナゾリン −5−カルボン酸(504mg)を得た。 製造例105 3−ニトロ−2−アミノ安息香酸エチル(700mg)のN,N−ジメチルアニリン (7ml)溶液に、120℃で、塩化イソニコチノイル(2.96g)を3時間にわたっ て滴下した。冷却後、反応混合物を酢酸エチルおよび飽和炭酸水素ナトリウム水 溶液で希釈した。有機層を分離し、食塩水で洗った。溶液を硫酸マグネシウムで 乾燥し、減圧下で濃縮した。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n −ヘキサン:酢酸エチル=9:1)により精製して、3−ニトロ−2−(4−ピ リジル)カルボニルアミノ安息香酸エチル(200mg)を得た。 製造例106 3−ニトロ−2−(4−ピリジル)カルボニルアミノ安息香酸エチル(200mg )のエタノール(2ml)溶液に、外界温度で、鉄粉(177mg)および酢酸(381mg )を加え、反応混合物を60℃で2時間攪拌した。セライト層を通して反応混合物 を濾過したのち、濾液を減圧下で濃縮した。残留物をクロロホルムおよび飽和炭 酸水素ナトリウム水溶液で希釈した。有機層を分離し、食塩水で洗った。溶液を 硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮して、2−(4−ピリジル)−1H− ベンゾイミダゾール−4−カルボン酸エチル(150mg)を得た。 製造例107 3−アミノ−2−ヒドロキシ安息香酸エチル(500mg)、炭酸水素ナトリウム (927mg)および臭化ベンジルトリメチルアンモニウム(983mg)のクロロホルム (10ml)中混合物に、氷浴で冷却下、塩化クロロアセチル(374mg)のクロロホ ルム(3ml)溶液を滴下した。反応混合物を外界温度で1時間、60℃で2時間攪 拌した。反応混合物に、氷浴で冷却下、塩化クロロアセチル(312mg)のクロロ ホルム(3ml)溶液を滴下し、60℃で2時間攪拌した。減圧下で反応混合物を濃 縮後、残留物をクロロホルムおよび飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で希釈した。 有機層を分離し、食塩水で洗った。溶液を硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で 濃縮して、2H−1,4−ベンゾオキサジン−3−オン−8−カルボン酸エチル (460mg)を得た。 実施例40 実施例1と同様にして、つぎの化合物を得た。 1)4−(イミダゾ〔1,5−a〕ピリジン−1−カルボニル)アミノ−3−メト キシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1 −イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド 2)4−〔(1−第三級ブトキシカルボニル−2−エトキシカルボニルインドリ ン−4−イル)カルボニル〕アミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メ チル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1− イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド 3)4−〔(1−第三級ブトキシカルボニルインドリン−4−イル)カルボニル 〕アミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メ チルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベ ンズアミド 4)4−〔(2−ベンジルオキシメチル−1−第三級ブトキシカルボニルインド リン−4−イル)カルボニル〕アミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4− メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1 −イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド5)4−〔(1−第三級ブトキシカルボニル−3−第三級ブチルジフェニルシリ ルオキシメチルインドール−4−イル)カルボニル〕アミノ−3−メトキシ−N −メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル) カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド 6)4−〔(1−第三級ブトキシカルボニル−2−第三級ブチルジフェニルシリ ルオキシメチルインドール−4−イル)カルボニル〕アミノ−3−メトキシ−N −メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル) カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド 7)4−〔(1−第三級ブトキシカルボニル−2−フタルイミドメチルインド− ル−4−イル)カルボニル〕アミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メ チル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1− イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド 8)4−〔(1−第三級ブトキシカルボニル−2−メチルインドール−4−イル )カルボニル〕アミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔 5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ] フェニル〕ベンズアミド 9)4−〔(1−第三級ブトキシカルボニルインドリン−6−イル)カルボニル 〕アミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メ チルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベ ンズアミド 10)4−〔(1−第三級ブトキシカルボニルインドール−6−イル)カルボニル 〕アミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メ チルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベ ンズアミド 11)3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピ ペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕−4−( キノリン−8−イル)カルボニルアミノベンズアミド 12)4−(3−ヒドロキシ−1H−インダゾール−4−イル)カルボニルアミノ −3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル-2−〔5−(4−メチルピペ ラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミ ド 13)3−メトキシ−N−メチル−N−(4−メチル−2−ベンジルオキシフェニ ル)−4−〔2−(第三級ブトキシカルボニル)アミノメチル−1H−ベンゾイ ミダゾール−4−イル〕カルボニルアミノベンズアミド 14)N−(2,4−ジメチルフェニル)−3−メトキシ−N−メチル−4−〔2 −(第三級ブトキシカルボニルアミノメチル)−1H−ベンゾイミダゾール−4 −イル〕カルボニルアミノベンズアミド 15)3−メトキシ−N−(2−メトキシ−4−メチルフェニル)−N−メチル− 4−〔2−(第三級ブトキシカルボニルアミノメチル)−1H−ベンゾイミダゾ ール−4−イル〕カルボニルアミノベンズアミド 16)3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔4−(4−メチルピ ペラジン−1−イル)カルボニルフェニルメトキシ〕フェニル〕−4−〔2−( 第三級ブトキシカルボニル)アミノメチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イ ル〕カルボニルアミノベンズアミド MASS(m/z):776 17)3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔3−(4−メチルピ ペラジン−1−イル)カルボニルプロプ−1−イルオキシ〕−4−〔2−(第三 級ブトキシカルボニルアミノメチル)−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル〕 カルボニルアミノベンズアミド 18)3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔4−(4−メチルピ ペラジン−1−イル)カルボニルブト−1−イルオキシ〕フェニル〕−4−〔2 −(第三級ブトキシカルボニル)アミノメチル−1H−ベンゾイミダゾール−4 −イル〕カルボニルアミノベンズアミド 19)N−〔2−(4−エトキシカルボニルペント−1−イルオキシ)−4−メチ ルフェニル〕−3−メトキシ−N−メチル−4−(3−ニトロ−2−フタルイミ ドメチルカルボニルアミノフェニル)カルボニルアミノベンズアミド 20)4−〔2−カルバモイル−1−(4−メトキシベンジル)−1H−ベンゾイ ミダゾール−4−イル〕カルボニルアミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔 4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント −1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド21)4−〔2−(N,N−ジメチルカルバモイル)−1−(4−メトキシベン ジル)−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル〕カルボニルアミノ−3−メトキ シ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1− イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド 22)4−〔2−〔1−(ベンジルオキシカルボニル)−4−ピペリジル〕−1H −ベンゾイミダゾール−4−イル〕カルボニルアミノ−3−メトキシ−N−メチ ル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボ ニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド 23)4−〔2−(N−第三級ブトキシカルボニルアミノメチル)−1−メチル− 1H−ベンゾイミダゾール−4−イル〕カルボニルアミノ−3−メトキシ−N− メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カ ルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド 24)4−〔2−(N−第三級ブトキシカルボニルアミノメチル)−3−メチル −3H−ベンゾイミダゾール−4−イル〕カルボニルアミノ−3−メトキシ−N −メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル) カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド 25)4−(2−メチルチオ−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カルボニル アミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチ ルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベン ズアミド 26)3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピ ペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕−4−( 2−メチルスルホニル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カルボニルアミ ノベンズアミド 27)3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピ ペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕−4−( 2−スルファモイル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カルボニルアミノ ベンズアミド 28)4−(2,4−ジヒドロキシキナゾリン−8−イル)カルボニルアミノ−3 −メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジ ン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド 29)3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピ ペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕−4−( 2−メチル−1H−ピラゾロ〔1,5−b〕〔1,2,4〕トリアゾール−7− イル)カルボニルアミノベンズアミド 30)4−(4−ヒドロキシキナゾリン−5−イル)カルボニルアミノ−3−メト キシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1 −イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド 31)4−(2−ジメチルアミノメチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル) カルボニルアミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5− (4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェ ニル〕ベンズアミド 32)3−メトキシ−N−メチル-N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピ ペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕−4−〔 2−(4−メチルピペラジン−1−イル)メチル−1H−ベンゾイミダゾール −4−イル〕カルボニルアミノベンズアミド 33)4−〔2−(4−ジメチルアミノピペリジノ)メチル−1H−ベンゾイミダ ゾール−4−イル〕カルボニルアミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4− メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1 −イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド 34)3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピ ペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕−4−( 2−モルホリノメチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カルボニルアミ ノベンズアミド 実施例41 実施例4と同様にして、つぎの化合物を得た。 1)N−〔2−〔4,4−ジメチル(2,5−オキサゾリニル)フェニル〕−3− メトキシ−N−メチル−4−(3−ニトロ−2−トリフルオロアセチルアミノベ ンゾイル)アミノベンズアミド 2)3−メトキシ−N−メチル−N−〔2−(モルホリン−4−イル)フェニル 〕−4−(3−ニトロ−2−トリフルオロアセチルアミノベンゾイル)アミノベ ンズアミド 3)3−メトキシ−N−メチル−N−〔2−(4−メチル−1−ピペラジニル) フェニル〕−4−(3−ニトロ−2−トリフルオロアセチルアミノベンゾイル) アミノベンズアミド 4)3−メトキシ−N−メチル−4−(3−ニトロ−2−トリフルオロアセチル アミノベンゾイル)アミノ−N−(2−ピペリジノフェニル)ベンズアミド 実施例42 実施例7と同様にして、つぎの化合物を得た。 1)N−(2−アセトキシ−4−メチルフェニル)−4−(2,3−ジアミノフ ェニル)カルボニルアミノ−3−メトキシ−N−メチルベンズアミド 2)4−(2,3−ジアミノフェニル)カルボニルアミノ−3−メトキシ−N− (2−メトキシカルボニル−4−メチルフェニル)−N−メチルベンズアミド 3)4−(2,3−ジアミノフェニル)カルボニルアミノ−3−メトキシ−N−メ チル−N−〔2−(4−フタルイミドブト−1−イルオキシ)−4−メチルフェ ニル〕ベンズアミド実施例43 実施例13と同様にして、つぎの化合物を得た。 1)N−(2−アセトキシ−4−メチルフェニル)−4−(1H−ベンゾイミダ ゾール−4−イル)カルボニルアミノ−3−メトキシ−N−メチルベンズアミド 2)4−(1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カルボニルアミノ−3−メト キシ−N−(2−メトキシカルボニル−4−メチルフェニル)−N−メチルベン ズアミド 実施例44 実施例16と同様にして、つぎの化合物を得た。 1)3−メトキシ−N−メチル−4−(2−メチル−1H−ベンゾイミダゾール −4−イル)カルボニルアミノ−N−〔2−(4−フタルイミドブト−1−イル オキシ)−4−メチルフェニル〕ベンズアミド2)3−メトキシ−N−(2−メトキシカルボニル−4−メチルフェニル)−N −メチル−4−(2−メチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カルボニ ルアミノベンズアミド 実施例45 実施例18と同様にして、つぎの化合物を得た。 1)3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピ ペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕−4−〔 2−(3−フタルイミドプロピル)−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル〕カ ルボニルアミノベンズアミド 2)3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピ ペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕−4−( 2−フェニル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カルボニルアミノベンズ アミド 実施例46 実施例23と同様にして、つぎの化合物を得た。 1)4−〔(2−エトキシカルボニルインドリン−4−イル)カルボニル〕アミ ノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピ ペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズア ミド 2)4−〔(インドリン−4−イル)カルボニル〕アミノ−3−メトキシ−N− メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カ ルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド 3)4−〔(2−ヒドロキシメチルインドリン−4−イル)カルボニル〕アミノ −3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペ ラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミ ド 4)4−〔(インドリン−6−イル)カルボニル〕アミノ−3−メトキシ−N− メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カ ルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド 5)4−〔2〔〔2−(ジメチルアミノ)エチル〕アミノ〕−1H−ベンゾイミ ダゾール−4−イル〕カルバモイル−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メ チル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1− イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド 実施例47 実施例25と同様にして、つぎの化合物を得た。 1)4−〔2−カルバモイル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル〕カルボニ ルアミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メ チルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベ ンズアミド 2)4−〔2−(N,N−ジメチルカルバモイル)−1H−べンゾイミダゾール− 4−イル〕カルボニルアミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル− 2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオ キシ〕フェニル〕ベンズアミド 実施例48 実施例26と同様にして、つぎの化合物を得た。 1)4−(2−アミノメチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カルボニ ルアミノ−N−〔2−(5−エトキシカルボニルペント−1−イルオキシ)−4 −メチルフェニル〕−3−メトキシ−N−メチルベンズアミド 2)4−(2−アミノメチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カルバモ イル−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチル ピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズ アミド 3)4−〔2−(2−アミノエチル)−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル〕 カルバモイル−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4 −メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル 〕ベンズアミド 実施例49 実施例28と同様にして、つぎの化合物を得た。 1)4−(2−アミノ−3−ニトロベンゾイル)アミノ−N−〔2−〔4,4−ジ メチル(2,5−オキサゾリニル)フェニル〕−3−メトキシ−N−メチルベン ズアミド 2)4−(2−アミノ−3−ニトロベンゾイル)アミノ−3−メトキシ−N−メ チル−N−〔2−(モルホリン−4−イル)フェニル〕ベンズアミド3)4−(2−アミノ−3−ニトロベンゾイル)アミノ−3−メトキシ−N−メ チル−N−(2−ピペリジノフェニル)ベンズアミド 4)4−(2−アミノ−3−ニトロベンゾイル)アミノ−3−メトキシ−N−メ チル−N−〔2−(4−メチル−1−ピペラジニル)フェニル〕ベンズアミド 実施例50 実施例29と同様にして、つぎの化合物を得た。 4−(2−カルボキシフェニルカルバモイル)−3−メトキシ−N−メチル− N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニル ペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド 実施例51 4−(1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カルボニルアミノ−N−(2− メトキシカルボニル−4−メチルフェニル)−3−メトキシ−N−メチルベンズ アミドを出発化合物として用い、実施例29と同様にして、つぎの化合物を得た。 4−(1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カルボニルアミノ−N−(2− カルボキシ−4−メチルフェニル)−3−メトキシ−N−メチルベンズアミド 実施例52 実施例51と同様にして、つぎの化合物を得た。 N−(2−カルボキシ−4−メチルフェニル)−3−メトキシ−N−メチル− 4−(2−メチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カルボニルアミノベ ンズアミド 実施例53 実施例30と同様にして、つぎの化合物を得た。 1)4−〔(2−カルバモイルインドール−4−イル)カルボニル〕アミノ−3 −メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジ ン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド 2)4−〔〔2−(N−メチルカルバモイル)インドール−4−イル〕カルボニ ル〕アミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4− メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕 ベンズアミド 3)4−〔2−(N,N−ジメチルカルバモイル)フェニルカルバモイル〕−3− メトキシ−N−メチル-N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン −1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド 実施例54 実施例32と同様にして、つぎの化合物を得た。 1)4−〔(1−第三級ブトキシカルボニル−3−ヒドロキシメチルインドール −4−イル)カルボニル〕アミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチ ル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イ ルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド 2)4−(2−ヒドロキシメチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カル バモイル−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メ チルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベ ンズアミド 実施例55 実施例4および28と同様にして、つぎの化合物を得た。 1)4−(2−アミノ−3−ニトロフェニル)カルボニルアミノ−3−メトキシ −N−(2−メトキシカルボニル−4−メチルフェニル)−N−メチルベンズア ミド 2)4−(2−アミノ−3−ニトロフェニル)カルボニルアミノ−3−メトキシ −N−〔2−(4−メトキシフェニルメチルオキシ)−4−メチルフェニル〕− N−メチルベンズアミド 3)4−(2−アミノ−3−ニトロフェニル)カルボニルアミノ−3−メトキシ −N−メチル−N−〔2−(5−第三級ブトキシカルボニルアミノペント−1− イル)オキシ−4−メチル〕フェニルベンズアミド 実施例56 実施例7および16と同様にして、つぎの化合物を得た。 1)N−(2−アミノ−4−メチルフェニル)−3−メトキシ−N−メチル−4 −(2−メチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カルボニルアミノベン ズアミド 2)3−メトキシ−N−メチル−4−(2−メチル−1H−ベンゾイミダゾール −4−イル)カルボニルアミノ−N−〔2−(5−第三級ブトキシカルボニルア ミノペント−1−イル)オキシ−4−メチル〕フェニルベンズアミド 3)N−〔2−〔4,4−ジメチル(2,5−オキサゾリニル)〕フェニル−3− メトキシ−N−メチル−4−(2−メチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イ ル)カルボニルアミノベンズアミド 4)3−メトキシ−N−メチル−4−(2−メチル−1H−ベンゾイミダゾール −4−イル)カルボニルアミノ−N−〔2−(モルホリン−4−イル)フェニル 〕ベンズアミド 5)3−メトキシ−N−メチル−4−(2−メチル−1H−ベンゾイミダゾール −4−イル)カルボニルアミノ−N−(2−ピペリジノフェニル)ベンズアミド 6)3−メトキシ−N−メチル−4−(2−メチル−1H−ベンゾイミダゾール −4−イル)カルボニルアミノ−N−〔2−(4−メチル−1−ピペラジニル) フェニル〕ベンズアミド 実施例57 2−(4−ピリジル)−1H−ベンゾイミダゾール−4−カルボン酸(155mg )のジクロロメタン(2ml)溶液に、塩化オキサリル(0.056ml)およびN,N− ジメチルホルムアミド(2滴)を加え、外界温度で2時間攪拌した。反応混合物 を減圧下で濃縮して、塩化2−(4−ピリジル)−1H−ベンゾイミダゾール− 4−カルボニルを得た。4−アミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メ チル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1− イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド(76.8mg)とトリエチルアミン(65mg)と のジクロロメタン(5ml)溶液に、氷浴で冷却下、塩化2−(4−ピリジル) −1H−ベンゾイミダゾール−4−カルボニルのジクロロメタン(2ml)溶液を 加え、外界温度で6時間攪拌した。減圧下で反応混合物を濃縮後、残留物をクロ ロホルムおよび飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で希釈した。有機層を分離し、食 塩水で洗った。溶液を硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。残留物を シリカゲル(クロマトレックス、富士シリシア化学製)カラムクロマトグラフィ ー(メタノール:クロロホルム=1:49)により精製した。精製品に水および1 N塩酸(0.51m1)を加えた。溶液を凍結乾燥して、3−メトキシ−N−メチル− N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニル ペント−1−イルオキシ〕フェニル〕−4−〔2−(4−ピリジル)−1H−ベ ンゾイミダゾール−4−イル〕カルボニルアミノベンズアミド三塩酸塩(120mg )を得た。 実施例58 実施例57と同様にして、つぎの化合物を得た。 1)3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピ ペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕−4−〔 2−(3−ピリジル)−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル〕カルボニルアミ ノベンズアミド三塩酸塩 2)3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピ ペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕−4−〔 2−(2−ピリジル)−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル〕カルボニルアミ ノベンズアミド三塩酸塩 3)4−(2H−1,4−ベンゾオキサジン−3−オキソ−8−イル)カルボニル アミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチ ルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベン ズアミド塩酸塩 実施例59 N−(2−フタルイミド−4−メチルフェニル)−2−アミノ−3−メトキシ −N−メチルベンズアミドを出発化合物として用い、実施例4と同様にして、つ ぎの化合物を得た。 N−(2−アミノ−4−メチルフェニル)−4−(2−アミノ−3−ニトロフ ェニル)カルボニルアミノ−3−メトキシ−N−メチルベンズアミド 実施例60 N−〔2−(5−エトキシカルボニルペント−1−イルオキシ)−4−メチル フェニル〕−3−メトキシ−N−メチル−4−(3−ニトロ−2−フタルイミド メチルカルボニルアミノフェニル)カルボニルアミノベンズアミド(3.96g)、 鉄粉(1.42g)および酢酸(3.05g)のエタノール(50ml)中混合物を、還流下 に4時間加熱し、溶媒を減圧下で除去した。残留物を、クロロホルム(100ml) と飽和炭酸水素ナトリウム水溶液(100ml)との混合物中で30分間攪拌し、溶液 をセライト層を通して濾過した。有機層を分離し、食塩水で洗った。溶液を硫酸 マグネシウムで乾燥したのち、溶媒を減圧下で蒸発させた。残留物を、ジエチル エーテルを用いて固化させて、N−〔2−(5−エトキシカルボニルペント−1 −イルオキシ)−4−メチルフェニル〕−3−メトキシ−N−メチル−4−(2 −フタルイミドメチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カルボニルアミ ノベンズアミド(3.64g)を得た。 実施例61 4−(2,3−ジアミノベンゾイル)アミノ−3−メトキシ−N−メチル−N −〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルベ ント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド(240mg)のアセトニトリル( 1ml)溶液に、シアノ酢酸(662mg)を加えた。溶液を100℃で8時間加熱した。 冷却後、混合物に炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、混合物を酢酸エチルで抽出 した。抽出液を食塩水で洗い、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を蒸発させ たのち、残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム中7%メ タノール)および分取薄層クロマトグラフィー(酢酸エチル:メタノール=1: 1)により精製して、4−〔〔2−シアノメチル−1H−ベンゾイミダゾール− 4−イル〕カルボニルアミノ〕−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル −2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イル オキシ〕フェニル〕ベンズアミド(80mg)を得た。 実施例62 4−(2,3−ジアミノベンゾイル)アミノ−3−メトキシ−N−メチル−N −〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペ ント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド(100mg)とメルカプト酢酸(4 48mg)からなる溶液を、80℃で5時間加熱した。反応混合物をクロロホルムで希 釈し、炭酸水素ナトリウム水溶液で洗った。抽出液を硫酸ナトリウムで乾燥した 。溶媒を蒸発させたのち、残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロ ロホルム中10%メタノール)により精製して、3−メトキシ−4−(2−メルカ プトメチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カルボニルアミノ−N−メ チル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カル ボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド(60mg)を得た。 実施例63 4−(2,3−ジアミノベンゾイル)アミノ−3−メトキシ−N−メチル−N −〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペ ント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド(150mg)、ブチロラクトン(6 28mg)およびp−トルエンスルホン酸(139mg)からなる溶液を100℃で4時間加 熱した。反応混合物をクロロホルムで希釈し、炭酸水素ナトリウム水溶液で洗っ た。抽出液を硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を蒸発させたのち、残留物をシリ カゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム中10%メタノール)により、つ ぎに分取薄層クロマトグラフィー(クロロホルム/メタノール=20/3)により 精製して、4−〔2−(3−ヒドロキシプロピル)−1H−ベンゾイミダゾール −4−イル〕カルボニルアミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル −2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イル オキシ〕フェニル〕ベンズアミド(70mg)を得た。 実施例64 4−(2,3−ジアミノベンゾイル)アミノ−3−メトキシ−N−メチル−N −〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペ ント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド(140mg)と炭酸ナトリウム(1 4mg)との酢酸エチル(1.5ml)中混合物に、水浴中で、1,1−ジクロロ−1, 1−ジフェノキシメタン(67mg)の酢酸エチル(1ml)溶液を滴下し、混合物を 同温度で5時間攪拌した。反応混合物を減圧下で蒸発させて、クロロホルムに溶 解させた。有機層を水で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥して、減圧下で蒸発させ た。残留物を分取薄層クロマトグラフィー(クロロホルム:メタノール=10:1 )により精製して、3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5− (4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェ ニル〕−4−(2−フェノキシ−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カルボ ニルアミノベンズアミド(18mg)を得た。 実施例65 4−(2,3−ジアミノベンゾイル)アミノ−3−メトキシ−N−メチル−N −〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペ ント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド(150mg)とN−スルファモイ ルカルボンイミド酸ジフエニル(85mg)とのジクロロメタン(8ml)中混合物を 、窒素下、還流下に24時間加熱した。反応混合物を水中に注ぎ、クロロホルムで 抽出した。有機層を水で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で蒸発させた 。残留物を分取薄層クロマトグラフィー(クロロホルム:メタノール=10:1/ クロロホルム:メタノール=6:1)により精製して、3−メトキシ−N−メチ ル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボ ニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕−4−(2−スルファモイルアミノ− 1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カルボニルアミノベンズアミド(38mg) を得た。 実施例66 4−(2,3−ジアミノベンゾイル)アミノ−3−メトキシ−N−メチル−N −〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペ ント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド(150mg)とN−シアノカルボ ンイミド酸ジフェニル(64mg)との2−プロパノール(2ml)中懸濁液を、窒素 下で、3時間還流下に加熱した。反応混合物を減圧下で蒸発させ、クロロホルム に溶解させた。有機溶液を水で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で蒸発 させた。残留物を分取薄層クロマトグラフィー(クロロホルム:酢酸エチル:メ タノール=8:1:1/クロロホルム:メタノール=10:1)により精製して、 4−(2−シアノアミノ−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カルボニルア ミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチル ピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズ アミド(45mg)を得た。 実施例67 4−(2,3−ジアミノフェニル)カルボニルアミノ−3−メトキシ−N−メ チル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カル ボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド(200mg)、グリオキ サール(47mg)および亜硫酸水素ナトリウム(169mg)のエタノール(15ml)中 混合物を、還流下に5時間加熱した。この溶液をクロロホルム(3Oml)で希釈し 、溶液を水および食塩水で洗った。有機溶液を硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧 下で溶媒を蒸発させて、油状物を得た。この粗製品をシリカゲルカラム(クロロ ホルム中1%メタノール)により精製して、3−メトキシ−N−メチル−N−〔 4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント −1−イルオキシ〕フェニル〕−4−(キノキサリン−5−イル)カルボニルア ミノベンズアミド(131mg)を得た。 実施例68 4−〔N−〔1−〔(第三級ブチル)オキシカルボニル〕ベンゾイミダゾール −4−イル〕カルバモイル〕−N−〔2−〔4,4−ジメチル(2,5−オキサゾ リニル)〕フェニル〕−3−メトキシ−N−メチルベンズアミド(400mg)のジ クロロメタン(1Oml)溶液にトリフルオロ酢酸(4ml)を加えた。混合物を外界温 度で3時間攪拌した。反応混合物を減圧下で濃縮し、クロロホルムと飽和重炭酸 ナトリウム水溶液との混合物で希釈した。有機層を分離し、水および食塩水で洗 った。溶液を硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で溶媒を蒸発させた。残留物を カラムクロマトグラフィー(クロロホルム:メタノール=100:3)により精製 して、4−〔N−(1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カルバモイル〕−N −〔2−〔4,4−ジメチル(2,5−オキサゾリニル)〕フェニル〕−3−メト キシ−N−メチルベンズアミド(290mg)を得た。 実施例69 実施例68と同様にして、つぎの化合物を得た。 1)4−〔N−(1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カルバモイル〕−3− メトキシ−N−メチル−N−〔2−(モルホリン−4−イル)フェニル〕ベンズ アミド2)4−〔N−(1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カルバモイル〕−3− メトキシ−N−メチル−N−〔2−(1−ピロリル)フェニル〕ベンズアミド 3)3−メトキシ−N−メチル−4−〔N−(2−メチル−1H−ベンゾイミダ ゾール−4−イル)カルバモイル〕−N−〔2−(4−メチル−1−ピペラジニ ル)フェニル〕ベンズアミド 4)3−メトキシ−N−メチル−4−〔N−(2−メチル−1H−ベンゾイミダ ゾール−4−イル)カルバモイル〕−N−〔2−(2,5−オキサゾリル)フェ ニル〕ベンズアミド 実施例70 4−〔(1−第三級ブトキシカルボニル−2−フタルイミドメチルインドール −4−イル)カルボニル〕アミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチ ル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イ ルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド(312mg)のエタノール(5.0ml)および1N 水酸化ナトリウム水溶液(1.76ml)中溶液を、外界温度で6時間攪拌した。生じ た溶液を水で希釈し、クロロホルムで抽出した。有機層を硫酸マグネシウムで乾 燥し、減圧下で濃縮して、4−〔(2−アミノメチルインドール−4−イル)カ ルボニル〕アミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5− (4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェ ニル〕ベンズアミド(228mg)を得た。 実施例71 実施例70と同様にして、つぎの化合物を得た。 1)4−〔(2−メチルインドール−4−イル)カルボニル〕アミノ−3−メト キシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1 −イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド 2)4−〔(3−ヒドロキシメチルインドール−4−イル)カルボニル〕アミノ −3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペ ラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミ ド3)4−〔(インドール−6−イル)カルボニル〕アミノ−3−メトキシ−N− メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カ ルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド 実施例72 3−メトキシ−N−メチル−4−〔2−〔〔2−((N−第三級ブトキシカル ボニル)メチルアミノ)エチル〕アミノ−1−第三級ブトキシカルボニル−1H −ベンゾイミダゾール−4−イル〕カルバモイル−N−〔4−メチル−2−〔5 −(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フ ェニル〕ベンズアミドを出発化合物として用い、実施例23と同様にして、つぎ の化合物を得た。 3−メトキシ−N−メチル−4−〔2−〔〔2−(メチルアミノ)エチル〕ア ミノ〕−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル〕カルバモイル−N−〔4−メチ ル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イ ルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド 実施例73 実施例72と同様にして、つぎの化合物を得た。 4−〔2−〔(2−アミノエチル)メチルアミノ〕−1H−ベンゾイミダゾー ル−4−イル〕カルバモイル−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル− 2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオ キシ〕フェニル〕ベンズアミド 実施例74 4−〔2−第三級ブトキシカルボニルアミノ−1H−ベンゾイミダゾール−4 −イル〕カルバモイル−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔 5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕 フェニル〕ベンズアミドを出発化合物として用い、実施例23と同様にして、つぎ の化合物を得た。 4−〔2−アミノ−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル〕カルバモイル−3 −メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジ ン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド 実施例75 製造例13と同様にして、つぎの化合物を得た。 1)4−(2−アミノメチル−1−メチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イ ル)カルボニルアミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔 5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕 フェニル〕ベンズアミド 2)4−(2−アミノメチル−3−メチル−3H−ベンゾイミダゾール−4−イ ル)カルボニルアミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔 5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕 フェニル〕ベンズアミド 実施例76 3−メトキシ−N−メチル−N−(4−メチル−2−ベンジルオキシフェニル )−4−〔2−(第三級ブトキシカルボニル)アミノメチル−1H−ベンゾイミ ダゾール−4−イル〕カルボニルアミノベンズアミド(260mg)の90%トリフル オロ酢酸(2ml)溶液を、外界温度で2時間攪拌し、溶媒を減圧下で蒸発させた 。残留物をクロロホルム(10ml)および飽和炭酸水素ナトリウム水溶液(10ml) とともに攪拌し、有機層を分離した。この溶液を食塩水で洗って、硫酸マグネシ ウムで乾燥した。減圧下で溶媒を蒸発させ、残留物をNH型シリカゲルカラム( クロロホルム)により精製して、4−(2−アミノメチル−1H−ベンゾイミダ ゾール−4−イル)カルボニルアミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−(4− メチル−2−ベンジルオキシフェニル)ベンズアミド(130mg)を得た。 実施例77 実施例76と同様にして、つぎの化合物を得た。 1)4−(2−アミノメチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カルボニ ルアミノ−N−(2,4−ジメチルフェニル)−3−メトキシ−N−メチルベン ズアミド 2)4−(2−アミノメチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カルボニ ルアミノ−3−メトキシ−N−(2−メトキシ−4−メチルフェニル)−N−メ チルベンズアミド 3)4−(2−アミノメチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カルボニ ルアミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔4−(4−メ チルピペラジン−1−イル)カルボニルフェニルメトキシ〕フェニル〕ベンズア ミド 4)4−(2−アミノメチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カルボニ ルアミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔3−(4−メ チルピペラジン−1−イル)カルボニルプロプ−1−イルオキシ〕フェニルベン ズアミド 5)4−(2−アミノメチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カルボニ ルアミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔4−(4−メ チルピペラジン−1−イル)カルボニルブト−1−イルオキシ〕フェニル〕ベン ズアミド 6)4−(2−アミノメチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カルボニ ルアミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−(5−ピペラジ ン−1−イルカルボニルペント−1−イルオキシ)フェニル〕ベンズアミド 7)4−(2−アミノメチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カルボニ ルアミノ−N−〔2−(5−カルバモイルペント−1−イルオキシ)−4−メチ ルフェニル〕−3−メトキシ−N−メチルベンズアミド 8)4−(2−アミノメチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カルボニ ルアミノ−N−〔2−(5−ジメチルカルバモイルペント−1−イルオキシ)− 4−メチルフェニル〕−3−メトキシ−N−メチルベンズアミド 9)4−(2−アミノメチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カルボニ ルアミノ−N−〔2−〔5−(2,2−ジメチルヒドラジノ)カルボニルペント −1−イルオキシ)−4−メチルフェニル〕−3−メトキシ−N−メチルカルボ ニルアミノベンズアミド10)4−(2−アミノメチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カルボニ ルアミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−オ キソピペリジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベ ンズアミド 11)4−(2−アミノメチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カルボニ ルアミノ−N−〔2−〔5−(4−ヒドロキシピペリジン−1−イル)カルボニ ルペント−1−イルオキシ〕−4−メチルフェニル〕−3−メトキシ−N−メチ ルベンズアミド 12)4−(2−アミノメチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カルボニ ルアミノ−N−〔2−〔5−〔N−(2−ジメチルアミノエト−1−イル)−N −メチルアミノカルボニル〕ペント−1−イルオキシ〕−4−メチルフェニル〕 −3−メトキシ−N−メチルベンズアミド 実施例78 実施例38および76と同様にして、つぎの化合物を得た。 4−(2−アミノメチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カルボニル アミノ−N−〔2−(6−ヒドロキシヘキス−1−イル)オキシ−4−メチル〕 フェニル−3−メトキシ−N−メチルベンズアミド二塩酸塩 実施例79 3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル-2−〔5−(4−メチルピペ ラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕−4−〔2 −(3−フタルイミドプロピル)−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル〕カル ボニルアミノベンズアミド(160mg)のエタノール(5ml)溶液に、ヒドラジン 水和物(49mg)を加え、外界温度で6時間攪拌した。減圧下で反応混合物を濃縮 後、残留物を分取薄層クロマトグラフィー(メタノール:クロロホルム:28%ア ンモニア溶液=3:5:1)により精製した。精製品に水および1N塩酸(0.51 ml)を加えた。この溶液を凍結乾燥して、4−〔2−(3−アミノプロピル)− 1H−ベンゾイミダゾール−4−イル〕カルボニルアミノ−3−メトキシ−N− メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カ ルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド三塩酸塩(70mg)を 得た。 実施例80 4−〔(1−第三級ブトキシカルボニル−2−第三級ブチルジフェニルシリル オキシメチルインドール−4−イル)カルボニル〕アミノ−3−メトキシ−N− メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カ ルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド(615mg)の1N水 酸化ナトリウム水溶液(3.1ml)およびメタノール(10ml)溶液を、外界温度で 一夜攪拌した。生じた溶液を1N塩酸で中和し、酢酸エチル(20ml)で抽出した 。有機層を食塩水で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。残留 物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離剤:クロロホルム中8−10%メ タノール)により精製して、4−〔(2−ヒドロキシメチルインドール−4−イ ル)カルボニル〕アミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2− 〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ 〕フェニル〕ベンズアミド(362mg)を得た。 実施例81 4−〔(1−第三級ブトキシカルボニル−2−ベンジルオキシメチルインドリ ン−4−イル)カルボニル〕アミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メ チル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1− イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミドを出発化合物として用い、製造例10と同様 にして、つぎの化合物を得た。 4−〔(1−第三級ブトキシカルボニル−2−ヒドロキシメチルインドリン− 4−イル)カルボニル〕アミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル −2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イル オキシ〕フェニル〕ベンズアミド 実施例82 4−(2−アミノメチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カルボニル アミノ−N−〔2−(5−エトキシカルボニルペント−1−イルオキシ)−4− メチルフェニル〕−3−メトキシ−N−メチルベンズアミド(2.95g)のジクロ ロメタン(30ml)溶液に、氷浴で冷却しながら、トリエチルアミン(496mg)お よび二炭酸ジ第三級ブチル(1.07g)を加え、混合物を外界温度で3時間攪拌し た。溶液を水、10%塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および食塩水で順次洗 い、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下で溶媒を蒸発させ、残留物を シリカゲルカラム(クロロホルム中1%メタノール)により精製して、N−〔2 −(5−エトキシカルボニルペント−1−イルオキシ)−4−メチルフェニル〕 −3−メトキシ−N−メチル−4−〔2−(第三級ブトキシカルボニルアミノ) メチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル〕カルボニルアミノベンズアミド (2.65g)を得た。 実施例83 4−〔(2−エトキシカルボニルインドリン−4−イル)カルボニル〕アミノ −3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペ ラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミ ド(175mg)のアンモニアーメタノール溶液(8.0ml)中溶液を、外界温度で一夜 放置した。減圧下で溶媒を蒸発させ、残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフ ィー(溶離剤:クロロホルム中8−10%メタノール)により精製して、4−〔( 2−カルバモイルインドリン−4−イル)カルボニル〕アミノ−3−メトキシ− N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル )カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド(160mg)を得 た。 実施例84 4−〔(2−ヒドロキシメチルインドール−4−イル)カルボニル〕アミノ− 3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラ ジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド (295mg)のジクロロメタン(8.0ml)溶液に、酸化マンガン(IV)(196mg)を 加え、混合物を外界温度で3時間攪拌した。生じた混合物をセライト層を通して 濾過し、濾液を減圧下で濃縮した。ジエチルエーテル:n−ヘキサン(1:3) を用いて残留物を粉末化して、4−〔(2−ホルミルインドール−4−イル)カ ルボニル〕アミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5− (4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェ ニル〕ベンズアミド(255mg)を得た。 実施例85 4−(2−アミノメチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カルボニル 〕アミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−(2−ベンジルオキシ−4−メチル フェニル)ベンズアミド(120mg)のメタノール(15ml)溶液を、水酸化パラジ ウム(20mg)の存在下、大気圧の水素のもと、外界温度で一夜攪拌した。濾過し て触媒を除去後、濾液を減圧下で蒸発させて、4−(2−アミノメチル−1H− ベンゾイミダゾール−4−イル)カルボニルアミノ−3−メトキシ−N−メチル −N−(2−ヒドロキシ−4−メチルフェニル)ベンズアミド(85mg)を得た。 実施例86 4−(2−アミノ−3−ニトロフェニル)カルボニルアミノ−N−〔2−(4 −メトキシベンジルオキシ)−4−メチルフェニル〕−3−メトキシ−N−メチ ルベンズアミドを出発化合物として用い、実施例85と同様にして、つぎの化合物 を得た。 4−(2−アミノ−3−ニトロフェニル)カルボニルアミノ−N−(2−ヒド ロキシ−4−メチルフェニル)−3−メトキシ−N−メチルベンズアミド 実施例87 N−〔2−(5−エトキシカルボニルペント−1−イルオキシ)−4−メチル フェニル〕−3−メトキシ−N−メチル−4−〔2−(第三級ブトキシカルボニ ルアミノ)メチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル〕カルボニルアミノベ ンズアミドを出発化合物として用い、実施例29と同様にして、つぎの化合物を得 た。 N−〔2−(5−カルボキシペント−1−イルオキシ)−4−メチルフェニル 〕−3−メトキシ−N−メチル−4−〔2−(第三級ブトキシカルボニルアミノ )メチル−IH−ベンゾイミダゾール−4−イル〕カルボニルアミノベンズアミ ド 実施例88 N−〔2−(5−カルボキシペント−1−イルオキシ)−4−メチルフェニル 〕−3−メトキシ−N−メチル−4−〔2−(第三級ブトキシカルボニルアミノ )メチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル〕カルボニルアミノベンズアミ ド(200mg)、4−(第三級ブトキシカルボニル)ピペラジン(66.3mg)、1− (3−ジメチルアミノプロピル)−3−エチルカルボジイミド塩酸塩(68.3mg) および1−ヒドロキシベンゾトリアゾール(48.1mg)のN,N−ジメチルホルム アミド(5ml)中混合物を、外界温度で一夜攪拌し、混合物を酢酸エチルで希釈 した。溶液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水および食塩水で順次洗い、硫酸 マグネシウムで乾燥した。溶媒を蒸発させ、残留物をシリカゲルカラム(クロロ ホルム)により精製して、3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2− 〔5−(4−第三級ブトキシカルボニルピペラジン−1−イル)カルボニルペン ト−1−イルオキシ〕フェニル〕−4−〔2−(第三級ブトキシカルボニ ル)アミノメチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル〕カルボニルアミノベ ンズアミド(250mg)を得た。 実施例89 実施例88と同様にして、つぎの化合物を得た。 1)3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−オキソピ ペリジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕−4−〔 2−(第三級ブトキシカルボニル)アミノメチル−1H−ベンゾイミダゾール− 4−イル〕カルボニルアミノベンズアミド 2)N−〔2−(5−カルバモイルペント−1−イルオキシ)−4−メチルフェ ニル〕−3−メトキシ−N−メチル−4−〔2−(第三級ブトキシカルボニルア ミノ)メチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル〕カルボニルアミノベンズ アミド 3)N−〔2−(5−ジメチルカルバモイルペント−1−イルオキシ)−4−メ チルフェニル〕−3−メトキシ−N−メチル−4−〔2−(第三級ブトキシカル ボニルアミノ)メチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル〕カルボニルアミ ノベンズアミド 4)N−〔2−〔5−(2,2−ジメチルヒドラジノ)カルボニルペント−1−イ ルオキシ〕−4−メチルフェニル〕−3−メトキシ−N−メチル−4−〔2−( 第三級ブトキシカルボニルアミノ)メチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イ ル〕カルボニルアミノベンズアミド 5)N−〔2−〔5−〔N−(2−ジメチルアミノエト−1−イル)−N−メチ ルアミノカルボニル〕ペント−1−イルオキシ〕−4−メチルフェニル〕−3− メトキシ−N−メチル−4−〔2−(第三級ブトキシカルボニル)アミノメチル −1H−ベンゾイミダゾール−4−イル〕カルボニルアミノベンズアミド 実施例90 4−(1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カルボニルアミノ−N−(2− カルボキシ−4−メチルフェニル)−3−メトキシ−N−メチルベンズアミドを 出発化合物として用い、実施例88と同様にして、つぎの化合物を得た。 4−(1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カルボニルアミノ−N−(2− カルバモイル−4−メチルフェニル)−3−メトキシ−N−メチルベンズアミド 実施例91 実施例90と同様にして、つぎの化合物を得た。 N−(2−ジメチルカルバモイル−4−メチルフェニル)−3−メトキシ−N −メチル−4−(2−メチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カルボニ ルアミノベンズアミド 実施例92 3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−オキソピペ リジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル]−4−〔2 −(第三級ブトキシカルボニル)アミノメチル−1H−ベンゾイミダゾール−4 −イル〕カルボニルアミノベンズアミド(150mg)のメタノール(5ml)溶液に 、氷浴で冷却しながら、水素化硼素ナトリウム(7.52mg)を加え、混合物を同温 度で1時間攪拌した。混合物をクロロホルムで希釈し、溶液を水および食塩水で 洗った。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で溶媒を蒸発させて、N− 〔2−〔5−(4−ヒドロキシピペリジン−1−イル)カルボニルペント−1− イルオキシ〕−4−メチルフェニル〕−3−メトキシ−N−メチル−4−〔2− (第三級ブトキシカルボニル)アミノメチル−1H−ベンゾイミダゾール−4− イル〕カルボニルアミノベンズアミド(150mg)を得た。 実施例93 4−(2−アミノ−3−ニトロフェニル)カルボニルアミノ−N−(2−ヒド ロキシ−4−メチルフェニル)−3−メトキシ−N−メチルベンズアミド(400m g)、無水酢酸(90.7mg)およびトリエチルアミン(89.9mg)のジクロロメタン (20ml)中混合物を、氷浴中で4時間攪拌した。混合物をクロロホルムで希釈し 、溶液を水および食塩水で洗った。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下 で溶媒を蒸発させて、N−(2−アセトキシ−4−メチルフェニル)−4−(2 −アミノ−4−ニトロフェニル)カルボニルアミノ−3−メトキシ−N−メチル ベンズアミド(425mg)を得た。 実施例94 4−(2−アミノ−3−ニトロフェニル)カルボニルアミノ−N−(2−ヒド ロキシ−4−メチルフェニル)−3−メトキシ−N−メチルベンズアミド(520m g)、N−(4−ブロモブチル)フタルイミド(326mg)および炭酸カリウム(16 0mg)のN,N−ジメチルホルムアミド(10ml)中混合物を60℃で8時間攪拌した 。混合物を酢酸エチルで希釈し、溶液を水および食塩水で洗った。有機層を硫酸 マグネシウムで乾燥し、減圧下で溶媒を蒸発させた。この粗製油状物をシリカゲ ルカラム(クロロホルム中1%メタノール)により精製して、4−(2−アミノ −3−ニトロフェニル)カルボニルアミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔 2−(4−フタルイミドブト−1−イルオキシ)−4−メチルフェニル〕ベンズ アミド(670mg)を得た。 実施例95 N−〔2−(4−フタルイミドブト−1−イルオキシ)−4−メチルフェニル 〕−3−メトキシ−N−メチル−4−(2−メチル−1H−ベンゾイミダゾール −4−イル)カルボニルアミノベンズアミドを出発化合物として用い、実施例26 と同様にして、つぎの化合物を得た。 N−〔2−(4−アミノブト−1−イルオキシ)−4−メチルフェニル〕−3 −メトキシ−N−メチル−4−〔2−メチル−1H−ベンゾイミダゾール−4− イル)カルボニルアミノベンズアミド 実施例96 実施例95と同様にして、つぎの化合物を得た。 N−〔2−(6−アミノヘキス−1−イル)オキシ−4−メチル〕フェニル− 3−メトキシ−N−メチル−4−〔2−(第三級ブトキシカルボニル)アミノメ チル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル〕カルボニルアミノベンズアミド 実施例97 N−〔2−(5−第三級ブトキシカルボニルアミノペント−1−イル)オキシ −4−メチル〕フェニル−3−メトキシ−N−メチル−4−(2−メチル−1H −ベンゾイミダゾール−4−イル)カルボニルアミノベンズアミドを出発化合物 として用い、実施例23と同様にして、つぎの化合物を得た。 N−〔2−(5−アミノペント−1−イル)オキシ−4−メチル〕フェニル− 3−メトキシ−N−メチル−4−(2−メチル−1H−ベンゾイミダゾール−4 −イル)カルボニルアミノベンズアミド 実施例98 実施例97と同様にして、つぎの化合物を得た。 N−〔2−(4−アミノブト−1−イル)オキシ−4−メチル〕フェニル−3 −メトキシ−N−メチル−4−(2−メチル−1H−ベンゾイミダゾール−4− イル)カルバモイルベンズアミド MASS(m/z):516実施例99 N−〔2−(4−アミノブト−1−イル)オキシ−4−メチル〕フェニル−3 −メトキシ−N−メチル−4−(2−メチル−1H−ベンゾイミダゾール−4− イル)カルボニルアミノベンズアミド(120mg)のジクロロメタン(10ml)溶液 に、無水酢酸(23.8mg)を加え、混合物を外界温度で1時間攪拌した。溶液を水 および食塩水で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で溶媒を蒸発させた。 残留物をシリカゲルカラム(クロロホルム中2%メタノール)により精製して、 N−〔2−(4−アセチルアミノブト−1−イルオキシ)−4−メチルフェニル 〕−3−メトキシ−N−メチル−4−(2−メチル−1H−ベンゾイミダゾール −4−イル)カルボニルアミノベンズアミド(87mg)を得た。 実施例100 N−〔2−(4−アミノブト−1−イルオキシ)−4−メチルフェニル〕−3 −メトキシ−N−メチル−4−(2−メチル−1H−ベンゾイミダゾール−4− イル)カルボニルアミノベンズアミド(150mg)、37%ホルムアルデヒド溶液(4 3.7mg)および水素化シアノ硼素ナトリウム(18.3mg)のメタノール(10ml)中 混合物を、外界温度で6時間攪拌した。混合物をクロロホルムで希釈し、溶液を 飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および食塩水で洗った。有機層を硫酸マグネシウ ムで乾燥し、減圧下で溶媒を蒸発させた。粗製品をシリカゲルカラム(クロロホ ルム中5%メタノール)により精製して、N−〔2−(4−ジメチルアミノブト −1−イルオキシ)−4−メチルフェニル〕−3−メトキシ−N−メチル−4− (2−メチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カルボニルアミノベンズ アミド(142mg)を得た。 実施例101 製造例25および実施例38と同様にして、つぎの化合物を得た。 N−(2−アミノ−4−メチルベンジル)−3−メトキシ−N−メチル−4− (2−メチルベンゾイミダゾール−4−イル)カルバモイルベンズアミド二塩酸 塩 実施例102 N−(2−カルボキシ−4−メチルフェニル)−3−メトキシ−N−メチル− 4−(2−メチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カルボニルアミノベ ンズアミド(350mg)、ジフェニルホスホリルアジド(224mg)およびトリエチル アミン(82.5mg)のジオキサン(10ml)中混合物を、80℃に6時間加熱した。蒸 発後、残留油状物をシリカゲルカラムに付し、カラムをクロロホルム中5%メタ ノールで溶出した。目的画分を集めて、減圧下で蒸発させ、残留物をクロロホル ムから固化させて、N−(2−アミノ−4−メチルフェニル)−3−メトキシ− N−メチル−4−(2−メチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カルボ ニルアミノベンズアミド(280mg)を得た。 実施例103 実施例102と同様にして、つぎの化合物を得た。 N−(2−アミノ−4−メチルフエニル)−4−(1H−ベンゾイミダゾール −4−イル)カルボニルアミノ−3−メトキシ−N−メチルベンズアミド 実施例104 N−〔2−(5−カルボキシペント−1−イルオキシ)−4−メチルフェニル 〕−3−メトキシ−N−メチル−4−〔2−(第三級ブトキシカルボニル)アミ ノメチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル〕カルボニルアミノベンズアミ ド(850mg)、N−ヒドロキシスクシンイミド(145mg)ならびにN,N’−ジシ クロヘキシルカルボジイミド(260mg)のテトラヒドロフラン(2Oml)中混合物 を、外界温度で一夜攪拌し、生じた不溶性の尿素化合物を濾去した。濾液に、水 素化硼素リチウム(55mg)を加え、混合物を外界温度で5時間攪拌した。混合物 をクロロホルムで希釈し、溶液を1N塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液およ び食塩水で順次洗った。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下で蒸 発させた。粗製品をシリカゲルカラム(クロロホルム中5%メタノール)によ り精製して、N−〔2−(6−ヒドロキシヘキス−1−イル)オキシ−4−メチ ル〕フェニル−3−メトキシ−N−メチル−4−〔2−(第三級ブトキシカルボ ニル)アミノメチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル〕カルボニルアミノ ベンズアミド(340mg)を得た。 実施例105 N−〔2−(6−ヒドロキシヘキス−1−イル)オキシ−4−メチル〕フェニ ル−3−メトキシ−N−メチル−4−〔2−(第三級ブトキシカルボニル)アミ ノメチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル〕カルボニルアミノベンズアミ ド(210mg)、塩化メシル(36.5mg)ならびにトリエチルアミン(32.2mg)のジ クロロメタン(10ml)中混合物を、氷浴中で2時間攪拌した。混合物をクロロホ ルムで希釈し、溶液を1N塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および食塩水で 洗った。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で溶媒を蒸発させて、N− 〔2−(6−メタンスルホニルオキシヘキス−1−イル)オキシ−4−メチル〕 フェニル−3−メトキシ−N−メチル−4−〔2−(第三級ブトキシカルボニル )アミノメチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル〕カルボニルアミノベン ズアミド(235mg)を得た。 実施例106 N−〔2−(6−メタンスルホニルオキシヘキス−1−イル)オキシ−4−メ チル〕フェニル−3−メトキシ−N−メチル−4−〔2−(第三級ブトキシカル ボニル)アミノメチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル〕カルボニルアミ ノベンズアミド(235mg)とフタルイミドカリウム(88.5mg)とのジメチルスル ホキシド(10ml)中混合物を、50℃に6時間加熱した。混合物を酢酸エチルで希 釈し、溶液を水および食塩水で洗った。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、減 圧下で溶媒を蒸発させた。粗製品をシリカゲルカラム(クロロホルム中1%メタ ノール)により精製して、3−メトキシ−N−メチル−N−〔2−(6−フタル イミドヘキス−1−イル)オキシ−4−メチル〕フェニル−4−〔2−(第三級 ブトキシカルボニル)アミノメチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル〕カ ルボニルアミノベンズアミド(224mg)を得た。 実施例107 4−〔2−クロロ−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル〕カルボニルアミノ −3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペ ラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミ ド(70mg)とN−メチルピペラジン(106mg)とからなる溶液を、80℃に2.5時間 加熱した。過剰のN−メチルピペラジンを減圧下で蒸発させ、残留物を分取薄層 クロマトグラフィー(クロロホルム:メタノール=10:1)により精製して、3 −メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジ ン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕−4−〔2−( 4−メチルピペラジン−1−イル)−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル〕カ ルボニルアミノベンズアミド(66mg)を得た。 実施例108 実施例107と同様にして、つぎの化合物を得た。 2)3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピ ペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕−4−〔 2−(モルホリン−4−イル)−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル〕カルボ ニルアミノベンズアミド2)4−〔(2−ジメチルアミノ−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カル ボニルアミノ〕−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−( 4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニ ル〕ベンズアミド 3)4−〔2−〔4−(ジメチルアミノ)ピペリジノ〕−1H−ベンゾイミダゾ ール−4−イル〕カルボニルアミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メ チル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1− イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド 4)4−〔〔2−(ジメチルアミノ)アミノ−1H−ベンゾイミダゾール−4− イル〕カルボニルアミノ〕−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2 −〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキ シ〕フェニル〕ベンズアミド5)4−〔2−〔(2−アミノエチル)メチルアミノ〕−1H−ベンゾイミダゾ ール−4−イル〕カルボニルアミノ〕−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4− メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1 −イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド 6)4−〔〔2−〔〔2−(ジメチルアミノ)エチル〕アミノ〕−1H−ベンゾ イミダゾール−4−イル〕カルボニルアミノ〕−3−メトキシ−N−メチル−N −〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペ ント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド 実施例109 3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペ ラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕−4−〔2 −(1−ベンジルオキシカルボニル−4−ピペリジル)−1H−ベンゾイミダゾ ール−4−イル〕カルボニルアミノベンズアミドを出発化合物として用い、実施 例24と同様にして、つぎの化合物を得た。 3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペ ラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕−4−〔2 −(4−ピペリジル)−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル〕カルボニルアミ ノベンズアミド 実施例110 4−(2−ホルミル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カルボニルアミ ノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピ ペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズア ミド(158mg)、ヒドロキシルアミン塩酸塩(25mg)、酢酸ナトリウム(30mg) およびエタノール(60%水溶液、1.5ml)を合わせ、混合物を60℃で3時間攪拌 した。外界温度まで冷却後、反応混合物を減圧下で濃縮した。残留物をクロロホ ルムに溶解させ、水および食塩水で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で 蒸発させた。残留物を塩基性分取薄層クロマトグラフィー(クロロホルム:メタ ノール=15:1)により精製して、4−(2−シン−ヒドロキシイミノメチル− 1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カルボニルアミノ−3−メトキシ−N− メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カ ルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド(38mg)および4− (2−アンチ−ヒドロキシイミノメチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル )カルボニルアミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5 −(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フ ェニル〕ベンズアミド(89mg)を得た。 シン異性体: アンチ異性体: 実施例111 4−〔〔2−シアノメチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル〕カルボニ ルアミノ〕−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4− メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕 ベンズアミド(224mg)のエタノール(4ml)および水(2ml)溶液に、ヒドロ キシルアミン塩酸塩(93.5mg)および炭酸水素ナトリウム(113mg)を加えた。 溶液を90℃に2時間加熱した。減圧下で濃縮後、残留物に炭酸水素ナトリウム水 溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。抽出液を食塩水で洗い、硫酸ナトリウムで 乾燥した。溶媒を蒸発させたのち、残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ ー(クロロホルム中10%メタノール)により精製して、4−〔〔2−〔2−アミ ノ−2−(ヒドロキシイミノ)エチル〕−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル 〕カルボニルアミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5 −(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキ シ〕フェニル〕ベンズアミド(200mg)を得た。 実施例112 4−〔(2−ホルミルインドール−4−イル)カルボニル〕アミノ−3−メト キシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1 −イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド(200mg )のピリジン(4.0ml)溶液に、ヒドロキシルアミン塩酸塩(21.3mg)を加え、 溶液を外界温度で1時間攪拌した。得られた溶液を減圧下で濃縮し、残留物をク ロロホルムで希釈した。有機層を水および食塩水で順次洗い、硫酸マグネシウム で乾燥し、減圧下で濃縮して、4−〔(2−ヒドロキシイミノメチルインドール −4−イル)カルボニル〕アミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチ ル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イ ルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド(203mg)を得た。 実施例113 2−メトキシ−4−〔N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチ ルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕カル バモイル〕安息香酸(200mg)のN,N−ジメチルホルムアミド(3ml)溶液に、 0℃で、1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸 塩(97mg)、N−ヒドロキシベンゾトリアゾール(79mg)ならびに4−アミノ− 2−〔(4−メチルピペラジン−1−イル)メチル〕−1H−ベンゾイミダゾー ル(105mg)を加え、混合物を外界温度で15時間攪拌した。反応混合物を飽和重 炭酸ナトリウム水溶液中に注ぎ、クロロホルムで抽出した。有機層を飽和重炭酸 ナトリウム水溶液および食塩水で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で蒸 発させた。残留物を分取薄層クロマトグラフィー(クロロホルム:メタノール= 10:1)により精製して、3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2− 〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ 〕フェニル〕−4−〔2−〔(4−メチルピペラジン−1−イル)メチル〕−1 H−ベンゾイミダゾール−4−イル〕カルバモイルベンズアミド(104mg)を得 た。 実施例114 実施例113と同様にして、つぎの化合物を得た。 1)4−(1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カルバモイル−3−メトキシ −N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イ ル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド 2)4−〔(ナフタレン−1−イル)カルバモイル〕−3−メトキシ−N−メチ ル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボ ニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド 3)3−(2−カルバモイルフェニルカルバモイル)−3−メトキシ−N−メチ ル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボ ニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕べンズアミド 4)4−(2−メトキシカルボニルフェニルカルバモイル)−3−メトキシ−N −メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル) カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド 5)4−(2−スルファモイルフェニルカルバモイル)−3−メトキシ−N−メ チル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カル ボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド 6)4−〔(インドール−4−イル)カルバモイル〕−3−メトキシ−N−メチ ル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボ ニルペント−1−イルオキシ〕フェニル]ベンズアミド 7)3−メトキシ−N−メチル−4−(2−メチル−1H−ベンゾイミダゾール −4−イル)カルバモイル−N−(4−メチル−2−ニトロフェニル)ベンズア ミド 8)3−メトキシ−N−メチル−4−(2−メチル−1H−ベンゾイミダゾール −4−イル)カルバモイル−N−〔2−(4−第三級ブトキシカルボニルアミノ ブト−1−イル)オキシ−4−メチル〕フェニルベンズアミド9)4−〔N−〔1−〔(第三級ブチル)オキシカルボニル〕ベンゾイミダゾー ル−4−イル〕カルバモイル〕−N−〔2−〔4,4−ジメチル(2,5−オキ サゾリニル)フェニル〕−3−メトキシ−N−メチルベンズアミド 10)4−〔N−〔2−〔(ジメチルアミノ)メチル〕−1H−ベンゾイミダゾー ル−4−イル〕カルバモイル〕−N−〔2−〔4,4−ジメチル(2,5−オキ サゾリニル)フェニル〕−3−メトキシ−N−メチルベンズアミド 11)4−〔N−〔1−〔(第三級ブチル)オキシカルボニル〕ベンゾイミダゾー ル−4−イル〕カルバモイル〕−3−メトキシ−N−メチル−N−〔2−(モル ホリン−4−イル)フェニル〕ベンズアミド 12)4−〔N−〔1−〔(第三級ブチル)オキシカルボニル〕ベンゾイミダゾー ル−4−イル〕カルバモイル〕−3−メトキシ−N−メチル−N−〔2−(1− ピロリル)フェニル〕ベンズアミド 13)3−メトキシ−N−メチル−4−〔N−(2−メチル−1H−ベンゾイミダ ゾール−4−イル)カルバモイル〕−N−(2−ピペリジノフェニル)ベンズア ミド 14)4−〔N−〔1−〔(第三級ブチル)オキシカルボニル〕−2−メチルベン ゾイミダゾール−4−イル〕カルバモイル〕−3−メトキシ−N−メチル−N− 〔2−(4−メチル−1−ピペラジニル)フェニル〕ベンズアミド 15)4−〔N−〔1−〔(第三級ブチル)オキシカルボニル〕−2−メチルベン ゾイミダゾール−4−イル〕カルバモイル〕−3−メトキシ−N−メチル−N− 〔2−(2,5−オキサゾリル)フェニル〕べンズアミド 16)3−メトキシ−N−メチル−4−〔N−(2−メチル−1H−ベンゾイミダ ゾール−4−イル)カルバモイル〕−N−〔2−(2,5−オキサゾリニル)フ ェニル〕ベンズアミド 17)3−メトキシ−N−メチル−4−〔N−(2−メチル−1H−ベンゾイミダ ゾール−4−イル)カルバモイル〕−N−〔2−(3H,4H,5H−2,6−オ キサジニル)フェニル〕ベンズアミド 18)N−〔2−(1−アザ−3−オキサスピロ〔4.4〕ノン−1−エン−2− イル)フェニル〕−3−メトキシ−N−メチル−4−〔N−(2−メチル−1H −ベンゾイミダゾール−4−イル)カルバモイル〕ベンズアミド 19)3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピ ペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕−4−( 2−フタルイミドメチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カルバモイル ベンズアミド20)3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピ ペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕−4−〔 2−(2−フタルイミドエチル)−1H−ベンゾイミダゾール-4−イル)カル バモイルベンズアミド 21)4−(2−第三級ブチルジフェニルシロキシメチル−1H−ベンゾイミダゾ ール−4−イル)カルバモイル−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル −2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イル オキシ〕フェニル〕ベンズアミド 22)3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピ ペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕−4−〔 2−〔(第三級ブトキシ)カルボニルアミノ〕−1H−ベンゾイミダゾール−4 −イル〕カルバモイルベンズアミド23)3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピ ペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕−4−〔 2−〔(メチルスルホニル)アミノ〕−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル〕 カルバモイルベンズアミド 24)3−メトキシ−4−〔2−メトキシメチル−1H−ベンゾイミダゾール−4 −イル〕カルバモイル−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチ ルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベン ズアミド 25)3−メトキシ−N−メチル−4−〔2−メチル−1H−ベンゾイミダゾール −4−イル〕カルバモイル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラ ジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド26)4−〔1,2−ジメチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル〕カルバモ イル−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチル ピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズ アミド 27)4−〔2−エチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル〕カルバモイル− 3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラ ジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド 28)3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピ ペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕−4−〔 2−(n−プロピル)−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル〕カルバモイルベ ンズアミド 29)4−〔2−イソプロピル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル〕カルバモ イル−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチル ピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズ アミド 30)3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル-2−〔5−(4−メチルピ ペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕−4−〔 2−トリフルオロメチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル〕カルバモイル ベンズアミド 31)3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピ ペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕−4−〔 2−(3−ピリジル)−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル〕カルバモイルベ ンズアミド 32)4−〔2−(N,N−ジメチルカルバモイル)−1H−ベンゾイミダゾール −4−イル〕カルバモイル−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2 −〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキ シ〕フェニル〕ベンズアミド 33)3−メトキシ−4−〔2−メトキシ−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル 〕カルバモイル−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペ ラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミ ド 34)4−〔2−(N,N−ジメチルアミノメチル)−1H−ベンゾイミダゾール −4−イル〕カルバモイル−3−メトキシ−N−メチル-N−〔4−メチル−2 −〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキ シ〕フェニル〕ベンズアミド 35)3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピ ペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕−4− 〔2−(1−イミダゾリル)メチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル〕カ ルバモイルベンズアミド 36)3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピ ペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕−4−〔 2−(モルホリン−4−イルメチル)−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル〕 カルバモイルベンズアミド 37)3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピ ペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕−4−〔 2−(ピロリジン−1−イルメチル)−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル〕 カルバモイルベンズアミド 38)3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピ ペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕−4−〔 2−(ピペリジノメチル)−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル〕カルバモ イルベンズアミド 39)4−〔2−〔2−(ジメチルアミノ)エチル〕−1H−ベンゾイミダゾール −4−イル〕カルバモイル−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2 −〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキ シ〕フェニル〕ベンズアミド 40)3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピ ペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕−4−〔 2−〔2−(4−メチルピペラジン−1−イル)エチル〕−1H−ベンゾイミダ ゾール−4−イル〕カルバモイルベンズアミド 41)3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピ ペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕−4−〔 2−(4−メチルピペラジン−1−イル)−1H−ベンゾイミダゾール−4−イ ル〕カルバモイルベンズアミド 42)4−〔2−ジメチルアミノ−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル〕カルバ モイル−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチ ルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベン ズアミド 43)4−〔1−(第三級ブトキシカルボニル)−2−〔〔2−〔N−(第三級ブ トキシカルボニル)−N−メチルアミノ〕エチル〕アミノ〕−1H−ベンゾイミ ダゾール−4−イル〕カルバモイル−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メ チル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1− イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド 44)4−〔1−(第三級ブトキシカルボニル)−2−〔〔2−〔(第三級ブトキ シ)カルボニルアミノ〕エチル〕メチルアミノ〕−1H−ベンゾイミダゾール− 4−イル〕カルバモイル−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2− 〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ 〕フェニル〕ベンズアミド45)4−〔2−(1−イミダゾリル)−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル〕 カルバモイル−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4 −メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル 〕ベンズアミド 46)4−〔1−(第三級ブトキシカルボニル)−2−〔〔2−(ジメチルアミノ )エチル〕アミノ〕−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル〕カルバモイル−3 −メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジ ン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド 47)4−〔2−〔〔2−(ジメチルアミノ)エチル〕メチルアミノ〕−1H−ベ ンゾイミダゾール−4−イル〕カルバモイル−3−メトキシ−N−メチル−N− 〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペン ト−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド48)3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピ ペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕−4−〔 2−(1,2,4−トリアゾール−1−イル)−1H−ベンゾイミダゾール−4− イル〕カルバモイルベンズアミド 49)4−〔2−〔(2−メトキシエチル)アミノ〕−1H−ベンゾイミダゾール −4−イル〕カルバモイル−3−メトキシ−N−メチル-N−〔4−メチル−2 −〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキ シ〕フェニル〕ベンズアミド 実施例115 実施例38と同様にして、つぎの化合物を得た。 1)4−(イミダゾ〔1,5−a〕ピリジン−1−カルボニル)アミノ−3−メ トキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン− 1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド二塩酸 塩 2)4−〔(2−エトキシカルボニルインドリン−4−イル)カルボニル〕アミ ノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピ ペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズア ミド二塩酸塩 3)4−〔(2−カルバモイルインドリン−4−イル)カルボニル〕アミノ−3 −メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジ ン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド二 塩酸塩 4)4−〔(2−カルバモイルインドール−4−イル)カルボニル〕アミノ−3 −メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル-2−〔5−(4−メチルピペラジ ン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド塩 酸塩 5)4−〔〔2−(N−メチルカルバモイル)インドール−4−イル〕カルボニ ル〕アミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4− メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕 ベンズアミド塩酸塩 6)4−〔(インドリン−4−イル)カルボニル〕アミノ−3−メトキシ−N− メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カ ルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド二塩酸塩 7)4−〔(2−ヒドロキシメチルインドリン−4−イル)カルボニル〕アミノ −3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペ ラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミ ド二塩酸塩 8)4−〔(2−アミノメチルインドール−4−イル)カルボニル〕アミノ−3 −メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジ ン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド二 塩酸塩 9)4−〔(2−メチルインドール−4−イル)カルボニル〕アミノ−3−メト キシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1 −イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド塩酸塩 10)4−〔(インドリン−6−イル)カルボニル〕アミノ−3−メトキシ−N− メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カ ルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド二塩酸塩 11)4−〔(インドール−6−イル)カルボニル〕アミノ−3−メトキシ−N− メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カ ルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド塩酸塩 12)4−(1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カルバモイル−3−メトキシ −N−メチル−N−〔4--メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イ ル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド二塩酸塩 ESI-MASS:627.5(M+H) 13)4−〔(ナフタレン−1−イル)カルバモイル〕−3−メトキシ−N−メチ ル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボ ニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド塩酸塩 14)4−(2−カルバモイルフェニルカルバモイル)−3−メトキシ−N−メチ ル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボ ニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド塩酸塩 15)4−(2−メトキシカルボニルフェニルカルバモイル)−3−メトキシ−N −メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル) カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド塩酸塩 16)4−〔2−(N,N−ジメチルカルバモイル)フェニルカルバモイル〕−3 −メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル-2−〔5−(4−メチルピペラジ ン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド塩 酸塩 17)4−(2−スルファモイルフェニルカルバモイル)−3−メトキシ−N−メ チル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カル ボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド塩酸塩 18)4−〔(インドール−4−イル)カルバモイル〕−3−メトキシ−N−メチ ル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボ ニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド塩酸塩 19)3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピ ペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕−4−( キノリン−8−イル)カルボニルアミノベンズアミド二塩酸塩 20)3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピ ペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕−4−( 1,2,3,4−テトラヒドロキノリン−8−イル)カルボニルアミノベンズアミ ド二塩酸塩 21)3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピ ペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕−4−( キノキサリン−5−イル)カルボニルアミノベンズアミド二塩酸塩 22)4−(2−アミノメチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カルボニ ルアミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔4−(4−メ チルピペラジン−1−イル)カルボニルフェニルメトキシ〕フェニル〕ベンズア ミド三塩酸塩 23)4−(2−アミノメチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カルボニ ルアミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔3−(4−メ チルピペラジン−1−イル)カルボニルプロプ−1−イルオキシ〕フェニル〕ベ ンズアミド三塩酸塩 24)4−(2−アミノメチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カルボニ ルアミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メ チルピペラジン−1−イル)カルボニルブト−1−イルオキシ〕フェニル〕ベン ズアミド三塩酸塩 25)4−(2−アミノメチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カルボニ ルアミノ−N−〔2−〔5−〔N−(2−ジメチルアミノエト−1−イル)−N −メチルアミノカルボニル〕ペント−1−イルオキシ〕−4−メチルフェニル〕 −3−メトキシ−N−メチルベンズアミド三塩酸塩 26)N−〔2−(5−カルバモイルペント−1−イルオキシ)−4−メチルフェ ニル〕−4−(2−アミノメチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カル ボニルアミノ−3−メトキシ−N−メチルベンズアミド二塩酸塩 27)4−(2−アミノメチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カルボニ ルアミノ−N−〔2−〔5−(2,2−ジメチルヒドラジノ)カルボニルペント −1−イルオキシ〕−4−メチルフェニル〕−3−メトキシ−N−メチルカルボ ニルアミノベンズアミド三塩酸塩 28)N−〔2−(4−アミノブト−1−イルオキシ)−4−メチルフェニル〕- 3−メトキシ−N−メチル−4−(2−メチル−1H−ベンゾイミダゾール−4 −イル)カルボニルアミノベンズアミド二塩酸塩 29)N−〔2−(4−ジメチルアミノブト−1−イルオキシ)−4−メチルフェ ニル〕−3−メトキシ−N−メチル−4−(2−メチル−1H−ベンゾイミダゾ ール−4−イル)カルボニルアミノベンズアミド二塩酸塩 30)N−〔2−(4−アミノブト−1−イル)オキシ−4−メチル〕フェニル− 3−メトキシ−N−メチル−4−(2−メチル−1H−ベンゾイミダゾール−4 −イル)カルバモイルベンズアミド二塩酸塩31)N−〔2−(5−アミノペント−1−イル)オキシ−4−メチル〕フェニル −3−メトキシ−N−メチル−4−(2−メチル−1H−ベンゾイミダゾール− 4−イル)カルボニルアミノベンズアミド二塩酸塩 32)N−〔2−(6−アミノヘキス−1−イル)オキシ−4−メチル〕フェニル −4−(2−アミノメチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カルボニル アミノ−3−メトキシ−N−メチルベンズアミド三塩酸塩 33)3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピ ペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕−4−〔 2−(4−メチルピペラジン−1−イル)−1H−ベンゾイミダゾール−4−イ ル〕カルボニルアミノベンズアミド二塩酸塩34)3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル-2−〔5−(4−メチルピ ペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕−4−〔 2−(モルホリン−4−イル)−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル〕カルボ ニルアミノベンズアミド二塩酸塩 35)4−〔(2−ジメチルアミノ−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カル ボニルアミノ〕−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−( 4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニ ル〕ベンズアミド二塩酸塩 36)4−〔2−〔4−(ジメチルアミノ)ピペリジノ〕−1H−ベンゾイミダゾ ール−4−イル〕カルボニルアミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メ チル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1− イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド二塩酸塩 37)4−〔〔2−(ジメチルアミノ)アミノ−1H−ベンゾイミダゾール−4− イル〕カルボニルアミノ〕−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2 −〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキ シ〕フェニル〕ベンズアミド二塩酸塩 38)4−〔〔2−シアノメチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル〕カルボ ニルアミノ〕−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4 −メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル 〕ベンズアミド二塩酸塩 39)4−〔〔2−〔(2−アミノ−2−(ヒドロキシイミノ)エチル〕−1H− ベンゾイミダゾール−4−イル〕カルボニルアミノ〕−3−メトキシ−N−メチ ル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボ ニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド三塩酸塩40)4−〔〔2−〔(2−アミノエチル)メチルアミノ〕−1H−ベンゾイミダ ゾール−4−イル〕カルボニルアミノ〕−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4 −メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント− 1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド三塩酸塩 41)4−〔〔2−〔〔2−(ジメチルアミノ)エチル〕アミノ〕−1H−ベンゾ イミダゾール−4−イル]カルボニルアミノ〕−3−メトキシ−N−メチル−N −〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペ ント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド三塩酸塩 42)3−メトキシ−4−(2−メルカプトメチル−1H−ベンゾイミダゾール− 4−イル)カルボニルアミノ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4 −メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル 〕ベンズアミド二塩酸塩43)4−〔2−(3−ヒドロキシプロピル)−1H−ベンゾイミダゾール−4− イル〕カルボニルアミノ−3−メトキシ−N−メチル-N−〔4−メチル−2− 〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ 〕フェニル〕ベンズアミド二塩酸塩 44)4−〔N−(1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カルバモイル〕−N− 〔2−〔4,4−ジメチル(2,5−オキサゾリニル)〕フェニル〕−3−メト キシ−N−メチルベンズアミド二塩酸塩 45)4−〔N−〔2−〔(ジメチルアミノ)メチル〕−1H−ベンゾイミダゾー ル−4−イル〕カルバモイル〕−N−〔2−〔4,4−ジメチル(2,5−オキサ ゾリニル)〕フェニル〕−3−メトキシ−N−メチルベンズアミド三塩酸塩 46)N−〔2−〔〔4,4−ジメチル(2,5−オキサゾリニル)〕フェニル−3 −メトキシ−N−メチル−4−(2−メチル−1H−ベンゾイミダゾール−4− イル)カルボニルアミノベンズアミド二塩酸塩 47)4−〔N−(1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カルバモイル〕−3− メトキシ−N−メチル−N−〔2−(1−ピロリル)フェニル〕ベンズアミド塩 酸塩 48)3−メトキシ−N−メチル−4−〔N−(2−メチル−1H−ベンゾイミダ ゾール−4−イル)カルバモイル〕−N−(2−ピペリジノフェニル)ベンズア ミド塩酸塩 49)3−メトキシ−N−メチル−4−(2−メチル−1H−ベンゾイミダゾール −4−イル)カルボニルアミノ−N−(2−ピペリジノフェニル)ベンズアミド 二塩酸塩 50)3−メトキシ−N−メチル−4−〔N−(2−メチル−1H−ベンゾイミダ ゾール−4−イル)カルバモイル〕−N−〔2−(4−メチル−1−ピペラジニ ル)フェニル〕ベンズアミド二塩酸塩 51)3−メトキシ−N−メチル−4−(2−メチル−1H−ベンゾイミダゾール −4−イル)カルボニルアミノ−N−〔2−(4−メチル−1−ピペラジニル) フェニル〕ベンズアミド二塩酸塩 52)3−メトキシ−N−メチル−4−〔N−(2−メチル−1H−ベンゾイミダ ゾール−4−イル)カルバモイル〕−N−〔2−(2,5−オキサゾリル)フェ ニル〕ベンズアミド塩酸塩 53)3−メトキシ−N−メチル−4−〔N−(2−メチル−1H−ベンゾイミダ ゾール−4−イル)カルバモイル〕−N−〔2−(2,5−オキサゾリニル)フ ェニル〕ベンズアミド二塩酸塩 54)3−メトキシ−N−メチル−4−〔N−(2−メチル−1H−ベンゾイミダ ゾール−4−イル)カルバモイル〕−N−〔2−(3H,4H,5H−2,6−オ キサジニル)フェニル]ベンズアミド二塩酸塩 55)N−〔2−(1−アザ−3−オキサスピロ〔4.4〕ノン−1−エン−2− イル)フェニル〕−3−メトキシ−N−メチル−4−〔N−(2−メチル−1H −ベンゾイミダゾール−4−イル)カルバモイル〕ベンズアミド二塩酸塩 56)3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピ ペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕−4−( 2−スルファモイルアミノ−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カルボニル アミノベンズアミド二塩酸塩 57)4−〔2−カルバモイル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル〕カルボニ ルアミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メ チルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベ ンズアミド二塩酸塩 58)4−〔2−(N,N−ジメチルカルバモイル)−1H−ベンゾイミダゾール −4−イル〕カルボニルアミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル −2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イル オキシ〕フェニル〕ベンズアミド二塩酸塩 59)3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピ ペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕−4−〔 2−(4−ピペリジル)−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル〕カルボニルア ミノベンズアミド三塩酸塩 60)4−(2−アミノメチル−1−メチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イ ル)カルボニルアミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔 5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキ シ〕フェニル〕ベンズアミド三塩酸塩 61)4−(2−アミノメチル−3−メチル−3H−ベンゾイミダゾール−4−イ ル)カルボニルアミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔 5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕 フェニル〕ベンズアミド三塩酸塩 62)4−(2−メチルチオ−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カルボニル アミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチ ルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベン ズアミド二塩酸塩 63)3−メトキシ−N−メチル-N−〔4−メチル-2−〔5−(4−メチルピペ ラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕−4−(2 −メチルスルホニル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カルボニルアミノ ベンズアミド二塩酸塩 64)3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピ ペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕−4−( 2−スルファモイル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カルボニルアミノ ベンズアミド二塩酸塩 65)4−(2−アミノメチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カルバモ イル−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチル ピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズ アミド三塩酸塩 66)4−〔2−(2−アミノエチル)−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル〕 カルバモイル−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4 −メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル 〕ベンズアミド三塩酸塩 67)4−(2−ヒドロキシメチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カル バモイル−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メ チルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベ ンズアミド二塩酸塩68)4−〔2−アミノ−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル〕カルバモイル− 3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラ ジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド 二塩酸塩 69)3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピ ペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕−4−〔 2−〔(メチルスルホニル)アミノ〕−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル〕 カルバモイルベンズアミド二塩酸塩 70)3−メトキシ−4−〔2−メトキシメチル-1H−ベンゾイミダゾール−4 −イル〕カルバモイル−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチ ルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベン ズアミド二塩酸塩 71)3−メトキシ−N−メチル−4−〔2−メチル−1H−ベンゾイミダゾール −4−イル〕カルバモイル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラ ジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド 二塩酸塩 72)4−〔1,2−ジメチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル〕カルバモ イル−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチル ピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズ アミド二塩酸塩 73)4−〔2−エチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル〕カルバモイル− 3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラ ジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド 二塩酸塩 74)3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピ ペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕−4− 〔2−(n−プロピル)−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル〕カルバモイル ベンズアミド二塩酸塩 75)4−〔2−イソプロピル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル〕カルバモ イル−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチル ピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズ アミド二塩酸塩76)3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル-2−〔5−(4−メチルピ ペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕−4−〔 2−トリフルオロメチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル〕カルバモイル ベンズアミド二塩酸塩 77)3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピ ペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕−4−〔 2−(3−ピリジル)−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル〕カルバモイルベ ンズアミド三塩酸塩 78)4−〔2−(N,N−ジメチルカルバモイル)−1H−ベンゾイミダゾール −4−イル〕カルバモイル−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2 −〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキ シ〕フェニル〕ベンズアミド二塩酸塩 79)4−〔2−(N,N−ジメチルアミノメチル)−1H−ベンゾイミダゾール −4−イル〕カルバモイル−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2 −〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキ シ〕フェニル〕ベンズアミド三塩酸塩 80)3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピ ペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕−4−〔 2−(1−イミダゾリル)メチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル〕カル バモイルベンズアミド三塩酸塩81)3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピ ペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕−4−〔 2−〔(4−メチルピペラジン−1−イル)メチル〕−1H−ベンゾイミダゾー ル−4−イル〕カルバモイルベンズアミド三塩酸塩 82)3−メトキシ−N−メチル-N−〔4−メチル-2−〔5−(4−メチルピペ ラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕−4−〔2 −(モルホリン−4−イルメチル)−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル〕カ ルバモイルベンズアミド三塩酸塩 83)3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピ ペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕−4−〔 2−(ピロリジン−1−イルメチル)−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル〕 カルバモイルベンズアミド三塩酸塩 84)3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピ ペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕−4−〔 2−(ピペリジノメチル)−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル〕カルバモイ ルベンズアミド三塩酸塩 85)4−〔2−〔2−(ジメチルアミノ)エチル〕−1H−ベンゾイミダゾール −4−イル〕カルバモイル−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2 −〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキ シ〕フェニル〕ベンズアミド三塩酸塩86)3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピ ペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕−4−〔 2−〔2−(4−メチルピペラジン−1−イル)エチル〕−1H−ベンゾイミダ ゾール−4−イル〕カルバモイルベンズアミド三塩酸塩 87)3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピ ペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕−4−〔 2−(4−メチルピペラジン−1−イル)−1H−ベンゾイミダゾール−4−イ ル〕カルバモイルベンズアミド三塩酸塩 88)4−〔2−ジメチルアミノ−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル〕カルバ モイル−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチ ルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕ベン ズアミド塩酸塩 89)3−メトキシ−N−メチル−4−〔2−〔〔2−(メチルアミノ)エチル〕 アミノ〕−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル〕カルバモイル−N−〔4−メ チノレ−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1 −イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド三塩酸塩 90)4−〔2−〔(2−アミノエチル)メチルアミノ〕−1H−ベンゾイミダゾ ール−4−イル〕カルバモイル−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル −2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イル オキシ〕フェニル〕ベンズアミド三塩酸塩91)4−〔2−(1−イミダゾリル)−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル〕 カルバモイル−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4 −メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル 〕ベンズアミド三塩酸塩 92)4−〔2−〔〔2−(ジメチルアミノ)エチル〕アミノ〕−1H−ベンゾイ ミダゾール−4−イル〕カルバモイル−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4− メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1 −イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド三塩酸塩 93)4−〔2−〔〔2−(ジメチルアミノ)エチル〕メチルアミノ〕−1H−ベ ンゾイミダゾール−4−イル〕カルバモイル−3−メトキシ−N−メチル−N− 〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペン ト−1−イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド三塩酸塩 94)3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピ ペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕−4−〔 2−(1,2,4−トリアゾール−1−イル)−1H−ベンゾイミダゾール−4 −イル〕カルバモイルベンズアミド三塩酸塩 95)4−〔2−〔(2−メトキシエチル)アミノ〕−1H−ベンゾイミダゾール −4−イル〕カルバモイル−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2 −〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキ シ〕フェニル〕ベンズアミド二塩酸塩 96)4−(2−ジメチルアミノメチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル) カルボニルアミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5− (4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェ ニル〕ベンズアミド三塩酸塩 97)3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピ ペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕−4−〔 2−(4−メチルピペラジン−1−イル)メチル−1H−ベンゾイミダゾール− 4−イル〕カルボニルアミノベンズアミド三塩酸塩 98)4−〔2−(4−ジメチルアミノピペリジノ)メチル−1H−ベンゾイミダ ゾール−4−イル〕カルボニルアミノ−3−メトキシ−N−メチル−N−〔4− メチル−2−〔5−(4−メチルピペラジン−1−イル)カルボニルペント−1 −イルオキシ〕フェニル〕ベンズアミド三塩酸塩 99)3−メトキシ−N−メチル−N−〔4−メチル−2−〔5−(4−メチルピ ペラジン−1−イル)カルボニルペント−1−イルオキシ〕フェニル〕−4−( 2−モルホリノメチル−1H−ベンゾイミダゾール−4−イル)カルボニルアミ ノベンズアミド三塩酸塩
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) A61K 31/454 A61K 31/454 31/495 31/495 31/496 31/496 31/498 31/498 31/517 31/517 31/52 31/52 31/535 31/535 31/5375 31/5375 31/5377 31/5377 A61P 1/08 A61P 1/08 1/16 1/16 3/10 3/10 7/00 7/00 9/00 9/00 9/12 9/12 13/12 13/12 43/00 43/00 111 111 C07D 209/08 C07D 209/08 209/12 209/12 209/14 209/14 209/34 209/34 209/42 209/42 209/48 231/56 E 231/56 235/08 235/08 235/12 235/12 235/14 235/14 235/24 235/24 239/88 239/88 241/42 241/42 249/18 501 249/18 501 263/30 263/30 263/54 263/54 265/34 265/34 295/12 A 295/12 Z 295/18 A 295/18 401/04 401/04 401/06 401/06 401/12 401/12 403/04 403/04 403/06 403/06 403/12 403/12 413/12 413/12 471/04 107E 471/04 107 108E 108 108X 473/00 473/00 487/04 139 487/04 139 209/48 Z (72)発明者 奥 照夫 茨城県つくば市緑が丘8―2

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.式 〔式中、 R1はアリール、シクロ低級アルキルまたは複素環基であり、その各々は、ハ ロゲン;ヒドロキシ;ニトロ;保護されたアミノ;アミノ;アシル;置換アシル ;アシル低級アルキルスルフィニル;アシル低級アルキルスルホニル;アシルオ キシ;低級アルキルアミノ低級アルキルカルバモイルオキシ;アリール;シアノ ;複素環基;アシル、置換アシル、アリールもしくはアシル置換アリールで置換 されていてもよい低級アルケニル;アミノ、アシルアミノもしくは置換アシルア ミノで置換されていてもよい低級アルキニル;ハロゲン、アミノ、低級アルキル アミノ、アシルアミノ、置換アシルアミノ、ヒドロキシ、アシルオキシ、アシル 低級アルカノイルオキシ、アシル、置換アシル、アシル低級アルコキシイミノ、 アリールもしくはアシル置換アリールで置換されていてもよい低級アルキル;ア シルもしくは置換アシルで置換されていてもよい低級アルキルチオ;アリール、 置換アリール、ヒドロキシ、アシルオキシ、アミノ、低級アルキルアミノ、保護 されたアミノ、複素環基、アシル置換ピリジル、置換アシル置換ピリジル、ハロ ゲン、アシル低級アルキルアミノ、N−保護されたアシル低級アルキルアミノ、 N−アシル低級アルキル−N−低級アルキルアミノ、アシル、置換アシル、アシ ルアミノ、置換アシルアミノ、低級アルキルヒドラジノカルボニルアミノ、ヒド ロキシイミノ、アシル低級アルコキシイミノ、置換アシル低級アルコキシイミノ 、アシル低級アルコキシ、グアニジノもしくはN−保護されたグアニジノで置換 されていてもよいアルコキシ;およびアシルもしくは置換アシルで置換されてい てもよい低級アルケニルオキシからなる群から選ばれた置換基で置換されていて もよく; R2は水素;ヒドロキシ、アリールもしくはアシルで置換されていてもよい低 級アルキル;またはシクロ低級アルキルであり; R3は水素;ハロゲン;ヒドロキシ;アシルオキシ;置換アシルオキシ;ヒド ロキシもしくは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルキル;アリール 、アミノ、保護されたアミノ、アシル、ヒドロキシ、シアノもしくは低級アルキ ルチオで置換されていてもよい低級アルコキシ;ニトロ;アミノ;アシル;置換 アシル;またはシクロ低級アルキルオキシであり; Aは単結合、OまたはNHであり; Eは低級アルキレン、低級アルケニレン、−C(=O)−、−SO2−または式 −G−J− (ここに、Gは低級アルキレンまたは−C(=O)−であり、 JはOまたは−N(R4)−(ここに、R4は水素またはN−保護基である)であ る)の基であり; Xは−CH=CH−、−CH=N−またはSであり; Yはアリールであって、アシル、保護されたアミノ低級アルカノイル、保護さ れたアミノおよびニトロ、アミノおよびニトロもしくはジアミノで置換されてい てもよく;もしくは 縮合複素環基であって、ハロゲン、アシル、低級アルコキシ、ヒドロキシ、グア ニジノ、メルカプト、アシルアミノ、アミノ、複索環基、シアノアミノ、アミノ 低級アルキル低級アルキルアミノ、低級アルキルアミノ、低級アルキルアミノ低 級アルキルアミノ、置換複素環基、低級アルキルヒドラジノ、アリールオキシ、 低級アルキルチオ、アリール、保護されたアミノ、N−保護された低級アルキル アミノ低級アルキルアミノ、N−保護されたアミノ低級アルキル(N’−低級ア ルキル)アミノ、アミノ低級アルキル(N−低級アルキル)アミノ、低級アルキ ルアミノ低級アルキル(N−低級アルキル)アミノ、低級アルコキシ低級アルキ ルアミノならびにアリール、アル低級アルコキシ、シアノ、ヒドロキシイミノ、 メルカプト、低級アルキルアミノ、アシルオキシ、ハロゲン、低級アルコキシ、 保護されたヒドロキシ、ヒドロキシ、低級アルコキシアリール、保護されたアミ ノ、アミノ、複素環基もしくは置換複素環基で置換されていてもよい低級アルキ ルからなる群から選ばれた置換基で置換されていてもよい; ただし、Yが低級アルキルもしくはアシルで置換されていてもよいフェニルであ るときには、Aは単結合であり、Eは−C(=O)N(R4)−(ここに、R4は 上に定義した通りである)である〕 の化合物ならびにその医薬として許容される塩。 2. R1がアリール、シクロ低級アルキルまたは複素環基であり、その各々は 、ハロゲン;ヒドロキシ;ニトロ;アミノ;アシル;置換アシル;アシル低級ア ルキルスルフィニル;アシル低級アルキルスルホニル;アシルオキシ;低級アル キルアミノ低級アルキルカルバモイルオキシ;アリール;シアノ;複素環基;ア シル、置換アシル、アリールもしくはアシル置換アリールで置換されていてもよ い低級アルケニル;アミノ、アシルアミノもしくは置換アシルアミノで置換され ていてもよい低級アルキニル;ハロゲン、アミノ、低級アルキルアミノ、アシル アミノ、置換アシルアミノ、ヒドロキシ、アシルオキシ、アシル低級アルカノイ ルオキシ、アシル、置換アシル、アシル低級アルコキシイミノ、アリールもしく はアシル置換アリールで置換されていてもよい低級アルキル;アシルもしくは置 換アシルで置換されていてもよい低級アルキルチオ;アリール、置換アリール、 ヒドロキシ、アシルオキシ、アミノ、低級アルキルアミノ、保護されたアミノ、 複素環基、アシル置換ピリジル、置換アシル置換ピリジル、ハロゲン、アシル低 級アルキルアミノ、N−保護されたアシル低級アルキルアミノ、N−アシル低級 アルキル−N−低級アルキルアミノ、アシル、置換アシル、アシルアミノ、置換 アシルアミノ、低級アルキルヒドラジノカルボニルアミノ、ヒドロキシイミノ、 アシル低級アルコキシイミノ、置換アシル低級アルコキシイミノ、アシル低級ア ルコキシ、グアニジノもしくはN−保護されたグアニジノで置換されていてもよ いアルコキシ;およびアシルもしくは置換アシルで置換されていてもよい低級ア ルケニルオキシからなる群から選ばれた置換基で置換されていてもよく; R2が水素;ヒドロキシ、アリールもしくはアシルで置換されていてもよい低 級アルキル;またはシクロ低級アルキルであり; R3が水素;ハロゲン;ヒドロキシ;アシルオキシ;置換アシルオキシ;ヒド ロキシまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルキル;アリール、 アミノ、保護されたアミノ、アシル、ヒドロキシ、シアノもしくは低級アルキル チオで置換されていてもよい低級アルコキシ;ニトロ;アミノ;アシル;置換ア シル;またはシクロ低級アルキルオキシであり; Aは単結合、OまたはNHであり; Eは低級アルキレン、低級アルケニレン、−C(=O)−、−SO2−または式 −G−J− (ここに、Gは低級アルキレンまたは−C(=O)−であり、 JはOまたは−N(R4)−(ここに、R4は水素またはN−保護基である)であ る)の基であり; Xは−CH=CH−、−CH=N−またはSであり; Yは、保護されたアミノおよびニトロ、アミノおよびニトロもしくはジアミノ で置換されたアリールであるか;もしくは縮合複素環であって、ハロゲン、アシ ル、低級アルコキシ、ヒドロキシ、グアニジノ、メルカプト、アシルアミノ、ア ミノならびに低級アルキルアミノ、アシルオキシ、ハロゲン、低級アルコキシ、 保護されたヒドロキシ、ヒドロキシ、低級アルコキシアリール、保護されたアミ ノ、アミノもしくは複素環基で置換されていてもよい低級アルキルからなる群か ら選ばれた置換基で置換されていてもよい請求の範囲第1項記載の化合物。 3. R1が、アシルもしくはアシルアミノで置換された低級アルキルで置換さ れていてもよいアリールであり、 R2が低級アルキルであり、 R3が水素、低級アルキルまたは低級アルコキシであり、 Aが単結合またはNHであり、 Eが−C(=O)−または−C(=O)NH−であり、 Xが−CH=CH−であり、 Yが、低級アルキルアミノ、アシルオキシ、ハロゲン、低級アルコキシ、保護 されたヒドロキシ、ヒドロキシ、低級アルコキシアリール、保護されたアミノ、 アミノもしくは複素環基で置換されていてもよい低級アルキルで置換されている 縮合複素環基である請求の範囲第2項記載の化合物。 4. R1が、各々にN−低級アルキルピペラジニルカルボニル置換低級アルコ キシで置換されているフェニルまたはトリルであり、 R3が低級アルコキシであり、 Aが単結合であり、 Eが−C(=O)NH−であり、 Yが、アミノ、ヒドロキシもしくはN−低級アルキルピペラジニルで置換され ていてもよい低級アルキルで置換されているベンゾイミダゾールである請求の範 囲第3項記載の化合物。 5. R5が、各々にN−低級アルキルピペラジニルカルボニル置換低級アルコ キシで置換されているフェニルまたはトリルであり、 R3が低級アルコキシであり、 AがNHであり、 Eが−C(=O)−であり、 Yが、アミノ、ヒドロキシもしくはN−低級アルキルピペラジニルで置換され ていてもよい低級アルキルで置換されているベンゾイミダゾールである請求の範 囲第3項記載の化合物。 6. 式 〔式中、 R1はアリール、シクロ低級アルキルまたは複素環基であり、その各々は、ハ ロゲン;ヒドロキシ;ニトロ;保護されたアミノ;アミノ;アシル;置換アシル ;アシル低級アルキルスルフィニル;アシル低級アルキルスルホニル;アシルオ キシ;低級アルキルアミノ低級アルキルカルバモイルオキシ;アリール;シアノ ;複素環基;アシル、置換アシル、アリールもしくはアシル置換アリールで置換 されていてもよい低級アルケニル;アミノ、アシルアミノもしくは置換アシルア ミノで置換されていてもよい低級アルキニル;ハロゲン、アミノ、低級アルキル アミノ、アシルアミノ、置換アシルアミノ、ヒドロキシ、アシルオキシ、アシル 低級アルカノイルオキシ、アシル、置換アシル、アシル低級アルコキシイミノ、 アリールもしくはアシル置換アリールで置換されていてもよい低級アルキル;ア シルもしくは置換アシルで置換されていてもよい低級アルキルチオ;アリール、 置換アリール、ヒドロキシ、アシルオキシ、アミノ、低級アルキルアミノ、保護 されたアミノ、複素環基、アシル置換ピリジル、置換アシル置換ピリジル、ハロ ゲン、アシル低級アルキルアミノ、N−保護されたアシル低級アルキルアミノ、 N−アシル低級アルキル−N−低級アルキルアミノ、アシル、置換アシル、アシ ルアミノ、置換アシルアミノ、低級アルキルヒドラジノカルボニルアミノ、ヒド ロキシイミノ、アシル低級アルコキシイミノ、置換アシル低級アルコキシイミノ 、アシル低級アルコキシ、グアニジノもしくはN−保護されたグアニジノで置換 されていてもよいアルコキシ;およびアシルもしくは置換アシルで置換されてい てもよい低級アルケニルオキシからなる群から選ばれた置換基で置換されていて もよく; R2は水索;ヒドロキシ、アリールもしくはアシルで置換されていてもよい低 級アルキル;またはシクロ低級アルキルであり; R3は水素;ハロゲン;ヒドロキシ;アシルオキシ;置換アシルオキシ;ヒド ロキシもしくは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルキル;アリール 、アミノ、保護されたアミノ、アシル、ヒドロキシ、シアノもしくは低級アルキ ルチオで置換されていてもよい低級アルコキシ;ニトロ;アミノ;アシル;置換 アシル;またはシクロ低級アルキルオキシであり; Aは単結合、OまたはNHであり; Eは低級アルキレン、低級アルケニレン、−C(=O)−、−SO2−または式 −G−J− (ここに、Gは低級アルキレンまたは−C(=O)−であり、 JはOまたは−N(R4)−(ここに、R4は水素またはN−保護基である)であ る)の基であり; Xは−CH=CH−、−CH=N−またはSであり; Yはアリールであって、アシル、保護されたアミノ低級アルカノイル、保護さ れたアミノおよびニトロ、アミノおよびニトロもしくはジアミノで置換されてい てもよく;もしくは 縮合複素環基であって、ハロゲン、アシル、低級アルコキシ、ヒドロキシ、グア ニジノ、メルカプト、アシルアミノ、アミノ、複素環基、シアノアミノ、アミノ 低級アルキル低級アルキルアミノ、低級アルキルアミノ、低級アルキルアミノ低 級アルキルアミノ、置換複素環基、低級アルキルヒドラジノ、アリールオキシ、 低級アルキルチオ、アリール、保護されたアミノ、N−保護された低級アルキル アミノ低級アルキルアミノ、N−保護されたアミノ低級アルキル(N’−低級ア ルキル)アミノ、アミノ低級アルキル(N−低級アルキル)アミノ、低級アルキ ルアミノ低級アルキル(N−低級アルキル)アミノ、低級アルコキシ低級アルキ ルアミノならびにアリール、アル低級アルコキシ、シアノ、ヒドロキシイミノ、 メルカプト、低級アルキルアミノ、アシルオキシ、ハロゲン、低級アルコキシ、 保護されたヒドロキシ、ヒドロキシ、低級アルコキシアリール、保護されたアミ ノ、アミノ、複素環基もしくは置換複素環基で置換されていてもよい低級アルキ ルからなる群から選ばれた置換基で置換されていてもよい; ただし、Yが低級アルキルもしくはアシルで置換されていてもよいフェニルであ るときには、Aは単結合であり、Eは−C(=O)N(R4)−(ここに、R4は 上に定義した通りである)である〕 の化合物またはその医薬として許容される塩の製造法であって、 1)式の化合物またはその塩を式 HO−Ea−Y (III) の化合物またはそのカルボキシ基またはスルホ基における反応性誘導体もしくは それらの塩と反応させて、式 の化合物またはその塩を製出する〔上記式中、R1、R2、R3、XおよびYは各 々上に定義した通りであり、Eaは−C(=O)−または−SO2−である〕か、 または、 2)式 の化合物またはその塩を、塩基の存在下に、式 R5−Z1 (IV) の化合物と反応させて、式 の化合物またはその塩を製出する〔上記式中、R1、R2、R3、A、EおよびX は各々上に定義した通りであり、 Yaはインドリルであり、 R5は低級アルキルであり、 Z1は酸残基であり、 YbはN−低級アルキルインドールである〕か、または、 3)式 の化合物またはその塩を還元に付して、式 の化合物またはその塩を製出する〔上記式中、R1、R2、R3、A、EおよびX は各々上に定義した通りであり、 Ycはアミノおよびニトロで置換されたフェニルであり、 Ydはジアミノで置換されたフェニルである〕か、または、 4)式 の化合物またはその塩をハロゲン化アロイル、シアノ低級アルキルカルボン酸、 メルカプト低級アルキルカルボン酸、低級アルキルラクトン、1,1−ジハロ− 1,1−ジフェノキシメタン、N−スルファモイルカルボンイミド酸ジフェニル 、N−シアノカルボンイミド酸ジフェニル、ジシアンジアミド、1,1’−チオ カルボニルイミダゾール、臭化シアン、低級アルコキシカルボニルイソチオシア ナート、オルト蟻酸トリ低級アルキル、オルト炭酸テトラ低級アルキル、低級ア ルキルカルボン酸、ハロ低級アルキルカルボン酸、保護されたアミノ低級アルキ ルカルボニルハロゲン化物または複素環低級アルキルカルボニルハロゲン化物と 反応させて、式 の化合物またはその塩を製出する〔上記式中、R1、R2、R3、A、E、Xおよ びYdは各々上に定義した通りであり、 Yeは、2位においてアリール、フェノキシ、スルファモイルアミノ、シアノア ミノ、グアニジノ、メルカプト、アミノ、低級アルコキシカルボニルアミノ、低 級アルコキシもしくはシアノ、メルカプト、ヒドロキシ、ハロゲン、保護された アミノもしくは複素環基で置換されていてもよい低級アルキルで置換されていて もよいベンゾイミダゾリルである〕か、または、 5)式 の化合物またはその塩をグリオキサールおよび亜硫酸水素ナトリウムと、または 亜硝酸ナトリウムと、反応させて、式 の化合物またはその塩を製出する〔上記式中、R1、R2、R3、A、E、Xおよ びYdは各々上に定義した通りであり、 Yfはキノキサリニルまたはベンゾトリアゾリルである〕か、または、 6)式の化合物またはその塩をアシル化剤と反応させて、式 の化合物またはその塩を製出する〔上記式中、R1、R2、R3、A、E、Xおよ びYaは各々上に定義した通りであり、 YgはN−アシルインドリルである〕か、または、 7)式 の化合物またはその塩をN−置換基脱離反応に付して、式の化合物またはその塩を製出する〔上記式中、R1、R2、R3、A、EおよびX は各々上に定義した通りであり、 Yhは(N−アシル)アシルインドリニル、N−アシルインドリニル、(N−ア シル)ヒドロキシ低級アルキルインドリニル、低級アルキルアミノ低級アルキル アミノ(N−アシル)インドリニル、(N−低級アルコキシアリールメチル)ア シルベンゾイミダゾリル、(N−低級アルコキシカルボニル)フタルイミド低級 アルキルインドリル、N−保護された低級アルキルアミノ低級アルキルアミノ( N−アシル)ベンゾイミダゾリル、(N−アシル)ベンゾイミダゾリル、(N− アシル)低級アルキルベンゾイミダゾリル、N−保護されたアミノ低級アルキル (N−低級アルキル)アミノ(N−アシル)ベンゾイミダゾリル、N−アシルイ ンドリル、(N−アシルオキシメチル)インドリル、(N−アシル)アシルイン ドリル、(N−アリールメチル)低級アルコキシ低級アルキルベンゾイミダゾリ ルまたは(N−低級アルコキシアリールメチル)アシルベンゾイミダゾリルであ り、 Yiはアシルインドリニル、インドリニル、ヒドロキシ低級アルキルインドリニ ル、低級アルキルアミノ低級アルキルアミノインドリニル、アシルベンゾイミダ ゾリル、フタルイミド低級アルキルインドリル、アミノ低級アルキルインドリル 、低級アルキルアミノ低級アルキルアミノベンゾイミダゾリル、ベンゾイミダゾ リル、低級アルキルベンゾイミダゾリル、アミノ低級アルキル(N−低級アルキ ル)アミノベンゾイミダゾリル、インドリル、アシルインドリル、低級アルコキ シ低級アルキルベンゾイミダゾリルまたはアシルベンゾイミダゾリルである〕か 、または、 8)式 の化合物またはその塩をN−保護基脱離反応に付して、式 の化合物またはその塩を製出する〔上記式中、R1、R2、R3、A、EおよびX は各々上に定義した通りであり、 Yjは、保護されたアミノおよびニトロで置換されたアリールであるか、または 、保護されたアミノもしくは保護されたアミノで置換された低級アルキルにより 置換されている縮合複素環基であり、 Ykは、アミノおよびニトロで置換されているアリールであるか、または、アミ ノもしくはアミノ置換低級アルキルにより置換されている縮合複素環基である〕 か、または、 9)式の化合物またはその塩を脱エステル反応に付して、式 の化合物またはその塩を製出する〔上記式中、R1、R2、R3、A、EおよびX は各々上に定義した通りであり、 Ylは、エステル化されたカルボキシで置換されたアリール、またはエステル化 されたカルボキシで置換された縮合複素環基であり、 Ymは、カルボキシで置換されたアリール、またはカルボキシで置換された縮合 複素環基である〕か、または、 10)式 の化合物またはそのカルボキシ基における反応性誘導体もしくはそれらの塩をア ミンまたはその塩と反応させて、式の化合物またはその塩を製出する〔上記式中、R1、R2、R3、A、E、Xおよ びYmは各々上に定義した通りであり、 Ynは、各々に置換または無置換N−含有複素環カルボニル、カルバモイル、複 素環カルバモイルもしくは置換または無置換低級アルキルカルバモイルで置換さ れたアルールもしくは縮合複素環基である〕か、または、 11)式 の化合物またはその塩をメチル基またはヒドロキシ保護基の脱離反応に付して、 式 の化合物またはその塩を製出する〔上記式中、R1、R2、R3、A、EおよびX は各々上に定義した通りであり、 Yoは、各々にメトキシまたは保護されたヒドロキシ置換低級アルキルで置換さ れた縮合(N−アシル)N−含有複素環基もしくは縮合複素環基であり、 Ypは、各々にヒドロキシもしくはヒドロキシ置換低級アルキルで置換された縮 合(N−アシル)N−含有複素環基もしくは縮合複素環基である〕か、または、 12)式 の化合物またはその塩をアシル化剤と反応させて、式 の化合物またはその塩を製出する〔上記式中、R1、R2、R3、A、EおよびX は各々上に定義した通りであり、 Yqは、アミノもしくはアミノ低級アルキルで置換された縮合複素環基であり、 Yrは、アシルアミノもしくはアシルアミノ低級アルキルで置換された縮合複素 環基である〕か、または、 13)式の化合物またはその塩をハロゲン化N−低級アルキルメチレンアンモニウムと反 応させて、式 の化合物またはその塩を製出する〔上記式中、R1、R2、R3、A、E、Xおよ びYaは各々上に定義した通りであり、 Ysは、低級アルキルアミノで置換されたメチルで置換されたインドリルである 〕か、または、 14)式 の化合物またはその塩を酸化反応に付して、式の化合物またはその塩を製出する〔上記式中、R1、R2、R3、A、EおよびX は各々上に定義した通りであり、 Ytは、ヒドロキシ置換低級アルキルで置換された縮合複素環基であり、 Yuは、ホルミル置換低級アルキルで置換された縮合複素環基である〕か、また は、 15)式 の化合物またはその塩を脱エステル反応に付して、式 の化合物またはその塩を製出する〔上記式中、A、EおよびXは各々上に定義し た通りであり、 R1 aは、エステル化されたカルボキシもしくはエステル化されたカルボキシ置換 低級アルコキシで置換されたアリールであり、 R1 bは、カルボキシもしくはカルボキシ置換低級アルコキシで置換されたアリー ルであり、 R2 aは低級アルキルであり、 R3 aは水素または低級アルコキシであり、 Yvは、低級アルキルもしくは保護されたアミノ低級アルキルで置換されていて もよいベンゾイミダゾリルである〕か、または、 16)式 の化合物またはその塩を、アリールもしくは置換アリールで置換されたメチルの 脱離反応に付して、式 の化合物またはその塩を製出する〔上記式中、R2 a、R3 a、A、E、XおよびY は各々上に定義した通りであり、 R1 cは置換または無置換アリールで置換されたメトキシで置換されているアリー ルであり、 R1 dヒドロキシで置換されたアリールである〕か、または、 17)式の化合物またはそのカルボキシ基における反応性誘導体もしくはそれらの塩をア ミンまたはその塩と反応させて、式 の化合物またはその塩を製出する〔上記式中、R1 b、R2 a、R3 a、A、E、Xお よびYvは各々上に定義した通りであり、 R1 eは、N−保護されたピペラジニルカルボニル、オキソピペリジニルカルボニ ル、カルバモイル、低級アルキルカルバモイル、低級アルキルアミノカルバモイ ルもしくは低級アルキルアミノ低級アルキル(N−低級アルキル)カルバモイル で置換されたアリールであるかまたはN−保護されたピペラジニルカルボニル、 オキソピペリジニルカルボニル、カルバモイル、低級アルキルカルバモイル、低 級アルキルアミノカルバモイルもしくは低級アルキルアミノ低級アルキル(N− 低級アルキル)カルバモイルで置換された低級アルコキシで置換されたアリール である〕か、または、 18)式の化合物またはその塩を還元剤と反応させて、式 の化合物またはその塩を製出する〔上記式中、R2 a、R3 a、A、E、XおよびY vは各々上に定義した通りであり、 R1fはオキソピペリジニルカルボニル置換低級アルコキシで置換されたアリ− ルであり、 R1 gはヒドロキシピペリジニルカルボニル置換低級アルコキシで置換されたアリ ールである〕か、または、 19)式 の化合物またはその塩をアシル化剤と反応させて、式の化合物またはその塩を製出する〔上記式中、R1 d、R2 a、R3 a、A、E、Xお よびYは各々上に定義した通りであり、 R1 hはアシルオキシ置換アリールである〕か、または、 20)式 の化合物またはその塩を式 Z2−R6 (V) の化合物と反応させて、式 の化合物またはその塩を製出する〔上記式中、R1 d、R2 a、R3 a、A、E、Xお よびYは各々上に定義した通りであり、 R1 iは保護されたアミノ置換低級アルコキシで置換されたアリールであり、 R6は保護されたアミノで置換された低級アルキルであり、 Z2は酸残基である〕か、または、 21)式 の化合物またはその塩をN−保護基脱離反応に付して、式 の化合物またはその塩を製出する〔上記式中、R1 i、R2 a、R3 a、A、E、Xお よびYは各々上に定義した通りであり、 R1 jはアミノ置換低級アルコキシで置換されたアリールである〕か、または、 22)式 の化合物またはその塩をアシル化剤と反応させて、式の化合物またはその塩を製出する〔上記式中、R1 j2 a、R3 a、A、E、Xおよ びYは各々上に定義した通りであり、 R1 kはアシルアミノで置換されたアリールである〕か、または、 23)式 の化合物またはその塩を、還元剤の存在下に、低級アルカナールと反応させて、 式 の化合物またはその塩を製出する〔上記式中、R1 j、R2 a、R3 a、A、E、Xお よびYは各々上に定義した通りであり、 R1 lは低級アルキルアミノで置換されたアリールである〕か、または、 24)式の化合物またはその塩を還元に付して、式 の化合物またはその塩を製出する〔上記式中、R2 a、R3 a、A、E、XおよびY は各々上に定義した通りであり、 R1 mはニトロ置換アリールであり、 R1 nはアミノ置換アリールである〕か、または、 25)式 の化合物またはその塩をアジド化合物と反応させて、式の化合物またはその塩を製出する〔上記式中、R1 n、R2 a、R3 a、A、E、Xお よびYvは各々上に定義した通りであり、 R1 baはカルボキシ置換アリールである〕か、または、 26)式 の化合物またはそのカルボキシ基における反応性誘導体もしくはそれらの塩を還 元剤と反応させて、式 の化合物またはその塩を製出する〔上記式中、R2 a、R3 a、A、E、XおよびY vは各々上に定義した通りであり、 R1 bbはカルボキシ置換低級アルコキシで置換されたアリールであり、 R1 oはヒドロキシメチル置換低級アルコキシで置換されたアリールである〕か、 または、 27)式 の化合物またはその塩をアシル化剤と反応させて、式 の化合物またはその塩を製出する〔上記式中、R2 a、R3 a、A、E、XおよびY vは各々上に定義した通りであり、 R1 pはヒドロキシ置換低級アルコキシで置換されたアリールであり、 R1 qはアシルオキシ置換低級アルコキシで置換されたアリールである〕か、また は、 28)式 の化合物またはその塩をフタルイミドアルカリ金属塩と反応させて、式の化合物またはその塩を製出する〔上記式中、R1 q,R2 a、R3 a、A、E、Xお よびYvは各々上に定義した通りであり、 R1 rはフタルイミド置換低級アルコキシで置換されたアリールである〕か、また は、 29)式 の化合物またはその塩をアミンと反応させて、式 の化合物またはその塩を製出する〔上記式中、R1、R2、R3、A、Eおよび Xは各々上に定義した通りであり、 Ywはハロゲンで置換されたベンゾイミダゾリルであり、 Yxは、N−低級アルキルピペリジル、モルホリノ、低級アルキルアミノ、ジ低 級アルキルアミノピペリジノ、ジ低級アルキルヒドラジノ、アミノ低級アルキル (N−低級アルキル)アミノもしくはジ低級アルキルアミノ低級アルキルアミノ で置換されているベンゾイミダゾリルである〕か、または、 30)式 の化合物またはその塩をN−保護基脱離反応に付して、式 の化合物またはその塩を製出する〔上記式中、R1、R2、R3、A、EおよびX は各々上に定義した通りであり、 YyはN−保護されたピペリジルで置換されたベンゾイミダゾリルであり、 Yzはピペリジルで置換されたベンゾイミダゾリルである〕か、または、 31)式 の化合物またはその塩をヒドロキシルアミンまたはその塩と反応させて、式 の化合物またはその塩を製出する〔上記式中、R1、R2、R3、A、EおよびX は各々上に定義した通りであり、 Y1は、各々にホルミルもしくはシアノ低級アルキルで置換されたべンゾイミダ ゾリルもしくはインドリルであり、 Y2は、各々にヒドロキシイミノメチルもしくはアミノ(ヒドロキシイミノ)低 級アルキルで置換されたベンゾイミダゾリルもしくはインドリルである〕か、ま たは、 32)式 の化合物またはそのカルボキシ基における反応誘導体もしくはそれらの塩を式 H2N−Y (VII) またはその塩と反応させて、式の化合物またはその塩を製出する〔上記式中、R1、R2、R3、XおよびYは各 々上に定義した通りである〕ことを特徴とする前記製造法。 7. 請求の範囲第1項記載の化合物を活性成分とし、これを、製薬上許容され る実質的に無毒性の担体または賦形剤とともに含有する医薬組成物。 8. 医薬として使用するための請求の範囲第1項記載の化合物。 9. 請求の範囲第1項記載の化合物の有効量をヒトまたは動物に投与すること を特徴とする高血圧、心不全、腎不全、浮腫、腹水、バソプレッシン異常分泌症 候群、肝硬変、低ナトリウム血症、低カリウム血症、糖尿病、循環器障害、脳血 管疾患、メニエール症候群または乗物酔いの治療および/または予防方法。 10. ヒトまたは動物における高血圧、心不全、腎不全、浮腫、腹水、バソプ レッシン異常分泌症候群、肝硬変、低ナトリウム血症、低カリウム血症、糖尿 病、循環器障害、脳血管疾患、メニエール症候群または乗物酔いの治療および/ または予防用の薬剤の製造のための請求の範囲第1項記載の化合物の使用。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005063293A1 (ja) * 2003-12-26 2005-07-14 Masatoshi Hagiwara Sr蛋白質のリン酸化制御方法、および、sr蛋白質の活性制御剤を有効成分とする抗ウイルス剤
WO2007100066A1 (ja) * 2006-03-02 2007-09-07 Astellas Pharma Inc. 17βHSDtype5阻害剤
JP2008510684A (ja) * 2004-08-24 2008-04-10 フェリング ベスローテン フェンノートシャップ バソプレッシンV1a拮抗薬
JP2009143904A (ja) * 1996-12-02 2009-07-02 Astellas Pharma Inc ベンズアミド誘導体
JP2010532381A (ja) * 2007-06-29 2010-10-07 サネシス ファーマシューティカルズ, インコーポレイテッド Rafキナーゼ阻害剤として有用な複素環式化合物

Families Citing this family (50)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002179651A (ja) * 1998-06-19 2002-06-26 Wakamoto Pharmaceut Co Ltd ベンズアニリド誘導体及び医薬組成物
JP2002528533A (ja) * 1998-10-29 2002-09-03 ブリストル−マイヤーズ スクイブ カンパニー 酵素impdhの新規なインヒビター
ES2154605B1 (es) * 1999-09-14 2001-11-16 Univ Madrid Complutense Nuevos derivados mixtos de bencimidazol-arilpiperazina con afinidad por los receptores serotoninergicos 5-ht1a y 5-ht3
AU2001277731A1 (en) * 2000-08-09 2002-02-18 Welfide Corporation Fused bicyclic amide compounds and medicinal use thereof
US7105682B2 (en) 2001-01-12 2006-09-12 Amgen Inc. Substituted amine derivatives and methods of use
US6995162B2 (en) * 2001-01-12 2006-02-07 Amgen Inc. Substituted alkylamine derivatives and methods of use
US7102009B2 (en) 2001-01-12 2006-09-05 Amgen Inc. Substituted amine derivatives and methods of use
US20030134836A1 (en) 2001-01-12 2003-07-17 Amgen Inc. Substituted arylamine derivatives and methods of use
US6878714B2 (en) 2001-01-12 2005-04-12 Amgen Inc. Substituted alkylamine derivatives and methods of use
SE0102299D0 (sv) 2001-06-26 2001-06-26 Astrazeneca Ab Compounds
SE0102764D0 (sv) * 2001-08-17 2001-08-17 Astrazeneca Ab Compounds
US7307088B2 (en) 2002-07-09 2007-12-11 Amgen Inc. Substituted anthranilic amide derivatives and methods of use
AU2003286711A1 (en) 2002-10-25 2004-05-13 Vertex Pharmaceuticals Incorporated Indazolinone compositions useful as kinase inhibitors
WO2004039795A2 (en) * 2002-10-29 2004-05-13 Fujisawa Pharmaceutical Co., Ltd. Amide compounds for the treatment of hyperlipidemia
GB0226930D0 (en) 2002-11-19 2002-12-24 Astrazeneca Ab Chemical compounds
US7696225B2 (en) 2003-01-06 2010-04-13 Osi Pharmaceuticals, Inc. (2-carboxamido)(3-Amino) thiophene compounds
TWI299664B (en) 2003-01-06 2008-08-11 Osi Pharm Inc (2-carboxamido)(3-amino)thiophene compounds
GB0325402D0 (en) * 2003-10-31 2003-12-03 Astrazeneca Ab Compounds
GB0327761D0 (en) * 2003-11-29 2003-12-31 Astrazeneca Ab Compounds
GB0328178D0 (en) * 2003-12-05 2004-01-07 Astrazeneca Ab Compounds
US20080312207A1 (en) * 2004-02-18 2008-12-18 Craig Johnstone Compounds
CA2554310A1 (en) * 2004-02-18 2005-09-01 Astrazeneca Ab Benzamide derivatives and their use as glucokinase activating agents
TW200600086A (en) * 2004-06-05 2006-01-01 Astrazeneca Ab Chemical compound
US20060014925A1 (en) * 2004-07-15 2006-01-19 Luka Michael W Method for delivery of formaldehyde-free resins
US7507748B2 (en) 2004-07-22 2009-03-24 Amgen Inc. Substituted aryl-amine derivatives and methods of use
GB0423044D0 (en) * 2004-10-16 2004-11-17 Astrazeneca Ab Compounds
WO2006040527A1 (en) 2004-10-16 2006-04-20 Astrazeneca Ab Process for making phenoxy benzamide compounds
GB0423043D0 (en) * 2004-10-16 2004-11-17 Astrazeneca Ab Compounds
CA2600570C (en) * 2005-03-14 2011-12-06 Transtech Pharma, Inc. Benzazole derivatives, compositions, and methods of use as .beta.-secretase inhibitors
WO2006125958A1 (en) * 2005-05-24 2006-11-30 Astrazeneca Ab 2-phenyl substituted imidazol [4 , 5b] pyridine/ pyrazine and purine derivatives as glucokinase modulators
TW200714597A (en) * 2005-05-27 2007-04-16 Astrazeneca Ab Chemical compounds
NZ575512A (en) * 2005-07-09 2009-11-27 Astrazeneca Ab Heteroaryl benzamide derivatives for use as GLK activators in the treatment of diabetes
EP2027113A1 (en) * 2005-07-09 2009-02-25 AstraZeneca AB Heteroaryl benzamide derivatives for use as glk activators in the treatment of diabetes
WO2007007040A1 (en) * 2005-07-09 2007-01-18 Astrazeneca Ab 2 -heterocyclyloxybenzoyl amino heterocyclyl compounds as modulators of glucokinase for the treatment of type 2 diabetes
US9202182B2 (en) * 2005-08-11 2015-12-01 International Business Machines Corporation Method and system for analyzing business architecture
US8247556B2 (en) 2005-10-21 2012-08-21 Amgen Inc. Method for preparing 6-substituted-7-aza-indoles
TW200738621A (en) * 2005-11-28 2007-10-16 Astrazeneca Ab Chemical process
WO2008005908A2 (en) * 2006-07-07 2008-01-10 Forest Laboratories Holdings Limited Pyridoimidazole derivatives
TW200825063A (en) * 2006-10-23 2008-06-16 Astrazeneca Ab Chemical compounds
CL2007003061A1 (es) * 2006-10-26 2008-08-01 Astrazeneca Ab Compuestos derivados de 3,5-dioxi-benzamida; proceso de preparacion; composicion farmaceutica que comprende a dichos compuestos; y su uso para tratar una enfermedad mediada a traves de glk, tal como la diabetes tipo 2.
TW200833339A (en) * 2006-12-21 2008-08-16 Astrazeneca Ab Novel crystalline compound
PE20110568A1 (es) * 2008-08-04 2011-09-07 Astrazeneca Ab Agentes terapeuticos 414
GB0902434D0 (en) * 2009-02-13 2009-04-01 Astrazeneca Ab Chemical process
GB0902406D0 (en) * 2009-02-13 2009-04-01 Astrazeneca Ab Crystalline polymorphic form
WO2010116177A1 (en) 2009-04-09 2010-10-14 Astrazeneca Ab A pyrazolo [4,5-e] pyrimidine derivative and its use to treat diabetes and obesity
AR076221A1 (es) * 2009-04-09 2011-05-26 Astrazeneca Ab Derivado de pirazol [4,5-e] pirimidina y su uso para tratar diabetes y obesidad
DE102011111991A1 (de) 2011-08-30 2013-02-28 Lead Discovery Center Gmbh Neue Cyclosporin-Derivate
TW201329025A (zh) 2011-11-01 2013-07-16 Astex Therapeutics Ltd 醫藥化合物
WO2014182673A1 (en) * 2013-05-07 2014-11-13 Arena Pharmaceuticals, Inc. Modulators of the g protein-coupled mas receptor and the treatment of disorders related thereto
EP3821947A1 (en) * 2019-11-13 2021-05-19 Libra Therapeutics, Inc. Heterocyclic trpml1 agonists

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04154765A (ja) * 1989-10-20 1992-05-27 Otsuka Pharmaceut Co Ltd ベンゾヘテロ環化合物
WO1995029152A1 (en) * 1994-04-25 1995-11-02 Fujisawa Pharmaceutical Co., Ltd. Benzamide derivatives as vasopressin antagonists
JP2009143904A (ja) * 1996-12-02 2009-07-02 Astellas Pharma Inc ベンズアミド誘導体

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2802023A1 (de) * 1977-01-28 1978-08-03 Sandoz Ag Neue ergotderivate, ihre herstellung und verwendung
GB9307527D0 (en) 1993-04-13 1993-06-02 Fujisawa Pharmaceutical Co New venzamide derivatives,processes for the preparation thereof and pharmaceutical composition comprising the same
US5516774A (en) * 1993-07-29 1996-05-14 American Cyanamid Company Tricyclic diazepine vasopressin antagonists and oxytocin antagonists
US5512563A (en) * 1993-07-29 1996-04-30 American Cyanamid Company Tricyclic benzazepine vasopressin antagonists
WO1995034540A1 (en) * 1994-06-15 1995-12-21 Otsuka Pharmaceutical Company, Limited Benzoheterocyclic derivatives useful as vasopressin or oxytocin modulators
GB9511694D0 (en) 1995-06-09 1995-08-02 Fujisawa Pharmaceutical Co Benzamide derivatives

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04154765A (ja) * 1989-10-20 1992-05-27 Otsuka Pharmaceut Co Ltd ベンゾヘテロ環化合物
WO1995029152A1 (en) * 1994-04-25 1995-11-02 Fujisawa Pharmaceutical Co., Ltd. Benzamide derivatives as vasopressin antagonists
JP2009143904A (ja) * 1996-12-02 2009-07-02 Astellas Pharma Inc ベンズアミド誘導体

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009143904A (ja) * 1996-12-02 2009-07-02 Astellas Pharma Inc ベンズアミド誘導体
WO2005063293A1 (ja) * 2003-12-26 2005-07-14 Masatoshi Hagiwara Sr蛋白質のリン酸化制御方法、および、sr蛋白質の活性制御剤を有効成分とする抗ウイルス剤
US7569536B2 (en) 2003-12-26 2009-08-04 Masatoshi Hagiwara Method for controlling SR protein phosphorylation, and antiviral agents whose active ingredients comprise agents that control SR protein activity
US8338362B2 (en) 2003-12-26 2012-12-25 Masatoshi Hagiwara Methods for controlling SR protein phosphorylation, and antiviral agents whose active ingredients comprise agents that control SR protein activity
US8816089B2 (en) 2003-12-26 2014-08-26 Masatoshi Hagiwara Methods for controlling SR protein phosphorylation, and antiviral agents whose active ingredients comprise agents that control SR protein activity
JP2008510684A (ja) * 2004-08-24 2008-04-10 フェリング ベスローテン フェンノートシャップ バソプレッシンV1a拮抗薬
JP2010285442A (ja) * 2004-08-24 2010-12-24 Vantia Ltd バソプレッシンV1a拮抗薬
WO2007100066A1 (ja) * 2006-03-02 2007-09-07 Astellas Pharma Inc. 17βHSDtype5阻害剤
US7855225B2 (en) 2006-03-02 2010-12-21 Astellas Pharma Inc. 17βHSD type 5 inhibitor
JP2010532381A (ja) * 2007-06-29 2010-10-07 サネシス ファーマシューティカルズ, インコーポレイテッド Rafキナーゼ阻害剤として有用な複素環式化合物

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WO1998024771A1 (en) 1998-06-11
US6316482B1 (en) 2001-11-13
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JP4625969B2 (ja) 2011-02-02
JP2009143904A (ja) 2009-07-02
EP0946519A1 (en) 1999-10-06
AU4967297A (en) 1998-06-29
US6207693B1 (en) 2001-03-27

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