JP2001354610A - １，１，１，５，５，５−ヘキサフルオロアセチルアセトンの精製方法 - Google Patents
１，１，１，５，５，５−ヘキサフルオロアセチルアセトンの精製方法Info
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- JP2001354610A JP2001354610A JP2000178891A JP2000178891A JP2001354610A JP 2001354610 A JP2001354610 A JP 2001354610A JP 2000178891 A JP2000178891 A JP 2000178891A JP 2000178891 A JP2000178891 A JP 2000178891A JP 2001354610 A JP2001354610 A JP 2001354610A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
- C07C45/78—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives
- C07C45/80—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives by liquid-liquid treatment
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
- C07C45/78—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives
- C07C45/85—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives by treatment giving rise to a chemical modification
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Abstract
(57)【要約】
【課題】不純物を含む１，１，１，５，５，５−ヘキサ
フルオロアセチルアセトンから不純物を含まない１，
１，１，５，５，５−ヘキサフルオロアセチルアセトン
を得る。 【解決手段】不純物を含む１，１，１，５，５，５−ヘ
キサフルオロアセチルアセトンを水和し、次いで脱水す
ることからなる１，１，１，５，５，５−ヘキサフルオ
ロアセチルアセトンの精製方法。
フルオロアセチルアセトンから不純物を含まない１，
１，１，５，５，５−ヘキサフルオロアセチルアセトン
を得る。 【解決手段】不純物を含む１，１，１，５，５，５−ヘ
キサフルオロアセチルアセトンを水和し、次いで脱水す
ることからなる１，１，１，５，５，５−ヘキサフルオ
ロアセチルアセトンの精製方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、医薬、農薬および
電子材料などの中間体として有用な１，１，１，５，
５，５−ヘキサフルオロアセチルアセトンの精製方法に
関する。
電子材料などの中間体として有用な１，１，１，５，
５，５−ヘキサフルオロアセチルアセトンの精製方法に
関する。
【０００２】
【従来の技術】１，１，１，５，５，５−ヘキサフルオ
ロアセチルアセトンの製造方法としては、下式に示す方
法が知られている（H. Gilman and F. A. Yoeman, J.
Amer.Chem. Soc., 78, 2790 (1956)）。
ロアセチルアセトンの製造方法としては、下式に示す方
法が知られている（H. Gilman and F. A. Yoeman, J.
Amer.Chem. Soc., 78, 2790 (1956)）。
【０００３】
【化１】
【０００４】一般に、生成物の純度を高めるためには各
種の方法が製造工程の途中で採られるが、１，１，１，
５，５，５−ヘキサフルオロアセチルアセトンの製造方
法においてもそのような方法が知られている。J.Amer.C
hem.Soc.,69,1819(1947)には、中間体として得られる
１，１，１，５，５，５−ヘキサフルオロアセチルアセ
トンナトリウム塩を銅キレート化合物とし、それを再結
晶した後硫化水素で銅を取り除いて無水の１，１，１，
５，５，５−ヘキサフルオロアセチルアセトンを得てい
る。J.Chem.Soc.London,1951,609には、反応液に希硫酸
を加えエーテルで抽出した有機層を蒸留し３６〜９０℃
の留分を採取することが記載され、その中の８５〜９０
℃の留分は１，１，１，５，５，５−ヘキサフルオロア
セチルアセトン・二水和物であることが記載されてい
る。J.Amer.Chem.Soc.,78,2790 (1956)には、同様にエ
ーテルで抽出した有機層を濃縮して１，１，１，５，
５，５−ヘキサフルオロアセチルアセトン・二水和物を
析出させる方法が記載されている。
種の方法が製造工程の途中で採られるが、１，１，１，
５，５，５−ヘキサフルオロアセチルアセトンの製造方
法においてもそのような方法が知られている。J.Amer.C
hem.Soc.,69,1819(1947)には、中間体として得られる
１，１，１，５，５，５−ヘキサフルオロアセチルアセ
トンナトリウム塩を銅キレート化合物とし、それを再結
晶した後硫化水素で銅を取り除いて無水の１，１，１，
５，５，５−ヘキサフルオロアセチルアセトンを得てい
る。J.Chem.Soc.London,1951,609には、反応液に希硫酸
を加えエーテルで抽出した有機層を蒸留し３６〜９０℃
の留分を採取することが記載され、その中の８５〜９０
℃の留分は１，１，１，５，５，５−ヘキサフルオロア
セチルアセトン・二水和物であることが記載されてい
る。J.Amer.Chem.Soc.,78,2790 (1956)には、同様にエ
ーテルで抽出した有機層を濃縮して１，１，１，５，
５，５−ヘキサフルオロアセチルアセトン・二水和物を
析出させる方法が記載されている。
【０００５】本発明者らは、既に１，１，１，５，５，
５−ヘキサフルオロアセチルアセトンを製造する方法に
おいて中間体として得られる１，１，１，５，５，５−
ヘキサフルオロアセチルアセトン・二水和物を特定の溶
媒で洗浄することにより、あるいは特定の溶媒から再結
晶することで１，１，１，５，５，５−ヘキサフルオロ
アセチルアセトン・二水和物に含まれる不純物の含有量
を低減させ、ひいては１，１，１，５，５，５−ヘキサ
フルオロアセチルアセトンの純度を向上させることを見
いだした（特願2000-76838）。
５−ヘキサフルオロアセチルアセトンを製造する方法に
おいて中間体として得られる１，１，１，５，５，５−
ヘキサフルオロアセチルアセトン・二水和物を特定の溶
媒で洗浄することにより、あるいは特定の溶媒から再結
晶することで１，１，１，５，５，５−ヘキサフルオロ
アセチルアセトン・二水和物に含まれる不純物の含有量
を低減させ、ひいては１，１，１，５，５，５−ヘキサ
フルオロアセチルアセトンの純度を向上させることを見
いだした（特願2000-76838）。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】一般に、医・農薬や電
子材料の製造原料としては他の用途に比べて非常に高純
度の製品が求められ、１，１，１，５，５，５−ヘキサ
フルオロアセチルアセトンにおいても例外ではない。
子材料の製造原料としては他の用途に比べて非常に高純
度の製品が求められ、１，１，１，５，５，５−ヘキサ
フルオロアセチルアセトンにおいても例外ではない。
【０００７】１，１，１，５，５，５−ヘキサフルオロ
アセチルアセトンは溶媒としてあるいはキレート化剤と
して優れた機能を有することから、しばしば多種類の不
純物の含まれることがある。これらの不純物のうち一部
のものは蒸留により除去または減少させることができる
が、蒸留によっては除去の困難なものもある。
アセチルアセトンは溶媒としてあるいはキレート化剤と
して優れた機能を有することから、しばしば多種類の不
純物の含まれることがある。これらの不純物のうち一部
のものは蒸留により除去または減少させることができる
が、蒸留によっては除去の困難なものもある。
【０００８】そこで本発明は、この様な蒸留によっても
除去の困難な不純物を１，１，１，５，５，５−ヘキサ
フルオロアセチルアセトンから除く方法を提供する。
除去の困難な不純物を１，１，１，５，５，５−ヘキサ
フルオロアセチルアセトンから除く方法を提供する。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、鋭意研究
を進め不純物を含む１，１，１，５，５，５−ヘキサフ
ルオロアセチルアセトンを高純度化する技術を完成させ
た。
を進め不純物を含む１，１，１，５，５，５−ヘキサフ
ルオロアセチルアセトンを高純度化する技術を完成させ
た。
【００１０】すなわち、本発明は、１，１，１，５，
５，５−ヘキサフルオロアセチルアセトンを水和し、次
いで脱水することからなる１，１，１，５，５，５−ヘ
キサフルオロアセチルアセトンの精製方法である。
５，５−ヘキサフルオロアセチルアセトンを水和し、次
いで脱水することからなる１，１，１，５，５，５−ヘ
キサフルオロアセチルアセトンの精製方法である。
【００１１】以下に本発明の精製方法を詳細に説明す
る。
る。
【００１２】本発明の方法を適用する１，１，１，５，
５，５−ヘキサフルオロアセチルアセトンはどの様な方
法で製造されたもの、あるいはどの様な履歴のものであ
ってもよいが、不純物を溶解または分散している１，
１，１，５，５，５−ヘキサフルオロアセチルアセトン
である。不純物の種類は、有機物、無機物、またはそれ
らの複合から成っていてもよく、その含有量にも制限は
ない。固形分が含まれる場合には予め濾過除去しておく
ことが好ましいが、本発明の処理条件次第で必ずしも必
要ではない。
５，５−ヘキサフルオロアセチルアセトンはどの様な方
法で製造されたもの、あるいはどの様な履歴のものであ
ってもよいが、不純物を溶解または分散している１，
１，１，５，５，５−ヘキサフルオロアセチルアセトン
である。不純物の種類は、有機物、無機物、またはそれ
らの複合から成っていてもよく、その含有量にも制限は
ない。固形分が含まれる場合には予め濾過除去しておく
ことが好ましいが、本発明の処理条件次第で必ずしも必
要ではない。
【００１３】本発明の精製方法は、１，１，１，５，
５，５−ヘキサフルオロアセチルアセトンを水和する工
程と、次いで脱水する工程を少なくとも含む方法であ
る。
５，５−ヘキサフルオロアセチルアセトンを水和する工
程と、次いで脱水する工程を少なくとも含む方法であ
る。
【００１４】本発明の精製方法は次の様に行われる。容
器に不純物を含んだ１，１，１，５，５，５−ヘキサフ
ルオロアセチルアセトン１モルに対し２モル〜５０モル
程度、好ましくは２〜３０モル程度の水を仕込み、次い
で必要に応じて酸、例えば、硫酸、塩酸、硝酸等を加
え、その後必要に応じて反応器の温度を高めて反応の完
結を速める。この時、１，１，１，５，５，５−ヘキサ
フルオロアセチルアセトン・水和物が生成するものと推
測される。過剰量の水の存在する場合には水溶液として
得られるが、その場合１，１，１，５，５，５−ヘキサ
フルオロアセチルアセトン・水和物が可溶な有機溶剤で
抽出し、有機層から有機溶剤を除去することで固体の
１，１，１，５，５，５−ヘキサフルオロアセチルアセ
トン・水和物を得ることができる。この水和物は通常
１，１，１，５，５，５−ヘキサフルオロアセチルアセ
トン・二水和物〔CF3C(OH)2CH2C(OH)2CF3〕であるが、
水和数の異なるものまたはそれらの混合物であってもか
まわない。この後通常乾燥させるが、１，１，１，５，
５，５−ヘキサフルオロアセチルアセトン（無水物）の
製造原料とする場合は必ずしも乾燥は必要としない。こ
の１，１，１，５，５，５−ヘキサフルオロアセチルア
セトン・水和物を脱水すると１，１，１，５，５，５−
ヘキサフルオロアセチルアセトンを得ることができる。
それをさらに、蒸留すること、また、ゼオライト、アル
ミナ、シリカゲルなどの固体吸着剤と接触させることも
できる。
器に不純物を含んだ１，１，１，５，５，５−ヘキサフ
ルオロアセチルアセトン１モルに対し２モル〜５０モル
程度、好ましくは２〜３０モル程度の水を仕込み、次い
で必要に応じて酸、例えば、硫酸、塩酸、硝酸等を加
え、その後必要に応じて反応器の温度を高めて反応の完
結を速める。この時、１，１，１，５，５，５−ヘキサ
フルオロアセチルアセトン・水和物が生成するものと推
測される。過剰量の水の存在する場合には水溶液として
得られるが、その場合１，１，１，５，５，５−ヘキサ
フルオロアセチルアセトン・水和物が可溶な有機溶剤で
抽出し、有機層から有機溶剤を除去することで固体の
１，１，１，５，５，５−ヘキサフルオロアセチルアセ
トン・水和物を得ることができる。この水和物は通常
１，１，１，５，５，５−ヘキサフルオロアセチルアセ
トン・二水和物〔CF3C(OH)2CH2C(OH)2CF3〕であるが、
水和数の異なるものまたはそれらの混合物であってもか
まわない。この後通常乾燥させるが、１，１，１，５，
５，５−ヘキサフルオロアセチルアセトン（無水物）の
製造原料とする場合は必ずしも乾燥は必要としない。こ
の１，１，１，５，５，５−ヘキサフルオロアセチルア
セトン・水和物を脱水すると１，１，１，５，５，５−
ヘキサフルオロアセチルアセトンを得ることができる。
それをさらに、蒸留すること、また、ゼオライト、アル
ミナ、シリカゲルなどの固体吸着剤と接触させることも
できる。
【００１５】１，１，１，５，５，５−ヘキサフルオロ
アセチルアセトン・水和物は、硫酸、五酸化リンなどの
脱水剤で脱水して、無水物とすることができる。例え
ば、J.Inorganic and Nuclear Chemistry,1956,Vol.2,p
p.11-31では、１，１，１，５，５，５−ヘキサフルオ
ロアセチルアセトン・ニ水和物と３倍容量の９８％硫酸
を攪拌して分散させ、一晩経た後に再度硫酸を変えて繰
り返し、上層を形成した無水物をサイホンで取りだし、
それを蒸留して９８％を７０．０〜７０．２℃の留分と
して無水物を得ている。
アセチルアセトン・水和物は、硫酸、五酸化リンなどの
脱水剤で脱水して、無水物とすることができる。例え
ば、J.Inorganic and Nuclear Chemistry,1956,Vol.2,p
p.11-31では、１，１，１，５，５，５−ヘキサフルオ
ロアセチルアセトン・ニ水和物と３倍容量の９８％硫酸
を攪拌して分散させ、一晩経た後に再度硫酸を変えて繰
り返し、上層を形成した無水物をサイホンで取りだし、
それを蒸留して９８％を７０．０〜７０．２℃の留分と
して無水物を得ている。
【００１６】J.Amer.Chem.Soc.,78,2790(1956)では、無
水硫酸カルシウム（石膏）と１，１，１，５，５，５−
ヘキサフルオロアセチルアセトン・二水和物を混合し、
加熱し、その際の留出液を再度同じ脱水処理をして沸点
６８℃（７３６ｍｍ．）の無水物を得ている。
水硫酸カルシウム（石膏）と１，１，１，５，５，５−
ヘキサフルオロアセチルアセトン・二水和物を混合し、
加熱し、その際の留出液を再度同じ脱水処理をして沸点
６８℃（７３６ｍｍ．）の無水物を得ている。
【００１７】また、エーテル中で五酸化リンと加熱する
ことにより脱水する方法も知られている。
ことにより脱水する方法も知られている。
【００１８】水和反応の温度は、０〜９０℃程度であ
り、２０〜７０℃程度が好ましい。０℃未満では反応の
進行が遅く、９０℃を超えると１，１，１，５，５，５
−ヘキサフルオロアセチルアセトン・水和物の収量が減
ずるので好ましくない。
り、２０〜７０℃程度が好ましい。０℃未満では反応の
進行が遅く、９０℃を超えると１，１，１，５，５，５
−ヘキサフルオロアセチルアセトン・水和物の収量が減
ずるので好ましくない。
【００１９】水溶液からの１，１，１，５，５，５−ヘ
キサフルオロアセチルアセトン・水和物の抽出溶剤とし
ては、主としてエ−テル系溶媒であり、含ハロゲン系溶
媒も使用できる。
キサフルオロアセチルアセトン・水和物の抽出溶剤とし
ては、主としてエ−テル系溶媒であり、含ハロゲン系溶
媒も使用できる。
【００２０】これらの有機溶剤は使用状態で液体である
ことは当然であり、沸点は特に限定されないが１００℃
程度以下であるのが好ましい。具体的には、エ−テル系
溶媒としては、ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエー
テル、ジイソブチルエ−テル、ジブチルエ−テル、ｔ−
ブチルメチルエ−テル、テトラヒドロフラン、アニソー
ル、ジオキサンなどが挙げられる。また、含ハロゲン系
溶媒としては、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭
素、１，２−ジクロロエタン、１，２-ビス（トリフル
オロメチル）ベンゼン、１，３-ビス（トリフルオロメ
チル）ベンゼン、１，４-ビス（トリフルオロメチル）
ベンゼン、２，４−ジクロロベンゾトリフルオリドなど
が挙げられる。これらのうち、エーテル系溶媒が好まし
く、ｔ−ブチルメチルエーテルは特に好ましい。
ことは当然であり、沸点は特に限定されないが１００℃
程度以下であるのが好ましい。具体的には、エ−テル系
溶媒としては、ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエー
テル、ジイソブチルエ−テル、ジブチルエ−テル、ｔ−
ブチルメチルエ−テル、テトラヒドロフラン、アニソー
ル、ジオキサンなどが挙げられる。また、含ハロゲン系
溶媒としては、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭
素、１，２−ジクロロエタン、１，２-ビス（トリフル
オロメチル）ベンゼン、１，３-ビス（トリフルオロメ
チル）ベンゼン、１，４-ビス（トリフルオロメチル）
ベンゼン、２，４−ジクロロベンゾトリフルオリドなど
が挙げられる。これらのうち、エーテル系溶媒が好まし
く、ｔ−ブチルメチルエーテルは特に好ましい。
【００２１】１，１，１，５，５，５−ヘキサフルオロ
アセチルアセトン・水和物に難溶性の有機溶剤と接触さ
せることは不純物の除去効果がより顕著になるので好ま
しい。本明細書において、「難溶性」とは「１，１，
１，５，５，５−ヘキサフルオロアセチルアセトン・二
水和物を全く溶解しないかまたは少量しか溶解しない性
質」を云う。有機溶剤との接触方法は特に限られない
が、有機溶剤中に１，１，１，５，５，５−ヘキサフル
オロアセチルアセトン・水和物を分散させ、その後濾過
・分離する方法、濾過装置においてフィルター上に保持
された難溶性の有機溶剤を洗浄液として散布する方法な
どを例示できる。
アセチルアセトン・水和物に難溶性の有機溶剤と接触さ
せることは不純物の除去効果がより顕著になるので好ま
しい。本明細書において、「難溶性」とは「１，１，
１，５，５，５−ヘキサフルオロアセチルアセトン・二
水和物を全く溶解しないかまたは少量しか溶解しない性
質」を云う。有機溶剤との接触方法は特に限られない
が、有機溶剤中に１，１，１，５，５，５−ヘキサフル
オロアセチルアセトン・水和物を分散させ、その後濾過
・分離する方法、濾過装置においてフィルター上に保持
された難溶性の有機溶剤を洗浄液として散布する方法な
どを例示できる。
【００２２】この難溶性の有機溶剤としては、炭化水素
系溶媒であり、塩素を含まないフッ素系溶媒が使用でき
る。これらの有機溶剤は使用状態で液体であることは当
然であるが、沸点は特に限定されないが１００℃程度以
下であるのが好ましい。具体的には、炭化水素系溶媒と
しては、脂肪族炭化水素：ｎ−ペンタン、ｎ−ヘキサ
ン、ｎ−ヘプタン、ｎ−オクタン、ｎ−ノナン、ｎ−デ
カンなどまたはこれらの常温（２５℃）付近で液体の異
性体、芳香族炭化水素系溶媒：ベンゼン、トルエン、ｏ
−キシレン、ｍ−キシレン、ｐ−キシレン、エチルベン
ゼン、メシチレンなど、脂環式炭化水素：シクロペンタ
ン、シクロヘキサン、メチルシクロペンタン、メチルシ
クロヘキサン、テトラリン、デカリン、並びにこれらの
混合物であるリグロイン、石油エーテルなどの工業用ガ
ソリンなどが挙げられる。また、フッ素系溶媒として
は、１，２-ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン１，
３-ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン、１，４-ビス
（トリフルオロメチル）ベンゼン、１，１，１，３，３
−ペンタフルオロプロパン、１，１，１，３，３−ペン
タフルオロブタン、ヘプタフルオロシクロペンタン、フ
ロリナートTMとして知られるパーフルオロ環状エーテル
などが挙げられる。
系溶媒であり、塩素を含まないフッ素系溶媒が使用でき
る。これらの有機溶剤は使用状態で液体であることは当
然であるが、沸点は特に限定されないが１００℃程度以
下であるのが好ましい。具体的には、炭化水素系溶媒と
しては、脂肪族炭化水素：ｎ−ペンタン、ｎ−ヘキサ
ン、ｎ−ヘプタン、ｎ−オクタン、ｎ−ノナン、ｎ−デ
カンなどまたはこれらの常温（２５℃）付近で液体の異
性体、芳香族炭化水素系溶媒：ベンゼン、トルエン、ｏ
−キシレン、ｍ−キシレン、ｐ−キシレン、エチルベン
ゼン、メシチレンなど、脂環式炭化水素：シクロペンタ
ン、シクロヘキサン、メチルシクロペンタン、メチルシ
クロヘキサン、テトラリン、デカリン、並びにこれらの
混合物であるリグロイン、石油エーテルなどの工業用ガ
ソリンなどが挙げられる。また、フッ素系溶媒として
は、１，２-ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン１，
３-ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン、１，４-ビス
（トリフルオロメチル）ベンゼン、１，１，１，３，３
−ペンタフルオロプロパン、１，１，１，３，３−ペン
タフルオロブタン、ヘプタフルオロシクロペンタン、フ
ロリナートTMとして知られるパーフルオロ環状エーテル
などが挙げられる。
【００２３】また、これらの難溶性の有機溶剤に少量の
１，１，１，５，５，５−ヘキサフルオロアセチルアセ
トン・二水和物に対して比較的溶解度の大きい有機溶剤
を混合して使用することもできる。難溶性の有機溶剤１
００重量部に対し比較的溶解度の大きな有機溶剤は３０
重量部以下で使用する。そのような有機溶剤としては、
当然限定されないが、反応溶媒として前記したエーテル
類やアルコール類：メタノール、エタノール、ｎ−プロ
パノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノールなどが使
用できる。
１，１，１，５，５，５−ヘキサフルオロアセチルアセ
トン・二水和物に対して比較的溶解度の大きい有機溶剤
を混合して使用することもできる。難溶性の有機溶剤１
００重量部に対し比較的溶解度の大きな有機溶剤は３０
重量部以下で使用する。そのような有機溶剤としては、
当然限定されないが、反応溶媒として前記したエーテル
類やアルコール類：メタノール、エタノール、ｎ−プロ
パノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノールなどが使
用できる。
【００２４】１，１，１，５，５，５−ヘキサフルオロ
アセチルアセトン・水和物と難溶性の有機溶剤とを接触
させる温度は特に限定されず、０〜９０℃程度であり、
２０〜６０℃程度が好ましい。通常特に加熱や冷却を必
要としない温度で行うのが操作性がよく好ましい。
アセチルアセトン・水和物と難溶性の有機溶剤とを接触
させる温度は特に限定されず、０〜９０℃程度であり、
２０〜６０℃程度が好ましい。通常特に加熱や冷却を必
要としない温度で行うのが操作性がよく好ましい。
【００２５】本発明に係る水和反応を、容器に、不純物
を含んだ１，１，１，５，５，５−ヘキサフルオロアセ
チルアセトン１モルに対し２モル以上の水に加えて、前
記難溶性の有機溶剤を仕込んでおいて行うことができ
る。ここで水の量は２モル以上であればよいが、２〜１
０倍モル程度であり、２〜７モル程度が好ましく、２〜
５モル程度がより好ましい。１，１，１，５，５，５−
ヘキサフルオロアセチルアセトン・水和物は、この系内
に於いてほとんどが固体で存在する。また、過剰量の水
の存在する場合には水層が形成される場合があり、一部
１，１，１，５，５，５−ヘキサフルオロアセチルアセ
トン・二水和物が水層に溶解するが、水層を１，１，
１，５，５，５−ヘキサフルオロアセチルアセトン・水
和物が可溶な有機溶剤で抽出することにより、回収する
ことができる。水和反応終了後、有機溶剤を濃縮等の操
作により除去するか、または濾過することにより固体の
１，１，１，５，５，５−ヘキサフルオロアセチルアセ
トン・水和物を得ることができる。この様にして得られ
た１，１，１，５，５，５−ヘキサフルオロアセチルア
セトン・二水和物を脱水操作に付し、１，１，１，５，
５，５−ヘキサフルオロアセチルアセトンとするが、脱
水する前に難溶性有機溶剤と接触させることもできる。
を含んだ１，１，１，５，５，５−ヘキサフルオロアセ
チルアセトン１モルに対し２モル以上の水に加えて、前
記難溶性の有機溶剤を仕込んでおいて行うことができ
る。ここで水の量は２モル以上であればよいが、２〜１
０倍モル程度であり、２〜７モル程度が好ましく、２〜
５モル程度がより好ましい。１，１，１，５，５，５−
ヘキサフルオロアセチルアセトン・水和物は、この系内
に於いてほとんどが固体で存在する。また、過剰量の水
の存在する場合には水層が形成される場合があり、一部
１，１，１，５，５，５−ヘキサフルオロアセチルアセ
トン・二水和物が水層に溶解するが、水層を１，１，
１，５，５，５−ヘキサフルオロアセチルアセトン・水
和物が可溶な有機溶剤で抽出することにより、回収する
ことができる。水和反応終了後、有機溶剤を濃縮等の操
作により除去するか、または濾過することにより固体の
１，１，１，５，５，５−ヘキサフルオロアセチルアセ
トン・水和物を得ることができる。この様にして得られ
た１，１，１，５，５，５−ヘキサフルオロアセチルア
セトン・二水和物を脱水操作に付し、１，１，１，５，
５，５−ヘキサフルオロアセチルアセトンとするが、脱
水する前に難溶性有機溶剤と接触させることもできる。
【００２６】本発明の精製方法において、容器は通常、
ガラス、フッ素樹脂またはこれらの材質でライニングし
た容器が用いられる。
ガラス、フッ素樹脂またはこれらの材質でライニングし
た容器が用いられる。
【００２７】
【実施例】以下に実施例をもって本発明を説明するが、
本発明の実施態様はこれらに限られない。
本発明の実施態様はこれらに限られない。
【００２８】〔実施例１〕 ・１，１，１，５，５，５-ヘキサフルオロアセチルア
セトンの製造 温度測定用熱伝対及び攪拌機を備えた２００Ｌガラスラ
イニング反応器に不純物を含んだ１，１，１，５，５，
５−ヘキサフルオロアセチルアセトン(ＧＬＣ純度９
７．０％、測定条件：検出器；ＦＩＤ、カラム；ＤＢ-
１ ０．２５ｍｍ×６０ｍ、測定条件は以下同じ)３
３．０ｋｇ、水４９．０ｋｇ及び９８％硫酸１．７ｋｇ
を投入し、内温６０℃で６時間反応させた。２０℃程度
まで放冷した後、反応液を６２．０ｋｇのｔ-ブチルメ
チルエ-テルで抽出し、二層分離した水層を１２．７ｋ
ｇのｔ-ブチルメチルエ-テルで再抽出した。有機層を合
わせて、ｔ-ブチルメチルエ-テルを留去し、得られた粗
の１，１，１，５，５，５-ヘキサフルオロアセチルア
セトン・二水和物に、トルエン６０．０ｋｇを加え、内
温１５〜２０℃で２時間撹拌した。遠心分離器で結晶を
濾別、振動乾燥機により減圧乾燥して１，１，１，５，
５，５-ヘキサフルオロアセチルアセトン・二水和物３
１．９ｋｇを得た。次に、温度測定用熱伝対及び攪拌機
を備えた２００Ｌガラスライニング反応器に得られた
１，１，１，５，５，５-ヘキサフルオロアセチルアセ
トン・二水和物３１．９ｋｇ及び９８％硫酸６３．８ｋ
ｇを投入し、１５〜２０℃で４時間撹拌した。１時間静
定した後、二層分離した後、蒸留して２３．８ｋｇの
１，１，１，５，５，５-ヘキサフルオロアセチルアセ
トンを得た。これをガスクロマトグラフにて分析すると
９９．９％の１，１，１，５，５，５-ヘキサフルオロ
アセチルアセトンであった。
セトンの製造 温度測定用熱伝対及び攪拌機を備えた２００Ｌガラスラ
イニング反応器に不純物を含んだ１，１，１，５，５，
５−ヘキサフルオロアセチルアセトン(ＧＬＣ純度９
７．０％、測定条件：検出器；ＦＩＤ、カラム；ＤＢ-
１ ０．２５ｍｍ×６０ｍ、測定条件は以下同じ)３
３．０ｋｇ、水４９．０ｋｇ及び９８％硫酸１．７ｋｇ
を投入し、内温６０℃で６時間反応させた。２０℃程度
まで放冷した後、反応液を６２．０ｋｇのｔ-ブチルメ
チルエ-テルで抽出し、二層分離した水層を１２．７ｋ
ｇのｔ-ブチルメチルエ-テルで再抽出した。有機層を合
わせて、ｔ-ブチルメチルエ-テルを留去し、得られた粗
の１，１，１，５，５，５-ヘキサフルオロアセチルア
セトン・二水和物に、トルエン６０．０ｋｇを加え、内
温１５〜２０℃で２時間撹拌した。遠心分離器で結晶を
濾別、振動乾燥機により減圧乾燥して１，１，１，５，
５，５-ヘキサフルオロアセチルアセトン・二水和物３
１．９ｋｇを得た。次に、温度測定用熱伝対及び攪拌機
を備えた２００Ｌガラスライニング反応器に得られた
１，１，１，５，５，５-ヘキサフルオロアセチルアセ
トン・二水和物３１．９ｋｇ及び９８％硫酸６３．８ｋ
ｇを投入し、１５〜２０℃で４時間撹拌した。１時間静
定した後、二層分離した後、蒸留して２３．８ｋｇの
１，１，１，５，５，５-ヘキサフルオロアセチルアセ
トンを得た。これをガスクロマトグラフにて分析すると
９９．９％の１，１，１，５，５，５-ヘキサフルオロ
アセチルアセトンであった。
【００２９】〔実施例２〕 ・１，１，１，５，５，５-ヘキサフルオロアセチルア
セトンの製造 温度測定用熱伝対及び攪拌機を備えた２００Ｌガラスラ
イニング反応器に不純物を含んだ１，１，１，５，５，
５−ヘキサフルオロアセチルアセトン(ＧＬＣ純度９
７．０％）３３．０ｋｇ、トルエン１００ｋｇ、水８．
５ｋｇ及び９８％硫酸０．０９ｋｇを投入し、内温６０
℃で５時間反応させた。２０℃程度まで放冷した後、遠
心分離器で結晶を濾別、振動乾燥機により減圧乾燥して
１，１，１，５，５，５-ヘキサフルオロアセチルアセ
トン・二水和物３１．０ｋｇを得た。次に、温度測定用
熱伝対及び攪拌機を備えた２００Ｌガラスライニング反
応器に得られた１，１，１，５，５，５-ヘキサフルオ
ロアセチルアセトン・二水和物３１．０ｋｇ及び９８％
硫酸６２．０ｋｇを投入し、１５〜２０℃で４時間撹拌
した。１時間静定した後、二層分離した後、蒸留して２
４．２ｋｇの１，１，１，５，５，５-ヘキサフルオロ
アセチルアセトンを得た。これをガスクロマトグラフに
て分析すると９９．９％の１，１，１，５，５，５-ヘ
キサフルオロアセチルアセトンであった。
セトンの製造 温度測定用熱伝対及び攪拌機を備えた２００Ｌガラスラ
イニング反応器に不純物を含んだ１，１，１，５，５，
５−ヘキサフルオロアセチルアセトン(ＧＬＣ純度９
７．０％）３３．０ｋｇ、トルエン１００ｋｇ、水８．
５ｋｇ及び９８％硫酸０．０９ｋｇを投入し、内温６０
℃で５時間反応させた。２０℃程度まで放冷した後、遠
心分離器で結晶を濾別、振動乾燥機により減圧乾燥して
１，１，１，５，５，５-ヘキサフルオロアセチルアセ
トン・二水和物３１．０ｋｇを得た。次に、温度測定用
熱伝対及び攪拌機を備えた２００Ｌガラスライニング反
応器に得られた１，１，１，５，５，５-ヘキサフルオ
ロアセチルアセトン・二水和物３１．０ｋｇ及び９８％
硫酸６２．０ｋｇを投入し、１５〜２０℃で４時間撹拌
した。１時間静定した後、二層分離した後、蒸留して２
４．２ｋｇの１，１，１，５，５，５-ヘキサフルオロ
アセチルアセトンを得た。これをガスクロマトグラフに
て分析すると９９．９％の１，１，１，５，５，５-ヘ
キサフルオロアセチルアセトンであった。
【００３０】〔実施例３〕 ・１，１，１，５，５，５-ヘキサフルオロアセチルア
セトンの製造 温度測定用熱伝対及び攪拌機を備えた２００Ｌガラスラ
イニング反応器に不純物を含んだ１，１，１，５，５，
５−ヘキサフルオロアセチルアセトン(ＧＬＣ純度９
７．０％）３３．０ｋｇ、トルエン１００ｋｇ及び水
８．６ｋｇを投入し、内温６０℃で５時間反応させた。
２０℃程度まで放冷した後、遠心分離器で結晶を濾別、
振動乾燥機により減圧乾燥して１，１，１，５，５，５
-ヘキサフルオロアセチルアセトン・二水和物３１．０
ｋｇを得た。次に、温度測定用熱伝対及び攪拌機を備え
た２００Ｌガラスライニング反応器に得られた１，１，
１，５，５，５-ヘキサフルオロアセチルアセトン・二
水和物３２．３ｋｇ及び９８％硫酸６４．６ｋｇを投入
し、１５〜２０℃で４時間撹拌した。１時間静定した
後、二層分離した後、蒸留して２５．２ｋｇの１，１，
１，５，５，５-ヘキサフルオロアセチルアセトンを得
た。これをガスクロマトグラフにて分析すると９９．９
％の１，１，１，５，５，５-ヘキサフルオロアセチル
アセトンであった。
セトンの製造 温度測定用熱伝対及び攪拌機を備えた２００Ｌガラスラ
イニング反応器に不純物を含んだ１，１，１，５，５，
５−ヘキサフルオロアセチルアセトン(ＧＬＣ純度９
７．０％）３３．０ｋｇ、トルエン１００ｋｇ及び水
８．６ｋｇを投入し、内温６０℃で５時間反応させた。
２０℃程度まで放冷した後、遠心分離器で結晶を濾別、
振動乾燥機により減圧乾燥して１，１，１，５，５，５
-ヘキサフルオロアセチルアセトン・二水和物３１．０
ｋｇを得た。次に、温度測定用熱伝対及び攪拌機を備え
た２００Ｌガラスライニング反応器に得られた１，１，
１，５，５，５-ヘキサフルオロアセチルアセトン・二
水和物３２．３ｋｇ及び９８％硫酸６４．６ｋｇを投入
し、１５〜２０℃で４時間撹拌した。１時間静定した
後、二層分離した後、蒸留して２５．２ｋｇの１，１，
１，５，５，５-ヘキサフルオロアセチルアセトンを得
た。これをガスクロマトグラフにて分析すると９９．９
％の１，１，１，５，５，５-ヘキサフルオロアセチル
アセトンであった。
【００３１】
【発明の効果】本発明の精製方法によると、不純物を含
む１，１，１，５，５，５−ヘキサフルオロアセチルア
セトンから、簡便な操作で、高純度の１，１，１，５，
５，５−ヘキサフルオロアセチルアセトンを得ることが
できる。
む１，１，１，５，５，５−ヘキサフルオロアセチルア
セトンから、簡便な操作で、高純度の１，１，１，５，
５，５−ヘキサフルオロアセチルアセトンを得ることが
できる。
Claims (5)
- 【請求項１】１，１，１，５，５，５−ヘキサフルオロ
アセチルアセトンを水和し、次いで脱水することからな
る１，１，１，５，５，５−ヘキサフルオロアセチルア
セトンの精製方法。 - 【請求項２】１，１，１，５，５，５−ヘキサフルオロ
アセチルアセトンを水和して得られた１，１，１，５，
５，５−ヘキサフルオロアセチルアセトン・水和物を脱
水することからなる請求項１記載の１，１，１，５，
５，５−ヘキサフルオロアセチルアセトンの精製方法。 - 【請求項３】１，１，１，５，５，５−ヘキサフルオロ
アセチルアセトン・水和物を、１，１，１，５，５，５
−ヘキサフルオロアセチルアセトン・二水和物が難溶な
有機溶剤と接触させ、次いで脱水することからなる請求
項２記載の１，１，１，５，５，５−ヘキサフルオロア
セチルアセトンの精製方法。 - 【請求項４】難溶性の有機溶剤が、芳香族炭化水素、脂
肪族炭化水素、脂環式炭化水素またはフッ素系溶媒であ
る請求項３記載の１，１，１，５，５，５−ヘキサフル
オロアセチルアセトンの精製方法。 - 【請求項５】水和を１，１，１，５，５，５−ヘキサフ
ルオロアセチルアセトン・二水和物が難溶な有機溶剤中
で行う請求項１乃至４の何れかに記載の１，１，１，
５，５，５−ヘキサフルオロアセチルアセトンの精製方
法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000178891A JP2001354610A (ja) | 2000-06-14 | 2000-06-14 | １，１，１，５，５，５−ヘキサフルオロアセチルアセトンの精製方法 |
| US09/880,091 US6384286B1 (en) | 2000-06-14 | 2001-06-14 | Process for purifying 1,1,1,5,5,5-hexafluoroacetylacetone |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000178891A JP2001354610A (ja) | 2000-06-14 | 2000-06-14 | １，１，１，５，５，５−ヘキサフルオロアセチルアセトンの精製方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001354610A true JP2001354610A (ja) | 2001-12-25 |
Family
ID=18680244
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000178891A Abandoned JP2001354610A (ja) | 2000-06-14 | 2000-06-14 | １，１，１，５，５，５−ヘキサフルオロアセチルアセトンの精製方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6384286B1 (ja) |
| JP (1) | JP2001354610A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2014168056A1 (ja) * | 2013-04-11 | 2014-10-16 | セントラル硝子株式会社 | １，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロアセチルアセトンの製造方法 |
| JP2016069327A (ja) * | 2014-09-30 | 2016-05-09 | セントラル硝子株式会社 | １，１，１，５，５，５−ヘキサフルオロアセチルアセトンの製造方法 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3433838A (en) * | 1966-09-21 | 1969-03-18 | Allied Chem | Purification of perhaloacetones |
| JPS59204149A (ja) * | 1983-04-30 | 1984-11-19 | Central Glass Co Ltd | ヘキサフルオロアセトン水和物の精製方法 |
| US4626600A (en) * | 1984-05-11 | 1986-12-02 | General Electric Company | Process for purifying acetone |
| US5567853A (en) * | 1995-02-17 | 1996-10-22 | Arco Chemical Technology, L.P. | Purification of acetone |
-
2000
- 2000-06-14 JP JP2000178891A patent/JP2001354610A/ja not_active Abandoned
-
2001
- 2001-06-14 US US09/880,091 patent/US6384286B1/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2014168056A1 (ja) * | 2013-04-11 | 2014-10-16 | セントラル硝子株式会社 | １，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロアセチルアセトンの製造方法 |
| JP2014218495A (ja) * | 2013-04-11 | 2014-11-20 | セントラル硝子株式会社 | １，１，１，５，５，５−ヘキサフルオロアセチルアセトンの製造方法 |
| CN105102411A (zh) * | 2013-04-11 | 2015-11-25 | 中央硝子株式会社 | 1,1,1,5,5,5-六氟乙酰丙酮的制造方法 |
| US9409843B2 (en) | 2013-04-11 | 2016-08-09 | Central Glass Company, Limited | Method for producing 1,1,1,5,5,5-hexafluoroacetylacetone |
| JP2016069327A (ja) * | 2014-09-30 | 2016-05-09 | セントラル硝子株式会社 | １，１，１，５，５，５−ヘキサフルオロアセチルアセトンの製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US20020022748A1 (en) | 2002-02-21 |
| US6384286B1 (en) | 2002-05-07 |
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