JP2001350004A - Reflection sheet - Google Patents

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To form a paper white-type reflection sheet which is brighter than a conventional one, when it is used in a reflective liquid crystal display and has high durability. SOLUTION: An underlayer, a silver-base metal layer and a silicon dioxide layer are formed successively on a rugged layer formed on a polymer film by applying fine particles and a binder, in such a way that the weight is adjusted to be in a specified weight range.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【０００１】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は反射型液晶表示装置
に用いられる反射シートに関する。さらに詳しくは本発
明は、携帯電話、ＰＨＳ、電子手帳、携帯情報端末、電
子計算機、各種操作パネルなどの反射型液晶表示装置に
用いられる反射シートに関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a reflection sheet used for a reflection type liquid crystal display device. More specifically, the present invention relates to a reflection sheet used for a reflection type liquid crystal display device such as a mobile phone, a PHS, an electronic organizer, a personal digital assistant, a computer, and various operation panels.

【０００２】[0002]

【従来の技術】液晶表示装置はこれまでのＣＲＴディス
プレイに比べ、薄型であり省スペース化できること、ま
た、低電圧で作動すること、消費電力が少なく省エネル
ギー化できるなどの特徴から、中小型機器のディスプレ
イを中心に広く用いられている。なかでも反射型液晶
は、常にバックライトを用いる透過型液晶表示装置に比
べ低消費電力であることから携帯電話、ＰＨＳ、電子手
帳、携帯情報端末、電子計算機、各種操作パネルなどに
使用されている。現在、主として用いられている白黒表
示の反射型液晶表示装置は人側より、偏光板、液晶表示
パネル、偏光板、反射シートで構成されるている。ま
た、今後増加すると考えられる反射型カラー液晶表示装
置では、上記部材に加えカラーフィルターが用られるこ
とが考えられる。また、反射型カラー液晶表示装置では
反射体側の偏光板がないものや、偏光板が全くないもの
も考案されている。2. Description of the Related Art Compared to conventional CRT displays, liquid crystal display devices are thinner and can save space, operate at low voltage, consume less power, and can save energy. Widely used mainly for displays. Above all, reflective liquid crystal is always used in mobile phones, PHS, electronic organizers, personal digital assistants, electronic calculators, various operation panels, etc. because of its lower power consumption than transmissive liquid crystal display devices that always use a backlight. . At present, a reflection-type liquid crystal display device for black-and-white display mainly used includes a polarizing plate, a liquid crystal display panel, a polarizing plate, and a reflection sheet from the human side. In a reflective type color liquid crystal display device which is expected to increase in the future, a color filter may be used in addition to the above members. Further, in the reflection type color liquid crystal display device, a device having no polarizing plate on the reflector side or a device having no polarizing plate at all has been devised.

【０００３】理想的な液晶表示とは、明るく、そしてど
こから見ても同様な表示品質が得られるものであり、私
たちが普段使用している本などの印刷物の様な物である
といわれている。よって、反射型液晶表示装置に用いら
れる反射シートも紙のように四方八方に均一に光を拡散
する反射シート（ペーパーホワイトタイプ）が好ましい
と考えられる。しかしながら、液晶表示装置では、一般
に先述した構成であるため、入射光は偏光板―液晶表示
パネル−偏光板を通過し、反射シートに到達した後、反
射シートにより反射された光は再度、偏光板―液晶表示
パネル−偏光板を通過し外部へ到達するため、入射光に
対して、反射光の光量は光損失を考慮すると３分の１以
下に落ち暗くなってしまうという問題点があった。ま
た、カラー反射型液晶表示装置においては、カラーフィ
ルターも用いられるため、さらに反射光が減少する事が
考えられる。よって、均一に光を拡散する反射シートを
液晶表示装置に用いると、実際は暗くなり使用できな
い。そこで現状では、金属光沢をもつ正反射成分の大き
い反射シートを用い、ある範囲に光を集中することによ
って明るい表示を実現している。しかしながら、このよ
うな正反射成分の大きな反射シートでは、光の入射角と
見る角度（受光角）が一致する場合は非常に明るいもの
の、見る角度（受光角）がずれると一気に暗くなってし
まう、つまり視野角が狭いという欠点がある。視野角を
広げるには拡散成分を増やす必要があるが、拡散成分を
増やすことはせっかく集中させた光を広げることになり
全体的に暗くなってしまうという問題がある。[0003] An ideal liquid crystal display is a display which is bright and has a similar display quality from any point of view, and is said to be a printed matter such as a book which we usually use. I have. Therefore, it is considered that a reflection sheet (paper white type) that uniformly diffuses light in all directions, such as paper, is also preferable for the reflection sheet used in the reflection type liquid crystal display device. However, in the liquid crystal display device, the incident light generally passes through the polarizer-the liquid crystal display panel-the polarizer, reaches the reflective sheet, and then is reflected by the reflective sheet again. —Liquid crystal display panel—Because the light passes through the polarizing plate and reaches the outside, the amount of reflected light with respect to the incident light is reduced to one third or less in consideration of light loss, resulting in darkness. Further, in the color reflection type liquid crystal display device, since a color filter is also used, it is conceivable that reflected light is further reduced. Therefore, if a reflection sheet that uniformly diffuses light is used in a liquid crystal display device, it becomes darker and cannot be used. Therefore, at present, a bright display is realized by concentrating light in a certain range using a reflection sheet having a metallic specular component and a large specular reflection component. However, such a reflection sheet having a large specular reflection component is very bright when the incident angle of light and the viewing angle (reception angle) match, but becomes dark at a stretch when the viewing angle (reception angle) deviates. That is, there is a disadvantage that the viewing angle is narrow. In order to widen the viewing angle, it is necessary to increase the diffusion component. However, increasing the diffusion component causes a problem that the concentrated light is widened and the entire image becomes dark.

【０００４】この視野角を広げるためには反射体の反射
特性（光の集中と分散）を制御することが必要であり、
これまで多くの検討がなされてきた。反射体の反射特性
を制御する方法としては、反射面（金属薄膜層）を形成
する基材（高分子フィルム）を凹凸化する方法が一般的
である。凹凸化方法としては、 （１）高分子フィルム表面にエンボス加工を施し凹凸構
造を形成した後、表面を溶剤で処理して滑らかにする方
法。 （２）高分子フィルム表面にＳｉＯ₂などの粒子を高圧
空気とともに吹き付けるサンドブラスト方法。 （３）エッチング法などの化学的方法。 などが挙げられる。しかしながら、（１）、（２）の方
式では、機械的物理的方法によりフィルム表面に凹凸形
状を形成する方式のため、フィルムの材質の選択の幅が
狭くまた、厚みもある程度厚くしなければならないとい
う欠点がある。また、（２）の方法では硬いサンド（Ｓ
ｉＯ₂）の形状が不均一なことから、得られる凹凸形状
も激しくかつ、不均一に粗れており、アルカリ溶液処理
などで表面の一部を溶解しても、この粗れを十分に均一
化することができず、えられる凹凸構造が非常に不均一
になるという欠点がある。さらにまた、（３）のような
化学的方法においても、フィルムの材質の選択がシビア
でありまた、処理後の洗浄乾燥が大変であるという欠点
がある。In order to widen the viewing angle, it is necessary to control the reflection characteristics (concentration and dispersion of light) of the reflector.
Many studies have been made so far. As a method of controlling the reflection characteristics of the reflector, a method of making a substrate (polymer film) forming a reflection surface (metal thin film layer) uneven is generally used. As the method of forming the unevenness, (1) a method of embossing the surface of the polymer film to form an uneven structure and then treating the surface with a solvent to smooth the surface. (2) A sandblasting method in which particles such as SiO ₂ are blown onto the polymer film surface together with high-pressure air. (3) A chemical method such as an etching method. And the like. However, in the methods (1) and (2), since the unevenness is formed on the film surface by a mechanical and physical method, the width of selection of the material of the film must be narrow and the thickness must be increased to some extent. There is a disadvantage that. In the method (2), the hard sand (S
Due to the non-uniform shape of iO ₂ ), the resulting concavo-convex shape is severe and uneven, and even if a part of the surface is dissolved by an alkali solution treatment, the roughness is sufficiently uniform. However, there is a disadvantage that the resulting uneven structure becomes very uneven. Furthermore, even in the chemical method as in (3), there is a disadvantage that the selection of the material of the film is severe, and the washing and drying after the treatment are difficult.

【０００５】現状では、これらの方法では、凹凸層の成
形方法自体に欠点があること、また出来た凹凸層におい
ても依然として狭い視野角の範囲に光が集中するため、
明るさ（輝度）が等しい理想的な反射特性は得られてい
ない。よって、より高拡散で理想的な反射特性を得るた
めには、これまでよりもさらに制御された凹凸表面を用
いる必要があった。At present, these methods have drawbacks in the method of forming the uneven layer itself, and light is still concentrated in a narrow viewing angle range even in the formed uneven layer.
An ideal reflection characteristic having the same brightness (luminance) has not been obtained. Therefore, in order to obtain an ideal reflection characteristic with higher diffusion, it is necessary to use a more controlled uneven surface than before.

【０００６】一方、反射層に用いられる金属によって
も、その反射率は大きく左右される。例えば、一般的に
用いられる金属層として、銀及びアルミニウムを例にと
り比較すれば、銀を使用した場合、その反射率は９０％
以上、アルミニウムを用いた場合は８５％以上となって
おり、銀を用いる方が高反射率を得ることができる。し
かしながら、近年の液晶表示装置の普及に伴い、その用
途も多様化し、より過酷な使用条件での要求も高まって
おり、長時間の耐久性が要求されている。一般的な実装
信頼性に関しては、中耐久条件として、６０℃×９０％
ＲＨ×５００ｈｒでの耐久性が求められているが、反射
層に銀のみを用いた場合、上記の中耐久条件において、
表面に多数の凝集点が発生し、見た目が悪くなると共
に、反射率の低下を招くという欠点がある。[0006] On the other hand, the reflectivity greatly depends on the metal used for the reflective layer. For example, comparing silver and aluminum as examples of commonly used metal layers, when silver is used, the reflectance is 90%.
As described above, the ratio is 85% or more when aluminum is used, and higher reflectance can be obtained by using silver. However, with the spread of liquid crystal display devices in recent years, their uses have been diversified, demands under severer use conditions have increased, and long-term durability has been required. Regarding general mounting reliability, the medium durability condition is 60 ° C x 90%.
Although durability at RH × 500 hr is required, when only silver is used for the reflective layer,
There are drawbacks that a large number of aggregation points are generated on the surface, which deteriorates the appearance and lowers the reflectance.

【０００７】[0007]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の課題
をすべて解決するためになされたものであり、反射型液
晶表示装置に用いた際に、従来よりも明るいペーパーホ
ワイトタイプで、高耐久性をもつ反射シートを提供する
ことを目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve all the above-mentioned problems, and when used in a reflection type liquid crystal display device, is a paper white type which is brighter than the conventional one and has high durability. It is an object of the present invention to provide a reflective sheet having a characteristic.

【０００８】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の課
題を解決するために、凹凸構造及び反射層の構成につい
て鋭意検討した結果、驚くべきことに、高分子フィルム
に、その重量がある特定の重量範囲になるように微細粒
子及びバインダーを塗布することにより形成された凹凸
層の上に、下地層、銀層、銀を主体とする合金層、珪素
酸化物層の４層を順に構成することにより、上記の課題
を解決出来ることを見いだした。Means for Solving the Problems In order to solve the above-mentioned problems, the present inventors have conducted intensive studies on the structure of the concave-convex structure and the reflection layer. As a result, surprisingly, the weight of the polymer film was reduced. On an uneven layer formed by applying fine particles and a binder so as to have a specific weight range, an underlayer, a silver layer, a silver-based alloy layer, and a silicon oxide layer are sequentially arranged in four layers. It has been found that the above problem can be solved by configuring.

【０００９】すなわち本発明は、（１）高分子フィルム
（Ａ）、主として粒子層からなる凹凸層（Ｂ）、下地層
（Ｃ）、銀層（Ｄ）、銀を主体とする合金層（Ｅ）、珪
素酸化物層（Ｆ）をＡＢＣＤＥＦの構成順に有する反射
シートであって、（Ｆ）層側から測定した波長５５０ｎ
ｍにおける該反射シートの反射率が、８５〜９９％であ
ることを特徴とする反射シート、（２）凹凸層（Ｂ）
が、平均粒径１μｍ以上１５μｍ以下であるような微細
粒子、および、バインダーにより形成され、かつ、該微
細粒子が凹凸層の体積に対し、５〜５２体積％の割合に
なるように配合され、かつ、該凹凸層の乾燥重量（ｇ／
ｃｍ²）が下記式（１）の条件 式（１）：０．７５×２ｒ×１０²／（ｐ／ａ＋（１０
０−ｐ）／ｂ）≦重量（ｇ／ｃｍ²）≦２．５×２ｒ×
１０²／（ｐ／ａ＋（１００−ｐ）／ｂ） 〔但し、ｐ＝１００／（１＋（１００／ｖ―１）×ｂ／
ａ）〕であり、 ｒ：使用した微細粒子の半径の平均値（ｃｍ） ｐ：凹凸層中の微細粒子の割合（重量％） ｖ：凹凸層中の微細粒子の割合（体積％） ａ：用いた微細粒子の密度（ｇ／ｃｍ³） ｂ：用いたバインダーの密度（ｇ／ｃｍ³） を満足するものであることを特徴とする前記（１）記載
の反射シート、 （３）微細粒子が、アクリル系粒子であることを特徴と
する前記（２）記載の反射シート、 （４）バインダーが、アクリル系樹脂であることを特徴
とする前記（２）または（３）記載の反射シート、 （５）下地層（Ｃ）が、金、銅、ニッケル、鉄、コバル
ト、タングステン、モリブデン、タンタル、クロム、イ
ンジウム、マンガン、チタン、もしくは、パラジウムか
らなる厚さ５〜５０ｎｍの金属層、または、酸化アルミ
ニウムが０〜５重量％ドープされた酸化亜鉛、または、
インジウムとスズの酸化物（ＩＴＯ）からなる厚さ１〜
２０ｎｍの透明酸化物層であることを特徴とする前記
（１）〜（４）のいずれかに記載の反射シート、 （６）銀層（Ｄ）の厚みが、７０〜４００ｎｍであるこ
とを特徴とする前記（１）〜（５）のいずれかに記載の
反射シート、 （７）銀を主体とする合金の金属層（Ｄ）の厚みが、５
〜４０ｎｍであることを特徴とする前記（１）〜（６）
のいずれかに記載の反射シート、 （８）珪素酸化物層（Ｅ）の厚みが、１〜５０ｎｍであ
ることを特徴とする前記（１）〜（６）のいずれかに記
載の反射シート、に関するものである。That is, the present invention provides (1) a polymer film (A), a concavo-convex layer (B) mainly composed of a particle layer, an underlayer (C), a silver layer (D), and a silver-based alloy layer (E). ), A reflection sheet having a silicon oxide layer (F) in the order of ABCDEF configuration, wherein a wavelength of 550 n measured from the (F) layer side.
m, the reflectance of the reflective sheet is 85 to 99%, (2) the uneven layer (B)
Are formed with a binder and a fine particle having an average particle size of 1 μm or more and 15 μm or less, and are blended such that the fine particle has a ratio of 5 to 52% by volume with respect to the volume of the uneven layer, And the dry weight (g / g) of the uneven layer.
cm ² ) is the condition of the following expression (1) Expression (1): 0.75 × 2r × 10 ² / (p / a + (10
0-p) / b) ≦ weight (g / cm ² ) ≦ 2.5 × 2r ×
10 ² / (p / a + (100−p) / b) [However, p = 100 / (1+ (100 / v−1) × b /
a)], r: average value of the radius of the fine particles used (cm) p: ratio of fine particles in the uneven layer (% by weight) v: ratio of fine particles in the uneven layer (% by volume) a: The density of the used fine particles (g / cm ³ ) b: The reflection sheet according to the above (1), which satisfies the density of the used binder (g / cm ³ ), (3) The fine particles Are acrylic particles, (4) The reflective sheet according to (2) or (3), wherein the binder is an acrylic resin. (5) The underlayer (C) is a metal layer having a thickness of 5 to 50 nm made of gold, copper, nickel, iron, cobalt, tungsten, molybdenum, tantalum, chromium, indium, manganese, titanium, or palladium, or Aluminum oxide 5% by weight doped zinc oxide, or,
Indium and tin oxide (ITO)
The reflective sheet according to any one of (1) to (4), which is a transparent oxide layer having a thickness of 20 nm. (6) The silver layer (D) has a thickness of 70 to 400 nm. (7) the thickness of the metal layer (D) of an alloy mainly composed of silver is 5;
(1) to (6), wherein
(8) The reflective sheet according to any of (1) to (6), wherein the silicon oxide layer (E) has a thickness of 1 to 50 nm. It is about.

【００１０】[0010]

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の反射シートは、特定の平均粒径により構成され
る微細粒子（以下、フィラーとも言う）を、特定の重量
割合でバインダーに配合し、乾燥重量がある特定の重量
になるように塗布して、高分子フィルム上に凹凸構造を
有する層を形成した後、該凹凸層上に酸化物或いは金属
単体層、銀を主体とする金属層、珪素酸化物層を順に形
成した反射シートである。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in detail.
The reflecting sheet of the present invention is prepared by blending fine particles (hereinafter, also referred to as a filler) composed of a specific average particle size into a binder in a specific weight ratio and applying the dry weight to a specific weight. A reflection sheet in which a layer having an uneven structure is formed on a polymer film, and then an oxide or metal simple layer, a metal layer mainly composed of silver, and a silicon oxide layer are sequentially formed on the uneven layer.

【００１１】本発明の反射シートにおいて、基材として
使用される高分子フィルムは、例えばポリエチレンテレ
フタラート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレートなど
のポリエステル類、ビスフェノールＡ系ポリカーボネー
トなどのポリカーボネート類、ポリエチレン、ポリプロ
ピレンなどのポリオレフィン類、セルローストリアセテ
ートなどのセルロース誘導体類、ポリ塩化ビニリデンな
どのビニル系樹脂、ポリイミド類、ポリアミド類、ポリ
エーテルスルホン、ポリスルホン系樹脂、ポリアリレー
ト系樹脂、フッ素系樹脂などの各種プラスチックからな
るフィルムが挙げられるが、必ずしもこれらに限定され
るものではなく、ある程度ガラス転移点が高く、平滑な
表面を持つものであれば使用できる。なかでもポリエチ
レンテレフタレートが好ましい。In the reflection sheet of the present invention, the polymer film used as the base material includes, for example, polyesters such as polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate, polycarbonates such as bisphenol A-based polycarbonate, polyethylene, polypropylene and the like. Films made of various plastics such as polyolefins, cellulose derivatives such as cellulose triacetate, vinyl resins such as polyvinylidene chloride, polyimides, polyamides, polyether sulfone, polysulfone resins, polyarylate resins, and fluorine resins. However, the material is not necessarily limited to these, and any material having a high glass transition point to some extent and having a smooth surface can be used. Among them, polyethylene terephthalate is preferred.

【００１２】使用される高分子フィルムの厚みは、特に
限定されるものではないが、通常は１０〜４００μｍ程
度、好ましくは１０〜２００μｍ程度が、さらに好まし
くは２５〜１００μｍ程度である。The thickness of the polymer film used is not particularly limited, but is usually about 10 to 400 μm, preferably about 10 to 200 μm, and more preferably about 25 to 100 μm.

【００１３】本発明において高分子フィルム上に形成さ
れる凹凸層は、フィラーとなる微細粒子及びバインダー
により形成される。フィラーとなる微細粒子としては、
例えば、アクリル、ポリスチレン、ビニルベンゼン、ポ
リメタクリル酸メチル、スチレンメタクリレート、スチ
レンアクリレート、スチレンブタジエン等の高分子（有
機）粒子をはじめ、シリカ、アルミナ、チタニア、ジル
コニア、酸化鉛（鉛白）、酸化亜鉛（亜鉛華）、炭酸カ
ルシウム、炭酸バリウム、硫酸バリウム、チタン酸カリ
ウム、ケイ酸ソーダなどからなる無機微粒子や、酸化
錫、酸化インジウム、酸化カドミウム、酸化アンチモン
などの導電性透明微粒子なども用いることができるが、
必ずしもこれらに限定されるものではない。なかでもア
クリル樹脂が好ましい。In the present invention, the concavo-convex layer formed on the polymer film is formed by fine particles serving as a filler and a binder. As fine particles serving as fillers,
For example, polymer (organic) particles such as acrylic, polystyrene, vinylbenzene, polymethyl methacrylate, styrene methacrylate, styrene acrylate, styrene butadiene, silica, alumina, titania, zirconia, lead oxide (lead white), zinc oxide (Zinc white), inorganic fine particles such as calcium carbonate, barium carbonate, barium sulfate, potassium titanate, and sodium silicate, and conductive transparent fine particles such as tin oxide, indium oxide, cadmium oxide, and antimony oxide can also be used. You can,
It is not necessarily limited to these. Among them, acrylic resin is preferable.

【００１４】高分子からなる微細粒子の調整方法として
は、乳化重合法、懸濁重合法、分散重合法などが挙げら
れる。なかでも乳化重合法が最も一般的であるが、近
年、分散重合も盛んに行われている。どの重合法におい
ても、生成する高分子は分散媒に難溶であり、分散媒と
高分子間の表面張力により粒子化する。高分子粒子は、
粒子表面に結合又は吸着している保護コロイドによって
安定化され、さらに粒子内架橋によっても安定化され
る。これらの方法の中でも特に、分散重合法を用いた場
合、サブミクロンから数十ミクロンまでの広い範囲の粒
子が得られる特徴がある。The method for preparing the fine particles composed of a polymer includes an emulsion polymerization method, a suspension polymerization method and a dispersion polymerization method. Among them, the emulsion polymerization method is the most common, but in recent years, dispersion polymerization has been actively performed. In any polymerization method, the produced polymer is hardly soluble in the dispersion medium, and is formed into particles by the surface tension between the dispersion medium and the polymer. Polymer particles are
It is stabilized by a protective colloid bonded or adsorbed to the particle surface, and further stabilized by intra-particle crosslinking. Among these methods, in particular, when a dispersion polymerization method is used, there is a feature that particles in a wide range from submicron to several tens of microns can be obtained.

【００１５】高分子フィルムの表面に所望の粗さを得る
ためのフィラーとなる微細粒子の平均粒子径は、１〜１
５μｍであり、好ましくは２〜１０μｍであり、さらに
好ましくは３〜８μｍである。平均粒子径が１μｍ未満
では、粒子の埋没で凹凸構造の表面が形成しにくくな
り、また、１５μｍを越えると凹凸構造の起伏が大きく
なり、きめの粗い反射シートとなる。なお、微細粒子の
粒径分布は小さい方が好ましい。粒径の標準偏差の平均
粒径に対する割合は５０％以下が好ましく、より好まし
くは３０％以下で、さらに好ましくは２０％以下であ
る。粒径分布が上記の割合を大きく超えると、制御され
た凹凸構造を得ることが難しくなる。The average particle diameter of the fine particles serving as a filler for obtaining the desired roughness on the surface of the polymer film is 1 to 1
It is 5 μm, preferably 2 to 10 μm, and more preferably 3 to 8 μm. If the average particle diameter is less than 1 μm, it becomes difficult to form the surface of the concavo-convex structure due to the burial of the particles, and if it exceeds 15 μm, the unevenness of the concavo-convex structure becomes large, resulting in a rough textured reflection sheet. It is preferable that the particle size distribution of the fine particles is small. The ratio of the standard deviation of the particle size to the average particle size is preferably 50% or less, more preferably 30% or less, and even more preferably 20% or less. If the particle size distribution greatly exceeds the above ratio, it is difficult to obtain a controlled uneven structure.

【００１６】本発明において、バインダーとして用いる
ものは、例えばポリメタクリル酸メチルなどのアクリル
樹脂、ポリアクリロニトリル樹脂、ポリメタアクリロニ
トリル樹脂、エチルシリケートより得られる重合体など
の珪素樹脂、フッ素系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリ
スチレン樹脂、アセテート系樹脂、ポリエーテルサルホ
ン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹
脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリウ
レタン系樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂
や、これらの混合物などが挙げられるが、必ずしもこれ
らに限定される物ではない。これらは高分子フィルム及
び粒子との密着性を考慮して選択され、なかでもアクリ
ル系樹脂が好ましい。In the present invention, the binder used is, for example, an acrylic resin such as polymethyl methacrylate, a polyacrylonitrile resin, a polymethacrylonitrile resin, a silicon resin such as a polymer obtained from ethylsilicate, a fluororesin, a polyester resin. Resin, polystyrene resin, acetate resin, polyethersulfone resin, polycarbonate resin, polyamide resin, polyimide resin, polyolefin resin, polyurethane resin, urea resin, melamine resin, epoxy resin, and mixtures thereof But are not necessarily limited to these. These are selected in consideration of the adhesion to the polymer film and the particles, and among them, acrylic resins are preferable.

【００１７】また、本発明において凹凸層の形成方法と
しては、フィラーである微細粒子及びバインダーを、高
分子フィルム上に塗布することで形成する。塗布する
際、フィラーである微細粒子をバインダー中に分散させ
るための溶媒としては、トルエン、メチルエチルケト
ン、酢酸エチル、イソプロピルアルコールなどが好まし
く用いられる。これらは塗布作業時に一般的に用いられ
る溶媒であり、これら以外でも基材高分子フィルムやフ
ィラー微細粒子に影響を与えない溶媒であれば、問題な
く使用できる。また、塗布溶液には、必要に応じてぬれ
剤や増粘剤、分散剤、消泡剤などの添加剤も加えられる
こともある。Further, in the present invention, as a method for forming the uneven layer, fine particles and a binder as a filler are formed by coating on a polymer film. At the time of coating, as a solvent for dispersing fine particles as a filler in a binder, toluene, methyl ethyl ketone, ethyl acetate, isopropyl alcohol, and the like are preferably used. These are solvents generally used at the time of the coating operation, and any other solvent that does not affect the base polymer film or the filler fine particles can be used without any problem. Further, additives such as a wetting agent, a thickener, a dispersant, and an antifoaming agent may be added to the coating solution as needed.

【００１８】フィラーとなる微細粒子の配合割合として
は、塗工溶液における固形分（フィラー＋バインダー）
中のフィラーの体積％で表され、通常固形分１００体積
％に対し、５体積％以上、５２体積％以下が好ましく、
より好ましくは１０体積％以上４５体積％以下、さらに
好ましくは、２０体積％以上、４０体積％以下である。
フィラーの使用量が５体積％以下の場合、十分な光拡散
性を得ることが出来ず、５２体積％を越えると複屈折に
より十分な反射光が得られなくなる。The mixing ratio of the fine particles serving as the filler is determined by the solid content (filler + binder) in the coating solution.
It is expressed by the volume% of the filler in the medium, and is preferably 5% by volume or more and 52% by volume or less based on 100% by volume of the solid content.
More preferably, the content is 10% by volume or more and 45% by volume or less, and still more preferably 20% by volume or more and 40% by volume or less.
When the used amount of the filler is 5% by volume or less, sufficient light diffusibility cannot be obtained, and when it exceeds 52% by volume, sufficient reflected light cannot be obtained due to birefringence.

【００１９】本発明の反射シートの製造に際して、高分
子からなる微細粒子を、バインダー中に溶剤を用いて分
散させた溶液を塗工する際は、分散溶液を調合後、４時
間、好ましくは１２時間、さらに好ましくは２４時間お
いた後に塗工することが好ましい。高分子からなる微細
粒子は溶剤の影響を受け、数時間の間、経時で膨潤する
ため、分散溶液調合後、すぐに塗工を行うと、微細粒子
の粒径が経時で変化するため、凹凸構造が不均一になる
と共に、分散溶液の粘度も経時で変化するため、塗工条
件の調整が困難になることがある。In the production of the reflection sheet of the present invention, when applying a solution in which fine particles made of a polymer are dispersed in a binder using a solvent, 4 hours after mixing the dispersion solution, preferably 12 hours It is preferable to apply the coating after leaving for 24 hours, more preferably 24 hours. Since the fine particles made of a polymer are affected by the solvent and swell with the lapse of time for several hours, if the coating is performed immediately after preparing the dispersion solution, the particle size of the fine particles changes with the lapse of time. Since the structure becomes uneven and the viscosity of the dispersion solution changes with time, it may be difficult to adjust the coating conditions.

【００２０】本発明の反射シートは、高分子フィルム上
に前記のバインダーと微細粒子からなる組成物を特定重
量塗布して得られる凹凸層を有することを特徴とする。
高分子上に形成される凹凸層の重量は、式（１）で表す
ように、 式（１）：０．７５×２ｒ×１０²／（ｐ／ａ＋（１０
０−ｐ）／ｂ）≦重量（ｇ／ｃｍ²）≦２．５×２ｒ×
１０²／（ｐ／ａ＋（１００−ｐ）／ｂ） であることが好ましい。より好ましくは、 式（２）：０．７５×２ｒ×１０²／（ｐ／ａ＋（１０
０−ｐ）／ｂ）≦重量（ｇ／ｃｍ²）≦２．０×２ｒ×
１０²／（ｐ／ａ＋（１００−ｐ）／ｂ） さらに好ましくは、 式（３）：０．７５×２ｒ×１０²／（ｐ／ａ＋（１０
０−ｐ）／ｂ）≦重量（ｇ／ｃｍ²）≦１．５×２ｒ×
１０²／（ｐ／ａ＋（１００−ｐ）／ｂ） である。凹凸層の重量が、式（１）の左辺の値より大き
くなると、凹凸層を形成するための粒子の数が少なす
ぎ、高分子フィルム上に所望の凹凸構造を得ることが出
来ない。また、凹凸層の重量が（１）式の右辺の値より
少なくなると、粒子の数が多くなりすぎて、制御された
凹凸構造を作ることが難しくなる。The reflection sheet of the present invention is characterized in that it has a concavo-convex layer obtained by applying a specific weight of the composition comprising the binder and the fine particles on a polymer film.
The weight of the concavo-convex layer formed on the polymer is expressed by the following equation (1): 0.75 × 2r × 10 ² / (p / a + (10
0-p) / b) ≦ weight (g / cm ² ) ≦ 2.5 × 2r ×
It is preferably 10 ² / (p / a + (100−p) / b). More preferably, the formula (2): 0.75 × 2r × 10 ² / (p / a + (10
0-p) / b) ≦ weight (g / cm ² ) ≦ 2.0 × 2r ×
10 ² / (p / a + (100−p) / b) More preferably, the formula (3): 0.75 × 2r × 10 ² / (p / a + (10
0-p) / b) ≦ weight (g / cm ² ) ≦ 1.5 × 2r ×
10 ² / (p / a + (100−p) / b). When the weight of the uneven layer is larger than the value on the left side of the formula (1), the number of particles for forming the uneven layer is too small, and a desired uneven structure cannot be obtained on the polymer film. If the weight of the uneven layer is smaller than the value on the right side of the expression (1), the number of particles becomes too large, and it becomes difficult to form a controlled uneven structure.

【００２１】ここで本発明でいう重量とは、乾燥後（ド
ライ）重量を表す。乾燥前（ウェット）での重量（塗布
量）は、コーティングに用いるグラビヤ版やメイヤーバ
ーの番手を選ぶの上で有用であるが、実測が困難である
ことが多い。そこで、実際には乾燥後の膜厚や、乾燥後
の塗布重量を測定し評価することが多い。しかしなが
ら、粒子層は凹凸層になっているため、必ずしも塗布量
と膜厚が一致しない。よって、乾燥後（ドライ）の重量
で評価を行うことが好ましいと考えられる。ドライ重量
の測定方法としては例えば、凹凸層表面の微細粒子及び
バインダーを可溶する溶剤により丁寧にふき取り、剥が
れた凹凸層及び溶剤を乾燥させ、溶剤を蒸発させること
により容易に計量する事ができる。Here, the weight in the present invention means the weight after drying (dry). The weight (application amount) before drying (wet) is useful in selecting the number of the gravure plate or Meyer bar used for coating, but is often difficult to measure. Therefore, in practice, the film thickness after drying and the coating weight after drying are often measured and evaluated. However, since the particle layer is an uneven layer, the coating amount and the film thickness do not always match. Therefore, it is considered preferable to carry out the evaluation based on the weight after drying (dry). As a method for measuring the dry weight, for example, the fine particles on the surface of the uneven layer and the solvent that dissolves the binder are carefully wiped off, the peeled uneven layer and the solvent are dried, and the solvent can be easily measured by evaporating the solvent. .

【００２２】本発明では基材高分子フィルム上に微細粒
子による凹凸層を形成する方法としては、種々の溶液塗
工法が考えられるが、その際の塗布量はウェット重量で
制御される。塗工液中の固形分の重量％をＮで示した場
合、ウェット重量とドライ重量の間には実質的に、 ウェット重量（ｇ／ｃｍ²）＝ドライ重量（ｇ／ｃｍ²）
／Ｎ×１００ Ｎ：ウェット塗布溶液中の、固形分の割合（重量％） の関係がある。よって、式（１）は式（４）と表すこと
ができる。 式（４）：０．７５×２ｒ／Ｎ×１０⁴／（ｐ／ａ＋
（１００−ｐ）／ｂ）≦塗布量（ｇ／ｃｍ²）≦２．５
×２ｒ／Ｎ×１０⁴／（ｐ／ａ＋（１００−ｐ）／ｂ） 但し、ウェット重量は、前述したとおり塗布方法や、乾
燥条件により、最終的な乾燥重量と整合性がとれない場
合が多々あるため、あくまでも塗工中の目安の値とし、
評価はドライ重量で行う。In the present invention, as a method of forming a concavo-convex layer by fine particles on a base polymer film, various solution coating methods are conceivable, and the amount of coating at that time is controlled by wet weight. When showing the weight percent of solids in the coating liquid in N, substantially between the wet weight and dry weight and wet weight (g / cm ²⁾ = Dry Weight (g / cm ²⁾
/ N × 100 N: There is a relationship of the solid content ratio (% by weight) in the wet coating solution. Therefore, equation (1) can be expressed as equation (4). Formula (4): 0.75 × 2r / N × 10 ⁴ / (p / a +
(100-p) / b) ≦ application amount (g / cm ² ) ≦ 2.5
× 2r / N × 10 ⁴ / (p / a + (100−p) / b) However, the wet weight may not be consistent with the final dry weight depending on the application method and drying conditions as described above. Because there are many, it is just a guideline value during coating,
The evaluation is performed by dry weight.

【００２３】以下に、本発明における凹凸層を形成する
方法について説明する。はじめに、ロールコータについ
て説明する。ロールコータとは、メタリングロールとア
プリケータロールとバックアップロールの３本で構成さ
れ、メタリングロールの配置される位置により、正回転
ロールコータとリバースロールコータに分けられる。メ
タリングロールの役目はアプリケータロール上に、塗工
剤を正確な一定量保持させることであり、アプリケータ
ロール上に存在する塗工剤の量は、アプリケータロール
とメタリングロールとのニップ幅及び、相対的表面速度
で調整される。実際の操作では、アプリケータロールと
メタリングロールはそれぞれ独立に速度をコントロール
する。このことは広範囲の塗工剤を取り扱う場合に特に
重要であり、大部分の塗工剤では、メタリングニップに
おける相対速度の関係を正しく調整することによって、
きわめて平滑な外観の塗膜を得ることが出来る。正回転
ロールコータにおいては、メタリングロールとアプリケ
ータロールの周速を等速にするとロール間ニップの出口
で塗液が***する際に、液が上下に引っ張られ、***模
様を生じるため、アプリケータロールの方をより速く回
転させる。一般的には、メタリングロールとアプリケー
タロールの間隔は少し離して計量の一部を受け持たせて
いる。この間隙が離れすぎるとリング状のパターンを生
じるという欠点がある。Hereinafter, a method for forming the uneven layer according to the present invention will be described. First, the roll coater will be described. The roll coater is composed of three, a metering roll, an applicator roll, and a backup roll, and is divided into a forward rotation roll coater and a reverse roll coater according to the position where the metalling roll is arranged. The role of the metering roll is to maintain a precise and constant amount of coating agent on the applicator roll, and the amount of coating agent present on the applicator roll depends on the nip between the applicator roll and the metering roll. The width and the relative surface speed are adjusted. In actual operation, the applicator roll and the metering roll each control the speed independently. This is especially important when dealing with a wide range of coatings, and for most coatings, by properly adjusting the relative velocity relationship at the metalling nip,
A coating film having a very smooth appearance can be obtained. In the case of a forward rotation roll coater, if the peripheral speed of the metering roll and the applicator roll is made equal, when the coating liquid splits at the exit of the nip between the rolls, the liquid is pulled up and down, causing a split pattern. Rotate the tallon faster. In general, the spacing between the metering roll and the applicator roll is slightly spaced to take part of the metering. If this gap is too far, there is a disadvantage that a ring-shaped pattern is generated.

【００２４】ロールコータにおいてアプリケータロール
が逆回転しながら塗工するのがリバースロールコータで
ある。リバースロールコータにおいて、塗膜厚さは互い
に接するロール間の間隙の大きさ、各ロールの周速比、
塗工液の粘度、固形分濃度などにより決定される。この
コータの長所は、（１）広い粘度範囲にわたって塗布が
可能である、（２）走行中に塗膜厚さを調整できる、
（３）塗膜厚さを大幅に変えることが出来る、（４）支
持体の表面に沿った塗膜表面が形成され、ミクロにみて
塗膜厚さが均一である、（５）ピックアップロールを共
有するため溶剤の損失が少ないこと、などが挙げられ
る。しかしながら一方で、（１）メタリングロールの速
度が速すぎると、アプリケータロール上に計量された塗
工剤に粗い波状模様ができ、この模様はフィルム表面に
移動したとき同じ模様として現れてしまう、（２）メタ
リングロールを理想的速度より遅くすると、アプリケー
タロール上に計量された塗工剤に同心円の***が生じ
る、（３）塗工剤槽内でのかき混ぜ効果が強く泡が発生
しやすい、（４）アプリケーションロールによるホンピ
ング作用が強くなり、オーバーフローを防ぐため塗工剤
溜めを深くする必要がある、（５）エッジドクタの取り
付けが困難であり、バックアップロールに段を付ける必
要がある、（６）ポンピング作用による塗工剤の飛散問
題から、塗工速度に制限がある、などの欠点もある。In a roll coater, a reverse roll coater performs coating while the applicator roll rotates in the reverse direction. In a reverse roll coater, the coating thickness is determined by the size of the gap between the rolls in contact with each other, the peripheral speed ratio of each roll,
It is determined by the viscosity of the coating solution, the solid content concentration, and the like. The advantages of this coater are (1) coating is possible over a wide viscosity range, (2) coating thickness can be adjusted during running,
(3) The thickness of the coating film can be greatly changed. (4) The coating film surface is formed along the surface of the support, and the coating film thickness is uniform microscopically. A small loss of solvent due to sharing. However, on the other hand, (1) if the speed of the metering roll is too high, a rough wavy pattern is formed on the coating material measured on the applicator roll, and this pattern appears as the same pattern when moved to the film surface. (2) When the metering roll is made slower than the ideal speed, concentric bulges occur in the coating agent measured on the applicator roll. (3) A strong stirring effect in the coating agent tank generates bubbles. (4) The homing effect of the application roll is increased, and the coating agent reservoir needs to be deepened to prevent overflow. (5) It is difficult to attach the edge doctor, and it is necessary to step the backup roll. (6) There is also a drawback that the coating speed is limited due to the problem of scattering of the coating agent due to the pumping action.

【００２５】グラビアコータ法では、グラビアロール、
バックアップロール、アジャストロールで構成され、液
槽の中に浸かっているグラビアロールは、表面に凹凸の
彫刻加工が施されており、その凸部に付着した塗工液を
ドクタブレードでかき落とし、凹部で塗工液を計量して
支持体に転移させる方法であり、塗工量の調整はグラビ
アセルの形状、深さ、メッシュ、塗工液の固形分濃度な
どにより行う。グラビアセルから被塗物への塗工剤の転
移に影響を与える因子は、粘度と表面張力である。セル
の形状には、ピラミット型、格子型、斜線型であり、ピ
ラミット型＜格子型＜斜線型の順に塗工量が大きくな
る。この方法の長所は、運転技術を要さずに、幅広でも
塗工厚さが均一で、薄膜コーティング出来ることにあ
る。一方で（１）塗工剤の転移率は浅いセルでは極めて
少なく約５０％が最大である。（２）塗工剤の転移機構
より深いセルでは塗工剤のメスニカスはセルの中心が凹
み、セルの壁に沿って塗工剤が付着した形をしているた
め、被塗物に塗工した後の塗膜には中心が抜けてドーナ
ツ状の環として現れる、などの短所も挙げられる。In the gravure coater method, a gravure roll,
The gravure roll, which is composed of a backup roll and an adjustment roll, and is immersed in the liquid tank, has its surface engraved with irregularities.The coating liquid adhering to the projections is scraped off with a doctor blade, This is a method in which a coating solution is measured and transferred to a support, and the amount of coating is adjusted according to the shape, depth, mesh, and solid content concentration of the gravure cell. Factors affecting the transfer of the coating agent from the gravure cell to the substrate are viscosity and surface tension. The cell shape is a pyramid type, a lattice type, or a diagonal line type, and the coating amount increases in the order of pyramid type <lattice type <diagonal line type. The advantage of this method is that the coating thickness is uniform even when it is wide, and a thin film coating can be performed without any operation technique. On the other hand, (1) the transfer rate of the coating agent is extremely small in a shallow cell, and is about 50% at the maximum. (2) Transfer mechanism of the coating agent In cells deeper than the cell, the coating of Mesnicus has a shape in which the center of the cell is recessed and the coating agent adheres along the cell wall. There are also disadvantages such as that the coated film after removal has a center and appears as a donut-shaped ring.

【００２６】ロッドコータ法では、正回転のアプリケー
タロールで支持体に塗工液を転移してから、外径６〜１
０ｍｍくらいのロッドの周りに０．１〜０．８ｍｍぐら
いの太さのピアノ線またはステンレス線を密に巻いたも
ので、過剰の塗液を削り落として計量する方式であり、
この方式では、ロッド上の支持体の張力を一定に保つこ
とが安定した塗工量を得るために重要である。したがっ
て、支持体の幅方向に張力の差があると左右の塗工量に
差ができる。ロッド前後の押さえローラー間は距離的に
出来るだけ近づけ、この部分での支持体のシワやたるみ
を発生させないようにしないと、走行方向に筋が生じる
という欠点がある。In the rod coater method, the coating liquid is transferred to the support by a forward rotating applicator roll, and then the outer diameter is 6 to 1 mm.
It is a system in which a piano wire or stainless steel wire of about 0.1 to 0.8 mm thickness is densely wound around a rod of about 0 mm, and the excess coating liquid is shaved off and weighed.
In this method, it is important to keep the tension of the support on the rod constant to obtain a stable coating amount. Therefore, if there is a difference in tension in the width direction of the support, there is a difference between the left and right coating amounts. If the distance between the pressing rollers before and after the rod is as short as possible in order to prevent wrinkles and sagging of the support at this portion, there is a drawback that a streak occurs in the running direction.

【００２７】ブレードコータ法では、パンにバターを塗
るときの様に、ブレードによって塗工剤を計量し、平坦
化する方法である。塗工量に影響を与える因子として
は、ブレードの厚さ、ブレードの圧力、ブレードの切線
との角度、ブレードの圧着部の長さ、ブレードの斜角、
塗工剤の粘弾性、塗工速度などである。また、バックア
ップロールの上部に垂直にナイフを設置し、ロールによ
って搬送される支持体とナイフエッジとの間隙により塗
工厚さを計量するナイフコータでは、塗工量の決定要因
としては、支持体とナイフエッジの間隙、塗工速度、塗
工剤粘度、塗工液溜めの支持体への圧力、ナイフエッジ
の形状などが挙げられる。In the blade coater method, a coating agent is measured and flattened by a blade as in the case of buttering bread. Factors that affect the coating amount include blade thickness, blade pressure, angle with blade cutting line, length of blade crimping section, blade bevel,
The viscoelasticity of the coating agent, the coating speed, and the like. Also, in a knife coater in which a knife is installed vertically on the upper part of the backup roll and the coating thickness is measured by the gap between the support conveyed by the roll and the knife edge, the determinants of the coating amount are: Examples include the gap between the knife edges, the coating speed, the viscosity of the coating agent, the pressure on the support of the coating liquid reservoir, and the shape of the knife edge.

【００２８】ダイコート（押し出し）法とは、ホッパー
などに溜められた溶液を、ポンプ圧力によりダイから押
し出しフィルム表面に塗布する方法である。ダイコート
法では通常供給された塗布液のすべてが再循環すること
なくフィルム上に塗布される。よって塗布量はポンプ送
出量とラインスピードによって決定される。また、非常
に低い粘度の塗布液を用いる場合は、幅方向で十分なダ
イ内部圧が得られず、塗工量が不均一になる場合がある
が、その際にはフィード部分のオリフィスギャップを狭
くすることによりダイ内部圧を均一とすることで対応す
る。また、ダイの先端部分は計量ブレードとして用いら
れ、幅方法の塗布量の均一性を高めている。例えば先端
部分を唇状に丸めたダイコート法は、リップコート法と
も呼ばれているが、塗布量の均一性のみならず良好な塗
布面を得るにはこのようにダイの先端部分に工夫を凝ら
したものが好ましく用いられる。ダイコート（押し出
し）法の長所としては、高速塗工、高生産性、塗工厚さ
の均一性、広範囲に塗装が出来る、などが挙げられ、短
所としては、生産量が少ないときには、スタート時や幅
変更時のロスがやや多くなることなどがある。上記の他
にも種々の塗布方法が考えられるが、本発明の要求を満
たす塗工法としては、塗工時のゲル化によるブツの発生
も考慮すると、ダイコート法が、中でもリップコート法
の使用が好ましい。The die coating (extrusion) method is a method in which a solution stored in a hopper or the like is extruded from a die by a pump pressure and applied to a film surface. In the die coating method, all of the supplied coating liquid is usually coated on the film without recirculation. Therefore, the application amount is determined by the pump delivery amount and the line speed. In addition, when a coating liquid having a very low viscosity is used, a sufficient die internal pressure cannot be obtained in the width direction, and the coating amount may be non-uniform. This is addressed by making the internal pressure of the die uniform by making it narrower. The tip of the die is used as a measuring blade to increase the uniformity of the coating amount in the width method. For example, the die coating method in which the tip is rounded in the shape of a lip is also called the lip coating method, but in order to obtain a good coating surface as well as uniformity of the coating amount, devising the tip of the die in this way Are preferably used. The advantages of the die coating (extrusion) method include high-speed coating, high productivity, uniform coating thickness, and the ability to apply a wide range of coatings. Loss when changing the width may be slightly increased. In addition to the above, various coating methods are conceivable, but as a coating method that satisfies the requirements of the present invention, in consideration of the occurrence of bumps due to gelation during coating, the die coating method is used, and the use of the lip coating method is particularly preferable. preferable.

【００２９】本発明の反射シートにおいて、反射層は凹
凸層上に形成される４層からなるものである。凹凸層側
からの第１層は下地層（Ｃ）、第２層は銀層（Ｄ）、第
３層は銀を主体とする合金の金属層（Ｅ）、第４層は珪
素酸化物層（Ｆ）である。In the reflection sheet of the present invention, the reflection layer comprises four layers formed on the uneven layer. The first layer from the uneven layer side is a base layer (C), the second layer is a silver layer (D), the third layer is a metal layer (E) of an alloy mainly composed of silver, and the fourth layer is a silicon oxide layer. (F).

【００３０】第１層の下地層（Ｃ）には、金、銅、ニッ
ケル、鉄、コバルト、タングステン、モリブデン、タン
タル、クロム、インジウム、マンガン、チタン、パラジ
ウムなどの金属単体、または、酸化アルミニウムが０〜
５重量％ドープされた酸化亜鉛もしくはインジウムとス
ズの酸化物（ＩＴＯ）などの透明酸化物が好ましく用い
られる。The first underlayer (C) is made of a single metal such as gold, copper, nickel, iron, cobalt, tungsten, molybdenum, tantalum, chromium, indium, manganese, titanium, or palladium, or aluminum oxide. 0 to
A transparent oxide such as zinc oxide or an oxide of indium and tin (ITO) doped with 5% by weight is preferably used.

【００３１】第２層の銀層（Ｅ）には、基本的には銀単
体であることが望ましいが、その性能に害を及ぼさない
程度の金、銅、ニッケル、鉄、コバルト、タングステ
ン、モリブデン、タンタル、クロム、インジウム、マン
ガン、チタン、パラジウムなどの金属不純物が含まれて
も良い。The silver layer (E) of the second layer is preferably composed of silver alone, but it is preferably of gold, copper, nickel, iron, cobalt, tungsten, molybdenum which does not impair its performance. And metal impurities such as tantalum, chromium, indium, manganese, titanium, and palladium.

【００３２】第３層の銀を主体とする合金の金属層に
は、銀に対し銅及びパラジウムが合わせて２重量％以下
の範囲で含有している合金が好ましく用いられる。For the third metal layer composed mainly of silver, an alloy containing copper and palladium in a total amount of 2% by weight or less with respect to silver is preferably used.

【００３３】第４層の珪素酸化物層（Ｅ）には、通常、
一般的な珪素酸化物である二酸化珪素を用いることが好
ましいが、酸素の数が必ずしも２で有る必要はなく、例
えば１．８であるという場合でもなんら問題ない。The fourth silicon oxide layer (E) usually has
Although it is preferable to use silicon dioxide which is a general silicon oxide, the number of oxygen does not necessarily have to be 2, and there is no problem even when the number is, for example, 1.8.

【００３４】金属薄膜層の形成法は、湿式法及び乾式法
がある。湿式法とはメッキ法の総称であり、溶液から金
属を析出させ膜を形成する方法である。具体例をあげる
とすれば、銀鏡反応などがある。一方、乾式法とは、真
空成膜法の総称であり、具体的に例示するとすれば、抵
抗加熱式真空蒸着法、電子ビーム加熱式真空蒸着法、イ
オンプレーティング法、イオンビームアシスト真空蒸着
法、スパッタ法などがある。とりわけ、本発明には連続
的に成膜するロール・ツー・ロール方式が可能な真空成
膜法が好ましく用いられる。The method of forming the metal thin film layer includes a wet method and a dry method. The wet method is a general term for the plating method, and is a method of depositing a metal from a solution to form a film. A specific example is a silver mirror reaction. On the other hand, the dry method is a general term for a vacuum film forming method, and specific examples thereof include a resistance heating type vacuum deposition method, an electron beam heating type vacuum deposition method, an ion plating method, and an ion beam assisted vacuum deposition method. And a sputtering method. In particular, in the present invention, a vacuum film forming method capable of a roll-to-roll method for continuously forming a film is preferably used.

【００３５】真空蒸着法では、金属の原材料を電子ビー
ム、抵抗加熱、誘導加熱などで溶融させ、蒸気圧を上昇
させ、好ましくは１３．３ｍＰａ（０．１ｍＴｏｒｒ）
以下で基材表面に蒸発させる。この際に、アルゴンなど
のガスを１３．３ｍＰａ以上導入させ、高周波もしくは
直流のグロー放電を起こしても良い。In the vacuum deposition method, a raw material of a metal is melted by electron beam, resistance heating, induction heating, or the like, and the vapor pressure is increased, preferably 13.3 mPa (0.1 mTorr).
It is evaporated on the substrate surface below. At this time, a gas such as argon may be introduced at 13.3 mPa or more to cause high frequency or direct current glow discharge.

【００３６】スパッタ法には、ＤＣマグネトロンスパッ
タ法、ＲＦマグネトロンスパッタ法、イオンビームスパ
ッタ法、ＥＣＲスパッタ法、コンベンショナルＲＦスパ
ッタ法、コンベンショナルＤＣスパッタ法などを使用し
うる。スパッタ法においては、原材料は金属の板状のタ
ーゲットを用いればよく、スパッタガスにはヘリウム、
ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノンなどを使用し
うるが、好ましくはアルゴンが用いられる。ガスの純度
は９９％以上が好ましいが、より好ましくは９９．５％
以上である。また、透明酸化膜の形成には、真空成膜法
が好ましく用いられる。主に、スパッタ法が使用され、
スパッタガスには、ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリ
プトン、キセノンなどを使用し、場合によっては酸素ガ
スを用いて行うこともある。As the sputtering method, a DC magnetron sputtering method, an RF magnetron sputtering method, an ion beam sputtering method, an ECR sputtering method, a conventional RF sputtering method, a conventional DC sputtering method, or the like can be used. In the sputtering method, a metal plate-shaped target may be used as a raw material, and helium,
Neon, argon, krypton, xenon and the like may be used, but preferably argon is used. The purity of the gas is preferably 99% or more, more preferably 99.5%.
That is all. In addition, a vacuum film formation method is preferably used for forming the transparent oxide film. Mainly, the sputtering method is used,
Helium, neon, argon, krypton, xenon, or the like is used as a sputtering gas, and in some cases, oxygen gas is used.

【００３７】基材高分子フィルム上に成形する薄膜の厚
さは、反射シートとした際に光線透過率が１％未満にな
るように考慮して決められる。The thickness of the thin film formed on the base polymer film is determined in consideration of a light transmittance of less than 1% when a reflection sheet is formed.

【００３８】第１層である下地層において、金属層を用
いた場合、その厚みは、５〜５０ｎｍが好ましく、より
好ましくは５〜３０ｎｍである。該層の厚みが５ｎｍよ
り薄い場合は、所望のバリヤー効果が得られず、第２層
の銀層に凝集を発生させる。また、５０ｎｍより厚くし
てもその効果に変化が無いばかりか、資源を有効に利用
するという観点からも好ましくない。また、透明酸化物
を用いた場合、該層の厚みは、１〜２０ｎｍが好まし
く、さらに好ましくは、５〜１０ｎｍである。かかる層
の厚みが１ｎｍより薄い場合は、所望のバリヤー効果が
得られず、第２層の銀層に凝集を発生させる。When a metal layer is used as the first underlayer, the thickness is preferably 5 to 50 nm, more preferably 5 to 30 nm. When the thickness of the layer is smaller than 5 nm, the desired barrier effect cannot be obtained, and the silver layer of the second layer causes aggregation. Further, even if the thickness is more than 50 nm, not only the effect is not changed but also it is not preferable from the viewpoint of effective use of resources. When a transparent oxide is used, the thickness of the layer is preferably 1 to 20 nm, more preferably 5 to 10 nm. When the thickness of such a layer is smaller than 1 nm, a desired barrier effect cannot be obtained, and aggregation occurs in the silver layer of the second layer.

【００３９】第２層である銀層の厚みは、７０〜４００
ｎｍが好ましく、より好ましくは１００〜３００ｎｍ、
さらに好ましくは１５０〜２５０ｎｍである。かかる層
の厚みが７０ｎｍより薄い場合は、十分な金属層の形成
が出来ていないため、所望の反射率を得ることが出来な
い。また、４００ｎｍよりも厚くしてもその効果に変化
が無いばかりか、資源を有効に利用するという観点から
も好ましくない。The thickness of the silver layer as the second layer is 70 to 400.
nm, more preferably 100 to 300 nm,
More preferably, it is 150 to 250 nm. When the thickness of such a layer is smaller than 70 nm, a sufficient reflectance cannot be obtained because a sufficient metal layer cannot be formed. Further, even if the thickness is more than 400 nm, not only the effect does not change but also it is not preferable from the viewpoint of effective use of resources.

【００４０】第３層である銀を主体とする合金の金属層
の厚みは、５〜４０ｎｍが好ましい。かかる層の厚みが
５ｎｍよりも薄い場合は、所望のバリヤー効果が得られ
ず、また、４０ｎｍより厚い場合は第２層である銀層の
特性がでなくなってしまい好ましくない。The thickness of the third layer of the metal layer mainly composed of silver is preferably 5 to 40 nm. If the thickness of such a layer is smaller than 5 nm, the desired barrier effect cannot be obtained, and if it is larger than 40 nm, the characteristics of the silver layer as the second layer are undesirably lost.

【００４１】第４層である珪素酸化物層の厚みは、１〜
１０ｎｍが好ましく、より好ましくは１〜７ｎｍ、さら
に好ましくは１〜５ｎｍである。かかる層の厚みが１ｎ
ｍより薄い場合は、所望のバリヤー効果が得られず、第
２層の銀層に凝集を発生させる。また、１０ｎｍより厚
くしてもその効果に変化が無いばかりか、資源を有効に
利用するという観点からも好ましくない。The thickness of the fourth silicon oxide layer is 1 to
It is preferably 10 nm, more preferably 1 to 7 nm, and still more preferably 1 to 5 nm. The thickness of such a layer is 1n
When the thickness is smaller than m, a desired barrier effect cannot be obtained, and aggregation occurs in the second silver layer. Further, even if the thickness is more than 10 nm, the effect is not changed, and it is not preferable from the viewpoint of effective use of resources.

【００４２】前記各層の膜厚の測定方法としては、触針
粗さ計、繰り返し反射干渉計、マイクロバランス、水晶
振動子法などを用いる方法があり、特に水晶振動子法で
は成膜中に膜厚が測定可能であるため所望の膜厚を得る
のに適している。また、前もって成膜の条件を定めてお
き、試料基材上に成膜を行い、成膜時間と膜厚の関係を
調べた上で、成膜時間により膜厚を制御する方法もあ
る。As a method of measuring the film thickness of each layer, there are a method using a stylus roughness meter, a repetitive reflection interferometer, a microbalance, a crystal oscillator method, and the like. Since the thickness can be measured, it is suitable for obtaining a desired film thickness. There is also a method in which the conditions for film formation are determined in advance, a film is formed on a sample substrate, the relationship between the film formation time and the film thickness is examined, and the film thickness is controlled by the film formation time.

【００４３】上記のように形成した反射シートを、第４
層側から反射率を測定すると、波長５５０ｎｍにおい
て、通常８５〜９９％である。より好ましくは９０〜９
９％である。反射率が８５％より低いと、反射型液晶表
示装置に組み込んだ際に、表示面が暗くなり好ましくな
い。一方ここでは、反射率の上限を９９％としたが、反
射率は高いほど好ましく、さらに高屈折率と低屈折率の
薄膜を交互に構成して増反射膜を形成するなどして９９
％を超える反射率を実現することはコストとの兼ね合い
もあるが性能的には非常に好ましいといえる。The reflecting sheet formed as described above is
When the reflectance is measured from the layer side, it is usually 85 to 99% at a wavelength of 550 nm. More preferably 90 to 9
9%. If the reflectance is lower than 85%, the display surface becomes dark when incorporated in a reflection type liquid crystal display device, which is not preferable. On the other hand, here, the upper limit of the reflectivity is set to 99%, but the higher the reflectivity is, the more preferable. The 99% is obtained by alternately forming thin films having a high refractive index and a low refractive index to form a reflective film.
Achieving a reflectivity exceeding% has a trade-off with cost, but is very preferable in terms of performance.

【００４４】また、金属薄膜層の酸化及び硫化等の腐食
防止のためや、取り扱い性の向上のために、第４層の上
にさらに保護シートを設けることは、本発明の反射シー
トの信頼性を向上させる意味から好ましい。保護シート
としては、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂及びウ
レタン系樹脂などの透明樹脂が、また、酸化珪素、フッ
化マグネシウム、窒化珪素などの透明無機薄膜が用いら
れる。保護層は粘着剤により、金属薄膜層上にラミネー
トされる。粘着剤としては、アクリル系樹脂、ウレタン
系樹脂、エポキシ系樹脂など透明性を有しているもので
あれば問題なく使用される。Further, providing a protective sheet on the fourth layer for the purpose of preventing corrosion such as oxidation and sulfidation of the metal thin film layer and improving the handleability can improve the reliability of the reflection sheet of the present invention. It is preferable from the viewpoint of improving. As the protective sheet, a transparent resin such as a polyester resin, an acrylic resin, and a urethane resin, and a transparent inorganic thin film such as silicon oxide, magnesium fluoride, and silicon nitride are used. The protective layer is laminated on the metal thin film layer with an adhesive. As the pressure-sensitive adhesive, any material having transparency, such as an acrylic resin, a urethane resin, or an epoxy resin, can be used without any problem.

【００４５】[0045]

【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
る。 実施例１ 平均粒子が５μｍであるアクリル系樹脂（根上工業
（株）製、品名：アートパール）と、バインダーとして
アクリル系樹脂（三井化学（株）製、品名：アルマテッ
クスＥ２６９）（共に密度１．２ｇ／ｃｍ³）を、トル
エンとエチルメチルケトンからなる溶剤を用いて、固形
分比３５％、固形分中の粒子の割合を３７.０体積％と
した溶液を調合した。粘度は３８ｃｐｓであった。これ
らの物性値を式（１）に代入することにより、塗布重量
範囲を計算したところ４．５（ｇ／ｍ ²）≦塗布量（ｇ
／ｍ²）≦１０．８（ｇ／ｍ²）となったため、ドライ塗
布量が８．５ｇ／ｍ²となるようにポンプ圧力とライン
スピードを調整し、厚さ５０μｍのポリエチレンテレフ
タラート（ＰＥＴ）フィルムの上に、リップコート法に
て塗布を行った。この際、ブツによる筋は観察されず、
良好な塗布面が得られた。得られたシートに、ＤＣマグ
ネトロンスパッタ法で、２％のＡｌ₂Ｏ₃がドープされた
酸化亜鉛（純度９９．９％）をターゲットとし、純度９
９．５％のアルゴンをスパッタガスとして、酸化亜鉛を
膜厚５ｎｍになるように形成した。続いて、このシート
をスパッタ装置から取り出すことなく、同様にＤＣマグ
ネトロンスパッタ法で、純度９９．９％の銀をターゲッ
トととし、純度９９．５％のアルゴンをスパッタガスと
して銀を膜厚２００ｎｍになるように成形した。続い
て、このシートをスパッタ装置から取り出すことなく、
ＤＣマグネトロンスパッタ法にて純度９９．９％のＡＰ
Ｃ２％（Ａｇに対し、ＰｄとＣｕが合計で２重量％配合
された合金）をターゲットとし、純度９９．５％のアル
ゴンをスパッタガスとして、ＡＰＣ２％が膜厚８ｎｍに
なるように成形した。続いて、このシートをスパッタ装
置からと取り出すことなく、ＲＦマグネトロンスパッタ
法にて純度９９．９％のＳｉＯ₂をターゲットとし、純
度９９．５％のアルゴンをスパッタガスとして、ＳｉＯ
₂を膜厚５ｎｍになるように成形した。できたシート
に、保護層をラミネートした後、日立自記分光光度計
（型式Ｕ―３４００）に１５０φの積分球を設置し、５
５０ｎｍにおける全反射率、拡散反射率測定を行ったと
ころ、反射率９４．６％、拡散反射率８５．８％を得
た。測定後の反射シートを、恒温恒湿槽に入れ、６０
℃、９０％ＲＨの湿熱条件で５００時間放置した。５０
０時間経過後、シートを取り出して表面を観察したとこ
ろ、金属の凝集は見られず、色も白いままだった。ま
た、再度分光光度計により、全反射率、拡散反射率を測
定した結果、反射率が９４．３％、拡散反射率が８６．
０％と湿熱前とほとんどかわらす、光学特性の劣化も見
られなかった。The present invention will be described below in detail with reference to examples.
You. Example 1 Acrylic resin having an average particle size of 5 μm (Negami Kogyo
(Product name: Art Pearl) and as a binder
Acrylic resin (Mitsui Chemicals Co., Ltd., product name: Almatte
C. E269) (both density 1.2g / cm^Three), Torr
Using a solvent consisting of ene and ethyl methyl ketone,
35% by volume, 37.0% by volume of particles in solid content
The prepared solution was prepared. The viscosity was 38 cps. this
By substituting these physical property values into equation (1), the coating weight
When the range was calculated, it was 4.5 (g / m ^Two) ≤ coating amount (g
/ M^Two) ≦ 10.8 (g / m^Two), Dry coating
8.5 g / m cloth weight^TwoSo that the pump pressure and line
Adjust the speed and adjust the thickness of the polyethylene
Rip coat method on Talat (PET) film
Was applied. At this time, no streaks due to buttocks were observed,
A good coated surface was obtained. On the obtained sheet, DC Mag
2% Al by netron sputtering_TwoO_ThreeWas doped
The target is zinc oxide (purity 99.9%) and the purity is 9
Using 9.5% argon as a sputtering gas, zinc oxide
It was formed to have a thickness of 5 nm. Then, this sheet
Without removing it from the sputtering apparatus.
Silver with a purity of 99.9% is targeted by the netron sputtering method.
And 99.5% pure argon as the sputtering gas.
Then, silver was formed to a thickness of 200 nm. Continued
Without removing this sheet from the sputtering device,
99.9% pure AP by DC magnetron sputtering
C2% (2% by weight of Pd and Cu combined with Ag
Alloy), and 99.5% pure Al
Gon is used as a sputtering gas, and APC 2% has a thickness of 8 nm.
It was molded so as to be. Subsequently, this sheet is
RF magnetron sputtering without removing
99.9% purity SiO_TwoTarget and net
99.5% argon as a sputtering gas and SiO
_TwoWas formed to a film thickness of 5 nm. The completed sheet
After laminating a protective layer, the Hitachi automatic recording spectrophotometer
(Model U-3400) with an integrating sphere of 150φ
The total reflectance and diffuse reflectance at 50 nm were measured.
Roller: 94.6% reflectance and 85.8% diffuse reflectance
Was. Put the reflection sheet after measurement in a thermo-hygrostat,
It was left for 500 hours under the moist heat condition of 90 ° C. and 90% RH. 50
After 0 hours, the sheet was taken out and the surface was observed.
Of course, no metal aggregation was observed and the color remained white. Ma
The total reflectance and diffuse reflectance were measured again with a spectrophotometer.
As a result, the reflectance was 94.3% and the diffuse reflectance was 86.
0%, almost the same as before moist heat, deterioration of optical characteristics is also seen
I couldn't.

【００４６】実施例２ 固形分中の粒子の割合を４５.０体積％としたこと以外
は、実施例１に準じて溶液を調合した。粘度は５０ｃｐ
ｓであった。これらの物性値を式（１）に代入すること
により、塗布重量範囲を計算したところ４．５（ｇ／ｍ
²）≦塗布量（ｇ／ｍ²）≦１０．８（ｇ／ｍ²）となっ
たため、ドライ塗布量が９．０ｇ／ｍ²となるようにポ
ンプ圧力とラインス ピードを調整し、厚さ５０μｍの
ポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ）フィルムの上
に、リップコート法にて塗布を行った。この際、ブツに
よる筋は観察されず、良好な塗布面が得られた。得られ
たシートに、実施例１と同様にスパッタを行い、できた
シートに、保護層をラミネートした後、日立自記分光光
度計（型式Ｕ―３４００）に１５０φの積分球を設置
し、５５０ｎｍにおける全反射率、拡散反射率測定を行
ったところ、反射率９３．４％、拡散反射率８５．２％
を得た。測定後の反射シートを、恒温恒湿槽に入れ、６
０℃、９０％ＲＨの湿熱条件で５００時間放置した。５
００時間経過後、シートを取り出して表面を観察したと
ころ、金属の凝集は見られず、色も白いままだった。ま
た、再度分光光度計により、全反射率、拡散反射率を測
定した結果、反射率が９３．３％、拡散反射率が８５．
６％と湿熱前とほとんどかわらす、光学特性の劣化も見
られなかった。Example 2 A solution was prepared in the same manner as in Example 1 except that the ratio of the particles in the solid content was 45.0% by volume. Viscosity is 50 cp
s. By substituting these physical property values into equation (1), the coating weight range was calculated to be 4.5 (g / m2).
² ) Since the application amount (g / m ² ) ≦ 10.8 (g / m ² ), the pump pressure and line speed were adjusted so that the dry application amount was 9.0 g / m ^2, and the thickness was Coating was performed on a 50 μm polyethylene terephthalate (PET) film by a lip coating method. At this time, no streaks due to bumps were observed, and a good coated surface was obtained. The obtained sheet was sputtered in the same manner as in Example 1, and after a protective layer was laminated on the resulting sheet, a 150φ integrating sphere was placed on a Hitachi automatic recording spectrophotometer (model U-3400), and the light was measured at 550 nm. When the total reflectance and the diffuse reflectance were measured, the reflectance was 93.4% and the diffuse reflectance was 85.2%.
I got Place the reflective sheet after measurement in a thermo-hygrostat,
It was left for 500 hours under the condition of 0 ° C. and 90% RH. 5
After a lapse of 00 hours, the sheet was taken out and the surface was observed. As a result, no metal aggregation was observed and the color remained white. Further, the total reflectance and the diffuse reflectance were measured again by the spectrophotometer, and as a result, the reflectance was 93.3% and the diffuse reflectance was 85.0%.
6%, which was almost the same as before the wet heat, no deterioration in optical characteristics was observed.

【００４７】実施例３ ドライ塗布量を１０．５ｇ／ｍ²としたこと以外は、実
施例１に準じて反射シートを作成した。できたシート
に、保護層をラミネートした後、日立自記分光光度計
（型式Ｕ―３４００）に１５０φの積分球を設置し、５
５０ｎｍにおける全反射率、拡散反射率測定を行ったと
ころ、反射率９２．９％、拡散反射率８４．９％を得
た。測定後の反射シートを、恒温恒湿槽に入れ、６０
℃、９０％ＲＨの湿熱条件で５００時間放置した。５０
０時間経過後、シートを取り出して表面を観察したとこ
ろ、金属の凝集は見られず、色も白いままだった。ま
た、再度分光光度計により、全反射率、拡散反射率を測
定した結果、反射率が９２．８％、拡散反射率が８５．
３％と湿熱前とほとんど変わらず、光学特性の劣化も見
られなかった。Example 3 A reflection sheet was prepared in the same manner as in Example 1, except that the dry coating amount was 10.5 g / m ² . After laminating a protective layer on the resulting sheet, an integrating sphere of 150φ was set on a Hitachi automatic recording spectrophotometer (model U-3400) and
When the total reflectance and diffuse reflectance at 50 nm were measured, a reflectance of 92.9% and a diffuse reflectance of 84.9% were obtained. Put the reflection sheet after measurement in a thermo-hygrostat,
It was left for 500 hours under the moist heat condition of 90 ° C. and 90% RH. 50
After the elapse of 0 hours, the sheet was taken out and the surface was observed. As a result, no metal aggregation was observed and the color remained white. Further, as a result of measuring the total reflectance and the diffuse reflectance again by the spectrophotometer, the reflectance was 92.8% and the diffuse reflectance was 85.
It was 3%, which was almost the same as before wet heat, and no deterioration in optical characteristics was observed.

【００４８】実施例４ ２％のＡｌ₂Ｏ₃がドープされた酸化亜鉛の膜厚を２０ｎ
ｍ、銀の膜厚を３００ｎｍ、ＡＰＣ２％の膜厚を４０ｎ
ｍ、ＳｉＯ₂の膜厚１０ｎｍとしたこと以外は、実施例
１に準じて、反射シートを作成した。得られたシート
に、保護層をラミネートした後、日立自記分光光度計
（型式Ｕ―３４００）に１５０φの積分球を設置し、５
５０ｎｍにおける全反射率、拡散反射率測定を行ったと
ころ、反射率９３．９％、拡散反射率８５．２％を得
た。測定後の反射シートを、恒温恒湿槽に入れ、６０
℃、９０％ＲＨの湿熱条件で５００時間放置した。５０
０時間経過後、シートを取り出して表面を観察したとこ
ろ、金属の凝集は見られず、色も白いままだった。ま
た、再度分光光度計により、全反射率、拡散反射率を測
定した結果、反射率が９４．２％、拡散反射率が８５．
２％と湿熱前とほとんど変わらず、光学特性の劣化も見
られなかった。Example 4 The thickness of zinc oxide doped with 2% Al ₂ O ₃ was 20 n
m, the thickness of silver is 300 nm, and the thickness of APC 2% is 40 n.
A reflection sheet was prepared in the same manner as in Example 1 except that the thickness of m and SiO ₂ was changed to 10 nm. After laminating a protective layer on the obtained sheet, a 150φ integrating sphere was set on a Hitachi autograph spectrophotometer (model U-3400) and
When the total reflectance and diffuse reflectance at 50 nm were measured, a reflectance of 93.9% and a diffuse reflectance of 85.2% were obtained. Put the reflection sheet after measurement in a thermo-hygrostat,
It was left for 500 hours under the moist heat condition of 90 ° C. and 90% RH. 50
After the elapse of 0 hours, the sheet was taken out and the surface was observed. As a result, no metal aggregation was observed and the color remained white. Further, as a result of measuring the total reflectance and the diffuse reflectance again by the spectrophotometer, the reflectance was 94.2% and the diffuse reflectance was 85.
It was 2%, which was almost the same as before wet heat, and no deterioration in optical characteristics was observed.

【００４９】実施例５ ２％のＡｌ₂Ｏ₃がドープされた酸化亜鉛の膜厚を３ｎ
ｍ、銀の膜厚を１００ｎｍ、ＡＰＣ２％の膜厚を５ｎ
ｍ、ＳｉＯ₂の膜厚３ｎｍとしたこと以外は、実施例１
に準じて、反射シートを作成した。得られたシートに、
保護層をラミネートした後、日立自記分光光度計（型式
Ｕ―３４００）に１５０φの積分球を設置し、５５０ｎ
ｍにおける全反射率、拡散反射率測定を行ったところ、
反射率９３．６％、拡散反射率８４．３％を得た。測定
後の反射シートを、恒温恒湿槽に入れ、６０℃、９０％
ＲＨの湿熱条件で５００時間放置した。５００時間経過
後、シートを取り出して表面を観察したところ、金属の
凝集は見られず、色も白いままだった。また、再度分光
光度計により、全反射率、拡散反射率を測定した結果、
反射率が９４．０％、拡散反射率が８３．２％と湿熱前
とほとんどかわらす、光学特性の劣化も見られなかっ
た。Example 5 The thickness of zinc oxide doped with 2% Al ₂ O ₃ was 3n.
m, silver thickness 100 nm, APC 2% thickness 5 n
Example 1 except that m and the thickness of SiO ₂ were 3 nm.
A reflection sheet was prepared according to the method described in the above. In the obtained sheet,
After laminating the protective layer, an integrating sphere of 150φ was set on a Hitachi automatic recording spectrophotometer (model U-3400) and 550n.
m, the total reflectance and diffuse reflectance were measured.
A reflectance of 93.6% and a diffuse reflectance of 84.3% were obtained. Place the reflection sheet after measurement in a thermo-hygrostat at 60 ° C, 90%
It was left for 500 hours under the condition of wet heat of RH. After a lapse of 500 hours, the sheet was taken out and the surface was observed. As a result, no metal aggregation was observed and the color remained white. Also, as a result of measuring the total reflectance and diffuse reflectance again by the spectrophotometer,
The reflectance was 94.0% and the diffuse reflectance was 83.2%, almost the same as before wet heat, and no deterioration in optical characteristics was observed.

【００５０】実施例６ 第１層に、チタン（純度９９．９％）を膜厚１０ｎｍに
なるようにスパッタしたこと以外は、実施例１に準じ
て、反射シートを作成した。得られたシートに、保護層
をラミネートした後、日立自記分光光度計（型式Ｕ―３
４００）に１５０φの積分球を設置し、５５０ｎｍにお
ける全反射率、拡散反射率測定を行ったところ、反射率
９４．３％、拡散反射率８５．２％を得た。測定後の反
射シートを、恒温恒湿槽に入れ、６０℃、９０％ＲＨの
湿熱条件で５００時間放置した。５００時間経過後、シ
ートを取り出して表面を観察したところ、金属の凝集は
見られず、色も白いままだった。また、再度分光光度計
により、全反射率、拡散反射率を測定した結果、反射率
が９４．１％、拡散反射率が８４．５％と湿熱前とほと
んどかわらす、光学特性の劣化も見られなかった。Example 6 A reflection sheet was prepared in the same manner as in Example 1 except that titanium (purity: 99.9%) was sputtered on the first layer to a thickness of 10 nm. After laminating a protective layer on the obtained sheet, a Hitachi automatic recording spectrophotometer (model U-3)
An integrating sphere of 150φ was set in 400), and the total reflectance and diffuse reflectance at 550 nm were measured. As a result, a reflectance of 94.3% and a diffuse reflectance of 85.2% were obtained. The reflection sheet after the measurement was placed in a thermo-hygrostat, and left for 500 hours under the condition of 60 ° C. and 90% RH. After a lapse of 500 hours, the sheet was taken out and the surface was observed. As a result, no metal aggregation was observed and the color remained white. The total reflectance and the diffuse reflectance were measured again by a spectrophotometer. As a result, the reflectance was 94.1%, the diffuse reflectance was 84.5%, which was almost the same as before wet heat, and deterioration of the optical characteristics was also observed. I couldn't.

【００５１】実施例７ 第１層に、クロム（純度９９．９％）を膜厚１０ｎｍに
なるようにスパッタしたこと以外は、実施例１に準じ
て、反射シートを作成した。できたシートに、保護層を
ラミネートした後、日立自記分光光度計（型式Ｕ―３４
００）に１５０φの積分球を設置し、５５０ｎｍにおけ
る全反射率、拡散反射率測定を行ったところ、反射率９
３．９％、拡散反射率８４．４％を得た。測定後の反射
シートを、恒温恒湿槽に入れ、６０℃、９０％ＲＨの湿
熱条件で５００時間放置した。５００時間経過後、シー
トを取り出して表面を観察したところ、金属の凝集は見
られず、色も白いままだった。また、再度分光光度計に
より、全反射率、拡散反射率を測定した結果、反射率が
９３．７％、拡散反射率が８４．８％と湿熱前とほとん
どかわらす、光学特性の劣化も見られなかった。Example 7 A reflection sheet was prepared in the same manner as in Example 1, except that chromium (purity: 99.9%) was sputtered on the first layer so as to have a film thickness of 10 nm. After laminating a protective layer on the resulting sheet, a Hitachi autograph spectrophotometer (model U-34)
00), an integrating sphere of 150φ was installed, and the total reflectance and diffuse reflectance at 550 nm were measured.
3.9% and a diffuse reflectance of 84.4% were obtained. The reflection sheet after the measurement was placed in a thermo-hygrostat, and left for 500 hours under the condition of 60 ° C. and 90% RH. After a lapse of 500 hours, the sheet was taken out and the surface was observed. As a result, no metal aggregation was observed and the color remained white. The total reflectance and the diffuse reflectance were measured again by a spectrophotometer. As a result, the reflectance was 93.7%, the diffuse reflectance was 84.8%, which was almost the same as before wet heat, and the deterioration of the optical characteristics was also observed. I couldn't.

【００５２】比較例１ 第２層に、Ａｌ（純度９９．９％）をスパッタしたこと
以外は、実施例１に準じて、反射シートを作成した。出
来たシートに保護層をラミネートした後、日立自記分光
光度計（型式Ｕ―３４００）に１５０φの積分球を設置
し、５５０ｎｍにおける全反射率、拡散反射率測定を行
った。測定後のサンプルを、恒温恒湿槽に入れ、６０
℃、９０％ＲＨの湿熱条件で５００時間放置した。５０
０時間経過後、シートを取り出して、表面観察、反射率
及び拡散反射率の測定を行った。結果を表１に示す。Comparative Example 1 A reflecting sheet was prepared in the same manner as in Example 1 except that Al (purity: 99.9%) was sputtered on the second layer. After laminating the protective layer on the resulting sheet, a 150φ integrating sphere was placed on a Hitachi automatic recording spectrophotometer (model U-3400), and the total reflectance and diffuse reflectance at 550 nm were measured. Place the sample after measurement in a thermo-hygrostat,
It was left for 500 hours under the moist heat condition of 90 ° C. and 90% RH. 50
After a lapse of 0 hours, the sheet was taken out, and the surface was observed, and the reflectance and the diffuse reflectance were measured. Table 1 shows the results.

【００５３】比較例２ 第１層に、２％のＡｌ₂Ｏ₃がドープされた酸化亜鉛（純
度９９．９％）をスパッタしないこと以外は、実施例１
に準じて、反射シートを作成した。得られたシートに保
護層をラミネートした後、日立自記分光光度計（型式Ｕ
―３４００）に１５０φの積分球を設置し、５５０ｎｍ
における全反射率、拡散反射率測定を行った。測定後の
サンプルを、恒温恒湿槽に入れ、６０℃、９０％ＲＨの
湿熱条件で５００時間放置した。５００時間経過後、シ
ートを取り出して、表面観察、反射率及び拡散反射率の
測定を行った。結果を表１に示す。Comparative Example 2 Example 1 except that the first layer was not sputtered with zinc oxide (purity 99.9%) doped with 2% Al ₂ O _3.
A reflection sheet was prepared according to the method described in the above. After laminating a protective layer on the obtained sheet, a Hitachi automatic recording spectrophotometer (model U
−3400), an integrating sphere of 150φ is set, and 550 nm
Were measured for total reflectance and diffuse reflectance. The sample after the measurement was placed in a thermo-hygrostat, and left for 500 hours under the condition of 60 ° C. and 90% RH. After a lapse of 500 hours, the sheet was taken out, and the surface was observed, and the reflectance and the diffuse reflectance were measured. Table 1 shows the results.

【００５４】比較例３ ＰＥＴフィルム上に塗布する量を、３ｇ／ｍ²とするこ
と以外は実施例１に準じて、反射シートを形成した。得
られたシートに保護層をラミネートした後、日立自記分
光光度計（型式Ｕ―３４００）に１５０φの積分球を設
置し、５５０ｎｍにおける全反射率、拡散反射率測定を
行った。測定後のサンプルを、恒温恒湿槽に入れ、６０
℃、９０％ＲＨの湿熱条件で５００時間放置した。５０
０時間経過後、シートを取り出して、表面観察、反射率
及び拡散反射率の測定を行った。結果を表１に示す。Comparative Example 3 A reflective sheet was formed in the same manner as in Example 1 except that the amount applied to the PET film was 3 g / m ² . After laminating a protective layer on the obtained sheet, a 150φ integrating sphere was placed on a Hitachi automatic recording spectrophotometer (model U-3400), and the total reflectance and diffuse reflectance at 550 nm were measured. Place the sample after measurement in a thermo-hygrostat,
It was left for 500 hours under the moist heat condition of 90 ° C. and 90% RH. 50
After a lapse of 0 hours, the sheet was taken out, and the surface was observed, and the reflectance and the diffuse reflectance were measured. Table 1 shows the results.

【００５５】比較例４ ＰＥＴフィルム上に塗布する量を、１５ｇ／ｍ²とする
こと以外は実施例１に準じて、反射シートを形成した。
得られたシートに保護層をラミネートした後、日立自記
分光光度計（型式Ｕ―３４００）に１５０φの積分球を
設置し、５５０ｎｍにおける全反射率、拡散反射率測定
を行った。測定後のサンプルを、恒温恒湿槽に入れ、６
０℃、９０％ＲＨの湿熱条件で５００時間放置した。５
００時間経過後、シートを取り出して、表面観察、反射
率及び拡散反射率の測定を行った。結果を表１に示す。Comparative Example 4 A reflection sheet was formed in the same manner as in Example 1 except that the amount applied to the PET film was 15 g / m ² .
After laminating a protective layer on the obtained sheet, a 150φ integrating sphere was placed on a Hitachi automatic recording spectrophotometer (model U-3400), and the total reflectance and diffuse reflectance at 550 nm were measured. Place the sample after measurement in a thermo-hygrostat,
It was left for 500 hours under the condition of 0 ° C. and 90% RH. 5
After a lapse of 00 hours, the sheet was taken out, and the surface was observed, and the reflectance and the diffuse reflectance were measured. Table 1 shows the results.

【００５６】比較例５ 塗布溶液調合時に、固形分中の粒子の割合を２体積％と
した溶液を調合したこと以外は、実施例１に準じて反射
シートを作成した。得られたシートに保護層をラミネー
トした後、日立自記分光光度計（型式Ｕ―３４００）に
１５０φの積分球を設置し、５５０ｎｍにおける全反射
率、拡散反射率測定を行った。測定後のサンプルを、恒
温恒湿槽に入れ、６０℃、９０％ＲＨの湿熱条件で５０
０時間放置した。５００時間経過後、シートを取り出し
て、表面観察、反射率及び拡散反射率の測定を行った。
結果を表１に示す。Comparative Example 5 A reflection sheet was prepared in the same manner as in Example 1 except that a solution in which the ratio of particles in the solid content was 2% by volume was prepared when preparing the coating solution. After laminating a protective layer on the obtained sheet, a 150φ integrating sphere was placed on a Hitachi automatic recording spectrophotometer (model U-3400), and the total reflectance and diffuse reflectance at 550 nm were measured. The sample after measurement is placed in a thermo-hygrostat at 50 ° C. under a wet heat condition of 60 ° C. and 90% RH.
Left for 0 hours. After a lapse of 500 hours, the sheet was taken out, and the surface was observed, and the reflectance and the diffuse reflectance were measured.
Table 1 shows the results.

【００５７】比較例６ 塗布溶液調合時に、固形分中の粒子の割合を７０体積％
とした溶液を調合したこと以外は、実施例１に準じて反
射シートを作成した。得られたシートに保護層をラミネ
ートした後、日立自記分光光度計（型式Ｕ―３４００）
に１５０φの積分球を設置し、５５０ｎｍにおける全反
射率、拡散反射率測定を行った。測定後のサンプルを、
恒温恒湿槽に入れ、６０℃、９０％ＲＨの湿熱条件で５
００時間放置した。５００時間経過後、シートを取り出
して、表面観察、反射率及び拡散反射率の測定を行っ
た。結果を表１に示す。Comparative Example 6 At the time of preparing the coating solution, the proportion of particles in the solid content was 70% by volume.
A reflection sheet was prepared in the same manner as in Example 1 except that the solution was prepared. After laminating a protective layer on the obtained sheet, Hitachi Automated Spectrophotometer (Model U-3400)
And an integrating sphere having a diameter of 150 mm was installed, and total reflectance and diffuse reflectance at 550 nm were measured. After the measurement,
Put in a thermo-hygrostat at 60 ° C and 90% RH for 5 hours.
It was left for 00 hours. After a lapse of 500 hours, the sheet was taken out, and the surface was observed, and the reflectance and the diffuse reflectance were measured. Table 1 shows the results.

【００５８】比較例７ 第１層に、チタン（純度９９．９％）を膜厚３ｎｍにな
るようにスパッタしたこと以外は、実施例１に準じて、
反射シートを作成した。得られたシートに保護層をラミ
ネートした後、日立自記分光光度計（型式Ｕ―３４０
０）に１５０φの積分球を設置し、５５０ｎｍにおける
全反射率、拡散反射率測定を行った。測定後のサンプル
を、恒温恒湿槽に入れ、６０℃、９０％ＲＨの湿熱条件
で５００時間放置した。５００時間経過後、シートを取
り出して、表面観察、反射率及び拡散反射率の測定を行
った。結果を表１に示す。Comparative Example 7 The procedure of Example 1 was repeated, except that titanium (purity: 99.9%) was sputtered on the first layer to a thickness of 3 nm.
A reflective sheet was made. After laminating a protective layer on the obtained sheet, a Hitachi automatic recording spectrophotometer (model U-340) was used.
An integrating sphere of 150φ was set in 0), and the total reflectance and diffuse reflectance at 550 nm were measured. The sample after the measurement was placed in a thermo-hygrostat, and left for 500 hours under the condition of 60 ° C. and 90% RH. After a lapse of 500 hours, the sheet was taken out, and the surface was observed, and the reflectance and the diffuse reflectance were measured. Table 1 shows the results.

【００５９】比較例８ 第１層に、クロム（純度９９．９％）を膜厚３ｎｍにな
るようにスパッタしたこと以外は、実施例１に準じて、
反射シートを作成した。シートに保護層をラミネートし
た後、日立自記分光光度計（型式Ｕ―３４００）に１５
０φの積分球を設置し、５５０ｎｍにおける全反射率、
拡散反射率測定を行った。測定後のサンプルを、恒温恒
湿槽に入れ、６０℃、９０％ＲＨの湿熱条件で５００時
間放置した。５００時間経過後、シートを取り出して、
表面観察、反射率及び拡散反射率の測定を行った。結果
を表１に示す。Comparative Example 8 The procedure of Example 1 was repeated, except that chromium (purity: 99.9%) was sputtered on the first layer to a thickness of 3 nm.
A reflective sheet was made. After laminating the protective layer on the sheet, apply it to a Hitachi automatic recording spectrophotometer (model U-3400).
A 0φ integrating sphere is installed, and the total reflectance at 550 nm,
Diffuse reflectance measurements were made. The sample after the measurement was placed in a thermo-hygrostat, and left for 500 hours under the condition of 60 ° C. and 90% RH. After 500 hours, take out the sheet,
Surface observation and measurement of reflectance and diffuse reflectance were performed. Table 1 shows the results.

【００６０】[0060]

【表１】 [Table 1]

【００６１】[0061]

【発明の効果】本発明の反射シートは、反射型液晶表示
装置に用いた場合、非常に耐久性に優れ、湿熱条件下に
おいても反射率の低下は見られず、また表面色も変化し
ないことから、反射型液晶の表示能力を向上させること
ができることから、本発明の工業的意義は大きい。The reflective sheet of the present invention, when used in a reflective liquid crystal display device, has extremely excellent durability, does not show a decrease in reflectance even under moist heat conditions, and has no change in surface color. Therefore, the display capability of the reflection type liquid crystal can be improved, and therefore, the present invention has great industrial significance.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） // Ｆ２１Ｖ 7/22 Ｆ２１Ｖ 7/22 Ｃ Ｆターム(参考） 2H042 BA02 BA03 BA12 BA15 BA20 DA01 DA03 DA04 DA05 DA06 DA07 DA11 DA15 DA17 DA18 DA21 DC02 DC07 DE04 2H091 FA16Z FB02 FB08 LA16 LA18 LA19 4F100 AA17C AA20E AB01C AB02C AB12C AB13C AB15C AB16C AB17C AB18C AB24D AB24E AB25C AB31E AK01A AK25B AK42 AR00C AT00A BA05 BA07 BA10E CB00B DD01B DE01B EH66 GB41 JN06──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. ⁷ Identification symbol FI theme coat ゛ (reference) // F21V 7/22 F21V 7/22 C F term (reference) 2H042 BA02 BA03 BA12 BA15 BA20 DA01 DA03 DA04 DA05 DA06 DA07 DA11 DA15 DA17 DA18 DA21 DC02 DC07 DE04 2H091 FA16Z FB02 FB08 LA16 LA18 LA19 4F100 AA17C AA20E AB01C AB02C AB12C AB13C AB15C AB16C AB17C AB18C AB24D AB24E AB25C AB31E AK01A AK07B01B01B00A01B00E

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】 高分子フィルム（Ａ）、主として粒子層
からなる凹凸層（Ｂ）、下地層（Ｃ）、銀層（Ｄ）、銀
を主体とする合金の金属層（Ｅ）、珪素酸化物層（Ｆ）
をＡＢＣＤＥＦの構成順に有する反射シートであって、
（Ｆ）層側から測定した波長５５０ｎｍにおける該反射
シートの反射率が、８５〜９９％であることを特徴とす
る反射シート。1. A polymer film (A), an uneven layer (B) mainly composed of a particle layer, a base layer (C), a silver layer (D), a metal layer (E) of an alloy mainly composed of silver, and silicon oxide. Material layer (F)
Is a reflection sheet having a configuration order of ABCDEF,
(F) The reflectance of the reflective sheet at a wavelength of 550 nm measured from the layer side is 85 to 99%. 【請求項２】 凹凸層（Ｂ）が、平均粒径１μｍ以上１
５μｍ以下であるような微細粒子、および、バインダー
により形成され、かつ、該微細粒子が凹凸層の体積に対
し、５〜５２体積％の割合になるように配合され、か
つ、該凹凸層の乾燥重量（ｇ／ｃｍ²）が下記式（１）
の条件を満足するものであることを特徴とする請求項１
記載の反射シート。 式（１）：０．７５×２ｒ×１０²／（ｐ／ａ＋（１０
０−ｐ）／ｂ）≦重量（ｇ／ｃｍ²）≦２．５×２ｒ×
１０²／（ｐ／ａ＋（１００−ｐ）／ｂ） 〔但し、ｐ＝１００／（１＋（１００／ｖ―１）×ｂ／
ａ）〕であり、 ｒ：使用した微細粒子の半径の平均値（ｃｍ） ｐ：凹凸層中の微細粒子の割合（重量％） ｖ：凹凸層中の微細粒子の割合（体積％） ａ：用いた微細粒子の密度（ｇ／ｃｍ³） ｂ：用いたバインダーの密度（ｇ／ｃｍ³）2. An uneven layer (B) having an average particle size of 1 μm or more and 1 μm or more.
5 μm or less, formed of fine particles and a binder, and the fine particles are blended at a ratio of 5 to 52% by volume based on the volume of the uneven layer, and drying of the uneven layer. The weight (g / cm ² ) is expressed by the following formula (1)
2. The method according to claim 1, wherein the following condition is satisfied.
Reflection sheet as described. Formula (1): 0.75 × 2r × 10 ² / (p / a + (10
0-p) / b) ≦ weight (g / cm ² ) ≦ 2.5 × 2r ×
10 ² / (p / a + (100−p) / b) [However, p = 100 / (1+ (100 / v−1) × b /
a)], r: average value of the radius of the fine particles used (cm) p: ratio of fine particles in the uneven layer (% by weight) v: ratio of fine particles in the uneven layer (% by volume) a: Density of used fine particles (g / cm ³ ) b: Density of used binder (g / cm ³ ) 【請求項３】 微細粒子が、アクリル系粒子であること
を特徴とする請求項２に記載の反射シート。3. The reflection sheet according to claim 2, wherein the fine particles are acrylic particles. 【請求項４】 バインダーが、アクリル系樹脂であるこ
とを特徴とする請求項２または３記載の反射シート。4. The reflection sheet according to claim 2, wherein the binder is an acrylic resin. 【請求項５】 下地層（Ｃ）が、金、銅、ニッケル、
鉄、コバルト、タングステン、モリブデン、タンタル、
クロム、インジウム、マンガン、チタン、もしくは、パ
ラジウムからなる厚さ５〜５０ｎｍの金属層、または、
酸化アルミニウムが０〜５重量％ドープされた酸化亜
鉛、または、インジウムとスズの酸化物（ＩＴＯ）から
なる厚さ１〜２０ｎｍの透明酸化物層であることを特徴
とする請求項１乃至４のいずれかに記載の反射シート。5. An underlayer (C) comprising gold, copper, nickel,
Iron, cobalt, tungsten, molybdenum, tantalum,
Chromium, indium, manganese, titanium, or palladium 5 to 50 nm thick metal layer, or
5. A transparent oxide layer having a thickness of 1 to 20 nm made of zinc oxide doped with 0 to 5% by weight of aluminum oxide or oxide of indium and tin (ITO). The reflection sheet according to any one of the above. 【請求項６】 銀層（Ｄ）の厚みが、７０〜４００ｎｍ
であることを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記
載の反射シート。6. The silver layer (D) has a thickness of 70 to 400 nm.
The reflection sheet according to any one of claims 1 to 5, wherein 【請求項７】 銀を主体とする合金の金属層（Ｅ）が、
銀に対し銅とパラジウムをあわせて０．００１〜２重量
％含有している合金からなる層であり、該金属層の膜厚
が、５〜４０ｎｍであることを特徴とする請求項１乃至
６のいずれかに記載の反射シート。7. A metal layer (E) of an alloy mainly composed of silver,
7. A layer made of an alloy containing 0.001 to 2% by weight of copper and palladium in total with respect to silver, wherein the metal layer has a thickness of 5 to 40 nm. The reflection sheet according to any one of the above. 【請求項８】 珪素酸化物層（Ｆ）の厚みが、１〜５０
ｎｍであることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか
に記載の反射シート。8. The silicon oxide layer (F) has a thickness of 1 to 50.
The reflective sheet according to any one of claims 1 to 7, wherein