JP2001342295A - 破壊特性を向上させた積層体用ゴム組成物 - Google Patents
破壊特性を向上させた積層体用ゴム組成物Info
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Abstract
の剪断歪みが大きな、破壊特性を向上させた積層体用ゴ
ム組成物の提供。 【解決手段】ジエン系ゴムよりなるゴム成分を含有し、
ゴム成分中、イソプレンゴムを10〜100重量%含有
する積層体用ゴム組成物。
Description
せた積層体用ゴム組成物に関する。
わち防震、除震、免震装置が急速に普及しつつある。例
えば、橋梁の支承やビルの基礎免震等には、ゴム組成物
と硬質板とを交互に積層した免震ゴム装置が用いられて
いる。これはゴム組成物を硬質板との積層体(ゴム積層
体)とすることにより、上下方向には非常に硬く、横方
向には柔らかく、すなわち剪断剛性を小さくして、建築
物の固有震動周期を地震の震動周期からずらすように作
用させ、地震により建物が受ける加速度を非常に小さく
するものである。
は、ゴム積層体の破断強度および破壊時の剪断歪みをよ
り大きくする必要がある。従来、ゴム積層体の破壊特性
を向上させようとした場合、ゴムの高歪み側の応力を下
げて、破壊時の剪断歪みを高歪み側にシフトさせる等の
手法が取られる。以下、添付の図面を用いて、ゴム積層
体の破壊特性について説明する。
えていき、荷重により生じるゴム積層体の剪断歪みと応
力との関係を、剪断歪みを横軸に、応力を縦軸にとって
表したグラフである。実線は、従来のゴム積層体の応力
−歪曲線である。ゴム積層体の破断特性を向上させるた
め、カーボンブラックやオイルを配合する等の従来公知
の手法により、高歪み側(図中、A領域で示す)の応力
を下げると、そのようなゴム積層体の応力−歪曲線は、
点線で示す曲線となり、図中、矢印cで示すように破壊
時の剪断歪みが高歪み側にシフトする。
の破壊特性の向上を図ると、高歪み側の応力を下げると
同時に、応力−歪曲線全体の応力も下がる傾向にあり、
例えば、図中、矢印dで示すように、積層体の破断強度
が低下するという問題があった。また、高歪み側の応力
を低下させることにより、低歪み側(図中、B領域で示
す)の応力も同時に低下してしまうため、積層体の剪断
弾性係数を低下させてしまうという問題があった。この
ため、ゴム積層体の剪断弾性係数、破断強度を損なうこ
とのない、低歪み領域の応力を維持し高歪み領域の応力
を低下させて破壊時の剪断歪みをより大きくすることの
できる、ゴム組成物の提供が望まれている。
弾性率、破断強度が良好で、かつ、破断時の剪断歪みが
大きな、破壊特性を向上させた積層体用ゴム組成物を提
供することである。
エン系ゴムよりなるゴム成分を含有し、ゴム成分中、イ
ソプレンゴムを10〜100重量%含有する積層体用ゴ
ム組成物を提供する。
ソプレンを91〜98%含有するのが好ましい。
明する。本発明の破壊特性を向上させた積層体用ゴム組
成物(以下、本発明の組成物という)は、ジエン系ゴム
よりなるゴム成分を含有し、ゴム成分中、イソプレンゴ
ムを、10〜100重量%含有する。
ム(IR)以外のジエン系ゴムとしては、天然ゴム(N
R)、ブタジエンゴム(BR)、スチレン−ブタジエン
共重合体ゴム(SBR)、アクリロニトリル・ブタジエ
ン共重合ゴム(NBR)、ブチルゴム(IIR)、ハロ
ゲン化ブチルゴム(Br−IIR、Cl−IIR)、ク
ロロプレンゴム(CR)等を挙げることができる。これ
らの中でも、機械的強度、減衰性、加工性等のバランス
がよいことからNRが好ましい。
レンゴム(IR)を含有する。イソプレンゴムを含有す
ることにより、ゴム組成物の低歪み時の応力を低下させ
ることなく、高歪み時の応力のみを低下させることがで
きる。すなわち、歪により生じる応力の、歪依存性を低
減することができる。ゴム成分としてイソプレンゴムを
含有する本発明の組成物を、ゴム積層体に用いると、従
来のゴム積層体に比較して、剪断弾性係数、破断強度を
低下させることなく、破壊時の剪断歪を大きくすること
ができ、破壊特性を向上させることができる。
の含有量は、ゴム成分中、10〜100重量%であり、
30〜50重量%が好ましい。かかる範囲で上記イソプ
レンゴムを含有すると、得られる本発明の組成物は、低
歪み側の剪断応力を維持しつつ、高歪み側での剪断応力
のみを低下することができる。
1,4ポリイソプレンを、イソプレン単位で、91〜9
8%含有するイソプレンゴムが好ましく、91〜92%
含有するイソプレンゴムがより好ましい。シス1,4ポ
リイソプレン含有率が上記範囲のイソプレンゴムを用い
ると、得られる本発明の組成物は、剪断歪に対し、剪断
応力の増加の割合がより低減され、高歪み側での応力が
より低下する。
イソプレンゴム(IR)と天然ゴム(NR)とからなる
のが好ましい。ただし、本発明の組成物のゴム成分が、
上記イソプレンゴムのみからなっていてもよい。すなわ
ち、ゴム成分が、NR:IR=90:10〜0:100
(重量比)の組成であるのが好ましく、70:30〜5
0:50であるのがより好ましい。この範囲で、天然ゴ
ムと上記イソプレンゴムとをゴム成分として含有する本
発明の組成物は、引張強さが高く機械的強度が高いとと
もに、破壊特性にも優れる。
ゴムよりなるゴム成分に加え、さらに未加硫時に、本発
明の特徴を損なわない範囲において、補強剤、充填剤、
加硫剤、加硫促進剤、可塑剤、軟化剤、老化防止剤等の
添加剤を配合することができる。
ク、シリカ、炭酸カルシウム、クレー、タルク、フェノ
ール樹脂等が挙げられる。これらのなかでもカーボンブ
ラックが好適に用いられる。カーボンブラックとして
は、FT、SRF、GPF、FEF、HAF、ISA
F、SAF級などのカーボンブラックが好ましい。補強
剤としてカーボンブラックを用いる場合は、カーボンブ
ラック配合量はジエン系ゴム100重量部に対し、10
〜100重量部が好ましい。
ウラムジスルフィド(TMTD)、テトラエチルチウラ
ムジスルフィド(TETD)、ジペンタメチレンチウラ
ムジスルフィド(DPTT)等の有機含硫黄化合物、ジ
クミルペルオキシド等の有機過酸化物、亜鉛華、マグネ
シア等の金属酸化物、キノンジオキシム等が挙げられ
る。このような加硫剤は、所望の物性を得るために必要
な量を任意に配合することができるが、一般的な配合量
としては、ジエン系ゴム100重量部に対し、1.0〜
4.5重量部が好ましい。
アゾール(MBT)等のチアゾール類、N−シクロヘキ
シル−2−ベンゾチアゾールスルフェンアミド(CB
S)等のスルフェンアミド類、ジフェニルグアニジン等
のグアニジン類等が挙げられる。このような加硫促進剤
の配合量は、ジエン系ゴム100重量部に対し、0.5
〜5.0重量部が好ましい。
ル、石油樹脂、DOP(ジオクチルフタレート)、DO
S(ジオクチルセバケート)等の合成可塑剤、鉱物油系
軟化剤、植物油系軟化剤、液状ゴム等の軟化剤が挙げら
れる。このような可塑剤、軟化剤の配合量は、所望の物
性を得るために必要な量を任意に配合することができ特
に限定されるものではないが、一般的には、ジエン系ゴ
ム100重量部に対し、0〜50重量部が好ましい。
チルブチル)−N’−フェニル−p−フェニレンジアミ
ン(6PPD)、N,N’−ジナフチル−p−フェニレ
ンジアミン(DNPD)、N−イソプロピル−N’−フ
ェニル−p−フェニレンジアミン(IPPD)、スチレ
ン化フェノール(SP)等が挙げられる。このような老
化防止剤の配合量は、ジエン系ゴム100重量部に対
し、0.5〜5重量部が好ましい。ただし、本発明の組
成物が免震等の振動エネルギーの吸収装置等に用いられ
る際、該組成物が外面に露出しない場合は、老化防止剤
を全く配合しなくてもよい。上述の添加剤は、単独また
は2種以上の混合物として用いることもできる。
が配合された未加硫ゴム組成物を、ニーダ、バンバリー
ミキサーなど用いて混練することによって行われ、混練
物は130〜170℃の温度で加熱することにより加硫
されて、加硫ゴム組成物が得られる。
用ゴム組成物は、ゴム成分として、イソプレンゴムを特
定範囲で含有することにより、低歪時の応力は維持しつ
つ、高歪時の応力のみ低減されている。このような特性
を示す本発明の組成物は、具体的には、高歪み時、例え
ば、300%歪み時のモジュラス(M300 )と、低歪み
時、例えば、100%歪み時のモジュラス(M100 )と
の比(M300 /M100 )が、4.10以下であるのが好
ましく、3.90〜4.05であるのがより好ましい。
このような特性をもつ本発明の積層体用ゴム組成物をゴ
ム積層体に用いると、ゴム積層体の剪断弾性係数、破断
強度を高く維持しつつ、破断時の剪断歪みを大きくする
ことができる。
積層体とは、一般にゴム組成物と鉄板等の硬質板とを交
互に積層したものであり、橋梁の支承やビルの基礎免震
等に用いられる構造体である。
説明する。 (実施例1〜3、比較例1) <ゴム組成物の調整>下記第1表に記載の組成(単位は
重量部)にて、加硫剤を除く化合物を配合してB型バン
バリーミキサーにて5分間混練した。加硫剤は、8イン
チオープンロールにて混練した。得られた未加硫ゴム
を、148℃で45分プレス加硫した。
れたゴム組成物を、厚さ2mmのダンベル状試験片(J
IS3号)に切り出し、JIS K 6251に準拠し
て、100%モジュラス(M100 )〔MPa〕、300
%モジュラス(M300 )〔MPa〕、引張強さ(T B )
〔MPa〕、伸び(EB )〔%〕を測定した。100%
モジュラス〔MPa〕と300%モジュラスの比(M
300 /M100 )を算出した。また、静的剪断弾性率を算
出した。結果を第1表に示す。
た未加硫ゴム組成物を圧延し、表面をサンドブラストし
た後、未加硫ゴムと、金属接着剤を塗布した金属板(1
35mm×135mm×3.0mm)とを交互に積層
し、ゴム層が4層、金属板が3層となるように成型し
た。上下端のゴム層の表面をサンドブラストした後、金
属接着剤を塗布した端部鋼板(135mm×135mm
×30mm)2枚で上下を挟み、130℃で275分プ
レス加硫して、1層厚が3.0mmとなるミニチュア積
層体を作製した。
5.88MPa、変形周波数が0.5Hz下での175
%歪みでの剪断弾性係数を求めた。面圧5.88MPa
の圧縮下で剪断を与え、破断強度〔MPa〕、破壊時の
剪断歪み〔%〕を測定した。結果を第1表に示す。
学社製 加硫促進剤:N−シクロヘキシル−2−ベンゾチアゾー
ルスルフェンアミド(CBS)
ゴム組成物は、低歪時の応力は維持しつつ、高歪時の応
力のみ低減されており、高い破断強度と破断時の剪断歪
みを有している。このような特性をもつ本発明の積層体
用ゴム組成物をゴム積層体に用いると、剪断弾性係数は
維持しつつ、破断強度が高く、かつ、破断時の剪断歪み
が大きいゴム積層体を得ることが出来る。
ある。
Claims (2)
- 【請求項1】ジエン系ゴムよりなるゴム成分を含有し、
ゴム成分中、イソプレンゴムを10〜100重量%含有
する積層体用ゴム組成物。 - 【請求項2】前記イソプレンゴムが、シス1,4ポリイ
ソプレンを91〜98%含有する請求項1に記載の積層
体用ゴム組成物。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000165797A JP3645469B2 (ja) | 2000-06-02 | 2000-06-02 | 破壊特性を向上させた積層体用ゴム組成物 |
TW090113084A TWI284666B (en) | 2000-06-02 | 2001-05-30 | Rubber composition for laminate having improved anti-fracture characteristics |
KR1020010030314A KR20010110148A (ko) | 2000-06-02 | 2001-05-31 | 파괴 방지 특성이 향상된 적층물용 고무 조성물 |
EP01112872A EP1160280B1 (en) | 2000-06-02 | 2001-05-31 | Rubber composition for laminate having improved anti-fracture characteristics |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000165797A JP3645469B2 (ja) | 2000-06-02 | 2000-06-02 | 破壊特性を向上させた積層体用ゴム組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001342295A true JP2001342295A (ja) | 2001-12-11 |
JP3645469B2 JP3645469B2 (ja) | 2005-05-11 |
Family
ID=18669220
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000165797A Expired - Fee Related JP3645469B2 (ja) | 2000-06-02 | 2000-06-02 | 破壊特性を向上させた積層体用ゴム組成物 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP1160280B1 (ja) |
JP (1) | JP3645469B2 (ja) |
KR (1) | KR20010110148A (ja) |
TW (1) | TWI284666B (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009269967A (ja) * | 2008-05-02 | 2009-11-19 | Bridgestone Corp | 免震構造体用ゴム組成物 |
JP2016028208A (ja) * | 2014-07-10 | 2016-02-25 | 昭和電線デバイステクノロジー株式会社 | 積層ゴム支承体 |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4808080B2 (ja) * | 2005-11-17 | 2011-11-02 | 日東電工株式会社 | 鋼板補強シート |
KR102522064B1 (ko) * | 2018-03-16 | 2023-04-18 | 현대자동차주식회사 | 방진 고무 조성물 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL181112C (nl) * | 1975-04-24 | 1987-06-16 | Stamicarbon | Werkwijze voor het bereiden van een kleefkracht bezittend rubberachtig mengsel op basis van een rubberachtig copolymeer uit etheen en gevulcaniseerde voorwerpen daaruit bestaande. |
US5644000A (en) * | 1989-03-10 | 1997-07-01 | Thiokol Corporation | Crystallization resistant, low modulus elastomer for flexible bearings |
US5128395A (en) * | 1990-10-19 | 1992-07-07 | Sumitomo Rubber Industries, Ltd. | Rubber composition for laminated vibrationproofing structure |
US6180711B1 (en) * | 1997-01-22 | 2001-01-30 | The Yokohama Rubber Co., Ltd. | Rubber composition for seismic isolation laminates |
-
2000
- 2000-06-02 JP JP2000165797A patent/JP3645469B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2001
- 2001-05-30 TW TW090113084A patent/TWI284666B/zh not_active IP Right Cessation
- 2001-05-31 KR KR1020010030314A patent/KR20010110148A/ko not_active Application Discontinuation
- 2001-05-31 EP EP01112872A patent/EP1160280B1/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009269967A (ja) * | 2008-05-02 | 2009-11-19 | Bridgestone Corp | 免震構造体用ゴム組成物 |
JP2016028208A (ja) * | 2014-07-10 | 2016-02-25 | 昭和電線デバイステクノロジー株式会社 | 積層ゴム支承体 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20010110148A (ko) | 2001-12-12 |
TWI284666B (en) | 2007-08-01 |
EP1160280A1 (en) | 2001-12-05 |
JP3645469B2 (ja) | 2005-05-11 |
EP1160280B1 (en) | 2007-12-12 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20041025 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20041102 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20041222 |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20050203 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130210 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130210 Year of fee payment: 8 |
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R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |