JP2001337283A - レーザビーム走査装置 - Google Patents
レーザビーム走査装置Info
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- JP2001337283A JP2001337283A JP2000154020A JP2000154020A JP2001337283A JP 2001337283 A JP2001337283 A JP 2001337283A JP 2000154020 A JP2000154020 A JP 2000154020A JP 2000154020 A JP2000154020 A JP 2000154020A JP 2001337283 A JP2001337283 A JP 2001337283A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 部品増加点数が少なく、簡単な構造で高密
度、高速、高画質で低価格なマルチビーム光源ユニット
タイプのレーザビーム走査装置を提供する。 【解決手段】 シリンダレンズ３ａ、３ｂをそれぞれベ
ース１２ａ、１２ｂに保持または固定する。ベース１２
ａ、１２ｂは、圧縮スプリング１４で上方向にスライド
付勢する。ガイド部材１５とベース１２ａ、１２ｂから
突出したガイド１２ｃで光軸に対し傾かないようにガイ
ドする。調整ネジ１３ａ、１３ｂを受部１３ｃに対して
締め付け、または緩めることにより、上下方向にベース
１２ａ、１２ｂを可動とし、真の光軸に対するシリンダ
レンズ光軸中心の距離ｙ３を調整可能とし、この値を補
正して光学特性の劣化を防止する。
度、高速、高画質で低価格なマルチビーム光源ユニット
タイプのレーザビーム走査装置を提供する。 【解決手段】 シリンダレンズ３ａ、３ｂをそれぞれベ
ース１２ａ、１２ｂに保持または固定する。ベース１２
ａ、１２ｂは、圧縮スプリング１４で上方向にスライド
付勢する。ガイド部材１５とベース１２ａ、１２ｂから
突出したガイド１２ｃで光軸に対し傾かないようにガイ
ドする。調整ネジ１３ａ、１３ｂを受部１３ｃに対して
締め付け、または緩めることにより、上下方向にベース
１２ａ、１２ｂを可動とし、真の光軸に対するシリンダ
レンズ光軸中心の距離ｙ３を調整可能とし、この値を補
正して光学特性の劣化を防止する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、レーザプリンタ、
デジタル複写機、普通紙ファクシミリ等で感光体上に静
電潜像を形成するための露光手段として用いられるレー
ザビーム走査装置に関する。
デジタル複写機、普通紙ファクシミリ等で感光体上に静
電潜像を形成するための露光手段として用いられるレー
ザビーム走査装置に関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】従来、
レーザプリンタ、デジタル複写機、普通紙ファクシミリ
等、レーザビームによるレーザビーム走査装置を備えた
画像形成装置（以下機械）においては、画素密度（ｄｐ
ｉ）が３００〜４００ｄｐｉとあまり高密度でないもの
が主流であった。しかし最近では、特に画像品質に対す
る市場からの要求が厳しく、画素密度が１２００ｄｐｉ
以上を超える機械が市場に投入され、今後も高密度での
画像品質で且つ高速の機械が主流になりつつある。
レーザプリンタ、デジタル複写機、普通紙ファクシミリ
等、レーザビームによるレーザビーム走査装置を備えた
画像形成装置（以下機械）においては、画素密度（ｄｐ
ｉ）が３００〜４００ｄｐｉとあまり高密度でないもの
が主流であった。しかし最近では、特に画像品質に対す
る市場からの要求が厳しく、画素密度が１２００ｄｐｉ
以上を超える機械が市場に投入され、今後も高密度での
画像品質で且つ高速の機械が主流になりつつある。
【０００３】このような要求に応じるためには以下の３
つの対応方法を挙げ得る。一つは、光偏向器（以下ポリ
ゴンモータ）の回転速度を変えず、代わりに感光体の回
転速度を遅くしてその対応を図るというものである。６
００ｄｐｉの画素密度をもとに１２００ｄｏｉの画素密
度の機械を作るとすると、ポリゴンモータの回転速度は
６００ｄｐｉのままで、感光体の回転速度を６００ｄｐ
ｉの半分にすることにより、１２００ｄｐｉの画素密度
の機械となる。二つ目は、ポリゴンモータの回転速度を
速くすることでその対応を図るというものである。前述
した一つ目の対応内容と同じ理論であるので説明を省略
する。三つ目は、レーザ光源を２つ以上用いることによ
りその対応を図るというものである。感光体の回転速度
は遅くせず、またポリゴンモータの回転速度を速くする
ことなくその対応を図ることができる。
つの対応方法を挙げ得る。一つは、光偏向器（以下ポリ
ゴンモータ）の回転速度を変えず、代わりに感光体の回
転速度を遅くしてその対応を図るというものである。６
００ｄｐｉの画素密度をもとに１２００ｄｏｉの画素密
度の機械を作るとすると、ポリゴンモータの回転速度は
６００ｄｐｉのままで、感光体の回転速度を６００ｄｐ
ｉの半分にすることにより、１２００ｄｐｉの画素密度
の機械となる。二つ目は、ポリゴンモータの回転速度を
速くすることでその対応を図るというものである。前述
した一つ目の対応内容と同じ理論であるので説明を省略
する。三つ目は、レーザ光源を２つ以上用いることによ
りその対応を図るというものである。感光体の回転速度
は遅くせず、またポリゴンモータの回転速度を速くする
ことなくその対応を図ることができる。
【０００４】一つ目の対応策の欠点は、感光体の速度を
遅くするのでプリント速度が遅くなり、高速化対応に不
向きであるということである。また二つ目の対応策の欠
点は、ポリゴンモータの回転速度が速くなるので、騒
音、振動、機内温度の上昇が技術課題となるということ
である。さらに三つ目の対応策の欠点としては、レーザ
光源が２つ以上となることで構成が複雑化し、レーザ光
源ごとに光学素子が必要になるため部品数が増え、かつ
光制御系も同時に複雑化するだけでなく、副走査方向に
おいては機械的に２つのビーム間隔を調整する機構も必
要となるというものである。たとえば１２００ｄｐｉの
画素密度であれば、ドラム面上でビーム間隔が２１．１
７μｍとなるように調整する（２５．４ｍｍ÷１２００
ｄｐｉ）。しかし今後は、上述したマルチビームの光源
ユニットが主流となって高密度、高速、高画質化に対応
するようになると予測されている。
遅くするのでプリント速度が遅くなり、高速化対応に不
向きであるということである。また二つ目の対応策の欠
点は、ポリゴンモータの回転速度が速くなるので、騒
音、振動、機内温度の上昇が技術課題となるということ
である。さらに三つ目の対応策の欠点としては、レーザ
光源が２つ以上となることで構成が複雑化し、レーザ光
源ごとに光学素子が必要になるため部品数が増え、かつ
光制御系も同時に複雑化するだけでなく、副走査方向に
おいては機械的に２つのビーム間隔を調整する機構も必
要となるというものである。たとえば１２００ｄｐｉの
画素密度であれば、ドラム面上でビーム間隔が２１．１
７μｍとなるように調整する（２５．４ｍｍ÷１２００
ｄｐｉ）。しかし今後は、上述したマルチビームの光源
ユニットが主流となって高密度、高速、高画質化に対応
するようになると予測されている。
【０００５】従来のマルチビーム光源ユニットは、２ビ
ームの場合、レーザ光を光プリズムにより合成してポリ
ゴンモータのミラー面に照射している。ところが、この
光プリズムのコストが極めて高く、低価格のプリンタに
は不向きであった。そのコスト低減策としては、光プリ
ズムレスのマルチビーム光源ユニットが提案されてい
て、この方式がマルチビーム光源ユニットの主流となり
つつある。
ームの場合、レーザ光を光プリズムにより合成してポリ
ゴンモータのミラー面に照射している。ところが、この
光プリズムのコストが極めて高く、低価格のプリンタに
は不向きであった。そのコスト低減策としては、光プリ
ズムレスのマルチビーム光源ユニットが提案されてい
て、この方式がマルチビーム光源ユニットの主流となり
つつある。
【０００６】ところがこの方式の欠点としては、光プリ
ズム合成の光源ユニットに対して主走査方向の光ビーム
間隔が広いため、ビーム間隔を調整した場合に副走査方
向の光スポットを絞るシリンドリカルレンズの光軸中心
位置から光路が外れる可能性があり、それにより光スポ
ットが太り、光学結像性能を著しく劣化させることがあ
り得るというものがある。
ズム合成の光源ユニットに対して主走査方向の光ビーム
間隔が広いため、ビーム間隔を調整した場合に副走査方
向の光スポットを絞るシリンドリカルレンズの光軸中心
位置から光路が外れる可能性があり、それにより光スポ
ットが太り、光学結像性能を著しく劣化させることがあ
り得るというものがある。
【０００７】そこで本発明は、従来に比べ部品増加点数
を極力少なくし、かつ簡単な構造で高密度、高速、高画
質で低価格なマルチビーム光源ユニットタイプのレーザ
ビーム走査装置を提供することを目的とする。
を極力少なくし、かつ簡単な構造で高密度、高速、高画
質で低価格なマルチビーム光源ユニットタイプのレーザ
ビーム走査装置を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明の請求項１に係る
レーザビーム走査装置は、上記目的を達成するために、
レーザ光源と、該レーザ光源からの光束を副走査方向へ
収束させ、主走査方向に長い線像に結像させるシリンダ
レンズ系と、上記線像の結像位置近傍に偏向反射面を有
する光偏向器と、該光偏向器による偏向光束を被走査面
上に光スポットとして集光させる走査結像光学系と、上
記シリンダレンズ系と上記光偏向器との間に配され、副
走査方向においてレーザ光束周辺部の光を遮断するビー
ム整形手段と、副走査方向の光スポットを上記光偏向器
に対し絞るためのシリンダレンズを有するレーザビーム
走査装置において、２以上のレーザ光源を有し、上記光
偏向器の偏向反射面上で各々の光路が交差し、上記被走
査面上において主走査方向及び副走査方向に対し一定の
間隔で光スポットとして集光させるために副走査方向の
ビーム集光間隔を調整可能とし、上記シリンダレンズを
それぞれの光路に対して独立に設けてなることを特徴と
する。
レーザビーム走査装置は、上記目的を達成するために、
レーザ光源と、該レーザ光源からの光束を副走査方向へ
収束させ、主走査方向に長い線像に結像させるシリンダ
レンズ系と、上記線像の結像位置近傍に偏向反射面を有
する光偏向器と、該光偏向器による偏向光束を被走査面
上に光スポットとして集光させる走査結像光学系と、上
記シリンダレンズ系と上記光偏向器との間に配され、副
走査方向においてレーザ光束周辺部の光を遮断するビー
ム整形手段と、副走査方向の光スポットを上記光偏向器
に対し絞るためのシリンダレンズを有するレーザビーム
走査装置において、２以上のレーザ光源を有し、上記光
偏向器の偏向反射面上で各々の光路が交差し、上記被走
査面上において主走査方向及び副走査方向に対し一定の
間隔で光スポットとして集光させるために副走査方向の
ビーム集光間隔を調整可能とし、上記シリンダレンズを
それぞれの光路に対して独立に設けてなることを特徴と
する。
【０００９】同請求項２に係るものは、上記目的を達成
するために、上記シリンダレンズが副走査方向に対し光
軸調整可能に設けてなることを特徴とする。
するために、上記シリンダレンズが副走査方向に対し光
軸調整可能に設けてなることを特徴とする。
【００１０】同請求項３に係るものは、上記目的を達成
するために、上記シリンダレンズがそれぞれの光路にお
いて副走査方向に対し独立して設けた光軸調整機構で調
整可能としてなることを特徴とする。
するために、上記シリンダレンズがそれぞれの光路にお
いて副走査方向に対し独立して設けた光軸調整機構で調
整可能としてなることを特徴とする。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下本発明の実施の形態を図面を
参照して説明する。図１は、本発明を適用するレーザビ
ーム走査装置の一例の全体構成を示す斜視図である。こ
のレーザビーム走査装置は、上面が開口した光学ハウジ
ング１と、光学ハウジング１の上面を閉止する図示せぬ
カバーと、光学ハウジング１の側面に固定してレーザビ
ームを発振させる光源ユニット（レーザビーム発生手
段）２と、図示せぬアパーチャ（ビーム整形手段）と、
シリンダレンズ（第一集光手段）３ａ、３ｂと、ポリゴ
ンモータ（偏向走査手段）４と、走査レンズ（結像手
段）５と、光学ハウジング１に形成された出射口として
の開口部６とで構成してある。
参照して説明する。図１は、本発明を適用するレーザビ
ーム走査装置の一例の全体構成を示す斜視図である。こ
のレーザビーム走査装置は、上面が開口した光学ハウジ
ング１と、光学ハウジング１の上面を閉止する図示せぬ
カバーと、光学ハウジング１の側面に固定してレーザビ
ームを発振させる光源ユニット（レーザビーム発生手
段）２と、図示せぬアパーチャ（ビーム整形手段）と、
シリンダレンズ（第一集光手段）３ａ、３ｂと、ポリゴ
ンモータ（偏向走査手段）４と、走査レンズ（結像手
段）５と、光学ハウジング１に形成された出射口として
の開口部６とで構成してある。
【００１２】光源ユニット２は、レーザビーム発生手段
の一例であり、レーザダイオード、レーザダイオード支
持ホルダ、支持ホルダに位置調整して接着固定し、ビー
ムをほぼ平行光束化するためのコリメートレンズ、レー
ザダイオード発光のための電流供給及び制御を行うため
のレーザ駆動基板７とで構成してある。
の一例であり、レーザダイオード、レーザダイオード支
持ホルダ、支持ホルダに位置調整して接着固定し、ビー
ムをほぼ平行光束化するためのコリメートレンズ、レー
ザダイオード発光のための電流供給及び制御を行うため
のレーザ駆動基板７とで構成してある。
【００１３】光源ユニット２によって平行光束化したビ
ームは、所望のスポット径（ビーム整形手段通過後のビ
ーム）を得るために、矩形、長円、楕円等の形状を有す
るアパーチャによりビーム整形した上で、第一集光手段
であるシリンダレンズ３ａ、３ｂに入射させ、副走査方
向に絞る。そしてこのビームの結像点の位置には、偏向
走査手段としてのポリゴンモータ４が設けてあり、各鏡
面（図は６面）で反射した走査ビームが走査レンズ５を
通過する。
ームは、所望のスポット径（ビーム整形手段通過後のビ
ーム）を得るために、矩形、長円、楕円等の形状を有す
るアパーチャによりビーム整形した上で、第一集光手段
であるシリンダレンズ３ａ、３ｂに入射させ、副走査方
向に絞る。そしてこのビームの結像点の位置には、偏向
走査手段としてのポリゴンモータ４が設けてあり、各鏡
面（図は６面）で反射した走査ビームが走査レンズ５を
通過する。
【００１４】走査レンズ５は、主走査特性としてｆθ特
性を持つように設計してあり、副走査方向には第一集光
手段であるシリンダレンズ３ａ、３ｂによる結像点と像
面が共役関係になるように面倒れ補正特性を持つものと
して設計してあり、一般には複数のレンズ群で構成する
（図では１枚のレンズとして示してある。）。
性を持つように設計してあり、副走査方向には第一集光
手段であるシリンダレンズ３ａ、３ｂによる結像点と像
面が共役関係になるように面倒れ補正特性を持つものと
して設計してあり、一般には複数のレンズ群で構成する
（図では１枚のレンズとして示してある。）。
【００１５】これらの部品は、所定の位置精度で光学ハ
ウジング１内に納めてある。各部品の固定手段として
は、板ばねによる押圧、接着、スナップフィット止めな
どが周知であり、図示はしていないがいずれの固定方法
を用いてあってもよい。開口部６は、常時開放されてい
る場合もあるが、多くは防塵のために開口部の全面にわ
たって防塵ガラスにより閉止してある。感光体８へのビ
ームの照射は図示の通りで、走査方向（図中矢印Ｘ方
向）に書き込みされる。
ウジング１内に納めてある。各部品の固定手段として
は、板ばねによる押圧、接着、スナップフィット止めな
どが周知であり、図示はしていないがいずれの固定方法
を用いてあってもよい。開口部６は、常時開放されてい
る場合もあるが、多くは防塵のために開口部の全面にわ
たって防塵ガラスにより閉止してある。感光体８へのビ
ームの照射は図示の通りで、走査方向（図中矢印Ｘ方
向）に書き込みされる。
【００１６】図２は、２ビーム光源ユニット及び感光体
８へのビーム照射の一例を示す斜視図である。図２
（Ａ）、（Ｂ）は光プリズム合成方式、同（Ｃ）、
（Ｄ）は光プリズムレス方式である。
８へのビーム照射の一例を示す斜視図である。図２
（Ａ）、（Ｂ）は光プリズム合成方式、同（Ｃ）、
（Ｄ）は光プリズムレス方式である。
【００１７】図２（Ａ）、（Ｂ）において、レーザダイ
オード９ｃ、９ｄから発光したビームＬ３、Ｌ４は、そ
れぞれコリメートレンズ１０ｃ、１０ｄで平行光束とさ
れ、図示せぬアパーチャでビーム整形され、ビームＬ４
は光プリズム１１を直進し、ビームＬ３は光プリズム１
１でビームＬ４と合成される。２本のビームＬ３、Ｌ４
は、光プリズム１１の直後では主走査方向で約２〜３ｍ
ｍほどの距離をおいてポリゴンモータ５のミラー上で交
差し、感光体８面上では主走査方向ｘ２、副走査方向ｙ
２の距離をおいて照射される。
オード９ｃ、９ｄから発光したビームＬ３、Ｌ４は、そ
れぞれコリメートレンズ１０ｃ、１０ｄで平行光束とさ
れ、図示せぬアパーチャでビーム整形され、ビームＬ４
は光プリズム１１を直進し、ビームＬ３は光プリズム１
１でビームＬ４と合成される。２本のビームＬ３、Ｌ４
は、光プリズム１１の直後では主走査方向で約２〜３ｍ
ｍほどの距離をおいてポリゴンモータ５のミラー上で交
差し、感光体８面上では主走査方向ｘ２、副走査方向ｙ
２の距離をおいて照射される。
【００１８】図２（Ｃ）、（Ｄ）において、レーザダイ
オード９ａ、９ｂから発光したビームＬ１、Ｌ２は、そ
れぞれコリメートレンズ１０ａ、１０ｂで平行光束とさ
れ、図示せぬアパーチャでビーム整形され、光源ユニッ
トの直後では２本のビームは主走査方向で約１０〜１２
ｍｍほどの距離をおいているがポリゴンモータ５のミラ
ー上ではその距離は０ｍｍで交差し、感光体８面上では
主走査方向ｘ１、副走査方向ｙ１の距離をおいて照射さ
れる。
オード９ａ、９ｂから発光したビームＬ１、Ｌ２は、そ
れぞれコリメートレンズ１０ａ、１０ｂで平行光束とさ
れ、図示せぬアパーチャでビーム整形され、光源ユニッ
トの直後では２本のビームは主走査方向で約１０〜１２
ｍｍほどの距離をおいているがポリゴンモータ５のミラ
ー上ではその距離は０ｍｍで交差し、感光体８面上では
主走査方向ｘ１、副走査方向ｙ１の距離をおいて照射さ
れる。
【００１９】すなわち、光プリズムレス方式ではシリン
ダレンズ３ａ、３ｂがビーム間距離が主走査方向に対し
離れているので分割可能であるが、光プリズム合成方式
ではビーム間距離が近いのでシリンダレンズ３ｃを分割
できない。また、光プリズム合成方式の感光体８面上の
副走査ビーム間距離ｙ２は、ビームＬ４を中心Ｘ２とし
て回転調整（図中矢印方向）する。光プリズムレス方式
の感光体８面上の副走査ビーム間距離ｙ１は、ビームＬ
１、Ｌ２の距離の中間Ｘ１を中心として回転調整（図中
矢印方向）する。
ダレンズ３ａ、３ｂがビーム間距離が主走査方向に対し
離れているので分割可能であるが、光プリズム合成方式
ではビーム間距離が近いのでシリンダレンズ３ｃを分割
できない。また、光プリズム合成方式の感光体８面上の
副走査ビーム間距離ｙ２は、ビームＬ４を中心Ｘ２とし
て回転調整（図中矢印方向）する。光プリズムレス方式
の感光体８面上の副走査ビーム間距離ｙ１は、ビームＬ
１、Ｌ２の距離の中間Ｘ１を中心として回転調整（図中
矢印方向）する。
【００２０】図３は、本発明に係るレーザビーム走査装
置の一実施形態におけるシリンダレンズ光軸調整機構の
平面図（Ａ）、矢印Ｂ−Ｂ線に沿う側面断面図（Ｂ）、
正面図（Ｃ）である。シリンダレンズ３ａ、３ｂはそれ
ぞれベース１２ａ、１２ｂに接着または図示せぬ板ばね
による押圧、接着、スナップフィット止め等で保持また
は固定してある。ベース１２ａ、１２ｂは、圧縮スプリ
ング１４で図中矢印上方向にスライド付勢する構成とな
っており、ガイド部材１５とベース１２ａ、１２ｂから
突出したガイド１２ｃにて光軸に対し傾かないようにガ
イドしてある。
置の一実施形態におけるシリンダレンズ光軸調整機構の
平面図（Ａ）、矢印Ｂ−Ｂ線に沿う側面断面図（Ｂ）、
正面図（Ｃ）である。シリンダレンズ３ａ、３ｂはそれ
ぞれベース１２ａ、１２ｂに接着または図示せぬ板ばね
による押圧、接着、スナップフィット止め等で保持また
は固定してある。ベース１２ａ、１２ｂは、圧縮スプリ
ング１４で図中矢印上方向にスライド付勢する構成とな
っており、ガイド部材１５とベース１２ａ、１２ｂから
突出したガイド１２ｃにて光軸に対し傾かないようにガ
イドしてある。
【００２１】そして調整ネジ１３ａ、１３ｂを受部１３
ｃに対して締め付け、または緩めることにより、図中矢
印上下方向にベース１２ａ、１２ｂが可動となり、真の
光軸に対しシリンダレンズ光軸中心の距離ｙ３が調整幅
となり、この値を補正することにより光学特性の劣化を
防止する。なお図示のように、２つのビームＬ１、Ｌ２
の光源のそれぞれの光路（シリンダレンズ光軸）に対し
調整可能となっている。
ｃに対して締め付け、または緩めることにより、図中矢
印上下方向にベース１２ａ、１２ｂが可動となり、真の
光軸に対しシリンダレンズ光軸中心の距離ｙ３が調整幅
となり、この値を補正することにより光学特性の劣化を
防止する。なお図示のように、２つのビームＬ１、Ｌ２
の光源のそれぞれの光路（シリンダレンズ光軸）に対し
調整可能となっている。
【００２２】図４は、本発明に係るレーザビーム走査装
置の一実施形態における副走査ビーム調整に対するシリ
ンダレンズでの光軸ズレ補正の光路を示す斜視図であ
る。発光点Ａ１は、部品の寸法バラツキによる位置ズレ
がないものとすると、シリンダレンズ３ａの光軸中心Ａ
１’を通過することになる。２つの発光点間の距離をｌ
とした場合、副走査方向のビーム間距離調整の回転中心
はｌ／２の位置の点Ｘ１となる。この位置を中心Ｘ１と
して回転調整した場合、発光点Ａ１はＢ１になり、発光
点Ａ２はＢ２の位置で、シリンダレンズ３ａ、３ｂを透
過する光路はそれぞれＢ１’、Ｂ２’の位置となり、図
示した距離の調整幅が生じる。
置の一実施形態における副走査ビーム調整に対するシリ
ンダレンズでの光軸ズレ補正の光路を示す斜視図であ
る。発光点Ａ１は、部品の寸法バラツキによる位置ズレ
がないものとすると、シリンダレンズ３ａの光軸中心Ａ
１’を通過することになる。２つの発光点間の距離をｌ
とした場合、副走査方向のビーム間距離調整の回転中心
はｌ／２の位置の点Ｘ１となる。この位置を中心Ｘ１と
して回転調整した場合、発光点Ａ１はＢ１になり、発光
点Ａ２はＢ２の位置で、シリンダレンズ３ａ、３ｂを透
過する光路はそれぞれＢ１’、Ｂ２’の位置となり、図
示した距離の調整幅が生じる。
【００２３】
【発明の効果】本発明のレーザビーム走査装置は、以上
説明してきたように、シリンダレンズが光路に対し独立
して設けているので、複数のビームを有するレーザビー
ム装置に対応可能であり、また副走査方向に対して光軸
調整機構をそれぞれのビームに対し設けているので、光
学特性を著しく損なうことはなく、高画質な画像を得る
ことができるという効果がある。
説明してきたように、シリンダレンズが光路に対し独立
して設けているので、複数のビームを有するレーザビー
ム装置に対応可能であり、また副走査方向に対して光軸
調整機構をそれぞれのビームに対し設けているので、光
学特性を著しく損なうことはなく、高画質な画像を得る
ことができるという効果がある。
【図１】本発明を適用するレーザビーム走査装置の一例
の全体構成を示す斜視図である。
の全体構成を示す斜視図である。
【図２】２ビーム光源ユニット及び感光体８へのビーム
照射の一例を示す斜視図で、図２（Ａ）、（Ｂ）は光プ
リズム合成方式、同（Ｃ）、（Ｄ）は光プリズムレス方
式を示す。
照射の一例を示す斜視図で、図２（Ａ）、（Ｂ）は光プ
リズム合成方式、同（Ｃ）、（Ｄ）は光プリズムレス方
式を示す。
【図３】本発明に係るレーザビーム走査装置の一実施形
態におけるシリンダレンズ光軸調整機構の平面図
（Ａ）、矢印Ｂ−Ｂ線に沿う側面断面図（Ｂ）、正面図
（Ｃ）である。
態におけるシリンダレンズ光軸調整機構の平面図
（Ａ）、矢印Ｂ−Ｂ線に沿う側面断面図（Ｂ）、正面図
（Ｃ）である。
【図４】本発明に係るレーザビーム走査装置の一実施形
態における副走査ビーム調整に対するシリンダレンズで
の光軸ズレ補正の光路を示す斜視図である。
態における副走査ビーム調整に対するシリンダレンズで
の光軸ズレ補正の光路を示す斜視図である。
１ 光学ハウジング ２ 光源ユニット（レーザビーム発生手段） ３ａ、３ｂ シリンダレンズ（第一集光手段） ３ｃ シリンダレンズ ４ ポリゴンモータ（偏向走査手段） ５ 走査レンズ（結像手段） ６ 開口部 ７ レーザ駆動基板 ８ 感光体 ９ａ、９ｂ、９ｃ、９ｄ レーザダイオード １０ａ、１０ｂ、１０ｃ、１０ｄ コリメートレンズ １１ 光プリズム １２ａ、１２ｂ ベース １２ｃ ガイド １３ａ、１３ｂ 調整ネジ １３ｃ 受部 １４ 圧縮スプリング １５ ガイド部材 Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｌ４ ビーム
Claims (3)
- 【請求項１】 レーザ光源と、該レーザ光源からの光束
を副走査方向へ収束させ、主走査方向に長い線像に結像
させるシリンダレンズ系と、上記線像の結像位置近傍に
偏向反射面を有する光偏向器と、該光偏向器による偏向
光束を被走査面上に光スポットとして集光させる走査結
像光学系と、上記シリンダレンズ系と上記光偏向器との
間に配され、副走査方向においてレーザ光束周辺部の光
を遮断するビーム整形手段と、副走査方向の光スポット
を上記光偏向器に対し絞るためのシリンダレンズを有す
るレーザビーム走査装置において、２以上のレーザ光源
を有し、上記光偏向器の偏向反射面上で各々の光路が交
差し、上記被走査面上において主走査方向及び副走査方
向に対し一定の間隔で光スポットとして集光させるため
に副走査方向のビーム集光間隔を調整可能とし、上記シ
リンダレンズをそれぞれの光路に対して独立に設けてな
ることを特徴とするレーザビーム走査装置。 - 【請求項２】 上記シリンダレンズが副走査方向に対し
光軸調整可能に設けてなることを特徴とする請求項１の
レーザビーム走査装置。 - 【請求項３】 上記シリンダレンズがそれぞれの光路に
おいて副走査方向に対し独立して設けた光軸調整機構で
調整可能としてなることを特徴とする請求項１または２
のレーザビーム走査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000154020A JP2001337283A (ja) | 2000-05-25 | 2000-05-25 | レーザビーム走査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000154020A JP2001337283A (ja) | 2000-05-25 | 2000-05-25 | レーザビーム走査装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001337283A true JP2001337283A (ja) | 2001-12-07 |
Family
ID=18659179
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000154020A Pending JP2001337283A (ja) | 2000-05-25 | 2000-05-25 | レーザビーム走査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001337283A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100452854B1 (ko) * | 2002-08-23 | 2004-10-14 | 삼성전자주식회사 | 멀티빔 레이저 스캐닝유닛의 부주사 간격 조절장치 |
| US7952605B2 (en) | 2004-10-19 | 2011-05-31 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Light scanning unit assembly, electrophotographic image forming apparatus including the same, and method of adjusting scanning line skew |
| JP2013222035A (ja) * | 2012-04-16 | 2013-10-28 | Ricoh Co Ltd | 光走査装置及び画像形成装置 |
| JP2017096996A (ja) * | 2015-11-18 | 2017-06-01 | キヤノン株式会社 | 走査光学装置及び画像形成装置 |
-
2000
- 2000-05-25 JP JP2000154020A patent/JP2001337283A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100452854B1 (ko) * | 2002-08-23 | 2004-10-14 | 삼성전자주식회사 | 멀티빔 레이저 스캐닝유닛의 부주사 간격 조절장치 |
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| JP2013222035A (ja) * | 2012-04-16 | 2013-10-28 | Ricoh Co Ltd | 光走査装置及び画像形成装置 |
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